JP2003207308A - 干渉計、手術用顕微鏡、および対象物の運動速度の干渉測定法 - Google Patents
干渉計、手術用顕微鏡、および対象物の運動速度の干渉測定法Info
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- JP2003207308A JP2003207308A JP2002341481A JP2002341481A JP2003207308A JP 2003207308 A JP2003207308 A JP 2003207308A JP 2002341481 A JP2002341481 A JP 2002341481A JP 2002341481 A JP2002341481 A JP 2002341481A JP 2003207308 A JP2003207308 A JP 2003207308A
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- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/0209—Low-coherence interferometers
Abstract
(57)【要約】
【課題】 測定精度の高い干渉計と、対象物の運動速度
を干渉測定により求めることのできる方法とを提供す
る。 【解決手段】 干渉パターン検出装置の空間分解能が干
渉パターンの特徴周波数に適合化されている。
を干渉測定により求めることのできる方法とを提供す
る。 【解決手段】 干渉パターン検出装置の空間分解能が干
渉パターンの特徴周波数に適合化されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料領域に光を調
製する少なくとも１つの試料光路と、少なくとも１つの
参照光路と、試料領域の光と参照光路の光とを重畳する
少なくとも１つの光重畳ユニットと、試料領域の光およ
び参照光路の光による干渉パターンを検出する干渉パタ
ーン検出装置とを有する干渉計に関する。
製する少なくとも１つの試料光路と、少なくとも１つの
参照光路と、試料領域の光と参照光路の光とを重畳する
少なくとも１つの光重畳ユニットと、試料領域の光およ
び参照光路の光による干渉パターンを検出する干渉パタ
ーン検出装置とを有する干渉計に関する。
【０００２】本発明はまた、少なくとも１つの試料光路
を介して試料領域に光を調製し、試料領域の光と参照光
路の光とを重畳して干渉パターンを発生させる対象物の
運動速度の干渉測定法、例えば媒体の運動速度を空間分
解能を有する干渉測定により求める方法に関する。
を介して試料領域に光を調製し、試料領域の光と参照光
路の光とを重畳して干渉パターンを発生させる対象物の
運動速度の干渉測定法、例えば媒体の運動速度を空間分
解能を有する干渉測定により求める方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】冒頭に言及した形式の干渉計および干渉
計の駆動方法は、例えば独国特許出願公開第１９９２９
４０６号明細書から公知である。ここには試料内の深さ
プロフィルを白色光によって記録する干渉計が記載され
ている。
計の駆動方法は、例えば独国特許出願公開第１９９２９
４０６号明細書から公知である。ここには試料内の深さ
プロフィルを白色光によって記録する干渉計が記載され
ている。
【０００４】白色光による干渉測定では比較的短いコヒ
ーレント長を有する白色光が使用される。光信号のコヒ
ーレント長とは光信号の位相相関が存在する長さであ
る。大きなコヒーレント長を有する光源としては例えば
コヒーレント長が数ｋｍとなるヘリウムネオンレーザー
があり、一方、太陽光などの広帯域の白色光のコヒーレ
ント長は数μｍである。短コヒーレント長の光源では、
分割され再び重畳される２つの光路のあいだの光干渉
は、所定の光路長（コヒーレント長）において分割され
てから重畳されるまでの２つの光路長が一致する場合に
しか発生しない。
ーレント長を有する白色光が使用される。光信号のコヒ
ーレント長とは光信号の位相相関が存在する長さであ
る。大きなコヒーレント長を有する光源としては例えば
コヒーレント長が数ｋｍとなるヘリウムネオンレーザー
があり、一方、太陽光などの広帯域の白色光のコヒーレ
ント長は数μｍである。短コヒーレント長の光源では、
分割され再び重畳される２つの光路のあいだの光干渉
は、所定の光路長（コヒーレント長）において分割され
てから重畳されるまでの２つの光路長が一致する場合に
しか発生しない。
【０００５】前掲の独国特許出願公開第１９９２９４０
６号明細書の干渉計は白色光による干渉測定に適した光
を形成するスーパールミネセンスダイオードを有してい
る。このダイオードの光は試料光路および参照光路内へ
入力結合される。参照光路は反射素子としてミラーを有
している。試料光路には深度プロフィルを測定すべき対
象物が配置され、これが走査される。相応の反射光はＣ
ＣＤアレイのかたちのセンサ面上で重畳される。ＣＣＤ
アレイでの干渉パターンの状態から試料光路の光と参照
光路の光との光路差が結論される。求められた光路差か
ら走査すべき試料の光に対する散乱中心の位置が求めら
れ、グラフィック表示される。
６号明細書の干渉計は白色光による干渉測定に適した光
を形成するスーパールミネセンスダイオードを有してい
る。このダイオードの光は試料光路および参照光路内へ
入力結合される。参照光路は反射素子としてミラーを有
している。試料光路には深度プロフィルを測定すべき対
象物が配置され、これが走査される。相応の反射光はＣ
ＣＤアレイのかたちのセンサ面上で重畳される。ＣＣＤ
アレイでの干渉パターンの状態から試料光路の光と参照
光路の光との光路差が結論される。求められた光路差か
ら走査すべき試料の光に対する散乱中心の位置が求めら
れ、グラフィック表示される。
【０００６】米国特許第５３２１５０１号明細書から
は、スーパールミネセンスダイオードの短コヒーレント
光で試料の深度プロフィルを記録する方法および干渉計
が公知である。ここではスーパールミネセンスダイオー
ドの短コヒーレント光が試料分岐および参照分岐へ入力
結合される。参照分岐の光は可動ミラーへ供給される。
この可動ミラーにより参照分岐の光路長を調整すること
ができる。さらにフォトディテクタが設けられており、
試料分岐および参照分岐の光はここで重畳されて干渉を
発生する。フォトディテクタでの干渉パターンの時間的
変化と参照分岐内のミラーの既知の位置とから試料分岐
の散乱中心の位置が結論される。
は、スーパールミネセンスダイオードの短コヒーレント
光で試料の深度プロフィルを記録する方法および干渉計
が公知である。ここではスーパールミネセンスダイオー
ドの短コヒーレント光が試料分岐および参照分岐へ入力
結合される。参照分岐の光は可動ミラーへ供給される。
この可動ミラーにより参照分岐の光路長を調整すること
ができる。さらにフォトディテクタが設けられており、
試料分岐および参照分岐の光はここで重畳されて干渉を
発生する。フォトディテクタでの干渉パターンの時間的
変化と参照分岐内のミラーの既知の位置とから試料分岐
の散乱中心の位置が結論される。
【０００７】
【特許文献１】独国特許出願公開第１９９２９４０６号
明細書
明細書
【特許文献２】米国特許第５３２１５０１号明細書
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、測定
精度の高い干渉計と、対象物の運動速度を干渉測定によ
り求めることのできる方法とを提供することである。
精度の高い干渉計と、対象物の運動速度を干渉測定によ
り求めることのできる方法とを提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この課題は、干渉パター
ン検出装置の空間分解能が干渉パターンの特徴周波数に
適合化されている構成により解決される。
ン検出装置の空間分解能が干渉パターンの特徴周波数に
適合化されている構成により解決される。
【００１０】課題はまた、干渉パターン検出装置には干
渉パターンの時間変化を求める振動信号検出段が配属さ
れている構成によっても解決される。また、第１の参照
光路のほかに第２の参照光路が設けられている構成によ
っても解決される。
渉パターンの時間変化を求める振動信号検出段が配属さ
れている構成によっても解決される。また、第１の参照
光路のほかに第２の参照光路が設けられている構成によ
っても解決される。
【００１１】本発明の課題は、方法により解決される。
【００１２】
【発明の実施の形態】干渉パターンの特徴周波数とは干
渉パターン検出装置での位置に依存して干渉パターンに
より光強度が変化する空間変化率である。干渉パターン
検出装置を干渉パターンの特徴周波数に適合化すると
は、干渉パターン検出装置の検出ユニットが少なくとも
この特徴周波数に対する空間分解能を有するように構成
されているということである。こうした手段によりパラ
メータに最適化された干渉計が構成され、小さな信号ノ
イズで僅かなデータのみに基づいて確実に距離測定を行
うことができる。
渉パターン検出装置での位置に依存して干渉パターンに
より光強度が変化する空間変化率である。干渉パターン
検出装置を干渉パターンの特徴周波数に適合化すると
は、干渉パターン検出装置の検出ユニットが少なくとも
この特徴周波数に対する空間分解能を有するように構成
されているということである。こうした手段によりパラ
メータに最適化された干渉計が構成され、小さな信号ノ
イズで僅かなデータのみに基づいて確実に距離測定を行
うことができる。
【００１３】本発明の１つの実施形態によれば、干渉パ
ターン検出装置の少なくとも１つの領域がＣＣＤアレイ
として構成されており、干渉パターンの特徴周期によっ
て検出される検出器ピクセルの数は少なくとも２つであ
る。この手段により、ＣＣＤアレイのピクセル数が小さ
くて済む。その結果ＣＣＤアレイに対して高い読み出し
速度が得られ、相応に小さいデータ量に基づいて簡単な
データ処理を行うことができる。
ターン検出装置の少なくとも１つの領域がＣＣＤアレイ
として構成されており、干渉パターンの特徴周期によっ
て検出される検出器ピクセルの数は少なくとも２つであ
る。この手段により、ＣＣＤアレイのピクセル数が小さ
くて済む。その結果ＣＣＤアレイに対して高い読み出し
速度が得られ、相応に小さいデータ量に基づいて簡単な
データ処理を行うことができる。
【００１４】本発明の干渉計の別の実施形態によれば、
試料領域の光と参照光路の光とを重畳する光重畳ユニッ
トが光マッピングシステムを有しており、この光マッピ
ングシステムの試料光路アパーチャおよび参照光路アパ
ーチャは干渉パターン検出装置に適合化される。光マッ
ピングシステムのアパーチャを適合化することにより、
試料光路および参照光路の全光が干渉パターン検出装置
によって検出される。このようにすれば干渉パターン検
出装置での明暗（干渉縞）情報について良好な信号ノイ
ズ比が得られる。
試料領域の光と参照光路の光とを重畳する光重畳ユニッ
トが光マッピングシステムを有しており、この光マッピ
ングシステムの試料光路アパーチャおよび参照光路アパ
ーチャは干渉パターン検出装置に適合化される。光マッ
ピングシステムのアパーチャを適合化することにより、
試料光路および参照光路の全光が干渉パターン検出装置
によって検出される。このようにすれば干渉パターン検
出装置での明暗（干渉縞）情報について良好な信号ノイ
ズ比が得られる。
【００１５】本発明の別の実施形態によれば、干渉パタ
ーン検出装置の感光領域を照射するために、ガウス半径
の２倍までの参照光路の光および試料光路の光で感光領
域を照射する光マッピングシステムが設けられる。ここ
では、試料光路および参照光路で反射し干渉パターン検
出装置の感光領域へ達する光の放射強度が干渉パターン
検出装置の感光領域での最大放射強度の少なくとも１／
ｅ２の成分に相応することを理解されたい。こうした手
段によりＣＣＤアレイのダイナミック領域での最適な照
射が達成される。
ーン検出装置の感光領域を照射するために、ガウス半径
の２倍までの参照光路の光および試料光路の光で感光領
域を照射する光マッピングシステムが設けられる。ここ
では、試料光路および参照光路で反射し干渉パターン検
出装置の感光領域へ達する光の放射強度が干渉パターン
検出装置の感光領域での最大放射強度の少なくとも１／
ｅ２の成分に相応することを理解されたい。こうした手
段によりＣＣＤアレイのダイナミック領域での最適な照
射が達成される。
【００１６】本発明の別の実施形態によれば、光導波路
内に試料光路および参照光路が設けられており、ここで
光導波路の２つの端部間の距離、すなわち干渉パターン
検出装置のＣＣＤアレイとして構成された感光領域へ光
が出射する２つの端部間の距離を２ａとし、光導波体端
部から干渉パターン検出装置の感光領域までの距離をｄ
とし、干渉計で使用される光の波長をλとし、干渉パタ
ーン検出装置の感光領域のＣＣＤアレイの検出器ピクセ
ルのサイズをΔｘとすると （λｄ）／（２ａΔｘ）≧２ が成り立つ。こうした手段によりＣＣＤアレイの所定の
ピクセルジオメトリで干渉計の最適感度が達成される。
内に試料光路および参照光路が設けられており、ここで
光導波路の２つの端部間の距離、すなわち干渉パターン
検出装置のＣＣＤアレイとして構成された感光領域へ光
が出射する２つの端部間の距離を２ａとし、光導波体端
部から干渉パターン検出装置の感光領域までの距離をｄ
とし、干渉計で使用される光の波長をλとし、干渉パタ
ーン検出装置の感光領域のＣＣＤアレイの検出器ピクセ
ルのサイズをΔｘとすると （λｄ）／（２ａΔｘ）≧２ が成り立つ。こうした手段によりＣＣＤアレイの所定の
ピクセルジオメトリで干渉計の最適感度が達成される。
【００１７】本発明の干渉計の別の実施形態によれば、
干渉パターン検出装置には検出された干渉パターンの障
害を除去するフィルタ段が配属されている。こうした手
段により試料光路と参照光路とのあいだの光路差は走査
すべき試料領域の反射特性が劣化しても確実に検出され
る。
干渉パターン検出装置には検出された干渉パターンの障
害を除去するフィルタ段が配属されている。こうした手
段により試料光路と参照光路とのあいだの光路差は走査
すべき試料領域の反射特性が劣化しても確実に検出され
る。
【００１８】本発明の干渉計の別の実施形態によれば、
フィルタ段はヘテロダインフィルタ段として構成されて
おり、ヘテロダインフィルタ周波数は干渉パターンの特
徴周波数に相応している。この手段を用いると特に干渉
パターンの狭帯域のバンドパスフィルタリングが可能と
なる。このため小さな信号ノイズ比の干渉パターンを用
いることができる。つまり特に比較的小さな反射性しか
有さない散乱中心の位置を求めることができる。
フィルタ段はヘテロダインフィルタ段として構成されて
おり、ヘテロダインフィルタ周波数は干渉パターンの特
徴周波数に相応している。この手段を用いると特に干渉
パターンの狭帯域のバンドパスフィルタリングが可能と
なる。このため小さな信号ノイズ比の干渉パターンを用
いることができる。つまり特に比較的小さな反射性しか
有さない散乱中心の位置を求めることができる。
【００１９】請求項８記載の特徴を有する干渉計によれ
ば、試料領域での散乱中心の運動が正確に測定される。
ば、試料領域での散乱中心の運動が正確に測定される。
【００２０】請求項９記載の特徴を有する干渉計によれ
ば、試料領域の散乱中心で反射した光の光路の差を２つ
の参照区間に関して求めることができる。これにより統
計的な測定誤差が最小化され、大きな測定精度が得られ
る。
ば、試料領域の散乱中心で反射した光の光路の差を２つ
の参照区間に関して求めることができる。これにより統
計的な測定誤差が最小化され、大きな測定精度が得られ
る。
【００２１】本発明の別の実施形態によれば、第１の参
照光路の長さと第２の参照光路の長さとは異なってい
る。各参照光路の測定領域が相互に適合化されているこ
とにより、大きなダイナミクスを有する干渉計を構成す
ることができる。参照光路を１つしか有さない干渉計に
比べて、この種の干渉計の深度のストロークは第２の参
照光路のぶんだけ拡張される。
照光路の長さと第２の参照光路の長さとは異なってい
る。各参照光路の測定領域が相互に適合化されているこ
とにより、大きなダイナミクスを有する干渉計を構成す
ることができる。参照光路を１つしか有さない干渉計に
比べて、この種の干渉計の深度のストロークは第２の参
照光路のぶんだけ拡張される。
【００２２】本発明の別の実施形態によれば、試料光路
および第１の参照光路に基づく干渉パターンにより干渉
パターン検出装置で得られた特徴周波数と試料光路およ
び第２の参照光路に基づく干渉パターンにより干渉パタ
ーン検出装置で得られた特徴周波数との商は整数にも整
数分数にもならない。こうした手段により、ＣＣＤアレ
イで重畳された個々の干渉パターンにおける信号分離が
ヘテロダインフィルタリングを用いて良好に行われる。
ここでは各高調波が特徴周波数に相応するフィルタ関数
領域で干渉パターンに基づく信号が発生せず、相応に基
本特徴周波数を有する他方の参照光路に基づく信号が得
られることを利用している。
および第１の参照光路に基づく干渉パターンにより干渉
パターン検出装置で得られた特徴周波数と試料光路およ
び第２の参照光路に基づく干渉パターンにより干渉パタ
ーン検出装置で得られた特徴周波数との商は整数にも整
数分数にもならない。こうした手段により、ＣＣＤアレ
イで重畳された個々の干渉パターンにおける信号分離が
ヘテロダインフィルタリングを用いて良好に行われる。
ここでは各高調波が特徴周波数に相応するフィルタ関数
領域で干渉パターンに基づく信号が発生せず、相応に基
本特徴周波数を有する他方の参照光路に基づく信号が得
られることを利用している。
【００２３】相応の干渉計が配属されている手術用顕微
鏡により、手術医に手術領域の３次元断面画像を提供す
ることができる。
鏡により、手術医に手術領域の３次元断面画像を提供す
ることができる。
【００２４】請求項１３記載の特徴を有する方法によ
り、例えば細管を流れる媒体の流速を求めることができ
る。
り、例えば細管を流れる媒体の流速を求めることができ
る。
【００２５】本発明の別の実施形態によれば、少なくと
も１つの試料光路の光が試料領域へフォーカシングされ
る。こうした手段により所定の空間分解能で細管内の流
れプロフィルの記録が得られる。例えば血管内の局所的
な血流状態を測定することができる。
も１つの試料光路の光が試料領域へフォーカシングされ
る。こうした手段により所定の空間分解能で細管内の流
れプロフィルの記録が得られる。例えば血管内の局所的
な血流状態を測定することができる。
【００２６】本発明の別の実施形態によれば、干渉パタ
ーンがＣＣＤアレイにより検出され、ＣＣＤアレイから
読み出された画像を比較することにより干渉パターンの
時間変化が求められる。こうした手段により、干渉計の
試料領域の散乱中心の運動を高い精度で求めることがで
きる。
ーンがＣＣＤアレイにより検出され、ＣＣＤアレイから
読み出された画像を比較することにより干渉パターンの
時間変化が求められる。こうした手段により、干渉計の
試料領域の散乱中心の運動を高い精度で求めることがで
きる。
【００２７】
【実施例】本発明の有利な実施例を図示し、以下に詳細
に説明する。
に説明する。
【００２８】図１には干渉計１００が示されており、ス
ーパールミネセンスダイオードとして構成された白色光
源１０１を有している。白色光源１０１は波長領域８５
０ｎｍ、コヒーレント長約１０ｎｍのルミネセンス光を
発光する。もちろん他のスペクトル領域で形成された白
色光を使用することもできる。白色光源１０１は試料光
路および参照光路に対して光を調製する。このために白
色光源１０１の光は光導波路１０２へ入力結合される。
この光導波路には光結合ユニット１０４が配置されてい
る。そこには白色光源１０１からの光とレーザーダイオ
ード１０４からの可視光のスペクトル領域で放射された
光とが９０：１０の比で混合される。レーザーダイオー
ド１０４からの可視光により干渉計１００の試料領域に
対するアライメントレーザービームが調製される。光導
波路１０５により可視レーザー光と混合された白色光は
別の光結合ユニット１０６へ供給され、光導波路１０７
の試料光路と光導波路１０８の参照光路とへ結合され
る。光結合ユニットは光導波路１０５から試料光路およ
び参照光路へ供給された光を１０：９０の比で分配す
る。つまりこの光結合ユニットは光導波路１０５の光の
９０％を光導波路１０７へ案内し、１０％を光導波路１
０８へ案内する光分岐ユニットとして機能する。
ーパールミネセンスダイオードとして構成された白色光
源１０１を有している。白色光源１０１は波長領域８５
０ｎｍ、コヒーレント長約１０ｎｍのルミネセンス光を
発光する。もちろん他のスペクトル領域で形成された白
色光を使用することもできる。白色光源１０１は試料光
路および参照光路に対して光を調製する。このために白
色光源１０１の光は光導波路１０２へ入力結合される。
この光導波路には光結合ユニット１０４が配置されてい
る。そこには白色光源１０１からの光とレーザーダイオ
ード１０４からの可視光のスペクトル領域で放射された
光とが９０：１０の比で混合される。レーザーダイオー
ド１０４からの可視光により干渉計１００の試料領域に
対するアライメントレーザービームが調製される。光導
波路１０５により可視レーザー光と混合された白色光は
別の光結合ユニット１０６へ供給され、光導波路１０７
の試料光路と光導波路１０８の参照光路とへ結合され
る。光結合ユニットは光導波路１０５から試料光路およ
び参照光路へ供給された光を１０：９０の比で分配す
る。つまりこの光結合ユニットは光導波路１０５の光の
９０％を光導波路１０７へ案内し、１０％を光導波路１
０８へ案内する光分岐ユニットとして機能する。
【００２９】参照光路には別の光結合ユニット１０９が
設けられており、参照領域に対する光がレンズ系１１１
を備えた光導波路１１０を介して調製される。参照光路
の参照光領域はミラー１１２を有しており、このミラー
に光導波路１１０からの光が供給される。ミラー１１２
での反射光が光導波路１１０内を戻り、再び光結合ユニ
ット１０９へ案内される。光結合ユニットは光導波路１
１０から供給された光のうち５０％を光導波路１１３へ
分岐させ、試料領域および反射ビーム領域からの反射光
の干渉パターンを検出する干渉パターン検出装置へ案内
する。この干渉パターン検出装置は検出器ユニットとし
てＣＣＤアレイ１１７を有しており、光導波路１１３の
出射端部１１４からこのＣＣＤアレイへ出射される光は
シリンドリカルレンズ１１５を介して光線束１１６とな
る。
設けられており、参照領域に対する光がレンズ系１１１
を備えた光導波路１１０を介して調製される。参照光路
の参照光領域はミラー１１２を有しており、このミラー
に光導波路１１０からの光が供給される。ミラー１１２
での反射光が光導波路１１０内を戻り、再び光結合ユニ
ット１０９へ案内される。光結合ユニットは光導波路１
１０から供給された光のうち５０％を光導波路１１３へ
分岐させ、試料領域および反射ビーム領域からの反射光
の干渉パターンを検出する干渉パターン検出装置へ案内
する。この干渉パターン検出装置は検出器ユニットとし
てＣＣＤアレイ１１７を有しており、光導波路１１３の
出射端部１１４からこのＣＣＤアレイへ出射される光は
シリンドリカルレンズ１１５を介して光線束１１６とな
る。
【００３０】光結合ユニット１０６により試料光路へ入
力結合された光は光結合ユニット１１８および光導波路
１１９を介して光マッピングシステム１２０により検査
すべき試料１２１の試料領域へフォーカシングされる。
力結合された光は光結合ユニット１１８および光導波路
１１９を介して光マッピングシステム１２０により検査
すべき試料１２１の試料領域へフォーカシングされる。
【００３１】試料１２１での反射光は光マッピングシス
テム１２０および光導波路１１９を介して戻り、再び光
結合ユニット１１８へ案内される。光導波路１１９から
の光のうち５０％が光導波路１２２へ入力結合される。
テム１２０および光導波路１１９を介して戻り、再び光
結合ユニット１１８へ案内される。光導波路１１９から
の光のうち５０％が光導波路１２２へ入力結合される。
【００３２】光導波路１１３からの光と同様に、光導波
路１２２の端部１２３の光もシリンドリカルレンズ１１
５を介して出力結合され、光線束１２４としてＣＣＤア
レイ１１７へ照射される。ＣＣＤアレイ１１７では、干
渉条件のもとで試料領域の光と参照ミラー１１２で反射
した光とを重畳することにより干渉パターンが検出され
る。
路１２２の端部１２３の光もシリンドリカルレンズ１１
５を介して出力結合され、光線束１２４としてＣＣＤア
レイ１１７へ照射される。ＣＣＤアレイ１１７では、干
渉条件のもとで試料領域の光と参照ミラー１１２で反射
した光とを重畳することにより干渉パターンが検出され
る。
【００３３】ＣＣＤアレイ１１７には干渉信号評価ユニ
ット１３０が配属されている。この干渉信号評価ユニッ
ト１３０はフィルタ段１３１を有しており、このフィル
タ段に振動信号検出段１３２が接続されている。
ット１３０が配属されている。この干渉信号評価ユニッ
ト１３０はフィルタ段１３１を有しており、このフィル
タ段に振動信号検出段１３２が接続されている。
【００３４】干渉計はさらに検査すべき試料１２１を２
次元で走査できる走査ユニット１４０を有している。走
査ユニットの走査位置とＣＣＤアレイ１１７で発生して
いる干渉パターンの評価とから試料領域での散乱中心の
分布が３次元画像として可視となる。
次元で走査できる走査ユニット１４０を有している。走
査ユニットの走査位置とＣＣＤアレイ１１７で発生して
いる干渉パターンの評価とから試料領域での散乱中心の
分布が３次元画像として可視となる。
【００３５】図２には図１の干渉計の断面図２００が光
導波路１１４、１２３の端部の領域において示されてい
る。ここにはシリンドリカルレンズ１１５およびＣＣＤ
アレイ１１７が含まれる。
導波路１１４、１２３の端部の領域において示されてい
る。ここにはシリンドリカルレンズ１１５およびＣＣＤ
アレイ１１７が含まれる。
【００３６】光導波路１１４、１２３からの光はシリン
ドリカルレンズ１１５を通り、線としてＣＣＤアレイ１
１７上にマッピングされる。この線が感光性のＣＣＤア
レイ１１７のディテクタピクセルによって検出される。
光導波路１１４、１２３から出射された光はガウス強度
分布を有する。ＣＣＤアレイ１１７では得られる全強度
Ｉが発生する。これは包絡線として２つのＣＣＤアレイ
の光のガウス型強度分布を重畳したものに基づいてい
る。
ドリカルレンズ１１５を通り、線としてＣＣＤアレイ１
１７上にマッピングされる。この線が感光性のＣＣＤア
レイ１１７のディテクタピクセルによって検出される。
光導波路１１４、１２３から出射された光はガウス強度
分布を有する。ＣＣＤアレイ１１７では得られる全強度
Ｉが発生する。これは包絡線として２つのＣＣＤアレイ
の光のガウス型強度分布を重畳したものに基づいてい
る。
【００３７】図１の干渉計の試料領域１２１での反射性
と参照ミラー１２１での反射性とが等しいと仮定する
と、ＣＣＤアレイ１１７上の強度分布Ｉは、座標原点を
図２の参照番号２０６で示した位置に置くとすれば、位
置ｘに依存して Ｉ（ｘ）＝２Ｉ０［１＋Ｖｘｃｏｓ｛２π・（ｃ／λ）
・（τｘ＋Δτｚ）＋φ ｘ｝］ となる。ここでλは白色光源からの光の平均波長であ
り、ｃは光速であり、τｘ＝θｘ／ｃは図２のＣＣＤア
レイ上の異なる位置に対して光導波路１１４、１２３か
ら開放角θ＝ａ／（２ｄ）で到来した光の伝搬時間差で
あり、Δτｚは図１の干渉計の試料光路および参照光路
の異なる長さの光路に基づく２つの光導波路１１４、１
２３からの光の伝搬時間差であり、Ｖｘは使用される白
色光源からの光のコヒーレント長ｌｃに対する半値幅ｘ
ｃ＝ｌｃ／θでのガウス分布のかたちの干渉パターンの
包絡線であり、φｘは干渉パターンの発振成分に比べて
弱い位置依存性を有する位相係数である。
と参照ミラー１２１での反射性とが等しいと仮定する
と、ＣＣＤアレイ１１７上の強度分布Ｉは、座標原点を
図２の参照番号２０６で示した位置に置くとすれば、位
置ｘに依存して Ｉ（ｘ）＝２Ｉ０［１＋Ｖｘｃｏｓ｛２π・（ｃ／λ）
・（τｘ＋Δτｚ）＋φ ｘ｝］ となる。ここでλは白色光源からの光の平均波長であ
り、ｃは光速であり、τｘ＝θｘ／ｃは図２のＣＣＤア
レイ上の異なる位置に対して光導波路１１４、１２３か
ら開放角θ＝ａ／（２ｄ）で到来した光の伝搬時間差で
あり、Δτｚは図１の干渉計の試料光路および参照光路
の異なる長さの光路に基づく２つの光導波路１１４、１
２３からの光の伝搬時間差であり、Ｖｘは使用される白
色光源からの光のコヒーレント長ｌｃに対する半値幅ｘ
ｃ＝ｌｃ／θでのガウス分布のかたちの干渉パターンの
包絡線であり、φｘは干渉パターンの発振成分に比べて
弱い位置依存性を有する位相係数である。
【００３８】図３には拡大された尺度で図１のＣＣＤア
レイ１１７での位置ｘｉでの干渉パターン３０１による
強度分布３００が示されている。干渉パターン３０１は
特徴周波数 ｋｃ＝２π（θ／λ） では、位置ｘｉで幅 ｘｃ＝ｌｃ／θ にわたって延在する。
レイ１１７での位置ｘｉでの干渉パターン３０１による
強度分布３００が示されている。干渉パターン３０１は
特徴周波数 ｋｃ＝２π（θ／λ） では、位置ｘｉで幅 ｘｃ＝ｌｃ／θ にわたって延在する。
【００３９】図３の干渉パターン３０１の位置ｘｉは図
１の干渉計１００のＣＣＤアレイ１１７で得られたもの
であり、これは試料光路および参照光路に相応する白色
光源の異なる光路長によって定められる。この位置は参
照光路の定義された光路と試料光路の散乱中心で反射し
た光線束とに相応する。図１の干渉計１００のＣＣＤア
レイ１１７で得られた図３の干渉パターン３０１の位置
を評価することにより、試料領域での散乱中心の正確な
位置が測定される。ＣＣＤアレイでの干渉パターンの時
間変化から試料領域の散乱中心の運動状態が結論され
る。したがって特に位置ごとの速度を測定することがで
きる。
１の干渉計１００のＣＣＤアレイ１１７で得られたもの
であり、これは試料光路および参照光路に相応する白色
光源の異なる光路長によって定められる。この位置は参
照光路の定義された光路と試料光路の散乱中心で反射し
た光線束とに相応する。図１の干渉計１００のＣＣＤア
レイ１１７で得られた図３の干渉パターン３０１の位置
を評価することにより、試料領域での散乱中心の正確な
位置が測定される。ＣＣＤアレイでの干渉パターンの時
間変化から試料領域の散乱中心の運動状態が結論され
る。したがって特に位置ごとの速度を測定することがで
きる。
【００４０】図１の干渉計１００ではＣＣＤアレイ１１
７およびシリンドリカルレンズ１１５を備えた干渉パタ
ーン検出装置は干渉パターンの特徴周波数へ適合化され
ている。このために光導波路１１４、１２３の端部間の
距離２ａおよびＣＣＤアレイ１１７から光導波路端部ま
での距離ｄはＣＣＤアレイディテクタピクセルの間隔お
よびサイズΔｘへ適合化され、ＣＣＤアレイ１１７で検
出された特徴周波数での光強度信号の空間的な変化分が
分解される。このようにしてＣＣＤアレイ１１７の読み
出しによりＣＣＤアレイ１１７での光強度の変動が検出
される。この変動は特徴周波数よりも小さい空間周波数
により変化するものである。同時にＣＣＤアレイ１１７
で特徴周波数よりも高い周波数での障害効果により発生
した光の強度の変動も求められる。
７およびシリンドリカルレンズ１１５を備えた干渉パタ
ーン検出装置は干渉パターンの特徴周波数へ適合化され
ている。このために光導波路１１４、１２３の端部間の
距離２ａおよびＣＣＤアレイ１１７から光導波路端部ま
での距離ｄはＣＣＤアレイディテクタピクセルの間隔お
よびサイズΔｘへ適合化され、ＣＣＤアレイ１１７で検
出された特徴周波数での光強度信号の空間的な変化分が
分解される。このようにしてＣＣＤアレイ１１７の読み
出しによりＣＣＤアレイ１１７での光強度の変動が検出
される。この変動は特徴周波数よりも小さい空間周波数
により変化するものである。同時にＣＣＤアレイ１１７
で特徴周波数よりも高い周波数での障害効果により発生
した光の強度の変動も求められる。
【００４１】ＣＣＤアレイ１１７の領域２０５には同時
に光導波路１１４の光も光導波路１２３の光も照射さ
れ、これによりＣＣＤアレイ１１７の感光領域へは光導
波路１１４、１２３の光ビームがそれぞれの光導波路１
１４、１２３から出射されるビームの強度プロフィルの
ガウス半径の２倍に相応するビーム特性で入射してい
る。もちろん基本的にＣＣＤアレイ１１７を他の強度プ
ロフィルを有する光導波路１１４、１２３の光で照射で
きることにも注意されたい。例えばＣＣＤアレイ１１７
を簡単なガウス半径によって、つまりＣＣＤアレイ１１
７へ達する光のビーム強度が少なくとも最大強度の１／
ｅとなるように照射することができる。
に光導波路１１４の光も光導波路１２３の光も照射さ
れ、これによりＣＣＤアレイ１１７の感光領域へは光導
波路１１４、１２３の光ビームがそれぞれの光導波路１
１４、１２３から出射されるビームの強度プロフィルの
ガウス半径の２倍に相応するビーム特性で入射してい
る。もちろん基本的にＣＣＤアレイ１１７を他の強度プ
ロフィルを有する光導波路１１４、１２３の光で照射で
きることにも注意されたい。例えばＣＣＤアレイ１１７
を簡単なガウス半径によって、つまりＣＣＤアレイ１１
７へ達する光のビーム強度が少なくとも最大強度の１／
ｅとなるように照射することができる。
【００４２】この種の干渉計の深度のストロークはＣＣ
Ｄアレイの照射領域により試料光路の光および参照光路
の光が相互に干渉するように定められている。この領域
にＣＣＤアレイのＮ個のピクセルが存在し、特徴周波数
ｋｃの干渉信号の空間周期Ｐ ｃがＰ個のピクセルをカバ
ーしていると仮定すると、干渉計の深度のストロークΔ
ｚは平均波長λの白色光源からの白色光を使用して Δｚ＝（Ｎλ）／（２Ｐ） となる。これは試料領域の散乱中心の位置が深さΔｚま
でしか求められないということを意味する。
Ｄアレイの照射領域により試料光路の光および参照光路
の光が相互に干渉するように定められている。この領域
にＣＣＤアレイのＮ個のピクセルが存在し、特徴周波数
ｋｃの干渉信号の空間周期Ｐ ｃがＰ個のピクセルをカバ
ーしていると仮定すると、干渉計の深度のストロークΔ
ｚは平均波長λの白色光源からの白色光を使用して Δｚ＝（Ｎλ）／（２Ｐ） となる。これは試料領域の散乱中心の位置が深さΔｚま
でしか求められないということを意味する。
【００４３】図１の干渉計１００ではＣＣＤアレイ１１
７のディテクタピクセルのサイズおよび間隔がより大き
く選定されている。これは特徴周波数ｋｃの周期で発生
する干渉光の強度変動が少なくとも２つのディテクタピ
クセルでカバーされるようにするためである。この手段
により最大可能な測定領域が得られる。
７のディテクタピクセルのサイズおよび間隔がより大き
く選定されている。これは特徴周波数ｋｃの周期で発生
する干渉光の強度変動が少なくとも２つのディテクタピ
クセルでカバーされるようにするためである。この手段
により最大可能な測定領域が得られる。
【００４４】試料領域の散乱中心の位置情報を得るため
に、図１のＣＣＤアレイ１１７は時間順次に読み出さ
れ、ＣＣＤアレイの各ピクセルの強度情報が電圧値へ変
換される。連続的な読み出し過程により時間依存性の電
圧信号が形成され、フィルタリングにより干渉信号の障
害が除去される。こうして得られる干渉信号からＣＣＤ
アレイに内在する情報が取り出される。
に、図１のＣＣＤアレイ１１７は時間順次に読み出さ
れ、ＣＣＤアレイの各ピクセルの強度情報が電圧値へ変
換される。連続的な読み出し過程により時間依存性の電
圧信号が形成され、フィルタリングにより干渉信号の障
害が除去される。こうして得られる干渉信号からＣＣＤ
アレイに内在する情報が取り出される。
【００４５】このために時間依存性の電圧信号は図１の
干渉計の干渉信号評価ユニット１３０のフィルタ段１３
１で時間周波数による狭帯域のバンドパスフィルタリン
グにかけられる。ここでの時間周波数は特徴周波数ｋｃ
に相応する。フィルタ段１３１が特徴周波数ｋｃに相応
するフィルタ周波数のヘテロダインフィルタとして構成
されていることにより、特に狭帯域のフィルタ関数が実
現される。ただしフィルタリングに対してＬＣフィルタ
装置などの他のフィルタ方式を利用することもできる。
干渉計の干渉信号評価ユニット１３０のフィルタ段１３
１で時間周波数による狭帯域のバンドパスフィルタリン
グにかけられる。ここでの時間周波数は特徴周波数ｋｃ
に相応する。フィルタ段１３１が特徴周波数ｋｃに相応
するフィルタ周波数のヘテロダインフィルタとして構成
されていることにより、特に狭帯域のフィルタ関数が実
現される。ただしフィルタリングに対してＬＣフィルタ
装置などの他のフィルタ方式を利用することもできる。
【００４６】図１の干渉計１００のフィルタ段１３１に
後置接続されている振動信号検出段１３２では、フィル
タリングされた電圧信号の包絡線が求められる。この電
圧信号の所定の時点での大きさは試料領域の散乱中心の
位置および大きさの尺度となる。
後置接続されている振動信号検出段１３２では、フィル
タリングされた電圧信号の包絡線が求められる。この電
圧信号の所定の時点での大きさは試料領域の散乱中心の
位置および大きさの尺度となる。
【００４７】さらに振動信号検出段１３２ではフィルタ
リングされた電圧信号の基準値に対する位相状態が求め
られる。このためにフィルタリングされた電圧信号のゼ
ロ交差の時点が求められる。ＣＣＤアレイの順次の読み
出し過程で干渉パターンの位相状態を測定することによ
り、図１の干渉計１００の試料領域の散乱中心の運動が
結論される。
リングされた電圧信号の基準値に対する位相状態が求め
られる。このためにフィルタリングされた電圧信号のゼ
ロ交差の時点が求められる。ＣＣＤアレイの順次の読み
出し過程で干渉パターンの位相状態を測定することによ
り、図１の干渉計１００の試料領域の散乱中心の運動が
結論される。
【００４８】干渉計による検査には基本的に放射された
光のうち所定の成分が反射される対象物であれば任意の
ものが使用できる。例えば人体または動物または植物の
部分領域などの生物材料を検査することができる。同様
に干渉計を用いて工業製品などの材料、例えば旋盤やフ
ライス盤、レンズなどの寸法を正確に計測することもで
きる。
光のうち所定の成分が反射される対象物であれば任意の
ものが使用できる。例えば人体または動物または植物の
部分領域などの生物材料を検査することができる。同様
に干渉計を用いて工業製品などの材料、例えば旋盤やフ
ライス盤、レンズなどの寸法を正確に計測することもで
きる。
【００４９】図４には、図１の干渉計１００のＣＣＤア
レイ１１７で調製された電圧信号を評価して得られた距
離信号４００が示されている。干渉計１００の振動信号
検出段１３２で求められた時間依存性の包絡線Ｉは、図
４では座標ｚ１１上に空間情報の内容として示されてい
るが、これは求められた散乱中心の位置に相応する。試
料光領の検査すべき試料はこの信号に基づいており、２
つの空間的にオフセットされた反射面を有している。
レイ１１７で調製された電圧信号を評価して得られた距
離信号４００が示されている。干渉計１００の振動信号
検出段１３２で求められた時間依存性の包絡線Ｉは、図
４では座標ｚ１１上に空間情報の内容として示されてい
るが、これは求められた散乱中心の位置に相応する。試
料光領の検査すべき試料はこの信号に基づいており、２
つの空間的にオフセットされた反射面を有している。
【００５０】図５には試料５００を検査している図１の
干渉計１００の断面図が示されている。ここには均一な
第１の散乱中心密度を有する第１の試料領域５０１と均
一な第２の散乱中心密度を有する第２の試料領域５０２
とが存在する。この試料は光マッピングシステム５０３
により走査される。
干渉計１００の断面図が示されている。ここには均一な
第１の散乱中心密度を有する第１の試料領域５０１と均
一な第２の散乱中心密度を有する第２の試料領域５０２
とが存在する。この試料は光マッピングシステム５０３
により走査される。
【００５１】図６には図４に相応して図５の試料５００
で測定された散乱中心の強度分布６００が示されてい
る。この強度分布信号は例えばイメージングのためにさ
らに処理され、図６の強度分布６００の構造に散乱中心
密度が割り当てられる。
で測定された散乱中心の強度分布６００が示されてい
る。この強度分布信号は例えばイメージングのためにさ
らに処理され、図６の強度分布６００の構造に散乱中心
密度が割り当てられる。
【００５２】図７には細管を通って流れる流体の流速プ
ロフィルが記録されている。光導波路７０１の干渉光は
レンズ系７０２を介して細管７０４の流れ７０３におけ
る光散乱中心へフォーカシングされる。散乱中心がフォ
ーカス７０５を通って干渉計の試料領域へ入射する場
合、流れのなかで運動する散乱中心は図１の干渉計１０
０では相応の干渉パターンの動きとしてＣＣＤアレイ上
に現れる。なぜなら流れのなかの散乱中心で反射した光
は、図１に則して説明したように、干渉計１００内で参
照光路の光と重畳されるからである。このとき試料光路
の光路長は散乱中心が運動しているために随時変化して
いる。ＣＣＤアレイ１１７上の相応の干渉信号の位相の
時間変化から、干渉信号評価ユニット１３０により散乱
中心の運動が求められる。その際、速度の測定は散乱中
心の運動方向の開放角と走査光の入射方向の開放角とが
小さくなればなるほど正確になることがわかっている。
ロフィルが記録されている。光導波路７０１の干渉光は
レンズ系７０２を介して細管７０４の流れ７０３におけ
る光散乱中心へフォーカシングされる。散乱中心がフォ
ーカス７０５を通って干渉計の試料領域へ入射する場
合、流れのなかで運動する散乱中心は図１の干渉計１０
０では相応の干渉パターンの動きとしてＣＣＤアレイ上
に現れる。なぜなら流れのなかの散乱中心で反射した光
は、図１に則して説明したように、干渉計１００内で参
照光路の光と重畳されるからである。このとき試料光路
の光路長は散乱中心が運動しているために随時変化して
いる。ＣＣＤアレイ１１７上の相応の干渉信号の位相の
時間変化から、干渉信号評価ユニット１３０により散乱
中心の運動が求められる。その際、速度の測定は散乱中
心の運動方向の開放角と走査光の入射方向の開放角とが
小さくなればなるほど正確になることがわかっている。
【００５３】径ｒ０の細管内を層状に流れる流体の流れ
プロフィル８００が図８に示されている。流れプロフィ
ル８００は流れの中央に最大値を有している。これに対
して細管の縁部には流体は存在していない。
プロフィル８００が図８に示されている。流れプロフィ
ル８００は流れの中央に最大値を有している。これに対
して細管の縁部には流体は存在していない。
【００５４】図９にはフィルタリングされた振動信号の
位相の時間変化率φが試料領域の散乱中心の位置ｄに依
存して示されている。これは図７に則して説明した細管
内の流体の流速を図１の干渉計１００を用いて記録した
場合の実施例である。空間依存性の変化率９００は散乱
中心の局所的な流速に相応する。これは流体の層状流の
図８に示されているプロフィルに反映されている。
位相の時間変化率φが試料領域の散乱中心の位置ｄに依
存して示されている。これは図７に則して説明した細管
内の流体の流速を図１の干渉計１００を用いて記録した
場合の実施例である。空間依存性の変化率９００は散乱
中心の局所的な流速に相応する。これは流体の層状流の
図８に示されているプロフィルに反映されている。
【００５５】図１０には図１の干渉計１００に比べて深
度のストローク（変化範囲）が拡張された干渉計１００
０が示されている。干渉計１０００は白色光源１００１
を有しており、この光源の光は図１の干渉計１００の場
合と同様に光導波路１００２へ入力結合される。光導波
路１００２からの光は光結合ユニット１００３へ案内さ
れ、そこで白色光とレーザーダイオード１００４から可
視のスペクトル領域で送出された光とが９０：１０の比
で混合される。レーザーダイオード１００４の可視光に
より、干渉計１０００の試料領域に対するアライメント
レーザービームが調製される。混合された光は光導波路
１００５を介して光結合ユニット１００６へ案内され、
このユニットにより光導波路１００７の試料光路と光導
波路１００８の参照光路とに９０：１０の比で分割され
る。光結合ユニット１００９には光導波路１０１０が配
属されており、これにより参照光領域の参照光路で干渉
のための参照光が調製される。光導波路１０１０の光は
レンズ系１０１１を介してミラー１０１２へ案内され
る。ミラー１０１２から戻ってくる反射光は再び光導波
体１０１０を介して光結合ユニット１００９へ達する。
この光結合ユニット１００９は光導波路１０１０の光の
５０％を光導波路１０１３へ結合する。光導波路１０１
３には別の光結合ユニット１０１４が配置されており、
このユニットは光導波路１０１３で供給される光を５
０：５０の比で光導波路１０１５と光導波路１０１６と
に分割する。光導波路１０１５、１０１６はそれぞれ端
部１０１７、１０１８を有しており、この端部で光線束
１０１９、１０２０がガウス型ビームプロフィルで調製
される。光線束１０１９、１０２０はシリンドリカルレ
ンズ１０２１を介して線となってＣＣＤアレイ１０２２
へフォーカシングされる。
度のストローク（変化範囲）が拡張された干渉計１００
０が示されている。干渉計１０００は白色光源１００１
を有しており、この光源の光は図１の干渉計１００の場
合と同様に光導波路１００２へ入力結合される。光導波
路１００２からの光は光結合ユニット１００３へ案内さ
れ、そこで白色光とレーザーダイオード１００４から可
視のスペクトル領域で送出された光とが９０：１０の比
で混合される。レーザーダイオード１００４の可視光に
より、干渉計１０００の試料領域に対するアライメント
レーザービームが調製される。混合された光は光導波路
１００５を介して光結合ユニット１００６へ案内され、
このユニットにより光導波路１００７の試料光路と光導
波路１００８の参照光路とに９０：１０の比で分割され
る。光結合ユニット１００９には光導波路１０１０が配
属されており、これにより参照光領域の参照光路で干渉
のための参照光が調製される。光導波路１０１０の光は
レンズ系１０１１を介してミラー１０１２へ案内され
る。ミラー１０１２から戻ってくる反射光は再び光導波
体１０１０を介して光結合ユニット１００９へ達する。
この光結合ユニット１００９は光導波路１０１０の光の
５０％を光導波路１０１３へ結合する。光導波路１０１
３には別の光結合ユニット１０１４が配置されており、
このユニットは光導波路１０１３で供給される光を５
０：５０の比で光導波路１０１５と光導波路１０１６と
に分割する。光導波路１０１５、１０１６はそれぞれ端
部１０１７、１０１８を有しており、この端部で光線束
１０１９、１０２０がガウス型ビームプロフィルで調製
される。光線束１０１９、１０２０はシリンドリカルレ
ンズ１０２１を介して線となってＣＣＤアレイ１０２２
へフォーカシングされる。
【００５６】試料光路の光導波路１００７へ入力結合さ
れた光は光結合ユニット１０２３へ案内され、このユニ
ットには光導波路１０２４が光マッピングシステム１０
２５とともに配属されている。光マッピングシステム１
０２５は２つのレンズを有しており、これらのレンズは
試料領域で検査すべき試料１０２６へ試料光線束をフォ
ーカシングするために用いられる。試料１０２６での反
射光は光導波体１０２４内を戻り、光結合ユニット１０
２３で試料光路１００７の光と混合される。これにより
光導波路１０２４の光のうち５０％が光導波路１０２７
へ達する。光導波路１０２７はガウス型ビームプロフィ
ルで光線束１０２９を出射する端部１０２８を有してい
る。この光線束１０２９はシリンドリカルレンズ１０２
１を介して同様にＣＣＤアレイ１０２２へ線としてフォ
ーカシングされる。
れた光は光結合ユニット１０２３へ案内され、このユニ
ットには光導波路１０２４が光マッピングシステム１０
２５とともに配属されている。光マッピングシステム１
０２５は２つのレンズを有しており、これらのレンズは
試料領域で検査すべき試料１０２６へ試料光線束をフォ
ーカシングするために用いられる。試料１０２６での反
射光は光導波体１０２４内を戻り、光結合ユニット１０
２３で試料光路１００７の光と混合される。これにより
光導波路１０２４の光のうち５０％が光導波路１０２７
へ達する。光導波路１０２７はガウス型ビームプロフィ
ルで光線束１０２９を出射する端部１０２８を有してい
る。この光線束１０２９はシリンドリカルレンズ１０２
１を介して同様にＣＣＤアレイ１０２２へ線としてフォ
ーカシングされる。
【００５７】図１の干渉計１００に相応に干渉計１００
０は干渉信号評価ユニット１０３０を有しており、この
干渉信号評価ユニットはフィルタ段１０３１および振動
信号検出段１０３２を有している。
０は干渉信号評価ユニット１０３０を有しており、この
干渉信号評価ユニットはフィルタ段１０３１および振動
信号検出段１０３２を有している。
【００５８】図１１には図１０の干渉計１０００の断面
図が示されている。ここには光導波路の端部領域１０１
７、１０１８、１０２８がシリンドリカルレンズ１０２
１および図１のＣＣＤアレイ１０２２により縮尺が拡大
されてマッピングされる。
図が示されている。ここには光導波路の端部領域１０１
７、１０１８、１０２８がシリンドリカルレンズ１０２
１および図１のＣＣＤアレイ１０２２により縮尺が拡大
されてマッピングされる。
【００５９】光導波路１１０１〜１１０３の光はシリン
ドリカルレンズ１１０４により線としてＣＣＤアレイ１
１０５へマッピングされる。このときＣＣＤアレイ１１
０５の領域１１０６は同時に光導波路１１０１〜１１０
３の光によって各光導波路の光の最小強度がガウス半径
の２倍よりも小さい強度領域にある強度で照射されるこ
とが保証される。図２に則して説明したように、ＣＣＤ
アレイを他の強度基準に相応に照射することもできる。
ドリカルレンズ１１０４により線としてＣＣＤアレイ１
１０５へマッピングされる。このときＣＣＤアレイ１１
０５の領域１１０６は同時に光導波路１１０１〜１１０
３の光によって各光導波路の光の最小強度がガウス半径
の２倍よりも小さい強度領域にある強度で照射されるこ
とが保証される。図２に則して説明したように、ＣＣＤ
アレイを他の強度基準に相応に照射することもできる。
【００６０】このためにＣＣＤアレイ１１０５の領域１
１０６内の干渉パターンが検出される。光導波路１１０
１から光導波路１１０２への距離ａ１２または光導波路
１１０１から光導波路１１０３への距離ａ１３が異なる
ため、相応に図１の干渉計１００には光導波路１１０１
の光と光導波路１１０２の光とを重畳することにより特
徴周波数 ｋｃ１＝２πａ１２／（λ２ｄ） ｋｃ２＝２πａ１３／（λ２ｄ） で干渉パターンが発生する。ここでｄは光導波路１１０
１〜１１０３の端部からＣＣＤアレイまでの距離であ
り、λは白色光源１００１の波長である。
１０６内の干渉パターンが検出される。光導波路１１０
１から光導波路１１０２への距離ａ１２または光導波路
１１０１から光導波路１１０３への距離ａ１３が異なる
ため、相応に図１の干渉計１００には光導波路１１０１
の光と光導波路１１０２の光とを重畳することにより特
徴周波数 ｋｃ１＝２πａ１２／（λ２ｄ） ｋｃ２＝２πａ１３／（λ２ｄ） で干渉パターンが発生する。ここでｄは光導波路１１０
１〜１１０３の端部からＣＣＤアレイまでの距離であ
り、λは白色光源１００１の波長である。
【００６１】干渉パターンに特徴周波数ｋｃ１、ｋｃ２
が相応の光導波路ごとに異なることにより、これを相互
に分離し、各干渉パターンに対してそれぞれ試料光路お
よび参照光路に属する光の波長の差を割り当てることが
できる。
が相応の光導波路ごとに異なることにより、これを相互
に分離し、各干渉パターンに対してそれぞれ試料光路お
よび参照光路に属する光の波長の差を割り当てることが
できる。
【００６２】図１２は拡大された尺度で強度分布１２０
０が示されており、この強度分布は試料領域１０２６の
異なる位置での２つの散乱中心に対して図１０の干渉計
１０００で得られたものである。特徴周波数ｋｃ１は位
置ｘｉ１での干渉パターン１２０１に基づいており、特
徴周波数ｋｃ２は位置ｘｉ２での干渉パターン１２０２
に基づいている。
０が示されており、この強度分布は試料領域１０２６の
異なる位置での２つの散乱中心に対して図１０の干渉計
１０００で得られたものである。特徴周波数ｋｃ１は位
置ｘｉ１での干渉パターン１２０１に基づいており、特
徴周波数ｋｃ２は位置ｘｉ２での干渉パターン１２０２
に基づいている。
【００６３】ＣＣＤアレイ１０２２の干渉パターン検出
装置の空間分解能は図１０の干渉計１０００では特徴周
波数ｋｃ１、ｋｃ２へ適合化されている。このために出
射アパーチャの相互距離ａ１２、ａ１３の距離が光導波
路１１０１〜１１０３とＣＣＤアレイとからＣＣＤアレ
イのディテクタピクセルへの距離ｄとに適応化されてい
る。特徴周波数を上回る空間周波数で変化する光強度の
変動がないようにＣＣＤアレイのディテクタピクセル上
のサイズおよび間隔が保持されているので、散乱中心の
位置情報を含まない障害信号は検出されなくなる。特に
大きな測定領域に対して図１の干渉計１００に相応にデ
ィテクタピクセルのサイズおよび間隔が２つの特徴周波
数に属する周期が少なくとも２つのディテクタピクセル
をカバーするように選定される。
装置の空間分解能は図１０の干渉計１０００では特徴周
波数ｋｃ１、ｋｃ２へ適合化されている。このために出
射アパーチャの相互距離ａ１２、ａ１３の距離が光導波
路１１０１〜１１０３とＣＣＤアレイとからＣＣＤアレ
イのディテクタピクセルへの距離ｄとに適応化されてい
る。特徴周波数を上回る空間周波数で変化する光強度の
変動がないようにＣＣＤアレイのディテクタピクセル上
のサイズおよび間隔が保持されているので、散乱中心の
位置情報を含まない障害信号は検出されなくなる。特に
大きな測定領域に対して図１の干渉計１００に相応にデ
ィテクタピクセルのサイズおよび間隔が２つの特徴周波
数に属する周期が少なくとも２つのディテクタピクセル
をカバーするように選定される。
【００６４】試料領域の散乱中心に関する位置情報を検
出するために、図１０のＣＣＤアレイ１０２２は時間的
に連続して読み出され、各ＣＣＤピクセルの輝度情報が
電圧値へ変換される。連続的な読み出し過程により時間
依存性の電圧信号が形成され、ここからフィルタリング
を経て干渉信号の障害が除去され、ＣＣＤアレイの干渉
信号に内在する情報が得られる。
出するために、図１０のＣＣＤアレイ１０２２は時間的
に連続して読み出され、各ＣＣＤピクセルの輝度情報が
電圧値へ変換される。連続的な読み出し過程により時間
依存性の電圧信号が形成され、ここからフィルタリング
を経て干渉信号の障害が除去され、ＣＣＤアレイの干渉
信号に内在する情報が得られる。
【００６５】このために時間依存性の電圧信号は図１０
の干渉計の干渉信号評価ユニット１０３０のフィルタ段
１０３１で時間周波数による狭帯域のバンドパスフィル
タリングにかけられる。この時間周波数は特徴的な空間
周波数ｋｃ１、ｋｃ２に相応する。フィルタ段１０３１
を特徴周波数ｋｃ１、ｋｃ２に相応する異なるフィルタ
周波数を有する２つのヘテロダインフィルタの並列回路
として構成することにより、特に狭帯域のフィルタリン
グが可能となる。
の干渉計の干渉信号評価ユニット１０３０のフィルタ段
１０３１で時間周波数による狭帯域のバンドパスフィル
タリングにかけられる。この時間周波数は特徴的な空間
周波数ｋｃ１、ｋｃ２に相応する。フィルタ段１０３１
を特徴周波数ｋｃ１、ｋｃ２に相応する異なるフィルタ
周波数を有する２つのヘテロダインフィルタの並列回路
として構成することにより、特に狭帯域のフィルタリン
グが可能となる。
【００６６】図１０の干渉計１０００でフィルタ段１０
３１に後置接続されている振動信号検出段１０３２で
は、フィルタリングされた電圧信号の振幅が求められ
る。所定の時点での電圧信号の大きさは試料領域の散乱
中心の位置および大きさの尺度量となる。
３１に後置接続されている振動信号検出段１０３２で
は、フィルタリングされた電圧信号の振幅が求められ
る。所定の時点での電圧信号の大きさは試料領域の散乱
中心の位置および大きさの尺度量となる。
【００６７】さらに振動信号検出段１０３２ではフィル
タリングされた電圧信号の位相状態が基準値に関して求
められる。このためにフィルタリングされた電圧信号の
ゼロ交差の時点が求められる。干渉パターンの位相状態
をＣＣＤアレイの連続的な読み出し過程において追究す
ることにより、フィルタリングされた電圧信号の位相状
態を測定して図１０の干渉計１０００の試料領域の散乱
中心の運動を結論することができる。
タリングされた電圧信号の位相状態が基準値に関して求
められる。このためにフィルタリングされた電圧信号の
ゼロ交差の時点が求められる。干渉パターンの位相状態
をＣＣＤアレイの連続的な読み出し過程において追究す
ることにより、フィルタリングされた電圧信号の位相状
態を測定して図１０の干渉計１０００の試料領域の散乱
中心の運動を結論することができる。
【００６８】特徴周波数ｋｃ１、ｋｃ２での干渉パター
ンの信号分離を良好に行うために、波長λ、光導波路１
１０１〜１１０３の端部からＣＣＤアレイ１１０５の平
面までの距離ｄ、光導波路１１０１〜１１０３の相互の
間隔ａ１２、ａ１３は特徴周波数が他の特徴周波数の整
数倍とはならないように選定される。
ンの信号分離を良好に行うために、波長λ、光導波路１
１０１〜１１０３の端部からＣＣＤアレイ１１０５の平
面までの距離ｄ、光導波路１１０１〜１１０３の相互の
間隔ａ１２、ａ１３は特徴周波数が他の特徴周波数の整
数倍とはならないように選定される。
【００６９】図１０の干渉計１０００の遅延区間１０１
６ａの長さは使用される白色光源１００１の白色光のコ
ヒーレント長に適合化されており、これにより干渉計の
連続的かつ拡張された深度のストロークは１つしか参照
光路を有さない干渉計の深度のストロークの２倍に相応
する。
６ａの長さは使用される白色光源１００１の白色光のコ
ヒーレント長に適合化されており、これにより干渉計の
連続的かつ拡張された深度のストロークは１つしか参照
光路を有さない干渉計の深度のストロークの２倍に相応
する。
【００７０】図１０の相応の干渉計の測定領域の増大、
および光が平行に入力結合される遅延区間の拡張は段階
的に行われる。
および光が平行に入力結合される遅延区間の拡張は段階
的に行われる。
【００７１】図１の干渉計および図１０の干渉計の設け
られた手術用顕微鏡により、術医は手術領域を可視のス
ペクトル領域の光を使用できない場所であっても高い光
分解能で観察することができる。
られた手術用顕微鏡により、術医は手術領域を可視のス
ペクトル領域の光を使用できない場所であっても高い光
分解能で観察することができる。
【図１】干渉計の第１の実施例を示す概略図である。
【図２】図１の干渉計の断面図である。
【図３】図１の干渉計のＣＣＤアレイで得られた干渉信
号を示す図である。
号を示す図である。
【図４】２つの反射面に基づいて図１の干渉計で測定さ
れた距離情報信号を示す図である。
れた距離情報信号を示す図である。
【図５】不均一な散乱中心分布を有する試料の配置され
た図１の干渉計の走査領域を示す図である。
た図１の干渉計の走査領域を示す図である。
【図６】図１の干渉計で得られた図５の試料の散乱中心
の位置情報を示す図である。
の位置情報を示す図である。
【図７】図１の干渉計と流体の流れる細管との断面図で
ある。
ある。
【図８】図７の細管内を層状に流れる流体のプロフィル
である。
である。
【図９】図１の干渉計で得られた時間的な位相変化とし
ての流体情報を示す図である。
ての流体情報を示す図である。
【図１０】深度のストロークの拡張された干渉計の第２
の実施例を示す概略図である。
の実施例を示す概略図である。
【図１１】図１０の干渉計の断面図である。
【図１２】図１０の干渉計のＣＣＤアレイで得られた干
渉信号を示す図である。
渉信号を示す図である。
１０００ 干渉計
１００１ 白色光源
１００２、１００５、１００７、１０１０、１０１３、
１０１５、１０１６、１０２４、１０２７ 光導波路 １００３、１００６、１００９、１０１４、１０２３
フォトカプラユニット １００４ レーダーダイオード １０１１ レンズ系 １０１２ ミラー １０１７、１０１８、１０２８ 端部 １０１９、１０２０、１０２９ 光線束 １０２１ シリンドリカルレンズ １０２２ ＣＣＤアレイ １０２５ 光マッピングシステム １０２６ 試料 １０３０ 干渉信号評価ユニット １０３１ フィルタ段 １０３２ 振動信号検出段
１０１５、１０１６、１０２４、１０２７ 光導波路 １００３、１００６、１００９、１０１４、１０２３
フォトカプラユニット １００４ レーダーダイオード １０１１ レンズ系 １０１２ ミラー １０１７、１０１８、１０２８ 端部 １０１９、１０２０、１０２９ 光線束 １０２１ シリンドリカルレンズ １０２２ ＣＣＤアレイ １０２５ 光マッピングシステム １０２６ 試料 １０３０ 干渉信号評価ユニット １０３１ フィルタ段 １０３２ 振動信号検出段
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2F064 AA01 AA09 CC01 DD08 FF01
FF03 FF05 FF07 GG01 GG12
GG21 GG42 GG45 GG51 HH03
HH08
Claims (15)
- 【請求項１】 試料領域に光を調製する少なくとも１つ
の試料光路と、少なくとも１つの参照光路と、試料領域
の光と参照光路の光とを重畳する少なくとも１つの光重
畳ユニットと、試料領域の光および参照光路の光による
干渉パターンを検出する干渉パターン検出装置とを有す
る干渉計において、 干渉パターン検出装置（１１７、２０４、１０２２、１
１０５）の空間分解能は干渉パターンの特徴周波数に適
合化されていることを特徴とする干渉計。 - 【請求項２】 干渉パターン検出装置の少なくとも１つ
の領域がＣＣＤアレイ（１１７、２０４、１０２２、１
１０５）として構成されており、干渉パターンの特徴周
期による検出を行う検出器ピクセルの数は少なくとも２
つである、請求項１記載の干渉計。 - 【請求項３】 試料領域の光と参照光路の光とを重畳す
る少なくとも１つの光重畳ユニットは光マッピングシス
テム（１１４、１２３、１１４、１０１７、１０１８、
１０２１）を有しており、該光マッピングシステムの試
料光路アパーチャおよび参照光路アパーチャは干渉パタ
ーン検出装置（１１７、２０４、１０２２、１１０５）
に適合化されている、請求項１または２記載の干渉計。 - 【請求項４】 干渉パターン検出装置（１１７、２０
４、１０２２、１１０５）の感光領域を照射するため
に、ガウス半径の２倍までの参照光路の光および試料光
路の光で感光領域を照射する光マッピングシステム（１
１４、１２３、１１４、１０１７、１０１８、１０２
１）が設けられている、請求項１から３までのいずれか
１項記載の干渉計。 - 【請求項５】 光導波路（１０２、１０５、１０７、１
０８、１１０、１１９、１１３、１２２、１００２、１
００５、１００７、１００８、１０１０、１０２４、１
０１３、１０１５、１０１６）として試料光路および参
照光路が設けられており、 ここで光導波路の２つの端部（１１４、１２３、１０１
７、１０１８、１０２８）間の距離すなわち干渉パター
ン検出装置の感光領域へ光を出射する端部間の距離を２
ａとし、光導波体端部（１１４、１２３、１０１７、１
０１８、１０２８）から干渉パターン検出装置の感光領
域までの距離をｄとし、干渉計で使用される干渉光の波
長をλとし、干渉パターン検出装置の感光領域のＣＣＤ
アレイ（１１７、１０２２）の検出器ピクセルのサイズ
をΔｘとすると （λｄ）／（２ａΔｘ）≧２ が成り立つ、請求項１から３までのいずれか１項記載の
干渉計。 - 【請求項６】 干渉パターン検出装置（１１７、２０
４、１０２２、１１０５）には検出された干渉パターン
の障害を除去するフィルタ段（１１３、１１３１）が配
属されている、請求項１から５までのいずれか１項記載
の干渉計。 - 【請求項７】 フィルタ段（１３１、１１３１）はヘテ
ロダインフィルタ段として構成されており、ヘテロダイ
ンフィルタ周波数は干渉パターンの特徴周波数に相応し
ている、請求項６記載の干渉計。 - 【請求項８】 試料領域に光を調製する少なくとも１つ
の試料光路と、少なくとも１つの参照光路と、試料領域
の光と参照光路の光とを重畳する少なくとも１つの光重
畳ユニットと、試料領域の光および参照光路の光による
干渉パターンを検出する干渉パターン検出装置とを有す
る干渉計、例えば請求項１から７までのいずれか１項記
載の干渉計において、 干渉パターン検出装置（１１７、２０４、１０２２、１
１０５）には干渉パターンの時間変化を求める振動信号
検出段（１３２、１１３２）が配属されていることを特
徴とする干渉計。 - 【請求項９】 試料領域に光を調製する少なくとも１つ
の試料光路と、少なくとも１つの参照光路と、試料領域
の光と参照光路の光とを重畳する少なくとも１つの光重
畳ユニットと、試料領域の光および参照光路の光による
干渉パターンを検出する干渉パターン検出装置とを有す
る干渉計、例えば請求項１から８までのいずれか１項記
載の干渉計において、 第１の参照光路のほかに第２の参照光路が設けられてい
ることを特徴とする干渉計。 - 【請求項１０】 第１の参照光路の長さと第２の参照光
路の長さとは異なっている、請求項９記載の干渉計。 - 【請求項１１】 試料光路および第１の参照光路に基づ
く干渉パターンにより干渉パターン検出装置で得られた
特徴周波数と試料光路および第２の参照光路に基づく干
渉パターンにより干渉パターン検出装置で得られた特徴
周波数との商は整数にも整数分数にもならない、請求項
９または１０記載の干渉計。 - 【請求項１２】 請求項１から１１までのいずれか１項
記載の干渉計が配属されていることを特徴とする手術用
顕微鏡。 - 【請求項１３】 少なくとも１つの試料光路を介して試
料領域に光を調製し、試料領域の光と参照光路の光とを
重畳して干渉パターンを発生させる対象物の運動速度の
干渉測定法、例えば媒体の運動速度を空間分解能を有す
る干渉測定により求める方法において、 干渉パターンの時間変化を求め、 干渉パターンの時間変化から運動速度を求めることを特
徴とする対象物の運動速度の干渉測定法。 - 【請求項１４】 少なくとも１つの試料光路の光を試料
領域へフォーカシングする、請求項１３記載の方法。 - 【請求項１５】 干渉パターンをＣＣＤアレイにより検
出し、 ＣＣＤアレイ（１０１７、１０２２）から読み出された
画像を比較することにより干渉パターンの時間変化を求
める、請求項１３または１４記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10157842A DE10157842A1 (de) | 2001-11-24 | 2001-11-24 | Interferometer und interferometrisches Messverfahren |
| DE10157842.3 | 2001-11-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003207308A true JP2003207308A (ja) | 2003-07-25 |
Family
ID=7706955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002341481A Pending JP2003207308A (ja) | 2001-11-24 | 2002-11-25 | 干渉計、手術用顕微鏡、および対象物の運動速度の干渉測定法 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP1314953A3 (ja) |
| JP (1) | JP2003207308A (ja) |
| DE (1) | DE10157842A1 (ja) |
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| CN113503901B (zh) * | 2021-09-08 | 2022-05-10 | 武汉昊衡科技有限公司 | 消除白光干涉仪测量信号抖动的装置及方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE1065468B (de) * | 1959-09-17 | Berlin-Britz Erich Zachariä und Kurt Oelsch Berlin-Zehlendorf Franz Meier | Richtungsempfindlicher Magnetverstärker | |
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| US5555086A (en) * | 1991-05-31 | 1996-09-10 | Litton Systems, Inc. | Coherence multiplexed interferometric signal processing system and method |
| US5501226A (en) * | 1994-10-19 | 1996-03-26 | Carl Zeiss, Inc. | Short coherence length, doppler velocimetry system |
| AU7711498A (en) * | 1997-06-02 | 1998-12-21 | Joseph A. Izatt | Doppler flow imaging using optical coherence tomography |
| DE19929406A1 (de) * | 1999-06-26 | 2000-12-28 | Zeiss Carl Fa | Zeilen-OCT als optischer Sensor für die Meß- und Medizintechnik |
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