JP2003168373A - Front substrate for surface discharge ac type plasma display panel, surface discharge ac type plasma display panel, and surface discharge ac type plasma display device - Google Patents

Front substrate for surface discharge ac type plasma display panel, surface discharge ac type plasma display panel, and surface discharge ac type plasma display device

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JP2003168373A
JP2003168373A JP2001364041A JP2001364041A JP2003168373A JP 2003168373 A JP2003168373 A JP 2003168373A JP 2001364041 A JP2001364041 A JP 2001364041A JP 2001364041 A JP2001364041 A JP 2001364041A JP 2003168373 A JP2003168373 A JP 2003168373A
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plasma display
light
discharge
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface discharge AC type PDP allowing a shade film having a predetermined shape to be precisely manufactured at low cost regardless of the shape of a sustaining electrode and to provide a surface discharge AC type PDP having a front substrate without breaking barrier ribs on the back substrate side. <P>SOLUTION: The band-like shade film 4 with a thickness T set to 5 μm or less is disposed on a surface 5S1 of a part 51 positioned between both adjoining bus electrodes 3 belonging to different discharge sustaining electrode couples in a dielectric layer 5 formed on a front glass substrate 1. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主として、高精度
・高表示品位・安価な面放電AC型プラズマディスプレ
イパネル(以下、プラズマディスプレイパネルを単にP
DPと称する)を実現するための前面基板の構成技術に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention mainly relates to a high-precision, high-display-quality, inexpensive surface discharge AC type plasma display panel (hereinafter, a plasma display panel will be referred to simply as "P").
The present invention relates to a technique of forming a front substrate for realizing (DP).

【0002】[0002]

【従来の技術】面放電AC型PDPは大画面・薄型ディ
スプレイを実現するキーデバイスとして、その商品化が
進んでおり、壁掛けTVや公共表示機器としての市場ニ
ーズが近年高まりつつある。
2. Description of the Related Art A surface discharge AC type PDP has been commercialized as a key device for realizing a large-screen / thin display, and market needs for wall-mounted TVs and public display devices have been increasing in recent years.

【0003】他方では、映像情報の多様化に伴い、将来
の映像信号の高密度化に対応した高精細な面放電AC型
PDPが求められている。この様な市場ニーズを満たし
ていくためには、面放電AC型PDPを構成する複数の
微細な放電セルを精度良く作成しながら、コントラスト
の向上及び発光効率の改善等の画質品位を向上し得る技
術の実現が、重要視されている。今後、面放電AC型P
DPが市場に一層普及される為には、高精細・高品位な
パネルを低価格で供給していくことが重要であり、パネ
ル構造、その製造方法、及びパネル品質を含めた総合的
なコスト低減に関する取組が必要不可欠となる。
On the other hand, along with the diversification of video information, there is a demand for a high-definition surface discharge AC type PDP that is compatible with future high-density video signals. In order to meet such market needs, it is possible to improve image quality such as improvement of contrast and emission efficiency while accurately producing a plurality of fine discharge cells constituting a surface discharge AC type PDP. The realization of technology is emphasized. In the future, surface discharge AC type P
In order for DP to become more popular in the market, it is important to supply high-definition, high-quality panels at low prices, and overall cost including panel structure, manufacturing method, and panel quality. Efforts for reduction are essential.

【0004】例えば、面放電AC型PDPのコントラス
トを維持向上させるためには、隣接する放電セル間から
漏れ出る光を抑える遮光膜を前面ガラス基板上に設ける
ことが有効であることが、既に知られている。具体的に
は、特開昭63-32830号公報や日本国特許3163563号等の
先行文献に記載されている。
For example, in order to maintain and improve the contrast of the surface discharge AC type PDP, it is already known that it is effective to provide a light shielding film for suppressing the light leaking from between the adjacent discharge cells on the front glass substrate. Has been. Specifically, it is described in Japanese Patent Laid-Open No. 63-32830, Japanese Patent No. 3163563, and other prior documents.

【0005】この様な遮光膜を有する面放電AC型PD
P用前面基板の縦断面図を、図8に示す。図8におい
て、参照符号1Pは前面ガラス基板、2Pは透明電極、
3Pはバス電極(金属電極)、4Pは対を異にする隣り
合うバス電極3P間に位置する前面ガラス基板1Pの表
面上に形成された遮光膜(ブラックストライプ)、5P
は透明電極2P,バス電極3P,及び遮光膜4Pの全て
を被覆する様に前面ガラス基板1Pの表面上に形成され
た透明誘電体層、6PはMgO膜から成るカソード膜で
ある。又、透明電極2Pとバス電極3Pとを合わせて、
維持電極と称する。更に、放電ギャップ7Pを介して対
峙する両維持電極を放電維持電極対と称する。尚、図8
の例では、対を異にする隣り合う両バス電極3Pの各々
と近接する様に、ストライプ状の遮光膜4Pが配設され
ている。
Surface discharge AC type PD having such a light shielding film
A vertical cross-sectional view of the front substrate for P is shown in FIG. In FIG. 8, reference numeral 1P is a front glass substrate, 2P is a transparent electrode,
3P is a bus electrode (metal electrode), 4P is a light-shielding film (black stripe) formed on the surface of the front glass substrate 1P located between adjacent bus electrodes 3P of different pairs, 5P
Is a transparent dielectric layer formed on the surface of the front glass substrate 1P so as to cover all of the transparent electrode 2P, the bus electrode 3P, and the light shielding film 4P, and 6P is a cathode film made of a MgO film. Also, by combining the transparent electrode 2P and the bus electrode 3P,
It is called a sustain electrode. Further, both sustain electrodes facing each other through the discharge gap 7P are referred to as a discharge sustain electrode pair. Note that FIG.
In the above example, the stripe-shaped light-shielding film 4P is provided so as to be close to each of the two adjacent bus electrodes 3P of different pairs.

【0006】遮光膜4Pを形成しない場合には、放電維
持電極対の直上の誘電体層5Pの表面における凸部形状
は図8に示す破線BL2の様になるが(約1μmの高さ
の凸部)、帯状の遮光膜4P(一般的には厚みは10μ
m以上)を形成する場合には、誘電体層5Pの表面形状
は、図8に示す破線BL1の様に、顕著な凹凸状とな
る。
When the light shielding film 4P is not formed, the shape of the convex portion on the surface of the dielectric layer 5P immediately above the discharge sustaining electrode pair is as shown by a broken line BL2 in FIG. 8 (a convex portion having a height of about 1 μm). Part), a band-shaped light-shielding film 4P (generally, the thickness is 10 μm).
(m or more), the surface shape of the dielectric layer 5P becomes a concavo-convex shape as indicated by a broken line BL1 shown in FIG.

【0007】又、発光効率改善等の目的で、放電セル構
造、特に背面基板の隔壁構造が複雑化しており、これに
伴い、遮光膜の形状も帯状から他の形状へと変わりつつ
ある。
Further, for the purpose of improving luminous efficiency, the discharge cell structure, particularly the barrier rib structure of the rear substrate is complicated, and with this, the shape of the light shielding film is changing from a strip shape to another shape.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、帯状の
遮光膜を前面ガラス基板上に設ける構造を採用する限り
においては、次の様な問題点に直面せざるを得ない。こ
の点を、例えば上記の日本国特許3163563号に開示され
ている構成例に基づき説明する。即ち、維持電極のバス
電極と重なる様に前面ガラス基板の内面上に帯状の遮光
膜を形成する場合には、遮光膜とバス電極との干渉が生
じる結果、以下に示す様な不具合が生じる。
However, as long as the structure in which the strip-shaped light-shielding film is provided on the front glass substrate is adopted, the following problems must be faced. This point will be described based on the configuration example disclosed in the above-mentioned Japanese Patent No. 3163563, for example. That is, when the strip-shaped light-shielding film is formed on the inner surface of the front glass substrate so as to overlap the bus electrode of the sustain electrode, the light-shielding film interferes with the bus electrode, resulting in the following problems.

【0009】先ず、第一の問題点として、フォトリソグ
ラフィ法で帯状の遮光膜を形成する場合においては、基
板一面に形成した遮光膜層を現像工程で所定のパターン
に処理する際に、突出するバス電極の存在によって不要
箇所の除去が阻害される結果、所定の形状の遮光膜層を
精度良く得ることが難しいと言う点がある。具体的に
は、維持電極のバス電極を成す銀電極の厚みが約10μ
mである場合に、当該銀電極の上面上に厚み約20μm
の遮光膜材料を形成すると、遮光膜表面の当該箇所に少
なくとも約10μm程度のうねり(凸部)が生じる。そ
して、この様な遮光膜を所定のガラスマスクで露光する
と、当該箇所の感光部境界が不明瞭になり、ガラスマス
クにデザインした所定の遮光膜形状が、現像工程を経た
後に得られなくなる。仮に遮光膜が薄くなっても、同方
法で所定の遮光膜を形成すれば、この問題点は同様に発
生するものと考えられる。
First, as a first problem, in the case of forming a band-shaped light-shielding film by the photolithography method, the light-shielding film layer formed on the entire surface of the substrate is projected when it is processed into a predetermined pattern in the developing process. As a result of the presence of the bus electrode hindering the removal of unnecessary portions, it is difficult to obtain a light-shielding film layer having a predetermined shape with high accuracy. Specifically, the thickness of the silver electrode forming the bus electrode of the sustain electrode is about 10 μm.
m, the thickness is about 20 μm on the upper surface of the silver electrode.
When the above light-shielding film material is formed, undulations (projections) of at least about 10 μm occur at the relevant portions on the light-shielding film surface. Then, when such a light-shielding film is exposed with a predetermined glass mask, the boundary of the photosensitive portion at that portion becomes unclear, and the predetermined light-shielding film shape designed for the glass mask cannot be obtained after the developing process. Even if the light-shielding film becomes thin, if the predetermined light-shielding film is formed by the same method, it is considered that this problem similarly occurs.

【0010】更には、図8に示した様に、バス電極と遮
光膜とが重複しない場合でも両者間の隣接距離が極めて
近い場合においては、同様に、バス電極による影響で所
定の形状・寸法を有する遮光膜が得られ難いと言う問題
点が発生し得る。
Further, as shown in FIG. 8, even when the bus electrode and the light shielding film do not overlap with each other, if the adjacent distance between them is extremely short, similarly, due to the influence of the bus electrode, a predetermined shape and size are obtained. The problem that it is difficult to obtain a light-shielding film having

【0011】第二の問題点としては、同一面上に形成さ
れた維持電極と遮光膜とが重複した箇所においては、他
の場所よりも相対膜厚が大きくなるので、維持電極と遮
光膜との上に誘電体層を形成すると、前述の重複箇所に
おける誘電体層の部分が顕著に突出する形状となる。具
体的には、維持電極に含まれるバス電極の厚みが約10
μmである場合に、この上面に厚み約10μmの遮光膜
が焼成後膜として得られると、交差する当該部分の層厚
みは基板面から見て約20μmとなる。この基板の上面
に誘電体層を約30μmの厚みで形成すると、焼成時の
誘電体ガラス自身の流動性を考慮しても、当該部分の突
出量は少なくとも10μm以上になる。このため、前面
基板と背面基板とを封着した際に、上記の突出した誘電
体層部分が背面基板側の隔壁を欠損してしまうと言う問
題点を引き起こすことになる。特に隔壁欠損の程度を予
測することは困難であり、この様な隔壁欠損は、当該欠
損部周辺の複数の放電セルを含めた画素欠陥となり得
る。当然の事ながら、隔壁形状が、前面基板の維持電極
に対して直交する様に延在した単純なストライプ形状以
外の複雑なものとなる場合、例えば隔壁が格子形状を成
す場合や所謂デルタ配列型における蛇行した形状を成す
場合には、前面基板との接触により隔壁に生じる応力も
複雑となり、隔壁欠損を回避することは一層困難にな
る。
A second problem is that at the location where the sustain electrode and the light-shielding film formed on the same surface overlap, the relative film thickness becomes larger than at other locations, so that the sustain electrode and the light-shielding film are formed. When the dielectric layer is formed on the above, the dielectric layer portion at the above-mentioned overlapping portion has a shape that remarkably protrudes. Specifically, the thickness of the bus electrode included in the sustain electrode is about 10
When the light-shielding film having a thickness of about 10 μm is obtained as a film after firing on the upper surface in the case of μm, the layer thickness of the intersecting portions becomes about 20 μm as viewed from the substrate surface. When the dielectric layer is formed on the upper surface of the substrate to have a thickness of about 30 μm, the protrusion amount of the portion is at least 10 μm or more even when the fluidity of the dielectric glass itself during firing is taken into consideration. Therefore, when the front substrate and the rear substrate are sealed, the protruding dielectric layer portion causes a problem that the partition wall on the rear substrate side is lost. In particular, it is difficult to predict the degree of barrier rib defect, and such barrier rib defect may be a pixel defect including a plurality of discharge cells around the defective portion. As a matter of course, when the partition wall shape is complicated other than a simple stripe shape extending so as to be orthogonal to the sustain electrodes on the front substrate, for example, when the partition wall has a lattice shape or a so-called delta array type. In the case of the meandering shape, the stress generated in the partition wall due to the contact with the front substrate becomes complicated, and it becomes more difficult to avoid the partition wall loss.

【0012】この様な誘電体層表面の平滑性が損なわ
れ、ひいては隔壁欠損のおそれが生じると言う問題点
は、図8に示した様に、バス電極と遮光膜とが重複しな
いが両者間の隣接距離が極めて近い場合においても、同
様に発生し得るものである。
The problem that the smoothness of the surface of the dielectric layer is impaired and the barrier ribs may be lost as shown in FIG. 8 is that the bus electrode and the light-shielding film do not overlap each other, as shown in FIG. Even if the adjacent distances of are extremely short, they can occur similarly.

【0013】上述の通り、誘電体層の下に遮光膜層を形
成する場合(日本国特許3163563号に開示されている構
成例や図8の構成例)には、遮光膜の膜厚が厚いと、誘
電体層の表面平滑性が著しく損なわれる(図8の破線B
L1参照)。この点を回避する方法として、誘電体層材
料に軟化点温度の低いガラス材料を、例えば軟化点温度
が500℃以下の材料を採用し、同軟化点温度よりも十
分に高い温度、例えば580℃程度で同材料を焼成する
ことが考えられる。しかしながら、誘電体層の下に銀を
含む材料をバス電極として用いる場合には、誘電体層の
焼成温度がその材料の軟化点温度よりも十分高くなる場
合において、誘電体層内および前面ガラス基板内へ銀成
分が拡散すると言う問題点が新たに生じ得る。もし銀成
分が拡散すると、電極の短絡及び変色が発生する。従っ
て、軟化点温度が500℃以下と比較的低いガラス材料
を誘電体層材料に採用する回避策は好ましいとは言えな
い。
As described above, when the light-shielding film layer is formed below the dielectric layer (the configuration example disclosed in Japanese Patent No. 3163563 and the configuration example of FIG. 8), the thickness of the light-shielding film is large. And the surface smoothness of the dielectric layer is significantly impaired (broken line B in FIG. 8).
See L1). As a method of avoiding this point, a glass material having a low softening point temperature, for example, a material having a softening point temperature of 500 ° C. or lower is adopted as the dielectric layer material, and the temperature is sufficiently higher than the softening point temperature, for example, 580 ° C. It is conceivable to bake the same material to some extent. However, when a material containing silver under the dielectric layer is used as a bus electrode, when the firing temperature of the dielectric layer is sufficiently higher than the softening point temperature of the material, the dielectric layer and the front glass substrate are A new problem may occur that the silver component diffuses inward. If the silver component diffuses, short circuits and discoloration of the electrodes will occur. Therefore, it cannot be said that a workaround for using a glass material having a relatively low softening point temperature of 500 ° C. or lower for the dielectric layer material is preferable.

【0014】そこで、この様な銀成分の拡散と言う問題
点を回避する為に、銀材料が上記の軟化点温度の低い所
定のガラス材料から成る誘電体層材料と直接接しないよ
うな構造、例えば、銀電極周辺に軟化点温度の高い材料
を被覆すると言う方法が考えられる。しかしながら、こ
の様な方法はPDP用前面基板の機能の維持に留まるだ
けで、コストアップの感は否めず、有効な方法とは断言
できない。
Therefore, in order to avoid such a problem of the diffusion of the silver component, a structure in which the silver material does not come into direct contact with the dielectric layer material made of a predetermined glass material having a low softening point temperature, For example, a method of coating a material having a high softening point temperature around the silver electrode can be considered. However, such a method is limited to the maintenance of the function of the front substrate for PDP, and there is an undeniable cost increase, and it cannot be asserted that it is an effective method.

【0015】PDPの発光効率改善に関して、別の観点
からの問題点を次に指摘する。即ち、本願発明者は、最
近、対を異にする維持電極間の誤放電を抑止する方法と
して、Al23等の酸化物を主成分とする粉末材料から
成る膜をMgO膜上に形成することが有効であることを
見出した(未公知技術)。しかしながら、誘電体層表面
の内でバス電極直上に位置する部分以外の部分の表面粗
度(Ra)は0.2〜0.3μm程度であるため、誤放
電を抑制し得る前述の粉末材料を同誘電体層表面部分上
のカソード膜上に形成した後に、当該粉末材料から成る
膜が振動等の僅かな影響で脱着すると言う問題点が新た
に生じ得ることが判った。このため、誤放電を抑止し得
る効果のある上記の粉末材料を安定して前面パネル上に
形成する必要性が生じている。
Regarding the improvement of the luminous efficiency of the PDP, a problem from another point of view will be pointed out below. That is, recently, the present inventor has formed a film made of a powder material containing an oxide such as Al 2 O 3 as a main component on a MgO film as a method of suppressing erroneous discharge between sustain electrodes of different pairs. It was found that it is effective (unknown technique). However, since the surface roughness (Ra) of the portion of the surface of the dielectric layer other than the portion located immediately above the bus electrode is about 0.2 to 0.3 μm, the above-mentioned powder material capable of suppressing erroneous discharge is used. It has been found that a problem that a film made of the powder material is desorbed by a slight effect of vibration or the like after being formed on the cathode film on the surface portion of the dielectric layer may newly occur. Therefore, it is necessary to stably form the above-mentioned powder material having the effect of suppressing erroneous discharge on the front panel.

【0016】この発明はこの様な問題状況に鑑みて成さ
れたものであり、その目的とするところは次の通りであ
る。
The present invention has been made in view of such a problem situation, and its purpose is as follows.

【0017】即ち、前面基板側の維持電極形状に関係す
ること無く、所定の形状を有する遮光膜を精度良く且つ
安価に製造できると共に、表示品位に優れたPDP用前
面基板及びそれを用いたPDPを実現することを、第一
の目的とする。
That is, a light-shielding film having a predetermined shape can be manufactured accurately and inexpensively regardless of the shape of the sustain electrode on the front substrate side, and a front substrate for PDP excellent in display quality and a PDP using the same. The first purpose is to realize.

【0018】更に、前面基板と対向する背面基板側の隔
壁を破損することの少ない前面基板を有するPDPを実
現することを、第二の目的とする。
A second object is to realize a PDP having a front substrate which is less likely to damage the partition wall on the rear substrate side facing the front substrate.

【0019】更に、隔壁に加わる局所的荷重をより一層
低減できると共に、隔壁の構造が格子状等の複雑なもの
となっても排気経路を確保し得る構造を備えた前面基板
を有するPDPを実現することを、第三の目的とする。
Further, it is possible to realize a PDP having a front substrate having a structure capable of further reducing the local load applied to the partition wall and ensuring an exhaust path even when the partition wall has a complicated structure such as a lattice shape. The third purpose is to do.

【0020】更に、対を異とする維持電極間の誤放電を
抑止し得る材料を安定して形成し得ることを、第四の目
的とする。
Further, a fourth object is to stably form a material capable of suppressing erroneous discharge between sustain electrodes of different pairs.

【0021】[0021]

【課題を解決する為の手段】請求項1記載の発明は、面
放電AC型プラズマディスプレイパネル用前面基板であ
って、前面ガラス基板と、前記前面ガラス基板の表面上
に形成されており、その各々は第1方向に延在する一対
の維持電極から成り、前記第1方向に直交する第2方向
に沿って配列した複数の放電維持電極対と、前記前面ガ
ラス基板の前記表面上に形成されており、前記複数の放
電維持電極対を被覆する誘電体層と、前記誘電体層の内
で、異なる対に属する隣り合う両維持電極間に相当する
部分の表面上に、前記第1方向に延在する様に形成され
た遮光膜と、前記誘電体層の表面上に形成されており、
前記遮光膜を被覆するカソード膜とを備えることを特徴
とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel, which is formed on a front glass substrate and a surface of the front glass substrate. Each of the sustain electrodes is composed of a pair of sustain electrodes extending in a first direction, and is formed on the front surface of the front glass substrate, and a plurality of discharge sustain electrode pairs arranged along a second direction orthogonal to the first direction. On the surface of the dielectric layer covering the plurality of pairs of discharge sustaining electrodes and on the surface of the dielectric layer corresponding to both adjacent sustaining electrodes belonging to different pairs, in the first direction. A light-shielding film formed so as to extend, and formed on the surface of the dielectric layer,
A cathode film covering the light shielding film.

【0022】請求項2記載の発明は、請求項1に記載の
面放電AC型プラズマディスプレイパネル用前面基板で
あって、前記遮光膜の膜厚は5μm以下であることを特
徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel according to the first aspect, wherein the light shielding film has a thickness of 5 μm or less.

【0023】請求項3記載の発明は、請求項1又は2に
記載の面放電AC型プラズマディスプレイパネル用前面
基板であって、前記遮光膜は、その一部分から、前記誘
電体層の前記表面の内で、異なる対に属する隣り合う前
記両維持電極の各々の直上部分に向けて、前記第2方向
に沿って張り出した部分を有することを特徴とする。
A third aspect of the present invention is the front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel according to the first or second aspect, wherein the light-shielding film extends from a part thereof to the surface of the dielectric layer. It is characterized in that it has a portion projecting along the second direction toward a portion directly above each of the adjacent sustain electrodes belonging to different pairs.

【0024】請求項4記載の発明は、請求項1乃至3の
何れかに記載の面放電AC型プラズマディスプレイパネ
ル用前面基板であって、前記誘電体層の内で、異なる対
に属する隣り合う両維持電極間に相当する前記部分の表
面上に形成された前記遮光膜の表面粗さは、前記誘電体
層の内で、異なる対に属する隣り合う両維持電極間に相
当する前記部分の表面粗さよりも大きいことを特徴とす
る。
A fourth aspect of the present invention is the front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel according to any one of the first to third aspects, wherein the dielectric layers are adjacent to each other and belong to different pairs. The surface roughness of the light shielding film formed on the surface of the portion corresponding to both sustain electrodes is the surface of the portion corresponding to both adjacent sustain electrodes belonging to different pairs in the dielectric layer. It is characterized by being larger than the roughness.

【0025】請求項5記載の発明は、請求項4に記載の
面放電AC型プラズマディスプレイパネル用前面基板で
あって、前記誘電体層の内で、異なる対に属する隣り合
う両維持電極間に相当する部分の表面上に形成された前
記遮光膜の直上に位置する、前記カソード膜の表面部分
の上に形成された、酸化物を主成分とする粉末材料から
成る放電抑止膜を更に備えることを特徴とする。
A fifth aspect of the present invention is the front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel according to the fourth aspect, wherein between the adjacent sustain electrodes belonging to different pairs in the dielectric layer. Further provided is a discharge suppressing film formed of a powder material containing oxide as a main component, which is formed on the surface portion of the cathode film, which is located directly above the light shielding film formed on the surface of the corresponding portion. Is characterized by.

【0026】請求項6記載の発明は、請求項1又は2に
記載の面放電AC型プラズマディスプレイパネル用前面
基板であって、前記遮光膜は前記誘電体層の前記表面上
に一様に形成された膜として存在しており、前記誘電体
層の前記表面の内で前記一対の維持電極の直上に位置す
る部分の上に形成されている前記遮光膜の部分の膜厚
は、他の誘電体層表面領域上に形成されている前記遮光
膜の部分の膜厚よりも薄いことを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel according to claim 1 or 2, wherein the light-shielding film is uniformly formed on the surface of the dielectric layer. Of the dielectric film, and the film thickness of the portion of the light shielding film formed on the portion of the surface of the dielectric layer located directly above the pair of sustain electrodes is equal to that of the other dielectric layer. It is characterized in that it is thinner than the film thickness of the portion of the light shielding film formed on the body layer surface region.

【0027】請求項7記載の発明は、面放電AC型プラ
ズマディスプレイパネルであって、請求項1乃至6の何
れかに記載の前記面放電AC型プラズマディスプレイパ
ネル用前面基板と、前記前面基板と周辺部において封着
される背面基板とを備えることを特徴とする。
The invention according to claim 7 is a surface discharge AC type plasma display panel, wherein the surface discharge AC type plasma display panel front substrate according to any one of claims 1 to 6; And a rear substrate sealed at the peripheral portion.

【0028】請求項8記載の発明は、面放電AC型プラ
ズマディスプレイ装置であって、請求項7記載の前記面
放電AC型プラズマディスプレイパネルと、前記面放電
AC型プラズマディスプレイパネルを駆動するための駆
動部とを備えることを特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a surface discharge AC type plasma display device, wherein the surface discharge AC type plasma display panel according to the seventh aspect and a method for driving the surface discharge AC type plasma display panel. And a drive unit.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)本実施の形態で
は、前面ガラス基板の表面(内面)上に放電維持電極対
と共に形成される透明誘電体層と、当該誘電体層上に形
成されるカソード膜との間に、両層によって挟まれる態
様で、帯状の遮光膜を形成している点に、その第1の特
徴がある。この様に、バス電極が形成される前面ガラス
基板表面とは別の上層の誘電体層表面上に帯状の遮光膜
を配設しているので、遮光膜の形状や維持電極(特にバ
ス電極)の形状に関係なく、精度良く所定形状の遮光膜
を得ることが可能となった。加えて、上記第1特徴点に
より、放電維持電極対の直上に位置する誘電体層表面部
分の平滑性を最低限にし得る構造を容易に実現できるこ
とになった。更に上記第1特徴点により、前面ガラス基
板の表面上に形成する透明誘電体層ガラス材料の制約事
項を最小限とし、仕様の選定範囲を広げることを可能と
した。特に誘電体層ガラス材料の軟化点を必要以上に下
げること無く、平滑に近い誘電体層表面を容易に得るこ
とができる。同時に、ガラス材料の焼成工程での高温処
理を不要とし得るので、誘電体層への銀の拡散を有効に
防止することもできる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (Embodiment 1) In the present embodiment, a transparent dielectric layer formed with a pair of discharge sustaining electrodes on the surface (inner surface) of a front glass substrate, and a transparent dielectric layer formed on the dielectric layer. The first characteristic is that a band-shaped light-shielding film is formed so as to be sandwiched between both layers with the formed cathode film. In this way, since the band-shaped light-shielding film is provided on the surface of the upper dielectric layer different from the surface of the front glass substrate on which the bus electrode is formed, the shape of the light-shielding film and the sustain electrode (especially the bus electrode) It has become possible to obtain a light-shielding film having a predetermined shape with high accuracy regardless of the shape. In addition, due to the first characteristic point, it is possible to easily realize a structure that can minimize the smoothness of the surface portion of the dielectric layer located directly above the discharge sustaining electrode pair. Further, the first feature described above makes it possible to minimize the restrictions of the transparent dielectric layer glass material formed on the surface of the front glass substrate and expand the selection range of the specifications. In particular, a nearly smooth surface of the dielectric layer can be easily obtained without lowering the softening point of the dielectric layer glass material more than necessary. At the same time, the high temperature treatment in the firing step of the glass material may be unnecessary, so that the diffusion of silver into the dielectric layer can be effectively prevented.

【0030】更に本実施の形態は、上記の位置に配設さ
れた帯状の遮光膜の厚みを5μm以下に設定すると言う
第2の特徴点を有する。この第2特徴点により、誘電体
層表面、従って、カソード膜表面に従来発生していた異
常突起を回避することができた。この効果により、封着
時の隔壁欠損を回避することが可能となる。
Further, the present embodiment has a second characteristic point that the thickness of the band-shaped light-shielding film arranged at the above position is set to 5 μm or less. Due to this second characteristic point, it is possible to avoid the abnormal protrusion that has conventionally occurred on the surface of the dielectric layer, and thus on the surface of the cathode film. Due to this effect, it becomes possible to avoid partition wall loss during sealing.

【0031】以下、図面に基づき、本実施の形態に係る
面放電AC型PDPの構成を説明する(その中核は前面
基板の構成にある)。
The structure of the surface discharge AC type PDP according to this embodiment will be described below with reference to the drawings (the core of which is the structure of the front substrate).

【0032】図1は、本実施の形態に係る面放電AC型
PDP用前面基板の構成を示す縦断面図である。図1に
示す通り、前面基板ないしは前面パネルは、下地基板た
る前面ガラス基板1と、例えばITO膜又はNESA膜
より成る帯状の透明電極2と、例えば銀を主成分とする
帯状のバス電極ないしは金属電極3(その第2方向D2
の幅は約70μm、その第3方向D3の厚みは焼成後で
約10μm)と、透明誘電体層(以下、単に誘電体層と
称す)5と、帯状の遮光膜(ブラックストライプ)4
と、例えばMgO膜より成るカソード膜6とを有する。
より詳細には、次の通りである。
FIG. 1 is a vertical sectional view showing the structure of a front substrate for a surface discharge AC type PDP according to this embodiment. As shown in FIG. 1, the front substrate or the front panel includes a front glass substrate 1 as a base substrate, a strip-shaped transparent electrode 2 made of, for example, an ITO film or a NESA film, and a strip-shaped bus electrode or metal mainly composed of silver, for example. Electrode 3 (its second direction D2
Has a width of about 70 μm and a thickness in the third direction D3 of about 10 μm after firing), a transparent dielectric layer (hereinafter simply referred to as a dielectric layer) 5, and a band-shaped light-shielding film (black stripe) 4
And a cathode film 6 made of, for example, a MgO film.
More details are as follows.

【0033】即ち、前面ガラス基板1の表面1S上に
は、約75μmの放電ギャップ7を成す様に対峙し合う
一対の透明電極2が、第1方向D1に沿って延在する様
に形成されている。そして、一対の透明電極2の各々の
外側端部寄りの表面上に、同じく第1方向D1に沿って
延在する様にバス電極3が形成されている。ここで、透
明電極2とその上に形成されたバス電極3とを「維持電
極」と称し、放電ギャップ7を介して対峙する一対の維
持電極を「放電維持電極対」と称する。従って、放電維
持電極対は、第1方向D1と直交する第2方向に沿っ
て、所定の間隔で配列している。そして、これらの放電
維持電極対を被覆する様に(但し、各維持電極の取り出
し端部は除く)、誘電体層5が前面ガラス基板1の表面
1S上に形成されている。
That is, on the surface 1S of the front glass substrate 1, a pair of transparent electrodes 2 facing each other so as to form a discharge gap 7 of about 75 μm are formed so as to extend along the first direction D1. ing. Then, the bus electrode 3 is formed on the surface of each of the pair of transparent electrodes 2 near the outer ends thereof so as to also extend along the first direction D1. Here, the transparent electrode 2 and the bus electrode 3 formed thereon are referred to as “sustain electrodes”, and the pair of sustain electrodes facing each other through the discharge gap 7 is referred to as “discharge sustain electrode pair”. Therefore, the discharge sustaining electrode pairs are arranged at a predetermined interval along the second direction orthogonal to the first direction D1. Dielectric layer 5 is formed on front surface 1S of front glass substrate 1 so as to cover these discharge sustaining electrode pairs (excluding the lead-out end of each sustaining electrode).

【0034】更に、誘電体層5の表面5Sの内で、異な
る対に属する隣り合う両バス電極3間に該る表面部分1
S1の直上に形成されている各誘電体層部分51の表面
5S1上には、第1方向D1に沿って延在する帯状の遮
光膜4が形成されている。更に、誘電体層5の表面5S
上には、各遮光膜4を被覆するカソード膜ないしは保護
膜(例えばMgO膜より成る)6が形成されている。
Further, of the surface 5S of the dielectric layer 5, the surface portion 1 between the two adjacent bus electrodes 3 belonging to different pairs.
The strip-shaped light-shielding film 4 extending along the first direction D1 is formed on the surface 5S1 of each dielectric layer portion 51 formed immediately above S1. Further, the surface 5S of the dielectric layer 5
A cathode film or a protective film (made of, for example, a MgO film) 6 that covers each light-shielding film 4 is formed on the top.

【0035】この様に、各維持電極がその上に形成され
ている表面と各遮光膜4がその上に形成されている表面
とは同一面ではない。このため、遮光膜4の形成後に遮
光膜形状を画像検査装置等で検査する場合に、維持電極
の影響を殆ど受けることなく、容易に遮光膜形状を精度
良く検査することが出来る。しかも、各遮光膜4は維持
電極を被覆する比較的厚い誘電体層5の表面部分5S1
上に配置されているので、各放電維持電極対の直上に位
置する誘電体層5の表面部分5S2の平坦性ないしは凸
形状は、遮光膜を設けないときのそれ(図8の破線BL
2に該当)に相当し、良好な誘電体層表面5Sの平坦性
が得られる。従って、誘電体層5を成すガラス材料とし
て、その軟化点温度が500℃以下となる様な特別のも
のを用いる必要性がなくなり、誘電体層5を成すガラス
材料の選択幅が広がると言う製造上の利点も得られる
(コスト低減をもたらす)。
As described above, the surface on which each sustain electrode is formed and the surface on which each light shielding film 4 is formed are not flush with each other. Therefore, when the shape of the light-shielding film is inspected by an image inspection device or the like after forming the light-shielding film 4, the shape of the light-shielding film can be easily inspected with little influence of the sustain electrodes. Moreover, each light-shielding film 4 has a relatively thick surface 5S1 of the dielectric layer 5 covering the sustain electrodes.
Since it is arranged above, the flatness or convex shape of the surface portion 5S2 of the dielectric layer 5 located immediately above each discharge sustain electrode pair is the same as that when the light shielding film is not provided (broken line BL in FIG. 8).
2), and good flatness of the dielectric layer surface 5S can be obtained. Therefore, it is not necessary to use a special glass material forming the dielectric layer 5 having a softening point temperature of 500 ° C. or lower, and the range of choice of the glass material forming the dielectric layer 5 is widened. The above advantages are also obtained (providing cost reduction).

【0036】加えて、各遮光膜4の第3方向D3におけ
る厚みは、5μm以下の値になる様に設定されている。
この設定により、後述する様に、図1の前面基板を背面
基板と封着させても、その際に各遮光膜4直上のカソー
ド膜6の凸状の表面部分が背面基板側の隔壁を欠損させ
てしまうと言う事態を防止することが出来る。
In addition, the thickness of each light shielding film 4 in the third direction D3 is set to a value of 5 μm or less.
With this setting, as will be described later, even if the front substrate of FIG. 1 is sealed to the rear substrate, the convex surface portion of the cathode film 6 immediately above each light-shielding film 4 lacks the partition wall on the rear substrate side at that time. It is possible to prevent the situation of causing it.

【0037】更に、後述する様に、(各遮光膜4の表面
粗さ)>(各遮光膜4直下の誘電体層部分51の表面粗
さ)と言う関係が成立する。
Further, as will be described later, the relationship of (surface roughness of each light shielding film 4)> (surface roughness of the dielectric layer portion 51 immediately below each light shielding film 4) is established.

【0038】次に、図1の前面基板と周辺部において封
着される背面基板の構成の一例について説明する。図2
は、ストライプ状の隔壁10を有する背面基板の縦断面
図である。図2に示す通り、背面ガラス基板12の表面
上には、第2方向D2に延在する複数の書き込み電極8
が第1方向D1に所定の間隔で配列する様に形成されて
いる。そして、複数の書き込み電極8を被覆する様に
(但し、取り出し端部を除く)、白色誘電体層(グレー
ズ層)9が背面ガラス基板12の表面上に形成されてい
る。更に、各書き込み電極8を挟みこむ様に、第2方向
D2に延在し且つ第1方向D1に所定の間隔で配列する
複数の隔壁10が、白色誘電体層9の表面上に形成され
ている。この隔壁10の頂部は、前面基板と背面基板と
の封着により、前面基板のカソード膜6の表面と接触す
る。更に、隣り合う各隔壁10の対向する側面上及び隣
り合う両隔壁10で挟まれた白色誘電体層9の表面部分
上には、赤色、緑色及び青色の蛍光体11が順次に塗布
されている。尚、隔壁の構造としては、単純なストライ
プ状の隔壁10の他に、より複雑な構造のもの、例えば
格子状のものでも良いし、デルタ配列型ピクセルにおけ
る蛇行状のものでも良い。又、白色誘電体層9を不要と
しても良い。背面ガラス基板12と白色誘電体層9とを
総称して、「背面下地基板」と称す。
Next, an example of the structure of the front substrate and the rear substrate sealed in the peripheral portion of FIG. 1 will be described. Figure 2
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of a rear substrate having a stripe-shaped partition wall 10. As shown in FIG. 2, a plurality of write electrodes 8 extending in the second direction D2 are formed on the surface of the rear glass substrate 12.
Are formed so as to be arranged at a predetermined interval in the first direction D1. Then, a white dielectric layer (glaze layer) 9 is formed on the surface of the rear glass substrate 12 so as to cover the plurality of write electrodes 8 (excluding the extraction end portion). Further, a plurality of partition walls 10 extending in the second direction D2 and arranged at a predetermined interval in the first direction D1 so as to sandwich each write electrode 8 are formed on the surface of the white dielectric layer 9. There is. The top of the partition wall 10 comes into contact with the surface of the cathode film 6 of the front substrate by sealing the front substrate and the back substrate. Further, red, green, and blue phosphors 11 are sequentially coated on the opposite side surfaces of the adjacent partition walls 10 and on the surface portion of the white dielectric layer 9 sandwiched between the adjacent partition walls 10. . In addition to the simple stripe-shaped partition wall 10, the partition wall may have a more complicated structure, for example, a grid shape, or a meandering shape in a delta array type pixel. Further, the white dielectric layer 9 may be unnecessary. The rear glass substrate 12 and the white dielectric layer 9 are collectively referred to as "rear base substrate".

【0039】以下に、図1の前面基板の製造方法につい
て記載する。先ず、予め既述した放電維持電極対がその
上に形成されている前面ガラス基板1を準備する。
The method of manufacturing the front substrate of FIG. 1 will be described below. First, the front glass substrate 1 on which the discharge sustaining electrode pair described above is formed is prepared.

【0040】次の誘電体層5の形成は、酸化鉛等を主成
分とするガラスペーストを用いたスクリーン印刷法によ
り行う。このとき、1回のガラスペーストの塗布によ
り、乾燥後の膜厚が約20μm、焼成後の膜厚が約10
μmの誘電体層が得られる。この工程を3回程繰り返し
て得られる誘電体層5は、第3方向D3に関する厚みが
約30μm、維持電極の延在方向に対して直交する方向
(第2方向D2)の表面粗度(Rz-d値)が約1μm〜2
μmの特性を有する。この時の誘電体層5に含まれるガ
ラスの軟化点温度は、520℃〜560℃程度である。
この様に、誘電体層材料のガラス軟化点を必要以上に下
げること無く、平滑に近い誘電体層表面5Sを容易に得
ることができる。同時に、ガラス材料の焼成工程での高
温処理を不要とし得るので、バス電極3に含まれる銀の
誘電体層5への拡散を有効に防止することもできる。
The next formation of the dielectric layer 5 is performed by a screen printing method using a glass paste containing lead oxide or the like as a main component. At this time, by applying the glass paste once, the film thickness after drying is about 20 μm and the film thickness after firing is about 10 μm.
A μm dielectric layer is obtained. The dielectric layer 5 obtained by repeating this step about 3 times has a thickness in the third direction D3 of about 30 μm, and a surface roughness (Rz−) in a direction orthogonal to the extending direction of the sustain electrodes (second direction D2). d value) is about 1 μm to 2
It has a characteristic of μm. At this time, the softening point temperature of the glass contained in the dielectric layer 5 is about 520 ° C to 560 ° C.
In this way, it is possible to easily obtain an almost smooth dielectric layer surface 5S without lowering the glass softening point of the dielectric layer material more than necessary. At the same time, it is possible to eliminate the need for high temperature treatment in the firing step of the glass material, so that the diffusion of silver contained in the bus electrode 3 into the dielectric layer 5 can be effectively prevented.

【0041】尚、誘電体層5を1層形成する毎に変化す
る、維持電極の延在方向D1と直交する方向D2におけ
る誘電体表面粗度は、次の表1の通りである。
The dielectric surface roughness in the direction D2 orthogonal to the extending direction D1 of the sustain electrode, which changes every time one dielectric layer 5 is formed, is as shown in Table 1 below.

【0042】[0042]

【表1】 [Table 1]

【0043】誘電体表面粗度は、ガラス材料の軟化点温
度と焼成温度との調整や、誘電体層下に存在する材料の
膜厚で変わってくるが、本願発明者のこれまでの経験に
よれば、誘電体層下に存在する材料の膜幅もまた誘電体
表面粗度に対して大きな影響を与えることが確認されて
いる。特に、図8等に示される従来技術の様に遮光膜を
誘電体層下の前面ガラス基板上に配置する場合において
は、遮光膜の第2方向における線幅がバス電極のそれよ
りも明らかに広い場合に、誘電体表面粗度が著しく低下
する蓋然性が高い。従って、誘電体層の下方に所定の機
能を有する材料を配置する場合には、当該材料の膜厚を
薄くするだけでは所定の表面粗度を持つ誘電体層を得る
ことは困難であり、膜幅に対する十分な配慮が必要とな
る。これを回避する為に誘電体層材料の塗布回数と焼成
回数とを増やす方法も考えられるが、工数増加によるコ
ストアップは否定できず、有効な方法とは言えない。そ
の点、図1の前面基板の構造では、その様な問題点に対
する考慮は不要である。
The surface roughness of the dielectric varies depending on the adjustment of the softening point temperature and the firing temperature of the glass material and the film thickness of the material existing under the dielectric layer. According to this, it has been confirmed that the film width of the material existing under the dielectric layer also has a great influence on the dielectric surface roughness. In particular, when the light shielding film is arranged on the front glass substrate under the dielectric layer as in the prior art shown in FIG. 8 and the like, the line width of the light shielding film in the second direction is clearly larger than that of the bus electrode. When it is wide, there is a high probability that the surface roughness of the dielectric will be significantly reduced. Therefore, when disposing a material having a predetermined function below the dielectric layer, it is difficult to obtain a dielectric layer having a predetermined surface roughness only by reducing the film thickness of the material. It is necessary to give sufficient consideration to the width. In order to avoid this, a method of increasing the number of times of applying the dielectric layer material and the number of times of firing can be considered, but the cost increase due to the increase in the number of processes cannot be denied and cannot be said to be an effective method. On the other hand, in the structure of the front substrate of FIG. 1, it is not necessary to consider such a problem.

【0044】本実施の形態において特記すべき点は、ス
クリーン印刷法に代えて、一括塗工装置を用いた誘電体
層材料の形成(具体的には、ラミネータによるシート材
料の貼付や、コータによるペースト材料の一括塗工が挙
げられる)を行い易いと言うことである。この手法によ
り、従来行われてきた複数回数の印刷形成・焼成工程を
排して、生産性の向上やコスト低減を図ることが可能と
なる。一括塗工を採用する場合には、誘電体層は単一材
料によって形成されることになるが、その際、当該単一
の誘電体層材料は、2種類の材料から成る従来の誘電体
層材料が有する基本機能(銀電極拡散抑制機能、誘電体
層表面の平滑性確保機能)を実現し得ることが求められ
る。この点、本実施の形態に係る図1の構造では、誘電
体層表面上に遮光膜層を形成しているので、誘電体層表
面(特に透明電極を含む維持電極上の誘電体層表面)の
平滑性を容易に確保できる分だけ、当該単一の誘電体層
材料の開発は容易となる。
The point to be noted in the present embodiment is that instead of the screen printing method, the dielectric layer material is formed using a batch coating apparatus (specifically, the sheet material is stuck by a laminator, or the coater is used). It is easy to carry out batch coating of paste materials). By this method, it is possible to eliminate the plural times of printing formation / firing steps that have been conventionally performed, and to improve the productivity and reduce the cost. When the batch coating is adopted, the dielectric layer is formed of a single material, and the single dielectric layer material is a conventional dielectric layer composed of two kinds of materials. It is required to realize the basic functions of the material (the function of suppressing the diffusion of silver electrodes, the function of ensuring the smoothness of the surface of the dielectric layer). In this regard, in the structure of FIG. 1 according to the present embodiment, since the light shielding film layer is formed on the surface of the dielectric layer, the surface of the dielectric layer (especially the surface of the dielectric layer on the sustain electrode including the transparent electrode). Since the smoothness of the single dielectric layer can be easily ensured, the single dielectric layer material can be easily developed.

【0045】次に、帯状の遮光膜4の形成は、上記方法
で得られた平滑な表面5Sを有する誘電体層5に対し
て、スクリーン印刷法等の工法を用いる。例えばスクリ
ーン印刷装置を用いる場合には、所定の透過体積を有す
るスクリーン版を介して、ペースト状の感光性を有する
遮光膜材料を誘電体層5の表面5S上に一面に塗布す
る。
Next, the band-shaped light-shielding film 4 is formed by using a method such as a screen printing method on the dielectric layer 5 having the smooth surface 5S obtained by the above method. For example, when a screen printing device is used, a paste-like light-shielding film material having photosensitivity in paste form is applied over the surface 5S of the dielectric layer 5 through a screen plate having a predetermined transmission volume.

【0046】ここで、塗布する遮光膜材料は、ガラス粉
末や黒色顔料を主成分としたペースト状態にする。しか
も、焼成後の遮光膜4の膜厚が5μm以下となる様に、
ペースト固形分比(ペースト成分に含まれるガラス粉末
の割合)を調製する。当該5μmと言う値は、隔壁の高
さばらつきによる欠損等の不具合の発生を調べた試作結
果から得られたものである。即ち、焼成後の遮光膜4の
膜厚が5μmを越えるときには、ある一つの隔壁とカソ
ード膜6との間に無視できない程の隙間が生じる結果、
当該一つの隔壁を介して隣接し合ったセル間のアイソレ
ーションが維持できなくなり、放電漏れによる発光特性
低下が懸念されるため、これを回避する必要がある。そ
こで、焼成後の遮光膜4の膜厚を5μm以下にコントロ
ールしているのである。ペースト組成比(ペースト中の
ガラス粉末、溶剤、樹脂の割合)の一例としては、ガラ
ス・顔料成分30%、樹脂3%、テルピネオール等の有
機溶剤67%を挙げることができる。ペースト中に含ま
れる樹脂は、フォトリソグラフィ法等により所定の遮光
膜を得る場合においては、感光性樹脂としても良い。ま
た、遮光膜材料に含まれるガラス粉末のガラス軟化点温
度は、誘電体層材料に含まれるガラスの軟化点温度とほ
ぼ同じか、あるいは、それよりも10℃〜20℃程度低
ければ良い。この様な温度関係を設定する理由は、仮に
温度関係が逆になった場合には、遮光膜の土台となる誘
電体層ガラスが先に流動性を呈してしまい、所望の遮光
膜パターン形状が得られなくなると言う不具合を回避す
るためである。
Here, the light-shielding film material to be applied is in a paste state containing glass powder or a black pigment as a main component. Moreover, the thickness of the light-shielding film 4 after firing should be 5 μm or less,
A paste solid content ratio (ratio of glass powder contained in the paste component) is prepared. The value of 5 μm is obtained from the result of the trial manufacture in which the occurrence of defects such as defects due to height variations of the partition walls is investigated. That is, when the thickness of the light-shielding film 4 after firing exceeds 5 μm, a non-negligible gap is generated between a certain partition wall and the cathode film 6.
It is necessary to avoid this because the isolation between the cells that are adjacent to each other via the one partition wall cannot be maintained, and there is concern that the emission characteristics may deteriorate due to discharge leakage. Therefore, the thickness of the light-shielding film 4 after firing is controlled to 5 μm or less. As an example of the paste composition ratio (ratio of glass powder, solvent, and resin in the paste), 30% of glass / pigment component, 3% of resin, and 67% of organic solvent such as terpineol can be mentioned. The resin contained in the paste may be a photosensitive resin when a predetermined light shielding film is obtained by a photolithography method or the like. Further, the glass softening point temperature of the glass powder contained in the light shielding film material may be approximately the same as the softening point temperature of the glass contained in the dielectric layer material, or may be lower by about 10 to 20 ° C. The reason for setting such a temperature relationship is that if the temperature relationship is reversed, the dielectric layer glass, which is the base of the light-shielding film, exhibits fluidity first, and the desired light-shielding film pattern shape is This is to avoid the problem of not being obtained.

【0047】なお、膜厚が3μm〜4μmの薄膜に形成
してもなお所定の光学特性(十分な遮光性)を有する、
ガラス成分等から成る材料(ペースト)は、既に開発さ
れているので、この材料を用いてスクリーン印刷により
直接パターン形成を行い、遮光膜4を形成することがで
きる。
Even if a thin film having a thickness of 3 μm to 4 μm is formed, it still has predetermined optical characteristics (sufficient light shielding property).
Since a material (paste) made of a glass component or the like has already been developed, it is possible to directly form a pattern by screen printing using this material to form the light shielding film 4.

【0048】ところで、遮光膜4の膜厚を調整する方法
としては、上記のペースト調製に限定されるものでは無
く、例えば透過体積の異なるスクリーン版を用いても良
い。加えて、遮光膜材料には、ガラスを主成分とする材
料を用いても良いし、その他の絶縁材料を用いても良
い。更に、遮光膜材料の塗布・形成方法としては、スク
リーン印刷装置を用いる他に、一括塗工装置を用いる方
法や、ラミネータ等で塗布・形成する方法を用いても良
い。即ち、ペースト状にした物を所定の方法で塗布・塗
工しても良いし、シート状にして貼付けても良い。
By the way, the method of adjusting the film thickness of the light-shielding film 4 is not limited to the above-mentioned paste preparation, and for example, screen plates having different transmission volumes may be used. In addition, as the light shielding film material, a material containing glass as a main component may be used, or another insulating material may be used. Further, as a method for applying / forming the light-shielding film material, in addition to using a screen printing apparatus, a method using a collective coating apparatus or a method of applying / forming with a laminator or the like may be used. That is, a paste-like material may be applied / coated by a predetermined method, or a sheet-like material may be attached.

【0049】遮光膜材料の塗布後は、所定の遮光膜パタ
ーンを描いたガラスマスクを用いて前面基板を露光し、
炭酸ソーダ等を含有するアルカリ水溶液等を用いて露光
後の前面基板を現像する。更に現像後の前面基板を所定
の温度で焼成することで、誘電体層5の表面5S1上
に、上記ガラスマスクと同様の形状を有する遮光膜4を
得る。この後、MgO等の材料を用いてカソード膜6を
蒸着法等で形成し、図1に示す構造の前面基板を得るこ
とができる。
After the light-shielding film material is applied, the front substrate is exposed by using a glass mask having a predetermined light-shielding film pattern.
The front substrate after exposure is developed using an alkaline aqueous solution containing sodium carbonate or the like. Further, by baking the front substrate after development at a predetermined temperature, the light-shielding film 4 having the same shape as the glass mask is obtained on the surface 5S1 of the dielectric layer 5. After that, the cathode film 6 is formed by a vapor deposition method or the like using a material such as MgO, and the front substrate having the structure shown in FIG. 1 can be obtained.

【0050】本実施の形態では、第2方向D2における
遮光膜表面粗さは、下層に維持電極が存在しない位置で
の誘電体層表面粗さよりも大きくなる様に、例えば、黒
色顔料の粉末粒径を平均で0.3μm〜0.5μm以
上、最大で2μm〜3μm以上に調整することが望まし
い。この様に、(遮光膜4の表面粗さ)>(遮光膜4直
下の誘電体層部分51の表面粗さ)と言う関係を成立さ
せる理由は、次の点にある。即ち、後述する実施の形態
2における粉末材料を、遮光膜4直上のカソード膜6の
部分上に効率良く安定して付着させるためであり、他方
で、誘電体層表面粗さについては、その値が大きいと光
透過性を著しく損ねることになるため、その値は小さい
方が望ましいことによるためである。
In the present embodiment, the surface roughness of the light-shielding film in the second direction D2 is larger than the surface roughness of the dielectric layer at the position where the sustain electrode is not present in the lower layer, for example, powder particles of black pigment. It is desirable to adjust the diameter to 0.3 μm to 0.5 μm or more on average, and to 2 μm to 3 μm or more at the maximum. The reason why the relationship of (surface roughness of the light-shielding film 4)> (surface roughness of the dielectric layer portion 51 immediately below the light-shielding film 4) is established in this way is as follows. That is, this is for efficiently and stably adhering the powder material in Embodiment 2 to be described later onto the portion of the cathode film 6 directly above the light shielding film 4, while the dielectric layer surface roughness is Is large, the light transmittance is significantly impaired, and the smaller the value, the better.

【0051】既述した通り、遮光膜4に含まれるガラス
材料の軟化点温度は、誘電体層ガラス材料の軟化点温度
と同程度か、あるいは、それよりも低いことが望まし
い。逆に誘電体層のガラス材料の軟化点温度の方が低い
場合には、遮光膜の焼成時に遮光膜が膜割れを起こすと
言う問題点があるため、これを回避しなければならな
い。
As described above, the softening point temperature of the glass material contained in the light-shielding film 4 is preferably about the same as or lower than the softening point temperature of the dielectric layer glass material. On the contrary, when the softening point temperature of the glass material of the dielectric layer is lower, there is a problem that the light-shielding film is cracked during firing of the light-shielding film, and this must be avoided.

【0052】尚、位置精度に許容差が許される場合に
は、スクリーン印刷法で直接に所定形状の遮光膜4を形
成しても良い。
When the positional accuracy is allowed to have a tolerance, the light shielding film 4 having a predetermined shape may be directly formed by the screen printing method.

【0053】(変形例1)本変形例の特徴点は、図1の
遮光膜4の一部分から、誘電体層表面5Sの内で異なる
対に属する隣り合う両維持電極の各々の直上部分5S2
に向けて第2方向D2に沿って張り出した部分を設けた
ことにある。特に、遮光膜4の上記張り出し部分を、封
着時に背面基板側の隔壁と立体交差する遮光膜4の部分
に設けるものである。以下、図面に基づき、遮光膜の上
記張り出し部分の構成を記載する。
(Modification 1) The characteristic point of this modification is that the portion 5S2 of each of the adjacent sustain electrodes belonging to different pairs within the dielectric layer surface 5S from a part of the light shielding film 4 in FIG.
There is provided a portion projecting along the second direction D2 toward. In particular, the protruding portion of the light-shielding film 4 is provided in the portion of the light-shielding film 4 which intersects with the partition wall on the rear substrate side at the time of sealing. Hereinafter, the configuration of the protruding portion of the light shielding film will be described with reference to the drawings.

【0054】図3は、実施の形態1の本変形例に係る面
放電AC型PDP用前面基板の構造を示す縦断面図であ
る。図3中、図1と同一の参照符号は同一の構成要素を
示す。又、図4は、本変形例に係る遮光膜4の構成(ス
トライプ構造+張り出し構造)を模式的に示す平面図で
ある。更に、図5は、本変形例に係る遮光膜4の張り出
し部41と背面基板側の単純ストライプ状の隔壁10と
の位置関係を、背面基板側から眺めたときの態様とし
て、模式的に示す透視平面図である。図3〜図5に示す
通り、異なる対に属する隣り合う両維持電極間において
第1方向D1に延在したストライプ状の遮光膜4は、当
該前面基板と背面基板とを互いに封着した際に前面基板
の表示面側から見て第2方向D2に延在した各隔壁10
とカソード膜6を介して立体交差する各部分4IPか
ら、第2方向D2に沿って、異なる対に属する各維持電
極(特に透明電極3)上の誘電体層表面部分5S2にま
で延在した張り出し部分41を有する。ここで、表示面
側から見たときの張り出し部分41の張り出し寸法は、
放電ギャップ7上にまで達しない範囲内に設定されねば
ならない(図5の排気パス14を確保するため。若し、
張り出し部分41が隣接する遮光膜間で接続した状態に
なると、排気経路が完全に遮断された状態となるた
め。)。勿論、PDP表示領域内における遮光膜4の張
り出し部分41の形状は、前面基板の表示面側から見て
維持電極と少なくとも一部重複する箇所があれば、いか
なる形状であっても良い。しかも、PDPの輝度を維持
する為には、対を異にする隣り合う維持電極間全ての領
域を遮光することは望ましくなく、少なくとも維持電極
内に存在するバス電極の全ての領域を遮光膜で被覆する
様な構造にする必要は無い。
FIG. 3 is a vertical sectional view showing the structure of the front substrate for a surface discharge AC type PDP according to the present modification of the first embodiment. 3, the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same components. FIG. 4 is a plan view schematically showing the configuration (stripe structure + overhang structure) of the light shielding film 4 according to this modification. Further, FIG. 5 schematically shows a positional relationship between the protruding portion 41 of the light shielding film 4 according to the present modification and the simple stripe-shaped partition wall 10 on the back substrate side as a mode when viewed from the back substrate side. It is a see-through plan view. As shown in FIGS. 3 to 5, the stripe-shaped light-shielding film 4 extending in the first direction D1 between the adjacent sustain electrodes belonging to different pairs is formed when the front substrate and the rear substrate are sealed to each other. Each partition wall 10 extending in the second direction D2 when viewed from the display surface side of the front substrate.
And an overhang extending from each of the portions 4IP that intersect three-dimensionally via the cathode film 6 to the dielectric layer surface portion 5S2 on each sustain electrode (particularly the transparent electrode 3) belonging to a different pair along the second direction D2. It has a portion 41. Here, the projecting dimension of the projecting portion 41 when viewed from the display surface side is
It must be set within a range that does not reach above the discharge gap 7 (to secure the exhaust path 14 in FIG. 5.
This is because the exhaust path is completely blocked when the overhanging portion 41 is connected between the adjacent light shielding films. ). Of course, the protruding portion 41 of the light-shielding film 4 in the PDP display region may have any shape as long as it has a portion that at least partially overlaps with the sustain electrode when viewed from the display surface side of the front substrate. In addition, in order to maintain the brightness of the PDP, it is not desirable to shield all the regions between adjacent sustain electrodes of different pairs from each other, and at least all the regions of the bus electrodes existing in the sustain electrodes are shielded with a light shielding film. It is not necessary to have a covering structure.

【0055】遮光膜4の張り出し部分41の凸部の大き
さは、張り出し部分41直下の誘電体層表面5S2の凸
部大きさが約1μm程度であれば、1μm以下となるの
で、張り出し部分41直上のカソード膜部分と隔壁との
接触による隔壁欠損等は大きな問題とはならない。
The size of the protruding portion 41 of the light-shielding film 4 is 1 μm or less if the size of the protruding portion of the dielectric layer surface 5S2 directly below the protruding portion 41 is about 1 μm. The partition wall loss and the like due to the contact between the cathode film portion immediately above and the partition wall is not a serious problem.

【0056】遮光膜4の立体交差部分4IPから張り出
し部分41を設けたことによる効果は、次の通りであ
る。
The effect of providing the projecting portion 41 from the three-dimensional intersection portion 4IP of the light shielding film 4 is as follows.

【0057】その第1の効果は、隔壁への局所的な荷重
による欠損の回避である。即ち、図1の単純なストライ
プ状遮光膜のみから成る場合と比較して、本変形例の場
合には、立体交差部分4IP直上のカソード膜部分と隔
壁10との接触に加えて、張り出し部分41直上のカソ
ード膜部分と隔壁10との接触も生じるため、凸状のカ
ソード膜部分と隔壁10との接触面積が増大する結果、
隔壁に加わる局所的な荷重をより一層分散させることが
出来る。このため、接触部分の隔壁欠損の発生をより一
層抑えることが出来るのである。
The first effect is avoidance of defects due to local load on the partition wall. That is, as compared with the case where only the simple striped light-shielding film of FIG. 1 is used, in the case of this modification, in addition to the contact between the partition wall 10 and the cathode film portion immediately above the three-dimensional intersection 4IP, the overhanging portion 41 is formed. Since contact between the cathode film portion directly above and the partition wall 10 also occurs, the contact area between the convex cathode film portion and the partition wall 10 increases,
The local load applied to the partition wall can be further dispersed. Therefore, it is possible to further suppress the occurrence of partition wall loss at the contact portion.

【0058】その第2の効果は、封着後の排気経路の確
保である。即ち、張り出し部分41を設けたことにより
張り出し部分41直上のカソード膜凸部分と隔壁10と
の接触が生じるので、放電ギャップ7直上のカソード膜
部分と隔壁10との間に小さな隙間を生成することが可
能となる。この隙間が図5に示す排気経路14となる。
この排気経路14の確保は、放電空間を排気経路として
利用することが出来ない格子状の隔壁の場合に特に有意
義である。
The second effect is to secure an exhaust path after sealing. That is, since the protruding portion 41 is provided, contact between the protruding portion of the cathode film directly above the protruding portion 41 and the partition wall 10 occurs, so that a small gap is formed between the cathode film portion directly above the discharge gap 7 and the partition wall 10. Is possible. This gap becomes the exhaust path 14 shown in FIG.
The securing of the exhaust path 14 is particularly significant in the case of a grid-shaped partition wall in which the discharge space cannot be used as the exhaust path.

【0059】その第3の効果は、前面基板と隔壁10と
の封着位置精度を容易に視認することが可能となった点
である。
The third effect is that the sealing position accuracy between the front substrate and the partition wall 10 can be easily visually recognized.

【0060】尚、隔壁形状については、単純ストライプ
構造の他、格子状等いかなる形状であっても良い。同様
に、維持電極、特にバス電極の形状も、直線状に限定さ
れる訳は無く、いかなる形状であっても良い(この点は
本発明に共通して言える点である)。
The partition shape may be any shape such as a lattice shape other than the simple stripe structure. Similarly, the shape of the sustain electrode, particularly the bus electrode, is not limited to the linear shape, and may be any shape (this point is common to the present invention).

【0061】(変形例2)図6は、本変形例に係る面放
電AC型PDP用前面基板の構造を示す縦断面図であ
る。図6中、図1と同一の参照符号のものは同一の構成
要素を示す。図6の前面基板は、遮光膜が100%光を
遮るものではないと言う点を利用して、図1の前面基板
の遮光膜4の配置位置を変形した点に、その特徴を有す
る。即ち、遮光膜4は、誘電体層5の表面5S上に全面
的に一様に形成された膜として存在しており、誘電体層
5の表面5Sの内で放電維持電極対の直上に位置する部
分5S2の上に形成されている遮光膜部分4Bの膜厚T
Bは、他の誘電体層表面領域5S1上に形成されている
遮光膜部分4Aの膜厚TAよりも薄い(TB<TA≦5
μm)。本変形例においても、実施の形態1と同様の効
果が得られる点は勿論である。
(Modification 2) FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing the structure of a front substrate for a surface discharge AC type PDP according to this modification. 6, the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same components. The front substrate of FIG. 6 is characterized in that the arrangement position of the light shielding film 4 of the front substrate of FIG. 1 is modified by utilizing the fact that the light shielding film does not block 100% of light. That is, the light-shielding film 4 is present as a film formed uniformly over the surface 5S of the dielectric layer 5, and is located directly above the discharge sustaining electrode pair within the surface 5S of the dielectric layer 5. The thickness T of the light shielding film portion 4B formed on the portion 5S2 to be formed
B is thinner than the film thickness TA of the light shielding film portion 4A formed on the other dielectric layer surface region 5S1 (TB <TA ≦ 5.
μm). It is needless to say that the same effects as those of the first embodiment can be obtained in this modification as well.

【0062】(実施の形態2)以下では、説明の便宜
上、図1の実施の形態1に係る前面基板に本実施の形態
の特徴を適用した例について記載するが、本実施の形態
の特徴は既述した変形例1,2にも適用可能であること
は言うまでもない。
(Embodiment 2) In the following, for convenience of description, an example in which the characteristics of this embodiment are applied to the front substrate according to Embodiment 1 of FIG. 1 will be described. It goes without saying that it is also applicable to the modified examples 1 and 2 described above.

【0063】図7は、本実施の形態に係る面放電AC型
PDP用前面基板の構造を示す縦断面図である。図7
中、図1と同一の参照符号は同一の構成要素を示す。図
7に示す通り、カソード膜6の表面6Sの内で、遮光膜
4の直上に位置するカソード膜表面部分の上には、酸化
物を主成分とする粉末材料から成る、第1方向D1に沿
って延在した帯状の放電抑止膜13が形成されている。
実施の形態1で既述した通り、(遮光膜4の表面粗さ)
>(誘電体層部分51の表面粗さ)と言う関係が成立す
るので、遮光膜4直上のカソード膜表面部分の表面粗さ
もまた、遮光膜4の表面粗さを反映して、表面5S2直
上のカソード膜表面部分の表面粗さよりも大きくなる。
この点を利用しているのが、本実施の形態である。これ
により、対を異にする隣り合う維持電極間の誤放電を抑
止し得る粉末材料膜を、MgO膜6を介した遮光膜4直
上に形成した際に、MgO膜6の表面からの離脱防止を
可能とし得る。
FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing the structure of the front substrate for the surface discharge AC type PDP according to this embodiment. Figure 7
In the figure, the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same components. As shown in FIG. 7, in the surface 6S of the cathode film 6, on the surface of the cathode film located immediately above the light-shielding film 4, in the first direction D1, a powder material containing an oxide as a main component is formed. A band-shaped discharge suppressing film 13 extending along is formed.
As described in the first embodiment, (surface roughness of the light shielding film 4)
> (The surface roughness of the dielectric layer portion 51), the surface roughness of the cathode film surface portion immediately above the light shielding film 4 also reflects the surface roughness of the light shielding film 4 and directly above the surface 5S2. It becomes larger than the surface roughness of the cathode film surface portion of.
This embodiment utilizes this point. Thus, when a powder material film capable of suppressing erroneous discharge between adjacent sustain electrodes of different pairs is formed directly on the light shielding film 4 via the MgO film 6, the separation of the powder material film from the surface of the MgO film 6 is prevented. Can be possible.

【0064】次に、放電抑止膜13の製造方法について
記載する。先ず、Al23等の酸化物を主成分とする粉
末材料を樹脂および溶剤と混練してペースト状にしたも
のを用意し、このペースト状の粉末材料を、実施の形態
1で述べた方法により作製した前面基板のカソード膜6
の表面6S上に、所定の方法で塗布して所定のパターン
に形成する。この後、溶剤と樹脂とを熱処理して除去す
ることで、図7に示した構造の放電抑止膜13を有する
前面基板を得ることができる。
Next, a method of manufacturing the discharge suppressing film 13 will be described. First, a powder material containing an oxide such as Al 2 O 3 as a main component is kneaded with a resin and a solvent to form a paste, and the paste-like powder material is prepared by the method described in the first embodiment. The cathode film 6 of the front substrate prepared by
The surface 6S is coated with a predetermined method to form a predetermined pattern. Then, the solvent and the resin are heat-treated and removed, whereby the front substrate having the discharge suppressing film 13 having the structure shown in FIG. 7 can be obtained.

【0065】本実施の形態によれば、遮光膜4の表面粗
さをそのまま反映する遮光膜4直上のカソード膜表面部
分と上記の粉末材料膜13との接触面積が、従来におけ
る様な遮光膜がその上に形成されていない誘電体層表面
直上のカソード膜表面部分と上記粉末材料膜との接触面
積よりも格段に大きくなるので、その結果、粉末材料膜
13の密着性が高い前面基板を得ることができる。更
に、上記の粉末材料から成る放電抑止膜13の厚みは概
して1μm以下となるため、放電抑止膜13と背面基板
側の隔壁との物理的干渉を考慮する必要性は限りなく小
さい。加えて、放電抑止膜13は上記の通り大変薄い膜
であると共に、その膜質はガラスを含まない単純な粉末
の集合体である結果、物理的応力による放電抑止膜13
の変形が容易であるので、却って壁壁欠損を防止し得る
効果を期待することができる。
According to the present embodiment, the contact area between the surface of the cathode film directly above the light-shielding film 4 and the powder material film 13 directly reflecting the surface roughness of the light-shielding film 4 is the same as in the conventional case. Is much larger than the contact area between the surface of the cathode film directly above the surface of the dielectric layer not formed thereon and the powder material film, and as a result, the front substrate with high adhesion of the powder material film 13 is formed. Obtainable. Furthermore, since the thickness of the discharge suppressing film 13 made of the above powder material is generally 1 μm or less, it is not necessary to consider the physical interference between the discharge suppressing film 13 and the partition walls on the rear substrate side. In addition, the discharge suppressing film 13 is a very thin film as described above, and the film quality is a simple powder aggregate containing no glass. As a result, the discharge suppressing film 13 due to physical stress is formed.
Since it is easy to deform, it is possible to expect an effect of preventing wall wall loss.

【0066】(付記)実施の形態1、その変形例1,2
及び実施の形態2の各々に記載した前面基板と、例えば
図2に例示した様な構造を有する背面基板とを封着して
成る面放電AC型PDPを、その駆動回路を有する駆動
部と共に、所定の筐体内に配設することにより、壁掛け
TV等の面放電AC型プラズマディスプレイ装置を得る
ことが出来る。
(Supplementary Note) Embodiment 1, Modifications 1 and 2 thereof
And a surface discharge AC PDP formed by sealingly bonding the front substrate described in each of the second embodiment and the rear substrate having the structure illustrated in FIG. 2 together with a drive unit having a drive circuit thereof. A surface discharge AC plasma display device such as a wall-mounted TV can be obtained by disposing it in a predetermined housing.

【0067】[0067]

【発明の効果】請求項1、6、7及び8の各発明によれ
ば、遮光膜がその上に形成される面と維持電極がその上
に形成される面とは同一面ではないので、維持電極形状
に関係無く、形状精度に優れた遮光膜を安価に得ること
が出来る。しかも、本発明によれば、誘電体層下に遮光
膜を形成する従来技術の場合と対比して、放電維持電極
対の直上に位置する誘電体層表面の平滑性を、遮光膜を
一切設けないときの誘電体層表面の平滑性の程度にまで
改善することが出来ると言う効果もある。この効果の派
生効として、誘電体層表面を平滑にし得る誘電体層材料
(ガラス材料)の選択肢ないしは選定範囲を広げること
が出来る。即ち、遮光膜を設けることによる誘電体層表
面の平滑性損失を本発明では容易に抑止出来るので、誘
電体層材料の軟化点温度等を必要以上に調整する必要性
が無くなるのである。加えて、本発明によれば、遮光膜
形状を画像検査装置等で検査する場合に、維持電極の影
響を最小限にして、遮光膜形状を容易に検査することが
出来ると言う効果もある。換言すれば、生産時において
は、画像検査装置等でそれぞれのパターン形状を個別に
正確に認識することを可能とし得る。
According to the inventions of claims 1, 6, 7 and 8, the surface on which the light shielding film is formed and the surface on which the sustain electrode is formed are not on the same surface. A light-shielding film having excellent shape accuracy can be obtained at low cost regardless of the shape of the sustain electrodes. Moreover, according to the present invention, the smoothness of the surface of the dielectric layer positioned directly above the discharge sustaining electrode pair is not provided by any light shielding film as compared with the case of the conventional technique in which the light shielding film is formed under the dielectric layer. There is also an effect that the smoothness of the surface of the dielectric layer when not present can be improved. As a derivative of this effect, it is possible to widen the choice or selection range of the dielectric layer material (glass material) that can smooth the surface of the dielectric layer. That is, since the smoothness loss on the surface of the dielectric layer due to the provision of the light shielding film can be easily suppressed in the present invention, there is no need to adjust the softening point temperature of the dielectric layer material more than necessary. In addition, according to the present invention, when the light-shielding film shape is inspected by an image inspection device or the like, the effect of the sustain electrodes can be minimized and the light-shielding film shape can be easily inspected. In other words, at the time of production, each pattern shape can be individually and accurately recognized by the image inspection device or the like.

【0068】請求項2の発明によれば、遮光膜を誘電体
層上に設けても、前面基板と背面基板とを互いに封着し
た際に背面基板側の隔壁を破損することのない前面基板
を実現することが出来る。
According to the second aspect of the present invention, even if the light-shielding film is provided on the dielectric layer, the partition walls on the rear substrate side are not damaged when the front substrate and the rear substrate are sealed to each other. Can be realized.

【0069】請求項3の発明によれば、遮光膜の一部を
維持電極と重なり合う方向に僅かに伸長させて張り出し
部を形成しているが、この遮光膜の一部をカソード膜を
介して背面基板側の隔壁と立体交差する部分に設定する
ならば、次の効果が得られる。即ち、張り出し部を設け
た分だけ、遮光膜直上のカソード膜表面部分と隔壁との
接触面積を増すことが出来るので、これにより封着時の
不規則な隔壁欠損を回避することが可能となる。加え
て、一対の維持電極が成す放電ギャップ直上のカソード
膜表面部分と隔壁との間に連続して存在する僅かな空間
を排気経路として確保出来ると言う効果もある。更に、
前面基板と隔壁との封着位置精度を容易に視認すること
が出来ると言う効果も有る。
According to the third aspect of the present invention, a part of the light shielding film is slightly extended in the direction in which it overlaps with the sustain electrode to form the projecting portion. However, a part of the light shielding film is interposed via the cathode film. The following effects can be obtained by setting it in a portion that intersects with the partition on the back substrate side. That is, since the contact area between the partition wall and the partition wall immediately above the light-shielding film can be increased by the amount of the protruding portion, it is possible to avoid irregular partition wall loss during sealing. . In addition, there is also an effect that a small space that continuously exists between the partition wall and the surface of the cathode film immediately above the discharge gap formed by the pair of sustain electrodes can be secured as the exhaust path. Furthermore,
There is also an effect that the sealing position accuracy between the front substrate and the partition can be easily visually recognized.

【0070】請求項4及び5の発明によれば、対を異に
する隣り合う維持電極間に位置するカソード膜表面上に
形成される、発光効率向上に不可欠な粉末材料膜の前面
基板への密着力を、遮光膜自身の表面粗さに伴う接触面
積の増大によって、格段に向上させることが出来る。
According to the fourth and fifth aspects of the invention, the powder material film, which is formed on the surface of the cathode film located between the adjacent sustain electrodes of different pairs and is essential for improving the luminous efficiency, is formed on the front substrate. The adhesion can be significantly improved by increasing the contact area with the surface roughness of the light shielding film itself.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1に係る面放電AC型P
DP用前面基板の構造を示す縦断面図である。
FIG. 1 is a surface discharge AC type P according to a first embodiment of the present invention.
It is a longitudinal cross-sectional view showing the structure of the front substrate for DP.

【図2】 本発明の実施の形態1に係る面放電AC型P
DP用背面基板の構造の一例を示す縦断面図である。
FIG. 2 is a surface discharge AC type P according to the first embodiment of the present invention.
It is a longitudinal cross-sectional view showing an example of the structure of the back substrate for DP.

【図3】 本発明の実施の形態1の変形例1に係る面放
電AC型PDP用前面基板の構造を示す縦断面図であ
る。
FIG. 3 is a vertical sectional view showing a structure of a front substrate for a surface discharge AC type PDP according to a first modification of the first embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態1の変形例1に係る遮光
膜の構成を模式的に示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view schematically showing a configuration of a light-shielding film according to Modification 1 of Embodiment 1 of the present invention.

【図5】 本発明の実施の形態1の変形例1に係る遮光
膜の張り出し部と隔壁との位置関係を模式的に示す平面
図である。
FIG. 5 is a plan view schematically showing a positional relationship between an overhanging portion of a light-shielding film and a partition according to a first modification of the first embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態1の変形例2に係る面放
電AC型PDP用前面基板の構造を示す縦断面図であ
る。
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing the structure of a front substrate for a surface discharge AC type PDP according to a second modification of the first embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の実施の形態2に係る面放電AC型P
DP用前面基板の構造を示す縦断面図である。
FIG. 7 is a surface discharge AC type P according to a second embodiment of the present invention.
It is a longitudinal cross-sectional view showing the structure of the front substrate for DP.

【図8】 従来の面放電AC型PDP用前面基板の構造
を示す縦断面図である。
FIG. 8 is a vertical cross-sectional view showing the structure of a conventional front substrate for a surface discharge AC PDP.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 前面ガラス基板、2 透明電極、3 バス電極、4
遮光膜、41 張り出し部、5 透明誘電体層、6
カソード膜(MgO膜)、7 放電ギャップ、8 書込
電極、9 白色誘電体層、10 隔壁、11 蛍光体、
12 背面ガラス基板、13 放電抑止膜。
1 front glass substrate, 2 transparent electrodes, 3 bus electrodes, 4
Light-shielding film, 41 overhang portion, 5 transparent dielectric layer, 6
Cathode film (MgO film), 7 discharge gap, 8 write electrode, 9 white dielectric layer, 10 barrier ribs, 11 phosphor,
12 rear glass substrate, 13 discharge suppressing film.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 前面ガラス基板と、 前記前面ガラス基板の表面上に形成されており、その各
々は第1方向に延在する一対の維持電極から成り、前記
第1方向に直交する第2方向に沿って配列した複数の放
電維持電極対と、 前記前面ガラス基板の前記表面上に形成されており、前
記複数の放電維持電極対を被覆する誘電体層と、 前記誘電体層の内で、異なる対に属する隣り合う両維持
電極間に相当する部分の表面上に、前記第1方向に延在
する様に形成された遮光膜と、 前記誘電体層の表面上に形成されており、前記遮光膜を
被覆するカソード膜とを備えることを特徴とする、面放
電AC型プラズマディスプレイパネル用前面基板。
1. A front glass substrate, and a pair of sustain electrodes formed on a surface of the front glass substrate, each of which extends in a first direction, and a second direction orthogonal to the first direction. A plurality of discharge sustaining electrode pairs arranged along, a dielectric layer that is formed on the surface of the front glass substrate and covers the plurality of discharge sustaining electrode pairs, and among the dielectric layers, A light-shielding film formed to extend in the first direction on a surface of a portion corresponding to both adjacent sustain electrodes belonging to different pairs; and a light-shielding film formed on a surface of the dielectric layer, A front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel, comprising a cathode film covering a light shielding film.
【請求項2】 請求項1に記載の面放電AC型プラズマ
ディスプレイパネル用前面基板であって、 前記遮光膜の膜厚は5μm以下であることを特徴とす
る、面放電AC型プラズマディスプレイパネル用前面基
板。
2. The surface discharge AC type plasma display panel front substrate according to claim 1, wherein the light shielding film has a thickness of 5 μm or less. Front substrate.
【請求項3】 請求項1又は2に記載の面放電AC型プ
ラズマディスプレイパネル用前面基板であって、 前記遮光膜は、その一部分から、前記誘電体層の前記表
面の内で、異なる対に属する隣り合う前記両維持電極の
各々の直上部分に向けて、前記第2方向に沿って張り出
した部分を有することを特徴とする、面放電AC型プラ
ズマディスプレイパネル用前面基板。
3. The front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel according to claim 1, wherein the light shielding film is formed from a part of the front substrate to different pairs within the surface of the dielectric layer. A front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel, characterized in that it has a portion projecting along the second direction toward a portion directly above each of the two adjacent sustain electrodes to which it belongs.
【請求項4】 請求項1乃至3の何れかに記載の面放電
AC型プラズマディスプレイパネル用前面基板であっ
て、 前記誘電体層の内で、異なる対に属する隣り合う両維持
電極間に相当する前記部分の表面上に形成された前記遮
光膜の表面粗さは、前記誘電体層の内で、異なる対に属
する隣り合う両維持電極間に相当する前記部分の表面粗
さよりも大きいことを特徴とする、面放電AC型プラズ
マディスプレイパネル用前面基板。
4. The front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel according to claim 1, which is equivalent to a distance between two adjacent sustain electrodes belonging to different pairs in the dielectric layer. The surface roughness of the light-shielding film formed on the surface of the portion to be formed is larger than the surface roughness of the portion corresponding to both adjacent sustain electrodes belonging to different pairs in the dielectric layer. A front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel, which is characterized.
【請求項5】 請求項4に記載の面放電AC型プラズマ
ディスプレイパネル用前面基板であって、 前記誘電体層の内で、異なる対に属する隣り合う両維持
電極間に相当する部分の表面上に形成された前記遮光膜
の直上に位置する、前記カソード膜の表面部分の上に形
成された、酸化物を主成分とする粉末材料から成る放電
抑止膜を更に備えることを特徴とする、面放電AC型プ
ラズマディスプレイパネル用前面基板。
5. The front substrate for a surface discharge AC type plasma display panel according to claim 4, wherein the surface of a portion of the dielectric layer corresponding to both adjacent sustain electrodes belonging to different pairs. A surface of the cathode film, which is located immediately above the light-shielding film formed on the surface of the cathode film, and further comprises a discharge suppressing film made of a powder material having an oxide as a main component. Discharge AC type plasma display panel front substrate.
【請求項6】 請求項1又は2に記載の面放電AC型プ
ラズマディスプレイパネル用前面基板であって、 前記遮光膜は前記誘電体層の前記表面上に一様に形成さ
れた膜として存在しており、 前記誘電体層の前記表面の内で前記一対の維持電極の直
上に位置する部分の上に形成されている前記遮光膜の部
分の膜厚は、他の誘電体層表面領域上に形成されている
前記遮光膜の部分の膜厚よりも薄いことを特徴とする、
面放電AC型プラズマディスプレイパネル用前面基板。
6. The front substrate for a surface discharge AC plasma display panel according to claim 1, wherein the light shielding film is present as a film uniformly formed on the surface of the dielectric layer. The film thickness of the portion of the light-shielding film formed on the portion of the surface of the dielectric layer that is located directly above the pair of sustain electrodes is equal to that of the other dielectric layer surface area. Characterized in that it is thinner than the film thickness of the portion of the light-shielding film that is formed,
Front substrate for surface discharge AC type plasma display panel.
【請求項7】 請求項1乃至6の何れかに記載の前記面
放電AC型プラズマディスプレイパネル用前面基板と、 前記前面基板と周辺部において封着される背面基板とを
備えることを特徴とする、面放電AC型プラズマディス
プレイパネル。
7. A front substrate for the surface discharge AC type plasma display panel according to claim 1, and a rear substrate sealed at the peripheral portion with the front substrate. , Surface discharge AC type plasma display panel.
【請求項8】 請求項7記載の前記面放電AC型プラズ
マディスプレイパネルと、 前記面放電AC型プラズマディスプレイパネルを駆動す
るための駆動部とを備えることを特徴とする、面放電A
C型プラズマディスプレイ装置。
8. A surface discharge A comprising: the surface discharge AC type plasma display panel according to claim 7; and a drive unit for driving the surface discharge AC type plasma display panel.
C-type plasma display device.
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