JP4857562B2

JP4857562B2 - Flat display panel

Info

Publication number: JP4857562B2
Application number: JP2005008821A
Authority: JP
Inventors: 道彦高瀬; 英喜丸中
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2005-01-17
Filing date: 2005-01-17
Publication date: 2012-01-18
Anticipated expiration: 2025-01-17
Also published as: JP2006196391A

Description

本発明は、大画面で薄型のディスプレイ装置に用いられているフラットディスプレイパネルおよびその製造方法に関するものである。特に、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a flat display panel used in a thin display device having a large screen and a manufacturing method thereof. In particular, the present invention relates to a plasma display panel and a manufacturing method thereof.

近年、大型のテレビジョン受像機や公衆表示用モニタとしての社会的要望が増大し、注目を集めているプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも記す）は、希ガス放電による紫外線で蛍光体を励起発光させて画像・映像表示に利用しており、大画面、薄型、軽量であることを特徴とする視認性に優れた平板型の表示デバイスである。最近では表示領域のサイズが５０インチを超えて８０インチもある大画面のＰＤＰを用いた製品が登場し、将来的に表示領域のサイズが１００インチを超えるさらに大画面のＰＤＰも計画されている。ＰＤＰには交流駆動方式（ＡＣ−ＰＤＰ）と直流駆動方式（ＤＣ−ＰＤＰ）の２つのタイプがある。図６は代表的なＡＣ−ＰＤＰとして、従来の交流面放電型ＰＤＰの構造を示す斜視図であり、図６を参照して、以下、ＡＣ−ＰＤＰの構造を簡単に説明する。 In recent years, there has been an increase in social demand for large-sized television receivers and public display monitors, and plasma display panels (hereinafter also referred to as PDPs), which are attracting attention, excite phosphors with ultraviolet light generated by rare gas discharges. This is a flat-type display device with excellent visibility, which is used for image / video display and has a large screen, a thin shape, and a light weight. Recently, products using a large screen PDP with a display area size exceeding 50 inches and 80 inches have appeared, and in the future, a larger screen PDP with a display area size exceeding 100 inches is also planned. . There are two types of PDPs: an AC drive system (AC-PDP) and a DC drive system (DC-PDP). FIG. 6 is a perspective view showing the structure of a conventional AC surface discharge type PDP as a typical AC-PDP. The structure of the AC-PDP will be briefly described below with reference to FIG.

図６において、ＰＤＰ２１は対向配置された前面板２２と背面板２３との間に多数の放電セル２４が形成されている。前面板２２は、走査電極２と維持電極３とからなる表示電極４が前面ガラス基板１上に互いに平行に複数対形成され、それら表示電極４を覆うように誘電体層６および保護層７が形成されている。表示電極４は例えば、印刷・焼成タイプのプロセス、フォトエッチングプロセス、転写プロセス等により形成される。背面板２３は、背面ガラス基板８上に複数の平行なデータ電極１０と、それらを覆うように下地誘電体層９と、さらにその上にデータ電極１０に平行な複数の隔壁１１が、隣接する隔壁１１の中間にデータ電極９を位置させるようにそれぞれ形成され、下地誘電体層９の表面と隔壁１１の側面とに蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂが形成されている。そして、表示電極４とデータ電極１０とが立体交差するように前面板２２と背面板２３とが対向、密封され、内部の放電空間に放電ガスが封入されて放電セル２４が形成されている。このような構成のＰＤＰ２１において、各放電セル２４内でガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線は赤、緑、青、各色の蛍光体１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂを励起発光させて対応する色の可視光に変換される。そして、前面板２２を通して可視光を外部に取り出すことにより画像表示を行っている。 In FIG. 6, the PDP 21 has a number of discharge cells 24 formed between a front plate 22 and a back plate 23 that are opposed to each other. The front plate 22 includes a plurality of pairs of display electrodes 4 formed of the scan electrodes 2 and the sustain electrodes 3 on the front glass substrate 1 in parallel to each other, and a dielectric layer 6 and a protective layer 7 are formed so as to cover the display electrodes 4. Is formed. The display electrode 4 is formed by, for example, a printing / baking type process, a photo etching process, a transfer process, or the like. The back plate 23 has a plurality of parallel data electrodes 10 on the back glass substrate 8, a base dielectric layer 9 so as to cover them, and a plurality of barrier ribs 11 parallel to the data electrodes 10 thereon. Data electrodes 9 are formed in the middle of the barrier ribs 11, and phosphor layers 12 R, 12 G, and 12 B are formed on the surface of the base dielectric layer 9 and the side surfaces of the barrier ribs 11. The front plate 22 and the back plate 23 are opposed and sealed so that the display electrode 4 and the data electrode 10 are three-dimensionally crossed, and a discharge gas is enclosed in the internal discharge space to form a discharge cell 24. In the PDP 21 having such a configuration, ultraviolet rays are generated by gas discharge in each discharge cell 24, and the ultraviolet rays excite the phosphors 12R, 12G, and 12B of red, green, blue, and colors to make the corresponding colors visible. Converted to light. Then, image display is performed by extracting visible light to the outside through the front plate 22.

ところで、前面板２２に形成される走査電極２および維持電極３からなる表示電極４を、フォトエッチングプロセスによりＩＴＯ等の透明電極で形成した導電性バイパス電極と、印刷・焼成タイプの低抵抗電極材料を用いて印刷・焼成したり、または感光性材料を前面ガラス基板１上のほぼ全面に塗布して乾燥させた後、所定のパターンの開口部を有するフォトマスクを用いて露光し、現像を行ってパターニングし、その後に焼成したりして形成したバス電極との積層構造の表示電極４を作製する方法が一般的に利用されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。また、フォトエッチングプロセスによりＩＴＯ等の透明電極からなる導電性バイパス電極を形成した後、アルミニウム（Ａｌ）薄膜あるいはクロム（Ｃｒ）−銅（Ｃｕ）−クロム（Ｃｒ）等の金属薄膜を成膜してフォトエッチングプロセスによりバス電極を積層して、走査電極２および維持電極３からなる表示電極４を作製する方法も用いられている。 Incidentally, the display electrode 4 consisting of the scanning electrodes 2 and sustain electrodes 3 are formed on the front plate 22, a conductive bypass electrode formed of a transparent electrode of ITO or the like by photo-etching processes, printing and Firing type low-resistance electrode after or form printing and baked using a material or a photosensitive material are substantially dry and coated on the whole surface of front glass substrate 1, exposed using a photo mask having openings of a predetermined pattern, developing In general, a method of manufacturing a display electrode 4 having a laminated structure with a bus electrode formed by patterning and then baking is used (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). Also, after forming a conductive bypass electrode made of a transparent electrode such as ITO by a photoetching process, a metal thin film such as an aluminum (Al) thin film or chromium (Cr) -copper (Cu) -chromium (Cr) is formed. A method is also used in which display electrodes 4 including scan electrodes 2 and sustain electrodes 3 are manufactured by laminating bus electrodes by a photoetching process.

そして、ＰＤＰを含め、表示領域のサイズが１００インチを超えるようなさらに大画面のフラットディスプレイパネルを製造しようとする場合、フォトエッチングプロセスにフォトマスクが必要であるが、その大きさに対応できるフォトマスクを得ることが極めて困難であるのみならず、仮に大きなサイズのフォトマスクが得られたとしても、フォトマスク自体の作成や露光装置の準備に莫大な費用がかかる。そこで、ＰＤＰや液晶表示装置（ＬＣＤ）等の大型画面のフラットディスプレイパネルでは、電極、遮光層（ＢＳ膜）、フィルター等の構成要素を形成するのに一度の露光で転写できる面積（フィールド・サイズ）を２以上の複数の領域のフォトマスクに分割して、それぞれの分割領域で露光を行う分割多重露光法を利用する。 When a flat display panel having a larger display area including the PDP and having a display area exceeding 100 inches is to be manufactured, a photomask is required for the photoetching process. Not only is it extremely difficult to obtain a mask, but even if a photomask of a large size is obtained, it takes enormous costs to create the photomask itself and to prepare the exposure apparatus. Therefore, in a flat display panel of a large screen such as a PDP or a liquid crystal display (LCD), an area (field size) that can be transferred by one exposure to form components such as an electrode, a light shielding layer (BS film), and a filter. ) Is divided into two or more photomasks of a plurality of regions, and a division multiple exposure method is used in which exposure is performed in each of the divided regions.

ここでは、２枚のフォトマスクに分割してそれぞれの分割領域で露光を行って、ＰＤＰの前面ガラス基板１の走査電極２と維持電極３からなる表示電極４を形成する例について、図７を用いて簡単に説明する。図７（ａ）は２枚に分割して分割多重露光に用いるフォトマスクの例を示す平面図、図７（ｂ）は２枚に分割したフォトマスクを基板上に配置した状態を示す平面図、図７（ｃ）は２枚に分割したフォトマスクを用いて分割多重露光により基板上に形成されたパターンの例を示す平面図である。 Here, FIG. 7 shows an example in which the display electrode 4 composed of the scanning electrode 2 and the sustaining electrode 3 of the front glass substrate 1 of the PDP is formed by dividing into two photomasks and performing exposure in each divided region. A brief description will be given. FIG. 7A is a plan view showing an example of a photomask that is divided into two sheets and used for divided multiple exposure, and FIG. 7B is a plan view showing a state in which the photomask divided into two pieces is arranged on a substrate. FIG. 7C is a plan view showing an example of a pattern formed on a substrate by division multiple exposure using a photomask divided into two sheets.

図７において、ＰＤＰの前面ガラス基板１の走査電極２と維持電極３からなる表示電極４を形成するのに必要なフォトマスクを、図７（ａ）に示すように２枚のフォトマスク１３ａ、１３ｂに分割している。２枚のマスク１３ａ、１３ｂには表示電極４の形状に対応する開口部１４ａ、開口部１４ｂがそれぞれ重なり部の領域Ｄを有して形成されている。前面ガラス基板１の中心を通る中間線であるＣ−Ｃ線に合わせて、左側のＡ領域のマスク１３ａを図７（ｂ）に示すように載置して露光パターニングすることにより、開口部１４ａに対応する表示電極４の左側部分が形成される。さらに、Ｃ−Ｃ線と重なり部の領域Ｄを合わせて、右側のＢ領域のマスク１３ｂを図７（ｂ）に示すように載置して露光パターニングすることにより、開口部１４ｂに対応する表示電極４の右側部分が形成され、図７（ｃ）に示すような走査電極２と維持電極３からなる表示電極４が連続するパターンとして前面ガラス基板１に形成される。このとき、Ｃ−Ｃ線を中心にした所定の幅の領域Ｄにおいてマスク１３ａの開口部１４ａとマスク１３ｂの開口部１４ｂが重なるようになっている。
特開平６−１０３９０３号公報（第２頁、第１図）特開２００３−５１２４９号公報（第２頁、第６図） In FIG. 7, a photomask necessary for forming the display electrode 4 composed of the scan electrode 2 and the sustain electrode 3 on the front glass substrate 1 of the PDP is shown in FIG. It is divided into 13b. In the two masks 13a and 13b, an opening portion 14a and an opening portion 14b corresponding to the shape of the display electrode 4 are formed with an overlapping region D, respectively. A mask 13a in the left A region is placed as shown in FIG. 7B in accordance with a CC line that is an intermediate line passing through the center of the front glass substrate 1, and exposure openings are patterned, thereby opening 14a. The left side portion of the display electrode 4 corresponding to is formed. Further, by aligning the CC line and the overlapping area D and placing the mask 13b in the right B area as shown in FIG. 7B and performing exposure patterning, a display corresponding to the opening 14b is obtained. The right side portion of the electrode 4 is formed, and the display electrode 4 including the scan electrode 2 and the sustain electrode 3 as shown in FIG. 7C is formed on the front glass substrate 1 as a continuous pattern. At this time, the opening 14a of the mask 13a and the opening 14b of the mask 13b overlap with each other in a region D having a predetermined width centered on the CC line.
JP-A-6-103903 (2nd page, FIG. 1) JP 2003-51249 A (2nd page, FIG. 6)

しかしながら、このような２枚のフォトマスク１３ａ、１３ｂを用いて走査電極２と維持電極３からなる表示電極４等のストライプ状のパターンを分割多重露光により形成すると、使用するレジスト等の感光性を有する材料がネガ型の場合、図８に示すように領域Ｄの部分においてストライプ状に形成された表示電極等の構造物の幅が他の部分よりも太くなる傾向がある。このように、ネガ型のレジスト等の感光性を有する材料を使った場合に、重なり合う領域Ｄにおいて各パターンの幅が他の部分よりも太くなるのは、露光時におけるフォトマスク１３ａ、１３ｂの位置合わせずれや領域Ｄにおいて２重に露光されること等によるものと考えられる。 However, if a striped pattern such as the display electrode 4 composed of the scanning electrode 2 and the sustaining electrode 3 is formed by the division multiple exposure using the two photomasks 13a and 13b, the sensitivity of the resist to be used is increased. When the material having the negative type is used, the width of the structure such as the display electrode formed in a stripe shape in the region D as shown in FIG. 8 tends to be thicker than the other portions. As described above, when a photosensitive material such as a negative resist is used, the width of each pattern in the overlapping region D is thicker than the other portions because the positions of the photomasks 13a and 13b at the time of exposure. This is considered to be due to misalignment or double exposure in the region D.

複数のフォトマスクを使用して、ネガ型レジスト等の感光性を有する材料で分割多重露光により形成した電極の幅が、パターンの重なり合う領域Ｄにおいて、他の部分よりも太くなる現象は、隣り合う電極同士が接触する可能性があるのみならず、このとき前面ガラス基板１には外観的に、重なり合う領域Ｄの部分に周囲よりも暗い筋が入っているように見え、表示ムラに代表される外観不良になることになり、解決課題であった。 The phenomenon that the width of the electrode formed by the division multiple exposure using a photosensitive material such as a negative resist using a plurality of photomasks becomes thicker than other portions in the region D where the patterns overlap is adjacent. Not only there is a possibility that the electrodes are in contact with each other, but at this time, the front glass substrate 1 appears to be darker than the surroundings in the overlapping region D, and is represented by display unevenness. It was a problem to be solved because the appearance would be poor.

一方、ポジ型のレジスト等の感光性材料で複数のフォトマスクを使用して、分割多重露光により電極等のストライプ状の構造物を形成する場合は、ネガ型レジスト等の感光性材料の場合とは逆に、重なり合う領域Ｄにおいてストライプ状に形成される構造物の幅が他の部分よりも細くなる場合がある。この場合、形成される構造物間に不接続部分が生じたり、工程途中で断線が発生したりする他に、前面ガラス基板１には外観的に、重なり合う領域Ｄの部分に周囲よりも明るい筋が入っているように見え、外観不良や表示不良になることになり、解決すべき課題となる。そして、重なり合う領域Ｄにおいてストライプ状に形成される構造物の幅が他の部分よりも細くなって断線等が生じることを避けるために、あらかじめ重なり合う領域Ｄにストライプ状のパターンの幅よりも太い連結パッドを形成する方法が提案されている（例えば、特開昭６１−１８０２７５号公報参照）が、連結パッドを形成するための追加工程を要し、連結パッド形成用のマスク等を別に準備する必要がある。 On the other hand, when using a plurality of photomasks with a photosensitive material such as a positive resist and forming a striped structure such as an electrode by division multiple exposure, in the case of a photosensitive material such as a negative resist On the contrary, the width of the structure formed in a stripe shape in the overlapping region D may be narrower than other portions. In this case, non-connected portions are formed between the structures to be formed, or disconnection occurs in the middle of the process. In addition, the front glass substrate 1 has a streak brighter than the surroundings in the overlapping region D in appearance. Will appear, and the appearance and display will be poor, which will be a problem to be solved. In order to prevent the structure formed in the stripe shape in the overlapping region D from being narrower than the other part and causing disconnection or the like, the overlapping region D is previously connected to the overlapping region D so as to be thicker than the width of the stripe pattern. A method of forming a pad has been proposed (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-180275), but requires an additional step for forming a connection pad, and a mask for forming the connection pad needs to be prepared separately. There is.

また、複数のフォトマスクを使用して分割多重露光によりストライプ状に電極等を形成する場合に、重なり合う領域において形成される電極等の構造物の幅が変化しないようにするために、重なり合う領域の露光量を制御したり、マスクまたは基板を微小震動させたりする方法等が種々提案（例えば、登録特許公報第２７４３４１０号参照）されているが、いずれも露光装置に特別の機能を追加するものであり、このような露光装置は高価であり、製造工数の大幅な増大をもたらすことになる。 In addition, when an electrode or the like is formed in a stripe shape by division multiple exposure using a plurality of photomasks, in order to prevent the width of a structure such as an electrode formed in the overlapping region from changing, Various methods have been proposed for controlling the amount of exposure and finely oscillating the mask or substrate (see, for example, Registered Patent Publication No. 2743410), all of which add special functions to the exposure apparatus. In addition, such an exposure apparatus is expensive, resulting in a significant increase in the number of manufacturing steps.

本発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、分割多重露光を利用して大型のＰＤＰのようなフラットディスプレイパネルを製造する場合においても、上記のような外観不良や表示不良の発生を抑制でき、表示品質の優れたフラットディスプレイパネルを提供することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems. Even when a flat display panel such as a large-sized PDP is manufactured by using division multiple exposure, the above-described appearance defect or display is not necessary. the occurrence of defective can be suppressed, and to provide an excellent flat display panel of the display quality.

上記目的を達成するために、本発明のフラットディスプレイパネルは、基板上に複数の構造物が所定方向に対して平行に形成されたフラットディスプレイパネルにおいて、透明電極を除くそれぞれの構造物の両端面に所定の幅と高さを有する複数の突起部または所定の幅と深さを有する複数の凹部が設けられている構成を有している。そして、構造物の平均線幅をｔとするとき、突起部ではその突起部の高さｈ _２が
０．０１ｔ≦ｈ_２≦０．５ｔ
の関係を満足し、凹部ではその凹部の深さｋ _２が
０．０１ｔ≦ｋ _２ ≦０．５ｔ
の関係を満足するように形成されている。さらに、構造物は表面板の走査電極および維持電極からなる表示電極、またはその表示電極の各補助電極、または表面板の遮光層、または表面板のブラックストライプ、または表面板のブラックマトリックスである。また、本発明のフラットディスプレイパネルは、突起部または凹部が、半楕円、半円、部分楕円、部分円、矩形、台形の内のいずれかの形状である構成、また、突起部または凹部は構造物の長手方向の中心線に対して対称に設けられている構成、また、構造物の両端面のうち一方の側の突起部または凹部は、構造物の両端面のうち他方の側の隣り合う突起部または凹部の間に位置する構成、また、突起部の幅、間隔距離をそれぞれｗ_２、ｐとするとき、ｗ_２、ｐに関して
ｗ_２≦ｐ≦２０００ｗ_２
の関係を満足するように形成されている構成、また、凹部の幅、間隔距離をそれぞれｗ_４、ｐとするとき、ｗ_４、ｐに関して
ｗ_４≦ｐ≦２０００ｗ_４
の関係を満足するように形成されている構成、また、互いに平行な複数の隔壁が所定方向に対して垂直に形成されており、それぞれの構造物の両端面に設けられる複数の突起部または凹部は、隔壁と重なる位置に形成されている構成、また、フラットディスプレイパネルはプラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤディスプレイ、ＳＥＤディスプレイの内のいずれかである構成、また構造物の画素間ギャップに対向する各端面に突起部または凹部が形成されている構成を有することもできる。 In order to achieve the above object, the flat display panel of the present invention is a flat display panel in which a plurality of structures are formed in parallel to a predetermined direction on a substrate, and both end surfaces of each structure excluding transparent electrodes. Are provided with a plurality of protrusions having a predetermined width and height or a plurality of recesses having a predetermined width and depth. When the average line width of the structure is t, the height h ₂ of the protrusion is 0.01 t ≦ h ₂ ≦ 0.5 t at the protrusion.
The depth k _{2 of the} concave portion is
0.01t ≦ k ₂ ≦ 0.5t
It is formed to satisfy the relationship . Further, the structure is a display electrode composed of a scanning electrode and a sustain electrode on the surface plate, each auxiliary electrode of the display electrode, a light shielding layer on the surface plate, a black stripe on the surface plate, or a black matrix on the surface plate. Further, the flat display panel of the present invention has a configuration in which the protrusions or recesses are any one of a semi-ellipse, a semi-circle, a partial ellipse, a partial circle, a rectangle, and a trapezoid, and the protrusions or the recesses have a structure. The structure provided symmetrically with respect to the center line in the longitudinal direction of the object, and the protrusions or recesses on one side of the both end faces of the structure are adjacent to the other side of the both end faces of the structure structure located between the projections or recesses, and the width of the protrusion, when the respective gap distance _w 2, _p, w with respect to _{_{w 2, p 2 ≦ p ≦}} 2000w 2
Configuration that is formed so as to satisfy the relationship, were or recess of width, when the respective gap distance _w 4, _p, w with respect to _{_{w 4, p 4 ≦ p ≦}} 2000w 4
And a plurality of protrusions or recesses provided on both end faces of each structure, wherein a plurality of partition walls parallel to each other are formed perpendicular to a predetermined direction. is configured is formed so as to overlap with the partition wall, also flat display panel is a plasma display, liquid crystal displays, organic EL displays, FED displays, among the pixels of the SED configured either of the display, or structure It can also have the structure by which the projection part or the recessed part is formed in each end surface facing a gap.

これらの構成により、複数のフォトマスクを使用して分割多重露光により製造した大型のＰＤＰ等のフラットディスプレイパネルにもかかわらず、パネル基板に形成する表示電極、遮光膜等の構造物にはそれぞれに隣り合って対向する各端面に複数の突起部が全体にわたって設けられているので、マスクの重なり合う部分で基板上に形成される構造物に生じたが太くなった突起形状が目立たなくなり、人間の目では検知できず、外観不良や表示不良の発生を抑制できるプラズマディスプレイパネルを提供することができる。 With these configurations, each structure such as a display electrode and a light-shielding film formed on the panel substrate is used in spite of a flat display panel such as a large PDP manufactured by division multiple exposure using a plurality of photomasks. Since a plurality of protrusions are provided over the end faces facing each other adjacent to each other, the thick protrusions formed on the structure formed on the substrate at the overlapping portions of the mask become inconspicuous, and human eyes Therefore, it is possible to provide a plasma display panel that cannot be detected and can suppress appearance defects and display defects.

本発明によれば、複数のフォトマスクを使用して分割多重露光により製造された場合でも、外観ムラや表示ムラ等の外観不良が抑制された大型のＰＤＰ等のプラットディスプレイパネルを得ることができる。 According to the present invention, even when manufactured by division multiple exposure using a plurality of photomasks, it is possible to obtain a platform display panel such as a large PDP in which appearance defects such as appearance unevenness and display unevenness are suppressed. .

以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

（実施の形態）
図１は本発明の実施の形態におけるＡＣ−ＰＤＰの一部を拡大して構造を示す分解斜視図である。既に、背景技術として図４を用いて従来のＡＣ−ＰＤＰの構造を説明したが、本発明の実施の形態におけるＡＣ−ＰＤＰは、ガラス製の前面板、背面板にそれぞれ行電極、列電極が直交配置され、画素（ピクセル）となる行・列両電極の交点および両基板間にある隔壁により放電空間を形成する構造において基本的に同じであり、図１において同じ構成要素には同一符号を付している。 (Embodiment)
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an enlarged structure of a part of an AC-PDP in an embodiment of the present invention. Although the structure of the conventional AC-PDP has already been described with reference to FIG. 4 as background art, the AC-PDP in the embodiment of the present invention has a row electrode and a column electrode on the glass front plate and the back plate, respectively. The structure is basically the same in the structure in which the discharge space is formed by the intersection of the row and column electrodes that form a pixel (pixel) and the partition wall between the two substrates, and in FIG. It is attached.

図１において、前面板２２には、透明な前面ガラス基板１上に放電ギャップをあけて平行に対向する順次表示用の走査電極２と放電の維持信号を入力するための維持電極３とで対をなしてストライプ状にいわゆる行電極にあたる表示電極４が複数対形成されている。この走査電極２および維持電極３は、それぞれＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−ＴｉｎＯｘｉｄｅ）やＳｎＯ_２等からなる透明電極２ａ、３ａと、この透明電極２ａ、３ａに電気的に接続された、例えば、銀等の厚膜や、また例えば、アルミニウム（Ａｌ）薄膜あるいはクロム（Ｃｒ）−銅（Ｃｕ）−クロム（Ｃｒ）の積層薄膜による補助電極（バス電極とも言う）２ｂ、３ｂとから構成されている。また、隣り合う維持電極３と走査電極２の対間に、表示面のコントラストを高めるため、ブラックマトリクスとなる遮光層（ＢＳ膜とも言う）５を必要に応じて形成することもある。そして、前面ガラス基板１には、複数対の表示電極４群を覆うように低融点ガラスからなる誘電体層６が形成され、その誘電体層６上にはＭｇＯからなる保護膜７が形成され、これらの各要素により前面板２２が構成されている。なお、表示電極４の補助電極（バス電極とも言う）２ｂ、３ｂは、前面ガラス基板１上に透明電極２ａ、３ａを形成後、コントラスト向上のため、先に暗色導電層を形成し、次いで所定の導体材料で導体層を形成する２層構造にしてもよい。 In FIG. 1, the front plate 22 is paired with a scanning electrode 2 for sequential display opposed to a transparent front glass substrate 1 in parallel with a discharge gap and a sustain electrode 3 for inputting a sustain signal for discharge. A plurality of pairs of display electrodes 4 corresponding to so-called row electrodes are formed in stripes. The scan electrode 2 and the sustain electrode 3 are respectively transparent electrodes 2a and 3a made of ITO (Indium-Tin Oxide), SnO ₂ or the like, and electrically connected to the transparent electrodes 2a and 3a, such as silver. Auxiliary electrodes (also called bus electrodes) 2b and 3b made of a thick film or an aluminum (Al) thin film or a laminated thin film of chromium (Cr) -copper (Cu) -chromium (Cr), for example. In addition, a light shielding layer (also referred to as a BS film) 5 serving as a black matrix may be formed between the pair of adjacent sustain electrodes 3 and scan electrodes 2 as necessary in order to increase the contrast of the display surface. A dielectric layer 6 made of low melting point glass is formed on the front glass substrate 1 so as to cover a plurality of pairs of display electrodes 4, and a protective film 7 made of MgO is formed on the dielectric layer 6. The front plate 22 is constituted by these elements. The auxiliary electrodes (also referred to as bus electrodes) 2b and 3b of the display electrode 4 are formed by forming a dark conductive layer in advance for improving contrast after forming the transparent electrodes 2a and 3a on the front glass substrate 1, and then forming a predetermined conductive layer. A two-layer structure in which the conductor layer is formed of the above-described conductor material may be used.

上記前面ガラス基板１に対向配置される背面ガラス基板８上には、前面ガラス基板１上の表示電極４と直交する方向に、下地誘電体層９で覆われて複数のいわゆる列電極にあたる表示データ信号を入力するためのデータ電極（アドレス電極とも言う）１０がストライプ状に形成されている。このデータ電極１０上の下地誘電体層９の上には、データ電極１０と並行してストライプ状の複数の隔壁１１が配置され、隔壁１１間の側面および下地誘電体層９の表面上にＲ（ｒｅｄ：赤色）、Ｇ（ｇｒｅｅｎ：緑色）、Ｂ（ｂｌｕｅ：青色）の３色を発光する蛍光体を塗布して蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂが形成されて、背面板２３が構成されている。 Display data corresponding to a plurality of so-called column electrodes covered with a base dielectric layer 9 in a direction orthogonal to the display electrodes 4 on the front glass substrate 1 is disposed on the rear glass substrate 8 opposed to the front glass substrate 1. Data electrodes (also referred to as address electrodes) 10 for inputting signals are formed in stripes. On the underlying dielectric layer 9 on the data electrode 10, a plurality of stripe-shaped partition walls 11 are arranged in parallel with the data electrode 10, and R on the side surface between the partition walls 11 and the surface of the underlying dielectric layer 9. The phosphor layers 12R, 12G, and 12B are formed by applying phosphors that emit three colors of red (red: red), G (green: green), and B (blue: blue) to form the back plate 23. ing.

そして、上記構成の前面板２２と背面板２３とは、走査電極２および維持電極３からなる行電極にあたる表示電極４と列電極にあたるデータ電極１０とが直交するように、微小な放電空間（または、放電セル）２４を挟んで対向配置されるとともに、周囲が封止され、例えば真空度１×１０^−４Ｐａ程度の圧力で高真空排気した後、放電空間２４には、放電ガスとして、ネオン（Ｎｅ）とキセノン（Ｘｅ）の混合ガスが所定の圧力で充填されている。例えば、放電ガスとして、９０体積％ネオン（Ｎｅ）−１０体積％キセノン（Ｘｅ）の混合ガスを圧力６６．５ｋＰａ（５００Ｔｏｒｒ）で封入している。また、放電空間２４は、隔壁１１によって複数の区画に仕切ることにより、表示電極４とデータ電極１０との交点が位置する複数の放電セルが設けられ、各放電セルには、前述したように青色、緑色および赤色の各蛍光体層１２Ｂ、１２Ｇ、１２Ｒが順次配置されてＰＤＰパネル２１が構成される。そして、維持電極３および走査電極２、データ電極１０に所定の信号の電圧パルスを印加することにより、封入された希ガスが励起され紫外線を放出し、その紫外線により下地誘電体層９、および隔壁１１上に設けられた蛍光体層１２Ｂ、１２Ｇ、１２Ｒが可視光を励起発光し、情報を表示することができる。なお、このようなＰＤＰを駆動する場合、任意のタイミングにおいて同じ駆動波形が全ての維持電極３に印加されるので、隣接して配置された維持電極３は前面ガラス基板１上で互いに接続されている。 The front plate 22 and the back plate 23 having the above-described configuration are arranged in a minute discharge space (or so that the display electrode 4 corresponding to the row electrode composed of the scan electrode 2 and the sustain electrode 3 and the data electrode 10 corresponding to the column electrode are orthogonal to each other. , The discharge cell) 24 are arranged opposite to each other, and the periphery is sealed. After high-vacuum evacuation at a pressure of about 1 × 10 ⁻⁴ Pa, for example, the discharge space 24 has neon as a discharge gas. A mixed gas of (Ne) and xenon (Xe) is filled at a predetermined pressure. For example, a mixed gas of 90% by volume neon (Ne) -10% by volume xenon (Xe) is enclosed as a discharge gas at a pressure of 66.5 kPa (500 Torr). In addition, the discharge space 24 is partitioned into a plurality of sections by the barrier ribs 11, so that a plurality of discharge cells where the intersections of the display electrodes 4 and the data electrodes 10 are located are provided, and each discharge cell has a blue color as described above. The green and red phosphor layers 12B, 12G, and 12R are sequentially arranged to form the PDP panel 21. Then, by applying a voltage pulse of a predetermined signal to the sustain electrode 3, the scan electrode 2, and the data electrode 10, the enclosed rare gas is excited to emit ultraviolet rays, and the ultraviolet rays are emitted by the ultraviolet rays, and the underlying dielectric layer 9 and the partition walls The phosphor layers 12B, 12G, and 12R provided on the substrate 11 can excite visible light and display information. When driving such a PDP, since the same drive waveform is applied to all the sustain electrodes 3 at an arbitrary timing, the sustain electrodes 3 arranged adjacent to each other are connected to each other on the front glass substrate 1. Yes.

次に、ＰＤＰの製造方法の全体について簡単に説明する。 Next, the entire method for manufacturing a PDP will be briefly described.

まず、前面ガラス基板１上に表示電極４の走査電極２および維持電極３をそれぞれ構成する透明電極２ａ、３ａを形成した後、走査電極２および維持電極３を透明電極２ａ、３ａとともにそれぞれ構成する補助電極２ｂ、３ｂと遮光層５を形成する。ここで、補助電極２ｂ、３ｂは、透明電極２ａ、３ａ上にコントラスト向上のために暗色導電層と、その上に所定の導電体で形成された導電層とで構成する２層構造で形成する方法も可能である。これらの形成方法については後述する。次に、透明電極２ａ、３ａ、補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を覆うように前面ガラス基板１上にガラスペーストをスクリーン印刷法等を用いて塗布した後、所定温度で所定時間（例えば５６０℃で２０分）焼成することによって所定の厚み（約２０μｍ）となるように誘電体層６を形成する。誘電体層６を形成するときに使用するガラスペーストとしては、例えば、ＰｂＯ（７０ｗｔ％）、Ｂ_２Ｏ_３（１５ｗｔ％）、ＳｉＯ_２（１０ｗｔ％）、およびＡｌ_２Ｏ_３（５ｗｔ％）と有機バインダ（例えば、α−ターピネオールに１０％のエチルセルローズを溶解したもの）との混合物が使用される。ここで、有機バインダとは樹脂を有機溶媒に溶解したものであり、エチルセルローズ以外に樹脂としてアクリル樹脂、有機溶媒としてブチルカービトール等も使用することができる。さらに、こうした有機バインダに分散剤（例えば、グリセルトリオレエート）を混入させてもよい。また、ペーストを用いてスクリーン印刷する代わりに、成型されたフィルム状の誘電体前駆体をラミネートして焼成することによって形成してもよい。 First, after forming transparent electrodes 2a and 3a constituting scanning electrode 2 and sustaining electrode 3 of display electrode 4 on front glass substrate 1, scanning electrode 2 and sustaining electrode 3 are configured with transparent electrodes 2a and 3a, respectively. The auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 are formed. Here, the auxiliary electrodes 2b and 3b are formed on the transparent electrodes 2a and 3a in a two-layer structure including a dark conductive layer for improving contrast and a conductive layer formed of a predetermined conductor thereon. A method is also possible. These forming methods will be described later. Next, after applying a glass paste on the front glass substrate 1 using a screen printing method or the like so as to cover the transparent electrodes 2a and 3a, the auxiliary electrodes 2b and 3b, and the light shielding layer 5, the glass paste is applied at a predetermined temperature for a predetermined time (for example, 560). The dielectric layer 6 is formed to have a predetermined thickness (about 20 μm) by firing at 20 ° C. for 20 minutes. Examples of the glass paste used when forming the dielectric layer 6 include PbO (70 wt%), B ₂ O ₃ (15 wt%), SiO ₂ (10 wt%), and Al ₂ O ₃ (5 wt%). A mixture with an organic binder (for example, 10% ethyl cellulose dissolved in α-terpineol) is used. Here, the organic binder is obtained by dissolving a resin in an organic solvent. In addition to ethyl cellulose, an acrylic resin can be used as the resin, and butyl carbitol can be used as the organic solvent. Furthermore, you may mix a dispersing agent (for example, glyceryl trioleate) in such an organic binder. Further, instead of screen printing using a paste, a molded film-like dielectric precursor may be laminated and fired.

次に、誘電体層６上に保護層７を形成する。保護層７は酸化マグネシウムからなり、真空蒸着法等の成膜プロセスにより、保護層７が所定の厚み（約０．５μｍ）となるように形成する。 Next, the protective layer 7 is formed on the dielectric layer 6. The protective layer 7 is made of magnesium oxide, and is formed so as to have a predetermined thickness (about 0.5 μm) by a film forming process such as a vacuum evaporation method.

このような方法により、前面ガラス基板１上に、構造物である走査電極２、維持電極３、遮光層５、誘電体層６、保護層７を形成して前面板２２が作製される。 By such a method, the front plate 22 is manufactured by forming the scanning electrode 2, the sustain electrode 3, the light shielding layer 5, the dielectric layer 6, and the protective layer 7 as structures on the front glass substrate 1.

また、背面ガラス基板８上にデータ電極１０をストライプ状に形成する。具体的には、背面ガラス基板８上に、データ電極１０の材料、例えば感光性Ａｇペーストを用い、スクリーン印刷法等により膜を形成し、その後、フォトリソグラフィー法等によってパターニングし、焼成することで形成することができる。 Further, the data electrodes 10 are formed in a stripe shape on the rear glass substrate 8. Specifically, a film is formed on the back glass substrate 8 by using a material of the data electrode 10, such as a photosensitive Ag paste, by a screen printing method or the like, and then patterned and baked by a photolithography method or the like. Can be formed.

次に、以上のようにして形成したデータ電極１０を覆うように下地誘電体層９を形成する。下地誘電体層９は、例えば、鉛系のガラス材料を含むガラスペーストを、例えば、スクリーン印刷で塗布した後、所定温度、所定時間（例えば５６０℃で２０分）焼成することによって、所定の層の厚み（約２０μｍ）となるように形成する。また、ガラスペーストをスクリーン印刷する代わりに、成型されたフィルム状の下地誘電体層前駆体をラミネートして焼成することによって形成しても良い。 Next, the base dielectric layer 9 is formed so as to cover the data electrode 10 formed as described above. The underlying dielectric layer 9 is formed by, for example, applying a glass paste containing a lead-based glass material by screen printing, for example, and then baking it at a predetermined temperature for a predetermined time (for example, 560 ° C. for 20 minutes). To a thickness of about 20 μm. Further, instead of screen-printing the glass paste, it may be formed by laminating and firing a molded film-like base dielectric layer precursor.

次に、隔壁１１を例えばストライプ状に形成する。隔壁１１は、Ａｌ_２Ｏ_３等の骨材とガラスフリットとを主剤とする感光性ペーストをスクリーン印刷法やダイコート法等により成膜し、フォトリソグラフィー法によりパターニングし、焼成することで形成することができる。または、例えば、鉛系のガラス材料を含むペーストを、例えば、スクリーン印刷法により所定のピッチで繰り返し塗布した後、焼成することによって形成してもよい。ここで、隔壁１１の間隙の寸法は、例えば３２インチ〜５０インチのＨＤ−ＴＶの場合、１３０μｍ〜２４０μｍ程度である。 Next, the partition wall 11 is formed in a stripe shape, for example. The partition wall 11 is formed by forming a photosensitive paste mainly composed of an aggregate such as Al ₂ O ₃ and glass frit by a screen printing method or a die coating method, patterning by a photolithography method, and baking. Can do. Alternatively, for example, a paste containing a lead-based glass material may be formed by repeatedly applying, for example, a screen printing method at a predetermined pitch and then baking. Here, the dimension of the gap between the partition walls 11 is about 130 μm to 240 μm, for example, in the case of an HD-TV of 32 inches to 50 inches.

そして、隔壁１１と隔壁１１との間の溝には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に発光する蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂを形成する。これは、各色の蛍光体粒子と有機バインダとからなるペースト状の蛍光体インキを塗布し、これを４００〜５９０℃の温度で焼成して有機バインダを焼失させることによって、各蛍光体粒子が結着してなる蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂとして形成する。 Then, phosphor layers 12R, 12G, and 12B that emit red (R), green (G), and blue (B) light are formed in the grooves between the barrier ribs 11. This is done by applying a paste-like phosphor ink composed of phosphor particles of each color and an organic binder, and firing the ink at a temperature of 400 to 590 ° C. to burn off the organic binder, thereby binding each phosphor particle. The formed phosphor layers 12R, 12G, and 12B are formed.

このような方法により、背面ガラス基板８上に、構造物であるデータ電極１０、下地誘電体層９、隔壁１１、蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂを形成して背面板２３が作製される。 By such a method, the back plate 23 is formed by forming the data electrode 10, the base dielectric layer 9, the partition 11, and the phosphor layers 12R, 12G, and 12B, which are structures, on the back glass substrate 8.

続いて、蛍光体層１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂ等の構造物を背面ガラス基板８に形成した背面板２３の周辺部に低融点ガラスフリットを塗布して乾燥させ、この背面板２３と保護層７等を前面ガラス基板１に形成した前面板２２とを対向配置して加熱処理を行うことにより、前面板２２と背面板２３とを低融点ガラスフリットにより封着する。その後、前面板２２と背面板２３との間の放電空間内を高真空（例えば１．１×１０^−４Ｐａ）に排気し、放電空間に放電ガスを封入して封じ切ることにより、ＰＤＰ２１が製造される。 Subsequently, a low-melting glass frit is applied to the peripheral portion of the back plate 23 formed with the structures such as the phosphor layers 12R, 12G, and 12B on the back glass substrate 8 and dried, and the back plate 23 and the protective layer 7 and the like are dried. The front plate 22 formed on the front glass substrate 1 is disposed oppositely and subjected to heat treatment, whereby the front plate 22 and the back plate 23 are sealed with a low melting glass frit. After that, the inside of the discharge space between the front plate 22 and the back plate 23 is evacuated to a high vacuum (for example, 1.1 × 10 ⁻⁴ Pa), and the discharge gas is sealed in the discharge space so that the PDP 21 is sealed. Manufactured.

次に、前面ガラス基板１上に補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を形成する方法の工程について図２を用いて説明する。図２は、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面板２２を製造するときの各工程における前面板２２の状態を示す断面図である。ここでは、透明電極２ａ、３ａ上に形成された暗色導電層とその上に形成された導電層とからなる２層構造の補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５の形成法について説明する。 Next, steps of a method for forming the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 on the front glass substrate 1 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the state of front plate 22 in each process when manufacturing front plate 22 of the PDP in the embodiment of the present invention. Here, the transparent electrodes 2 a, the auxiliary electrode 2b having a two-layer structure of the dark conductive layer formed on 3a and the conductive layer formed thereon, the 3b and the method for forming the light shielding layer 5 will be described.

図２において、まず、スパッタリング法により前面ガラス基板１上のほぼ全面にＩＴＯ膜を形成した後、エッチングによりパターニングすることにより、図２（ａ）に示すように所定のパターン（ストライプ状）の透明電極２ａ、３ａを形成する。 In FIG. 2, first, an ITO film is formed on almost the entire surface of the front glass substrate 1 by a sputtering method, and then patterned by etching, whereby a predetermined pattern (striped) is transparent as shown in FIG. Electrodes 2a and 3a are formed.

次に、図２（ｂ）に示すように、スクリーン印刷法を利用して補助電極２ｂ、３ｂとなる材料を透明電極２ａ、３ａを覆うように前面ガラス基板１のほぼ全面に塗布することにより、暗色導電層となる第１のペースト層１５および導電層となる第２のペースト層１６を順次積層形成する。第１のペースト層１５および第２のペースト層１６はともに感光性を有している。第１のペースト層１５は黒色顔料、無機バインダおよび感光性樹脂成分を含む感光性ペーストを用いて形成され、第２のペースト層１６はＡｇ等の導電性材料、無機バインダおよび感光性樹脂成分を含む感光性ペーストを用いて形成される。また、黒色顔料として例えば、酸化ルテニウムやルテニウム複合酸化物のような導電性材料を用いることができる。導電性のない黒色顔料を用いる場合には、さらにＡｇ等の導電性材料を含ませればよい。そして、無機バインダとして例えばガラスフリットを使用することができる。 Next, as shown in FIG. 2 (b), a material to be the auxiliary electrodes 2b and 3b is applied to almost the entire surface of the front glass substrate 1 so as to cover the transparent electrodes 2a and 3a by using a screen printing method. Then, the first paste layer 15 to be the dark conductive layer and the second paste layer 16 to be the conductive layer are sequentially stacked. Both the first paste layer 15 and the second paste layer 16 have photosensitivity. The first paste layer 15 is formed using a photosensitive paste containing a black pigment, an inorganic binder, and a photosensitive resin component, and the second paste layer 16 contains a conductive material such as Ag, an inorganic binder, and a photosensitive resin component. It is formed using the photosensitive paste containing. Further, as the black pigment, for example, a conductive material such as ruthenium oxide or ruthenium composite oxide can be used. When a non-conductive black pigment is used, a conductive material such as Ag may be further included. For example, glass frit can be used as the inorganic binder.

次に、図２（ｃ）に示すように、補助電極２ｂ、３ｂのパターンに対応した所定の開口部１４を有するフォトマスク１３を用いて第１のペースト層１５および第２のペースト層１６を露光する。続いて、現像することによりパターニングした後、６００℃程度の温度で焼成することにより、図２（ｄ）に示すように透明電極２ａ、３ａ上に補助電極２ｂ、３ｂが形成される。遮光層５についても同様に、黒色顔料、無機バインダおよび感光性樹脂成分を含む感光性ペーストを前面ガラス基板１上に塗布して感光性材料層を形成し、遮光層５のパターンに対応した所定の開口部を有するフォトマスクを用いて感光性材料層を露光して現像し、６００℃で焼成することにより形成される。 Next, as shown in FIG. 2C, the first paste layer 15 and the second paste layer 16 are formed using a photomask 13 having a predetermined opening 14 corresponding to the pattern of the auxiliary electrodes 2b and 3b. Exposure. Subsequently, after patterning by development, baking is performed at a temperature of about 600 ° C., thereby forming auxiliary electrodes 2 b and 3 b on the transparent electrodes 2 a and 3 a as shown in FIG. Similarly, for the light shielding layer 5, a photosensitive paste containing a black pigment, an inorganic binder and a photosensitive resin component is applied on the front glass substrate 1 to form a photosensitive material layer, and a predetermined pattern corresponding to the pattern of the light shielding layer 5 is formed. The photosensitive material layer is exposed and developed using a photomask having a plurality of openings, and is baked at 600 ° C.

なお、上述した方法では、第１のペースト層１５および第２のペースト層１６はともに感光性を有する材料を使用しているが、第１のペースト層１５および第２のペースト層１６用の材料についてはともに非感光性の材料を用いて前面ガラス基板１のほぼ全面に図２（ｂ）に示すように塗布した後、さらに感光性を有するレジスト膜を全面に塗布してから、図２（ｃ）、および図２（ｄ）の工程を行うことも可能である。 In the above-described method, the first paste layer 15 and the second paste layer 16 both use photosensitive materials, but the materials for the first paste layer 15 and the second paste layer 16 are used. 2 is applied to almost the entire surface of the front glass substrate 1 using a non-photosensitive material as shown in FIG. 2B, and then a resist film having photosensitivity is further applied to the entire surface, and then FIG. It is also possible to perform the process of c) and FIG.2 (d).

また、図示していないが、遮光層５については、図２（ｄ）に示した構成要素、すなわち透明電極２ａ、３ａ、補助電極２ｂ、３ｂ等の構造物を形成後に、前面ガラス基板１のほぼ全面に感光性を有する遮光膜５用材料を塗布するか、または非感光性の遮光膜５用材料に続いて感光性を有するレジスト膜を塗布して露光、パターニングすることにより形成することができる。 Although not shown, the light-shielding layer 5 is formed of the components shown in FIG. 2D, that is, after the structures such as the transparent electrodes 2a and 3a and the auxiliary electrodes 2b and 3b are formed. It can be formed by applying a light-sensitive material for the light-shielding film 5 on almost the entire surface, or applying a photosensitive resist film following the non-photosensitive material for the light-shielding film 5 and exposing and patterning. it can.

上記の説明は、複数枚のフォトマスクを使用するような分割露光を必要としない通常のサイズのＰＤＰの前面ガラス基板１への補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を形成をする工程に対するものである。表示領域のサイズが１００インチを超えるような大画面のＰＤＰの前面ガラス基板１に補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を形成する場合、背景技術において述べたように、複数の領域のフォトマスクに分割して、それぞれの分割領域で露光を行う分割多重露光を用いる方法が必要になる。 The above description is for the process of forming the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 on the front glass substrate 1 of a normal size PDP that does not require divided exposure using a plurality of photomasks. is there. When the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 are formed on the front glass substrate 1 of a large-screen PDP having a display area size exceeding 100 inches, as described in the background art, a photomask of a plurality of areas is used. A method using division multiple exposure in which division is performed and exposure is performed in each divided region is necessary.

以下に、本発明の実施の形態における表示領域のサイズが１００インチを超えるような大画面のＰＤＰの前面ガラス基板１へ分割多重露光により補助電極２ｂ、３ｂおよび遮光層５を形成する方法について、図３、図４を用いて説明する。図３（ａ）は本発明の実施の形態において２枚に分割して分割多重露光に用いるフォトマスクの例を示す平面図、図３（ｂ）は本発明の実施の形態において２枚に分割したフォトマスクを用いて分割多重露光により基板上に形成されたパターンの例を示す平面図、図４は本発明の実施の形態においてフォトマスク内に描かれたストライプ状の構成要素の概略形状を例示する平面図である。 Hereinafter, a method of forming the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 by the division multiple exposure on the front glass substrate 1 of the large-screen PDP having a display area size exceeding 100 inches in the embodiment of the present invention. This will be described with reference to FIGS. FIG. 3A is a plan view showing an example of a photomask that is divided into two sheets and used for divided multiple exposure in the embodiment of the present invention, and FIG. 3B is divided into two sheets in the embodiment of the present invention. FIG. 4 is a plan view showing an example of a pattern formed on a substrate by division multiple exposure using the photomask obtained, and FIG. 4 shows a schematic shape of the stripe-like component drawn in the photomask in the embodiment of the present invention. It is a top view illustrated.

図３において、ＰＤＰの前面ガラス基板１の構成要素、すなわち走査電極２と維持電極３からなる表示電極４を構成する補助電極２ｂ、３ｂや遮光層５等のストライプ状の構造物である構成要素を形成するのに必要なフォトマスクを、図３（ａ）に示すように２枚のマスク１３ｃ、１３ｄに分割している。ここでは、前面ガラス基板１に形成するストライプ状の構成要素を補助電極２ｂ、３ｂとして説明するが、遮光層５の場合も同様に形成できる。２枚のマスク１３ｃ、１３ｄにはそれぞれの構成要素である補助電極２ｂ、３ｂの形状に対応する開口部１４ｃ、開口部１４ｄがそれぞれ重なり部の領域Ｄを有して形成されている。左側のＡ領域のマスク１３ｃを前面ガラス基板１の中心を通る中間線であるＣ−Ｃ線に合わせて載置して露光パターニングすることにより、開口部１４ｃに対応する構成要素である補助電極２ｂ、３ｂの左側部分が形成される。さらに、右側のＢ領域のマスク１３ｄをＣ−Ｃ線と重なり部の領域Ｄを合わせて載置して露光パターニングすることにより、開口部１４ｄに対応する構成要素である補助電極２ｂ、３ｂの右側部分が形成され、図３（ｂ）に示すような走査電極２と維持電極３からなる表示電極４を構成する補助電極２ｂ、３ｂが連続するパターンとして前面ガラス基板１に形成される。このとき、Ｃ−Ｃ線を中心にした所定の幅の領域Ｄにおいてマスク１３ｃの開口部１４ｃとマスク１３ｄの開口部１４ｄが重なるようになっている。なお、図３（ａ）に示した２枚のマスク１３ｃ、１３ｄには補助電極２ｂ、３ｂの電極端子部１７ｃ、１７ｄに対応する部分も描いてあるが、遮光層５の形成に用いるマスクの場合にはこの部分は必要ない。 In FIG. 3, the constituent elements of the front glass substrate 1 of the PDP, that is, the constituent elements that are striped structures such as the auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 that constitute the display electrode 4 composed of the scanning electrode 2 and the sustaining electrode 3 The photomask necessary for forming the film is divided into two masks 13c and 13d as shown in FIG. Here, the striped components formed on the front glass substrate 1 will be described as the auxiliary electrodes 2b and 3b, but the light shielding layer 5 can be formed in the same manner. In the two masks 13c and 13d, an opening portion 14c and an opening portion 14d corresponding to the shapes of the auxiliary electrodes 2b and 3b, which are the respective constituent elements, are formed so as to have an overlapping region D, respectively. The auxiliary electrode 2b, which is a component corresponding to the opening 14c, is placed by aligning the mask 13c on the left side A with the CC line that is an intermediate line passing through the center of the front glass substrate 1 and performing exposure patterning. 3b is formed. Further, by placing the mask 13d in the right B region on the CC line and the overlapping region D and performing exposure patterning, the right side of the auxiliary electrodes 2b and 3b, which are constituent elements corresponding to the opening 14d. A portion is formed, and the auxiliary electrodes 2b and 3b constituting the display electrode 4 including the scan electrode 2 and the sustain electrode 3 as shown in FIG. 3B are formed on the front glass substrate 1 as a continuous pattern. At this time, the opening 14c of the mask 13c and the opening 14d of the mask 13d overlap each other in a region D having a predetermined width centered on the line CC. Although the portions corresponding to the electrode terminal portions 17c and 17d of the auxiliary electrodes 2b and 3b are drawn on the two masks 13c and 13d shown in FIG. 3A, the masks used for forming the light shielding layer 5 are also shown. This part is not necessary in some cases.

具体的には、本発明の実施の形態における表示領域のサイズが１００インチを超えるような大画面のＰＤＰの製造に際しては、図２、図３に示したように、あらかじめ感光性を有する材料を用いて前面ガラス基板１上全面に形成された暗色導電層となる第１のペースト層１５および導体層となる第２のペースト層１６をＡ領域とＢ領域とに分割し、Ａ領域は開口部１４ｃを有するフォトマスク１３ｃで露光した後、Ｂ領域は開口部１４ｄを有するフフォトマスク１３ｄで露光する。このとき、Ｂ領域を先に露光し、次にＡ領域を露光してもよい。また、ともに非感光性の第１のペースト層１５および第２のペースト層１６を塗布した後に、感光性を有するレジスト膜を塗布してから、Ａ領域とＢ領域とで分割露光することもできる。 Specifically, when manufacturing a large-screen PDP having a display area size exceeding 100 inches in the embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 2 and 3, a photosensitive material is used in advance. The first paste layer 15 to be a dark conductive layer and the second paste layer 16 to be a conductor layer formed on the entire surface of the front glass substrate 1 are divided into an A region and a B region. After the exposure with the photomask 13c having 14c, the region B is exposed with the photomask 13d having the opening 14d. At this time, the B area may be exposed first, and then the A area may be exposed. In addition, after applying both the non-photosensitive first paste layer 15 and the second paste layer 16, a photosensitive resist film is applied, and then the A and B regions can be separately exposed. .

そして、このような２枚のフォトマスク１３ｃ、１３ｄをそのまま用いて補助電極２ｂ、３ｂ等のストライプ状の構造物である構成要素を分割多重露光により形成すると、使用するレジスト等の感光性を有する材料がネガ型の場合、領域Ｄの部分において形成されるストライプ状の構成要素の所定の線幅（例えば１００μｍ程度）が他の部分よりも太くなり、ポジ型のレジスト等の感光性を有する材料を使用する場合は、領域Ｄの部分において形成されるストライプ状の構成要素の線幅が他の部分よりも細くなって、前面ガラス基板１には外観的に、重なり合う領域Ｄの部分に周囲よりも暗い筋（ネガ型レジストの場合）、あるいは明るい筋（ポジ型レジストの場合）が入っているように見え、外観不良や表示不良になることは既に背景技術としても述べた。なお、重なり合う領域Ｄの部分で形成されるストライプ状の構成要素の線幅が他の部分よりも太くなる、あるいは細くなる度合いは１〜５％程度である。また、図３では、フォトマスク１３ｃおよびフォトマスク１３ｄにおける、それぞれの開口部１４ｃおよび開口部１４ｄを黒い太線で描いて示しているが、マスクの外観を概略的に理解できるように便宜的に描画したものでる。実際には、ネガ型レジスト等の感光性を有する材料を使用する場合は、開口部１４ｃおよび開口部１４ｄを白抜きパターンにし、開口部以外は黒く描画して示した方が現実のマスクのパターンらしくなる。 Then, by using the two photomasks 13c and 13d as they are and forming the constituent elements that are striped structures such as the auxiliary electrodes 2b and 3b by the division multiple exposure, the resist such as the resist to be used has photosensitivity. In the case where the material is a negative type, a predetermined line width (for example, about 100 μm) of the stripe-shaped component formed in the region D is thicker than the other portions, and a photosensitive material such as a positive resist Is used, the line width of the stripe-shaped component formed in the region D is narrower than that of the other portions, so that the front glass substrate 1 has an appearance that overlaps with the region of the overlapping region D from the periphery. It seems that dark streaks (in the case of negative resists) or light streaks (in the case of positive resists) are included, and it is already background technology that appearance and display defects are caused. I mentioned to. In addition, the degree to which the line width of the stripe-shaped component formed in the overlapping region D portion becomes thicker or thinner than other portions is about 1 to 5%. Further, in FIG. 3, the respective openings 14c and 14d in the photomask 13c and the photomask 13d are drawn with black thick lines, but are drawn for convenience so that the appearance of the mask can be roughly understood. It is what you did. Actually, when a photosensitive material such as a negative resist is used, the actual mask pattern is shown by making the opening 14c and the opening 14d white. It becomes like.

そして、上述のような外観不良の発生を抑えるために、本発明の実施の形態における表示領域のサイズが１００インチを超えるような大画面のＰＤＰでは、前面ガラス基板１へ分割多重露光によりストライプ状の構成要素を形成するのに用いるフォトマスクは、ストライプ状の構成要素に対応する開口部を、例えば図４（ａ）〜図４（ｊ）に例示するような形状に設計している。図４（ａ）〜図４（ｊ）に示した例は、それぞれ補助電極２ｂ、３ｂ、または遮光層５等のストライプ状の構造物、すなわち構成要素を前面ガラス基板１に分割多重露光で形成するのに用いるフォトマスクのストライプ状の構成要素に対応する開口部の１本分のみを領域Ｄで重なり合うように模式的に示している。そして、図４（ａ）〜図４（ｅ）はネガ型レジストを用いる場合のフォトマスクのパターンである。 Then, in order to suppress the occurrence of the appearance defect as described above, in the PDP having a large screen in which the size of the display area in the embodiment of the present invention exceeds 100 inches, the front glass substrate 1 is striped by division multiple exposure. In the photomask used to form the component, the opening corresponding to the stripe-shaped component is designed to have a shape illustrated in FIGS. 4A to 4J, for example. In the example shown in FIGS. 4A to 4J, the stripe-shaped structure such as the auxiliary electrodes 2b and 3b or the light shielding layer 5, that is, the constituent elements are formed on the front glass substrate 1 by the division multiple exposure. Only one opening corresponding to the stripe-shaped component of the photomask used for this is schematically shown so as to overlap in the region D. 4A to 4E show photomask patterns when a negative resist is used.

既に述べたが、ネガ型のレジストを用いて、Ａ領域である開口部１４ｃを有するフォトマスクとＢ領域である開口部１４ｄを有するフォトマスクを領域Ｄで重なり合うように分割多重露光してストライプ状の構成要素を形成すると、図４（ａ）に示すように、領域Ｄの上下部分に点線で示すように、ストライプ状のパターンの幅が他の部分よりも太くなる突起形状１８ａ、１８ｂが生じる。そこで、本発明では、ネガ型レジストを用いる場合のフォトマスクのパターンの例として図４（ａ）〜図４（ｅ）に示したが、ストライプ状の構成要素に対応する開口部１４ｃの上下端部および開口部１４ｄの上下端部にそれぞれ複数個の突起形状と同様な形状の突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄを設けたフォトマスクを用いてストライプ状の構成要素を形成している。なお、これらの図中では開口部１４ｃ、１４ｄのパターンの部分を含めて全体をハッチングを施しているが、ネガ型レジストに使用するフォトマスクの場合、開口部に相当する部分のみが露光用の光を透過し、他の部分は光を透過しない。 As described above, a negative resist is used, and a photomask having an opening 14c that is an A region and a photomask having an opening 14d that is a B region are divided and subjected to multiple multiple exposure so as to overlap in the region D, thereby forming a stripe shape. As shown in FIG. 4A, as shown in FIG. 4A, as shown by dotted lines in the upper and lower portions of the region D, protrusion shapes 18a and 18b are generated in which the width of the stripe pattern is thicker than other portions. . Therefore, in the present invention, examples of photomask patterns in the case of using a negative resist are shown in FIGS. 4A to 4E, but the upper and lower ends of the opening 14c corresponding to the stripe-shaped components are shown. Stripe-shaped components are formed using a photomask provided with protrusions 17a, 17b, 17c, and 17d having a plurality of protrusions on the upper and lower ends of the opening and the opening 14d. In these figures, the entire pattern including the pattern portions of the openings 14c and 14d is hatched. However, in the case of a photomask used for a negative resist, only the portion corresponding to the openings is exposed. Light is transmitted and other parts do not transmit light.

これにより、形成されたストライプ状の構成要素には突起形状１８ａ、１８ｂと突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄとが全体にわたって存在するので、目立たなくなり、人間の目では検知できず外観ムラ、表示ムラといった外観不良の発生を抑制することが可能になる。なお、図４（ａ）に示した突起部はストライプ状の構成要素の長手方向の中心線に対して対称に設けているが、このような配置に限定されることはなく、図４（ｂ）に示すように、例えばストライプ状の構成要素の上側に一方に設けた突起部と突起部の間の位置に来るようにストライプ状の構成要素の下側にもう一方の突起部を設けてもよい。 As a result, the formed stripe-shaped components have protrusions 18a and 18b and protrusions 17a, 17b, 17c, and 17d throughout, so that they are inconspicuous and cannot be detected by the human eye, and uneven appearance and display It is possible to suppress appearance defects such as unevenness. The protrusions shown in FIG. 4A are provided symmetrically with respect to the longitudinal center line of the stripe-shaped component, but the arrangement is not limited to this, and FIG. ), For example, the other protrusion may be provided on the lower side of the stripe-shaped component so as to be positioned between the protrusion on one side of the stripe-shaped component and the protrusion. Good.

つぎに、このような突起部の形状、大きさ、配置位置について簡単に説明する。図５（ａ）は図４（ａ）に示したフォトマスクのストライプ状の構成要素に対応する開口部について重なり合う領域Ｄの近傍の部分拡大図である。ここで、ストライプ状の構成要素に対応する開口部の平均線幅をｔ_１とし、Ａ領域である開口部１４ｃを有するフォトマスクとＢ領域である開口部１４ｄを有するフォトマスクが重なり合う領域Ｄの幅をｄとする。また、分割多重露光して形成されるストライプ状の構成要素の重なり合う領域Ｄの上下部分に生ずる突起形状１８ａ、１８ｂの高さと幅をそれぞれｈ_１、ｗ_１とする。そして、突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄは全て同じ形状と仮定し、各突起部の高さ、幅（または長さ）と突起部間の間隔距離（ピッチ）をそれぞれｈ_２、ｗ_２、ｐとする。フォトエッチング工程に使用する露光光源の波長をλとすると、ｈ_１、ｗ_１はそれぞれλ、ｔ_１、ｄの関数となる。また、このとき形成される構成要素の平均線幅をｔとすると、近似的にｔ≒ｔ_１である。 Next, the shape, size, and arrangement position of such a protrusion will be briefly described. FIG. 5A is a partially enlarged view in the vicinity of the region D where the openings corresponding to the stripe-shaped components of the photomask shown in FIG. Here, the average line width of the openings corresponding to the components of the stripe and t _1, the region D photomask overlap with an opening 14d is photomask and B region with an opening 14c is A region Let the width be d. Further, the heights and widths of the protrusion shapes 18a and 18b generated in the upper and lower portions of the overlapping region D of the stripe-shaped components formed by the division multiple exposure are h ₁ and w ₁ , respectively. The protrusions 17a, 17b, 17c, and 17d are all assumed to have the same shape, and the height, width (or length) of each protrusion and the distance between the protrusions (pitch) are set to h ₂ , w ₂ , Let p. If the wavelength of the exposure light source used in the photoetching process is λ, h ₁ and w ₁ are functions of λ, t ₁ , and d, respectively. Further, assuming that the average line width of the components formed at this time is t, approximately t≈t ₁ .

具体的な補助電極２ｂと補助電極３ｂの線幅ｔ_１は例えば１００μｍ程度であり、その配列ピッチ（補助電極２ｂと補助電極３ｂの中心間距離）は例えば３００μｍ〜６００μｍ程度である。そして、突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄの形状、大きさは、突起形状１８ａ、１８ｂの形状、大きさにそれぞれ近づけて設定する。すなわち、ｗ_２≒ｗ_１、ｈ_２≒ｈ_１とすることが望ましい。そして、突起形状１８ａ、１８ｂの高さｈ_１と幅ｗ_１については、以下の（式１）、（式２）示すような関係があることが試作実験により経験的に知られている。 Specific auxiliary electrode 2b and the auxiliary electrode 3b line width _{t 1} of for example 100μm approximately, (center-to-center distance between the auxiliary electrode 2b auxiliary electrode 3b) arrangement pitch is, for example, about 300Myuemu～600myuemu. The shapes and sizes of the protrusions 17a, 17b, 17c, and 17d are set close to the shapes and sizes of the protrusion shapes 18a and 18b, respectively. That is, it is desirable that w ₂ ≈w ₁ and h ₂ ≈h ₁ . Further, it is empirically known that the heights h ₁ and the widths w ₁ of the protrusion shapes 18a and 18b have a relationship as shown in the following (Equation 1) and (Equation 2).

０．２５ｄ≦ｗ_１≦５．０ｄ・・・（式１）
０．０１ｔ_１≦ｈ_１≦０．５ｔ_１・・・（式２）
したがって、突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄの幅ｗ_２については、０．２５ｄ≦ｗ_２≦５．０ｄ、高さについては、０．０１ｔ_１≦ｈ_２≦０．５ｔ_１に設定することが好ましい。また、各突起部の高さｈ_２は、形成される各構成要素の長手方向に平行な端面の平滑度に比べて十分差のあるレベルに設定している。 0.25d ≦ w ₁ ≦ 5.0d (Formula 1)
_{_{_{0.01t 1 ≦ h 1 ≦ 0.5t 1}}} ··· ( Formula 2)
Thus, the projections 17a, 17b, 17c, 17d width _{w 2} of, 0.25d ≦ _{w 2} ≦ 5.0D, the height, be set to 0.01t _₁ ≦ _{h 2} ≦ 0.5t ₁ Is preferred. The height h ₂ of the protrusions is set to a level with sufficient difference in comparison to smoothness of the end face parallel to the longitudinal direction of the components formed.

一方、隣り合うそれぞれの突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄ間の間隔距離（ピッチ）ｐについては、図４（ｃ）に示すような、ｐ＝ｗ_２（≒ｗ_１）に設定すれば、縦スジ状の明暗ムラとなる表示不良はほとんどなくなるが、この設定では表示セルの開口率を実質的に下げることになって表示輝度の低下を伴う。一方、間隔距離ｐを大きくするとともに、突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄを規則的に配列させずに散在させた場合もムラや表示不良は目立たなくなる。したがって、本発明の実施の形態における表示領域のサイズが１００インチを超えるような大画面のＰＤＰの前面ガラス基板１に分割多重露光で形成するのに用いるフォトマスクでは、表示ムラと表示輝度のトレードオフの関係を考慮して、ｗ_２≦ｐ≦２０００ｗ_２に設定している。 On the other hand, the interval distance (pitch) p between the adjacent protrusions 17a, 17b, 17c, and 17d is set to p = w ₂ (≈w ₁ ) as shown in FIG. Although display defects such as vertical stripes of light and dark unevenness are almost eliminated, this setting substantially lowers the aperture ratio of the display cells, resulting in a decrease in display luminance. On the other hand, when the distance p is increased and the protrusions 17a, 17b, 17c, and 17d are scattered without being regularly arranged, unevenness and display defects are not noticeable. Therefore, in the photomask used for forming the front glass substrate 1 of the large-screen PDP having a display area size exceeding 100 inches in the embodiment of the present invention by division multiple exposure, the trade-off between display unevenness and display luminance is achieved. In consideration of the off relationship, w ₂ ≦ p ≦ 2000 w ₂ is set.

また、突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄの形状は、突起形状１８ａ、１８ｂの形状が部分楕円状の形状を有しているので、図４（ａ）〜図４（ｃ）には、模式的に半楕円状（または半円状）に近い形状として示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図４（ａ）、図４（ｂ）にそれぞれ対応させて、図４（ｄ）、図４（ｅ）に示したようにストライプ状の構成要素に段差をつけるような突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄの形状または台形形状に設定することも可能である。さらに、図４（ａ）〜図４（ｅ）においては、ストライプ状の構成要素のＡ領域の開口部１４ｃとＢ領域の開口部１４ｄで同じ線幅にしているが、Ａ領域の開口部１４ｃとＢ領域の開口部１４ｄで異なる線幅とすることも可能である。 Further, the shape of the protrusions 17a, 17b, 17c, and 17d is schematically shown in FIGS. 4A to 4C because the shapes of the protrusions 18a and 18b are partially elliptical. Although a shape close to a semi-elliptical shape (or a semi-circular shape) is shown, the present invention is not limited to this. For example, corresponding to FIGS. 4 (a) and 4 (b), as shown in FIGS. 4 (d) and 4 (e), a protrusion 17a that forms a step on the stripe-shaped component, It is also possible to set the shape of 17b, 17c, 17d or a trapezoidal shape. Further, in FIGS. 4A to 4E, the opening 14c in the A region of the stripe-shaped component and the opening 14d in the B region have the same line width, but the opening 14c in the A region. It is also possible to have different line widths in the opening 14d in the B region.

上記の図４（ａ）〜図４（ｅ）、図５（ａ）を用いた本発明の実施の形態における大画面のＰＤＰの前面ガラス基板１に分割多重露光で形成するのに用いるフォトマスクの開口部の形状の説明は、ネガ型のレジスト等の感光性材料を用いて製造する場合の例であった。しかしながら、ネガ型で４はなくポジ型のレジスト等の感光性材料を用いる場合は、ネガ型レジスト等の感光性材料用のフォトマスクの開口部に相当する部分が遮光部となって、構成要素となる補助電極２ｂ、３ｂや遮光層５が形成される。ネガ型レジスト等の感光性材料用のフォトマスクのＡ領域の開口部１４ｃとＢ領域の開口部１４ｄをそれぞれをポジ型レジスト等の感光性材料用のフォトマスクのＡ領域の遮光部１４ｅとＢ領域の遮光部１４ｆとすると、ポジ型レジスト等の感光性材料用のフォトマスクにおいて遮光部１４ｅと遮光部１４ｆとの重なり合う領域Ｄで、前面ガラス基板１に形成されるストライプ状の構成要素の線幅は細くなる。実際、ネガ型のレジスト等の感光性材料を用いて、Ａ領域である遮光部１４ｅを有するフォトマスクとＢ領域である遮光部１４ｆを有するフォトマスクを領域Ｄで重なり合うように分割多重露光してストライプ状の構成要素を形成すると、図４（ｆ）の領域Ｄの上下部分に点線で示すように、形成されるストライプ状の構成要素の線幅が他の部分よりも細くなる凹面形状２０ａ、２０ｂが生じるので、本発明では、ポジ型レジスト等の感光性材料を用いる場合のフォトマスクのパターンの例として図４（ｆ）〜図４（ｊ）に示したが、ストライプ状の構成要素に対応する遮光部１４ｃの上下端部および遮光部１４ｄの上下端部に凹面形状と同様な形状のそれぞれ複数個所の凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄを設けたフォトマスクを用いてストライプ状の構成要素を形成している。ポジ型レジスト等の感光性材料の場合は、図４（ｆ）〜図４（ｊ）の遮光部１４ｅおよび遮光部１４ｆは黒く塗って描画して示した方が現実のマスクのパターンらしくなる。なお、これらのポジ型レジスト等の感光性材料に使用するフォトマスクの場合も、図中では遮光部１４ｅ、１４ｆのパターンの部分を白抜き状に示しているが、遮光部１４ｅ、１４ｆに相当する部分は露光用の光を透過せず、図中でハッチングを施した他の部分が光を透過する。 Photomask used for forming by division multiple exposure on front glass substrate 1 of the large-screen PDP in the embodiment of the present invention using FIGS. 4 (a) to 4 (e) and 5 (a). The description of the shape of the opening was an example in the case of manufacturing using a photosensitive material such as a negative resist. However, in the case of using a negative photosensitive material such as a positive resist instead of 4, a portion corresponding to the opening of the photomask for the photosensitive material such as a negative resist serves as a light shielding portion. The auxiliary electrodes 2b and 3b and the light shielding layer 5 are formed. The opening 14c in the A region and the opening 14d in the B region of a photomask for a photosensitive material such as a negative resist are respectively connected to the light shielding portions 14e and B in the A region of a photomask for a photosensitive material such as a positive resist. As the light shielding portion 14f of the region, the stripe-shaped component lines formed on the front glass substrate 1 in the region D where the light shielding portion 14e and the light shielding portion 14f overlap in a photomask for a photosensitive material such as a positive resist. The width becomes narrower. Actually, by using a photosensitive material such as a negative resist, the photomask having the light shielding portion 14e which is the A region and the photomask having the light shielding portion 14f which is the B region are subjected to the division multiple exposure so as to overlap in the region D. When the stripe-shaped component is formed, as shown by dotted lines in the upper and lower portions of the region D in FIG. 4 (f), the concave shape 20a in which the line width of the formed stripe-shaped component is narrower than the other portions, In the present invention, examples of photomask patterns in the case of using a photosensitive material such as a positive resist are shown in FIGS. 4 (f) to 4 (j). Using a photomask provided with a plurality of concave portions 19a, 19b, 19c, and 19d each having a shape similar to the concave shape on the upper and lower end portions of the corresponding light shielding portion 14c and the upper and lower end portions of the light shielding portion 14d. Forming a stripe-shaped component. In the case of a photosensitive material such as a positive resist, the light-shielding portion 14e and the light-shielding portion 14f in FIGS. 4 (f) to 4 (j) are more like a real mask pattern when painted and shown in black. In the case of photomasks used for photosensitive materials such as these positive resists, the pattern portions of the light shielding portions 14e and 14f are shown in white in the figure, but correspond to the light shielding portions 14e and 14f. The portion to be exposed does not transmit the exposure light, and the other hatched portions in the figure transmit the light.

これにより、形成されたストライプ状の構成要素には凹面形状２０ａ、２０ｂと凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄとが全体にわたって存在するので、目立たなくなり、人間の目では検知できず外観ムラ、表示ムラといった外観不良の発生を抑制することが可能になる。なお、図４（ｆ）に示した凹部はストライプ状の構成要素の長手方向の中心線に対して対称に設けているが、このような配置に限定されることはなく、例えば、図４（ｇ）に示すように、ストライプ状の構成要素の上側に一方に設けた凹部と凹部の間の位置に来るようにストライプ状の構成要素の下側にもう一方の凹部を設けてもよい。 As a result, the formed stripe-shaped components have the concave shapes 20a and 20b and the concave portions 19a, 19b, 19c and 19d throughout, so that they are inconspicuous and cannot be detected by human eyes, and uneven appearance and display unevenness. It is possible to suppress the occurrence of such appearance defects. The recesses shown in FIG. 4 (f) are provided symmetrically with respect to the center line in the longitudinal direction of the stripe-shaped component, but are not limited to such an arrangement. For example, FIG. As shown in g), the other concave portion may be provided on the lower side of the stripe-shaped component so as to come to a position between the concave portion provided on the upper side of the strip-shaped component and the concave portion.

また、このような凹部の形状、大きさ、配置位置についても、上述したポジ型レジストの場合の突起部と同様の説明ができる。前述した内容と重複する部分が多いので、詳しい説明は省略するが、図５（ｂ）に図４（ｆ）のフォトマスクのストライプ状の構成要素に対応する遮光部について重なり合う領域Ｄの近傍の部分拡大図を示すように、ストライプ状の構成要素に対応する遮光部の平均間隔をｔ_２とし、Ａ領域である遮光部１４ｅを有するフォトマスクとＢ領域である遮光部１４ｆを有するフォトマスクが重なり合う領域Ｄの幅をｄとし、また、分割多重露光して形成されるストライプ状の構成要素の重なり合う領域Ｄの上下部分に生ずる凹面形状２０ａ、２０ｂの深さと幅をそれぞれｋ_１、ｗ_３とする。そして、凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄは全て同じ形状と仮定し、各凹部の深さ、幅と凹部間の間隔距離（ピッチ）をそれぞれｋ_２、ｗ_４、ｐとする。フォトエッチング工程に使用する露光光源の波長をλとすると、ｋ_１、ｗ_３はそれぞれλ、ｔ_２、ｄの関数となる。また、このとき形成される構成要素の平均線幅をｔとすると、近似的にｔ≒ｔ_２である。そして、凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄの形状、大きさは、凹面形状２０ａ、２０ｂの形状、大きさにそれぞれ近づけて設定する。すなわち、ｗ_４≒ｗ_３、ｋ_２≒ｋ_１とすることが望ましい。そして、凹面形状２０ａ、２０ｂの深さｋ_１と幅ｗ_３については、（式１）、（式２）と同様の（式３）、（式４）の関係があることが実験により経験的に知られている。 Further, the shape, size, and arrangement position of such recesses can be explained in the same manner as the protrusions in the case of the positive resist described above. Since there are many portions overlapping with the above-described contents, detailed description is omitted, but in FIG. 5B, the light shielding portions corresponding to the stripe-shaped components of the photomask in FIG. as a partially enlarged view, the average distance between the light shielding portions corresponding to the components of the stripe and t _2, the photomask having a light shielding portion 14f is photomask and B region with a light blocking portion 14e is a region The width of the overlapping region D is d, and the depths and widths of the concave shapes 20a and 20b formed in the upper and lower portions of the overlapping region D of the stripe-shaped components formed by the division multiple exposure are k ₁ and w ₃ , respectively. To do. The recesses 19a, 19b, 19c, and 19d are all assumed to have the same shape, and the depth, width, and interval distance (pitch) between the recesses are k ₂ , w ₄ , and p, respectively. If the wavelength of the exposure light source used in the photoetching process is λ, k ₁ and w ₃ are functions of λ, t ₂ and d, respectively. Further, assuming that the average line width of the components formed at this time is t, approximately t≈t ₂ . The shapes and sizes of the concave portions 19a, 19b, 19c, and 19d are set close to the shapes and sizes of the concave shapes 20a and 20b, respectively. That is, it is desirable that w ₄ ≈w ₃ and k ₂ ≈k ₁ . The depth k ₁ and the width w ₃ of the concave shapes 20a and 20b are empirically determined to have the relations of (Expression 3) and (Expression 4) similar to (Expression 1) and (Expression 2). Known to.

０．２５ｄ≦ｗ_３≦５．０ｄ・・・（式３）
０．０１ｔ_２≦ｋ_１≦０．５ｔ_２・・・（式４）
したがって、凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄの幅ｗ_４については、０．２５ｄ≦ｗ_３≦５．０ｄ、高さについては、０．０１ｔ_２≦ｋ_２≦０．５ｔ_２に設定することが好ましい。また、各凹部の深さｋ_２は、形成される各構成要素の長手方向に平行な端面の平滑度に比べて十分差のあるレベルに設定している。 0.25d ≦ w ₃ ≦ 5.0d (Formula 3)
_{_{_{0.01t 2 ≦ k 1 ≦ 0.5t 2}}} ··· ( Equation 4)
Accordingly, recesses 19a, 19b, 19c, the width _{w 4} of 19d is, 0.25d ≦ _{w 3} ≦ 5.0d, for the height, be set to 0.01t _{_₂} ≦ _k ₂ ≦ 0.5t ₂ preferable. The depth k ₂ of each recess is set to a level with sufficient difference in comparison to smoothness of the end face parallel to the longitudinal direction of the components formed.

一方、隣り合うそれぞれの凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄ間の間隔距離（ピッチ）ｐについては、図４（ｇ）に示すような、ｐ＝ｗ_４（≒ｗ_３）に設定すれば、縦スジ状の明暗ムラとなる表示不良はほとんどなくなるが、この設定では表示セルの開口率を実質的に上げることになって表示輝度のムラを伴う。一方、間隔距離ｐを大きくするとともに、突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄを規則的に配列させずに散在させた場合もムラや表示不良は目立たなくなる。したがって、本発明の実施の形態における表示領域のサイズが１００インチを超えるような大画面のＰＤＰの前面ガラス基板１に分割多重露光で形成するのに用いるフォトマスクでは、表示ムラと輝度ムラのトレードオフの関係を考慮して、ｗ_４≦ｐ≦２０００ｗ_４に設定している。 On the other hand, if the interval distance (pitch) p between the adjacent recesses 19a, 19b, 19c, 19d is set to p = w ₄ (≈w ₃ ) as shown in FIG. Although the display defect that becomes a stripe-like unevenness of light and darkness is almost eliminated, this setting substantially increases the aperture ratio of the display cell, resulting in unevenness of display luminance. On the other hand, when the distance p is increased and the protrusions 17a, 17b, 17c, and 17d are scattered without being regularly arranged, unevenness and display defects are not noticeable. Therefore, in the photomask used for forming by multiple multiple exposure on the front glass substrate 1 of a large-screen PDP having a display area size exceeding 100 inches in the embodiment of the present invention, the trade-off between display unevenness and brightness unevenness. In consideration of the off relationship, w ₄ ≦ p ≦ 2000 w ₄ is set.

また、凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄの形状は、凹面形状２０ａ、２０ｂの形状が部分楕円状の形状を有しているので、図４（ｆ）〜図４（ｈ）には、模式的に半楕円状（または半円状）に近い形状として示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図４（ｆ）に対応させて、図４（ｈ）に示したようにストライプ状の構成要素に段差をつけるような凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄの形状に設定することも可能である。さらに、図４（ｆ）〜図４（ｈ）においては、ストライプ状の構成要素のＡ領域の開口部１４ｃとＢ領域の開口部１４ｄで同じ線幅にしているが、Ａ領域の遮光部１４ｅとＢ領域の遮光部１４ｆで異なる線幅とすることも当然可能である。 Further, the concave portions 19a, 19b, 19c, and 19d are schematically illustrated in FIGS. 4 (f) to 4 (h) because the concave shapes 20a and 20b are partially elliptical. Although shown as a shape close to a semi-elliptical shape (or semi-circular shape), the present invention is not limited to this. For example, in correspondence with FIG. 4 (f), it is possible to set the shape of the recesses 19a, 19b, 19c, 19d so as to give a step to the stripe-shaped component as shown in FIG. 4 (h). is there. Further, in FIGS. 4F to 4H, the opening 14c in the A region of the stripe-shaped component and the opening 14d in the B region have the same line width, but the light shielding portion 14e in the A region. Naturally, it is also possible to have different line widths in the light shielding portion 14f in the B region.

なお、上述した突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄ、または凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄはフォトマスクマスク１３ｃ、１３ｄの重なり合う領域Ｄには設けない方が好ましい。 In addition, it is preferable not to provide the projections 17a, 17b, 17c, and 17d or the recesses 19a, 19b, 19c, and 19d in the region D where the photomask masks 13c and 13d overlap.

さらに、前面ガラス基板１に補助電極２ｂ、３ｂ、ＢＳ膜５等の構造物を形成した前面板２２と背面ガラス基板８に隔壁１１を形成した背面板２３とを位置合わせしてＰＤＰ２１を組み立てる際は、補助電極２ｂ、３ｂ、ＢＳ膜５等の構造物と隔壁１１は直交させた配置となり、この際、補助電極２ｂ、３ｂ、ＢＳ膜５等の構造物に形成されている突起部または凹部の位置が隔壁の位置に重なりあうように構成されていることが、放電への影響を抑えて放電ムラの発生を防止できるので望ましい。このときには、突起部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄまたは、凹部１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄ間の間隔距離ｐを大きくした構成がムラ等の表示不良をより目立ち難くできるのでさらに好ましい。 Further, when assembling the PDP 21 by aligning the front plate 22 on which the structures such as the auxiliary electrodes 2b and 3b and the BS film 5 are formed on the front glass substrate 1 and the back plate 23 on which the partition wall 11 is formed on the rear glass substrate 8. The auxiliary electrode 2b, 3b, the BS film 5 and other structures and the partition wall 11 are arranged perpendicular to each other. At this time, the protrusions or recesses formed in the auxiliary electrodes 2b, 3b, the BS film 5 and the like are formed. Is preferably overlapped with the partition wall, since the influence on the discharge can be suppressed and the occurrence of discharge unevenness can be prevented. In this case, a configuration in which the protrusions 17a, 17b, 17c, and 17d or the interval distance p between the recesses 19a, 19b, 19c, and 19d is increased is more preferable because display defects such as unevenness can be made less noticeable.

なお、上記説明では、複数の平行に形成された補助電極２ｂ、３ｂ、ＢＳ膜５等の構造物それぞれに隣り合って対向する各端面に所定の幅と高さを有する複数の突起部または所定の幅と深さを有する複数の凹部が設けられる構成の例であったが、本発明のフラットディスプレイパネルはこれらの例に限定されるものではない。他にも、例えば、構造物の対向する各端面で、突起部またはを凹部を放電ギャップとは反対側の画素間ギャップ（ＩＰＧ）側にのみ形成する構成であってもよい。画素間ギャップ（ＩＰＧ）側にのみ形成する構成では、放電への影響が少なくなり、より好ましいと言える。 In the above description, a plurality of protrusions having a predetermined width and height on each end face adjacent to each of the plurality of parallelly formed auxiliary electrodes 2b, 3b, BS film 5 and the like, or a predetermined However, the flat display panel of the present invention is not limited to these examples. In addition, for example, a configuration may be employed in which protrusions or recesses are formed only on the inter-pixel gap (IPG) side opposite to the discharge gap, at each end surface facing the structure. The structure formed only on the inter-pixel gap (IPG) side is less preferable because it has less influence on the discharge.

さらに、上記説明では、ＰＤＰの前面版２２における前面ガラス基板１に補助電極２ｂ、３ｂ、ＢＳ膜５等の構造物を分割したフォトマスクを利用して多重露光（あるいは、ステップ露光）を用いて形成しているが、本発明におけるフラットディスプレイパネルの製造方法は補助電極２ｂ、３ｂやＢＳ膜５だけでなく、透明電極２ａ，３ａを除くほかの構造物、例えば背面板２３における隔壁１１等の形成にも適応可能である。 Furthermore, in the above description, multiple exposure (or step exposure) is performed using a photomask obtained by dividing structures such as the auxiliary electrodes 2b, 3b, and the BS film 5 on the front glass substrate 1 of the front plate 22 of the PDP. However, the flat display panel manufacturing method according to the present invention is not limited to the auxiliary electrodes 2b and 3b and the BS film 5, but other structures excluding the transparent electrodes 2a and 3a, such as the partition wall 11 on the back plate 23, etc. It is also adaptable to formation.

以上説明したように、本発明により、複数のフォトマスクを使用して分割多重露光により大型のＰＤＰを製造する場合でも、外観不良や表示不良の発生を抑制できるプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することができる。 As described above, according to the present invention, there is provided a plasma display panel and a method for manufacturing the same that can suppress appearance defects and display defects even when a large PDP is manufactured by division multiple exposure using a plurality of photomasks. can do.

なお、上記説明ではＰＤＰについて説明したが、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤディスプレイ、ＳＥＤディスプレイ等のようなフラットディスプレイパネルを製造する場合に適用することができ、同様の効果を得ることができる。 In the above description, the PDP has been described. However, the present invention can be applied to the production of a flat display panel such as a liquid crystal display, an organic EL display, an FED display, or an SED display, and similar effects can be obtained.

以上の説明から明らかなように本発明によれば、補助電極等を分割露光で形成する際につなぎ目が目立たないようにすることができ、大型のプラットディスプレイパネルの製造に用いることができる。 As is apparent from the above description, according to the present invention, the joints can be made inconspicuous when the auxiliary electrode or the like is formed by divided exposure, and can be used for manufacturing a large-sized platform display panel.

本発明の実施の形態におけるＡＣ−ＰＤＰの一部を拡大して構造を示す分解斜視図The disassembled perspective view which expands and shows a part of AC-PDP in embodiment of this invention 本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面板を製造するときの各工程における前面板の状態を示す断面図Sectional drawing which shows the state of the front plate in each process when manufacturing the front plate of PDP in embodiment of this invention. （ａ）は本発明の実施の形態において２枚に分割して分割多重露光に用いるフォトマスクの例を示す平面図（ｂ）は本発明の実施の形態において２枚に分割したフォトマスクを用いて分割多重露光により基板上に形成されたパターンの例を示す平面図(A) is a plan view showing an example of a photomask that is divided into two sheets and used for divided multiple exposure in the embodiment of the present invention. (B) is a photomask divided into two sheets in the embodiment of the present invention. Plan view showing an example of a pattern formed on a substrate by division multiple exposure 本発明の実施の形態においてフォトマスク内に描かれたストライプ状の構成要素の概略形状を例示する平面図The top view which illustrates the schematic shape of the stripe-shaped component drawn in the photomask in embodiment of this invention （ａ）は図４（ａ）に示したフォトマスクのストライプ状の構成要素に対応する開口部について重なり合う領域Ｄの近傍の部分拡大図（ｂ）は図４（ｆ）のフォトマスクのストライプ状の構成要素に対応する遮光部について重なり合う領域Ｄの近傍の部分拡大図FIG. 4A is a partially enlarged view in the vicinity of the overlapping region D with respect to the openings corresponding to the stripe-shaped components of the photomask shown in FIG. 4A. FIG. 4B is the stripe shape of the photomask in FIG. The elements on larger scale in the vicinity of the overlapping region D with respect to the light shielding parts corresponding to the components of 従来の交流面放電型ＰＤＰの構造を示す斜視図A perspective view showing a structure of a conventional AC surface discharge type PDP （ａ）は２枚に分割して分割多重露光に用いるフォトマスクの例を示す平面図（ｂ）は２枚に分割したフォトマスクを基板上に配置した状態を示す平面図（ｃ）は２枚に分割したフォトマスクを用いて分割多重露光により基板上に形成されたパターンの例を示す平面図(A) is a plan view showing an example of a photomask divided into two and used for divisional multiple exposure (b) is a plan view showing a state in which the photomask divided into two is arranged on the substrate (c) is 2 The top view which shows the example of the pattern formed on the board | substrate by the division | segmentation multiple exposure using the photomask divided | segmented into the sheet | seat 分割多重露光により生じた形成パターンが太くなる例を示す図The figure which shows the example which the formation pattern produced by the division | segmentation multiple exposure becomes thick

Explanation of symbols

１前面ガラス基板
２走査電極
２ａ，３ａ透明電極
２ｂ，３ｂ補助電極
３維持電極
４表示電極
５遮光層
６誘電体層
７保護層
８背面ガラス基板
９下地誘電体層
１０データ電極（アドレス電極）
１１隔壁
１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ蛍光体（層）
１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄフォトマスク
１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ開口部
１５第１のペースト層（導電層）
１６第２のペースト層（暗色導電層）
１７ａ，１７ｂ，１７ｃ，１７ｄ突起部
１８ａ，１８ｂ突起形状
１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄ凹部
２０ａ，２０ｂ凹面形状
２１プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
２２前面板
２３背面板
２４放電セル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front glass substrate 2 Scan electrode 2a, 3a Transparent electrode 2b, 3b Auxiliary electrode 3 Sustain electrode 4 Display electrode 5 Light-shielding layer 6 Dielectric layer 7 Protective layer 8 Back glass substrate 9 Base dielectric layer 10 Data electrode (address electrode)
11 Partition 12R, 12G, 12B Phosphor (layer)
13a, 13b, 13c, 13d Photomasks 14a, 14b, 14c, 14d Openings 15 First paste layer (conductive layer)
16 Second paste layer (dark conductive layer)
17a, 17b, 17c, 17d Protrusion 18a, 18b Protrusion shape 19a, 19b, 19c, 19d Concavity 20a, 20b Concave surface 21 Plasma display panel (PDP)
22 Front plate 23 Back plate 24 Discharge cell

Claims

In a flat display panel in which a plurality of structures are formed parallel to a predetermined direction on a substrate,
A plurality of protrusions having a predetermined width and height or a plurality of recesses having a predetermined width and depth are provided on both end surfaces of each structure excluding the transparent electrode, and the average line width of the structure is t The height h ₂ of the protrusion is 0.01 t ≦ h ₂ ≦ 0.5 t in the protrusion.
The depth k _{2 of the} concave portion is
0.01t ≦ k ₂ ≦ 0.5t
The structure is a display electrode composed of a scanning electrode and a sustain electrode of the surface plate, each auxiliary electrode of the display electrode, a light shielding layer of the surface plate, a black stripe of the surface plate, or a surface plate. A flat display panel characterized by a black matrix .

2. The flat display panel according to claim 1, wherein the protrusion or the recess has any one of a semi-ellipse, a semi-circle, a partial ellipse, a partial circle, a rectangle, and a trapezoid.

The flat display panel according to claim 1, wherein the protrusion or the recess is provided symmetrically with respect to a center line in a longitudinal direction of the structure.

The protrusions or the recesses on one side of the both end surfaces of the structure are located between the adjacent protrusions or the recesses on the other side of the both end surfaces of the structure. The flat display panel according to claim 1 or 2.

Width of the protrusion, when the respective _w 2, p the spacing _distance, w with respect to _{_{w 2, p 2 ≦ p ≦}} 2000w 2
The flat display panel according to any one of claims 1 to 4, wherein the flat display panel is formed so as to satisfy the above relationship.

Said recess having a width, when the respective gap distance _w 4, _p, w with respect to _{_{w 4, p 4 ≦ p ≦}} 2000w 4
The flat display panel according to any one of claims 1 to 4, wherein the flat display panel is formed so as to satisfy the above relationship.

A plurality of partition walls parallel to each other are formed perpendicular to the predetermined direction,
A plurality of the protrusions or the recesses provided on both end surfaces of each of the structures, according to any one of claims 1 to 6, characterized in that it is formed at a position overlapping the barrier rib Flat display panel.

The flat display panel according to any one of claims 1 to 6 , wherein the flat display panel is any one of a plasma display, a liquid crystal display, an organic EL display, an FED display, and an SED display.

The structure flat display panel according to any one of claims 7 that claim 1, characterized in that the protrusions or the recesses are formed on each end surface opposed to the gap between the pixels of the.