JP2006351263A

JP2006351263A - Plasma display panel and its manufacturing method

Info

Publication number: JP2006351263A
Application number: JP2005173395A
Authority: JP
Inventors: Hideki Marunaka; 英喜丸中; Michihiko Takase; 道彦高瀬
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2005-06-14
Filing date: 2005-06-14
Publication date: 2006-12-28

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display panel capable of suppressing occurrence of appearance defects and display defects and superior in display quality even in the case of manufacture utilizing split multiple exposure. <P>SOLUTION: The plasma display panel has a plurality of structures such as a display electrode 4 and a light shielding layer formed in parallel in a prescribed direction on a front glass substrate 1. The structure has a joint in a plurality of regions E having a prescribed width in a perpendicular direction to the prescribed direction and the joints are arranged at random in the regions E. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、大画面で薄型のディスプレイ装置に用いられているプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a plasma display panel used in a thin display device having a large screen and a manufacturing method thereof.

近年、大型のテレビジョン受像機や公衆表示用モニタとしての社会的要望が増大し、注目を集めているプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも記す）は、希ガス放電による紫外線で蛍光体を励起発光させて画像・映像表示に利用しており、大画面、薄型、軽量であることを特徴とする視認性に優れた平板型の表示デバイスである。最近では表示領域のサイズが５０インチを超えて８０インチもある大画面のＰＤＰを用いた製品が登場し、将来的に表示領域のサイズが１００インチを超えるさらに大画面のＰＤＰも計画されている。ＰＤＰには交流駆動方式（ＡＣ−ＰＤＰ）と直流駆動方式（ＤＣ−ＰＤＰ）の２つのタイプがある。以下、代表的なＡＣ−ＰＤＰとして、従来の交流面放電型ＰＤＰの構造を斜視図で示す図６を参照して、ＡＣ−ＰＤＰの構造を簡単に説明する。 In recent years, there has been an increase in social demand for large-sized television receivers and public display monitors, and plasma display panels (hereinafter also referred to as PDPs), which are attracting attention, excite phosphors with ultraviolet light generated by rare gas discharges. This is a flat-type display device with excellent visibility, which is used for image / video display and has a large screen, a thin shape, and a light weight. Recently, products using a large screen PDP with a display area size exceeding 50 inches and 80 inches have appeared, and in the future, a larger screen PDP with a display area size exceeding 100 inches is also planned. . There are two types of PDPs: an AC drive system (AC-PDP) and a DC drive system (DC-PDP). Hereinafter, as a typical AC-PDP, the structure of the AC-PDP will be briefly described with reference to FIG. 6 showing a perspective view of the structure of a conventional AC surface discharge type PDP.

図６において、ＰＤＰ２１は対向配置された前面板２２と背面板２３との間に多数の放電セル２４が形成されている。前面板２２は、走査電極２と維持電極３とからなる表示電極４が前面ガラス基板１上に互いに平行に複数対形成され、それら表示電極４を覆うように誘電体層６および保護層７が形成されている。表示電極４は、例えば印刷・焼成タイプのプロセス、フォトエッチングプロセス、転写プロセス等により形成される。背面板２３は、背面ガラス基板８上に複数の平行なデータ電極１０と、それらを覆うように下地誘電体層９と、さらにその上にデータ電極１０に平行な複数の隔壁１１が、隣接する隔壁１１の中間にデータ電極１０を位置させるようにそれぞれ形成され、下地誘電体層９の表面と隔壁１１の側面に蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂが形成されている。そして、表示電極４とデータ電極１０とが立体交差するように前面板２２と背面板２３とが対向配置されるとともに、密封され、内部の放電空間に放電ガスが封入されて放電セル２４が形成されている。このような構成のＰＤＰ２１において、各放電セル２４内でガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線は赤、緑、青、各色の蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂを励起発光させてそれぞれ対応する色の可視光に変換される。そして、前面板２２を通して可視光を外部に取り出すことにより画像表示を行っている。 In FIG. 6, the PDP 21 has a number of discharge cells 24 formed between a front plate 22 and a back plate 23 that are opposed to each other. The front plate 22 includes a plurality of pairs of display electrodes 4 formed of the scan electrodes 2 and the sustain electrodes 3 on the front glass substrate 1 in parallel to each other, and a dielectric layer 6 and a protective layer 7 are formed so as to cover the display electrodes 4. Is formed. The display electrode 4 is formed by, for example, a printing / baking type process, a photo etching process, a transfer process, or the like. The back plate 23 has a plurality of parallel data electrodes 10 on the back glass substrate 8, a base dielectric layer 9 so as to cover them, and a plurality of barrier ribs 11 parallel to the data electrodes 10 thereon. The data electrodes 10 are formed in the middle of the barrier ribs 11, and phosphor layers 12 R, 12 G, and 12 B are formed on the surface of the base dielectric layer 9 and the side surfaces of the barrier ribs 11. Then, the front plate 22 and the back plate 23 are arranged to face each other so that the display electrode 4 and the data electrode 10 are three-dimensionally crossed, and are sealed, and a discharge gas is enclosed in an internal discharge space to form a discharge cell 24. Has been. In the PDP 21 having such a configuration, ultraviolet rays are generated by gas discharge in each discharge cell 24, and the ultraviolet rays excite and emit the phosphor layers 12R, 12G, and 12B of red, green, blue, and colors, respectively. Converted into visible light. Then, image display is performed by extracting visible light to the outside through the front plate 22.

ところで、前面板２２に形成される走査電極２および維持電極３からなる表示電極４を、フォトエッチングプロセスによりＩＴＯ等で形成した透明電極と、印刷・焼成タイプの低抵抗電極材料を用いて印刷・焼成したり、または感光性材料を前面ガラス基板１上のほぼ全面に塗布して乾燥させた後、所定のパターンの開口部を有するフォトマスクを用いて露光し、現像を行ってパターニングし、その後に焼成したりして形成したバス電極との積層構造の表示電極４を作製する方法が一般的に利用されている（例えば、特許文献１参照）。また、フォトエッチングプロセスによりＩＴＯ等の透明電極を形成した後、アルミニウム（Ａｌ）薄膜あるいはクロム（Ｃｒ）−銅（Ｃｕ）−クロム（Ｃｒ）等の金属薄膜を成膜してフォトエッチングプロセスによりバス電極を積層して、走査電極２および維持電極３からなる表示電極４を作製する方法も用いられている。
特開２００３−５１２４９号公報 By the way, the display electrode 4 formed of the scanning electrode 2 and the sustain electrode 3 formed on the front plate 22 is printed / printed using a transparent electrode formed of ITO or the like by a photoetching process and a printing / firing type low resistance electrode material. After baking or photosensitive material is applied to almost the entire surface of the front glass substrate 1 and dried, it is exposed using a photomask having openings of a predetermined pattern, developed, and patterned. In general, a method of manufacturing a display electrode 4 having a laminated structure with a bus electrode formed by firing is used (see, for example, Patent Document 1). Moreover, after forming a transparent electrode such as ITO by a photoetching process, a metal thin film such as an aluminum (Al) thin film or chromium (Cr) -copper (Cu) -chromium (Cr) is formed, and then a bus is formed by a photoetching process. A method is also used in which the display electrode 4 including the scan electrode 2 and the sustain electrode 3 is manufactured by stacking electrodes.
JP 2003-51249 A

表示領域のサイズが１００インチを超えるようなさらに大画面のＰＤＰを製造しようとする場合、フォトプロセスにフォトマスクが必要であるが、その大きさに対応できるフォトマスクを得ることが極めて困難であるのみならず、仮に大きなサイズのフォトマスクが得られたとしても、フォトマスク自体の作成や露光装置の準備に莫大な費用がかかる。そこで、走査電極２や維持電極３を形成する方法として、それらの電極を形成する領域を複数の領域に分割して、分割したそれぞれの領域（分割領域）で露光を行う分割多重露光を用いることが考えられる。 When an attempt is made to manufacture a PDP having a larger display area whose display area exceeds 100 inches, a photomask is required for the photo process, but it is extremely difficult to obtain a photomask that can accommodate the size. Not only that, even if a large-sized photomask is obtained, enormous costs are required for creating the photomask itself and preparing the exposure apparatus. Therefore, as a method of forming the scan electrode 2 and the sustain electrode 3, division multiple exposure is used in which the region where these electrodes are formed is divided into a plurality of regions, and exposure is performed in each divided region (divided region). Can be considered.

ここで、電極を形成する領域を２つの領域に分割してそれぞれの分割領域で露光を行って、前面ガラス基板１上に走査電極２と維持電極３からなる表示電極４を形成する方法について、図７を用いて簡単に説明する。図７（ａ）は２枚に分割して分割多重露光に用いるフォトマスクの例を示す平面図、図７（ｂ）は２枚に分割したフォトマスクを基板上に配置した状態を示す平面図、図７（ｃ）は２枚に分割したフォトマスクを用いて分割多重露光により基板上に形成されたパターンの例を示す平面図である。 Here, about the method of dividing the area | region which forms an electrode into two area | regions, performing exposure in each division | segmentation area | region, and forming the display electrode 4 which consists of the scanning electrode 2 and the sustain electrode 3 on the front glass substrate 1, This will be briefly described with reference to FIG. FIG. 7A is a plan view showing an example of a photomask that is divided into two sheets and used for divided multiple exposure, and FIG. 7B is a plan view showing a state in which the photomask divided into two pieces is arranged on a substrate. FIG. 7C is a plan view showing an example of a pattern formed on a substrate by division multiple exposure using a photomask divided into two sheets.

図７において、前面ガラス基板１上の走査電極２と維持電極３からなる表示電極４を形成するのに必要なフォトマスクを、図７（ａ）に示すように２枚のフォトマスク１３ａ、１３ｂに分割している。２枚のフォトマスク１３ａ、１３ｂには表示電極４の形状に対応する開口部１４ａ、開口部１４ｂがそれぞれ重なり部の領域Ｄを有して形成されている。前面ガラス基板１の中心を通る中間線であるＣ−Ｃ線に重なり部の領域Ｄの中心が合うように、左側のＡ領域のマスク１３ａを図７（ｂ）に示すように載置して露光する。続いてＣ−Ｃ線と重なり部の領域Ｄの中心を合わせて、右側のＢ領域のマスク１３ｂを図７（ｂ）に示すように載置して露光する。その後、現像して焼成することにより、図７（ｃ）に示すような走査電極２と維持電極３からなる表示電極４が連続するパターンとして前面ガラス基板１に形成される。このとき、Ｃ−Ｃ線を中心にした所定の幅の領域Ｄにおいてマスク１３ａの開口部１４ａとマスク１３ｂの開口部１４ｂが重なるようになっている。 In FIG. 7, two photomasks 13a and 13b as shown in FIG. 7A are used as photomasks necessary for forming the display electrode 4 composed of the scanning electrode 2 and the sustaining electrode 3 on the front glass substrate 1. It is divided into. In the two photomasks 13a and 13b, an opening 14a and an opening 14b corresponding to the shape of the display electrode 4 are formed so as to have an overlapping region D, respectively. A mask 13a in the left A region is placed as shown in FIG. 7B so that the center of the overlapping region D is aligned with the CC line which is an intermediate line passing through the center of the front glass substrate 1. Exposure. Subsequently, the center of the overlapping region D is aligned with the CC line, and a mask 13b in the right B region is placed and exposed as shown in FIG. 7B. Then, by developing and baking, the display electrode 4 which consists of the scanning electrode 2 and the sustain electrode 3 as shown in FIG.7 (c) is formed in the front glass substrate 1 as a continuous pattern. At this time, the opening 14a of the mask 13a and the opening 14b of the mask 13b overlap with each other in a region D having a predetermined width centered on the CC line.

しかしながら、このような２枚のフォトマスク１３ａ、１３ｂを用いて走査電極２と維持電極３からなる表示電極４等のストライプ状のパターンを分割多重露光により形成すると、使用するレジスト等の感光性を有する材料がネガ型の場合、図８に示すように領域Ｄの部分においてストライプ状に形成された表示電極等の構造物の幅が他の部分よりも太くなる傾向がある。このように、ネガ型のレジスト等の感光性を有する材料を使った場合に、重なり合う領域Ｄにおいて各パターンの幅が他の部分よりも太くなるのは、露光時におけるフォトマスク１３ａ、１３ｂの位置合わせずれや領域Ｄにおいて２重に露光されること等によるものと考えられる。 However, if a striped pattern such as the display electrode 4 composed of the scanning electrode 2 and the sustaining electrode 3 is formed by the division multiple exposure using the two photomasks 13a and 13b, the sensitivity of the resist to be used is increased. When the material having the negative type is used, the width of the structure such as the display electrode formed in a stripe shape in the region D as shown in FIG. 8 tends to be thicker than the other portions. As described above, when a photosensitive material such as a negative resist is used, the width of each pattern in the overlapping region D is thicker than the other portions because the positions of the photomasks 13a and 13b at the time of exposure. This is considered to be due to misalignment or double exposure in the region D.

複数のフォトマスクを使用して、ネガ型レジスト等の感光性を有する材料で分割多重露光により形成した電極の幅が、パターンの重なり合う領域Ｄにおいて、他の部分よりも太くなる現象は、隣り合う電極同士が接触する可能性があるのみならず、このとき前面ガラス基板１には外観的に、重なり合う領域Ｄの部分に周囲よりも暗い筋が入っているように見え、表示むらに代表される外観不良になることになり、解決課題であった。 The phenomenon that the width of the electrode formed by the division multiple exposure using a photosensitive material such as a negative resist using a plurality of photomasks becomes thicker than other portions in the region D where the patterns overlap is adjacent. Not only there is a possibility that the electrodes are in contact with each other, but at this time, the front glass substrate 1 appears to be darker than the surroundings in the overlapping region D, and is represented by display unevenness. It was a problem to be solved because the appearance would be poor.

一方、ポジ型のレジスト等の感光性材料で複数のフォトマスクを使用して、分割多重露光により電極等のストライプ状の構造物を形成する場合は、ネガ型レジスト等の感光性材料の場合とは逆に、重なり合う領域Ｄにおいてストライプ状に形成される構造物の幅が他の部分よりも細くなる場合がある。この場合、形成される構造物間に不接続部分が生じたり、工程途中で断線が発生したりする他に、前面ガラス基板１には外観的に、重なり合う領域Ｄの部分に周囲よりも明るい筋が入っているように見え、外観不良や表示不良になることになり、解決すべき課題となっていた。 On the other hand, when using a plurality of photomasks with a photosensitive material such as a positive resist and forming a striped structure such as an electrode by division multiple exposure, in the case of a photosensitive material such as a negative resist On the contrary, the width of the structure formed in a stripe shape in the overlapping region D may be narrower than other portions. In this case, non-connected portions are formed between the structures to be formed, or disconnection occurs in the middle of the process. In addition, the front glass substrate 1 has a streak brighter than the surroundings in the overlapping region D in appearance. It appears that it has entered, resulting in poor appearance and poor display, which has been a problem to be solved.

本発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、分割多重露光を利用して大型のＰＤＰを製造する場合においても、上記のような外観不良や表示不良の発生を抑制でき、表示品質の優れたＰＤＰおよびその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and even when a large-sized PDP is manufactured using division multiple exposure, the occurrence of the above-described appearance defects and display defects can be suppressed. An object of the present invention is to provide a PDP with excellent display quality and a method for manufacturing the same.

上記目的を達成するために、本発明のプラズマディスプレイパネルは、基板上に複数の構造物が所定方向に対して平行に形成されたプラズマディスプレイパネルにおいて、構造物は所定方向において所定の幅を有する少なくとも１つの領域内につなぎ目を備え、つなぎ目が領域内にランダムに配置された構成を有している。また、所定の幅が５ｍｍ以上である構成に加え、つなぎ目における構造物の線幅の差が４μｍ以下である構成、さらに、つなぎ目における構造物の所定方向に対する垂直方向のずれ量が１０μｍ以下である構成を有していてもよい。 In order to achieve the above object, a plasma display panel of the present invention is a plasma display panel in which a plurality of structures are formed on a substrate in parallel to a predetermined direction, and the structures have a predetermined width in the predetermined direction. A joint is provided in at least one region, and the joint is randomly arranged in the region. Further, in addition to the configuration in which the predetermined width is 5 mm or more, the configuration in which the difference in the line width of the structure at the joint is 4 μm or less, and the amount of deviation in the vertical direction of the structure at the joint with respect to the predetermined direction is 10 μm or less. You may have a structure.

これらの構成により、複数のフォトマスクを使用して分割多重露光により製造した大型のプラズマディスプレイパネルにもかかわらず、パネル基板に形成する補助電極、遮光層等の構造物のつなぎ目が所定の幅を有する複数の領域内にランダムに配置されているので、つなぎ目の重なり部に生ずる線幅の変化が目立たなくなり、人間の目では検知できず、外観不良や表示不良の発生を抑制できるプラズマディスプレイパネルを提供することができる。 With these configurations, despite the large plasma display panel manufactured by multiple multiple exposure using a plurality of photomasks, the joints of structures such as auxiliary electrodes and light shielding layers formed on the panel substrate have a predetermined width. Since it is randomly arranged in multiple areas, the change in line width that occurs at the overlapping part of the joints becomes inconspicuous, it can not be detected by human eyes, and a plasma display panel that can suppress the appearance and display defects can be suppressed Can be provided.

また、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上に、複数の構造物が所定方向に対して平行に形成されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、基板上に感光性材料層を形成する工程と、形成した感光性材料層を複数の領域に分割し、各領域に対応したそれぞれのフォトマスクを用いて感光性材料層を露光し、その後パターニングすることにより、感光性材料層を形成する工程と、複数の構造物を形成する工程を有し、隣り合う領域の境界線の近傍において、各領域での露光部分が重なるようにし、その重なる部分が境界線を含む所定の幅の領域内にランダムに配置されるようにした方法を有している。また、所定の幅が５ｍｍ以上である方法のみならず、重なる部分において、構造物の線幅の差が４μｍ以下になるようにした方法、また、重なる部分において、構造物の所定方向に対する垂直方向のずれ量が１０μｍ以下になるようにした方法であってもよい。 The plasma display panel manufacturing method of the present invention is a plasma display panel manufacturing method in which a plurality of structures are formed on a substrate in parallel with a predetermined direction, and a photosensitive material layer is formed on the substrate. The photosensitive material layer is formed by dividing the formed photosensitive material layer into a plurality of regions, exposing the photosensitive material layer using respective photomasks corresponding to each region, and then patterning the photosensitive material layer. And a step of forming a plurality of structures, and in the vicinity of the boundary line between adjacent regions, the exposed portions in each region overlap, and the overlapping portion is within an area of a predetermined width including the boundary line. The method is arranged at random. Further, not only a method in which the predetermined width is 5 mm or more, but also a method in which the difference in the line width of the structure is 4 μm or less in the overlapping portion, and a direction perpendicular to the predetermined direction of the structure in the overlapping portion Alternatively, the deviation amount may be 10 μm or less.

これらの方法により、複数のフォトマスクを使用して分割多重露光により大型のプラズマディスプレイパネルを製造する場合に、マスクの重なり合う部分で基板上に形成される構造物のつなぎ目で線幅に変化が生じて外観不良の原因となっていたのが、つなぎ目を所定の幅を有する複数の領域内にランダムに配置するようにしているので、つなぎ目での線幅の変化が目立たなくなり、人間の目では検知できず外観むら、表示むらといった不具合の発生を抑制することができる。さらに、サイズが１００インチを超えるような大型のプラズマディスプレイパネルを製造するのに、高価な大型単板マスクや大型単板マスク用の露光装置等を必要とせずパネル製造コストの大幅な上昇を抑えることが可能になる。 With these methods, when manufacturing a large plasma display panel by multiple multiple exposure using multiple photomasks, the line width changes at the joints of structures formed on the substrate where the masks overlap. The reason for the poor appearance is that the joints are randomly arranged in a plurality of areas with a predetermined width, so the change in line width at the joints becomes inconspicuous and can be detected by the human eye. The occurrence of defects such as uneven appearance and display unevenness can be suppressed. Furthermore, manufacturing a large plasma display panel with a size exceeding 100 inches does not require an expensive large single plate mask or an exposure device for the large single plate mask, and suppresses a significant increase in panel manufacturing cost. It becomes possible.

本発明によれば、分割多重露光により大型のプラズマディスプレイパネルを製造する場合でも、重なり合う部分で基板上に形成される構造物のつなぎ目における線幅の変化に起因する外観不良が抑制されたプラズマディスプレイパネルを得ることができる。 According to the present invention, even when a large-sized plasma display panel is manufactured by division multiple exposure, a plasma display in which an appearance defect due to a change in line width at a joint of structures formed on a substrate at an overlapping portion is suppressed. You can get a panel.

以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

（実施の形態）
図１は本発明の実施の形態におけるＡＣ−ＰＤＰの一部を拡大して構造を示す分解斜視図である。既に、背景技術として図６を用いて従来のＡＣ−ＰＤＰの構造を説明したが、本発明の実施の形態におけるＡＣ−ＰＤＰは、前面ガラス基板、背面ガラス基板にそれぞれ表示電極、データ電極が直交配置され、両基板間にある隔壁により放電空間を形成する構造において基本的に同じであり、図１において同じ構成要素には同一符号を付している。 (Embodiment)
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an enlarged structure of a part of an AC-PDP in an embodiment of the present invention. The structure of the conventional AC-PDP has already been described with reference to FIG. 6 as background art. In the AC-PDP according to the embodiment of the present invention, the display electrode and the data electrode are orthogonal to the front glass substrate and the rear glass substrate, respectively. The structure is basically the same in the structure in which the discharge space is formed by the partition walls disposed between the two substrates, and the same components are denoted by the same reference numerals in FIG.

図１において、前面板２２には、透明な前面ガラス基板１上に放電ギャップをあけて平行に対向する走査電極２と維持電極３とで対をなしてストライプ状にいわゆる行電極にあたる表示電極４が複数対形成されている。この走査電極２および維持電極３は、それぞれＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−ＴｉｎＯｘｉｄｅ）やＳｎＯ_２等からなる透明電極２ａ、３ａと、この透明電極２ａ、３ａに電気的に接続された、例えば、銀等の厚膜や、また、例えばアルミニウム（Ａｌ）薄膜あるいはクロム（Ｃｒ）−銅（Ｃｕ）−クロム（Ｃｒ）の積層薄膜による補助電極（バス電極ともいう）２ｂ、３ｂとから構成されている。また、隣り合う維持電極３と走査電極２の対間に、表示面のコントラストを高めるため、遮光層（ＢＳ膜ともいう）５を必要に応じて形成することもある。そして、前面ガラス基板１には、複数対の表示電極４群を覆うように低融点ガラスからなる誘電体層６が形成され、その誘電体層６上には酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層７が形成され、これらの各要素により前面板２２が構成されている。なお、表示電極４の補助電極２ｂ、３ｂは、前面ガラス基板１上に透明電極２ａ、３ａを形成後、コントラスト向上のため、先に暗色導電層を形成し、次いで所定の導体材料で導体層を形成する２層構造にしてもよい。 In FIG. 1, a front plate 22 has a display electrode 4 corresponding to a so-called row electrode in a striped manner in which a scanning electrode 2 and a sustaining electrode 3 facing each other in parallel with a discharge gap are formed on a transparent front glass substrate 1. A plurality of pairs are formed. The scan electrode 2 and the sustain electrode 3 are respectively transparent electrodes 2a and 3a made of ITO (Indium-Tin Oxide), SnO ₂ or the like, and electrically connected to the transparent electrodes 2a and 3a, such as silver. Auxiliary electrodes (also referred to as bus electrodes) 2b and 3b made of a thick film or, for example, an aluminum (Al) thin film or a laminated thin film of chromium (Cr) -copper (Cu) -chromium (Cr). In addition, a light shielding layer (also referred to as a BS film) 5 may be formed between the pair of adjacent sustain electrodes 3 and scan electrodes 2 as necessary in order to increase the contrast of the display surface. A dielectric layer 6 made of low-melting glass is formed on the front glass substrate 1 so as to cover a plurality of pairs of display electrodes 4, and a protective layer made of magnesium oxide (MgO) is formed on the dielectric layer 6. 7 is formed, and the front plate 22 is constituted by these elements. The auxiliary electrodes 2b and 3b of the display electrode 4 are formed by forming a transparent conductive layer 2a and 3a on the front glass substrate 1 and then forming a dark conductive layer first to improve contrast, and then using a predetermined conductive material to form a conductive layer. A two-layer structure may be used.

上記前面ガラス基板１に対向配置される背面ガラス基板８上には、前面ガラス基板１上の表示電極４と直交する方向に、下地誘電体層９で覆われて複数のいわゆる列電極にあたる表示データ信号を入力するためのデータ電極（アドレス電極ともいう）１０がストライプ状に形成されている。このデータ電極１０上の下地誘電体層９の上には、データ電極１０と並行してストライプ状の複数の隔壁１１が配置され、隔壁１１の側面および下地誘電体層９の表面上にＲ（ｒｅｄ：赤色）、Ｇ（ｇｒｅｅｎ：緑色）、Ｂ（ｂｌｕｅ：青色）の３色を発光する蛍光体を塗布して蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂが形成されて、背面板２３が構成されている。 Display data corresponding to a plurality of so-called column electrodes covered with a base dielectric layer 9 in a direction orthogonal to the display electrodes 4 on the front glass substrate 1 is disposed on the rear glass substrate 8 opposed to the front glass substrate 1. Data electrodes (also referred to as address electrodes) 10 for inputting signals are formed in stripes. On the underlying dielectric layer 9 on the data electrode 10, a plurality of stripe-shaped partition walls 11 are arranged in parallel with the data electrode 10, and R (on the side surface of the partition wall 11 and the surface of the underlying dielectric layer 9). The phosphor layers 12R, 12G, and 12B are formed by applying phosphors emitting three colors of red (red), G (green: green), and B (blue: blue), and the back plate 23 is configured. Yes.

そして、上記構成の前面板２２と背面板２３とは、走査電極２および維持電極３からなる表示電極４とデータ電極１０とが直交するように、微小な放電空間２４を挟んで対向配置されるとともに周囲が封止され、放電空間２４には、放電ガスとして、希ガスであるネオン（Ｎｅ）とキセノン（Ｘｅ）の混合ガスが所定の圧力で充填されている。例えば、放電ガスとして、９０体積％ネオン（Ｎｅ）−１０体積％キセノン（Ｘｅ）の混合ガスを圧力６６．５ｋＰａ（５００Ｔｏｒｒ）で封入している。また、放電空間２４は、隔壁１１によって複数の区画に仕切られ、表示電極４とデータ電極１０との交点が位置する複数の放電セル２４が設けられ、各放電セル２４には、前述したように青色、緑色および赤色の各蛍光体層１２Ｂ、１２Ｇ、１２Ｒが順次配置されてＰＤＰ２１が構成される。そして、維持電極３および走査電極２、データ電極１０に所定の信号の電圧パルスを印加することにより、封入された希ガスが励起されて紫外線を放出し、その紫外線により下地誘電体層９、および隔壁１１上に設けられた蛍光体層１２Ｂ、１２Ｇ、１２Ｒが可視光を励起発光し、情報を表示することができる。なお、このようなＰＤＰを駆動する場合、任意のタイミングにおいて同じ駆動波形が全ての維持電極３に印加されるので、隣接して配置された維持電極３は前面ガラス基板１上で互いに接続されている。 The front plate 22 and the back plate 23 having the above-described configuration are arranged to face each other with the minute discharge space 24 interposed therebetween so that the display electrode 4 including the scan electrode 2 and the sustain electrode 3 and the data electrode 10 are orthogonal to each other. The discharge space 24 is filled with a rare gas mixed gas of neon (Ne) and xenon (Xe) at a predetermined pressure. For example, a mixed gas of 90% by volume neon (Ne) -10% by volume xenon (Xe) is enclosed as a discharge gas at a pressure of 66.5 kPa (500 Torr). In addition, the discharge space 24 is partitioned into a plurality of sections by the barrier ribs 11, and a plurality of discharge cells 24 in which the intersections of the display electrodes 4 and the data electrodes 10 are located are provided. Blue, green and red phosphor layers 12B, 12G, and 12R are sequentially arranged to constitute the PDP 21. Then, by applying a voltage pulse of a predetermined signal to the sustain electrode 3, the scan electrode 2, and the data electrode 10, the enclosed rare gas is excited to emit ultraviolet rays, and the ultraviolet rays are emitted by the ultraviolet rays, and the underlying dielectric layer 9, and The phosphor layers 12B, 12G, and 12R provided on the partition 11 can emit visible light and display information. When driving such a PDP, since the same drive waveform is applied to all the sustain electrodes 3 at an arbitrary timing, the sustain electrodes 3 arranged adjacent to each other are connected to each other on the front glass substrate 1. Yes.

次に、プラズマディスプレイパネルの製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing a plasma display panel will be described.

まず、前面ガラス基板１上に走査電極２および維持電極３をそれぞれ構成する透明電極２ａ、３ａを形成した後、走査電極２および維持電極３を透明電極２ａ、３ａとともにそれぞれ構成する補助電極２ｂ、３ｂと遮光層５を形成する。ここで、補助電極２ｂ、３ｂは、透明電極２ａ、３ａ上にコントラスト向上のために暗色導電層と、その上に形成された導電層とで構成する２層構造で形成する方法も可能である。これらの形成方法については後述する。 First, after forming the transparent electrodes 2a and 3a constituting the scan electrode 2 and the sustain electrode 3 on the front glass substrate 1, respectively, the auxiliary electrode 2b constituting the scan electrode 2 and the sustain electrode 3 together with the transparent electrodes 2a and 3a, 3b and the light shielding layer 5 are formed. Here, the auxiliary electrodes 2b and 3b can also be formed on the transparent electrodes 2a and 3a in a two-layer structure including a dark conductive layer and a conductive layer formed thereon for improving contrast. . These forming methods will be described later.

次に、透明電極２ａ、３ａ、補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を覆うように前面ガラス基板１上にガラスペーストをスクリーン印刷法等を用いて塗布した後、所定温度で所定時間（例えば５６０℃で２０分）焼成することによって所定の厚み（約２０μｍ）となるように誘電体層６を形成する。誘電体層６を形成するときに使用するガラスペーストとしては、例えば、ＰｂＯ（７０ｗｔ％）、Ｂ_２Ｏ_３（１５ｗｔ％）、ＳｉＯ_２（１０ｗｔ％）、およびＡｌ_２Ｏ_３（５ｗｔ％）と有機バインダ（例えば、α−ターピネオールに１０％のエチルセルローズを溶解したもの）との混合物が使用される。ここで、有機バインダとは樹脂を有機溶媒に溶解したものであり、エチルセルローズ以外に樹脂としてアクリル樹脂、有機溶媒としてブチルカービトール等も使用することができる。さらに、こうした有機バインダに分散剤（例えば、グリセルトリオレエート）を混入させてもよい。また、ペーストを用いてスクリーン印刷する代わりに、成型されたフィルム状の誘電体前駆体をラミネートして焼成することによって形成してもよい。 Next, after applying a glass paste on the front glass substrate 1 using a screen printing method or the like so as to cover the transparent electrodes 2a and 3a, the auxiliary electrodes 2b and 3b, and the light shielding layer 5, the glass paste is applied at a predetermined temperature for a predetermined time (for example, 560). The dielectric layer 6 is formed to have a predetermined thickness (about 20 μm) by firing at 20 ° C. for 20 minutes. Examples of the glass paste used when forming the dielectric layer 6 include PbO (70 wt%), B ₂ O ₃ (15 wt%), SiO ₂ (10 wt%), and Al ₂ O ₃ (5 wt%). A mixture with an organic binder (for example, 10% ethyl cellulose dissolved in α-terpineol) is used. Here, the organic binder is obtained by dissolving a resin in an organic solvent. In addition to ethyl cellulose, an acrylic resin can be used as the resin, and butyl carbitol can be used as the organic solvent. Furthermore, you may mix a dispersing agent (for example, glyceryl trioleate) in such an organic binder. Further, instead of screen printing using a paste, a molded film-like dielectric precursor may be laminated and fired.

次に、誘電体層６上に保護層７を形成する。保護層７は酸化マグネシウムからなり、真空蒸着法等の成膜プロセスにより、保護層７が所定の厚み（約０．５μｍ）となるように形成する。 Next, the protective layer 7 is formed on the dielectric layer 6. The protective layer 7 is made of magnesium oxide, and is formed so as to have a predetermined thickness (about 0.5 μm) by a film forming process such as a vacuum evaporation method.

このような方法により、前面ガラス基板１上に、構造物である走査電極２、維持電極３、遮光層５、誘電体層６、保護層７を形成して前面板２２が作製される。 By such a method, the front plate 22 is manufactured by forming the scanning electrode 2, the sustain electrode 3, the light shielding layer 5, the dielectric layer 6, and the protective layer 7 as structures on the front glass substrate 1.

また、背面ガラス基板８上にデータ電極１０をストライプ状に形成する。具体的には、背面ガラス基板８上に、データ電極１０の材料、例えば感光性Ａｇペーストを用い、スクリーン印刷法等により膜を形成し、その後、フォトリソグラフィー法等によってパターニングし、焼成することで形成することができる。 Further, the data electrodes 10 are formed in a stripe shape on the rear glass substrate 8. Specifically, a film is formed on the back glass substrate 8 by using a material of the data electrode 10, such as a photosensitive Ag paste, by a screen printing method or the like, and then patterned and baked by a photolithography method or the like. Can be formed.

次に、以上のようにして形成したデータ電極１０を覆うように下地誘電体層９を形成する。下地誘電体層９は、例えば、鉛系のガラス材料を含むガラスペーストを、例えば、スクリーン印刷で塗布した後、所定温度、所定時間（例えば５６０℃で２０分）焼成することによって、所定の層の厚み（約２０μｍ）となるように形成する。また、ガラスペーストをスクリーン印刷する代わりに、成型されたフィルム状の下地誘電体層前駆体をラミネートして焼成することによって形成してもよい。 Next, the base dielectric layer 9 is formed so as to cover the data electrode 10 formed as described above. The underlying dielectric layer 9 is formed by, for example, applying a glass paste containing a lead-based glass material by screen printing, for example, and then baking it at a predetermined temperature for a predetermined time (for example, 560 ° C. for 20 minutes). To a thickness of about 20 μm. Further, instead of screen-printing the glass paste, it may be formed by laminating and firing a molded film-like base dielectric layer precursor.

次に、隔壁１１を、例えばストライプ状に形成する。隔壁１１は、Ａｌ_２Ｏ_３等の骨材とガラスフリットとを主剤とする感光性ペーストをスクリーン印刷法やダイコート法等により成膜し、フォトリソグラフィー法によりパターニングし、焼成することで形成することができる。または、例えば、鉛系のガラス材料を含むペーストを、例えば、スクリーン印刷法により所定のピッチで繰り返し塗布した後、焼成することによって形成してもよい。ここで、隔壁１１の間隙の寸法は、例えば３２インチ〜５０インチのＨＤ−ＴＶの場合、１３０μｍ〜２４０μｍ程度である。 Next, the partition wall 11 is formed in a stripe shape, for example. The partition wall 11 is formed by forming a photosensitive paste mainly composed of an aggregate such as Al ₂ O ₃ and glass frit by a screen printing method or a die coating method, patterning by a photolithography method, and baking. Can do. Alternatively, for example, a paste containing a lead-based glass material may be formed by repeatedly applying, for example, a screen printing method at a predetermined pitch and then baking. Here, the dimension of the gap between the partition walls 11 is about 130 μm to 240 μm, for example, in the case of an HD-TV of 32 inches to 50 inches.

そして、隣り合う隔壁１１間の溝には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に発光する蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂを形成する。これは、各色の蛍光体粒子と有機バインダとからなるペースト状の蛍光体インキを塗布し、これを４００℃〜５９０℃の温度で焼成して有機バインダを焼失させることによって、各蛍光体粒子を結着させて蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂとして形成する。 Then, phosphor layers 12R, 12G, and 12B that emit red (R), green (G), and blue (B) light are formed in the grooves between the adjacent partition walls 11. This is done by applying a paste-like phosphor ink composed of phosphor particles of each color and an organic binder, and baking the organic ink at a temperature of 400 ° C. to 590 ° C. to burn each phosphor particle. The phosphor layers 12R, 12G, and 12B are formed by binding.

このような方法により、背面ガラス基板８上に、構造物であるデータ電極１０、下地誘電体層９、隔壁１１、蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂを形成して背面板２３が作製される。 By such a method, the back plate 23 is formed by forming the data electrode 10, the base dielectric layer 9, the partition 11, and the phosphor layers 12R, 12G, and 12B, which are structures, on the back glass substrate 8.

続いて、蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂ等の構造物を背面ガラス基板８に形成した背面板２３の周辺部に低融点ガラスフリットを塗布して乾燥させ、この背面板２３と保護層７等を前面ガラス基板１に形成した前面板２２とを対向配置して加熱処理を行うことにより、前面板２２と背面板２３とを低融点ガラスフリットにより封着する。その後、前面板２２と背面板２３との間の放電空間内を高真空（例えば１．１×１０^−４Ｐａ）に排気し、放電空間に放電ガスを封入して封じ切ることにより、ＰＤＰ２１が製造される。 Subsequently, a low-melting glass frit is applied to the peripheral portion of the back plate 23 formed with the structures such as the phosphor layers 12R, 12G, and 12B on the back glass substrate 8 and dried, and the back plate 23 and the protective layer 7 and the like are dried. The front plate 22 formed on the front glass substrate 1 is disposed oppositely and subjected to heat treatment, whereby the front plate 22 and the back plate 23 are sealed with a low melting glass frit. After that, the inside of the discharge space between the front plate 22 and the back plate 23 is evacuated to a high vacuum (for example, 1.1 × 10 ⁻⁴ Pa), and the discharge gas is sealed in the discharge space so that the PDP 21 is sealed. Manufactured.

次に、前面ガラス基板１上に補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を形成する方法について図２を用いて今一度説明する。図２は、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面板２２を製造するときの各工程における前面板２２の状態を示す断面図である。ここでは、透明電極上２ａ、３ａに形成された暗色導電層とその上に形成された導電層とからなる２層構造の補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５の形成方法について説明する。 Next, a method of forming the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 on the front glass substrate 1 will be described once again with reference to FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the state of front plate 22 in each process when manufacturing front plate 22 of the PDP in the embodiment of the present invention. Here, a method of forming the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 having a two-layer structure including a dark conductive layer formed on the transparent electrodes 2a and 3a and a conductive layer formed thereon will be described.

図２において、まず、スパッタリング法により前面ガラス基板１上のほぼ全面にＩＴＯ膜を形成した後、エッチングによりパターニングすることにより、図２（ａ）に示すように所定のパターン（ストライプ状）の透明電極２ａ、３ａを形成する。 In FIG. 2, first, an ITO film is formed on almost the entire surface of the front glass substrate 1 by a sputtering method, and then patterned by etching, whereby a predetermined pattern (striped) is transparent as shown in FIG. Electrodes 2a and 3a are formed.

次に、図２（ｂ）に示すように、スクリーン印刷法を利用して補助電極２ｂ、３ｂとなる材料を透明電極２ａ、３ａを覆うように前面ガラス基板１のほぼ全面に塗布することにより、暗色導電層となる第１のペースト層１５および導電層となる第２のペースト層１６を順次積層形成する。第１のペースト層１５および第２のペースト層１６はともに感光性を有している。第１のペースト層１５は黒色顔料、無機バインダおよび感光性樹脂成分を含む感光性ペーストを用いて形成され、第２のペースト層１６はＡｇ等の導電性材料、無機バインダおよび感光性樹脂成分を含む感光性ペーストを用いて形成される。また、黒色顔料として、例えば酸化ルテニウムやルテニウム複合酸化物のような導電性材料を用いることができる。導電性のない黒色顔料を用いる場合には、さらにＡｇ等の導電性材料を含ませればよい。そして、無機バインダとして、例えばガラスフリットを使用することができる。 Next, as shown in FIG. 2 (b), a material to be the auxiliary electrodes 2b and 3b is applied to almost the entire surface of the front glass substrate 1 so as to cover the transparent electrodes 2a and 3a by using a screen printing method. Then, the first paste layer 15 to be the dark conductive layer and the second paste layer 16 to be the conductive layer are sequentially stacked. Both the first paste layer 15 and the second paste layer 16 have photosensitivity. The first paste layer 15 is formed using a photosensitive paste containing a black pigment, an inorganic binder, and a photosensitive resin component, and the second paste layer 16 contains a conductive material such as Ag, an inorganic binder, and a photosensitive resin component. It is formed using the photosensitive paste containing. As the black pigment, for example, a conductive material such as ruthenium oxide or ruthenium composite oxide can be used. When a non-conductive black pigment is used, a conductive material such as Ag may be further included. For example, glass frit can be used as the inorganic binder.

次に、図２（ｃ）に示すように、補助電極２ｂ、３ｂのパターンに対応した所定の開口部１４を有するフォトマスク１３を用いて第１のペースト層１５および第２のペースト層１６を露光する。続いて、現像することによりパターニングした後、６００℃程度の温度で焼成することにより、図２（ｄ）に示すように透明電極２ａ、３ａ上に補助電極２ｂ、３ｂが形成される。遮光層５についても同様に、黒色顔料、無機バインダおよび感光性樹脂成分を含む感光性ペーストを前面ガラス基板１上に塗布して感光性材料層を形成し、遮光層５のパターンに対応した所定の開口部を有するフォトマスクを用いて感光性材料層を露光して現像し、６００℃で焼成することにより形成される。 Next, as shown in FIG. 2C, the first paste layer 15 and the second paste layer 16 are formed using a photomask 13 having a predetermined opening 14 corresponding to the pattern of the auxiliary electrodes 2b and 3b. Exposure. Subsequently, after patterning by development, baking is performed at a temperature of about 600 ° C., thereby forming auxiliary electrodes 2 b and 3 b on the transparent electrodes 2 a and 3 a as shown in FIG. Similarly, for the light shielding layer 5, a photosensitive paste containing a black pigment, an inorganic binder and a photosensitive resin component is applied on the front glass substrate 1 to form a photosensitive material layer, and a predetermined pattern corresponding to the pattern of the light shielding layer 5 is formed. The photosensitive material layer is exposed and developed using a photomask having a plurality of openings, and is baked at 600 ° C.

なお、上述した方法では、第１のペースト層１５および第２のペースト層１６はともに感光性を有する材料を使用しているが、第１のペースト層１５および第２のペースト層１６用の材料については、ともに非感光性の材料を用いて前面ガラス基板１のほぼ全面に図２（ｂ）に示すように塗布した後、さらに感光性を有するレジスト膜を全面に塗布してから、補助電極２ｂ、３ｂのパターンに対応した所定の開口部１４を有するフォトマスク１３を用いて露光、現像することによりレジスト膜をパターニングした後、第１のペースト層１５および第２のペースト層１６をエッチングしてからレジスト膜を除去し、６００℃程度の温度で焼成することにより補助電極２ｂ、３ｂを形成することも可能である。 In the above-described method, the first paste layer 15 and the second paste layer 16 both use photosensitive materials, but the materials for the first paste layer 15 and the second paste layer 16 are used. 2 is applied to almost the entire surface of the front glass substrate 1 using a non-photosensitive material as shown in FIG. 2B, and then a resist film having photosensitivity is further applied to the entire surface, and then the auxiliary electrode. After patterning the resist film by exposure and development using a photomask 13 having predetermined openings 14 corresponding to the patterns 2b and 3b, the first paste layer 15 and the second paste layer 16 are etched. Then, the resist film is removed, and the auxiliary electrodes 2b and 3b can be formed by baking at a temperature of about 600 ° C.

また、図示していないが、遮光層５については、図２（ｄ）に示した構成要素、すなわち透明電極２ａ、３ａ、補助電極２ｂ、３ｂの構造物を形成後に、前面ガラス基板１のほぼ全面に感光性を有する遮光層５用材料を塗布するか、または非感光性の遮光層５用材料に続いて感光性を有するレジスト膜を塗布して露光、パターニングすることにより形成することができる。 Although not shown, the light-shielding layer 5 is substantially the same as that of the front glass substrate 1 after the components shown in FIG. 2D, that is, the structures of the transparent electrodes 2a and 3a and the auxiliary electrodes 2b and 3b are formed. It can be formed by applying a photosensitive material for the light-shielding layer 5 over the entire surface, or applying a photosensitive resist film following the non-photosensitive material for the light-shielding layer 5 and exposing and patterning. .

上記の説明は、複数枚のフォトマスクを使用するような分割多重露光を必要としない通常のサイズのＰＤＰの前面ガラス基板１への補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を形成する工程に対するものである。表示領域のサイズが１００インチを超えるような大画面のＰＤＰの前面ガラス基板１に補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を形成する場合、複数の領域のフォトマスクに分割して、それぞれの分割領域で露光を行う分割多重露光を用いる方法が必要になる。 The above description is for the process of forming the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 on the front glass substrate 1 of a normal size PDP that does not require divisional multiple exposure using a plurality of photomasks. is there. When the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 are formed on the front glass substrate 1 of a large-screen PDP having a display area size exceeding 100 inches, the divided areas are divided into a plurality of area photomasks. Therefore, it is necessary to use a method that uses division multiple exposure in which exposure is performed at the same time.

引き続き、本発明の実施の形態における表示領域のサイズが１００インチを超えるような大画面のＰＤＰの前面ガラス基板１へ分割多重露光により補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を形成する方法について、図３、図４を用いて説明する。図３（ａ）は本発明の実施の形態において２枚に分割して分割多重露光に用いるフォトマスクの例を示す平面図、図３（ｂ）は本発明の実施の形態において２枚に分割したフォトマスクを用いて分割多重露光により前面ガラス基板上に形成されたパターンの例を示す平面図、図４は本発明の実施の形態において分割多重露光により重なり部分に形成された構成要素の形成パターンの例を示す拡大平面図である。 Subsequently, a method for forming the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 by the division multiple exposure on the front glass substrate 1 of the large-screen PDP having a display area size exceeding 100 inches in the embodiment of the present invention will be described. 3 and FIG. FIG. 3A is a plan view showing an example of a photomask that is divided into two sheets and used for divided multiple exposure in the embodiment of the present invention, and FIG. 3B is divided into two sheets in the embodiment of the present invention. FIG. 4 is a plan view showing an example of a pattern formed on the front glass substrate by division multiple exposure using the photomask obtained, and FIG. 4 is a diagram showing formation of components formed in the overlapping portion by division multiple exposure in the embodiment of the present invention. It is an enlarged plan view showing an example of a pattern.

図３において、ＰＤＰの前面ガラス基板１の構成要素、すなわち表示電極４（走査電極２と維持電極３からなる）を構成する補助電極２ｂ、３ｂのようなストライプ状の構造物を形成するのに必要なフォトマスクを、図３（ａ）に示すように２枚のマスク１３ｃ、１３ｄに分割している。ここでは、前面ガラス基板１に形成するストライプ状の構成要素を補助電極２ｂ、３ｂとして説明するが、遮光層５の場合も同様に形成できる。２枚のマスク１３ｃ、１３ｄには補助電極２ｂ、３ｂの形状に対応する開口部１４ｃ、開口部１４ｄがそれぞれ重なり部の領域Ｅを有して形成されている。そして、開口部１４ｃ、開口部１４ｄは各構成要素の重なり部が、Ａ領域とＢ領域の境界線を含む所定幅の領域Ｅにおいてランダムに配置されるように形成されている。すなわち、フォトマスク１３ｃ、１３ｄに形成された開口部１４ｃ、開口部１４ｄは、その端部の位置が領域Ｅにおいて縦方向に一直線上に揃っているのではなく、図３（ａ）に示すように、ランダムに位置するようになっている。この開口部１４ｃ、１４ｄのそれぞれの端部のランダムな配置については、例えば、乱数表を用いて発生させた乱数を用いて配置させればよい。 In FIG. 3, a striped structure such as auxiliary electrodes 2b and 3b constituting the constituent elements of the front glass substrate 1 of the PDP, that is, the display electrodes 4 (comprising the scan electrodes 2 and the sustain electrodes 3) is formed. The necessary photomask is divided into two masks 13c and 13d as shown in FIG. Here, the striped components formed on the front glass substrate 1 will be described as the auxiliary electrodes 2b and 3b, but the light shielding layer 5 can be formed in the same manner. In the two masks 13c and 13d, an opening portion 14c and an opening portion 14d corresponding to the shape of the auxiliary electrodes 2b and 3b are formed so as to have an overlapping region E, respectively. And the opening part 14c and the opening part 14d are formed so that the overlap part of each component may be arrange | positioned at random in the area | region E of the predetermined width containing the boundary line of A area | region and B area | region. That is, the openings 14c and 14d formed in the photomasks 13c and 13d are not aligned in the vertical direction in the region E in the positions of the ends thereof, but as shown in FIG. It is designed to be located randomly. About random arrangement | positioning of each edge part of these opening parts 14c and 14d, what is necessary is just to arrange | position using the random number generated using the random number table | surface, for example.

このとき、左側のＡ領域のマスク１３ｃの重なり領域Ｅの中間線Ｃ_１−Ｃ_１線を前面ガラス基板１の中心を通る中間線である一点鎖線で示すＣ−Ｃ線に合わせて載置して露光することにより、開口部１４ｃに対応する構成要素である補助電極２ｂ、３ｂの左側部分のパターンが露光される。さらに、右側のＢ領域のマスク１３ｄの重なり領域Ｅの中間線Ｃ_２−Ｃ_２線をＣ−Ｃ線と合わせて載置して露光することにより、開口部１４ｄに対応する構成要素である補助電極２ｂ、３ｂの右側部分のパターンが露光される。その後、現像して焼成することにより、図３（ｂ）に示すような走査電極２と維持電極３からなる表示電極４を構成する補助電極２ｂ、３ｂが連続するパターンとして前面ガラス基板１に形成される。このとき、Ｃ−Ｃ線を中心にした所定の幅の領域Ｅにおいてマスク１３ｃの開口部１４ｃとマスク１３ｄの開口部１４ｄによりそれぞれ形成される補助電極２ｂ、３ｂが重なるようになっており、その重なった部分は領域Ｅ内においてランダムに配置されている。なお、図３（ａ）に示した２枚のマスク１３ｃ、１３ｄには補助電極２ｂ、３ｂの電極端子部１７ｃ、１７ｄに対応する部分も描いてあるが、遮光層５の形成に用いるマスクの場合にはこの部分は必要ない。 At this time, the intermediate line C ₁ -C ₁ line of the overlapping area E of the mask 13 c in the left A area is placed in accordance with the CC line indicated by the alternate long and short dash line passing through the center of the front glass substrate 1. As a result of the exposure, the pattern on the left side of the auxiliary electrodes 2b and 3b, which are constituent elements corresponding to the opening 14c, is exposed. Further, the intermediate line C ₂ -C ₂ line of the overlapping area E of the mask 13d in the right B area is placed and exposed together with the C-C line, thereby being an auxiliary element that is a component corresponding to the opening 14d. The pattern on the right side of the electrodes 2b and 3b is exposed. Thereafter, development and baking are performed on the front glass substrate 1 as a pattern in which the auxiliary electrodes 2b and 3b constituting the display electrode 4 composed of the scanning electrode 2 and the sustain electrode 3 as shown in FIG. Is done. At this time, the auxiliary electrodes 2b and 3b respectively formed by the opening 14c of the mask 13c and the opening 14d of the mask 13d overlap each other in the region E having a predetermined width centered on the CC line. The overlapped portions are randomly arranged in the region E. Although the portions corresponding to the electrode terminal portions 17c and 17d of the auxiliary electrodes 2b and 3b are drawn on the two masks 13c and 13d shown in FIG. 3A, the masks used for forming the light shielding layer 5 are also shown. This part is not necessary in some cases.

実際の処理工程においては、本発明の実施の形態における表示領域のサイズが１００インチを超えるような大画面のＰＤＰの製造に際して、図２、図３に示したように、あらかじめ感光性を有する材料を用いて前面ガラス基板１上全面に形成された暗色導電層となる第１のペースト層１５および導体層となる第２のペースト層１６を全面にわたって塗布しておき、最初にＡ領域について開口部１４ｃを有するフォトマスク１３ｃで露光した後、Ｂ領域について開口部１４ｄを有するフフォトマスク１３ｄで露光する。このとき、Ｂ領域を先に露光し、次にＡ領域を露光してもよい。また、ともに非感光性の第１のペースト層１５および第２のペースト層１６を塗布した後に、感光性を有するレジスト膜を塗布してから、Ａ領域とＢ領域とで分割露光し、レジスト膜をパターニングした後に、第１のペースト層１５および第２のペースト層１６をエッチングすることによりパターニングすることもできる。 In the actual processing step, when manufacturing a large screen PDP having a display area size exceeding 100 inches in the embodiment of the present invention, as shown in FIGS. The first paste layer 15 to be a dark conductive layer and the second paste layer 16 to be a conductor layer formed on the entire surface of the front glass substrate 1 are applied over the entire surface, and an opening is first formed in the A region. After the exposure with the photomask 13c having 14c, the B region is exposed with the photomask 13d having the opening 14d. At this time, the B area may be exposed first, and then the A area may be exposed. In addition, after applying the non-photosensitive first paste layer 15 and the second paste layer 16 together, a resist film having photosensitivity is applied, and then divided exposure is performed in the A region and the B region. After the patterning, the first paste layer 15 and the second paste layer 16 can be patterned by etching.

なお、図３では、フォトマスク１３ｃおよびフォトマスク１３ｄにおける、それぞれの開口部１４ｃおよび開口部１４ｄを黒い太線で描いて示しているが、マスクの外観を概略的に理解できるように便宜的に描画したものであり、実際には、ネガ型レジスト等の感光性を有する材料を使用する場合は、開口部１４ｃおよび開口部１４ｄを白抜きパターンにし、開口部以外は黒く描画して示した方が現実のマスクのパターンらしくなる。 In FIG. 3, the respective openings 14c and 14d in the photomask 13c and the photomask 13d are drawn with thick black lines, but are drawn for convenience so that the appearance of the mask can be roughly understood. In actuality, when a photosensitive material such as a negative resist is used, it is better to make the openings 14c and 14d white and to draw black except for the openings. It looks like a real mask pattern.

そして、このような２枚のフォトマスク１３ｃ、１３ｄをそのまま用いて補助電極２ｂ、３ｂ等のストライプ状の構造物である構成要素を分割多重露光により形成すると、使用するレジスト等の感光性を有する材料がネガ型の場合、領域Ｅにおいてフォトマスク１３ｃによる露光部分とフォトマスク１３ｄによる露光部分とが重なる部分において形成されるストライプ状の構成要素の（図４中にＤで示す）重なり部分の線幅が他の部分よりも太くなる。すなわち、補助電極２ｂ、３ｂは、所定の幅（例えば１００μｍ程度）を有する重なりのない部分１８Ａ、１８Ｂとその所定の幅よりも広くなっているＤで示した重なり部分１９とを有した形状となり、重なり部分１９は重なりのない部分１８Ａ、１８Ｂに比べて１％〜５％程度太くなっている。なお、補助電極２ｂと補助電極３ｂの配列ピッチ（補助電極２ｂと補助電極３ｂの中心間距離）は、例えば３００μｍ〜６００μｍ程度である。そして、重なり部分１９は露光時の重なる部分の位置に形成されるのであるが、重なり部分１９が図８に示したような一直線上に揃って位置するのではなく、図４に示すように重なり部分１９を、補助電極２ｂ、３ｂに平行な方向において所定の幅を有する領域内でランダムな位置に配置しておけば、重なり部分１９が図８に示したような一直線上に形成される場合に比べて明暗が発生しにくくなり、人の目では検知できず外観不良の発生を抑制することができる。一方、ポジ型のレジスト等の感光性を有する材料を使用する場合は、図示していないが、領域Ｅにおいて形成されるストライプ状の構成要素の重なり部分Ｄの所定の線幅が他の部分よりも細くなることを除いてネガ型の感光性材料使用する場合と同様の結果が得られる。 Then, by using the two photomasks 13c and 13d as they are and forming the constituent elements that are striped structures such as the auxiliary electrodes 2b and 3b by the division multiple exposure, the resist such as the resist to be used has photosensitivity. In the case where the material is a negative type, in the region E, the line of the overlapping portion (indicated by D in FIG. 4) of the stripe-shaped component formed in the portion where the exposed portion by the photomask 13c and the exposed portion by the photomask 13d overlap. The width becomes thicker than other parts. That is, the auxiliary electrodes 2b and 3b have a shape having non-overlapping portions 18A and 18B having a predetermined width (for example, about 100 μm) and an overlapping portion 19 indicated by D that is wider than the predetermined width. The overlapping portion 19 is about 1% to 5% thicker than the non-overlapping portions 18A and 18B. The arrangement pitch of the auxiliary electrode 2b and the auxiliary electrode 3b (the distance between the centers of the auxiliary electrode 2b and the auxiliary electrode 3b) is, for example, about 300 μm to 600 μm. The overlapping portion 19 is formed at the position of the overlapping portion at the time of exposure, but the overlapping portion 19 is not aligned on a straight line as shown in FIG. 8, but is overlapped as shown in FIG. When the portion 19 is arranged at a random position in a region having a predetermined width in the direction parallel to the auxiliary electrodes 2b and 3b, the overlapping portion 19 is formed on a straight line as shown in FIG. Compared with the above, light and darkness are less likely to occur, which cannot be detected by the human eye, and the occurrence of poor appearance can be suppressed. On the other hand, when a photosensitive material such as a positive resist is used, although not shown, the predetermined line width of the overlapping portion D of the stripe-shaped component formed in the region E is larger than that of other portions. The same result as in the case of using a negative photosensitive material is obtained except that the thickness becomes thinner.

以下に、補助電極２ｂ、３ｂ（あるいは遮光層５）が分割露光を用いて形成された前面ガラス基板１の重なり領域（つながり部、つなぎ目）における外観を目視検査で評価した結果について、図５を参照しながら説明する。図５は本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面ガラス基板に分割露光により形成した補助電極のつながり部の外観目視検査の評価結果を示す図である。 FIG. 5 shows the results of visual inspection for the appearance of the overlapping regions (joints and joints) of the front glass substrate 1 on which the auxiliary electrodes 2b and 3b (or the light shielding layer 5) are formed by using the divided exposure. The description will be given with reference. FIG. 5 is a diagram showing an evaluation result of an appearance visual inspection of a connecting portion of auxiliary electrodes formed by split exposure on the front glass substrate of the PDP in the embodiment of the present invention.

ここでは、比較例として、図７および図８に示す構成で、マスク１３ａによる開口部１４ａで形成された端部とマスク１３ｂによる開口部１４ｂで形成された端部との重なり位置の配置が図７（ａ）に示したように補助電極２ｂ、３ｂ（あるいは、遮光層５）に垂直な方向において一直線上に揃った位置に配置して形成された前面ガラス基板１と、実施例として図３および図４に示す構成で、マスク１３ｃによる開口部１４ｃで形成された端部とマスク１３ｄによる開口部１４ｄで形成された端部との重なり位置の配置が、図３（ａ）に示したように補助電極２ｂ、３ｂ（あるいは、遮光層５）に平行な方向において所定の幅を有する領域内でランダムな位置に配置して形成された前面ガラス基板１とをそれぞれ試作した。始めに、試作した前面ガラス基板１について、比較例、実施例とも分割多重露光により、補助電極（あるいは遮光層）を形成した前面ガラス基板１の重なり領域におけるマスク１３ａ（１３ｃ）による開口部１４ａ（１４ｃ）で形成された端部とマスク１３ｂ（１３ｄ）による開口部１４ｂ（１４ｄ）で形成された端部とのそれぞれの線幅差およびずれ量を測定しておく。ここで線幅差とは、図４に示す補助電極のパターンにおいて、重なりのない部分１８Ａの線幅と重なりのない部分１８Ｂの線幅との差である。また、ずれ量とは、重なりのない部分１８Ａの中心線の位置と重なりのない部分１８Ｂの中心線の位置とのずれの大きさである。なお、図４では、重なりのない部分１８Ａ、１８Ｂのそれぞれの中心線を一点鎖線で表しており、図４ではずれがない場合（ずれ量が０）を示している。 Here, as a comparative example, in the configuration shown in FIGS. 7 and 8, the arrangement of the overlapping positions of the end formed by the opening 14a by the mask 13a and the end formed by the opening 14b by the mask 13b is illustrated. As shown in FIG. 7 (a), the front glass substrate 1 is formed so as to be arranged on a straight line in the direction perpendicular to the auxiliary electrodes 2b, 3b (or the light shielding layer 5), and FIG. 4A and 4B, the arrangement of overlapping positions of the end portion formed by the opening portion 14c by the mask 13c and the end portion formed by the opening portion 14d by the mask 13d is as shown in FIG. A front glass substrate 1 formed in a random position in a region having a predetermined width in a direction parallel to the auxiliary electrodes 2b and 3b (or the light shielding layer 5) was prototyped. First, with respect to the prototype front glass substrate 1, in the comparative example and the example, an opening 14a (by a mask 13a (13c) in an overlapping region of the front glass substrate 1 on which an auxiliary electrode (or a light shielding layer) is formed by divided multiple exposure. The line width difference and the amount of deviation between the end formed in 14c) and the end formed in the opening 14b (14d) by the mask 13b (13d) are measured in advance. Here, the line width difference is the difference between the line width of the non-overlapping portion 18A and the line width of the non-overlapping portion 18B in the auxiliary electrode pattern shown in FIG. The amount of deviation is the magnitude of deviation between the position of the center line of the non-overlapping portion 18A and the position of the center line of the non-overlapping portion 18B. In FIG. 4, the center lines of the non-overlapping portions 18A and 18B are indicated by alternate long and short dash lines, and FIG. 4 shows a case where there is no deviation (the deviation amount is 0).

その後、試作した前面ガラス基板１について、比較例、実施例とも分割多重露光により形成した補助電極（あるいは遮光層）のつながり部（つなぎ目）の外観目視検査を実施し、外観目視検査の評価結果を線幅差およびずれ量の測定値に対しプロットする。なお、外観目視検査は評価値を１〜５の５段階のレベルに設定して行った。具体的には、レベル１を明暗の差等による縞あるいは筋状のむらが全く認められない外観状態とし、レベル３を縞あるいは筋状のむらが何とか認められる外観状態とし、レベル５は縞あるいは筋状のむらが目立つあるいはよく認められるレベルとしている。レベル３以下であれば、実用上はほとんど問題のないレベルである。 Thereafter, for the prototype front glass substrate 1, the visual inspection of the connected portion (joint) of the auxiliary electrode (or the light shielding layer) formed by the division multiple exposure was performed in both the comparative example and the example, and the evaluation result of the visual visual inspection was obtained. Plot against measured values of line width difference and displacement. In addition, the visual appearance inspection was performed by setting the evaluation value to 5 levels of 1 to 5. Specifically, level 1 is set to an appearance state in which no stripes or streaky irregularities are observed at all, level 3 is set to an appearance state in which stripes or streaky irregularities are recognized, and level 5 is set to stripes or streaks. The level of unevenness is conspicuous or well recognized. If the level is 3 or less, there is almost no problem in practical use.

図５において、比較例の前面ガラス基板１における線幅差およびずれ量の測定値に対する外観目視検査の評価結果を丸印でプロットし、一方、実施例の前面ガラス基板１における線幅差およびずれ量の測定値に対する外観目視検査の評価結果を三角印でプロットしている。 In FIG. 5, the evaluation results of the visual appearance inspection with respect to the measured values of the line width difference and the deviation amount in the front glass substrate 1 of the comparative example are plotted with circles, while the line width difference and deviation in the front glass substrate 1 of the example are plotted. The evaluation result of the visual appearance inspection with respect to the measured value of the quantity is plotted with a triangle mark.

図５（ａ）に示すように、比較例の前面ガラス基板１について縞あるいは筋状のむらの外観目視検査による評価を線幅差に対してプロットした結果（ここでは、ずれ量５μｍ以下のデータをプロット）によれば、線幅差が小さい場合はレベル１であるが、線幅差が１μｍを超えるとレベル２またはレベル３が増え、線幅差が４μｍを超えるとレベル４、レベル５が現れている。これに対して、実施例の前面ガラス基板１について縞あるいは筋状のむらの外観目視検査による評価を線幅差に対してプロットした結果（ここでは、ずれ量５μｍ以下のデータをプロット）によれば、線幅差が４μｍ以下ではレベル１またはレベル２であるが、線幅差が４μｍを超えるとレベル４が現れている。このように、実施例の方が比較例に比べて線幅差が大きくなっても縞あるいは筋状のむらが目立ちにくくなっていることがわかる。また、実施例の場合、線幅差を４μｍ以下に抑えることにより外観としては実用上問題のないレベルを得ることができ、さらに線幅差が３μｍ以下のときにはレベル１が得られるため外観としてはより好ましい。 As shown to Fig.5 (a), the result by having plotted the evaluation by the external visual inspection of a stripe | line | column or stripe-like unevenness with respect to a line | wire width difference about the front glass substrate 1 of a comparative example (here, the data of deviation | shift amount 5 micrometers or less are shown. According to the plot), when the line width difference is small, it is level 1, but when the line width difference exceeds 1 μm, level 2 or level 3 increases, and when the line width difference exceeds 4 μm, level 4 and level 5 appear. ing. On the other hand, according to the result of plotting the evaluation by visual inspection of the stripes or streaks of the front glass substrate 1 of the example with respect to the line width difference (in this case, data with a deviation of 5 μm or less is plotted). When the line width difference is 4 μm or less, it is level 1 or level 2, but when the line width difference exceeds 4 μm, level 4 appears. Thus, it can be seen that the stripes or streaky irregularities are less noticeable in the example even when the line width difference is larger than in the comparative example. Further, in the case of the embodiment, by suppressing the line width difference to 4 μm or less, a level having no practical problem can be obtained as the appearance, and when the line width difference is 3 μm or less, level 1 is obtained, so that the appearance is More preferred.

さらに、図５（ｂ）に示すように、実施例および比較例の前面ガラス基板１について縞あるいは筋状のむらの外観目視検査による評価をずれ量に対してプロットした結果（ここでは、線幅差２μｍ以下のデータをプロット）によれば、実施例と比較例のどちらも、外観目視検査の結果は縞あるいは筋状のむらが目立たないとされるレベル３よりも全て小さい。実施例ではずれ量が１０μｍ以下においてレベル１となっているのに対し、比較例ではレベル２、レベル３が現れており、実施例の方が比較例よりも優れている。 Further, as shown in FIG. 5B, the results of visual evaluation of the stripes or streaks of the front glass substrates 1 of the example and the comparative example plotted against the deviation amount (here, the line width difference) According to the plot of data of 2 μm or less, in both the example and the comparative example, the results of the visual visual inspection are all smaller than the level 3 where the stripes or streaks are not noticeable. In the embodiment, the level is 1 when the deviation amount is 10 μm or less, whereas in the comparative example, levels 2 and 3 appear, and the embodiment is superior to the comparative example.

したがって、分割多重露光により前面ガラス基板１に形成した補助電極の場合、ばらつきを考慮しても、それぞれの線幅差が３μｍ以下であれば、重なり部分がほとんど目立たず、この傾向は重なり部分を補助電極に平行な方向において所定の幅を有する領域内でランダムな位置に配置した方が、補助電極に垂直な方向において一直線上に揃った位置に配置した場合より良化している。また、ずれ量に対しては、ずれ量１０μｍ以下の範囲で重なり部分がほとんど目立たず、この傾向は重なり部分を補助電極２ｂ、３ｂに平行な方向において所定の幅を有する領域内でランダムな位置に配置した方が、一直線上に揃った位置に配置した場合よりはるかに優れているといえる。 Therefore, in the case of the auxiliary electrode formed on the front glass substrate 1 by the division multiple exposure, even if the variation is taken into account, if the respective line width differences are 3 μm or less, the overlapping portion is hardly noticeable, and this tendency Arranging at random positions in a region having a predetermined width in the direction parallel to the auxiliary electrode is better than arranging it at positions aligned on a straight line in the direction perpendicular to the auxiliary electrode. In addition, with respect to the shift amount, the overlapping portion is hardly noticeable within the range of the shift amount of 10 μm or less, and this tendency causes the overlapping portion to be randomly positioned in a region having a predetermined width in the direction parallel to the auxiliary electrodes 2b and 3b. It can be said that it is far superior to the case where it arrange | positions in the position arrange | positioned on the straight line.

また、分割多重露光により前面ガラス基板１に形成した遮光層５についても、上述した補助電極の場合と同等の結果が得られている。 Moreover, the same result as the case of the auxiliary electrode mentioned above is obtained also about the light shielding layer 5 formed in the front glass substrate 1 by division | segmentation multiple exposure.

なお、上記外観目視検査において、前面ガラス基板１の補助電極の重なり部分１９が形成される領域Ｅの幅（補助電極に平行な方向の長さ）については、２０ｍｍと１００ｍｍの２種類を試作したが、外観目視検査の評価結果に大きな差は認められなかった。しかしながら、領域Ｅの幅が狭すぎると、その領域Ｅ内で重なり部分１９がランダムに配置されるようにしたとしても、明暗が発生しやすくなり外観不良となるおそれがある。このため、領域Ｅの幅は５ｍｍ以上であることが好ましく、この場合には外観不良の発生を抑制することができる。また、領域Ｅの幅が大きくなると、それに応じて大きなフォトマスクが必要になるので、領域Ｅの幅の最大値については使用可能なフォトマスクの大きさによって決めればよく、例えば領域Ｅの幅を前面ガラス基板１の長さ（補助電極に平行な方向の長さ）の１／２にすればよい。 In the above visual inspection, two types of 20 mm and 100 mm were prototyped for the width (length in the direction parallel to the auxiliary electrode) of the region E where the overlapping portion 19 of the auxiliary electrode of the front glass substrate 1 was formed. However, a large difference was not recognized in the evaluation result of the visual appearance inspection. However, if the width of the region E is too narrow, even if the overlapping portions 19 are randomly arranged in the region E, brightness and darkness are likely to occur and the appearance may be deteriorated. For this reason, it is preferable that the width | variety of the area | region E is 5 mm or more, and generation | occurrence | production of the appearance defect can be suppressed in this case. In addition, when the width of the region E is increased, a large photomask is required accordingly. Therefore, the maximum value of the width of the region E may be determined by the size of the usable photomask. What is necessary is just to make it 1/2 of the length (length in a direction parallel to an auxiliary electrode) of the front glass substrate 1.

また、上述した説明では、前面ガラス基板１に形成される構造物のつなぎ目、すなわち分割多重露光に用いるマスクの開口部１４ｃ、開口部１４ｄの重なり部分１９のランダムな配置については、乱数表を用いて発生させた乱数を用いて配置させる方法を例に挙げて説明したが、本発明の実施の形態におけるＰＤＰではこの例に限定されるものではない。例えば、１／ｆゆらぎをもたせて重なり部分１９を配置させる等、他の配置方法であってもよい。さらに、図３において重なり領域Ｅは前面ガラス基板１について１箇所の例で説明したが、重なり領域Ｅは複数あってもよい。 In the above description, a random number table is used for the joint arrangement of the structures formed on the front glass substrate 1, that is, for the random arrangement of the overlapping portion 19 of the opening 14c and the opening 14d of the mask used for the division multiple exposure. However, the PDP according to the embodiment of the present invention is not limited to this example. For example, other arrangement methods such as arranging the overlapping portion 19 with 1 / f fluctuation may be used. Further, in FIG. 3, the overlapping region E is described as one example with respect to the front glass substrate 1, but there may be a plurality of overlapping regions E.

以上説明したように、本発明によれば、複数のフォトマスクを使用して分割多重露光により大型のＰＤＰを製造する場合でも、外観不良や表示不良の発生を抑制できるプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することができる。 As described above, according to the present invention, even when a large PDP is manufactured by division multiple exposure using a plurality of photomasks, a plasma display panel and a method for manufacturing the plasma display panel that can suppress appearance defects and display defects can be suppressed. Can be provided.

以上の説明から明らかなように本発明によれば、補助電極等を分割多重露光で形成する際につなぎ目が目立たないようにすることができ、大型のプラズマディスプレイパネルの製造に用いることができる。 As is apparent from the above description, according to the present invention, when the auxiliary electrode or the like is formed by division multiple exposure, the joints can be made inconspicuous and can be used for manufacturing a large-sized plasma display panel.

本発明の実施の形態におけるＡＣ−ＰＤＰの一部を拡大して構造を示す分解斜視図The disassembled perspective view which expands and shows a part of AC-PDP in embodiment of this invention （ａ）〜（ｄ）は本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面板を製造するときの各工程における前面板の状態を示す断面図(A)-(d) is sectional drawing which shows the state of the front plate in each process when manufacturing the front plate of PDP in embodiment of this invention. （ａ）は本発明の実施の形態において２枚に分割して分割多重露光に用いるフォトマスクの例を示す平面図（ｂ）は本発明の実施の形態において２枚に分割したフォトマスクを用いて分割多重露光により基板上に形成されたパターンの例を示す平面図(A) is a plan view showing an example of a photomask that is divided into two sheets and used for divided multiple exposure in the embodiment of the present invention. (B) is a photomask divided into two sheets in the embodiment of the present invention. Plan view showing an example of a pattern formed on a substrate by division multiple exposure 本発明の実施の形態において分割多重露光により形成された重なり部分の構成要素の形成パターンの例を示す拡大平面図The enlarged plan view which shows the example of the formation pattern of the component of the overlap part formed by the division | segmentation multiple exposure in embodiment of this invention （ａ）、（ｂ）は本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面ガラス基板に分割露光により形成した補助電極のつながり部の外観目視検査の評価結果を示す図(A), (b) is a figure which shows the evaluation result of the external appearance visual inspection of the connection part of the auxiliary electrode formed in the front glass substrate of PDP in embodiment of this invention by division | segmentation exposure. 従来の交流面放電型ＰＤＰの構造を示す斜視図A perspective view showing a structure of a conventional AC surface discharge type PDP （ａ）は２枚に分割して分割多重露光に用いるフォトマスクの例を示す平面図（ｂ）は２枚に分割したフォトマスクを基板上に配置した状態を示す平面図（ｃ）は２枚に分割したフォトマスクを用いて分割多重露光により基板上に形成されたパターンの例を示す平面図(A) is a plan view showing an example of a photomask divided into two and used for divisional multiple exposure (b) is a plan view showing a state in which the photomask divided into two is arranged on the substrate (c) is 2 The top view which shows the example of the pattern formed on the board | substrate by the division | segmentation multiple exposure using the photomask divided | segmented into the sheet | seat 分割多重露光により生じた形成パターンが太くなる例を示す図The figure which shows the example which the formation pattern produced by the division | segmentation multiple exposure becomes thick

Explanation of symbols

１前面ガラス基板
２走査電極
２ａ，３ａ透明電極
２ｂ，３ｂ補助電極
３維持電極
４表示電極
５遮光層
６誘電体層
７保護層
８背面ガラス基板
９下地誘電体層
１０データ電極
１１隔壁
１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ蛍光体層
１３，１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄフォトマスク（マスク）
１４，１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ開口部
１５第１のペースト層（導電層）
１６第２のペースト層（暗色導電層）
１７ｃ，１７ｄ電極端子部
１８Ａ，１８Ｂ重なりのない部分
１９重なり部分
２１プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
２２前面板
２３背面板
２４放電セル（放電空間） DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front glass substrate 2 Scan electrode 2a, 3a Transparent electrode 2b, 3b Auxiliary electrode 3 Sustain electrode 4 Display electrode 5 Light-shielding layer 6 Dielectric layer 7 Protective layer 8 Back glass substrate 9 Base dielectric layer 10 Data electrode 11 Partition 12R, 12G , 12B Phosphor layer 13, 13a, 13b, 13c, 13d Photomask (mask)
14, 14a, 14b, 14c, 14d Opening 15 First paste layer (conductive layer)
16 Second paste layer (dark conductive layer)
17c, 17d Electrode terminal portion 18A, 18B Non-overlapping portion 19 Overlapping portion 21 Plasma display panel (PDP)
22 Front plate 23 Back plate 24 Discharge cell (discharge space)

Claims

In a plasma display panel in which a plurality of structures are formed in parallel to a predetermined direction on a substrate,
The structure comprises a joint in at least one region having a predetermined width in the predetermined direction;
The plasma display panel, wherein the joints are randomly arranged in the region.

The plasma display panel according to claim 1, wherein the predetermined width is 5 mm or more.

The plasma display panel according to claim 1, wherein a difference in line width of the structure at the joint is 4 μm or less.

2. The plasma display panel according to claim 1, wherein an amount of deviation of the structure at the joint in a direction perpendicular to the predetermined direction is 10 μm or less.

In the method of manufacturing a plasma display panel in which a plurality of structures are formed in parallel to a predetermined direction on a substrate,
Forming a photosensitive material layer on the substrate; dividing the formed photosensitive material layer into a plurality of regions; exposing the photosensitive material layer using a respective photomask corresponding to each region; Thereafter, by patterning, the step of forming the photosensitive material layer and the step of forming a plurality of the structures,
In the vicinity of the borderline between the adjacent regions, the exposed portions in each region are overlapped, and the overlapped portion is randomly arranged in a region having a predetermined width including the borderline. A method for manufacturing a plasma display panel.

6. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 5, wherein the predetermined width is 5 mm or more.

6. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 5, wherein a difference in line width of the structure is 4 [mu] m or less in the overlapping portion.

6. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 5, wherein, in the overlapping portion, a shift amount of the structure in a direction perpendicular to the predetermined direction is set to 10 [mu] m or less.