JP2003203821A - Method of manufacturing laminated ceramic electronic component - Google Patents

Method of manufacturing laminated ceramic electronic component

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JP2003203821A
JP2003203821A JP2002000673A JP2002000673A JP2003203821A JP 2003203821 A JP2003203821 A JP 2003203821A JP 2002000673 A JP2002000673 A JP 2002000673A JP 2002000673 A JP2002000673 A JP 2002000673A JP 2003203821 A JP2003203821 A JP 2003203821A
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ceramic
carrier film
thickness
electronic component
laminated
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JP2002000673A
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Japanese (ja)
Inventor
Takanobu Katsuyama
高信 戞山
Eiji Ito
英治 伊藤
Nagato Omori
長門 大森
Yasunobu Yoneda
康信 米田
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a method of manufacturing a laminated ceramic electronic component, with which a highly reliable laminated ceramic electronic component can be obtained, even if the coating rate of ceramic slurry on a carrier film is raised, in order to reduce the film thickness of a ceramic green sheet. <P>SOLUTION: A carrier film 14 is drawn out from a carrier-film roll 12, is coated with a ceramic slurry 18 by a coater 16, dried by a dryer 20 and wound by a winder 26, to form a ceramic green sheet 22. After the carrier film is re-wound, inner electrode patterns are printed by a printer 24, and after drying, the film is wound by the winder 26. The wound carrier film 12 is unwound, and ceramic green sheets 22 are peeled off, laminated, and after cutting are fired. Then, outer electrodes are formed. In this manufacturing process, a film, in which R<SB>max</SB>of the coated surface layer of the ceramic slurry is 30% of or smaller than the ceramic-layer thickness and an antistatic layer is formed on the face opposite to it, is used for the carrier film 14. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、積層セラミック
電子部品の製造方法に関し、特に、たとえば積層セラミ
ックコンデンサ、積層型インダクタ、積層型LCフィル
タなどの積層セラミック電子部品の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a monolithic ceramic electronic component, and more particularly to a method for manufacturing a monolithic ceramic electronic component such as a monolithic ceramic capacitor, a monolithic inductor, and a monolithic LC filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】図1は、積層セラミックコンデンサなど
の積層セラミック電子部品を製造する工程を示す概念図
であり、たとえば特開平5−92406号公報に記載さ
れたものである。この製造装置10においては、まず合
成樹脂などで形成されたキャリアフィルムを巻回したキ
ャリアフィルムロール12が準備される。このキャリア
フィルムロール12からキャリアフィルム14が引き出
され、塗布装置16によってセラミックスラリー18が
キャリアフィルム14上に塗布される。
2. Description of the Related Art FIG. 1 is a conceptual diagram showing a process of manufacturing a monolithic ceramic electronic component such as a monolithic ceramic capacitor, which is described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-92406. In the manufacturing apparatus 10, first, a carrier film roll 12 around which a carrier film made of synthetic resin or the like is wound is prepared. The carrier film 14 is pulled out from the carrier film roll 12, and the ceramic slurry 18 is applied onto the carrier film 14 by the applying device 16.

【0003】セラミックスラリー18が塗布されたキャ
リアフィルム14は、乾燥装置20に送られ、セラミッ
クスラリー18が乾燥させられ、一旦巻き取り装置26
によって巻き取られる。このようにして、キャリアフィ
ルム14上に、セラミックグリーンシート22が形成さ
れる。次いで、巻き取られたキャリアフィルムを巻き戻
し、印刷装置24において、セラミックグリーンシート
22上に、積層セラミックコンデンサの内部電極となる
内部電極パターンが印刷される。内部電極パターンが形
成されたキャリアフィルム14は、乾燥装置25で乾燥
された後、再び巻き取り装置26によってロール状に巻
き取られる。なお、キャリアフィルム14にセラミック
グリーンシートを形成した後巻き取らずに、そのまま引
き続き内部電極パターンの印刷、乾燥を行い、その後に
巻き取るようにしてもよい。
The carrier film 14 coated with the ceramic slurry 18 is sent to a drying device 20, where the ceramic slurry 18 is dried, and a winding device 26 is temporarily provided.
Wound up by. In this way, the ceramic green sheet 22 is formed on the carrier film 14. Next, the wound carrier film is rewound, and an internal electrode pattern to be an internal electrode of the laminated ceramic capacitor is printed on the ceramic green sheet 22 in the printing device 24. The carrier film 14 on which the internal electrode pattern is formed is dried by the drying device 25, and then wound again into a roll by the winding device 26. It should be noted that, after forming the ceramic green sheet on the carrier film 14, the internal electrode pattern may be continuously printed and dried without being wound, and then wound.

【0004】巻き取られたキャリアフィルム14はその
後再び引き出され、セラミックグリーンシート22が適
当な大きさに切り出されて、複数枚積層される。セラミ
ックグリーンシート22を積層した積層体は個々に切断
されて焼成され、内部電極を有するセラミック焼結体が
形成される。このセラミック焼結体の外表面に外部電極
を形成し、内部電極を外部電極に接続することにより、
積層セラミックコンデンサが作製される。
The wound carrier film 14 is then pulled out again, the ceramic green sheets 22 are cut into a suitable size, and a plurality of them are laminated. The laminated body in which the ceramic green sheets 22 are laminated is individually cut and fired to form a ceramic sintered body having internal electrodes. By forming an external electrode on the outer surface of this ceramic sintered body and connecting the internal electrode to the external electrode,
A monolithic ceramic capacitor is produced.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】近年、電子機器の小型
化にともない、積層セラミック電子部品も小型化が求め
られており、たとえば積層セラミックコンデンサにおい
ても小型大容量化が進められている。そのため、セラミ
ック焼結体の多層化と、それを構成するセラミック層の
薄層化が進められている。ところが、セラミックグリー
ンシートを形成するためのキャリアフィルムとして用い
られる合成樹脂フィルムには、通常、表面に凹凸が不可
避的に存在する。このような凹凸のため、薄層化された
セラミックグリーンシートに局部的な凹みやピンホール
が生じることがある。そのため、最終的に得られる積層
セラミックコンデンサなどにおいて、内部電極同士の短
絡や、信頼性の低下などの問題が発生する。このよう
に、セラミック層が薄層化すると、キャリアフィルム表
面の凹凸の影響を受けやすくなる。
In recent years, along with the miniaturization of electronic equipment, miniaturization of monolithic ceramic electronic components has been required, and for example, monolithic ceramic capacitors are also being miniaturized and increased in capacity. Therefore, the multilayered ceramic sintered body and the thinned ceramic layers constituting the ceramic sintered body are being advanced. However, a synthetic resin film used as a carrier film for forming a ceramic green sheet usually has unavoidable irregularities on its surface. Due to such unevenness, local depressions or pinholes may occur in the thinned ceramic green sheet. Therefore, in the finally obtained multilayer ceramic capacitor or the like, problems such as a short circuit between internal electrodes and a decrease in reliability occur. As described above, when the ceramic layer is made thin, it is easily affected by the irregularities on the surface of the carrier film.

【0006】そこで、キャリアフィルム表面の凹凸を可
能な限り抑えることで、凹凸の影響を小さくすることが
考えられている。ところで、セラミックスラリーを塗布
するキャリアフィルムとして、ロール成型されたものを
用いた場合、その表面を平滑化しているにもかかわら
ず、セラミックグリーンシートに局部的な凹みやピンホ
ールなどが存在していた。そこで、本発明者らが鋭意検
討したところ、これらは以下に述べる静電気の影響であ
ることを究明した。キャリアフィルムロールにおいて
は、重なったキャリアフィルム同士の接触面積が大きく
なり、キャリアフィルムを引き出すときに帯電しやすく
なり、そのときに生じる巻き出し帯電量が大きくなる。
また、キャリアフィルムとセラミックグリーンシートと
の接触面積が大きいため、キャリアフィルムからセラミ
ックグリーンシートを剥離するときにキャリアフィルム
が帯電しやすくなり、このときに生じる剥離帯電量が大
きくなる。これらの帯電による静電気のため、セラミッ
クグリーンシート内や積層体内における異物の混入量が
多くなる。
Therefore, it is considered to suppress the unevenness of the carrier film surface as much as possible to reduce the influence of the unevenness. By the way, when a roll-formed carrier film was used as the carrier film for applying the ceramic slurry, the ceramic green sheet had local dents or pinholes even though the surface was smoothed. . Therefore, as a result of diligent studies by the present inventors, it was found that these are the effects of static electricity described below. In the carrier film roll, the contact area between the overlapping carrier films becomes large, and when the carrier film is pulled out, the carrier film is easily charged, and the unwinding charge amount generated at that time becomes large.
Further, since the contact area between the carrier film and the ceramic green sheet is large, the carrier film is easily charged when the ceramic green sheet is peeled from the carrier film, and the amount of peeling charge generated at this time is large. Due to the static electricity due to these electrifications, the amount of foreign matter mixed in the ceramic green sheet and the laminated body increases.

【0007】また、帯電による静電気が放電することに
より、セラミックグリーンシートや、キャリアフィルム
に形成された離型層などが劣化し、剥離時に、セラミッ
クグリーンシートにキズや皺が発生する。特に、セラミ
ックスラリーの塗布速度を上げたとき、キャリアフィル
ムの引き出し速度も上がるため、巻き出し帯電量が大き
くなり、上述のような静電気による影響が大きくなる。
その結果、最終的に得られた積層セラミックコンデンサ
において、内部電極同士の短絡や信頼性の低下などの問
題があった。
Further, when the static electricity due to charging is discharged, the ceramic green sheet and the release layer formed on the carrier film are deteriorated, and scratches and wrinkles are generated on the ceramic green sheet at the time of peeling. In particular, when the coating speed of the ceramic slurry is increased, the drawing speed of the carrier film is also increased, so that the unwinding charge amount is increased and the influence of static electricity as described above is increased.
As a result, the finally obtained monolithic ceramic capacitor has problems such as a short circuit between internal electrodes and a decrease in reliability.

【0008】なお、セラミック層の薄層化のために薄い
セラミックグリーンシートを形成するとき、キャリアフ
ィルム上へのセラミックスラリーの塗布速度を上げるこ
とにより、セラミックグリーンシート膜厚のばらつきを
少なくすることができる。また、積層セラミック電子部
品の生産性も向上することから、このセラミックスラリ
ーの塗布速度の上昇は、必要な技術である。
When forming a thin ceramic green sheet for thinning the ceramic layer, it is possible to reduce variations in the thickness of the ceramic green sheet by increasing the coating speed of the ceramic slurry on the carrier film. it can. Further, since the productivity of the monolithic ceramic electronic component is also improved, increasing the coating speed of the ceramic slurry is a necessary technique.

【0009】それゆえに、この発明の主たる目的は、セ
ラミックグリーンシートの膜厚を薄くするために、キャ
リアフィルム上へのセラミックスラリーの塗布速度を上
げても、信頼性の高い積層セラミック電子部品を得るこ
とができる、積層セラミック電子部品の製造方法を提供
することである。
Therefore, the main object of the present invention is to obtain a highly reliable laminated ceramic electronic component even if the coating speed of the ceramic slurry on the carrier film is increased in order to reduce the thickness of the ceramic green sheet. It is to provide a method of manufacturing a monolithic ceramic electronic component capable of manufacturing.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明は、キャリアフ
ィルムロールからキャリアフィルムを引き出す工程と、
キャリアフィルムの片面に塗布速度30m/min以上
でセラミックスラリーを塗布する工程と、塗布されたセ
ラミックスラリーを乾燥してセラミックグリーンシート
を形成する工程と、セラミックグリーンシート上に内部
電極パターンを形成する工程と、内部電極パターンが形
成されたセラミックグリーンシートを積層し積層体を得
る工程と、積層体を個々に切断して焼成しセラミック焼
結体を得る工程と、セラミック焼結体の外表面に外部電
極を形成する工程とを含む積層セラミック電子部品の製
造方法において、キャリアフィルムとして、セラミック
スラリー塗布面のJISB0601で定義される最大高
さRmax がセラミック焼結体を構成するセラミック層の
厚みの30%以下であるとともに、セラミックスラリー
塗布面に離型層が形成され、セラミックスラリー塗布面
の反対面に帯電防止層が形成されたキャリアフィルムが
用いられることを特徴とする、積層セラミック電子部品
の製造方法である。このような積層セラミック電子部品
の製造方法において、帯電防止層は、たとえばアクリロ
イルオキシトリメチルアンモニウムクロリドを主成分と
する帯電防止剤によって形成される。また、帯電防止層
は、ジアリルジメチルアンモニウムクロリドを主成分と
する帯電防止剤によって形成されてもよい。さらに、セ
ラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みが0.7
μm以上で2μm以下であり、キャリアフィルムのセラ
ミックスラリー塗布面のJISB0601で定義される
最大高さRmax が0.2μm以下であることが好まし
い。
The present invention comprises a step of drawing a carrier film from a carrier film roll,
A step of applying a ceramic slurry on one surface of a carrier film at a coating speed of 30 m / min or more, a step of drying the applied ceramic slurry to form a ceramic green sheet, and a step of forming an internal electrode pattern on the ceramic green sheet. And a step of obtaining a laminated body by laminating the ceramic green sheets on which the internal electrode patterns are formed, a step of individually cutting and firing the laminated body to obtain a ceramic sintered body, and an external surface of the ceramic sintered body. In a method for manufacturing a laminated ceramic electronic component including a step of forming electrodes, a carrier film having a maximum height R max defined by JIS B0601 of a ceramic slurry coating surface is 30 times the thickness of a ceramic layer constituting a ceramic sintered body. % Or less, and a release layer is formed on the ceramic slurry coated surface. A method of manufacturing a monolithic ceramic electronic component, which comprises using a carrier film that is formed and has an antistatic layer formed on the surface opposite to the ceramic slurry application surface. In such a method for manufacturing a laminated ceramic electronic component, the antistatic layer is formed of, for example, an antistatic agent containing acryloyloxytrimethylammonium chloride as a main component. Further, the antistatic layer may be formed of an antistatic agent containing diallyldimethylammonium chloride as a main component. Furthermore, the thickness of the ceramic layer constituting the ceramic sintered body is 0.7.
It is preferable that it is not less than 2 μm and not less than μm, and the maximum height R max defined by JISB0601 on the surface of the carrier film on which the ceramic slurry is applied is not more than 0.2 μm.

【0011】セラミックスラリー塗布面のJISB06
01で定義される最大高さRmax を、セラミック積層体
が焼成された焼結体を構成するセラミック層の厚みの3
0%以下とすることにより、セラミックスラリーを塗布
して乾燥させたときに、セラミックグリーンシートに凹
みやピンホールが発生しにくくなる。また、キャリアフ
ィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面に帯電防止
層を形成することにより、巻き出し帯電量や剥離帯電量
を少なくすることができ、帯電による影響を少なくする
ことができる。このような帯電防止層の材料としては、
アクリロイルオキシトリメチルアンモニウムクロリドを
主成分とする帯電防止剤やジアリルジメチルアンモニウ
ムクロリドを主成分とする帯電防止剤などを用いること
ができる。さらに、セラミック焼結体を構成するセラミ
ック層の厚みが0.7μm以上で2μm以下である場
合、キャリアフィルムのセラミックスラリー塗布面のJ
ISB0601で定義される最大高さRmax を0.2μ
m以下とすることにより、セラミックグリーンシートに
おける凹みやピンホールの発生を抑えることができる。
JISB06 on the surface coated with ceramic slurry
The maximum height R max defined by 01 is defined as 3 of the thickness of the ceramic layer constituting the sintered body obtained by firing the ceramic laminated body.
When the content is 0% or less, when the ceramic slurry is applied and dried, the ceramic green sheet is less likely to have dents or pinholes. Further, by forming the antistatic layer on the surface of the carrier film opposite to the surface on which the ceramic slurry is applied, the unwinding charge amount and the peeling charge amount can be reduced, and the influence of charging can be reduced. As a material for such an antistatic layer,
An antistatic agent containing acryloyloxytrimethylammonium chloride as a main component or an antistatic agent containing diallyldimethylammonium chloride as a main component can be used. Further, when the thickness of the ceramic layer constituting the ceramic sintered body is 0.7 μm or more and 2 μm or less, J of the surface of the carrier film coated with the ceramic slurry is J.
The maximum height R max defined by ISB0601 is 0.2μ
When the thickness is m or less, it is possible to suppress the occurrence of dents and pinholes in the ceramic green sheet.

【0012】この発明の上述の目的,その他の目的,特
徴および利点は、図面を参照して行う以下の発明の実施
の形態の詳細な説明から一層明らかとなろう。
The above-mentioned objects, other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the embodiments of the invention with reference to the drawings.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】ここでは、積層セラミック電子部
品の一例として、積層セラミックコンデンサの製造方法
について説明する。積層セラミックコンデンサの製造方
法は、これに限定されるものではないが、図1を参照し
て説明した工程を含み、特に、キャリアフィルム14に
特徴のあるものが用いられる。この製造工程において、
セラミックスラリー18の塗布速度、つまりキャリアフ
ィルムロール12からのキャリアフィルム14の引き出
し速度は、30m/min以上となるように設定され
る。このような塗布速度とすることにより、セラミック
層を薄層化する場合においても、セラミックグリーンシ
ート22の厚みのばらつきを少なくすることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Here, a method for manufacturing a laminated ceramic capacitor will be described as an example of a laminated ceramic electronic component. The manufacturing method of the monolithic ceramic capacitor is not limited to this, but includes the steps described with reference to FIG. 1, and in particular, a carrier film having a characteristic is used. In this manufacturing process,
The coating speed of the ceramic slurry 18, that is, the drawing speed of the carrier film 14 from the carrier film roll 12 is set to be 30 m / min or more. With such a coating speed, it is possible to reduce variations in the thickness of the ceramic green sheet 22 even when the ceramic layer is thinned.

【0014】この点について、セラミック焼結体を構成
するセラミック層の厚みが2.0μmとなるように、キ
ャリアフィルム14上にセラミックスラリー18を塗布
したときの、塗布速度と膜厚ばらつきとの関係を図2に
示す。図2からわかるように、セラミックスラリー18
の塗布速度が30m/min以上になると、膜厚ばらつ
きが少なくなっている。
In this regard, the relationship between the coating speed and the variation in film thickness when the ceramic slurry 18 is applied onto the carrier film 14 so that the thickness of the ceramic layer constituting the ceramic sintered body is 2.0 μm. Is shown in FIG. As can be seen from FIG. 2, the ceramic slurry 18
When the coating speed of (3) was 30 m / min or more, the variation in film thickness was reduced.

【0015】図1に示す製造装置10において、たとえ
ばポリエステルを主成分とするキャリアフィルム14が
用いられる。ここで、ポリエステルとは、繰り返し構造
単位の70%以上がエチレンテレフタレート単位または
エチレン−2,6−ナフタレート単位または1,4−シ
クロヘキサンナフタレートを有するポリエステルを指
す。
In the manufacturing apparatus 10 shown in FIG. 1, for example, a carrier film 14 whose main component is polyester is used. Here, the polyester refers to a polyester in which 70% or more of the repeating structural units have ethylene terephthalate units, ethylene-2,6-naphthalate units, or 1,4-cyclohexanenaphthalate.

【0016】このようなキャリアフィルム14として、
セラミックスラリー18の塗布面におけるJISB06
01で定義される最大高さRmax がセラミック焼結体を
構成するセラミック層の厚みの30%以下である表面を
有するものが用いられる。このような表面を有するキャ
リアフィルム14を用いることにより、セラミックグリ
ーンシート22に凹みやピンホールなどが発生しにくく
なり、内部電極の短絡や信頼性の低下などの問題が少な
い積層セラミックコンデンサを得ることができる。特
に、セラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みが
0.7μm以上で2μm以下となる場合には、キャリア
フィルム14のセラミックスラリー18の塗布面におけ
るRmax が0.2μm以下であるものが用いられる。こ
のキャリアフィルム14のセラミックスラリー塗布面に
は、離型層が形成される。離型層を形成することによ
り、セラミックグリーンシート22をキャリアフィルム
14から剥離しやすくすることができる。
As such a carrier film 14,
JISB06 on the coated surface of the ceramic slurry 18
A material having a surface whose maximum height R max defined by 01 is 30% or less of the thickness of the ceramic layer constituting the ceramic sintered body is used. By using the carrier film 14 having such a surface, the ceramic green sheet 22 is less likely to have dents or pinholes, and a multilayer ceramic capacitor having less problems such as short circuit of internal electrodes and deterioration of reliability is obtained. You can In particular, when the thickness of the ceramic layer constituting the ceramic sintered body is 0.7 μm or more and 2 μm or less, the one having R max of 0.2 μm or less on the coated surface of the ceramic slurry 18 of the carrier film 14 is used. To be A release layer is formed on the surface of the carrier film 14 on which the ceramic slurry is applied. By forming the release layer, the ceramic green sheet 22 can be easily separated from the carrier film 14.

【0017】さらに、キャリアフィルム14には、セラ
ミックスラリー塗布面の反対面に帯電防止層が形成され
る。帯電防止層を形成することにより、巻き出し帯電量
や剥離帯電量を小さくすることができる。そのため、セ
ラミックスラリー18の塗布速度30m/min以上と
いう高速塗布が行なわれる場合にも、キャリアフィルム
14の巻き出し帯電量を小さくすることができる。
Further, an antistatic layer is formed on the carrier film 14 on the surface opposite to the ceramic slurry application surface. By forming the antistatic layer, the unwinding charge amount and the peeling charge amount can be reduced. Therefore, even when the ceramic slurry 18 is applied at a high speed of 30 m / min or more, the unwinding charge amount of the carrier film 14 can be reduced.

【0018】したがって、このようなキャリアフィルム
14を用いることにより、高速でキャリアフィルム14
上にセラミックスラリー18を塗布することができ、厚
みばらつきの少ない薄膜化されたセラミックグリーンシ
ート22を得ることができる。しかも、静電気による影
響を少なくすることができ、セラミックグリーンシート
22にキズや皺などが発生することを防止できる。これ
らの効果により、最終的に、内部電極の短絡などがな
く、信頼性の高い積層セラミックコンデンサを得ること
ができる。
Therefore, by using such a carrier film 14, the carrier film 14 can be operated at high speed.
The ceramic slurry 18 can be applied on the top, and a thinned ceramic green sheet 22 with less variation in thickness can be obtained. In addition, it is possible to reduce the influence of static electricity and prevent the ceramic green sheet 22 from being damaged or wrinkled. Due to these effects, finally, it is possible to obtain a highly reliable multilayer ceramic capacitor without causing a short circuit of the internal electrodes.

【0019】[0019]

【実施例】(実施例1)キャリアフィルムとして、ポリ
エステルを主成分とした合成樹脂フィルムを準備した。
この実施例においては、キャリアフィルムの表面の凹
凸、Rmax を変化させて評価するため、合成樹脂フィル
ムに粒子を含有させた。このような粒子としては、無機
粒子、有機粒子、ポリエステル重合時に生成する析出粒
子などを用いることができる。
Example 1 A synthetic resin film containing polyester as a main component was prepared as a carrier film.
In this example, particles were contained in the synthetic resin film in order to evaluate by varying R max , the unevenness of the surface of the carrier film. As such particles, inorganic particles, organic particles, precipitated particles generated during polyester polymerization, and the like can be used.

【0020】また、合成樹脂フィルムのセラミックスラ
リー塗布面の反対面に、帯電防止層を形成した。帯電防
止層としては、分子量6000のアクリロイルオキシメ
チルアンモニウムクロリドを含む帯電防止剤を用いた。
この帯電防止剤は、配合固形成分として、アクリロイル
オキシメチルアンモニウムクロリド95重量%と重合度
500のポリビニルアルコール系バインダ5重量%とを
含むものである。この帯電防止剤を、合成樹脂フィルム
に0.1μmの厚みとなるように塗布して、帯電防止層
を形成した。
An antistatic layer was formed on the surface of the synthetic resin film opposite to the surface on which the ceramic slurry was applied. As the antistatic layer, an antistatic agent containing acryloyloxymethylammonium chloride having a molecular weight of 6000 was used.
The antistatic agent contains 95% by weight of acryloyloxymethylammonium chloride and 5% by weight of a polyvinyl alcohol-based binder having a degree of polymerization of 500 as solid ingredients. This antistatic agent was applied to a synthetic resin film to a thickness of 0.1 μm to form an antistatic layer.

【0021】このようにして得られた合成樹脂フィルム
のセラミックスラリー塗布面に、チタン酸バリウム系セ
ラミック粉体を主原料とするセラミックスラリーを、セ
ラミック焼結体を構成するセラミック層の平均厚みが
3.0μmとなるように塗布し、乾燥してセラミックグ
リーンシートを形成した。このセラミックグリーンシー
ト上に、Niペーストを印刷、乾燥した。そして、Ni
ペーストが印刷されたセラミックグリーンシートを合成
樹脂フィルムから剥離しつつ、100枚積層し、積層体
を得た。この積層体を個々のチップに切断し、焼成して
セラミック焼結体とし、外部電極を形成して、積層セラ
ミックコンデンサを形成した。
On the surface of the thus obtained synthetic resin film to which the ceramic slurry is applied, the ceramic slurry containing barium titanate-based ceramic powder as a main raw material is mixed, and the average thickness of the ceramic layers constituting the ceramic sintered body is 3 It was applied so as to have a thickness of 0.0 μm and dried to form a ceramic green sheet. Ni paste was printed and dried on this ceramic green sheet. And Ni
While peeling the ceramic green sheet on which the paste was printed from the synthetic resin film, 100 sheets were laminated to obtain a laminated body. This laminated body was cut into individual chips and fired to form a ceramic sintered body, and external electrodes were formed to form a laminated ceramic capacitor.

【0022】セラミックグリーンシートを剥離すること
により生じる剥離帯電量を、温度25℃、湿度50%R
Hの雰囲気で測定した。剥離帯電量の測定は、KASU
GADENKI INC.のKSD0103を用いて行
なった。また、得られた積層セラミックコンデンサにつ
いて、内部電極の短絡不良を評価した。短絡不良の評価
は、横河ヒューレットパッカード(株)のHP−427
8Aを用いて、温度25℃、湿度50%RH、周波数1
kHz、電圧0.5Vの条件で行なった。この評価で
は、サンプル数を100個とした。そして、これらの評
価結果を、図3および図4に示した。
The amount of peeling charge generated by peeling off the ceramic green sheet was measured at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50% R.
It was measured in an H 2 atmosphere. The peeling charge is measured by KASU
GADENKI INC. KSD0103 of. In addition, with respect to the obtained monolithic ceramic capacitor, short circuit failure of the internal electrode was evaluated. Short circuit failure is evaluated by HP-427 of Yokogawa Hewlett-Packard Co.
8A, temperature 25 ℃, humidity 50% RH, frequency 1
It was performed under the conditions of kHz and voltage of 0.5V. In this evaluation, the number of samples was 100. The evaluation results are shown in FIGS. 3 and 4.

【0023】図3には、帯電防止層を形成した合成樹脂
フィルムと、帯電防止層のない合成樹脂フィルムについ
て、合成樹脂フィルムのセラミックスラリー塗布面にお
けるRmaxと、剥離帯電量との関係を示した。図3から
わかるように、帯電防止層のない合成樹脂フィルムを用
いた場合、Rmax が低くなるにしたがって、合成樹脂フ
ィルムとセラミックグリーンシートとの接触面積が増加
して、剥離帯電量が大きくなる。それに対して、帯電防
止層を形成した合成樹脂フィルムを用いた場合、剥離帯
電量を低減できることがわかる。
FIG. 3 shows the relationship between R max on the ceramic slurry coated surface of the synthetic resin film and the amount of peeling charge for the synthetic resin film having the antistatic layer and the synthetic resin film having no antistatic layer. It was As can be seen from FIG. 3, when a synthetic resin film without an antistatic layer is used, as R max decreases, the contact area between the synthetic resin film and the ceramic green sheet increases, and the amount of peeling charge increases. . On the other hand, when the synthetic resin film having the antistatic layer is used, the peeling charge amount can be reduced.

【0024】さらに、短絡不良率については、図4から
わかるように、帯電防止層のない合成樹脂フィルムを用
いた場合、Rmax 低くすることによって短絡不良率を低
減することができるが、Rmax 0.1μmまで低くして
も、短絡不良率を0%にすることができない。それに対
して、帯電防止層を形成した合成樹脂フィルムを用いた
場合、Rmax 0.9μm以下において、短絡不良の発生
を防止することができる。これは、帯電防止層を形成す
ることにより、合成樹脂フィルムの帯電量を低減するこ
とができ、静電気によって発生するセラミックグリーン
シートのキズや皺などを抑えることができるためである
と考えられる。このように、帯電防止層を形成した合成
樹脂フィルムを用いた場合、焼成後のセラミック層の厚
み3μmに対して、Rmax が30%以下の高さ、つまり
max 0.9μm以下の高さで、短絡不良を抑えること
ができる。
Furthermore, the short-circuit defect rate, as can be seen from FIG. 4, when a synthetic resin film without an antistatic layer, can reduce the short-circuit defect rate by lowering R max, R max Even if it is lowered to 0.1 μm, the short circuit failure rate cannot be made 0%. On the other hand, when a synthetic resin film having an antistatic layer is used, it is possible to prevent the occurrence of short circuit defects when R max is 0.9 μm or less. It is considered that this is because by forming the antistatic layer, the amount of charge of the synthetic resin film can be reduced and scratches and wrinkles of the ceramic green sheet caused by static electricity can be suppressed. As described above, when the synthetic resin film having the antistatic layer is used, the height of R max is 30% or less, that is, the height of R max is 0.9 μm or less with respect to the thickness of the ceramic layer after firing of 3 μm. Therefore, short circuit failure can be suppressed.

【0025】(実施例2)合成樹脂フィルムのセラミッ
クスラリー塗布面の反対側に、ジアリルジメチルアンモ
ニウムクロリドを含む帯電防止剤を用いて、帯電防止層
を形成した。帯電防止層としては、分子量3000のジ
アリルジメチルアンモニウムクロリドを含む帯電防止剤
を用いた。この帯電防止剤は、配合固形成分として、ジ
アリルジメチルアンモニウムクロリド90重量%と重合
度500のポリビニルアルコール系バインダ10重量%
とを含むものである。この帯電防止剤を、合成樹脂フィ
ルムに0.1μmの厚みとなるように塗布して、帯電防
止層を形成した。
Example 2 An antistatic layer was formed on the side of the synthetic resin film opposite to the surface coated with the ceramic slurry by using an antistatic agent containing diallyldimethylammonium chloride. As the antistatic layer, an antistatic agent containing diallyldimethylammonium chloride having a molecular weight of 3000 was used. This antistatic agent comprises, as solid components, 90% by weight of diallyldimethylammonium chloride and 10% by weight of a polyvinyl alcohol-based binder having a degree of polymerization of 500.
It includes and. This antistatic agent was applied to a synthetic resin film to a thickness of 0.1 μm to form an antistatic layer.

【0026】このようにして得られた合成樹脂フィルム
のセラミックスラリー塗布面に、チタン酸バリウム系セ
ラミック粉体を主原料とするセラミックスラリーを塗布
し、乾燥してセラミックグリーンシートを形成した。こ
のセラミックグリーンシート上に、Niペーストを印
刷、乾燥した。そして、Niペーストが印刷されたセラ
ミックグリーンシートを合成樹脂フィルムから剥離しつ
つ、100枚積層し、積層体を得た。この積層体を個々
のチップに切断し、焼成してセラミック焼結体とし、外
部電極を形成して、積層セラミックコンデンサを形成し
た。
The ceramic slurry containing the barium titanate-based ceramic powder as a main raw material was applied to the surface of the thus obtained synthetic resin film on which the ceramic slurry was applied, and dried to form a ceramic green sheet. Ni paste was printed and dried on this ceramic green sheet. Then, 100 sheets were laminated while separating the ceramic green sheet on which the Ni paste was printed from the synthetic resin film to obtain a laminated body. This laminated body was cut into individual chips and fired to form a ceramic sintered body, and external electrodes were formed to form a laminated ceramic capacitor.

【0027】この実施例では、合成樹脂フィルムのセラ
ミックスラリー塗布面のRmax 0.6μmとし、焼成後
のセラミック層の厚みを変化させて積層セラミックコン
デンサを作製した。得られた積層セラミックコンデンサ
について、高温負荷試験を行なって評価した。高温負荷
試験では、150℃の温度下で、セラミック厚さ1μm
当り10V印加し、積層セラミックコンデンサを加速的
に試験した。そして、帯電防止層のない合成樹脂フィル
ムを用いた場合と、帯電防止層を形成した合成樹脂フィ
ルムを用いた場合とについて、このような高温負荷試験
を行ない、100時間経過後の短絡不良率を求め、高温
負荷試験不良数とした。高温負荷試験のサンプル数は2
00個とし、その結果を図5に示した。
In this example, a laminated ceramic capacitor was manufactured by setting the R max of the ceramic resin coated surface of the synthetic resin film to 0.6 μm and changing the thickness of the ceramic layer after firing. The obtained monolithic ceramic capacitor was evaluated by conducting a high temperature load test. In a high temperature load test, at a temperature of 150 ° C, the ceramic thickness is 1 μm
The laminated ceramic capacitor was acceleratedly tested by applying 10 V per unit. Then, such a high temperature load test was performed for the case where a synthetic resin film having no antistatic layer was used and the case where a synthetic resin film having an antistatic layer was used, and the short-circuit failure rate after 100 hours was elapsed. The number of defective high temperature load tests was determined. 2 samples for high temperature load test
The number was set to 00 and the result is shown in FIG.

【0028】図5からわかるように、帯電防止層のない
合成樹脂フィルムを用いた場合、合成樹脂フィルムの表
面におけるRmax が0.6μmでは、セラミック層の厚
み4μm以上で高温負荷試験不良数が0%になる。それ
に対して、帯電防止層を形成した合成樹脂フィルムを用
いた場合、セラミック層の厚み2μm以上で、高温負荷
試験で不良が発生していない。
As can be seen from FIG. 5, when a synthetic resin film having no antistatic layer was used, when the R max on the surface of the synthetic resin film was 0.6 μm, the number of defective high temperature load tests was 4 μm or more in the thickness of the ceramic layer. It will be 0%. On the other hand, when the synthetic resin film having the antistatic layer is used, the ceramic layer has a thickness of 2 μm or more, and no defect occurs in the high temperature load test.

【0029】次に、合成樹脂フィルム表面のRmax
0.1μmから1.0μmまで変化させ、また焼成後の
セラミック層の厚みを0.3μmから4.0μmまで変
化させて、積層セラミックコンデンサを作製した。そし
て、得られた積層セラミックコンデンサについて、高温
負荷試験不良数を前述の条件で評価した。なお、合成樹
脂フィルムには、前述と同様に、ジアリルジメチルアン
モニウムクロリドを含む帯電防止剤を用いて、帯電防止
層を形成した。そして、評価した結果を図6に示した。
Next, the R max of the surface of the synthetic resin film was changed from 0.1 μm to 1.0 μm, and the thickness of the ceramic layer after firing was changed from 0.3 μm to 4.0 μm to obtain a laminated ceramic capacitor. It was made. Then, the obtained multilayer ceramic capacitors were evaluated for the number of defective high temperature load tests under the above-mentioned conditions. An antistatic layer was formed on the synthetic resin film by using an antistatic agent containing diallyldimethylammonium chloride as described above. The evaluation results are shown in FIG.

【0030】図6からわかるように、合成樹脂フィルム
のRmax 0.1μmでは、セラミック層の厚み0.5μ
m以上で高温負荷試験不良数が0%になる。また、合成
樹脂フィルムのRmax 0.2μmでは、セラミック層の
厚み0.7μm以上で高温負荷試験不良数が0%にな
る。同様に、合成樹脂フィルムのRmax 0.3μmでは
セラミック層の厚み1.0μm以上で、合成樹脂フィル
ムのRmax 0.5μmではセラミック層の厚み1.8μ
m以上で、合成樹脂フィルムのRmax 0.6μmではセ
ラミック層の厚み2.0μm以上で、合成樹脂フィルム
のRmax 0.7μmではセラミック層の厚み2.5μm
以上で、合成樹脂フィルムのRmax 1.0μmではセラ
ミック層の厚み3.5μm以上で、高温負荷試験不良数
が0%になることが確認できる。
As can be seen from FIG. 6, when R max of the synthetic resin film is 0.1 μm, the thickness of the ceramic layer is 0.5 μm.
The number of defectives in the high temperature load test becomes 0% at m or more. When R max of the synthetic resin film is 0.2 μm, the number of defective high temperature load tests becomes 0% when the thickness of the ceramic layer is 0.7 μm or more. Similarly, when the R max of the synthetic resin film is 0.3 μm, the thickness of the ceramic layer is 1.0 μm or more, and when the R max of the synthetic resin film is 0.5 μm, the thickness of the ceramic layer is 1.8 μm.
When the synthetic resin film has an R max of 0.6 μm, the ceramic layer has a thickness of 2.0 μm or more, and when the synthetic resin film has an R max of 0.7 μm, the ceramic layer has a thickness of 2.5 μm.
From the above, it can be confirmed that when the R max of the synthetic resin film is 1.0 μm, the number of defects in the high temperature load test becomes 0% when the thickness of the ceramic layer is 3.5 μm or more.

【0031】以上の結果からわかるように、焼成後のセ
ラミック層の厚みに対して、合成樹脂フィルムのRmax
を30%以下の高さとすることにより、高温負荷試験不
良の発生を抑えることができる。また、焼成後のセラミ
ック層の厚みが0.7μm以上で2.0μm以下の場
合、Rmax 0.2μm以下の合成樹脂フィルムを用いる
ことにより、安定して高温負荷試験不良数を0%に抑え
ることができる。
As can be seen from the above results, the R max of the synthetic resin film is different from the thickness of the ceramic layer after firing.
By setting the height to 30% or less, it is possible to suppress the occurrence of a high temperature load test failure. Further, when the thickness of the ceramic layer after firing is 0.7 μm or more and 2.0 μm or less, by using a synthetic resin film having R max of 0.2 μm or less, the number of defective high temperature load tests can be stably suppressed to 0%. be able to.

【0032】本実施例から、合成樹脂フィルムのセラミ
ックスラリー塗布面の反対面に帯電防止層を形成し、R
max が0.6μmの場合、焼成後のセラミック層の厚み
2μm以上に対して、つまり、焼成後のセラミック層の
厚みに対してRmax が30%以下のときに、高温負荷試
験不良の発生を抑えることができる。また、焼成後のセ
ラミック層の厚みが0.7μm以上で2.0μm以下の
場合、合成樹脂フィルムのRmax 0.2μm以下とする
ことにより、高温負荷試験不良率を0%に抑えることが
できる。
From this example, an antistatic layer was formed on the surface of the synthetic resin film opposite to the surface on which the ceramic slurry was applied.
When max is 0.6 μm, a high temperature load test failure occurs when the thickness of the fired ceramic layer is 2 μm or more, that is, when R max is 30% or less with respect to the thickness of the fired ceramic layer. Can be suppressed. Moreover, when the thickness of the ceramic layer after firing is 0.7 μm or more and 2.0 μm or less, the high temperature load test failure rate can be suppressed to 0% by setting the R max of the synthetic resin film to 0.2 μm or less. .

【0033】(実施例3)この実施例においては、合成
樹脂フィルムに形成する帯電防止層の厚みと、キャリア
フィルムロールからの合成樹脂フィルムの引き出しによ
る巻き出し帯電量との関係について評価した。ここで
は、合成樹脂フィルムに形成する帯電防止層の厚みを変
化させて、合成樹脂フィルム上へのセラミックスラリー
の塗布速度、つまり合成樹脂フィルムの引き出し速度
と、巻き出し帯電量との関係を調べた。そして、その結
果を図7に示した。
(Example 3) In this example, the relationship between the thickness of the antistatic layer formed on the synthetic resin film and the amount of unwound charge by pulling out the synthetic resin film from the carrier film roll was evaluated. Here, the thickness of the antistatic layer formed on the synthetic resin film was changed, and the relationship between the coating speed of the ceramic slurry on the synthetic resin film, that is, the drawing speed of the synthetic resin film, and the unwinding charge amount was investigated. . And the result was shown in FIG.

【0034】図7から、合成樹脂フィルムに帯電防止層
を形成しなかった場合、および帯電防止層の厚みが0.
05μmの場合には、セラミックスラリーの塗布速度が
20m/minを超えると、巻き出し帯電量が急激に上
昇した。それに対して、合成樹脂フィルムに形成する帯
電防止層の厚みが0.1μm以上の場合、セラミックス
ラリーの塗布速度が30m/min以上になっても、巻
き出し帯電量が4kV/cm以下であった。以上の結果
から、合成樹脂フィルム上の帯電防止層の厚みは、0.
1μm以上とすることが好ましい。
From FIG. 7, when the antistatic layer was not formed on the synthetic resin film and when the thickness of the antistatic layer was 0.
In the case of 05 μm, when the coating speed of the ceramic slurry exceeded 20 m / min, the unwinding charge amount sharply increased. On the other hand, when the thickness of the antistatic layer formed on the synthetic resin film was 0.1 μm or more, the unwinding charge amount was 4 kV / cm or less even when the coating rate of the ceramic slurry was 30 m / min or more. . From the above results, the thickness of the antistatic layer on the synthetic resin film was 0.
It is preferably 1 μm or more.

【0035】なお、上述の各実施例においては、キャリ
アフィルムからセラミックグリーンシートを剥離しつつ
積層する方法について示したが、積層圧着したのちにキ
ャリアフィルムから剥離する方法においても、同様な効
果が得られるものであり、積層方法において限定するも
のではない。
In each of the above-mentioned embodiments, the method of laminating the ceramic green sheet while peeling it from the carrier film was shown, but the same effect can be obtained by the method of peeling from the carrier film after laminating and pressure bonding. However, the lamination method is not limited.

【0036】[0036]

【発明の効果】この発明によれば、キャリアフィルム上
へのセラミックスラリーの塗布速度を30m/min以
上とすることにより、均一な厚さでセラミックグリーン
シートを形成することができ、しかも積層体の焼成後の
セラミック層の厚みの薄膜化が可能である。このとき、
キャリアフィルムとして、セラミックスラリー塗布面に
おけるRmax をセラミック層の厚みの30%以下とし、
セラミックスラリー塗布面の反対面に帯電防止層を形成
することにより、局所的な凹みやピンホールをなくし、
巻き出し帯電量や剥離帯電量を小さくすることができ、
セラミックグリーンシート形成時の不良発生を抑えるこ
とができる。したがって、最終的に得られる積層セラミ
ック電子部品の信頼性を高めることができる。
According to the present invention, by setting the coating speed of the ceramic slurry on the carrier film to 30 m / min or more, the ceramic green sheet can be formed with a uniform thickness, and further, the laminated body can be formed. It is possible to reduce the thickness of the ceramic layer after firing. At this time,
As the carrier film, R max on the ceramic slurry coated surface is 30% or less of the thickness of the ceramic layer,
By forming an antistatic layer on the surface opposite to the ceramic slurry application surface, local depressions and pinholes are eliminated,
The unwinding charge amount and peeling charge amount can be reduced,
It is possible to suppress the occurrence of defects when forming the ceramic green sheet. Therefore, the reliability of the finally obtained monolithic ceramic electronic component can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の背景となる積層セラミックコンデン
サの製造方法の一工程に用いられる製造装置を示す概念
図である。
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a manufacturing apparatus used in one step of a method for manufacturing a monolithic ceramic capacitor, which is the background of the present invention.

【図2】キャリアフィルム上へのセラミックスラリーの
塗布速度と膜厚ばらつきとの関係を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the coating speed of a ceramic slurry on a carrier film and the variation in film thickness.

【図3】キャリアフィルムにおける帯電防止層の有無に
関する実施例1において、キャリアフィルムのセラミッ
クスラリー塗布面におけるRmax と、剥離帯電量との関
係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between R max on the surface of a carrier film coated with ceramic slurry and the amount of peeling charge in Example 1 relating to the presence or absence of an antistatic layer in a carrier film.

【図4】キャリアフィルムにおける帯電防止層の有無に
関する実施例1において、キャリアフィルムのセラミッ
クスラリー塗布面におけるRmax と、積層セラミックコ
ンデンサの短絡不良率との関係を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a relationship between R max on a surface of a carrier film coated with a ceramic slurry and a short-circuit failure rate of a laminated ceramic capacitor in Example 1 relating to the presence or absence of an antistatic layer in a carrier film.

【図5】キャリアフィルムにおける帯電防止層の有無に
関する実施例2において、焼成後のセラミック層の厚み
と、積層セラミックコンデンサの高温負荷試験不良率と
の関係を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the thickness of a ceramic layer after firing and the failure rate of a high temperature load test of a laminated ceramic capacitor in Example 2 relating to the presence or absence of an antistatic layer in a carrier film.

【図6】帯電防止層を有しかつRmax の異なるキャリア
フィルムを用いた実施例2において、焼成後のセラミッ
ク層の厚みと、積層セラミックコンデンサの高温負荷試
験不良率との関係を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the thickness of the ceramic layer after firing and the failure rate of the high temperature load test of the laminated ceramic capacitor in Example 2 in which carrier films having an antistatic layer and different R max were used. is there.

【図7】帯電防止層の厚みを変えたキャリアフィルムを
用いた実施例3において、キャリアフィルム上へのセラ
ミックスラリーの塗布速度と、巻き出し帯電量との関係
を示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing a relationship between a coating speed of a ceramic slurry on a carrier film and an unwinding electrification amount in Example 3 using a carrier film in which a thickness of an antistatic layer is changed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 製造装置 12 キャリアフィルムロール 14 キャリアフィルム 16 塗布装置 18 セラミックスラリー 20,25 乾燥装置 22 セラミックグリーンシート 24 印刷装置 26 巻き取り装置 10 Manufacturing equipment 12 Carrier film roll 14 Carrier film 16 Coating device 18 Ceramic slurry 20, 25 dryer 22 Ceramic green sheet 24 Printer 26 Winding device

フロントページの続き (72)発明者 大森 長門 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 米田 康信 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 5E082 AB03 BC38 EE04 EE35 FG06 FG26 FG46 FG54 GG10 JJ03 LL01 LL02 LL03 MM12 MM24 PP09 PP10 Continued front page    (72) Inventor Nagamori Omori             2-10-10 Tenjin, Nagaokakyo, Kyoto Stock             Murata Manufacturing Co., Ltd. (72) Inventor Yasunobu Yoneda             2-10-10 Tenjin, Nagaokakyo, Kyoto Stock             Murata Manufacturing Co., Ltd. F term (reference) 5E082 AB03 BC38 EE04 EE35 FG06                       FG26 FG46 FG54 GG10 JJ03                       LL01 LL02 LL03 MM12 MM24                       PP09 PP10

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 キャリアフィルムロールからキャリアフ
ィルムを引き出す工程、 前記キャリアフィルムの片面に塗布速度30m/min
以上でセラミックスラリーを塗布する工程、 塗布された前記セラミックスラリーを乾燥してセラミッ
クグリーンシートを形成する工程、 前記セラミックグリーンシート上に内部電極パターンを
形成する工程、 前記内部電極パターンが形成された前記セラミックグリ
ーンシートを積層し積層体を得る工程、 前記積層体を個々に切断して焼成しセラミック焼結体を
得る工程、および前記セラミック焼結体の外表面に外部
電極を形成する工程を含む積層セラミック電子部品の製
造方法において、 前記キャリアフィルムとして、前記セラミックスラリー
塗布面のJISB0601で定義される最大高さRmax
が前記セラミック焼結体を構成するセラミック層の厚み
の30%以下であるとともに、前記セラミックスラリー
塗布面に離型層が形成され、前記セラミックスラリー塗
布面の反対面に帯電防止層が形成されたキャリアフィル
ムが用いられることを特徴とする、積層セラミック電子
部品の製造方法。
1. A process of pulling out a carrier film from a carrier film roll, a coating speed of 30 m / min on one side of the carrier film.
The step of applying the ceramic slurry as described above, the step of drying the applied ceramic slurry to form a ceramic green sheet, the step of forming an internal electrode pattern on the ceramic green sheet, the step of forming the internal electrode pattern Lamination including a step of laminating ceramic green sheets to obtain a laminated body, a step of individually cutting and firing the laminated body to obtain a ceramic sintered body, and a step of forming an external electrode on an outer surface of the ceramic sintered body In the method for manufacturing a ceramic electronic component, as the carrier film, the maximum height R max of the surface coated with the ceramic slurry defined by JIS B0601.
Is 30% or less of the thickness of the ceramic layer constituting the ceramic sintered body, a release layer is formed on the ceramic slurry application surface, and an antistatic layer is formed on the opposite surface of the ceramic slurry application surface. A method of manufacturing a laminated ceramic electronic component, which comprises using a carrier film.
【請求項2】 前記帯電防止層は、アクリロイルオキシ
トリメチルアンモニウムクロリドを主成分とする帯電防
止剤によって形成されることを特徴とする、請求項1に
記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
2. The method for manufacturing a laminated ceramic electronic component according to claim 1, wherein the antistatic layer is formed of an antistatic agent containing acryloyloxytrimethylammonium chloride as a main component.
【請求項3】 前記帯電防止層は、ジアリルジメチルア
ンモニウムクロリドを主成分とする帯電防止剤によって
形成されることを特徴とする請求項1に記載の積層セラ
ミック電子部品の製造方法。
3. The method for manufacturing a laminated ceramic electronic component according to claim 1, wherein the antistatic layer is formed of an antistatic agent containing diallyldimethylammonium chloride as a main component.
【請求項4】 前記セラミック焼結体を構成するセラミ
ック層の厚みが0.7μm以上で2μm以下であり、前
記キャリアフィルムの前記セラミックスラリー塗布面の
JISB0601で定義される最大高さRmax が0.2
μm以下である、請求項1ないし請求項3のいずれかに
記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
4. The ceramic layer constituting the ceramic sintered body has a thickness of 0.7 μm or more and 2 μm or less, and a maximum height R max defined by JISB0601 of the carrier slurry application surface of the carrier film is 0. .2
The method for producing a monolithic ceramic electronic component according to claim 1, wherein the laminated ceramic electronic component has a thickness of μm or less.
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