JP2003208852A - Display device and method of manufacturing the device - Google Patents

Display device and method of manufacturing the device

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JP2003208852A
JP2003208852A JP2002006903A JP2002006903A JP2003208852A JP 2003208852 A JP2003208852 A JP 2003208852A JP 2002006903 A JP2002006903 A JP 2002006903A JP 2002006903 A JP2002006903 A JP 2002006903A JP 2003208852 A JP2003208852 A JP 2003208852A
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Hideki Ashida
英樹 芦田
Hitoshi Nakagawa
整 仲川
Daisuke Adachi
大輔 足立
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrode of a plasma display panel capable of preventing a glass substrate from being colored yellowish even if a silver material is used, increasing a contrast and a brightness, and a method of manufacturing the electrode. <P>SOLUTION: To form the electrode, a transparent electrode 100, a coloring suppressing layer 103, and a silver conductive layer 101 are stacked on a front substrate glass 10 formed by a float method in that order. A bus electrode is formed under the transparent electrode 100 by using a material including a silver with a low electric resistance, and the coloring suppressing layer 103 is formed of a material including an element having an ionization tendency larger than the silver is formed between the silver conductive layer 101 and the transparent electrode 100. Since the coloring suppressing layer 103 including the element having the ionization tendency larger than the silver reduces the silver ion into metal silver, the coloring yellowish produced by the diffusion of the silver ion on the glass substrate can be suppressed. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の画素を有
し、画素単位で発光する自発光型の表示装置に関し、特
にプラズマディスプレイパネル等の平板型表示装置に関
している。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a self-luminous display device having a plurality of pixels and emitting light in units of pixels, and more particularly to a flat panel display device such as a plasma display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、大型のフラットパネルディスプレ
イとして希ガス放電による紫外線で蛍光体を励起発光さ
せて画像・映像表示に利用するプラズマディスプレイパ
ネル(以下PDPと記す)の開発が加速しており、コン
ピューター等に代表される情報処理装置の表示機器とし
て、あるいは大型のテレビジョン受信機や公衆表示用モ
ニターとしての社会的要望が増大している。
2. Description of the Related Art In recent years, as a large-sized flat panel display, the development of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) in which a phosphor is excited and emitted by ultraviolet rays generated by rare gas discharge to be used for image / video display has been accelerated. There is an increasing social demand as a display device of an information processing apparatus represented by a computer or the like, or as a large-sized television receiver or a public display monitor.

【0003】PDPには交流駆動方式と直流駆動方式が
あるが、ここでは一般的な交流駆動方式のPDP(以
下、交流駆動方式のPDPをAC−PDPと記す)の構
造を図1に示した。AC−PDPにも各種の方式がある
が、図1(a)は面放電型と呼ばれる方式の構造を1例
として、その一部を立体的に描いた斜視図で示してい
る。PDPは、ガラス製の前面基板1、背面基板2、に
それぞれ行電極、列電極が直交配置され、画素(ピクセ
ル)となる行・列両電極の交点および両基板間にある隔
壁により放電空間3を形成する構造となっている。
The PDP has an AC drive system and a DC drive system. Here, the structure of a general AC drive system PDP (hereinafter, the AC drive system PDP is referred to as AC-PDP) is shown in FIG. . Although there are various types of AC-PDPs, FIG. 1A shows a part of the structure of a type called a surface discharge type as a three-dimensional perspective view. In a PDP, row electrodes and column electrodes are orthogonally arranged on a glass front substrate 1 and a rear substrate 2, respectively, and a discharge space 3 is formed by an intersection of both row and column electrodes which become pixels, and a partition wall between both substrates. Has a structure to form.

【0004】面放電型のAC−PDPでは図1(a)に
示したように、前面基板1には、前面基板ガラス10上
に放電の維持信号を入力するための維持電極13および
順次表示用の走査信号を入力するための走査電極14が
それぞれ対をなして平行に複数形成されて行電極を構成
し、これら行電極上に放電による壁電荷を形成するため
の誘電体層11、さらにその上にMgOからなる保護膜
12が形成されている。また、隣り合う維持電極・走査
電極対間には、表示面のコントラストを高めるため、遮
光層となるブラックマトリクス15を必要に応じて形成
することもある。
In the surface discharge type AC-PDP, as shown in FIG. 1 (a), the front substrate 1 has a sustain electrode 13 for inputting a sustain signal of discharge on the front substrate glass 10 and a sequential display. A plurality of scan electrodes 14 for inputting the scan signal of the above are formed in parallel to form a row electrode, and a dielectric layer 11 for forming wall charges due to discharge on these row electrodes. A protective film 12 made of MgO is formed on the top. Further, a black matrix 15 serving as a light-shielding layer may be formed between adjacent pairs of sustain electrodes / scanning electrodes as needed in order to enhance the contrast of the display surface.

【0005】一方背面基板2には、背面ガラス基板16
上に複数の表示データ信号を入力するための列電極とな
るアドレス電極19が、前面基板1の行電極を構成する
維持電極13および走査電極14とそれぞれ交差する方
向に複数形成されている。アドレス電極19の上にやは
り放電による壁電荷を形成するための下地誘電体層1
7、さらにその上にアドレス電極19と平行して隔壁1
8が形成され、隔壁18上には赤、青、緑に発光する蛍
光体層20が設けられている。
On the other hand, the rear substrate 2 includes a rear glass substrate 16
A plurality of address electrodes 19 serving as column electrodes for inputting a plurality of display data signals are formed on the sustain electrodes 13 and the scan electrodes 14 forming the row electrodes of the front substrate 1 so as to intersect therewith. A base dielectric layer 1 for forming wall charges due to discharge on the address electrodes 19 as well.
7, and the partition wall 1 on top of it in parallel with the address electrode 19.
8 is formed, and a phosphor layer 20 that emits red, blue, and green is provided on the partition wall 18.

【0006】そして、前面基板1と背面基板2を貼りあ
わせて放電空間3を形成し、その中にNeを主体とする
希ガスを封入してPDPが作製される。維持電極13お
よび走査電極14、アドレス電極19に所定の信号の電
圧パルスを印加することにより封入された希ガスが励起
され紫外線を放出し、その紫外線により隔壁18上に設
けられた蛍光体層20が可視光を励起発光し、情報を表
示することができる。
Then, the front substrate 1 and the rear substrate 2 are bonded together to form a discharge space 3, and a rare gas containing Ne as a main component is sealed therein to produce a PDP. By applying a voltage pulse of a predetermined signal to the sustain electrode 13, the scan electrode 14, and the address electrode 19, the enclosed rare gas is excited and emits ultraviolet rays, and the ultraviolet rays cause the phosphor layer 20 provided on the partition walls 18. Can excite and emit visible light to display information.

【0007】また、電極材料としてはAg、Al、Cu
等の金属を含む材料が使用され、各種有機材料と混合さ
れてペーストとしてあるいは保護フィルム上に転写シー
トとして成形されて用いられる。誘電体や隔壁材料とし
ては低軟化点ガラス等が用いられ、電極と同様にペース
トやシートの形で供される。
Further, as the electrode material, Ag, Al, Cu
A material containing a metal such as is used and is mixed with various organic materials to be used as a paste or a transfer sheet formed on a protective film. A low softening point glass or the like is used as the dielectric material or the partition wall material, and is provided in the form of a paste or a sheet like the electrode.

【0008】各構成部材の製造方法としては、電極形成
およびブラックマトリクス形成については、感光性材料
を用いたフォトリソ法や薄膜形成法等により形成され、
蛍光体層、誘電体層についてはスクリーン印刷や各種コ
ーターを用いて塗布する方法等により形成される。電極
や誘電体の形成については、使用材料をシート状に加工
して貼りつける工法等も利用される。形成後は所定の温
度にて焼成を行い、各種構成部材を基板に固着させて完
成する。
As a method of manufacturing the respective constituent members, the electrodes and the black matrix are formed by a photolithography method or a thin film forming method using a photosensitive material.
The phosphor layer and the dielectric layer are formed by screen printing or a coating method using various coaters. For the formation of electrodes and dielectrics, a method in which the material used is processed into a sheet shape and attached is also used. After formation, firing is performed at a predetermined temperature to fix various components to the substrate to complete the process.

【0009】図1(b)は、図1(a)の前面基板ガラ
ス10に形成される行電極を構成する維持電極13と走
査電極14のA−A’断面における詳細構造を示す。維
持電極13および走査電極14は、透明電極100と透
明電極100上に形成されるバス電極となる銀導電層1
01から構成されている。バス電極の電極材料に銀を使
用するのは、電気抵抗が低く、パターン形成後、基板に
固着するための焼成工程において大気焼成が可能である
ことが大きな理由である。銅やアルミニウムも銀と同様
に低い電気抵抗値を得ることは可能であるが、大気焼成
を行った場合に酸化が起きて、本来の電気抵抗から抵抗
値が増大してしまうので、使用されることが少ない。ま
た、表示面のコントラストを高めるため、図1(c)に
示すように、銀導電層101の下層に黒色層102を設
けて維持電極13および走査電極14を形成することも
ある。
FIG. 1B shows a detailed structure of a sustain electrode 13 and a scan electrode 14 forming a row electrode formed on the front substrate glass 10 of FIG. The sustain electrode 13 and the scan electrode 14 are the transparent electrode 100 and the silver conductive layer 1 serving as a bus electrode formed on the transparent electrode 100.
It is composed of 01. The reason why silver is used as the electrode material of the bus electrode is that the electrical resistance is low, and after the pattern formation, atmospheric baking is possible in the baking process for fixing to the substrate. Copper and aluminum can obtain low electric resistance values like silver, but they are used because the resistance value increases from the original electric resistance due to oxidation when firing in the air. Rarely. Further, in order to increase the contrast of the display surface, as shown in FIG. 1C, the black electrode 102 may be provided below the silver conductive layer 101 to form the sustain electrode 13 and the scan electrode 14.

【0010】ところで、PDP用ガラス基板をはじめ大
面積を必要とする基板用ガラス材は、一般に溶融した錫
(Sn)上に溶融ガラスを流して成形するフロート法で
作製されている。これは、フロート法が平面が平滑なガ
ラス材を容易に量産できるという特長を有しているから
である。
By the way, glass materials for substrates such as PDP glass substrates which require a large area are generally manufactured by a float method in which molten glass is cast on molten tin (Sn) to be molded. This is because the float method has a feature that a glass material having a flat surface can be easily mass-produced.

【0011】そして、図8に概略的に示したように、フ
ロート法で成形された前面基板ガラス10に黒色顔料を
含有した黒色層102とバス電極となる銀導電層101
を積層形成した場合、透明電極の有無にかかわらず工程
中の熱処理過程で、銀導電層101直下の前面基板ガラ
ス10の表面に着色層105が形成されて黄色に変化す
ることが知られている(例:特開平10−255669
号公報)。
Then, as schematically shown in FIG. 8, a black layer 102 containing a black pigment on a front substrate glass 10 formed by a float method and a silver conductive layer 101 to be a bus electrode.
It is known that when a laminated layer is formed, the colored layer 105 is formed on the surface of the front substrate glass 10 immediately below the silver conductive layer 101 and turns yellow during the heat treatment process during the process regardless of the presence or absence of the transparent electrode. (Example: JP-A-10-255669
Issue).

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】このような、フロート
ガラスが銀電極により着色あるいは発色する現象は、フ
ロートガラス上に存在する還元性の錫(Sn)と銀イオ
ンとの酸化還元反応により銀コロイドが生成し、波長3
00nmから400nm付近に光吸収が生じることに起
因すると考えられている。
The phenomenon in which the float glass is colored or colored by the silver electrode is due to the redox reaction of the reducing tin (Sn) present on the float glass with silver ions. Generated by wavelength 3
It is considered to be caused by the light absorption in the vicinity of 00 nm to 400 nm.

【0013】すなわち、フロートガラスは、成形過程で
水素雰囲気にさらされるため、ガラス表面に厚さ数ミク
ロンの還元層が生成し、この層には溶融錫(Sn)由来
の錫イオン(Sn++)が存在する。ガラス基板に透明電
極を介して銀(Ag)のバス電極を形成する際の熱処理
により、銀(Ag)が銀イオン(Ag+)に変化し、こ
の銀イオン(Ag+)が透明電極を拡散してガラス表面
にいたり、ガラス中に含まれるアルカリ金属のイオンと
の間でイオン交換が生じ、ガラス中に銀イオン(A
+)が侵入する。侵入した銀イオン(Ag+)は還元層
に存在する錫イオン(Sn++)によって還元され、金属
銀(Ag)のコロイドを生成する。この銀(Ag)コロ
イドによって、基板ガラスは黄色く着色あるいは発色す
る。フロート法はPDPのような大型表示装置に用いる
ガラス基板の製造に最も優れている方法であるが、溶融
した錫(Sn)上で形成するために、ガラスへの錫(S
n)の付着を避けることができない。
That is, since the float glass is exposed to a hydrogen atmosphere during the forming process, a reducing layer having a thickness of several microns is formed on the glass surface, and tin ions (Sn ++ ) derived from molten tin (Sn) are formed in this layer. ) Exists. By heat treatment when the glass substrate through the transparent electrode to form a bus electrode of a silver (Ag), silver (Ag) is changed to a silver ion (Ag +), the silver ions (Ag +) diffused transparent electrode Then, ion exchange occurs between the glass surface and the alkali metal ions contained in the glass, and the silver ion (A
g + ) invades. The invading silver ion (Ag + ) is reduced by the tin ion (Sn ++ ) existing in the reducing layer to generate a colloid of metallic silver (Ag). The substrate glass is colored or develops yellow due to this silver (Ag) colloid. The float method is the best method for manufacturing a glass substrate used for a large-sized display device such as a PDP, but since it is formed on molten tin (Sn), tin (S) on glass is used.
Adhesion of n) cannot be avoided.

【0014】また、ガラス基板がこのように黄色に発色
あるいは着色した場合、PDPのような表示デバイスに
とっては致命的な欠陥となる。なぜなら、基板ガラスの
着色により発光色度が変化し、その結果画像表示の輝度
の低下を引き起こし、コントラストを向上する上で障害
となるからである。また、パネル全体が黄色く着色して
見え、商品価値を下げるためでもある。このような銀を
含む電極の使用によって生じるガラス基板の発色あるい
は着色を、このガラス基板の電極形成面側を研磨し、そ
の表面に形成された還元性の層を除くことによって抑制
できることが明らかにされている(例:特開平10−2
55669号公報)。これによれば、発色度合いの小さ
いガラス基板を作製することができるものの、PDP用
ガラス基板の製造工程に適用しようとしたとき、表面層
の除去という工程を必要とすることから、その量産性向
上が新たな課題となっている。
When the glass substrate is colored or colored yellow in this way, it is a fatal defect for a display device such as a PDP. This is because the chromaticity of light emission changes due to the coloring of the substrate glass, resulting in a decrease in the brightness of the image display, which is an obstacle to improving the contrast. It is also because the whole panel looks yellow and reduces the commercial value. It is clear that the coloring or coloring of the glass substrate caused by the use of such an electrode containing silver can be suppressed by polishing the electrode formation surface side of the glass substrate and removing the reducing layer formed on the surface. (Example: JP-A-10-2
55669). According to this, although it is possible to manufacture a glass substrate having a low degree of color development, when it is applied to the manufacturing process of a glass substrate for PDP, a step of removing the surface layer is required, which improves mass productivity. Is a new issue.

【0015】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、フロートガラスを用いるPDP等の表
示装置に用いる基板ガラス上に銀を含む材料で電極を形
成する場合の銀イオンによる基板ガラスの着色(黄変)
を低減した表示装置提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and is a substrate formed of silver ions when an electrode is formed of a material containing silver on a substrate glass used for a display device such as a PDP using a float glass. Coloring of glass (yellowing)
It is an object of the present invention to provide a display device with reduced power consumption.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の表示装置は、ガ
ラス基板と、ガラス基板の一方の表面上に形成された複
数の導電層を備えた電極層とを有し、電極層における導
電層の少なくとも1層が銀を含む層であり、かつこの銀
を含む導電層とガラス基板との間の少なくとも1層が銀
よりイオン化傾向の大きい元素を含む構成を有してい
る。また、本発明の表示装置は、ガラス基板と、ガラス
基板の一方の表面上に形成された複数の導電層を備えた
電極層とを有し、電極層が互いに分離したさらに幅の狭
い複数の電極に分割されてなり、電極層における導電層
の少なくとも1層が銀を含む層であり、かつこの銀を含
む導電層とガラス基板との間の少なくとも1層が銀より
イオン化傾向の大きい元素を含む構成を有している。ま
た、本発明の表示装置はこれらの構成に加えて、銀を含
む層の下層に、銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む
層と黒色顔料を含む層とを有し、3層以上を有するか、
あるいは、銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む層
に、銀よりイオン化傾向の大きい元素に加えて黒色顔料
を含む構成とともに、銀よりイオン化傾向の大きい元素
が銅、鉄、錫、ニッケル、コバルト、クロム、亜鉛、ア
ルミニウム、マグネシウム、カルシウムおよびカリウム
のうちの少なくとも1つであって、元素を金属あるいは
金属酸化物の状態で含む構成をも有している。
A display device according to the present invention has a glass substrate and an electrode layer having a plurality of conductive layers formed on one surface of the glass substrate. Is a layer containing silver, and at least one layer between the conductive layer containing silver and the glass substrate has a structure containing an element having a greater ionization tendency than silver. Further, the display device of the present invention has a glass substrate and an electrode layer provided with a plurality of conductive layers formed on one surface of the glass substrate, and the electrode layers are separated from each other and have a narrower width. At least one of the conductive layers in the electrode layer is a layer containing silver, and at least one layer between the conductive layer containing silver and the glass substrate contains an element having a greater ionization tendency than silver. It has a configuration including. In addition to these constitutions, the display device of the present invention has a layer containing an element having a greater ionization tendency than silver and a layer containing a black pigment under the layer containing silver, and has three or more layers. ,
Alternatively, in a layer containing an element having a higher ionization tendency than silver, a black pigment is added to the element having a higher ionization tendency than silver, and the elements having a higher ionization tendency than silver are copper, iron, tin, nickel, cobalt, and chromium. At least one of zinc, aluminum, magnesium, calcium, and potassium, and also has a configuration containing the element in the state of metal or metal oxide.

【0017】これらの構成により、本発明の表示装置は
銀を含む導電体層の直下の層に銀よりイオン化傾向の大
きい元素を含む層からなる着色抑制層を設けて、製造工
程における熱処理の過程で銀が銀イオンに変化し、この
銀イオンが基板側に拡散していく過程で、イオン化傾向
の大きい元素がイオン化され、放出された電子を銀イオ
ンが受け取り金属銀となって拡散が中断し、基板ガラス
に銀イオンが拡散することがなくなり、着色あるいは発
色を抑制することができ、あわせて、黒色層を設けるこ
とでコントラストの高い高輝度なPDPを実現すること
ができる。
With these configurations, in the display device of the present invention, the color suppression layer composed of a layer containing an element having a greater ionization tendency than silver is provided immediately below the conductor layer containing silver, and the heat treatment process in the manufacturing process is performed. Changes silver into silver ions, and in the process of diffusion of these silver ions to the substrate side, elements with a large ionization tendency are ionized, and the emitted electrons are received by the silver ions, becoming metallic silver and the diffusion is interrupted. In addition, silver ions do not diffuse into the substrate glass, and coloring or coloring can be suppressed, and by providing a black layer, a PDP with high contrast and high brightness can be realized.

【0018】本発明の表示装置用電極の製造方法は、フ
ロートガラス基板に形成されて、複数の導電層からなる
電極の形成方法であり、銀よりイオン化傾向の大きい元
素を含む層を形成した後、銀を含む導電体層を形成する
工程を備えた構成を有する。また、本発明の表示装置用
電極の製造方法は、フロートガラス基板上に少なくとも
3層以上の層構成を有する電極の形成方法であり、銀よ
りイオン化傾向の大きい元素を含む層を形成する前、あ
るいは形成した後、黒色顔料を含む層を形成し、その後
銀を含む導電体層を形成する工程を備えた構成を有す
る。さらに、本発明の表示装置用電極の製造方法は、銀
よりイオン化傾向の大きい元素を含む層、黒色顔料を含
む層、銀を含む導電体層のいずれかがスクリーン印刷
法、フォトリソ法、エッチング法から選択される形成方
法のいずれか1つの方法、あるいは2つ以上の方法を組
み合わせて形成する工程を備えた構成をも有する。これ
らの構成により、銀よりイオン化傾向の大きい元素を含
む材料をスクリーン印刷、フォトリソ法、エッチング法
等により形成した後、この層上に銀を含む電極材料を同
じくスクリーン印刷、フォトリソ法、エッチング法等に
より銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む層が、ガラ
ス基板と銀を含む導電体層の間に位置するように、基板
上に少なくとも2層以上の層構成からなる電極を形成す
るので、銀イオンのガラス基板への拡散過程から始まる
着色メカニズムは起こり得ず、着色を抑制する構造を有
し、かつ、高精度の平滑性が要求されるPDP用電極を
形成することができる。
The method for producing an electrode for a display device of the present invention is a method for forming an electrode formed on a float glass substrate and comprising a plurality of conductive layers, after forming a layer containing an element having a greater ionization tendency than silver. , And a structure including a step of forming a conductor layer containing silver. The method for producing an electrode for a display device of the present invention is a method for forming an electrode having a layer structure of at least three layers or more on a float glass substrate, and before forming a layer containing an element having a greater ionization tendency than silver, Alternatively, it has a structure including a step of forming a layer containing a black pigment after the formation, and then forming a conductor layer containing silver. Furthermore, in the method for manufacturing an electrode for a display device of the present invention, any one of a layer containing an element having a greater ionization tendency than silver, a layer containing a black pigment, and a conductor layer containing silver is a screen printing method, a photolithography method, or an etching method. It also has a configuration including a step of forming any one of the forming methods selected from the above or a combination of two or more methods. With these configurations, a material containing an element having a greater ionization tendency than silver is formed by screen printing, a photolithography method, an etching method, etc., and then an electrode material containing silver is similarly screen printed, a photolithography method, an etching method, etc. on this layer. Since the electrode containing an element having a greater ionization tendency than silver is located between the glass substrate and the conductor layer containing silver, an electrode having a layer structure of at least two layers is formed on the substrate. The coloring mechanism starting from the diffusion process to the glass substrate cannot occur, and it is possible to form an electrode for PDP which has a structure for suppressing coloring and which requires high-precision smoothness.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】上記のように、本発明の表示装置
の前面基板は、形成される電極として銀を含む導電体層
の直下の層に銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む層
からなる着色抑制層を設けた構成を有している。発明の
実施の形態の詳細を説明する前に、着色抑制層形成用の
具体的材料について少し詳しく述べる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As described above, the front substrate of the display device of the present invention comprises a layer containing an element having a higher ionization tendency than silver in a layer immediately below a conductor layer containing silver as an electrode to be formed. It has a structure in which a color suppression layer is provided. Before describing the details of the embodiments of the invention, a specific material for forming the color suppression layer will be described in some detail.

【0020】基板ガラスが黄色く着色あるいは発色する
のは、銀導電層の銀(Ag)が製造工程における熱処理
の過程で銀イオン(Ag+)に変化し、この銀イオン
(Ag+)がガラス中に侵入して、フロートガラス表面
の還元層に存在する錫イオン(Sn++)によって還元さ
れ、金属銀(Ag)のコロイドを生成することに起因す
るのであるから、バス電極の銀導電層の銀(Ag)を形
成する際の熱処理により、銀イオン(Ag+)が透明電
極を拡散して基板ガラス表面にいたり、基板ガラス中に
銀イオン(Ag+)が侵入するのを抑えることができる
のであれば、基板ガラスが黄色く着色あるいは発色する
ことがなくなるのである。このためには、バス電極の銀
導電層の銀(Ag)を形成する際の熱処理により、銀イ
オン(Ag+)が前面基板ガラス上の透明電極を拡散す
る前に銀イオン(Ag+)をコロイドではない金属銀に
還元させてやればよい。銀イオン(Ag+)は銀よりも
イオン化傾向の大きい元素が存在すれば金属銀に還元さ
れるので、銀導電層と基板ガラスの間に銀よりもイオン
化傾向の大きい元素を含む層を着色抑制層として設けれ
ば、前面基板の製造工程の処理により発生する銀導電層
からの銀イオンは着色抑制層に含まれる銀よりもイオン
化傾向の大きい元素によりコロイド状ではない金属銀に
還元され、その結果、黄色に着色することが抑えられる
と考えられる。
[0020] The substrate glass is colored yellow or color is changed to silver ions (Ag +) in the course of heat treatment silver silver conductive layer (Ag) is in the manufacturing process, the silver ions (Ag +) in the glass And is reduced by tin ions (Sn ++ ) present in the reduction layer on the surface of the float glass to form a colloid of metallic silver (Ag). the heat treatment for forming the silver (Ag), can be suppressed or are in the surface of a glass substrate silver ions (Ag +) diffused transparent electrode, that the silver ions (Ag +) are entering the substrate glass In that case, the substrate glass will not be colored or develop yellow. To this end, the heat treatment for forming silver (Ag) in the silver conductive layer of the bus electrode removes the silver ions (Ag + ) before the silver ions (Ag + ) diffuse through the transparent electrode on the front substrate glass. It may be reduced to metallic silver that is not a colloid. Since silver ions (Ag + ) are reduced to metallic silver if an element having a greater ionization tendency than silver is present, the layer containing an element having a larger ionization tendency than silver is suppressed between the silver conductive layer and the substrate glass. If provided as a layer, silver ions from the silver conductive layer generated by the treatment of the manufacturing process of the front substrate are reduced to non-colloidal metallic silver by an element having a greater ionization tendency than silver contained in the color suppression layer, As a result, it is considered that yellowing is suppressed.

【0021】一般に、銀(Ag)よりイオン化傾向の大
きい元素として、銅(2価)、鉄(3価)、錫(2
価)、ニッケル、コバルト(2価)、鉄(2価)、クロ
ム(3価)、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、カル
シウム、カリウム等が知られている。したがって、上記
の銀よりイオン化傾向の大きい金属元素の単体、合金、
金属化合物や複合化合物を含む材料で着色抑制層を形成
して前面基板を作製すれば、前面基板ガラスの着色や発
色を抑制できるという効果が期待できる。
Generally, as elements having a greater ionization tendency than silver (Ag), copper (divalent), iron (trivalent), tin (2)
(Valent), nickel, cobalt (divalent), iron (divalent), chromium (trivalent), zinc, aluminum, magnesium, calcium, potassium and the like are known. Therefore, a simple substance, an alloy of a metal element having a greater ionization tendency than the above silver,
If the front substrate is manufactured by forming the coloring suppressing layer with a material containing a metal compound or a composite compound, it is expected that the coloring or coloring of the front substrate glass can be suppressed.

【0022】以下に、本発明の実施の形態について図1
から図7を参照して詳しく説明する。本発明の実施の形
態におけるPDPの構成、構造を示す図2、図4、図6
は既に従来の技術において図1(a)を用いて説明した
AC−PDPの構成、構造を踏襲している。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.
7 to FIG. 2, 4, and 6 showing the configuration and structure of the PDP in the embodiment of the present invention.
Already follows the configuration and structure of the AC-PDP described in the related art with reference to FIG.

【0023】(実施の形態1)図2は本発明の実施の形
態1におけるPDPの電極構造の1例を概略的に示して
いる。図2には前面基板の行電極に垂直な方向に切断し
た断面が図1(a)、(b)と同様に前面基板ガラスの
電極形成面側を下に向けて示されている。
(Embodiment 1) FIG. 2 schematically shows an example of an electrode structure of a PDP according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 shows a cross section of the front substrate cut in the direction perpendicular to the row electrodes, with the electrode formation surface side of the front substrate glass facing downward, as in FIGS. 1 (a) and 1 (b).

【0024】図2において、フロート法で形成された前
面基板ガラス10に、透明電極100、着色抑制層10
3、銀導電層101をこの順に積層して電極を形成して
いる。透明電極100はITOで、幅300μm、厚み
1000Åにパターン形成している。透明電極100に
続けて電気抵抗が低い銀を含む材料でバス電極を形成す
る。電極形成時の熱処理工程において、バス電極となる
銀導電層101に含まれる金属元素の銀が銀イオンに変
化し、この生起した銀イオンがフロート法で形成された
前面基板ガラス10を着色するので、着色を抑えるため
銀導電層101と透明電極100の間に着色抑制層10
3を形成している。着色抑制層103を形成する材料
は、先に説明したように銀よりイオン化傾向の大きい元
素を用いることが重要であるが、入手が容易で安価なこ
とが好ましい。ここでは透明電極100のITOと相性
がよく、電極形成が容易な2価の錫(Sn)の酸化物で
あるSnOを選択して着色抑制層103を形成した。銀
導電層101と着色抑制層103は、両者とも幅120
μmで厚み3μmにパターン形成した。
In FIG. 2, the transparent electrode 100 and the color suppression layer 10 are formed on the front substrate glass 10 formed by the float method.
3 and the silver conductive layer 101 are laminated in this order to form an electrode. The transparent electrode 100 is made of ITO and is patterned to have a width of 300 μm and a thickness of 1000Å. Following the transparent electrode 100, a bus electrode is formed of a material containing silver having a low electric resistance. In the heat treatment step at the time of forming the electrode, silver of the metal element contained in the silver conductive layer 101 to be the bus electrode changes into silver ion, and the generated silver ion colors the front substrate glass 10 formed by the float method. In order to suppress coloring, the coloring suppressing layer 10 is provided between the silver conductive layer 101 and the transparent electrode 100.
3 is formed. As described above, it is important to use an element having a greater ionization tendency than silver as the material for forming the color suppression layer 103, but it is preferable that it is easily available and inexpensive. Here, SnO, which is a divalent tin (Sn) oxide that is compatible with ITO of the transparent electrode 100 and is easy to form an electrode, was selected to form the color suppression layer 103. Both the silver conductive layer 101 and the color suppression layer 103 have a width of 120
A pattern having a thickness of 3 μm was formed.

【0025】次に、本発明の実施の形態1におけるPD
Pの前面基板1の電極を形成する製造工程の手順を簡単
に説明する。図3は本発明の実施の形態1におけるPD
Pの前面基板1の電極を形成するための製造工程の1例
を概略的に示す流れ図である。図3の右側には、実際の
処理内容を理解するために、それぞれの工程における前
面基板1の断面を図示している。ここでは、図2におけ
る断面図と異なり、工程における処理の状態と同じよう
にするため、基板ガラスの電極形成面側を上に向けて示
している。図3において、第1の工程A1は、フロート
法で形成された前面基板ガラス10上に透明電極100
をパターニングする工程である。ここでは透明電極形成
工程の詳細を示さず、前面基板ガラス10上に透明電極
100がパターニングされた状態のみを示している。
Next, the PD according to the first embodiment of the present invention
The procedure of the manufacturing process for forming the electrodes of the P front substrate 1 will be briefly described. FIG. 3 is a PD according to the first embodiment of the present invention.
It is a flow chart which shows roughly an example of the manufacturing process for forming the electrode of front substrate 1 of P. On the right side of FIG. 3, cross sections of the front substrate 1 in respective steps are shown in order to understand the actual processing contents. Here, unlike the cross-sectional view in FIG. 2, the electrode formation surface side of the substrate glass is shown facing upward so as to be the same as the processing state in the process. In FIG. 3, the first step A1 is to form the transparent electrode 100 on the front substrate glass 10 formed by the float method.
Is a step of patterning. Here, details of the transparent electrode forming step are not shown, and only the state where the transparent electrode 100 is patterned on the front substrate glass 10 is shown.

【0026】第2の工程A2は、着色抑制層103とな
る2価の錫(Sn)の酸化物であるSnOを含んで調合
された感光性ペースト201を塗布、乾燥する工程であ
る。SnOを含む感光性ペースト201を例えばスクリ
ーン印刷で塗布した後、温風乾燥炉等にて例えば80℃
30分の条件で乾燥を行う。
The second step A2 is a step of applying and drying a photosensitive paste 201 containing SnO, which is a divalent tin (Sn) oxide, which is to be the color suppression layer 103. After applying the photosensitive paste 201 containing SnO by screen printing, for example, at 80 ° C. in a warm air drying oven or the like.
Drying is performed for 30 minutes.

【0027】また、塗布方法はスクリーン印刷のほかに
スリットコート等も可能である。また、着色抑制層を形
成する方法は、上記の印刷やコーティングにより全面に
塗布した感光性の層を露光・現像してパターンニングす
る方法のほかに、あらかじめ所定のパターンをシート状
に成形して基板に貼り付ける方法も可能である。また、
乾燥は温風乾燥炉のほかに赤外(IR)乾燥炉等も使用
可能である。乾燥温度や乾燥時間等の処理条件も用いる
方法、手段、材料により異なるが、それぞれの条件に適
した条件を任意に設定することができる。
Further, as a coating method, slit coating or the like can be used in addition to screen printing. The method for forming the coloration suppressing layer is not limited to the method of exposing and developing the photosensitive layer coated on the entire surface by printing or coating as described above, and patterning in advance a predetermined pattern into a sheet. A method of sticking to the substrate is also possible. Also,
In addition to the warm air drying oven, an infrared (IR) drying oven or the like can be used for drying. Although the treatment conditions such as the drying temperature and the drying time also vary depending on the method, means and material used, conditions suitable for each condition can be set arbitrarily.

【0028】図3に示した流れ図における第3の工程A
3は、着色抑制層103を形成するために2価の錫(S
n)の酸化物SnOを含む感光性のペーストを塗布、乾
燥した膜に、露光マスク202を介しての紫外線露光を
行う工程である。所定の電極パターンが形成されたネガ
型の露光マスク202をセットして、例えば超高圧水銀
ランプ光源から導いた紫外線203を、例えば300m
J/cm2の露光エネルギーで照射することで露光す
る。なお、ポジ型の感光性ペーストを使用する場合は、
パターン化部分が未露光になるような露光マスクを用い
ればよい。また、露光エネルギーも用いる感光性ペース
トの特性に合わせて適宜選択すればよく、具体的に示し
た上記の条件に限定されるものではない。
Third step A in the flow chart shown in FIG.
3 is a divalent tin (S) for forming the color suppression layer 103.
In this step, a photosensitive paste containing the oxide SnO of n) is applied and dried, and the film is exposed to ultraviolet light through the exposure mask 202. A negative exposure mask 202 on which a predetermined electrode pattern is formed is set, and, for example, ultraviolet rays 203 guided from an ultra-high pressure mercury lamp light source are exposed to, for example, 300 m.
Exposure is performed by irradiating with an exposure energy of J / cm 2 . When using a positive photosensitive paste,
An exposure mask may be used so that the patterned portion is unexposed. Further, the exposure energy may be appropriately selected in accordance with the characteristics of the photosensitive paste to be used, and is not limited to the above-mentioned specific conditions.

【0029】第4の工程A4は、着色抑制層となる露光
済みのSnOを含む感光性ペースト膜を、例えばアルカ
リ性水溶液(0.3wt%の炭酸ナトリウム水溶液)で
現像してパターン形成を行い、例えば600℃の大気中
で焼成を行って基板に固着させる工程である。
In the fourth step A4, the exposed photosensitive paste film containing SnO serving as the color suppression layer is developed with, for example, an alkaline aqueous solution (0.3 wt% sodium carbonate aqueous solution) to form a pattern. This is a step of baking in the air at 600 ° C. to fix the substrate.

【0030】現像液は用いる感光性材料によって有機溶
剤も使用可能であり、その濃度も適宜変化させることが
可能である。また、焼成温度も感光性ペーストに応じて
変化させることができ、本発明の実施の形態1で説明し
た条件に限定されるものではない。
As the developing solution, an organic solvent can be used depending on the photosensitive material used, and the concentration thereof can be changed appropriately. Further, the firing temperature can be changed according to the photosensitive paste, and the firing temperature is not limited to the conditions described in the first embodiment of the present invention.

【0031】図3における第5の工程A5、第6の工程
A6、第7の工程A7は、それぞれ先に説明した第2の
工程A2、第3の工程A3、第4の工程A4に対応して
おり、用いる感光性ペーストが着色抑制層103を形成
するための2価の錫(Sn)の酸化物SnOを含む感光
性のペーストからなる着色抑制層材料を含む層201で
なく銀導電層101を形成するための銀を含む感光性ペ
ーストからなる銀を含む層204であることを除いて、
ほとんど同じ工程を繰り返す。重複を避けるため、これ
ら第5の工程A5から第7の工程A7までの説明を省略
する。
The fifth step A5, the sixth step A6, and the seventh step A7 in FIG. 3 correspond to the above-described second step A2, third step A3, and fourth step A4, respectively. Therefore, the photosensitive paste to be used is not the layer 201 containing the color suppression layer material made of a photosensitive paste containing the oxide SnO of divalent tin (Sn) for forming the color suppression layer 103, but the silver conductive layer 101. Except that it is a silver-containing layer 204 made of a photosensitive paste containing silver for forming
Repeat almost the same process. To avoid duplication, the description of the fifth step A5 to the seventh step A7 is omitted.

【0032】以上説明してきたようなA1からA7の工
程により、高精度の平滑性が要求されるPDP用ガラス
基板の黄色着色を抑制できる電極を形成した前面基板1
を製造することができる。
By the steps A1 to A7 as described above, the front substrate 1 on which the electrode capable of suppressing yellow coloring of the glass substrate for PDP which requires high-precision smoothness is formed.
Can be manufactured.

【0033】本発明の実施の形態におけるPDPの電極
構造の例として図2、図4、図6に示した各構造で電極
を形成した前面基板について、600℃で焼成した際の
ガラス基板の黄色着色度を計測した。結果を表1に示
す。
As an example of the electrode structure of the PDP according to the embodiment of the present invention, the front substrate having electrodes formed in the respective structures shown in FIGS. 2, 4 and 6 has a yellow color of the glass substrate when baked at 600 ° C. The degree of coloring was measured. The results are shown in Table 1.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】比較例として、一般的なPDPの電極構造
で着色抑制層を有しない従来の電極構造、つまり図1
(b)および図1(c)に示した構造の前面基板1を用
いた。比較例の前面基板の電極の幅、各層の厚み、焼成
温度は本発明の実施の形態1で例示した前面基板に準じ
た。
As a comparative example, a conventional electrode structure having a general PDP electrode structure without a coloring suppression layer, that is, FIG.
The front substrate 1 having the structure shown in (b) and FIG. 1 (c) was used. The electrode width, the thickness of each layer, and the firing temperature of the front substrate of the comparative example were in accordance with those of the front substrate illustrated in the first embodiment of the present invention.

【0036】黄色着色度は、形成した電極の色調を試作
した各前面基板の表面側から計測した。具体的には、市
販の測色計を用い、C光源下(標準光源の一種)におけ
るL*a*b*表色系(CIE1976)のb*の値を
計測した。L*a*b*表色系はCIELab表色系と
もいい、色を数値化して表現するためにCIE(国際照
明委員会)が1976年に定めた均等色空間の1つで、
三次元直交座標を用いる色空間を用いた表色系のことで
ある。赤−緑(a*)、黄−青(b*)の2本の直行軸
と、明度を表す軸(L*)の計3本の軸によって色を表
現している。L*a*b*表色系では、b*の値が大き
いほど、より黄色に着色していることを示すことにな
る。黄色着色度の測定値b*の値が5を超えると、透明
(b*値が0)なガラス基板が黄色に着色して見えるよ
うになり、表示装置用の基板として適さなくなる。
The degree of yellow coloration was measured from the front surface side of each front substrate on which the color tone of the formed electrode was experimentally manufactured. Specifically, a commercially available colorimeter was used to measure the b * value of the L * a * b * color system (CIE1976) under a C light source (a type of standard light source). The L * a * b * color system is also called the CIELab color system, and is one of the uniform color spaces defined by the CIE (International Commission on Illumination) in 1976 in order to numerically express colors.
A color system using a color space that uses three-dimensional Cartesian coordinates. Color is expressed by two orthogonal axes of red-green (a *) and yellow-blue (b *) and a total of three axes of brightness (L *). In the L * a * b * color system, the larger the value of b *, the more yellow the color is. When the measured value b * of the degree of yellow coloring exceeds 5, the transparent (b * value is 0) glass substrate becomes yellow and looks unsuitable as a substrate for a display device.

【0037】表1において、比較例として示した、着色
抑制層を有しない電極構造、つまり一般的なPDPの電
極構造として図1(b)および図1(c)に示した構造
の電極は明らかに黄色に着色しており、どちらもb*の
値が5を超えていることが確認できた。一方、本発明の
実施の形態1における電極構造例として示した、図2に
示した構造の電極、つまり着色抑制層を有する電極で
は、b*の値は5以下であり、黄色の着色を視認検査で
認めることができなかった。したがって、SnOの着色
抑制層103により、前面基板1の製造工程の処理によ
り発生する銀導電層101からの銀イオンはコロイド状
ではない金属銀に還元され、その結果、黄色に着色する
ことが抑えられたと考えられる。それゆえ、着色抑制層
を設けることでガラス基板の黄色着色を抑制できたこと
は明らかである。
In Table 1, the electrode structure having no color suppression layer shown as the comparative example, that is, the electrode having the structure shown in FIGS. 1B and 1C as the electrode structure of a general PDP is clear. It was confirmed that the value of b * exceeded 5 in both cases. On the other hand, in the electrode having the structure shown in FIG. 2, which is shown as an example of the electrode structure in the first embodiment of the present invention, that is, the electrode having the coloring suppression layer, the value of b * is 5 or less, and yellow coloring is visually recognized. The inspection could not admit. Therefore, by the SnO coloring suppression layer 103, silver ions from the silver conductive layer 101 generated by the processing in the manufacturing process of the front substrate 1 are reduced to metallic silver that is not in a colloidal state, and as a result, yellowing is suppressed. It is thought that it was done. Therefore, it is apparent that the yellow coloring of the glass substrate can be suppressed by providing the coloring suppressing layer.

【0038】なお、本発明の実施の形態1では、透明電
極100の材料としてITOを用いる例で説明したが、
本発明はITOに限定されるものではなく、例えば、ア
ンチモン(Sb)をドープした酸化錫(SnO)等を含
めて、ほかの透明電極用材料を使用しても問題がないこ
とを言い添えておく。
In the first embodiment of the present invention, the case where ITO is used as the material of the transparent electrode 100 has been described.
It should be noted that the present invention is not limited to ITO, and that there is no problem even if other transparent electrode materials including, for example, tin oxide (SnO) doped with antimony (Sb) are used. deep.

【0039】また、本発明の実施の形態1で図示・説明
した透明電極100、銀導電層101、着色抑制層10
3の幅や厚み等の寸法・形状も1例であり、本発明はこ
れらの寸法・形状例に限定されるものではなく、適切な
寸法・計上に任意に設定できることは自明である。
In addition, the transparent electrode 100, the silver conductive layer 101, and the color suppression layer 10 shown and described in the first embodiment of the present invention.
The width and thickness of 3 are also examples, and the present invention is not limited to these examples of sizes and shapes, and it is obvious that the dimensions and shapes can be arbitrarily set.

【0040】(実施の形態2)本発明の実施の形態2に
おける表示装置は、実施の形態1において説明した図2
の装置構成、図3の製造工程を踏襲した。重複を避ける
ため詳しい説明を省略し、相違点の説明に留める。
(Embodiment 2) A display device according to Embodiment 2 of the present invention is the same as that shown in FIG.
The device configuration and the manufacturing process of FIG. 3 were followed. To avoid duplication, detailed description is omitted and only the differences are described.

【0041】本発明の実施の形態2における表示装置で
は、図2における着色抑制層103を形成するのに、図
3に示した製造工程における着色抑制層103の形成用
材料として、錫(2価)の酸化物SnOに代えて銀より
イオン化傾向の大きい元素である亜鉛、鉄、クロム、銅
(2価)それぞれの金属酸化物ZnO、FeO、Cr
O、CuOを含む感光性ペーストを使用して形成し、前
面基板1を作製した。
In the display device according to the second embodiment of the present invention, tin (divalent) is used as the material for forming the color suppression layer 103 in the manufacturing process shown in FIG. ), SnO, FeO, Cr, which are metal oxides of zinc, iron, chromium, and copper (divalent), which are elements having a greater ionization tendency than silver, instead of SnO.
A front substrate 1 was manufactured by using a photosensitive paste containing O and CuO.

【0042】着色抑制層103に上記の金属酸化物を含
む4種類の完成した前面基板1を外部自然光および室内
蛍光灯照明下で視認検査検査を行った。その結果、4種
類の前面基板ガラス10には着色や発色が認められなか
った。したがって、銀導電層101と前面基板ガラス1
0の間に銀よりもイオン化傾向の大きい金属元素または
その金属酸化物を含む材料で着色抑制層を形成すること
は、前面基板の着色や発色を抑制していることは明らか
である。
The four types of completed front substrates 1 containing the above-mentioned metal oxide as the color suppression layer 103 were visually inspected under external natural light and indoor fluorescent lamp illumination. As a result, no coloring or coloring was observed on the four types of front substrate glass 10. Therefore, the silver conductive layer 101 and the front substrate glass 1
It is clear that forming the color suppression layer with a material containing a metal element or its metal oxide having an ionization tendency higher than that of silver suppresses the coloring and coloring of the front substrate.

【0043】(実施の形態3)図4は本発明の実施の形
態3におけるPDPの電極構造の1例を概略的に示して
いる。図4(a)には前面基板の行電極に垂直な方向に
切断した断面の一部分が図2と同様に拡大して、前面基
板ガラスの電極形成面側を下に向けて示されている。
(Third Embodiment) FIG. 4 schematically shows an example of an electrode structure of a PDP according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 4A, a part of the cross section of the front substrate cut in the direction perpendicular to the row electrodes is enlarged in the same manner as in FIG. 2 and the electrode formation surface side of the front substrate glass is shown face down.

【0044】本発明の実施の形態3におけるPDPの電
極構造は、図4(a)から明らかなように、透明電極1
00と着色抑制層103の間に黒色層102を銀導電層
101、着色抑制層103と同じ幅120μmで積層形
成していることを除いて実施の形態1と同様な構成を有
している。図4(a)において、図2と同じ部材には同
じ符号を付している。重複を避けるため、本発明の実施
の形態3におけるPDPの電極構造については、本発明
の実施の形態1と同じ構成部材についての詳しい説明を
省略する。
The electrode structure of the PDP according to the third embodiment of the present invention has a transparent electrode 1 as shown in FIG.
00 and the color suppression layer 103 have the same configuration as that of the first embodiment except that the black layer 102 is formed to have the same width of 120 μm as the silver conductive layer 101 and the color suppression layer 103. In FIG. 4A, the same members as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals. In order to avoid duplication, detailed description of the same components as those of the first embodiment of the present invention will be omitted for the electrode structure of the PDP according to the third embodiment of the present invention.

【0045】図4(a)において、黒色層102はコン
トラストを向上させることを目的とし、黒色顔料を含む
材料で透明電極100の直上に形成する。黒色層102
の厚みは銀導電層101、着色抑制層103と同じ3μ
mでパターン形成して積層している。銀導電層101の
下に銀よりもイオン化傾向の大きい金属元素またはその
金属酸化物を含む材料で着色抑制層を形成して前面基板
の着色を抑える構成は同じである。実施の形態1と異な
って黒色層102を着色抑制層103と透明電極100
の間に形成しても、電極の色調を市販の測色計を用いて
計測した黄色着色度を表すb*が最も小さい値を表1に
示しているように、着色抑制層103の着色を抑える効
果が大きいことは明らかである。
In FIG. 4A, the black layer 102 is formed immediately above the transparent electrode 100 with a material containing a black pigment for the purpose of improving the contrast. Black layer 102
Has the same thickness of 3 μm as the silver conductive layer 101 and the color suppression layer 103.
m is patterned and laminated. The same constitution is provided under the silver conductive layer 101 to suppress the coloring of the front substrate by forming a coloring suppressing layer with a material containing a metal element having a higher ionization tendency than silver or a metal oxide thereof. Differently from the first embodiment, the black layer 102 is replaced with the color suppression layer 103 and the transparent electrode 100.
Even if it is formed between the two, the coloring of the coloring suppressing layer 103 is as shown in Table 1 where b *, which represents the degree of yellow coloring measured by using a commercially available colorimeter, for the color tone of the electrode is the smallest. It is clear that the suppression effect is great.

【0046】次に、本発明の実施の形態3におけるPD
Pの前面基板1の電極を形成する製造工程の手順を簡単
に説明する。図5は本発明の実施の形態3におけるPD
Pの前面基板1の電極を形成するための製造工程の1例
を概略的に示す流れ図である。図5の右側には、実際の
処理内容を理解するために、それぞれの工程における前
面基板1の断面を基板ガラスの電極形成面側を上に向け
て図示している。
Next, the PD according to the third embodiment of the present invention
The procedure of the manufacturing process for forming the electrodes of the P front substrate 1 will be briefly described. FIG. 5 is a PD according to the third embodiment of the present invention.
It is a flow chart which shows roughly an example of the manufacturing process for forming the electrode of front substrate 1 of P. On the right side of FIG. 5, in order to understand the actual processing contents, the cross section of the front substrate 1 in each step is shown with the electrode formation surface side of the substrate glass facing upward.

【0047】本発明の実施の形態3におけるPDPの電
極形成する工程の手順は、実施の形態1における工程と
同じ透明電極形成のための第1の工程B1と、実施の形
態1における第2の工程に相当する銀よりイオン化傾向
の大きい元素を含む材料の塗布・乾燥をするための実施
の形態2の第5の工程B5の間に、黒色層102を着色
抑制層103と透明電極100の間に形成するための第
2の工程B2、第3の工程B3、第4の工程B4の各工
程が付加されているほかはほとんど同様である。
The procedure of the step of forming the electrode of the PDP in the third embodiment of the present invention is the same as the step in the first embodiment, that is, the first step B1 for forming the transparent electrode and the second step in the first embodiment. A black layer 102 is provided between the color suppression layer 103 and the transparent electrode 100 during the fifth step B5 of the second embodiment for applying and drying a material containing an element having an ionization tendency larger than that of silver corresponding to the step. It is almost the same except that each of the second step B2, the third step B3, and the fourth step B4 for forming the above is added.

【0048】図5において、本発明の実施の形態3にお
けるPDPの前面基板1の各部材を形成するための第2
の工程B2は、黒色層102を黒色顔料を含む材料で調
合された感光性ペーストからなる黒色顔料材料層401
を塗布・乾燥する工程である。この工程では、黒色顔料
を含む材料で調合した感光性ペーストからなる黒色顔料
材料層401を例えばスクリーン印刷で塗布した後、温
風乾燥炉等にて例えば80℃30分の条件で乾燥を行
う。
In FIG. 5, the second part for forming each member of the front substrate 1 of the PDP according to the third embodiment of the present invention.
Step B2 is a black pigment material layer 401 made of a photosensitive paste in which the black layer 102 is blended with a material containing a black pigment.
Is a process of coating and drying. In this step, a black pigment material layer 401 made of a photosensitive paste prepared with a material containing a black pigment is applied by, for example, screen printing, and then dried in a hot air drying oven or the like under the conditions of 80 ° C. for 30 minutes.

【0049】本発明の実施の形態3において、第3の工
程B3は、塗布した黒色顔料を含む材料で調合した感光
性ペースト401の上に所定の電極パターンが形成され
たネガ型の露光マスク202をセットして、例えば超高
圧水銀ランプ光源から導いた紫外線203を、例えば3
00mJ/cm2の露光エネルギーで照射することで露
光する。そして、第4の工程B4は、露光済みの黒色顔
料を含む材料で調合した感光性ペースト401膜を、例
えば、アルカリ性水溶液(0.3wt%の炭酸ナトリウ
ム水溶液)で現像してパターン形成を行い、例えば、6
00℃の大気中で焼成を行って基板に固着させる工程で
ある。これらの露光および現像・焼成の工程は実施の形
態1で説明したのと同じ工程を使うことができる。この
ようにして、図5に示すようにコントラストを向上させ
ることを目的とする黒色層102が、黒色顔料を含む材
料で透明電極100の直上に形成される。
In the third embodiment B3 of the present invention, the third step B3 is a negative exposure mask 202 in which a predetermined electrode pattern is formed on a photosensitive paste 401 prepared by coating a material containing a black pigment. Is set, and ultraviolet rays 203 guided from a light source of an ultra-high pressure mercury lamp, for example,
Exposure is performed by irradiating with an exposure energy of 00 mJ / cm 2 . Then, in the fourth step B4, the photosensitive paste 401 film prepared by using the material containing the exposed black pigment is developed with an alkaline aqueous solution (0.3 wt% sodium carbonate aqueous solution) to form a pattern, For example, 6
In this step, baking is performed in the atmosphere at 00 ° C. to fix the substrate. The steps of exposing, developing and baking can be the same as those described in the first embodiment. In this way, as shown in FIG. 5, the black layer 102 for the purpose of improving the contrast is formed immediately above the transparent electrode 100 with a material containing a black pigment.

【0050】図5において、第5の工程B5から第10
の工程B10までは、本発明の実施の形態1における第
2の工程A2から第7の工程A7にそれぞれ対応してい
る。重複を避けるため、実施の形態1と同じ工程の詳し
い説明は省略する。
In FIG. 5, fifth step B5 to tenth step
Up to step B10 corresponds to the second step A2 to the seventh step A7 in the first embodiment of the present invention. To avoid duplication, detailed description of the same steps as those in the first embodiment will be omitted.

【0051】なお、本発明の実施の形態3におけるPD
Pの前面基板1の各部材を形成するための製造工程にお
いて説明した、各種材料、装置、処理条件等は、黒色層
102を形成する工程を除き、本発明の実施の形態1で
例示したものがそのまま利用できる。しかし本発明はこ
れらの例に限定されるものではなく、各種材料、装置、
処理条件等を適切に選定・設定できることは言うまでも
ない。
The PD according to the third embodiment of the present invention
The various materials, devices, processing conditions, and the like described in the manufacturing process for forming each member of the P front substrate 1 are those exemplified in the first embodiment of the present invention except for the process of forming the black layer 102. Can be used as is. However, the present invention is not limited to these examples, various materials, devices,
It goes without saying that the processing conditions can be appropriately selected and set.

【0052】このようにして、図5に示した工程にした
がって、銀導電層101による前面基板ガラス10の黄
色着色を抑制する着色抑制層103に加えて、表示面の
コントラストを向上させる黒色層103を部材として有
する前面基板1を形成することができる。
In this way, according to the process shown in FIG. 5, in addition to the color suppression layer 103 for suppressing the yellow coloring of the front substrate glass 10 by the silver conductive layer 101, the black layer 103 for improving the contrast of the display surface. The front substrate 1 having as a member can be formed.

【0053】なお、本発明の実施の形態3は図4(b)
に示すように図4(a)の黒色層102と着色抑制層1
03を一層化して複合層104で構成してもよい。この
場合、図5に示す製造工程は、第2の工程B2から第4
の工程B4までを省き、第5の工程B5を黒色顔料と銀
よりもイオン化傾向の大きい元素を含む材料とを混合し
て調合された感光性ペーストを塗布・乾燥する工程とす
ればよい。以下この感光性ペーストを露光する第6の工
程B6、現像・焼成する第7の工程と続く。最終的に第
10の工程B10まで進めて、表示面のコントラストを
向上させる効果に加えて、銀導電層101による前面基
板ガラス10の黄色着色を抑制する複合層104を部材
として有する前面基板1を形成することができる。図4
(b)に示す構成の前面基板ガラス10の製造工程で
は、感光性ペーストを塗布・乾燥させて、露光、現像・
焼成するサイクルを一回省くことになり製造工数を削減
できるという効果も大きい。
The third embodiment of the present invention is shown in FIG.
4A, the black layer 102 and the color suppression layer 1 shown in FIG.
03 may be made into a single layer to form the composite layer 104. In this case, the manufacturing process shown in FIG. 5 includes the second process B2 to the fourth process B2.
The process B4 may be omitted, and the fifth process B5 may be a process of applying and drying a photosensitive paste prepared by mixing a black pigment and a material containing an element having an ionization tendency higher than that of silver. This is followed by a sixth step B6 of exposing this photosensitive paste and a seventh step of developing and baking. Finally, proceeding to the tenth step B10, in addition to the effect of improving the contrast of the display surface, the front substrate 1 having the composite layer 104 for suppressing the yellow coloring of the front substrate glass 10 by the silver conductive layer 101 as a member is provided. Can be formed. Figure 4
In the manufacturing process of the front substrate glass 10 having the configuration shown in (b), a photosensitive paste is applied and dried to expose, develop,
Since one firing cycle is omitted, there is a great effect that the number of manufacturing steps can be reduced.

【0054】また、本発明の実施の形態3においては、
前面基板ガラス10、透明電極100、着色抑制層10
3、銀導電層101等の前面基板を構成する各部材につ
いて、それぞれの材料は実施の形態1で説明した材料を
そのまま使用することが可能である。一方、黒色層10
2は、その材料としては一般的な黒色顔料を用いた材料
であればいずれも使用可能であり、本発明の実施の形態
3における説明に限定されるものではない。
Further, in the third embodiment of the present invention,
Front substrate glass 10, transparent electrode 100, color suppression layer 10
3, each of the members constituting the front substrate such as the silver conductive layer 101 can use the materials described in the first embodiment as they are. On the other hand, the black layer 10
No. 2 can be used as long as it is a material using a general black pigment, and is not limited to the description in the third embodiment of the present invention.

【0055】さらにまた、本発明の実施の形態3で図示
・説明した透明電極100、銀導電層101、着色抑制
層103の幅や厚み等の寸法・形状も黒色層102を除
き、本発明の実施の形態1で例示したものがそのまま利
用できる。しかし本発明はこれらの寸法・形状例に限定
されるものではなく、寸法・形状を適切に設計・設定で
きることは言を俟たない。
Furthermore, the dimensions and shapes of the transparent electrode 100, the silver conductive layer 101, and the color suppression layer 103, which are illustrated and described in the third embodiment of the present invention, such as width and thickness, are the same as those of the present invention except for the black layer 102. The one exemplified in the first embodiment can be used as it is. However, the present invention is not limited to these examples of dimensions and shapes, and it goes without saying that dimensions and shapes can be appropriately designed and set.

【0056】(実施の形態4)図6は本発明の実施の形
態4におけるPDPの電極構造の1例を概略的に示して
いる。図6には前面基板の行電極に垂直な方向に切断し
た断面の一部分が図2、図4と同様に拡大して、前面基
板ガラスの電極形成面側を下に向けて示されている。
(Embodiment 4) FIG. 6 schematically shows an example of an electrode structure of a PDP according to Embodiment 4 of the present invention. In FIG. 6, a part of the cross section of the front substrate cut in the direction perpendicular to the row electrodes is enlarged similarly to FIGS. 2 and 4, and the electrode formation surface side of the front substrate glass is shown face down.

【0057】本発明の実施の形態4におけるPDPの電
極構造は、図6から明らかなように、透明電極100を
形成せずに、直接前面基板ガラス上に電極部材を積層形
成していることが実施の形態1、実施の形態2と異なっ
ている。また、維持電極13、走査電極14とからなる
各行電極の層構成は図4に示した本発明の実施の形態2
におけるPDPの前面基板1と同様に黒色層102、着
色抑制層103、銀導電層101をこの順にパターン形
成で積層している。
In the electrode structure of the PDP according to the fourth embodiment of the present invention, as is apparent from FIG. 6, the electrode member is directly laminated on the front substrate glass without forming the transparent electrode 100. This is different from the first and second embodiments. The layer configuration of each row electrode including the sustain electrode 13 and the scan electrode 14 is the same as that of the second embodiment of the present invention shown in FIG.
Similarly to the front substrate 1 of the PDP in, the black layer 102, the color suppression layer 103, and the silver conductive layer 101 are laminated in this order by pattern formation.

【0058】しかしながら、図6において、図2、図4
と大きく異なるのは、行電極となる維持電極13、走査
電極14を幅の狭い複数の単位電極106に分割して構
成していることである。すなわち、1つ1つの単位電極
106を構成する黒色層102、着色抑制層103、銀
導電層101は図6に示すように、全て同じ幅45μ
m、全て同じ厚み3μmでパターン形成している。そし
て、行電極となる維持電極13および走査電極14は4
0μmの間隔で4本づつ配置した単位電極106を1組
としてそれぞれを構成している。図6において、図2、
図4と同じ部材には、やはり同じ符号を付している。そ
して、重複を避けるため、本発明の実施の形態4におけ
るPDPの電極構造については、本発明の実施の形態
1、実施の形態3と同じ構成部材についての詳しい説明
を省略する。
However, in FIG. 6, FIG. 2 and FIG.
The main difference is that the sustain electrodes 13 and the scan electrodes 14 that are row electrodes are divided into a plurality of narrow unit electrodes 106. That is, as shown in FIG. 6, the black layer 102, the color suppression layer 103, and the silver conductive layer 101 that form each unit electrode 106 all have the same width of 45 μm.
m, the pattern is formed with the same thickness of 3 μm. Then, the number of sustain electrodes 13 and scan electrodes 14 serving as row electrodes is 4
Each of the unit electrodes 106 is arranged as a set of four unit electrodes 106 arranged at intervals of 0 μm. In FIG. 6, FIG.
The same members as those in FIG. 4 are also given the same reference numerals. In order to avoid duplication, detailed description of the same components as those of the first and third embodiments of the present invention will be omitted for the electrode structure of the PDP in the fourth embodiment of the present invention.

【0059】本発明の実施の形態4において、透明電極
100を形成せずに、直接前面基板ガラス10上に直接
電極部材を積層形成し、さらに、行電極となる維持電極
13、走査電極14を幅の狭い複数の単位電極106に
分割して構成していることの要点は、透明電極100を
設けずに各放電セルの表示の開口率を確保して表示品位
を保持したうえで、安定にPDPを放電駆動させるとと
もに、透明電極100の材料コストや工程工数を省いて
低価格のPDP装置の実現することにある。
In the fourth embodiment of the present invention, the transparent electrode 100 is not formed, and the electrode member is directly laminated on the front substrate glass 10, and the sustain electrode 13 and the scan electrode 14 to be the row electrodes are further formed. The main point of the configuration in which the unit electrodes 106 are divided into a plurality of narrow widths is that the transparent electrode 100 is not provided and the display aperture ratio of each discharge cell is secured to maintain the display quality, and then the display quality is stabilized. It is to realize a low-priced PDP device by driving the PDP by electric discharge and saving the material cost of the transparent electrode 100 and the number of process steps.

【0060】本発明の実施の形態4におけるPDPの電
極構造においては、実施の形態3と同様にコントラスト
を向上させることを目的として、黒色層102を黒色顔
料を含む材料で前面基板ガラス10の直上に形成する。
黒色層102の厚みは銀導電層101、着色抑制層10
3と同じ3μmの厚みでパターン形成して積層してい
る。銀導電層101の下に銀よりもイオン化傾向の大き
い金属元素またはその金属酸化物を含む材料で着色抑制
層を形成して前面基板の着色を抑える構成は同じであ
る。
In the electrode structure of the PDP according to the fourth embodiment of the present invention, the black layer 102 is formed directly on the front substrate glass 10 with a material containing a black pigment for the purpose of improving the contrast as in the third embodiment. To form.
The thickness of the black layer 102 is the silver conductive layer 101 and the color suppression layer 10.
The same thickness of 3 μm as that of No. 3 is used to form a pattern and the layers are laminated. The same constitution is provided under the silver conductive layer 101 to suppress the coloring of the front substrate by forming a coloring suppressing layer with a material containing a metal element having a higher ionization tendency than silver or a metal oxide thereof.

【0061】黒色層102を前面基板ガラス10の直上
に形成した前面基板については、目視による外観チェッ
クでは、前面基板ガラスの電極部分が黄色に変色する現
象は認められなかった。本発明の実施の形態4における
電極構造を有する前面基板ガラスも、電極の色調を市販
の測色計を用いて計測した。結果を表1に示したよう
に、黄色着色度を表すb*が実施の形態1よりも小さい
値を示しており、透明電極がなくても、また電極を細分
化しても着色抑制層103の着色を抑える効果が大きい
ことは明らかである。
With respect to the front substrate on which the black layer 102 was formed directly on the front substrate glass 10, the phenomenon that the electrode portion of the front substrate glass turned yellow was not observed in the visual appearance check. With respect to the front substrate glass having the electrode structure according to the fourth embodiment of the present invention, the color tone of the electrodes was measured using a commercially available colorimeter. As shown in the results in Table 1, b *, which represents the degree of yellow coloring, has a smaller value than that in the first embodiment, and the coloring suppression layer 103 of the coloring suppression layer 103 has no transparent electrode or is subdivided into electrodes. It is clear that the effect of suppressing coloring is great.

【0062】次に、本発明の実施の形態4におけるPD
Pの前面基板1の電極を形成する製造工程の手順を簡単
に説明する。図7は本発明の実施の形態4におけるPD
Pの前面基板1の電極を形成するための製造工程の1例
を概略的に示す流れ図である。
Next, the PD according to the fourth embodiment of the present invention
The procedure of the manufacturing process for forming the electrodes of the P front substrate 1 will be briefly described. FIG. 7 is a PD according to the fourth embodiment of the present invention.
It is a flow chart which shows roughly an example of the manufacturing process for forming the electrode of front substrate 1 of P.

【0063】本発明の実施の形態4におけるPDPの電
極形成する工程の手順は、実施の形態1、実施の形態3
における工程と異なり、透明電極形成のための工程が省
かれる。実施の形態4における黒色層102を形成する
ために黒色顔料を含む材料の塗布・乾燥を行う第1の工
程C1から銀導電膜101を形成するための現像・焼成
を行う第9の工程C9までは、実施の形態3における第
2の工程B2から第10の工程B10とほとんど同様で
ある。各工程については、重複を避けるため、実施の形
態1、実施の形態3と同様の工程の詳しい説明は省略
し、異なる内容についてのみ説明する。
The procedure of the step of forming the electrodes of the PDP in the fourth embodiment of the present invention is the same as in the first and third embodiments.
In contrast to the process described in (1), the process for forming the transparent electrode is omitted. From the first step C1 of applying and drying a material containing a black pigment to form the black layer 102 in the fourth embodiment to the ninth step C9 of developing and baking to form the silver conductive film 101. Are almost the same as the second to tenth steps B2 to B10 in the third embodiment. To avoid duplication, detailed description of the same steps as those in the first and third embodiments will be omitted, and only different contents will be described.

【0064】電極構造について既に説明したように、本
発明の実施の形態4では行電極となる維持電極13、走
査電極14を幅の狭い複数の単位電極106に分割して
構成しているために、図7における第2の工程C2、第
5の工程C5、第8の工程C8に相当する各露光の工程
での各部材の層を形成するときのパターンニングのため
の露光マスク402が異なっている。工程的には実施の
形態3とほとんど同様の手順を経て、行電極となる維持
電極13および走査電極14が幅45μmに細分化した
単位電極106を40μmの間隔で4本づつ1組として
それぞれ配置し、前面基板1が形成される。
As described above with respect to the electrode structure, in the fourth embodiment of the present invention, the sustain electrodes 13 and the scan electrodes 14 which are the row electrodes are divided into a plurality of unit electrodes 106 each having a small width. , An exposure mask 402 for patterning when forming a layer of each member in each exposure step corresponding to the second step C2, the fifth step C5, and the eighth step C8 in FIG. 7 is different. There is. In terms of steps, almost the same procedure as that of the third embodiment is performed, and the unit electrodes 106 in which the sustain electrodes 13 and the scan electrodes 14 serving as row electrodes are subdivided into a width of 45 μm are arranged as a set of four unit electrodes 106 at intervals of 40 μm. Then, the front substrate 1 is formed.

【0065】このようにして、図7に示した工程にした
がって、銀導電層101による前面基板ガラス10の黄
色着色を抑制する着色抑制層103に加えて、表示面の
コントラストを向上させる黒色層102を各部材として
有する前面基板1を形成することができる。
In this way, according to the process shown in FIG. 7, in addition to the color suppression layer 103 for suppressing the yellow coloring of the front substrate glass 10 by the silver conductive layer 101, the black layer 102 for improving the contrast of the display surface. It is possible to form the front substrate 1 that has as a member.

【0066】また、本発明の実施の形態4においても実
施の形態3において説明したのと同様に、黒色層102
と着色抑制層103を一層化して複合層で構成してもよ
い(図示せず)。この場合は、図7に示す製造工程は、
第1の工程C1から第3の工程C3までを省き、第4の
工程C4を黒色顔料と銀よりもイオン化傾向の大きい元
素を含む材料とを混合して調合された感光性ペーストを
塗布・乾燥する工程とすればよい。この場合も、表示面
のコントラストを向上させる効果に加えて、銀導電層1
01による前面基板ガラス10の黄色着色を抑制する複
合層104を各部材として有する前面基板1を形成する
ことができる。
Also in the fourth embodiment of the present invention, the black layer 102 is the same as described in the third embodiment.
The coloring suppressing layer 103 may be formed as a single layer to form a composite layer (not shown). In this case, the manufacturing process shown in FIG.
The first step C1 to the third step C3 are omitted, and the fourth step C4 is applied with a photosensitive paste prepared by mixing a black pigment and a material containing an element having a greater ionization tendency than silver, and dried. The process may be performed. In this case also, in addition to the effect of improving the contrast of the display surface, the silver conductive layer 1
The front substrate 1 having the composite layer 104 for suppressing the yellow coloring of the front substrate glass 10 by 01 as each member can be formed.

【0067】なお、本発明の実施の形態4においては、
前面基板ガラス10、着色抑制層103、銀導電層10
1、黒色層102等の前面基板1を構成する各部材につ
いて、それぞれの材料は実施の形態3で説明した材料を
そのまま使用することができる。また、PDPの前面基
板1の各部材を形成するための製造工程において説明し
た、各種材料、装置、処理条件等は、本発明の実施の形
態3で例示したものがそのまま利用できる。しかし、本
発明はこれらの例に限定されるものではなく、寸法・形
状、各種材料、装置、処理条件等を適切に設計・設定、
選定できることは言うまでもないことである。
In the fourth embodiment of the present invention,
Front substrate glass 10, coloring suppression layer 103, silver conductive layer 10
The materials described in the third embodiment can be used as they are for the respective members constituting the front substrate 1, such as 1 and the black layer 102. Further, as the various materials, devices, processing conditions, etc. described in the manufacturing process for forming each member of the front substrate 1 of the PDP, those exemplified in the third embodiment of the present invention can be used as they are. However, the present invention is not limited to these examples, and the dimensions and shapes, various materials, devices, processing conditions, etc. are appropriately designed and set,
It goes without saying that you can select.

【0068】[0068]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電極およ
び電極の製造方法によれば、フロートガラス製のPDP
の前面基板上に銀を含む材料を用いて高精度の平滑性が
要求されるPDP用電極を形成した際の銀イオンによる
基板ガラスの黄色着色を低減することが可能であり、輝
度低下がなく、コントラストが高く、表示品質の高いP
DPを提供する事ができる。
As described above, according to the electrode and the method for manufacturing the electrode of the present invention, the float glass PDP is used.
It is possible to reduce yellow coloring of the substrate glass due to silver ions when a PDP electrode that requires high-precision smoothness is formed on the front substrate of the above, and there is no decrease in brightness. , P with high contrast and high display quality
DP can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)AC型PDPの一般的な構造を示す断面
斜視図 (b)AC型PDP前面基板の構造の1例を示す拡大断
面図 (c)AC型PDP前面基板の構造の別の例を示す拡大
断面図
1A is a sectional perspective view showing a general structure of an AC type PDP, FIG. 1B is an enlarged sectional view showing an example of the structure of an AC type PDP front substrate, and FIG. 1C is another structure of the AC type PDP front substrate. Enlarged sectional view showing an example

【図2】本発明の実施の形態1および実施の形態2にお
けるPDP前面基板の構造を示す拡大断面図
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of the PDP front substrate according to the first and second embodiments of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1および実施の形態2にお
けるPDP前面基板の製造工程の1例を示す流れ図
FIG. 3 is a flowchart showing an example of a manufacturing process of the PDP front substrate according to the first and second embodiments of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態3におけるPDP前面基板
の構造を示す拡大断面図
FIG. 4 is an enlarged sectional view showing a structure of a PDP front substrate according to a third embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態3におけるPDP前面基板
の製造工程の1例を示す流れ図
FIG. 5 is a flowchart showing an example of a manufacturing process of a PDP front substrate according to the third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態4におけるPDP前面基板
の構造を示す拡大断面図
FIG. 6 is an enlarged sectional view showing a structure of a PDP front substrate according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態4におけるPDP前面基板
の製造工程の1例を示す流れ図
FIG. 7 is a flow chart showing an example of a manufacturing process of a PDP front substrate according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】銀を含むバス電極によるフロートガラスの黄色
着色を説明する断面図
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating yellow coloring of float glass by a bus electrode containing silver.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 前面基板 2 背面基板 3 放電空間 10 前面基板ガラス 11 誘電体層 12 保護層 13 維持電極 14 走査電極 15 ブラックマトリクス 16 背面基板ガラス 17 下地誘電体層 18 隔壁 19 アドレス電極 20 蛍光体層 100 透明電極 101 銀導電層 102 黒色層 103 着色抑制層 104 複合層 105 着色層 106 単位電極 201 着色抑制層材料を含む層 202,402 露光マスク 203 紫外光 204 銀を含む層 401 黒色顔料材料層 A1,B1,C1 第1の工程 A2,B2,C2 第2の工程 A3,B3,C3 第3の工程 A4,B4,C4 第4の工程 A5,B5,C5 第5の工程 A6,B6,C6 第6の工程 A7,B7,C7 第7の工程 B8,C8 第8の工程 B9,C9 第9の工程 B10 第10の工程 1 Front substrate 2 Back substrate 3 discharge space 10 Front substrate glass 11 Dielectric layer 12 Protective layer 13 Sustain electrode 14 scanning electrodes 15 Black Matrix 16 Rear substrate glass 17 Base dielectric layer 18 partitions 19 address electrodes 20 Phosphor layer 100 transparent electrode 101 silver conductive layer 102 black layer 103 Color suppression layer 104 composite layer 105 colored layer 106 unit electrode 201 Layer containing color suppression layer material 202,402 exposure mask 203 UV light 204 a layer containing silver 401 Black pigment material layer A1, B1, C1 First step A2, B2, C2 Second step A3, B3, C3 Third step A4, B4, C4 Fourth step A5, B5, C5 Fifth step A6, B6, C6 6th process A7, B7, C7 7th process B8, C8 Eighth process B9, C9 ninth step B10 Tenth step

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芦田 英樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 仲川 整 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 足立 大輔 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA01 5C040 FA01 GB02 GB12 GC18 JA12 JA14 JA15 KA01 KB29 MA02 MA03 MA23 MA30    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hideki Ashida             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Sei Nakagawa             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Daisuke Adachi             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. F-term (reference) 5C027 AA01                 5C040 FA01 GB02 GB12 GC18 JA12                       JA14 JA15 KA01 KB29 MA02                       MA03 MA23 MA30

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の
表面上に形成された複数の導電層を備えた電極層とを有
し、前記電極層における前記導電層の少なくとも1層が
銀を含む層であり、かつこの銀を含む導電層と前記ガラ
ス基板との間の少なくとも1層が銀よりもイオン化傾向
の大きい元素を含む層であることを特徴とする表示装
置。
1. A glass substrate, and an electrode layer having a plurality of conductive layers formed on one surface of the glass substrate, wherein at least one of the conductive layers in the electrode layer contains silver. A display device, which is a layer and at least one layer between the conductive layer containing silver and the glass substrate is a layer containing an element having a greater ionization tendency than silver.
【請求項2】 ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の
表面上に形成された複数の導電層を備えた電極層とを有
し、前記電極層が互いに分離したさらに幅の狭い複数の
電極層に分割されてなり、前記電極層における前記導電
層の少なくとも1層が銀を含む層であり、かつこの銀を
含む導電層と前記ガラス基板との間の少なくとも1層が
銀よりもイオン化傾向の大きい元素を含む層であること
を特徴とする表示装置。
2. A plurality of electrode layers having a glass substrate and an electrode layer having a plurality of conductive layers formed on one surface of the glass substrate, the electrode layers being separated from each other and having a narrower width. And at least one layer of the conductive layer in the electrode layer is a layer containing silver, and at least one layer between the conductive layer containing silver and the glass substrate is more ionizable than silver. A display device, which is a layer containing a large element.
【請求項3】 前記銀を含む層の下層に、銀よりイオン
化傾向の大きい元素を含む層と黒色顔料を含む層とを有
し、3層以上で構成されることを特徴とする請求項1ま
たは請求項2に記載の表示装置。
3. The silver-containing layer has a layer below the silver-containing layer, a layer containing an element having a greater ionization tendency than silver, and a layer containing a black pigment, and is composed of three or more layers. Alternatively, the display device according to claim 2.
【請求項4】 前記銀よりイオン化傾向の大きい元素を
含む層に、銀よりイオン化傾向の大きい元素に加えて黒
色顔料を含むことを特徴とする請求項1または請求項2
に記載の表示装置。
4. The layer containing an element having a higher ionization tendency than silver contains a black pigment in addition to the element having a higher ionization tendency than silver.
Display device according to.
【請求項5】 前記銀よりイオン化傾向の大きい元素
は、銅、鉄、錫、ニッケル、コバルト、クロム、亜鉛、
アルミニウム、マグネシウム、カルシウムおよびカリウ
ムのうちの少なくとも1つであって、前記元素を金属あ
るいは金属酸化物の状態で含むことを特徴とする請求項
1から請求項4のいずれかに記載の表示装置。
5. The element having a greater ionization tendency than silver is copper, iron, tin, nickel, cobalt, chromium, zinc,
The display device according to claim 1, wherein the display device is at least one of aluminum, magnesium, calcium, and potassium, and contains the element in a metal or metal oxide state.
【請求項6】 ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の
表面上に形成された複数の導電層を備えた電極層を有す
る表示装置の製造方法であり、前記電極層の形成には銀
よりイオン化傾向の大きい元素を含む層を形成した後、
銀を含む導電体層を形成する工程を備えることを特徴と
する表示装置の製造方法。
6. A method of manufacturing a display device having a glass substrate and an electrode layer having a plurality of conductive layers formed on one surface of the glass substrate, wherein the electrode layer is ionized from silver. After forming a layer containing elements with a high tendency,
A method of manufacturing a display device, comprising a step of forming a conductor layer containing silver.
【請求項7】 フロートガラス基板上に少なくとも3層
以上の層構成を有する電極の形成方法であり、銀よりイ
オン化傾向の大きい元素を含む層を形成する前、あるい
は形成した後、黒色顔料を含む層を形成し、その後銀を
含む導電体層を形成する工程を備えることを特徴とする
表示装置用電極の製造方法。
7. A method for forming an electrode having a layer structure of at least three layers or more on a float glass substrate, comprising a black pigment before or after forming a layer containing an element having a greater ionization tendency than silver. A method of manufacturing an electrode for a display device, comprising the steps of forming a layer and then forming a conductor layer containing silver.
【請求項8】 前記銀よりイオン化傾向の大きい元素を
含む層、前記黒色顔料を含む層、前記銀を含む導電体層
のいずれかがスクリーン印刷法、フォトリソ法、エッチ
ング法から選択される形成方法のいずれか1つの方法あ
るいは2つ以上の方法を組み合わせて形成する工程を備
えることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の
表示装置用電極の製造方法。
8. A forming method, wherein any one of a layer containing an element having a higher ionization tendency than silver, a layer containing the black pigment, and a conductor layer containing silver is selected from a screen printing method, a photolithography method, and an etching method. 8. The method for manufacturing an electrode for a display device according to claim 6 or 7, further comprising a step of forming any one of the above methods or a combination of two or more methods.
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