JP3067673B2 - Color plasma display panel - Google Patents
Color plasma display panelInfo
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Description
【発明の属する技術分野】本発明は情報表示端末や平面
型テレビなどに用いられるカラープラズマディスプレイ
パネルの、特に高コントラスト、及び色再現性の良いパ
ネル構造に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color plasma display panel used for an information display terminal, a flat panel television, and the like, and particularly to a panel structure having high contrast and excellent color reproducibility.
【０００１】[0001]
【従来の技術】カラープラズマディスプレイパネルは、
ガス放電によって発生した紫外線によって、蛍光体を励
起発光させ、表示動作させるディスプレイである。放電
の形態からＡＣ型とＤＣ型に分けることが出来る。この
中でＡＣ型は輝度、発光効率、寿命の点でＤＣ型より優
れており、ＡＣ型の中でも反射型ＡＣ面放電型が輝度、
発光効率の点で優れている。図４に従来の反射型ＡＣ面
放電カラープラズマディスプレイパネルの一例の斜視図
を、また、図５には図４のｄ―ｄ’線での断面図を示
す。透明なガラスの前面基板１に複数のストライプ状の
透明電極２を形成する。図５に於いてこの透明電極２は
紙面に垂直方向に複数本形成されている。この隣り合う
透明電極２の間に、数十ｋＨｚから数百ｋＨｚのパルス
状ＡＣ電圧を印加し放電を発生させ、表示動作を行な
う。2. Description of the Related Art A color plasma display panel is
This is a display that performs a display operation by exciting and emitting a phosphor by ultraviolet light generated by gas discharge. The discharge type can be classified into an AC type and a DC type. Among them, the AC type is superior to the DC type in terms of luminance, luminous efficiency, and life, and among the AC types, the reflective AC surface discharge type has the luminance,
It is excellent in terms of luminous efficiency. FIG. 4 is a perspective view of an example of a conventional reflective AC surface discharge color plasma display panel, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line dd 'of FIG. A plurality of striped transparent electrodes 2 are formed on a transparent glass front substrate 1. In FIG. 5, a plurality of the transparent electrodes 2 are formed in a direction perpendicular to the paper surface. A pulsed AC voltage of several tens of kHz to several hundreds of kHz is applied between the adjacent transparent electrodes 2 to generate a discharge and perform a display operation.
【０００２】反射型ＡＣ面放電カラープラズマディスプ
レイでは、蛍光体からの発光を遮られないように、透明
電極２には酸化錫（ＳｎＯ2 ）やインジウムチンオキサ
イト゛（ＩＴＯ）などの透明導電膜が通常使用される。し
かし、これらの透明導電膜のシート抵抗は高く、大型パ
ネルや高精細パネルでは電極抵抗が数十ｋΩ以上にもな
り、印加電圧パルスが十分に立ち上がらなかったり、電
圧降下を起こし駆動が困難になる。そこで透明電極２の
部分に、クロム／銅／クロムの多層薄膜やアルミニウム
薄膜などの金属薄膜、あるいは銀などの金属厚膜による
バス電極３を形成し、抵抗値を下げた透明電極２及びバ
ス電極３からなる面放電電極２Ｈが採用されている。In a reflection type AC surface discharge color plasma display, a transparent conductive film such as tin oxide (SnO 2 ) or indium tin oxide (ITO) is usually used for the transparent electrode 2 so that light emission from a phosphor is not interrupted. used. However, the sheet resistance of these transparent conductive films is high, and the electrode resistance of a large panel or a high-definition panel becomes several tens of kΩ or more, and an applied voltage pulse does not sufficiently rise or a voltage drop occurs to make driving difficult. . Therefore, a bus electrode 3 made of a metal thin film such as a multilayer thin film of chromium / copper / chrome or an aluminum thin film or a metal thick film such as silver is formed on the transparent electrode 2 so that the transparent electrode 2 and the bus electrode having a reduced resistance value. 3 are employed.
【０００３】この面放電電極２Ｈの上には、面放電電極
２Ｈと直交するようにストライプ状の顔料微粉末層から
成るカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂが形成される。
一般に、このカラーフィルタ層４は、対向する蛍光体層
９の発光色のみを透過する光学特性を有する材料が選択
される。更にこのカラーフィルタ層４を、透明な誘電体
層５で被覆する。この透明誘電体層５はＡＣ型プラズマ
ディスプレイ特有の電流制限の機能を有している。これ
は面放電電極２Ｈと透明誘電体層５とでコンデンサーを
形成し、２本の面放電電極２Ｈ間で行われる面放電を面
放電電極２Ｈに印加されている電圧と放電によって透明
誘電体層５に貯えられた電荷による電位がちょうど打ち
消しあった時に面放電が止まる機能である。これにより
電流が過剰に流れる事を防いでいる。また、絶縁耐圧の
確保と製造のし易さから、透明誘電体層５は通常低融点
ガラスを主成分とするペーストを厚膜印刷法を用いて塗
布し、軟化点温度以上の高温で焼成することによりリフ
ローさせ、内部に気泡などを含まない平滑な２０μｍ〜
４０μｍ程度の厚さで形成する。On the surface discharge electrode 2H, color filter layers 4R, 4G, and 4B each composed of a stripe-like pigment fine powder layer are formed so as to be orthogonal to the surface discharge electrode 2H.
Generally, for the color filter layer 4, a material having an optical property of transmitting only the emission color of the opposing phosphor layer 9 is selected. Further, the color filter layer 4 is covered with a transparent dielectric layer 5. The transparent dielectric layer 5 has a current limiting function peculiar to the AC plasma display. In this method, a capacitor is formed by the surface discharge electrode 2H and the transparent dielectric layer 5, and the surface discharge performed between the two surface discharge electrodes 2H is performed by the voltage and the discharge applied to the surface discharge electrode 2H. This is a function to stop surface discharge when the potential due to the charge stored in 5 just cancels. This prevents the current from flowing excessively. Further, from the viewpoint of ensuring dielectric strength and easiness of manufacture, the transparent dielectric layer 5 is usually coated with a paste mainly composed of a low melting point glass by using a thick film printing method, and baked at a high temperature equal to or higher than the softening point temperature. 20μm ~
It is formed with a thickness of about 40 μm.
【０００４】次に、透明誘電体層５の全体を被覆するよ
うに形成する保護層６は、蒸着やスパッタリング法によ
って形成されるＭｇＯの薄膜又は印刷やスプレー法等に
よって形成されるＭｇＯの厚膜である。膜厚は０．５ミ
クロンから１ミクロン程度である。この保護層６の役割
は放電電圧の低減と表面スパッタの防止である。Next, a protective layer 6 formed so as to cover the whole of the transparent dielectric layer 5 is a thin film of MgO formed by vapor deposition or sputtering or a thick film of MgO formed by printing or spraying. It is. The film thickness is about 0.5 to 1 micron. The role of the protective layer 6 is to reduce discharge voltage and prevent surface spatter.
【０００５】一方、後面基板１０には表示データを書き
込むストライプ状のデータ電極８を形成している。図５
では紙面に平行な方向にデータ電極８が伸び、これが後
述するストライプ状に形成された赤色、緑色、青色に放
電の紫外線で発光する蛍光体層９とそれぞれに対応する
位置に形成されている。すなわちデータ電極８は、前面
基板１上に形成された面放電電極２Ｈと直交している。
このデータ電極8と重ならないように隔壁７を通常厚膜
印刷で形成し、更に、隔壁の上部に、通常は鉄、クロ
ム、ニッケル等の金属酸化物粉末と低融点ガラスなどか
らなるペーストを厚膜印刷すること等により黒色に着色
し明所での反射を防止している。また、隔壁７は、隣接
する放電セル間の、誤放電や光学的なクロストークを防
ぐ効果もある。この隔壁は図５に於いて紙面に平行に複
数本形成する。On the other hand, stripe-shaped data electrodes 8 for writing display data are formed on the rear substrate 10. FIG.
The data electrodes 8 extend in a direction parallel to the plane of the drawing, and are formed at positions corresponding to the respective phosphor layers 9 which are formed in a stripe shape and emit red, green, and blue light by discharge ultraviolet rays. That is, the data electrode 8 is orthogonal to the surface discharge electrode 2H formed on the front substrate 1.
The partition walls 7 are usually formed by thick-film printing so as not to overlap with the data electrodes 8, and a paste made of a metal oxide powder such as iron, chromium, nickel or the like and a low melting point glass is usually formed on the top of the partition walls. It is colored black by film printing or the like to prevent reflection in bright places. The partition walls 7 also have the effect of preventing erroneous discharges and optical crosstalk between adjacent discharge cells. In FIG. 5, a plurality of the partition walls are formed in parallel with the paper surface.
【０００６】更に隔壁７と前面基板１、後面基板１０で
構成される放電セル１１には、赤色、緑色、青色の発光
色に対応する蛍光体９Ｒ、９Ｇ、９Ｂを色毎に３度に分
けて塗布する。各蛍光体は蛍光体塗布面積を増やし高輝
度を得るために、隔壁７の側面にも形成される。各蛍光
体の成膜には通常スクリーン印刷を用いる。In the discharge cell 11 composed of the partition wall 7, the front substrate 1, and the rear substrate 10, phosphors 9R, 9G, and 9B corresponding to red, green, and blue emission colors are divided into three times for each color. And apply. Each phosphor is also formed on the side surface of the partition wall 7 in order to increase the phosphor application area and obtain high luminance. Normally, screen printing is used for forming each phosphor.
【０００７】この後、前述の前面基板１の面放電電極２
Ｈと後面基板１０のデータ電極８とが直交するように隔
壁を介して対向させて周囲を気密封止し、放電セル１１
の内部に放電可能なガス、例えばＨｅとＮｅとＸｅとの
混合ガスを５００ｔｏｒｒ程度の圧力で封入する。After that, the surface discharge electrode 2 of the front substrate 1
H and the data electrode 8 of the rear substrate 10 are opposed to each other via a partition so as to be orthogonal to each other, and the periphery thereof is hermetically sealed.
A dischargeable gas, for example, a mixed gas of He, Ne and Xe is sealed at a pressure of about 500 torr.
【０００８】図５において、各放電セル１１には透明電
極２及びバス電極３からなる面放電電極２Ｈが２本ずつ
配置され、この面放電電極２Ｈのギャップ部で面放電が
発生し各放電セルにプラズマが生じる。このとき発生す
る紫外光で蛍光体９Ｒ、９Ｇ、９Ｂを励起し赤色、緑
色、青色の可視光を発生させて前面基板１のカラーフィ
ルタ層４を通して表示発光を得る。In FIG. 5, two surface discharge electrodes 2H each including a transparent electrode 2 and a bus electrode 3 are arranged in each discharge cell 11, and a surface discharge is generated in a gap portion between the surface discharge electrodes 2H. Plasma is generated. The phosphors 9R, 9G, and 9B are excited by the ultraviolet light generated at this time to generate red, green, and blue visible light, and display light emission is obtained through the color filter layer 4 of the front substrate 1.
【０００９】面放電を発生させる隣り合う面放電電極２
Ｈの一組は、それぞれ走査電極と維持電極の役目を受け
持っている。実際のパネル駆動において、走査電極と維
持電極との間には、維持パルスが印加されている。書き
込み放電を発生させるときは、走査電極とデータ電極８
との間に電圧を印加して対向放電を発生させ、この放電
が引き続き印加される維持パルスによって面放電電極２
Ｈ間に維持放電が発生する。[0009] Adjacent surface discharge electrodes 2 for generating surface discharge
One set of Hs serves as a scan electrode and a sustain electrode, respectively. In actual panel driving, a sustain pulse is applied between the scan electrode and the sustain electrode. To generate a write discharge, scan electrodes and data electrodes 8 are used.
And a counter discharge is generated by applying a voltage between the surface discharge electrode 2 and the sustain pulse.
Sustain discharge occurs during H.
【００１０】カラープラズマディスプレイパネルで用い
られる蛍光体のボディーカラーは、通常反射率が非常に
高い白色の粉末である。カラープラズマディスプレイパ
ネルでは、室内や屋外の光（外光）がパネルに入射する
と、隔壁上部やバス電極部で外光が吸収されるが、３０
％〜５０％程度は反射され、コントラストが著しく損な
われる。この外光反射を防止してコントラストの良い表
示を得るためにパネル面に透過率４０〜８０％程度のＮ
Ｄフィルタを配置する方法もあるが、蛍光体からの可視
発光も一部遮られるため、パネル輝度が低下するという
欠点がある。[0010] The body color of the phosphor used in the color plasma display panel is usually a white powder having a very high reflectance. In a color plasma display panel, when indoor or outdoor light (external light) enters the panel, the external light is absorbed by the upper part of the partition wall and the bus electrode portion.
% To about 50% is reflected, and the contrast is significantly impaired. In order to prevent the reflection of external light and obtain a display with good contrast, the panel surface has a transmittance of about 40 to 80% of N.
Although there is a method of disposing a D filter, there is a drawback that panel luminance is reduced because visible light emission from the phosphor is partially blocked.
【００１１】パネル輝度をできるだけ減らさずに、外光
の反射を抑える方法として、従来からカラーフィルタ層
４を用いる方法が提案されている。これは赤色、緑色、
青色の各放電セルからの発光色に対応して、前面基板１
側に赤色、緑色、青色の光を透過するカラーフィルタ層
４を形成するものである。これによって高コントラスト
と同時に高い色再現性を得る事が出来る。As a method for suppressing the reflection of external light without reducing the panel luminance as much as possible, a method using a color filter layer 4 has been conventionally proposed. This is red, green,
The front substrate 1 corresponds to the emission color of each blue discharge cell.
A color filter layer 4 that transmits red, green, and blue light is formed on the side. As a result, high color reproducibility as well as high contrast can be obtained.
【００１２】しかし、上述したように誘電体層５はＡＣ
型プラズマディスプレイ特有の電流制御の機能を有して
いる。この電流制御機能は透明誘電体層５の誘電率と厚
さに大きく依存し、面放電電極２Ｈと透明誘電体層５で
コンデンサーを形成している。しかし、面放電電極２Ｈ
と透明誘電体層５の間や、透明誘電体層５の内部にカラ
ーフィルタ層４を形成すると、静電容量は透明誘電体層
５とカラーフィルタ層４の直列合成したものになる。カ
ラーフィルタ層４は赤色、緑色、青色の色光のみ透過可
能とするそれぞれ異なる材料で構成されている。例え
ば、赤色、緑色、青色の顔料として次のような物が考え
られる。 赤：Ｆｅ2 Ｏ3 系 緑：ＣｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 -Ｃｒ2 Ｏ3 系 青：ＣｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 系 これら各色の各材料で誘電率は異なっている。つまり各
色で透明誘電体層５とカラーフィルタ層４からなる静電
容量が異なる事になり、この結果電流制御機能や面放電
が開始される電圧が各色によって異なり、均一な駆動が
非常に難しくなってくる。また、駆動電圧の上昇も起き
る。However, as described above, the dielectric layer 5 is made of AC.
It has the function of current control peculiar to the type plasma display. This current control function largely depends on the dielectric constant and thickness of the transparent dielectric layer 5, and the surface discharge electrode 2H and the transparent dielectric layer 5 form a capacitor. However, the surface discharge electrode 2H
When the color filter layer 4 is formed between the transparent dielectric layer 5 and the inside of the transparent dielectric layer 5, the capacitance is obtained by combining the transparent dielectric layer 5 and the color filter layer 4 in series. The color filter layer 4 is made of different materials that can transmit only red, green, and blue light. For example, the following can be considered as red, green, and blue pigments. Red: Fe 2 O 3 system Green: CoO—Al 2 O 3 —Cr 2 O 3 system Blue: CoO—Al 2 O 3 system The dielectric constant of each material of these colors is different. In other words, the capacitance of the transparent dielectric layer 5 and the color filter layer 4 is different for each color. As a result, the current control function and the voltage at which surface discharge is started are different for each color, making uniform driving very difficult. Come. Also, the driving voltage rises.
【００１３】この問題を解決するためのカラーフィルタ
を用いたＡＣ型プラズマディスプレイとして、例えば特
開平６−５２０２号が知られている。As an AC type plasma display using a color filter for solving this problem, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-5202 is known.
【００１４】この技術によれば前面板上にカラーフィル
タ層とブラックマトリックスを形成し、その上に電極を
形成している。しかし、この技術で述べているようにカ
ラーフィルタ層とブラックマトリックスの上に電極を直
接形成すると、カラーフィルタ層及びブラックマトリッ
クによる凹凸によって電極は切れてしまう。仮に電極が
スパッタリング法などの薄膜技術で形成されていると、
その膜厚は最大でも１〜２μｍ程度である。しかし、こ
の膜厚ではカラーフィルタ層とブラックマトリックで形
成される凹凸によって電極が切れてしまう。仮に成膜時
に切れが発生しなかったとしても、電極の上に誘電体層
を印刷しそれを焼成すると、カラーフィルタ層４と透明
誘電体層５の膨張が異なる事によって電極に切れが発生
し、電極として機能しない事は明らかである。またスク
リーン印刷法などの厚膜技術で形成されているとする
と、カラーフィルタ層とブラックマスクによる凹凸のた
め、凸の部分には印刷されるが凹の部分は印刷されない
という現象が起き、やはり電極に切れが発生し、電極と
しての働きが出来ない。According to this technique, a color filter layer and a black matrix are formed on a front plate, and electrodes are formed thereon. However, if an electrode is formed directly on the color filter layer and the black matrix as described in this technique, the electrode will be cut due to the unevenness due to the color filter layer and the black matrix. If the electrode is formed by thin film technology such as sputtering,
The film thickness is at most about 1 to 2 μm. However, at this film thickness, the electrode is cut due to the unevenness formed by the color filter layer and the black matrix. Even if a cut does not occur at the time of film formation, if a dielectric layer is printed on the electrode and baked, a cut occurs in the electrode due to the difference in expansion between the color filter layer 4 and the transparent dielectric layer 5. Obviously, it does not function as an electrode. Also, if it is formed by a thick film technique such as a screen printing method, a phenomenon occurs in which the convex portion is printed but the concave portion is not printed due to the unevenness due to the color filter layer and the black mask. Cut off, and it cannot function as an electrode.
【００１５】また、特開平３−１９６４４６号には前面
基板上にカラーフィルタを形成し、その上を透明ガラス
膜で覆い、その透明ガラス膜の上に電極を形成する技術
が示されている。この技術はＤＣ型カラープラズマディ
スプレイパネルであり、これを直接ＡＣ型に応用する事
は不可能である。なぜならば、ＡＣ型カラープラズマデ
ィスプレイパネルでは電極の上にガラスを主成分とする
透明誘電体層を形成する必要性があるからである。この
技術による透明ガラス膜はペーストを塗布し、５８０℃
で焼成する事により形成している。仮に、カラーフィル
タ層の下に使用している透明ガラス膜と同一の材質を電
極上にも形成し、同一温度で焼成すると電極やカラーフ
ィルタ層に切れが発生する。これは電極がスパッタリン
グ法などによる薄膜技術で形成された材質だとしても、
スクリーン印刷法などの厚膜技術で形成されたとしても
同じである。なぜなら、電極上に形成する透明ガラス膜
の焼成温度は、このペースト中に含まれているガラス成
分の軟化点以上でなければならないからである。この焼
成温度が軟化点よりも低いと電極上の透明ガラス膜が完
全にリフローせず、膜中に気泡などが存在し耐圧不良や
透過率低下の原因になる。そのため電極上の透明ガラス
膜の焼成温度は軟化点以上の温度でなければならない。
しかし、電極の下に使用した透明ガラス膜の軟化点も電
極の上に使用した物と同じであるため、電極の上の透明
ガラス膜を焼成しリフローさせる時に、電極の下の透明
ガラス膜も再リフローが始ってしまい、その結果電極や
カラーフィルタ層に切れが発生する。そのため、この技
術をＡＣ型に適応する場合は電極の下と電極の上に形成
する透明ガラス膜の軟化点が異なった材料を使用しなけ
ればならない。しかし、この技術によればその事がなん
ら示唆されていない。また、前面基板上にカラーフィル
タ層を形成し、その後の工程で５８０℃焼成すると、ガ
ラス基板からアルカリ金属（主にＮａ）が析出してきて
カラーフィルタ層の変色が発生する。しかし、この事に
ついてもなんら示唆されていない。Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-196446 discloses a technique in which a color filter is formed on a front substrate, the color filter is covered with a transparent glass film, and an electrode is formed on the transparent glass film. This technology is a DC type color plasma display panel, and it is impossible to apply this technology directly to an AC type. This is because in an AC type color plasma display panel, it is necessary to form a transparent dielectric layer mainly composed of glass on the electrodes. The transparent glass film by this technique is applied with a paste at 580 ° C.
It is formed by firing. If the same material as the transparent glass film used under the color filter layer is also formed on the electrode and fired at the same temperature, the electrode and the color filter layer are cut. This means that even if the electrodes are made of thin film technology such as sputtering,
The same is true even when formed by a thick film technique such as a screen printing method. This is because the firing temperature of the transparent glass film formed on the electrode must be equal to or higher than the softening point of the glass component contained in the paste. If the firing temperature is lower than the softening point, the transparent glass film on the electrode does not completely reflow, and air bubbles and the like are present in the film, which causes poor pressure resistance and lowers transmittance. Therefore, the firing temperature of the transparent glass film on the electrode must be equal to or higher than the softening point.
However, since the softening point of the transparent glass film used under the electrode is the same as that used above the electrode, when firing and reflowing the transparent glass film on the electrode, the transparent glass film under the electrode also Reflow begins, and as a result, cuts occur in the electrodes and the color filter layer. Therefore, when this technique is applied to the AC type, it is necessary to use materials having different softening points of transparent glass films formed below and above the electrode. However, according to this technique, that is not suggested at all. Further, when a color filter layer is formed on the front substrate and baked at 580 ° C. in a subsequent step, alkali metal (mainly Na) is deposited from the glass substrate, and the color filter layer is discolored. However, nothing has been suggested about this.
【００１６】さらに、特開平４−３５２１０４号には前
面基板上にカラーフィルタを形成し、その上を保護膜
（熱硬化性物質）で覆い、その上に透明導電膜を形成す
る。ただし、保護膜の成膜温度をＴ１と透明導電膜の成
膜温度をＴ２とした時に、Ｔ１≧Ｔ２を満たす事を特徴
とする技術が開示されている。これは透明電極のカケ、
ハガレ、密着不良などの発生原因が透明導電膜成膜時に
保護膜からガスが発生したり、透明導電膜成膜時に保護
膜の硬化反応が進行して保護膜の体積収縮または体積膨
張が起こり、保護膜と導電膜との臨界面にシワ、ウネ
リ、空隙などが生じるのを防ぐための技術である。しか
し、この技術をＡＣ型カラープラズマディスプレイパネ
ルに応用したとすると、次のような問題が発生する。即
ちＡＣ型カラープラズマディスプレイパネルでは透明導
電膜上に誘電体層を形成する必要がある。これは上述し
たように電極と誘電体層でコンデンサーを形成する必要
があるためである。仮に透明導電膜上に形成する誘電体
層の焼成温度をＴ３とした時に、透明導電膜に亀裂を発
生させないためにはＴ１＞Ｔ３で且つ焼成温度Ｔ２（透
明導電膜の成膜温度）及びＴ３（誘電体層の焼成温度）
で保護層が体積収縮、体積膨張、あるいは軟化しない事
が重要である。つまり透明導電膜の下地が動いてしまう
と透明導電膜の亀裂につながる。よって保護層と誘電体
層の間に透明導電膜を形成する場合に重要なのは保護層
が体積収縮や体積膨張、あるいは軟化する温度である。
しかし、この技術にはこの事がなんら示唆されていな
い。Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-352104, a color filter is formed on a front substrate, and the color filter is covered with a protective film (thermosetting substance), and a transparent conductive film is formed thereon. However, there is disclosed a technique characterized by satisfying T1 ≧ T2 when the film forming temperature of the protective film is T1 and the film forming temperature of the transparent conductive film is T2. This is a transparent electrode chip,
Causes of peeling, poor adhesion and the like are caused by the generation of gas from the protective film during the formation of the transparent conductive film, or the curing reaction of the protective film proceeds during the formation of the transparent conductive film, and the volume shrinkage or expansion of the protective film occurs. This is a technique for preventing wrinkles, undulations, voids, and the like from being formed on a critical surface between the protective film and the conductive film. However, if this technology is applied to an AC type color plasma display panel, the following problems occur. That is, in an AC type color plasma display panel, it is necessary to form a dielectric layer on a transparent conductive film. This is because it is necessary to form a capacitor with the electrode and the dielectric layer as described above. If the firing temperature of the dielectric layer formed on the transparent conductive film is assumed to be T3, T1> T3 and firing temperatures T2 (the film forming temperature of the transparent conductive film) and T3 in order to prevent cracks in the transparent conductive film. (Firing temperature of dielectric layer)
It is important that the protective layer does not shrink, expand, or soften. That is, if the base of the transparent conductive film moves, it leads to cracks in the transparent conductive film. Therefore, when a transparent conductive film is formed between the protective layer and the dielectric layer, the temperature at which the protective layer contracts, expands, or softens is important.
However, the technique does not suggest this.
【００１７】[0017]
【発明が解決しようとする課題】ＡＣ型カラープラズマ
ディスプレイパネルの場合、前述したように透明誘電体
層は電流制御機能を持ち、非常に重要な部分である。カ
ラーフィルタ層を面放電電極と透明誘電体層の間や透明
誘電体層内部に形成すると、透明誘電体層の静電容量は
透明誘電体層とカラーフィルタ層の直列合成したものに
なる。しかし、カラーフィルタ層の材料は赤色、緑色、
青色で異なるため、各色でこの静電容量が異なる事にな
り、これによってパネルの駆動時に均一な動作が困難に
なる。また、駆動電圧の上昇も起きる。In the case of an AC type color plasma display panel, as described above, the transparent dielectric layer has a current control function and is a very important part. When the color filter layer is formed between the surface discharge electrode and the transparent dielectric layer or inside the transparent dielectric layer, the capacitance of the transparent dielectric layer becomes a series combination of the transparent dielectric layer and the color filter layer. However, the material of the color filter layer is red, green,
Since the color is different for blue, this capacitance is different for each color, which makes it difficult to perform a uniform operation when driving the panel. Also, the driving voltage rises.
【００１８】また、これを避けるためにまず前面基板上
にカラーフィルタ層を形成し、その上に面放電電極を形
成すると、カラーフィルタ層とブラックマトリックス膜
の凹凸によって面放電電極に切れが発生し、電極として
の機能が不可能になる。In order to avoid this, first, a color filter layer is formed on the front substrate, and a surface discharge electrode is formed thereon. If the color filter layer and the black matrix film have irregularities, the surface discharge electrode is cut off. As a result, the function as an electrode becomes impossible.
【００１９】さらに、前面基板上にカラーフィルタ層と
ブラックマトリックス膜を形成し、その上に透明ガラス
膜を形成した後さらにその上に電極を形成した場合、こ
れをＡＣ型カラープラズマディスプレイパネルに適応し
た場合、仮に電極の上に誘電体層として形成するガラス
膜を電極の下に形成したものと同じ材料を使用した場
合、次のような問題が発生する。電極の上の透明ガラス
膜の焼成温度を軟化点以上の温度で焼成した場合、仮に
その温度が電極の下に形成された透明ガラス膜の焼成温
度よりも低かったとしても、電極の下にある透明ガラス
膜が再リフローされ、そのため電極に切れが発生する。
また、電極の上の透明ガラス膜の焼成温度を軟化点より
も低い温度で焼成した場合、電極の上のガラス膜はリフ
ローする事が出来ず、その結果透明ガラス膜に気泡が発
生し、透過率の低下や耐電圧不良の原因になる。Further, when a color filter layer and a black matrix film are formed on a front substrate, a transparent glass film is formed thereon, and then electrodes are further formed thereon, this is applied to an AC type color plasma display panel. In such a case, if the same material as that in which a glass film formed as a dielectric layer on the electrode is formed under the electrode is used, the following problem occurs. If the firing temperature of the transparent glass film on the electrode is fired at a temperature equal to or higher than the softening point, even if the temperature is lower than the firing temperature of the transparent glass film formed under the electrode, the temperature is below the electrode. The transparent glass film is reflowed, so that the electrodes are cut.
If the transparent glass film on the electrode is fired at a temperature lower than the softening point, the glass film on the electrode cannot be reflowed, and as a result, bubbles are generated in the transparent glass film and This may cause a decrease in the rate or a withstand voltage failure.
【００２０】本発明は前面基板上にカラーフィルタ層、
保護層、面放電電極、透明誘電体層と積層した場合の保
護層の材質及び保護層と透明誘電体層の材質の相関を決
定する事により、この構造を実現する事が出来るカラー
フィルタを用いたＡＣ型カラープラズマディスプレイパ
ネルを提供するものである。The present invention provides a color filter layer on a front substrate,
A color filter that can realize this structure can be used by determining the material of the protective layer when laminated with the protective layer, the surface discharge electrode, and the transparent dielectric layer, and the correlation between the material of the protective layer and the material of the transparent dielectric layer. An AC type color plasma display panel is provided.
【００２１】[0021]
【課題を解決するための手段】上述した問題を解決する
ために、本発明のＡＣ型カラープラズマディスプレイパ
ネルによれば、前面基板の構造をガラス基板側からカラ
ーフィルタ層、第１の透明誘電体層、面放電電極、およ
び第２の透明誘電体層とし、第１および第２の透明誘電
体層は低融点の非結晶ガラスを主成分とするペーストを
焼成してなり、第１の透明誘電体層の軟化点が第２の透
明誘電体層の軟化点よりも５０℃以上高くなるように第
１の透明誘電体層と第２の透明誘電体層の材質を決定す
る。ただし、特に第１の透明誘電体層の処理温度が高い
場合には、ガラス基板中のアルカリ金属が焼成によって
析出し、カラーフィルタ層を変色させる事を防ぐために
ガラス基板にＳｉＯ２膜を設け、その上にカラーフィル
タ層、第１の透明誘電体層、面放電電極、および第２の
透明誘電体層の構造とし、第１の透明誘電体層の軟化点
が透明誘電体層の軟化点よりも５０℃以上高くなるよう
に、第１の透明誘電体層と第２の透明誘電体層の材質を
決定する。また、面放電電極は第１の透明誘電体層上に
形成された透明電極と、その透明電極上に形成されたバ
ス電極を有するか、あるいは第１の透明誘電体層上に形
成されたバス電極と、そのバス電極に少なくとも一部が
接するように形成された透明電極を有する事を特徴とす
る。According to the AC type color plasma display panel of the present invention, the structure of the front substrate is changed from the glass substrate side to the color filter layer and the first transparent dielectric. layer, the surface discharge electrodes, and the second a transparent dielectric layer, the first and second transparent dielectric
The body layer is made of a paste mainly composed of amorphous glass with a low melting point.
The first transparent dielectric layer and the second transparent dielectric layer are fired so that the softening point of the first transparent dielectric layer is higher than the softening point of the second transparent dielectric layer by 50 ° C. or more. Determine the material of However, particularly when the processing temperature of the first transparent dielectric layer is high, an SiO 2 film is provided on the glass substrate to prevent the alkali metal in the glass substrate from being deposited by firing and discoloring the color filter layer, A color filter layer, a first transparent dielectric layer, a surface discharge electrode, and a second transparent dielectric layer are formed thereon, and the softening point of the first transparent dielectric layer is higher than the softening point of the transparent dielectric layer. Also, the materials of the first transparent dielectric layer and the second transparent dielectric layer are determined so that the temperature of the first transparent dielectric layer and the temperature of the second transparent dielectric layer become higher than 50 ° C. Further, the surface discharge electrode is formed on the first transparent dielectric layer.
And formed a transparent electrode, or with a bus <br/> scan electrode formed on the transparent electrode, or form the first transparent dielectric layer
It is characterized by having a bus electrode formed and a transparent electrode formed so as to be at least partially in contact with the bus electrode.
【００２２】あるいは、前面基板の構造をガラス基板側
からカラーフィルタ層、結晶化ガラス層、面放電電極、
および透明誘電体層とする。ただし、基板の処理温度が
高い場合には、ガラス基板中のアルカリ金属が焼成によ
って析出し、カラーフィルタ層を変色させる事を防ぐた
めにガラス基板にＳｉＯ２膜を設け、その上にカラーフ
ィルタ層、結晶化ガラス層、面放電電極、および透明誘
電体層の構造とする。また面放電電極は結晶化ガラス層
の上に形成された透明電極と、その透明電極上に形成さ
れたバス電極を有するか、あるいは結晶化ガラス層の上
に形成されたバス電極と、そのバス電極に少なくとも一
部が接するように形成された透明電極を有する事を特徴
とする。Alternatively, the structure of the front substrate is changed from the glass substrate side to a color filter layer, a crystallized glass layer, a surface discharge electrode,
And a transparent dielectric layer. However, if the processing temperature of the substrate is high, an SiO 2 film is provided on the glass substrate to prevent the alkali metal in the glass substrate from being deposited by firing and discoloring the color filter layer, and a color filter layer, The structure includes a crystallized glass layer, a surface discharge electrode, and a transparent dielectric layer. Also surface discharge electrode and the transparent electrode formed on the crystallized glass layer, is formed on the transparent electrode
The or a bus electrode, or a bus electrode formed on the crystallized glass layer, characterized in that it has a transparent electrode formed so as to at least partly contact with the bus electrode.
【００２３】更に、前面基板の構造をガラス基板側から
カラーフィルタ層、前記ガラス基板とは別のガラス板、
面放電電極、および透明誘電体層とする。ただし、基板
の処理温度が高い場合には、ガラス基板中のアルカリ金
属が焼成によって析出し、カラーフィルタ層を変色させ
る事を防ぐためにガラス基板にＳｉＯ２膜を設け、その
上にカラーフィルタ層、前記ガラス基板とは別のガラス
板、面放電電極、および透明誘電体層の構造とする。ま
た、カラーフィルタ層上に形成するガラス板がソーダラ
イムガラスである場合にはガラス板からのアルカリ金属
の析出を抑えるためにＳｉＯ２を成膜し、ガラス板とし
て無アルカリガラスを使用する場合にはガラス板にＳｉ
Ｏ２などの成膜は行なわない。また面放電電極はガラス
板の上に形成された透明電極と、その透明電極上に形成
されたバス電極を有するか、あるいはガラス板の上に形
成されたバス電極と、そのバス電極に少なくとも一部が
接するように形成された透明電極を有する事を特徴とす
る。Further, the structure of the front substrate is a color filter layer from the glass substrate side, a glass plate different from the glass substrate ,
These are a surface discharge electrode and a transparent dielectric layer. However, if the processing temperature of the substrate is high, an SiO 2 film is provided on the glass substrate to prevent the alkali metal in the glass substrate from being deposited by firing and discoloring the color filter layer, and a color filter layer, It has a structure of a glass plate, a surface discharge electrode, and a transparent dielectric layer different from the glass substrate . Further, when the glass plate formed on the color filter layer is soda lime glass, SiO 2 is formed to suppress precipitation of alkali metal from the glass plate, and when non-alkali glass is used as the glass plate, Is Si on the glass plate
No film of O 2 or the like is formed. The surface discharge electrodes is a transparent electrode formed on a glass plate, formed on the transparent electrode
Or a bus electrode which is, or form on a glass plate
It is characterized by having a bus electrode formed and a transparent electrode formed so as to be at least partially in contact with the bus electrode.
【００２４】本発明のカラープラズマディスプレイパネ
ルによれば、高温処理を施す基板についてはＳｉＯ2 を
前面基板上に形成し、アルカリバリアとして機能させ、
カラーフィルタ層の変色を抑えている。また、カラーフ
ィルタ層を形成した後、第１の透明誘電体層（以下ａ）
を形成し、表面を平滑化した後に、面放電電極、第２の
透明誘電体層（以下ｂ）、そして保護層を形成する。カ
ラーフィルタ層上に透明誘電体層ａを形成した事により
表面は平滑化され、その後の透明電極形成やバス電極形
成に支障が起きない。また、透明電極の成膜温度は通常
スパッタリング法で成膜した場合約２５０℃以下であ
り、それに対し透明誘電体層ａ、または透明誘電体層ｂ
の焼成温度は５００〜６００℃である。このため透明電
極を成膜する際に透明誘電体層ａが軟化する事は無く透
明電極成膜時に透明電極の切れなどの問題は発生しな
い。更に、透明誘電体層ｂの焼成時に透明誘電体層ａが
軟化しなければ透明電極とバス電極からなる面放電電極
に断線は発生しない。この透明誘電体層ｂの焼成時に透
明誘電体層ａを軟化させないために必要な透明誘電体層
ａの軟化点と透明誘電体層ｂの軟化点の差は５０℃以上
であり、透明誘電体層ａが透明誘電体層ｂよりも５０℃
以上高い軟化点を持つ材質で、透明誘電体層ｂの焼成を
透明誘電体層ｂの軟化点近傍で行なえば面放電電極に断
線は発生せず、透明誘電体層ｂを完全に軟化させる事が
出来、透明誘電体層ｂの中に気泡などが発生しないので
耐電圧不良や透過率の低下も起きない。また保護層であ
るＭｇＯの成膜温度は通常２００℃前後であるので、Ｍ
ｇＯの成膜で透明誘電体層ａや透明誘電体層ｂが軟化す
る事は無い。次に、前面基板の構造をガラス基板側から
カラーフィルタ層、結晶化ガラス層、面放電電極、透明
誘電体層、及び保護層とした時、やはりカラーフィルタ
層上に結晶化ガラス層を設けた事により表面が平滑化さ
れ、カラーフィルタ層を形成しても面放電電極形成にな
んら支障が起きない。更に、結晶化ガラスは５００〜６
００℃で焼成を行なうと、焼成後は再軟化し難くなる。
これによって、透明電極の成膜時やバス電極の形成時、
更に面放電電極上に形成される透明誘電体層の焼成時に
結晶化ガラスが再軟化しない事で面放電電極に切れは発
生せず、透明誘電体層を完全に軟化させる事が出来、そ
の結果、透明誘電体層の中に気泡などが発生せず、耐電
圧不良や透過率の低下も起きない前面基板を形成出来
る。また、基板を高温処理する場合にはガラス基板にＳ
ｉＯ2 を形成し、ガラス基板からのアルカリ金属の析出
を抑える。According to the color plasma display panel of the present invention, SiO 2 is formed on the front substrate for the substrate to be subjected to the high-temperature treatment, and is made to function as an alkali barrier.
Discoloration of the color filter layer is suppressed. After forming the color filter layer, a first transparent dielectric layer (hereinafter a) is formed.
After the surface is smoothed, a surface discharge electrode, a second transparent dielectric layer (hereinafter referred to as b), and a protective layer are formed. By forming the transparent dielectric layer a on the color filter layer, the surface is smoothed, and there is no hindrance in the formation of the transparent electrode and the bus electrode thereafter. The film forming temperature of the transparent electrode is usually about 250 ° C. or less when the film is formed by a sputtering method, whereas the transparent dielectric layer a or the transparent dielectric layer b
Is 500 to 600 ° C. For this reason, the transparent dielectric layer a is not softened when the transparent electrode is formed, and there is no problem such as disconnection of the transparent electrode during the formation of the transparent electrode. Further, if the transparent dielectric layer a is not softened during the firing of the transparent dielectric layer b, no disconnection occurs in the surface discharge electrode including the transparent electrode and the bus electrode. The difference between the softening point of the transparent dielectric layer a and the softening point of the transparent dielectric layer b required to prevent the softening of the transparent dielectric layer a during firing of the transparent dielectric layer b is 50 ° C. or more. Layer a is 50 ° C. higher than transparent dielectric layer b
If the transparent dielectric layer b is baked near the softening point of the transparent dielectric layer b with a material having a high softening point as described above, the surface discharge electrode will not be disconnected, and the transparent dielectric layer b will be completely softened. Since no air bubbles or the like are generated in the transparent dielectric layer b, a withstand voltage failure and a decrease in transmittance do not occur. Since the film formation temperature of the protective layer MgO is usually around 200 ° C.
The transparent dielectric layer a and the transparent dielectric layer b are not softened by the deposition of gO. Next, when the structure of the front substrate was a color filter layer, a crystallized glass layer, a surface discharge electrode, a transparent dielectric layer, and a protective layer from the glass substrate side, the crystallized glass layer was also provided on the color filter layer. As a result, the surface is smoothed, and even if a color filter layer is formed, no problem occurs in the formation of the surface discharge electrode. Furthermore, crystallized glass is 500-6
When calcination is performed at 00 ° C., it is difficult to re-soften after calcination.
Thus, when forming a transparent electrode or forming a bus electrode,
Furthermore, since the crystallized glass does not re-soften during firing of the transparent dielectric layer formed on the surface discharge electrode, no break occurs in the surface discharge electrode, and the transparent dielectric layer can be completely softened. In addition, it is possible to form a front substrate in which no bubbles or the like are generated in the transparent dielectric layer, and a withstand voltage failure and a decrease in transmittance do not occur. When the substrate is processed at a high temperature, S
It forms iO 2 and suppresses precipitation of alkali metal from the glass substrate.
【００２５】更に、前面基板の構造をガラス基板側から
カラーフィルタ層、前記ガラス基板とは別のガラス板、
面放電電極、透明誘電体層、及び保護層とした時、カラ
ーフィルタ層上にガラス板を設けた事により表面は平滑
で、カラーフィルタ層を形成しても面放電電極形成にな
んら支障が起きない。更に、ガラス板は透明電極の成膜
時やバス電極の形成時、更に面放電電極上に形成される
透明誘電体層の焼成時に軟化する事は無く、面放電電極
に切れは発生せず、透明誘電体層を完全に軟化させる事
が出来、その結果、透明誘電体層の中に気泡などが発生
せず、耐電圧不良や透過率の低下も起きない前面基板を
形成出来る。また、基板を高温処理する場合にはガラス
基板及びガラス板にＳｉＯ２を形成し、ガラス基板及び
ガラス板からのアルカリ金属の析出を抑える。また、ガ
ラス板として無アルカリガラスを使用すれば、ガラス板
にＳｉＯ２を形成する必要は無い。Further, the structure of the front substrate is a color filter layer from the glass substrate side, a glass plate different from the glass substrate ,
When a surface discharge electrode, a transparent dielectric layer, and a protective layer are used, the surface is smooth due to the provision of a glass plate on the color filter layer. Even if the color filter layer is formed, there is no problem in forming the surface discharge electrode. Absent. Furthermore, the glass plate does not soften during the formation of the transparent electrode, the formation of the bus electrode, or the firing of the transparent dielectric layer formed on the surface discharge electrode, and the surface discharge electrode does not break, It is possible to completely soften the transparent dielectric layer, and as a result, it is possible to form a front substrate in which no bubbles or the like are generated in the transparent dielectric layer, and a withstand voltage failure and a decrease in transmittance do not occur. When the substrate is subjected to high temperature treatment, SiO 2 is formed on the glass substrate and the glass plate,
Prevents precipitation of alkali metals from glass plates . If non-alkali glass is used as the glass plate, it is not necessary to form SiO 2 on the glass plate.
【００２６】これによって、面放電電極と透明誘電体層
の間や透明誘電体層内部にカラーフィルタ層を形成して
いないので、カラーフィルタ材料が赤色、緑色、青色と
異なる事による静電容量の不均一が発生せず、パネル全
面に渡って均一な駆動が行なえる。As a result, since no color filter layer is formed between the surface discharge electrode and the transparent dielectric layer or inside the transparent dielectric layer, the capacitance of the color filter material differs from red, green and blue. Non-uniformity does not occur, and uniform driving can be performed over the entire panel.
【００２７】[0027]
【発明の実施の形態】以下に本発明のカラープラズマデ
ィスプレイパネルの実施の形態について図を用いて説明
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a color plasma display panel according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００２８】（実施の形態１）この第１の実施の形態で
は前面基板上にＳｉＯ2 を厚さ１ミクロン程度成膜し、
その上にカラーフィルタ層を形成し、その後透明誘電体
層ａ、透明電極、バス電極、透明誘電体層ｂ、及び保護
層と積層した場合について説明する。ただし、透明誘電
体層ａは非結晶ガラスを主成分とした物を使用した。(Embodiment 1) In this first embodiment, SiO 2 is deposited on the front substrate to a thickness of about 1 μm,
A case will be described in which a color filter layer is formed thereon, and then a transparent dielectric layer a, a transparent electrode, a bus electrode, a transparent dielectric layer b, and a protective layer are laminated. However, the transparent dielectric layer a used was a material mainly composed of amorphous glass.
【００２９】この時のパネルの断面構造を図１に示す。
図１は従来例で示した図４のｄ―ｄ’線での断面に相当
する。また、図１の後面基板は従来例で示したのと同様
にガラス基板上にデータ電極８、隔壁７及び蛍光体９
Ｒ、９Ｇ、９Ｂを順次形成する。各発光色を得る放電セ
ル１１はデータ電極８と隔壁７を介して対向する前面基
板１が有する面放電電極２Ｈとで構成した。FIG. 1 shows a sectional structure of the panel at this time.
FIG. 1 corresponds to a cross section taken along line dd ′ of FIG. 4 shown in the conventional example. The rear substrate of FIG. 1 has a data electrode 8, a partition 7 and a phosphor 9 on a glass substrate in the same manner as shown in the conventional example.
R, 9G, and 9B are sequentially formed. The discharge cell 11 for obtaining each emission color was composed of the data electrode 8 and the surface discharge electrode 2H of the front substrate 1 opposed to the data electrode 8 via the partition wall.
【００３０】一方、前面基板１はＳｉＯ2 層１２、カラ
ーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ、透明誘電体層５ａ、透
明電極２、バス電極３、透明誘電体層５ｂ、及び保護層
６を形成する。この時透明誘電体層５ａの軟化点は透明
誘電体層５ｂの軟化点よりも５０℃以上高い材料を使用
する。On the other hand, the front substrate 1 forms an SiO 2 layer 12, color filter layers 4R, 4G, 4B, a transparent dielectric layer 5a, a transparent electrode 2, a bus electrode 3, a transparent dielectric layer 5b, and a protective layer 6. . At this time, a material whose softening point of the transparent dielectric layer 5a is higher than that of the transparent dielectric layer 5b by 50 ° C. or more is used.
【００３１】まず、前面基板１上にＳｉＯ2 をコートす
る。コートの方法はディップ方式で行なった。溶液の中
に前面基板１を浸し、基板を引き上げ乾燥する。この基
板を約５５０℃で焼成する事によってＳｉＯ2 膜が前面
基板１上に成膜される。焼成後の膜厚は約１ミクロンで
あった。First, the front substrate 1 is coated with SiO 2 . The coating method was a dip method. The front substrate 1 is immersed in the solution, and the substrate is pulled up and dried. By firing this substrate at about 550 ° C., an SiO 2 film is formed on the front substrate 1. The film thickness after firing was about 1 micron.
【００３２】次に、カラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ
を形成する。形成方法はスクリーン印刷法で行なった。
酸化鉄を主成分とする赤色の微粒子顔料にバインダーと
溶剤を調合したペーストをストライプ状に印刷する。印
刷後、約１５０℃で溶剤を蒸発させ乾燥した。次に、コ
バルト、クロム、アルミニウムの酸化物を主成分とする
緑色の微粒子顔料にバインダーと溶剤を調合したペース
トを用い、既に印刷されている赤色顔料パターンの横に
平行に印刷し、乾燥する。最後にコバルトとアルミニウ
ムの酸化物を主成分とする青色の顔料にバインダーと溶
剤を調合したペーストを用い、既に印刷されている緑色
顔料パターンの横に平行に印刷し乾燥する。この３回の
顔料印刷により表示部に相当する部分を全面各色の顔料
で覆った後焼成を行なった。焼成後のカラーフィルタ層
の厚さは３色とも約２ミクロンとした。使用した無機顔
料粒子の粒径は０．０１〜０．０５ミクロン程度と非常
に細かく、緻密な層になっている。Next, the color filter layers 4R, 4G, 4B
To form The formation was performed by a screen printing method.
A paste in which a binder and a solvent are mixed with a red fine particle pigment containing iron oxide as a main component is printed in a stripe shape. After printing, the solvent was evaporated at about 150 ° C. and dried. Next, using a paste prepared by mixing a binder and a solvent with a green fine particle pigment mainly containing oxides of cobalt, chromium and aluminum, printing is performed in parallel with the already printed red pigment pattern, followed by drying. Finally, using a paste prepared by mixing a binder and a solvent with a blue pigment mainly containing oxides of cobalt and aluminum, printing is performed parallel to the already printed green pigment pattern, followed by drying. A portion corresponding to the display portion was entirely covered with pigments of each color by the three times of pigment printing, and then baked. The thickness of the color filter layer after firing was about 2 microns for all three colors. The inorganic pigment particles used have a very fine and dense layer with a particle size of about 0.01 to 0.05 microns.
【００３３】次にこの上に透明誘電体層５ａを形成す
る。形成方法はスクリーン印刷法で行なった。低融点の
非結晶ガラスを主成分とするペーストをカラーフィルタ
層４を覆うように印刷した。その後乾燥し焼成を行なっ
た。ただし、この時使用したペースト中のガラスフリッ
トは後に使用する透明誘電体層５ｂよりも５０℃以上高
い軟化点を持つ材料を使用した。必然的にこの透明誘電
体層５ａの焼成温度は後に行なう透明誘電体層５ｂの焼
成温度よりも高い温度で行なった。この透明誘電体層５
ａの焼成温度は５５０〜６００℃とし、焼成後の膜厚は
約１０ミクロンとした。Next, a transparent dielectric layer 5a is formed thereon. The formation was performed by a screen printing method. A paste containing amorphous glass having a low melting point as a main component was printed so as to cover the color filter layer 4. Thereafter, it was dried and fired. However, as the glass frit in the paste used at this time, a material having a softening point higher by 50 ° C. or more than the transparent dielectric layer 5b used later was used. Naturally, the firing temperature of the transparent dielectric layer 5a was higher than the firing temperature of the transparent dielectric layer 5b to be performed later. This transparent dielectric layer 5
The firing temperature of a was 550-600 ° C., and the film thickness after firing was about 10 μm.
【００３４】この透明誘電体層５ａを形成した後、透明
電極２を形成する。まず、透明誘電体層５ａ上に透明導
電膜をベタで成膜する。この透明導電膜として酸化錫
（ＳｎＯ2 ）やインジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）な
どが考えられる。本実施の形態ではこのＩＴＯを使用し
た。また成膜方法として、スパッタリング法やＣＶＤ
法、またはペースト化されたものを使用しての印刷法な
どが考えられるが本実施の形態ではスパッタリング法で
成膜した。成膜温度は１５０〜２５０℃とし、膜厚は１
００〜２００ｎｍ程度の厚さにした。透明導電膜をベタ
で成膜した後、レジストを塗布し乾燥、露光、現像の処
置をした後エッチングを行ない電極としての形を形成す
る。これにより透明電極２を形成する。次に従来例でも
述べたように透明電極２の抵抗値は数十ｋΩ以上あるの
で、抵抗値の低いバス電極３を形成する。バス電極３の
材料としてクロム／銅／クロムやアルミニウムあるいは
銀などが考えられるが、本実施の形態では銀を使用し
た。また形成方法も、スパッタリング法による薄膜と印
刷法による厚膜が考えられるが、本実施の形態では銀を
使用したので厚膜技術である印刷法で形成した。この
時、銀粉末にガラス粉末を混ぜた物に有機溶剤と樹脂を
混ぜペースト化したものを使用したので、印刷法でパタ
ーンを形成した後、５００〜６００℃で焼成する事によ
ってペースト中の有機溶剤や樹脂を燃焼させパターン中
に残存しないようにし、また同焼成によってペースト中
のガラスを一度軟化させる事によってバス電極３の密着
力を得る事が出来た。After forming the transparent dielectric layer 5a, the transparent electrode 2 is formed. First, a solid transparent conductive film is formed on the transparent dielectric layer 5a. As this transparent conductive film, tin oxide (SnO 2 ), indium tin oxide (ITO), or the like can be considered. In this embodiment, this ITO is used. As a film forming method, a sputtering method or a CVD method is used.
In this embodiment, the film is formed by a sputtering method or a printing method using a paste-formed material. The film formation temperature is 150 to 250 ° C., and the film thickness is 1
The thickness was about 100 to 200 nm. After a transparent conductive film is solidly formed, a resist is applied, dried, exposed and developed, and then etched to form a shape as an electrode. Thereby, the transparent electrode 2 is formed. Next, as described in the conventional example, since the resistance value of the transparent electrode 2 is several tens kΩ or more, the bus electrode 3 having a low resistance value is formed. The material of the bus electrode 3 may be chromium / copper / chromium, aluminum, silver, or the like. In this embodiment, silver is used. As a forming method, a thin film formed by a sputtering method and a thick film formed by a printing method are conceivable. In the present embodiment, silver is used, so that the forming method is a printing method which is a thick film technique. At this time, since a paste obtained by mixing an organic solvent and a resin with a mixture of silver powder and glass powder was used, a pattern was formed by a printing method, and the paste was baked at 500 to 600 ° C. to form an organic substance in the paste. The adhesion of the bus electrode 3 could be obtained by burning the solvent or resin so as not to remain in the pattern, and by softening the glass in the paste once by the same baking.
【００３５】次に、この上に透明誘電体層５ｂを形成す
る。透明誘電体層５ｂも透明誘電体層５ａと同様にスク
リーン印刷法で行なった。ただし、前述した通り透明誘
電体層５ｂに使用するガラスフリットは透明誘電体層５
ａに使用した物より軟化点が５０℃以上低い材料を使用
した。これを印刷・乾燥後５００〜５５０℃の温度で焼
成した。この透明誘電体層５ｂの焼成後の膜厚は約３０
ミクロンとした。Next, a transparent dielectric layer 5b is formed thereon. The transparent dielectric layer 5b was screen-printed similarly to the transparent dielectric layer 5a. However, as described above, the glass frit used for the transparent dielectric layer 5b is
A material having a softening point lower by 50 ° C. or more than that used for a was used. After printing and drying, this was fired at a temperature of 500 to 550 ° C. The thickness of this transparent dielectric layer 5b after firing is about 30.
Microns.
【００３６】ここで、透明誘電体層ａの軟化点をＴｓ
（ａ）とし、透明誘電体層ｂの軟化点をＴｓ（ｂ）とし
た時に、この軟化点の差による電極状態は実験の結果、
表１の通りであった。Here, the softening point of the transparent dielectric layer a is defined as Ts
(A), when the softening point of the transparent dielectric layer b is Ts (b), the electrode state due to the difference in the softening point is as a result of an experiment.
As shown in Table 1.
【００３７】[0037]
【表１】 [Table 1]
【００３８】ここで、軟化点が５４３℃の透明誘電体ペ
ーストとして、例えば日本電気硝子（株）製のＰＬＳ−
３２４３があり、軟化点が５００℃の透明誘電体用ペー
ストとして、例えば（株）ノリタケカンパニーリミテド
製のＮＰ−４９７４などがある。Here, as a transparent dielectric paste having a softening point of 543 ° C., for example, PLS- manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.
As a transparent dielectric paste having a softening point of 500 ° C., for example, NP-4974 manufactured by Noritake Co., Ltd. is available.
【００３９】表１から分かるように、透明誘電体層ａの
軟化点は透明誘電体層ｂの軟化点よりも５０℃以上高い
時に電極の断線が格段に減少し、面放電電極として機能
している事が分かる。尚、上記の透明誘電体ペーストに
限らず類似のものでもほぼ同一の温度差で同様の結果が
得られた。As can be seen from Table 1, when the softening point of the transparent dielectric layer a is higher than the softening point of the transparent dielectric layer b by 50 ° C. or more, disconnection of the electrode is remarkably reduced, and the electrode functions as a surface discharge electrode. I understand that there is. Note that similar results were obtained with substantially the same temperature difference not only for the transparent dielectric paste described above but also for similar ones.
【００４０】この透明誘電体層５ｂを形成した後に透明
誘電体層５ｂ全てを被覆するようにＭｇＯからなる保護
層６を形成する。ＭｇＯは蒸着法により成膜し、成膜温
度は２００℃とし、膜厚は０．５〜１ミクロンとした。After forming the transparent dielectric layer 5b, a protective layer 6 made of MgO is formed so as to cover the entire transparent dielectric layer 5b. MgO was formed by a vapor deposition method, the film formation temperature was 200 ° C., and the film thickness was 0.5 to 1 μm.
【００４１】このようにして前面基板１を作成し、後面
基板１０と組み合わせてパネルを作る。ただし、前面基
板１に作成したカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの各
色と後面基板１０に形成した蛍光体９Ｒ、９Ｇ、９Ｂの
発光色が一致するようにした事は言うまでもない。The front substrate 1 is prepared in this manner, and a panel is formed by combining the front substrate 1 with the rear substrate 10. However, it goes without saying that the colors of the color filter layers 4R, 4G, and 4B formed on the front substrate 1 and the emission colors of the phosphors 9R, 9G, and 9B formed on the rear substrate 10 match.
【００４２】このパネルを動作させたところ、電極の切
れは発生せず、また、耐電圧不良や透過率の低下も発生
しないで高い明所コントラストと広い色再現性が確保出
来、更にカラーフィルタによる駆動電圧の上昇及び各カ
ラーフィルタ材料（赤色、緑色、青色）による駆動電圧
の不均一を解消する事が出来た。また、カラーフィルタ
層の変色も起きなかった。When this panel was operated, no disconnection of the electrodes occurred, and a high light place contrast and a wide color reproducibility could be secured without causing a withstand voltage defect or a decrease in transmittance. It was possible to eliminate the non-uniformity of the drive voltage due to the increase of the drive voltage and the material of each color filter (red, green, blue). Also, no discoloration of the color filter layer occurred.
【００４３】また、本実施の形態では前面基板１上にＳ
ｉＯ2 層１２をコートしたが、これは透明誘電体層５ａ
の焼成温度が５５０℃以上であったためである。前面基
板１を製造する全工程の最高焼成温度が５５０℃よりも
低い場合は、これをコートしなくてもカラーフィルタ層
４の変色は発生しない。更に本実施の形態では面放電電
極２Ｈを透明電極２上にバス電極３を設ける事で形成し
たが、バス電極３を先に形成しておき、次に透明電極２
がこのバス電極３に接するように形成しても同様の効果
が得られる事は言うまでもない。In the present embodiment, the S
The iO 2 layer 12 was coated, but this was the transparent dielectric layer 5a.
Was 550 ° C. or higher. When the maximum firing temperature in all the steps of manufacturing the front substrate 1 is lower than 550 ° C., the color of the color filter layer 4 does not change even if it is not coated. Further, in this embodiment, the surface discharge electrode 2H is formed by providing the bus electrode 3 on the transparent electrode 2. However, the bus electrode 3 is formed first, and then the transparent electrode 2H is formed.
However, needless to say, the same effect can be obtained even if the electrode is formed so as to be in contact with the bus electrode 3.
【００４４】（実施の形態２）この第２の実施の形態で
は前面基板上にカラーフィルタ層を形成し、更に結晶化
ガラス層、透明電極、バス電極、透明誘電体層、及び保
護層と積層した場合について説明する。この時のパネル
の断面構造を図２に示す。図２は従来例で示した図４の
ｄ―ｄ’線での断面に相当する。また、図２の後面基板
は従来例で示したのと同様にガラス基板上にデータ電極
８、隔壁７及び蛍光体９Ｒ、９Ｇ、９Ｂを順次形成す
る。各発光色を得る放電セル１１はデータ電極８と隔壁
７を介して対向する前面基板１が有する面放電電極２Ｈ
とで構成した。(Embodiment 2) In this second embodiment, a color filter layer is formed on a front substrate and further laminated with a crystallized glass layer, a transparent electrode, a bus electrode, a transparent dielectric layer, and a protective layer. A description will be given of the case in which this is done. FIG. 2 shows a sectional structure of the panel at this time. FIG. 2 corresponds to a cross section taken along line dd ′ of FIG. 4 shown in the conventional example. In the rear substrate of FIG. 2, data electrodes 8, partition walls 7, and phosphors 9R, 9G, and 9B are sequentially formed on a glass substrate in the same manner as in the conventional example. A discharge cell 11 for obtaining each emission color is a surface discharge electrode 2H of the front substrate 1 facing the data electrode 8 via the partition wall 7.
It consisted of:
【００４５】一方、前面基板１はカラーフィルタ層４
Ｒ、４Ｇ、４Ｂ、結晶化ガラス層１３、透明電極２、バ
ス電極３、透明誘電体層５ｂ、及び保護層６を形成す
る。On the other hand, the front substrate 1 has a color filter layer 4
R, 4G, 4B, a crystallized glass layer 13, a transparent electrode 2, a bus electrode 3, a transparent dielectric layer 5b, and a protective layer 6 are formed.
【００４６】まず、前面基板１上にカラーフィルタ層４
Ｒ、４Ｇ、４Ｂを形成する。形成方法は第１の実施の形
態と同様であるので省略する。First, the color filter layer 4 is formed on the front substrate 1.
R, 4G and 4B are formed. The forming method is the same as in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.
【００４７】次にこの上に結晶化ガラス層１３を形成す
る。形成方法はスクリーン印刷法で行なった。結晶化ガ
ラスを主成分とするペーストでカラーフィルタ層４を覆
うように印刷した。その後乾燥し５００〜６００℃で焼
成をした。ただし、結晶化ガラスは光の透過率が悪いの
で焼成後の膜厚を５ミクロン以下とした。Next, a crystallized glass layer 13 is formed thereon. The formation was performed by a screen printing method. Printing was performed so as to cover the color filter layer 4 with a paste mainly composed of crystallized glass. Thereafter, it was dried and fired at 500 to 600 ° C. However, since the crystallized glass has poor light transmittance, the film thickness after firing was set to 5 μm or less.
【００４８】この結晶化ガラス層１３を形成した後、透
明電極２を形成する。ただし、透明電極２、バス電極３
の形成方法は第１の実施の形態と同様であるので省略す
る。After forming the crystallized glass layer 13, the transparent electrode 2 is formed. However, transparent electrode 2, bus electrode 3
Is the same as that of the first embodiment, and a description thereof will be omitted.
【００４９】透明電極２、バス電極３を形成した後、透
明誘電体層５を形成する。透明誘電体層５も結晶化ガラ
ス層１３と同様にスクリーン印刷法で行なった。これを
印刷・乾燥後５００〜６００℃の温度で焼成した。この
透明誘電体層５の焼成後の膜厚は約３０ミクロンとし
た。この透明誘電体層５を形成した後に透明誘電体層５
全てを被覆するようにＭｇＯからなる保護層６を形成す
る。ＭｇＯは蒸着法により成膜し成膜温度は２００℃と
し、膜厚は０．５〜１ミクロンとした。After forming the transparent electrode 2 and the bus electrode 3, a transparent dielectric layer 5 is formed. The transparent dielectric layer 5 was formed by screen printing in the same manner as the crystallized glass layer 13. After printing and drying, it was fired at a temperature of 500 to 600 ° C. The thickness of this transparent dielectric layer 5 after firing was about 30 microns. After forming the transparent dielectric layer 5, the transparent dielectric layer 5
A protective layer 6 made of MgO is formed so as to cover the whole. MgO was formed by a vapor deposition method, the film formation temperature was 200 ° C., and the film thickness was 0.5 to 1 μm.
【００５０】このようにして前面基板１を作成し、後面
基板１０と組み合わせてパネルを作る。ただし、前面基
板１に作成したカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの各
色と後面基板１０に形成した蛍光体９Ｒ、９Ｇ、９Ｂの
発光色が一致するようにした事は言うまでもない。The front substrate 1 is formed in this manner, and a panel is formed by combining the front substrate 1 with the rear substrate 10. However, it goes without saying that the colors of the color filter layers 4R, 4G, and 4B formed on the front substrate 1 and the emission colors of the phosphors 9R, 9G, and 9B formed on the rear substrate 10 match.
【００５１】このパネルを動作させたところ、電極の切
れは発生せず、また、耐電圧不良や透過率の低下も発生
せず、高い明所コントラストと広い色再現性が確保出
来、更にカラーフィルタによる駆動電圧の上昇及び各カ
ラーフィルタ材料（赤色、緑色、青色）による駆動電圧
の不均一を解消する事が出来た。また、カラーフィルタ
層の変色も起きなかった。When this panel was operated, no disconnection of the electrodes occurred, no poor withstand voltage and no decrease in transmittance occurred, a high light place contrast and a wide color reproducibility were secured, and the color filter was further improved. , And non-uniformity of the driving voltage due to each color filter material (red, green, blue). Also, no discoloration of the color filter layer occurred.
【００５２】また、本実施の形態では前面基板１にＳｉ
Ｏ2 コートしていないが、前面基板の製造工程のうち最
高焼成温度が５５０℃超える場合には第１の実施の形態
と同様にＳｉＯ2 層を設ける必要がある。更に本実施の
形態では面放電電極２Ｈを透明電極２上にバス電極３を
設ける事で形成したが、バス電極３を先に形成してお
き、次に透明電極２がこのバス電極３に接するように形
成しても同様の効果が得られる事は言うまでもない。In this embodiment, the front substrate 1 is made of Si.
Although not coated with O 2, if the maximum firing temperature exceeds 550 ° C. in the process of manufacturing the front substrate, it is necessary to provide an SiO 2 layer as in the first embodiment. Further, in this embodiment, the surface discharge electrode 2H is formed by providing the bus electrode 3 on the transparent electrode 2. However, the bus electrode 3 is formed first, and then the transparent electrode 2 comes into contact with the bus electrode 3. It is needless to say that the same effect can be obtained even if it is formed as described above.
【００５３】（実施の形態３）この第３の実施の形態で
は前面基板上にカラーフィルタ層を形成し、ＳｉＯ2コ
ートしたソーダライムガラス板、透明電極、バス電極、
透明誘電体層、及び保護層と積層した場合について説明
する。この時のパネルの断面構造を図３に示す。図３は
従来例で示した図４のｄ―ｄ’線での断面に相当する。
また、図３の後面基板は従来例で示したのと同様にガラ
ス基板上にデータ電極８、隔壁７及び蛍光体９Ｒ、９
Ｇ、９Ｂを順次形成する。各発光色を得る放電セル１１
はデータ電極８と隔壁７を介して対向する前面基板１が
有する面放電電極とで構成した。(Embodiment 3) In this third embodiment, a color filter layer is formed on a front substrate, and a soda lime glass plate coated with SiO 2 , a transparent electrode, a bus electrode,
The case where the transparent dielectric layer and the protective layer are laminated will be described. FIG. 3 shows a sectional structure of the panel at this time. FIG. 3 corresponds to a cross section taken along line dd ′ of FIG. 4 shown in the conventional example.
The rear substrate of FIG. 3 has a data electrode 8, a partition 7 and phosphors 9R and 9R on a glass substrate in the same manner as shown in the conventional example.
G and 9B are sequentially formed. Discharge cell 11 for obtaining each emission color
Are composed of the data electrodes 8 and the surface discharge electrodes of the front substrate 1 facing each other with the partition walls 7 interposed therebetween.
【００５４】一方、前面基板１はカラーフィルタ層４
Ｒ、４Ｇ、４Ｂ、ガラス板１４、透明電極２、バス電極
３、透明誘電体層５、及び保護層６を形成する。On the other hand, the front substrate 1 has a color filter layer 4
R, 4G, 4B, a glass plate 14, a transparent electrode 2, a bus electrode 3, a transparent dielectric layer 5, and a protective layer 6 are formed.
【００５５】まず、前面基板１上にカラーフィルタ層４
Ｒ、４Ｇ、４Ｂを形成する。形成方法は第１及び第２の
実施の形態と同様なので省略する。First, the color filter layer 4 is formed on the front substrate 1.
R, 4G and 4B are formed. The forming method is the same as in the first and second embodiments, and a description thereof will be omitted.
【００５６】次にこの上にガラス板１４を張り合わせ
る。本実施の形態ではガラス板１４としてソーダライム
ガラスを使用した。そのため、ガラス板１４は前もって
ディップ法によってＳｉＯ2 層１２をコーティングして
おいたものを使用した。またガラス板１４の大きさは、
前面基板１より小さい物を使用したが、駆動回路とパネ
ルをつなぐＦＰＣを接着する端子部までは覆える大きさ
とした。更に、ガラス板１４を前面基板１上に固定する
ためにガラス板１４の周囲に低融点のガラスペーストを
塗布し焼成を行なった。ここで使用した低融点ガラスペ
ーストは後に使用する透明誘電体層５と同じ材料を使用
した。これは前面基板１上に形成する全ての電極がガラ
ス板１４上に来るようにガラス板１４の大きさを決定し
ているので、ガラス板１４の周囲の部分と電極上に形成
する透明誘電体層５との軟化点が同じでも特に問題が無
いからである。Next, a glass plate 14 is laminated thereon. In the present embodiment, soda lime glass is used as the glass plate 14. Therefore, the glass plate 14 used was previously coated with the SiO 2 layer 12 by the dipping method. The size of the glass plate 14 is
Although a substrate smaller than the front substrate 1 was used, it was made large enough to cover the terminal portion for bonding the FPC connecting the drive circuit and the panel. Further, in order to fix the glass plate 14 on the front substrate 1, a low melting point glass paste was applied around the glass plate 14 and baked. The low melting point glass paste used here was the same material as the transparent dielectric layer 5 used later. This is because the size of the glass plate 14 is determined so that all the electrodes formed on the front substrate 1 are on the glass plate 14. Therefore, a transparent dielectric material formed on the electrodes around the glass plate 14 and the electrodes is used. This is because there is no particular problem even if the softening point of the layer 5 is the same.
【００５７】このガラス板１４上に透明電極２及びバス
電極３を形成する。形成方法は第１及び第２の実施の形
態と同様であるので省略する。The transparent electrode 2 and the bus electrode 3 are formed on the glass plate 14. The forming method is the same as in the first and second embodiments, and a description thereof will be omitted.
【００５８】透明電極２、バス電極３を形成した後、透
明誘電体層５を形成する。透明誘電体層５の形成方法と
しては第１及び第２の実施の形態と同様にスクリーン印
刷法で行なった。しかし、この時使用する透明誘電体層
５のガラスフリットの軟化点は第１の実施の形態とは異
なり透明電極２の下に使用した下地からの制約は特に無
く、透明電極２及びバス電極３との関係から決定すれば
良い事になる。この透明誘電体層５の焼成温度は５００
〜６００℃とし、焼成後の膜厚を約３０ミクロンとし
た。この透明誘電体層５を形成した後に透明誘電体層５
全てを被覆するようにＭｇＯからなる保護層６を形成す
る。ＭｇＯは蒸着法により成膜し成膜温度は約２００℃
とし、膜厚は０．５〜１ミクロンとした。After forming the transparent electrode 2 and the bus electrode 3, a transparent dielectric layer 5 is formed. The transparent dielectric layer 5 was formed by a screen printing method as in the first and second embodiments. However, unlike the first embodiment, the softening point of the glass frit of the transparent dielectric layer 5 used at this time is not particularly limited by the base used below the transparent electrode 2, and the transparent electrode 2 and the bus electrode 3 are not limited. It should be determined from the relationship. The firing temperature of the transparent dielectric layer 5 is 500
To 600 ° C., and the film thickness after firing was about 30 μm. After forming the transparent dielectric layer 5, the transparent dielectric layer 5
A protective layer 6 made of MgO is formed so as to cover the whole. MgO is deposited by vapor deposition at a temperature of about 200 ° C.
And the film thickness was 0.5 to 1 micron.
【００５９】このようにして前面基板１を作成し、後面
基板１０と組み合わせてパネルを作る。ただし、前面基
板１に作成したカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの各
色と後面基板１０に形成した蛍光体９Ｒ、９Ｇ、９Ｂの
発光色が一致するようにした事は言うまでもない。The front substrate 1 is formed in this way, and a panel is formed by combining the front substrate 1 with the rear substrate 10. However, it goes without saying that the colors of the color filter layers 4R, 4G, and 4B formed on the front substrate 1 and the emission colors of the phosphors 9R, 9G, and 9B formed on the rear substrate 10 match.
【００６０】このパネルを動作させたところ、電極のは
発生せず、また、耐電圧不良や透過率の低下も発生せ
ず、高い明所コントラストと広い色再現性が確保出来、
更にカラーフィルタによる駆動電圧の上昇及び各カラー
フィルタ材料（赤色、緑色、青色）による駆動電圧の不
均一を解消する事が出来た。また、カラーフィルタ層の
変色も起きなかった。When this panel was operated, no electrodes were generated, no withstand voltage failure and a decrease in transmittance did not occur, and a high light place contrast and a wide color reproducibility could be secured.
Further, it was possible to eliminate the increase in the driving voltage due to the color filters and the non-uniformity in the driving voltage due to each color filter material (red, green, blue). Also, no discoloration of the color filter layer occurred.
【００６１】また、本実施の形態では前面基板１にＳｉ
Ｏ2 コートしていないが、前面基板の製造工程のうち最
高焼成温度が５５０℃超える場合には第１の実施の形態
と同様にＳｉＯ2 層を設ける必要がある。更に本実施の
形態では面放電電極２Ｈを透明電極２上にバス電極３を
設ける事で形成したが、バス電極３を先に形成してお
き、次に透明電極２がこのバス電極３に接するように形
成しても同様の効果が得られる事は言うまでもない。In this embodiment, the front substrate 1 is made of Si.
Although not coated with O 2, if the maximum firing temperature exceeds 550 ° C. in the process of manufacturing the front substrate, it is necessary to provide an SiO 2 layer as in the first embodiment. Further, in this embodiment, the surface discharge electrode 2H is formed by providing the bus electrode 3 on the transparent electrode 2. However, the bus electrode 3 is formed first, and then the transparent electrode 2 comes into contact with the bus electrode 3. It is needless to say that the same effect can be obtained even if it is formed as described above.
【００６２】更にガラス板１４として無アルカリガラス
を使用する場合、前面基板１も無アルカリガラスを使用
し、更にバス電極３、透明誘電体層５などに入っている
ガラスフリットの成分を変える必要がある。これは、前
面基板１、ガラス板１４、バス電極３及び透明誘電体層
５で膨張係数をあわせる必要があるためである。Further, when alkali-free glass is used as the glass plate 14, it is necessary to use alkali-free glass for the front substrate 1 and to further change the components of the glass frit contained in the bus electrode 3, the transparent dielectric layer 5, and the like. is there. This is because the expansion coefficients of the front substrate 1, the glass plate 14, the bus electrode 3, and the transparent dielectric layer 5 need to be matched.
【００６３】[0063]
【発明の効果】以上説明したように本発明によるカラー
プラズマディスプレイパネルによれば、高温処理を施す
基板についてはＳｉＯ2 を前面基板上に形成し、アルカ
リバリアとして機能させ、カラーフィルタ層の変色を抑
えている。また、カラーフィルタ層を形成した後、透明
誘電体層ａを形成し、表面を平滑化した後に、面放電電
極、透明誘電体層ｂ及び保護層を形成する。カラーフィ
ルタ層上に透明誘電体層ａを形成した事により表面は平
滑化され、その後の透明電極形成やバス電極形成に支障
が起きない。また、透明電極の成膜温度は通常スパッタ
リング法で成膜した場合約２５０℃以下であり、それに
対し透明誘電体層ａ、または透明誘電体層ｂの焼成温度
は５００〜６００℃である。このため透明電極を成膜す
る際に透明誘電体層ａが軟化する事は無く透明電極成膜
時に透明電極の断線などの問題は発生しない。更に、透
明誘電体層ｂの焼成時に透明誘電体層ａが軟化しなけれ
ば透明電極とバス電極からなる面放電電極に断線は発生
しない。この断線を発生させないために必要な透明誘電
体層ａと透明誘電体層ｂの軟化点の差は、第１の実施の
形態中の表１より５０℃以上である事が分かる。つま
り、透明誘電体層ａが透明誘電体層ｂよりも５０℃以上
高い軟化点を持つ材質で、透明誘電体層ｂの焼成を透明
誘電体層ｂの軟化点近傍で行なえば面放電電極に断線は
発生せず、透明誘電体層ｂを完全に軟化させる事が出
来、透明誘電体層ｂの中に気泡などが発生しないので耐
電圧不良や透過率の低下も起きない。また保護層である
ＭｇＯの成膜温度は通常２００℃前後であるので、Ｍｇ
Ｏの成膜で透明誘電体層ａや透明誘電体層ｂが軟化する
事は無い。As described above, according to the color plasma display panel of the present invention, for a substrate to be subjected to a high temperature treatment, SiO 2 is formed on the front substrate to function as an alkali barrier, and to discolor the color filter layer. I am holding it down. After forming the color filter layer, the transparent dielectric layer a is formed, and after smoothing the surface, the surface discharge electrode, the transparent dielectric layer b, and the protective layer are formed. By forming the transparent dielectric layer a on the color filter layer, the surface is smoothed, and there is no hindrance in the formation of the transparent electrode and the bus electrode thereafter. The film forming temperature of the transparent electrode is usually about 250 ° C. or less when the film is formed by the sputtering method, whereas the firing temperature of the transparent dielectric layer a or the transparent dielectric layer b is 500 to 600 ° C. For this reason, the transparent dielectric layer a does not soften when forming the transparent electrode, and there is no problem such as disconnection of the transparent electrode when forming the transparent electrode. Further, if the transparent dielectric layer a is not softened during the firing of the transparent dielectric layer b, no disconnection occurs in the surface discharge electrode including the transparent electrode and the bus electrode. It can be seen from Table 1 in the first embodiment that the difference between the softening points of the transparent dielectric layer a and the transparent dielectric layer b required to prevent the disconnection is 50 ° C. or more. That is, if the transparent dielectric layer a is made of a material having a softening point higher than that of the transparent dielectric layer b by 50 ° C. or more, and if the firing of the transparent dielectric layer b is performed near the softening point of the transparent dielectric layer b, the surface discharge electrode is formed. No disconnection occurs, the transparent dielectric layer b can be completely softened, and no bubbles or the like are generated in the transparent dielectric layer b, so that a withstand voltage failure and a decrease in transmittance do not occur. Since the film formation temperature of the protective layer MgO is usually around 200 ° C.,
The transparent dielectric layer a and the transparent dielectric layer b do not soften when O is formed.
【００６４】次に、前面基板の構造をガラス基板側から
カラーフィルタ層、結晶化ガラス層、面放電電極、透明
誘電体層、及び保護層とした時、やはりカラーフィルタ
層上に結晶化ガラス層を設けた事により表面が平滑化さ
れ、カラーフィルタ層を形成しても面放電電極形成にな
んら支障が起きない。更に、結晶化ガラスは５００〜６
００℃で焼成を行なうと、焼成後は再軟化し難くなる。
これによって、透明電極の成膜時やバス電極の形成時、
更に面放電電極上に形成される透明誘電体層の焼成時に
結晶化ガラスが再軟化しない事で面放電電極に切れは発
生せず、透明誘電体層を完全に軟化させる事が出来、そ
の結果、透明誘電体層の中に気泡などが発生せず耐電圧
不良や透過率の低下も起きない前面基板を形成出来る。
また、基板を高温処理する場合にはガラス基板にＳｉＯ
2 を形成し、ガラス基板からのアルカリ金属の析出を抑
える。Next, when the structure of the front substrate is a color filter layer, a crystallized glass layer, a surface discharge electrode, a transparent dielectric layer, and a protective layer from the glass substrate side, the crystallized glass layer is also formed on the color filter layer. Is provided, the surface is smoothed, and even if a color filter layer is formed, no problem occurs in the formation of the surface discharge electrode. Furthermore, crystallized glass is 500-6
When calcination is performed at 00 ° C., it is difficult to re-soften after calcination.
Thus, when forming a transparent electrode or forming a bus electrode,
Furthermore, since the crystallized glass does not re-soften during firing of the transparent dielectric layer formed on the surface discharge electrode, no break occurs in the surface discharge electrode, and the transparent dielectric layer can be completely softened. In addition, it is possible to form a front substrate in which no bubbles or the like are generated in the transparent dielectric layer and a withstand voltage failure and a decrease in transmittance do not occur.
When the substrate is to be treated at a high temperature, a SiO
2 is formed to suppress the precipitation of alkali metal from the glass substrate.
【００６５】更に、前面基板の構造をガラス基板側から
カラーフィルタ層、前記ガラス基板とは別のガラス板、
面放電電極、透明誘電体層、及び保護層とした時、カラ
ーフィルタ層上にガラス板を設けた事により表面は平滑
で、カラーフィルタ層を形成しても面放電電極形成にな
んら支障が起きない。更に、ガラス板は透明電極の成膜
時やバス電極の形成時、更に面放電電極上に形成される
透明誘電体層の焼成時に軟化する事は無く、面放電電極
に切れは発生せず、透明誘電体層を完全に軟化させる事
が出来、その結果、透明誘電体層の中に気泡などが発生
せず、耐電圧不良や透過率の低下も起きない前面基板を
形成出来る。また、基板を高温処理する場合にはガラス
基板及びガラス板にＳｉＯ２を形成し、ガラス基板及び
ガラス板からのアルカリ金属の析出を抑える。また、ガ
ラス基板及びガラス板として無アルカリガラスを使用す
れば、ガラス基板及びガラス板にＳｉＯ２を形成する必
要は無い。Further, the structure of the front substrate is such that a color filter layer, a glass plate different from the glass substrate ,
When a surface discharge electrode, a transparent dielectric layer, and a protective layer are used, the surface is smooth due to the provision of a glass plate on the color filter layer. Even if the color filter layer is formed, there is no problem in forming the surface discharge electrode. Absent. Furthermore, the glass plate does not soften during the formation of the transparent electrode, the formation of the bus electrode, or the firing of the transparent dielectric layer formed on the surface discharge electrode, and the surface discharge electrode does not break, It is possible to completely soften the transparent dielectric layer, and as a result, it is possible to form a front substrate in which no bubbles or the like are generated in the transparent dielectric layer, and a withstand voltage failure and a decrease in transmittance do not occur. When the substrate is subjected to high temperature treatment, SiO 2 is formed on the glass substrate and the glass plate,
Prevents precipitation of alkali metals from glass plates . In addition, moth
With non-alkali glass as a glass substrate and a glass plate, it is not necessary to form the SiO 2 glass substrate and the glass plate.
【００６６】これによって、面放電電極と透明誘電体層
の間や透明誘電体層内部にカラーフィルタ層を形成して
いないので、カラーフィルタ材料が赤色、緑色、青色と
異なる事による静電容量の不均一が発生せず、パネル全
面に渡って均一な駆動が行なえる。Since no color filter layer is formed between the surface discharge electrode and the transparent dielectric layer or inside the transparent dielectric layer, the capacitance of the color filter material is different from red, green and blue. Non-uniformity does not occur, and uniform driving can be performed over the entire panel.
【図１】本発明の第１の実施の形態によるカラープラズ
マディスプレイパネルの断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a color plasma display panel according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第２の実施の形態によるカラープラズ
マディスプレイパネルの断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a color plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第３の実施の形態によるカラープラズ
マディスプレイパネルの断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a color plasma display panel according to a third embodiment of the present invention.
【図４】従来のカラープラズマディスプレイパネルの斜
視図である。FIG. 4 is a perspective view of a conventional color plasma display panel.
【図５】従来のカラープラズマディスプレイパネルの断
面図である。FIG. 5 is a sectional view of a conventional color plasma display panel.
１ 前面基板 ２ 透明電極 ２Ｈ 面放電電極 ３ バス電極 ４ カラーフィルタ層 ４Ｒ 赤色カラーフィルタ層 ４Ｇ 緑色カラーフィルタ層 ４Ｂ 青色カラーフィルタ層 ５ 誘電体層 ５ａ 誘電体層ａ ５ｂ 誘電体層ｂ ６ 保護層 ７ 隔壁 ８ データ電極 ９ 蛍光体層 ９Ｒ 赤色蛍光体層 ９Ｇ 緑色蛍光体層 ９Ｂ 青色蛍光体層 １０ 後面基板 １１ 放電セル １２ ＳｉＯ2 層 １３ 結晶化ガラス層 １４ ガラス板REFERENCE SIGNS LIST 1 front substrate 2 transparent electrode 2H surface discharge electrode 3 bus electrode 4 color filter layer 4R red color filter layer 4G green color filter layer 4B blue color filter layer 5 dielectric layer 5a dielectric layer a 5b dielectric layer b 6 protective layer 7 Partition wall 8 Data electrode 9 Phosphor layer 9R Red phosphor layer 9G Green phosphor layer 9B Blue phosphor layer 10 Rear substrate 11 Discharge cell 12 SiO 2 layer 13 Crystallized glass layer 14 Glass plate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−5204（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−270612（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−222128（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−283033（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−138559（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−259769（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−61839（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 11/02 H01J 11/00 H01J 9/02 G02B 5/20 101 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-6-5204 (JP, A) JP-A-7-270612 (JP, A) JP-A 8-222128 (JP, A) JP-A 9-92 283033 (JP, A) JP-A-8-138559 (JP, A) JP-A-9-259769 (JP, A) JP-A-4-61839 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01J 11/02 H01J 11/00 H01J 9/02 G02B 5/20 101
Claims (14)
るように形成されるバス電極からなる一対以上の面放電
電極群と、電極群を被覆する透明誘電体層とを有する第
１の基板と、データ電極と複数色の可視発光を行なう蛍
光体とを有する第２の基板とを対向配置したＡＣ面放電
型カラープラズマディスプレイパネルにおいて、前記第
１の基板の構造をガラス基板側から、カラーフィルタ
層、第１の透明誘電体層、面放電電極、第２の透明誘電
体層の順とし、前記第１および第２の透明誘電体層は低
融点の非結晶ガラスを主成分とするペーストを焼成して
なり、前記第１の透明誘電体層の軟化点が前記第２の透
明誘電体層の軟化点よりも５０℃以上高いことを特徴と
するカラープラズマディスプレイパネル。A first substrate having a pair of at least one surface discharge electrode group including a transparent electrode and a bus electrode formed so as to be at least partially in contact with the transparent electrode, and a transparent dielectric layer covering the electrode group; In an AC surface discharge type color plasma display panel in which a data electrode and a second substrate having a phosphor that emits visible light of a plurality of colors are arranged to face each other, the structure of the first substrate is changed from a glass substrate side to a color filter layer. , A first transparent dielectric layer, a surface discharge electrode, and a second transparent dielectric layer in this order, and the first and second transparent dielectric layers are low.
Baking paste mainly composed of amorphous glass with melting point
Wherein the softening point of the first transparent dielectric layer is higher than the softening point of the second transparent dielectric layer by 50 ° C. or more.
るように形成されるバス電極からなる一対以上の面放電
電極群と、電極群を被覆する透明誘電体層とを有する第
１の基板と、データ電極と複数色の可視発光を行なう蛍
光体とを有する第２の基板とを対向配置したＡＣ面放電
型カラープラズマディスプレイパネルにおいて、前記第
１の基板の構造をガラス基板側から、ＳｉＯ２、カラー
フィルタ層、第１の透明誘電体層、面放電電極、第２の
透明誘電体層の順番に形成し、前記第１および第２の透
明誘電体層は低融点の非結晶ガラスを主成分とするペー
ストを焼成してなり、前記第１の透明誘電体層の軟化点
が前記第２の透明誘電体層の軟化点よりも５０℃以上高
い事を特徴とするカラープラズマディスプレイパネル。A first substrate having a pair of at least one surface discharge electrode group including a transparent electrode and a bus electrode formed so as to at least partially contact the transparent electrode, and a transparent dielectric layer covering the electrode group; In an AC surface discharge type color plasma display panel in which a data electrode and a second substrate having a phosphor that emits visible light of a plurality of colors are arranged to face each other, the structure of the first substrate is changed from a glass substrate side to SiO 2 , A color filter layer, a first transparent dielectric layer, a surface discharge electrode, and a second transparent dielectric layer are formed in this order, and the first and second transparent dielectric layers are formed.
The bright dielectric layer is made of a low melting point amorphous glass
It was fired strike, color plasma display panel having a softening point of the first transparent dielectric layer and wherein the higher than 50 ° C. than the softening point of the second transparent dielectric layer.
マディスプレイパネルにおいて、前記第１の透明誘電体
層と前記第２の透明誘電体層の間に形成する面放電電極
は前記第１の透明誘電体層上に形成された透明電極と、
前記透明電極上に形成されたバス電極を有することを特
徴とするカラープラズマディスプレイパネル。3. The color plasma display panel according to claim 1, wherein a surface discharge electrode formed between the first transparent dielectric layer and the second transparent dielectric layer is the first transparent dielectric layer. A transparent electrode formed on the dielectric layer ,
Color plasma display panel, characterized in that it comprises a bus electrode formed on the transparent electrode.
マディスプレイパネルにおいて、前記第１の透明誘電体
層と前記第２の透明誘電体層の間に形成する面放電電極
は前記第１の透明誘電体層上に形成されたバス電極
と、、前記バス電極に少なくとも一部が接するように形
成された透明電極を有することを特徴とするカラープラ
ズマディスプレイパネル。4. The color plasma display panel according to claim 1, wherein a surface discharge electrode formed between the first transparent dielectric layer and the second transparent dielectric layer is the first transparent dielectric layer. Bus electrode formed on dielectric layer
If, shaped to at least partially in contact with the bus electrode
Color plasma display panel characterized by having a made transparent electrode.
るように形成されるバス電極からなる一対以上の面放電
電極群と、電極群を被覆する透明誘電体層とを有する第
１の基板と、データ電極と複数色の可視発光を行なう蛍
光体とを有する第２の基板とを有するＡＣ面放電型カラ
ープラズマディスプレイパネルにおいて、前記第１の基
板の構造をガラス基板側から、カラーフィルタ層、結晶
化ガラス層、面放電電極、透明誘電体層の順に形成され
ていることを特徴とするカラープラズマディスプレイパ
ネル。5. A first substrate having a pair of at least one surface discharge electrode group including a transparent electrode and a bus electrode formed so as to be at least partially in contact with the transparent electrode, and a transparent dielectric layer covering the electrode group; In an AC surface discharge type color plasma display panel including a data electrode and a second substrate having a phosphor that emits visible light of a plurality of colors, a structure of the first substrate is changed from a glass substrate side to a color filter layer and a crystal. glass layer, the surface discharge electrodes, are formed in the order of the transparent dielectric layer
Color plasma display panel, characterized by that.
るように形成されるバス電極からなる一対以上の面放電
電極群と、電極群を被覆する透明誘電体層とを有する第
１の基板と、データ電極と複数色の可視発光を行なう蛍
光体とを有する第２の基板とを有するＡＣ面放電型カラ
ープラズマディスプレイパネルにおいて、前記第１の基
板の構造をガラス基板側から、ＳｉＯ２、カラーフィル
タ層、結晶化ガラス層、面放電電極、透明誘電体層の順
に形成されていることを特徴とするカラープラズマディ
スプレイパネル。6. A first substrate having a pair of at least one surface discharge electrode group including a transparent electrode and a bus electrode formed so as to be at least partially in contact with the transparent electrode, and a transparent dielectric layer covering the electrode group; In an AC surface discharge type color plasma display panel including a data electrode and a second substrate having a phosphor that emits visible light of a plurality of colors, the structure of the first substrate is changed from a glass substrate side to SiO 2 and a color filter. layer, crystallized glass layer, a color plasma display panel, characterized in that it is formed in the order of surface discharge electrodes, transparent dielectric layer.
プラズマディスプレイパネルにおいて、結晶化ガラス層
と透明誘電体層の間に形成する面放電電極は前記結晶化
ガラス層上に形成された透明電極と、前記透明電極上に
形成されたバス電極を有することを特徴とするカラープ
ラズマディスプレイパネル。7. The method of claim 5 or claim 6, wherein a color plasma display panel, the transparent surface discharge electrodes formed between the crystallized glass layer and the transparent dielectric layer is formed on the crystallized glass layer Electrode and on the transparent electrode
A color plasma display panel comprising a formed bus electrode.
プラズマディスプレイパネルにおいて、結晶化ガラス層
と透明誘電体層の間に形成される面放電電極は前記結晶
化ガラス層上に形成されたバス電極と、前記バス電極に
少なくとも一部が接するように形成された透明電極を有
することを特徴とするカラープラズマディスプレイパネ
ル。8. The method of claim 5 or claim 6, wherein a color plasma display panel, the surface discharge electrodes formed between the crystallized glass layer and the transparent dielectric layer is formed on the crystallized glass layer Yes and the bus electrode, the transparent electrode formed so as to at least partly in contact with the bus electrode
A color plasma display panel.
るように形成されるバス電極からなる一対以上の面放電
電極群と、電極群を被覆する透明誘電体層とを有する第
１の基板と、データ電極と複数色の可視発光を行なう蛍
光体とを有する第２の基板とを有するＡＣ面放電型カラ
ープラズマディスプレイパネルにおいて、前記第１の基
板の構造は前記第２の基板に向って、ガラス基板、カラ
ーフィルタ層、前記ガラス基板とは別のガラス板、面放
電電極、透明誘電体層の順に形成されることを特徴とす
るカラープラズマディスプレイパネル。9. A first substrate having a pair of at least one surface discharge electrode group including a transparent electrode and a bus electrode formed so as to be at least partially in contact with the transparent electrode, and a transparent dielectric layer covering the electrode group; In an AC surface discharge type color plasma display panel having a data electrode and a second substrate having a phosphor that emits visible light of a plurality of colors, a structure of the first substrate is formed of glass toward the second substrate. substrate, a color filter layer, another glass plate from said glass substrate, the surface discharge electrodes, a color plasma display panel characterized in that it is formed in order of the transparent dielectric layer.
するように形成されるバス電極からなる一対以上の面放
電電極群と、電極群を被覆する透明誘電体層とを有する
第１の基板と、データ電極と複数色の可視発光を行なう
蛍光体とを有する第２の基板とを有するＡＣ面放電型カ
ラープラズマディスプレイパネルにおいて、前記第１の
基板は前記第２の基板に向って、ガラス基板、Ｓｉ
Ｏ２、カラーフィルタ層、前記ガラス基板とは別のガラ
ス板、面放電電極、透明誘電体層の順に形成されること
を特徴とするカラープラズマディスプレイパネル。10. A first substrate having a pair of at least one surface discharge electrode group including a transparent electrode and a bus electrode formed so as to be in contact with at least a part thereof, and a transparent dielectric layer covering the electrode group; In an AC surface discharge type color plasma display panel having a data electrode and a second substrate having a phosphor that emits visible light of a plurality of colors, the first substrate is a glass substrate facing the second substrate. Si
O 2, the color filter layer, another glass <br/> scan plate and the glass substrate, the surface discharge electrodes, a color plasma display panel characterized in that it is formed in order of the transparent dielectric layer.
ラープラズマディスプレイパネルにおいて、前記ガラス
基板とは別のガラス板はソーダライムガラスであって、
且つそれをＳｉＯ２でコートすることを特徴とするカラ
ープラズマディスプレイパネル。11. The method of claim 9 or color plasma display panel of claim 10, wherein said glass
The glass plate different from the substrate is soda lime glass,
And color plasma display panel, characterized by coating it with SiO 2.
ラープラズマディスプレイパネルにおいて、前記ガラス
基板とは別のガラス板は無アルカリガラスである事を特
徴とするカラープラズマディスプレイパネル。12. The method of claim 9 or color plasma display panel of claim 10, wherein said glass
A color plasma display panel, wherein the glass plate other than the substrate is non-alkali glass.
カラープラズマディスプレイパネルに於いて、前記ガラ
ス基板とは別のガラス板と透明誘電体層の間に形成され
る面放電電極は前記ガラス基板とは別のガラス板上に形
成された透明電極と、前記透明電極上に形成されたバス
電極を有することを特徴とするカラープラズマディスプ
レイパネル。13. The method of claim 11 or A color plasma display panel of claim 12, wherein the glass
The scan board is formed between the other glass plate and a transparent dielectric layer
The surface discharge electrode is formed on a glass plate separate from the glass substrate.
Color plasma display panel comprising: the made transparent electrodes, the bus electrodes formed on the transparent electrode.
カラープラズマディスプレイパネルに於いて、前記ガラ
ス基板とは別のガラス板と透明誘電体層の間に形成され
る面放電電極は前記ガラス基板とは別のガラス板上に形
成されたバス電極と、前記バス電極に少なくとも一部が
接するように形成された透明電極を有することを特徴と
するカラープラズマディスプレイパネル。14. The method of claim 11 or A color plasma display panel of claim 12, wherein the glass
The scan board is formed between the other glass plate and a transparent dielectric layer
The surface discharge electrode is formed on a glass plate separate from the glass substrate.
A bus electrode made, color plasma display panel characterized by having a transparent electrode formed so as to at least partly in contact with the bus electrode.
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