JP2003201268A

JP2003201268A - アミン誘導体の製造方法

Info

Publication number: JP2003201268A
Application number: JP2002311248A
Authority: JP
Inventors: Tamon Itabashi; 太門板橋; Taku Kamikawa; 卓神川
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2001-10-25
Filing date: 2002-10-25
Publication date: 2003-07-18

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】置換芳香族アミン化合物を、収率良くしかも不
純物を少なく製造する方法の提供。【解決手段】一般式（１）〔式中、Ｒ^１は、アリール基、ヘテロアリール基、アル
ケニル基、又はシクロアルケニル基を表し、Ｘ¹は塩
素、臭素、ヨウ素、メシル基又はトリフルオロメタンス
ルホニル基を表し、ｎは１から３までの整数。〕で示さ
れる不飽和有機化合物と一般式（２）〔式中、Ｒ²は水素、置換されていてもよいアルキル基
を表し、Ｒ³は水素、アルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、Ｒ²及びＲ³が窒素原子と一緒になってヘテ
ロ環を形成する基。〕で示されるアミン化合物とを縮合
反応させるにあたり、触媒として、１，２−ビス（ジシ
クロヘキシルホスフィノ）エタン又は１，３−ビス（ジ
シクロヘキシルホスフィノ）プロパンとニッケル系化合
物との錯体を用いる一般式（３）Ｒ^２Ｒ^３ＮＲ^１
（３）で示されるアミン誘導体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アミン誘導体の製
造方法に関し、より詳しくは特定の配位子を有するニッ
ケル系触媒の存在下に、不飽和有機化合物とアミン化合
物とを反応させることを特徴とするアミン誘導体の製造
方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】アミン
誘導体は、医薬、農薬、液晶材料、有機ＥＬ材料等、ま
たはそれの合成中間体として有用な化合物であり、中で
も、芳香族アミン骨格を有する化合物の需要が高まって
いる。芳香族アミン骨格を有するアミン誘導体の製造方
法としては、アミン化合物と、アリールハライド類を、
パラジウムまたはニッケル系触媒を用いて縮合させる反
応が、汎用性の高い方法として挙げられる。パラジウム
が、稀少貴金属であるのに対して、ニッケルはより安価
なことから工業的にはニッケル系触媒を用いる方法が望
まれている。しかし、ニッケル系触媒を用いた本反応
は、パラジウム触媒ほど研究されておらず、ニッケル触
媒の配位子として有効なものは、ビス（トリフェニルホ
スフィノ）フェロセン（非特許文献１および２参照。）
ならびにビピリジル（非特許文献３参照。）を用いる方
法が報告されている。しかし、これらの製造方法は反応
収率が必ずしも満足し得るものではなく、改良が求めら
れていた。

【０００３】

【非特許文献１】J. Am. Chem. Soc.1997, 119, 6054

【非特許文献２】Angew. Chem. Int. Ed. 2000,24,4492

【非特許文献３】Tetrahedoron Letter41,2875(2000)

【０００４】

【課題を解決するための手段】ニッケル系触媒の存在下
に、不飽和有機化合物とアミン化合物とを反応させて、
アミン誘導体を製造する方法について、鋭意検討を重ね
た結果、特定のビスジシクロヘキシルホスフィン配位子
とニッケル系化合物を使用すれば、目的とする置換芳香
族アミン化合物が、優れた収率でしかも不純物が少なく
効率的に製造しうることを見出し、本発明を完成した。

【０００５】すなわち本発明は、一般式（１）〔式中、Ｒ^１は、アリール基、ヘテロアリール基、アル
ケニル基、又はシクロアルケニル基を表し（これら置換
基は、それぞれ１つ又は複数の同一又は異なる置換基で
置換されていてもよい。）、Ｘ¹は塩素、臭素、ヨウ素
原子、メシル基又はトリフルオロメタンスルホニル基を
表し、ｎは１から３までの整数を示す。〕で示される不
飽和有機化合物と一般式（２）〔式中、Ｒ²は水素原子、置換されていてもよいアルキ
ル基を表し、Ｒ³は水素原子、置換されていてもよいア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、あるいはＲ
²及びＲ³が窒素原子と一緒になってヘテロ環を形成する
基を表す。〕で示されるアミン化合物とを縮合反応させ
るにあたり、触媒として、１，２−ビス（ジシクロヘキ
シルホスフィノ）エタン又は１，３−ビス（ジシクロヘ
キシルホスフィノ）プロパンとニッケル系化合物との錯
体を用いることを特徴とする一般式（３）Ｒ^２Ｒ^３ＮＲ^１（３）［式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、前記と同じ意味を表
す。］で示されるアミン誘導体の製造方法を提供するも
のである。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明における不飽和有機化合物において、Ｒ^１はそれ
ぞれ置換されていてもよい、アリール基、ヘテロアリー
ル基、ビニル基、又はシクロアルケニル基を表す。Ｒ^１
が置換基によって置換されている場合、１または複数の
置換基で置換されていてもよく、該置換基は、Ｒ^１上
の、Ｘ^１が結合していない任意の炭素原子に結合してい
る。該置換基としては、フッ素原子、例えばメチル基、
エチル基、i−プロピル基、トリフルオロメチル基など
のアルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、例
えばエトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのアルコキシ基、
フェノキシ基、メルカプト基、例えばメチルチオ基など
のアルキルチオ基、例えばフェニルチオ基などのアリー
ルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、例えばジメ
チルアミノ基、シクロヘキシニルアミノ基などの置換ア
ミノ基、例えばｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、アセ
トキシアミノ基などのアシルアミノ基、例えばベンゼン
スルホンアミノ基、メタンスルホアミノ基のようなスル
ホアミノ基、イミノ基、例えばフタルイミド基などのイ
ミド基、例えばメトキシカルボニル基などのアルコキシ
カルボニル基、例えばｐ−メトキシフェノキシカルボニ
ル基などのアリールオキシカルボニル基、例えばカルバ
モイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基などの無置換ま
たは置換カルバモイル基、例えばピリジル基、フリル
基、チエニル基などのヘテロ環残基、例えばフェニル
基、ナフチル基などのアリール基などが挙げられる。こ
れら置換基の内の隣合う炭素原子上の２個の置換基が結
合して、Ｒ^１と縮合環を形成してもよい．またこれらの
置換基はさらに置換されてもよい。

【０００７】Ｒ^１におけるアリール基としては、特に限
定されないが、例えば、６〜１４の炭素原子からなる１
ないし３環のアリール基等が挙げられる。該アリール基
としてはフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、
フェナンスリル基、インデニル基、フルオレニル基等が
挙げられる。Ｒ^１がアリール基である一般式（１）で示
される不飽和有機化合物の好ましいものとしては、一般
式（４）［式中、Ｒ^３は同一または相異なり、フッ素原子、アル
キル基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シル基、フェノキシ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、
置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミノド基、
イミノ基、イミド基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、無置換または置換カルバモイル
基、ヘテロ環残基、アリール基、または脱離基を表し、
隣接する炭素原子上の置換基は結合して縮合多環性芳香
環を形成していてもよい、ｍ1は、１〜４の整数を表
し、Ｒ^４は水素原子を表すか、あるいは隣接する炭素原
子上の置換基と結合して縮合多環性芳香環を形成してい
る。］で示される化合物が挙げられる。なお、Ｒ^３が、
縮合多環性芳香環を形成している場合で、かつそのＲ^３
に脱離基が存在するときは、その脱離基のオルト位は置
換されていないか、または隣接する炭素原子上の置換基
と結合して縮合多環性芳香環を形成している。脱離基と
しては、以下のＸ¹で挙げられるものと同様のものが例
示される。Ｒ^３の置換基としては、先に記載したＲ^１で
挙げた例と同様のものが例示される。

【０００８】Ｒ^１におけるへテロアリール基としては、
特に限定されないが、例えば、０〜３個の窒素原子、０
〜２個の酸素原子、０〜２個の硫黄原子から選ばれる、
１〜３個のヘテロ原子を含む、５から７員環のへテロア
リール基を表す。かかるへテロアリール基としては、ピ
リジル基、フリル基、チエニル基，ピロリル基，イミダ
ゾリル基等が挙げられる。

【０００９】Ｒ^１におけるアルケニル基としては、特に
限定されないが、例えば、炭素数２〜１０の、１または
複数の二重結合を含む置換ビニル基を表す。ここで、本
発明におけるアルケニル基は、二重結合部分の炭素原子
とＸ^１とが結合している。かかるアルケニル基として
は、ビニル基、１−プロペニル基等があげられる。Ｒ^１
におけるシクロアルケニル基は、特に限定されないが、
例えば、５〜８員の、１または２個の二重結合を含むシ
クロアルケニル基を表し、かかるシクロアルケニル基と
しては、シクロヘキセニル基、シクロペンテニル基等が
挙げられる。

【００１０】ここで、本発明におけるシクロアルケニル
基は、下式のように、二重結合部分でＸ^１と結合してい
る。該シクロアルケニル基は、オキソ基で置換されていても
よく、オキソ基で置換されたシクロアルケニル基として
は、１，４−ベンゾキノニル基，６−オキソシクロヘキ
セ−１−エニル基、５−オキソシクロペンテ−１−エニ
ル基等が挙げられる。

【００１１】Ｘ^１は、本発明において、アミン化合物
（２）と反応することによって脱離する基（脱離基）で
ある。脱離基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子等のハロゲン原子、メシル基、トリフルオロメタンス
ルホニル基等が挙げられ、各々同一であっても異なって
もよい。ｎは１から3の整数を表す。

【００１２】不飽和有機化合物（１）の具体的として
は、例えばフェニルブロマイド、ｏ−トリルブロマイ
ド、ｐ−ｔ−ブチルフェニルブロマイド、２，６−ジメ
チルフェニルブロマイド、３，５−ジメチルフェニルブ
ロマイド、２−ヒドロキシルエチルフェニルブロマイ
ド、４−シクロヘキシルフェニルブロマイド、３−ブロ
モベンゾトリフルオリド、β−ブロモスチレン、３−ブ
ロモ−４−クロロベンゾトリフルオリド、２−ナフチル
ブロマイド、９，１０−ジブロモアントラセン、９−ブ
ロモアントラセン、１，３−ジブロモベンゼン、ｍ−メ
トキシフェニルブロマイド、１，４−ジブロモ−２−フ
ルオロベンゼン、２−ブロモフェニル酢酸メチル、３−
ブロモフェニル酢酸メチル、４−ブロモフェニル酢酸エ
チル、３−ブロモ桂皮酸メチル、５−ブロモサリチル酸
メチル、４−ブロモベンズアミド、４−ブロモベンゾニ
トリル、９−ブロモフェナンスレン、２−ブロモフルオ
レン、５−ブロモインダノン、２，７−ブロモフルオレ
ン、６−ブロモ−２−ナフトール、４，４’−ジブロモ
ビフェビル、２−ピリジルブロマイド、２−ブロモフラ
ン、３−ブロモフラン、２−ブロモチオフェン、４−ブ
ロモピラゾール、２−ブロモチアゾール、５−ブロモウ
ラシル、８−ブロモキノリン、４−ブロモイソキノリ
ン、１−ベンジル−５−ブロモテトラゾール、フェニル
クロライド、ｏ−トリルクロライド、３−クロロトルエ
ン、４−クロロトルエン、２−クロロアセトフェノン、
4−クロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルフェニルク
ロライド、３，５−ジメチルフェニルクロライド、４−
シクロヘキシルフェニルクロライド、２−クロロ−４−
フルオロトルエン、１−クロロー４−ニトロベンゼン、
２−クロロフェニル酢酸メチル、３−ブロモフェニル酢
酸メチル、４−クロロフェニル酢酸エチル、３−クロロ
ベンゾフェノン、４−クロロ−１−ナフトール、４−ク
ロロアニリン、４−クロロ−Ｎ，Ｎ’−ジメチルアニリ
ン、４−クロロ−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリン、５−
クロロ−Ｎ．Ｎ’−ジメチルアニリン、５−クロロー２
−メトキシアニリン、３−クロロ安息香酸メチル、２−
クロロ安息香酸フェニル、２−クロロフェニルアセトア
ミド、４−クロロフェニルアセトアミド、２−クロロベ
ンジルシアナイド、２−ナフチルクロライド、９，１０
−ジクロロアントラセン、９−クロロアントラセン、
１，３−ジクロロベンゼン、ｏ−メトキシフェニルクロ
ライド、ｍ−メトキシフェニルクロライド、ｐ−メトキ
シフェニルクロライド、３，５−ジメトキシクロロトル
エン、３−クロロベンゾニトリル、２，７−ジクロロ−
９−フルオレノン、２−クロロ−３−モルホリノ−１，
４−ナフトキノン、４−クロロベンゾフェノン、１，４
−ジクロロ−２−フルオロベンゼン、２−ピリジルクロ
ライド、１−（３−クロロフェニル）−３−メチル−２
−ピラゾリン−５−オン、３−クロロチオフェン、５−
クロロ−１−メチルイミダゾール、５−クロロ−１−フ
ェニル−１Ｈ−テトラゾール、クロロインドール、２−
クロロベンゾイミダゾール、８−クロロ−５−メトキシ
キノリン、２−クロロベンゾキサゾール、２，６−ジク
ロロピリジン、３，５−ジクロロピリジン、２−クロロ
ベンゾチアゾール、６−クロロプリン、クロロピラジ
ン、１，４−ジクロロフタラジン、２，４−ジクロロピ
リミジン、フェニルアイオダイド、ｏ−トリルアイオダ
イド、ｐ−ｔ−ブチルフェニルアイオダイド、２，６−
ジメチルフェニルアイオダイド、３，５−ジメチルフェ
ニルアイオダイド、４−ヨードアセトフェノン、２−ナ
フチルアイオダイド、９，１０−ジヨードアントラセ
ン、１，３−ジヨードベンゼン、ｍ−メトキシフェニル
アイオダイド、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヨー
ドフェニルアラニンメチルエステル、４，４’−ジヨー
ドビフェニル、１，４−ジヨード２−フルオロベンゼ
ン、２−ピリジルアイオダイド、ビニルブロマイド、ビ
ニルクロライド、シクロヘキセン−１−イルーブロマイ
ド、シクロペンテン−１−イル−クロライド、１，２−
エチレンジクロライド、２−ピリジルトリフルオロメタ
ンスルホネート、２，２’−ビス（トリフルオロメタン
スルホニロキシ−１，１’−ビナフチル、１，２，２−
トリメチルビニルトリフルオロメタンスルホネート、４
−ブロモフェニルトリフルオロメタンスルホネートなど
が挙げられる。

【００１３】本発明におけるアミン化合物（２）におい
て、Ｒ²は水素原子または置換されていてもよいアルキ
ル基を表し、Ｒ³は水素原子、置換されていてもよいア
ルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、あ
るいはＲ²及びＲ³がＮ原子と一緒になってヘテロ環を形
成する基を表す。Ｒ²及びＲ³が置換基によって置換され
ている場合、１または複数の置換基で置換されていても
よく、該置換基は、Ｒ ²及びＲ³上の、Ｎが結合していな
い任意の炭素原子に結合している。該置換基としては先
に記載した不飽和有機化合物（１）の置換基と同様の基
が挙げられる。

【００１４】Ｒ²におけるアルキル基としては、特に限
定されないが、例えば、１〜４の炭素原子からなる直鎖
状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。該アルキル基
としてはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブ
チル基等があげられる。Ｒ³におけるアルキル基として
は、特に限定されないが、例えば、１〜１０の炭素原子
からなる直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。
該アルキル基としては、メチル基、イソプロピル基、ｎ
−ヘキシル基、ｔ−ブチル基、３−シアノヘキシル基、
３−メトキシオクチル基、２−メトキシカルボニルエチ
ル基等が挙げられる。Ｒ³におけるシクロアルキル基と
しては、特に限定されないが、例えば、３〜２０の炭素
原子からなるシクロアルキル基が挙げられる。該シクロ
アルキル基としてはシクロブチル基、シクロヘキル基等
が挙げられる。Ｒ³におけるアリール基としてはＲ^１で
表したものと同様の基を挙げることができる。Ｒ²及び
Ｒ³がＮ原子と一緒になってヘテロ環を形成する基とし
ては、特に限定されないが、例えば０〜３個の窒素原
子、０〜２個の酸素原子、０〜２個の硫黄原子から選ば
れる、１〜３個のヘテロ原子を含む炭素数４〜１０のヘ
テロ環を表す。該へテロ環としては例えば、モルフォリ
ノ基、ピペリジノ基等が挙げられる。

【００１５】アミン化合物（２）としては特に限定され
ないが、Ｒ²もしくはＲ^３のいずれかが水素原子で示さ
れる化合物が好ましい。

【００１６】アミン化合物（２）の具体例としては、例
えばメチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミ
ン、イソプロピルアミン、イソブチルアミン、ｓｅｃ−
ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ｎ−アミルア
ミン、イソアミルアミン、シクロヘキシルアミン、ｎ−
ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、２−アミノヘプタ
ン、３−アミノヘプタン、オクチルアミン、ノニルアミ
ン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルア
ミン、１−テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、
１−ヘキシルデシルアミン、オクタデシルアミン、１，
４−ジアミノブタン、１，３−ジアミノプロパン、デカ
ハイドロキノリン、アニリン、ベンジルアミン、ｏ−フ
ルオロアニリン、ｏ−トルイジン、ｍ−トルイジン、ｐ
−トルイジン、ｏ−アニシジン、ｍ−アニシジン、ｐ−
アニシジン、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミ
ン、１−アミノアントラセン、２−アミノビフェニル、
４−アミノビフェニル、９−アミノフェナントレン、２
−トリフルオロメチルトルイジン、３−トリフルオロメ
チルトルイジン、４−トリフルオロメチルトルイジン、
４−シアノアニリン、３−シアノアニリン、２−シアノ
アニリン、３−メトキシアニリン、４−メトキシアニリ
ン、４−メチルアニリン、３−トリフルオロメトキシア
ニリンン、４−ｔｅｒｔ−ブチルアニリン、４−シクロ
ヘキシルアニリン、５−アミノインダン、３．４−ジフ
ルオロアニリン、２−フルオロー４−メチルアニリン、
ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ
−フェニレンジアミン、１，８−ナフタレンジアミン、
Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−メチル−４−メチルアニリ
ン、Ｎ−エチルアニリン、ジベンジルアミン、モルフォ
リン、ピロリジン、３−ピロリジノール、ピペリジン、
１−メチルピペラジン、２−メチルピペリジン、４−
（１−ピロリジニル）ピペリジン、４−ピペリジノピペ
リジン、３，３−ジメチルピペリジン、１，４−ジオキ
サ−８−アザスピロ[4.5]−デカン、チオモルフォリ
ン、エチルニペコテート、エチルイソニペコテートなど
が挙げられる。

【００１７】本発明は、不飽和有機化合物（１）とアミ
ン化合物（２）とを縮合反応させるものであり、生成物
であるアミン誘導体（３）の具体例としては、Ｎ−
（２，６−ジメチルフェニル）−ｎ−ヘキシルアミン、
Ｎ−（４−シアノフェニル）−ｎ−プロピルアミン、４
−ｓｅｃブチルアミノアセトフェノン、２−エチルアミ
ノ安息香酸、９，１０−ジ−ｎ−ヘプチルアントラセ
ン、３−シクロヘキシルアミノベンズアルデヒド、４−
オクタデシル−Ｎ，Ｎ’−ジメチルアニリン、Ｎ−（３
−メチルフェニル）アニリン、Ｎ−（４−ｔ−ブチルフ
ェニル）−ｍ−トルイジン、Ｎ−Ｎ−（３−シアノフェ
ニル）アニシジン、Ｎ−ベンジル−Ｎ’−（３−酢酸エ
チルフェニル）アミン、３−（４−シクロヘキシルフェ
ニルアミノ）安息香酸メチル、９−（３−メトキシフェ
ニル）−１０−（４−シアノフェニル）アントラセン、
Ｎ−（２−ナフチル）シクロヘキシルアミン、１−シク
ロヘキセン−１−イル−アニリン、Ｎ−ビニル−Ｎ’
（３，４−ジフルオロフェニル）アミン、４−ピロリジ
ノフェニルメチルケトン、Ｎ−フェニルモルフォリン、
Ｎ−フェニルピペリジン、２−モルホリノピリジン、２
−（ｐ−トルイジノ）ベンゾイミダゾール、３−１，４
−ジオキサ−８−アザスピロ[4.5]−デシルフラン、２
−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアミノ）フラン、Ｎ
−（３，４−ジフルオロフェニル）−Ｎ’−（２−クロ
ロ−４−フルオロフェニル）アミン、Ｎ−メチル−Ｎ’
−フェニル−ｐ−トルイジン、Ｎ−メチル−Ｎ’−フェ
ニル−ｏ−トルイジン、Ｎ−メチルジフェニルアミン、
２−（Ｎ−メチル−Ｎ’−フェニルアミノ）ピリジン、
4−（３−メトキシフェニルアミノ）ピラゾール、３−
（Ｎ，Ｎ’−ジベンジルアミノ）ベンゾニトリル、９，
１０−ジ（Ｎ−メチル−Ｎ’−フェニルアミノ）アント
ラセン、４−（Ｎ，Ｎ’−ジベンジルアミノ）フェニル
酢酸エチル、２−（Ｎ−メチル−Ｎ’―フェニルアミ
ノ）ベンゾイミダゾールなどが挙げられる。

【００１８】本発明で用いられるビスジシクロヘキシル
ホスフィン配位子としては、１，２−ビス（ジシクロヘ
キシルホスフィノ）エタン又は１，３−ビス（ジシクロ
ヘキシルホスフィノ）プロパンであり、ニッケル原子に
対して、通常０．０１〜4当量倍用い、好ましくは０．
１〜２当量倍用いられる。本発明で用いられる触媒は、
ニッケル化合物とビスジシクロヘキシルホスフィン配位
子の錯体、すなわちジクロロニッケル１，２−ビス（ジ
シクロヘキシルホスフィノ）エタン、ジクロロニッケル
１，３−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）プロパン
などの錯体として使用してもよいし、また任意の反応溶
媒中でニッケル化合物とビスジシクロヘキシルホスフィ
ン配位子を混合して単離せずに使用してもよい。

【００１９】ニッケル系化合物としては、例えば、塩化
ニッケル（II）、臭化ニッケル（II）、ヨウ化ニッケル
（II）、塩化ヘキサアンミンニッケル（II）、ヨウ化ヘ
キサアンミンニッケル（II）、ジクロロビス（Ｎ−メチ
ルイミダゾール）ニッケルなどのハロゲン化金属（II）
類や硝酸ニッケル（II）酢酸ニッケル（II）、ギ酸ニッ
ケル（II）、ニッケルアセチルアセトネート（II）、硫
酸ニッケル（II）、硫酸アンモニウムニッケル（II）、
水酸化ニッケル（II）、ステアリン酸ニッケル（II）、
次亜リン酸ニッケル（II）、シクロヘキサンブチレート
ニッケル（II）、クエン酸ニッケル（II）、ナフテン酸
ニッケル（II）、ビス（η³−アリル）ニッケル（I
I）、ビス（η−シクロペンタジエニル）ニッケル（I
I）、塩化アリルニッケルニ量体などの二価ニッケル系
化合物、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル
（０）、ニッケルカルボニル（０）など０価ニッケル系
化合物が挙げられる。かかるニッケル系化合物の形態と
しては、無水物体でも水和物体でもよい。

【００２０】ニッケルの価数が二価のものを使用する場
合は、還元剤を使用して反応に供するのが好ましい。還
元剤は特に限定されないが、好ましくは水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ナトリ
ウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、アルキルグ
リニヤール試薬、アルキルリチウム、金属亜鉛などが挙
げられる。この場合、触媒を調製するにあたって、二価
ニッケル化合物、ホスフィン、還元剤、および必要に応
じて適当な溶媒を用いるが、加える順序は、特に限定さ
れない。ニッケル化合物は反応混合物に完溶していても
よいし、懸濁していてもよい。ニッケル化合物はそのま
ま用いてもよいし、かかる反応に使用する溶媒に溶解し
ない物質，例えば炭素、シリカ、アルミナなどに担持し
て用いてもよい。

【００２１】かかる反応においてニッケル化合物類の使
用量は不飽和有機化合物（１）に対し通常０．００００
１モル倍以上、通常１モル倍以下、好ましくは０．２モ
ル倍以下である。

【００２２】本発明には通常、塩基が用いられ、かかる
塩基としては、無機塩基であるアルカリ金属もしくはア
ルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン
酸塩、カルボン酸塩、アルコキシド及び三級アミン等の
有機塩基等が挙げられる。好ましくはアルカリ金属もし
くはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素
塩、リン酸塩又はカルボン酸塩であり、アルカリ金属も
しくはアルカリ土類金属のアルコキシドがより好まし
い。又、これらアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属
のアルコキシドは反応系にそのまま加えても、またアル
カリ金属もしくはアルカリ土類金属、水素化アルカリ金
属もしくは水素化アルカリ土類金属及び水酸化アルカリ
金属もしくは水酸化アルカリ土類金属とアルコールから
調整して加えても良い。

【００２３】かかるアルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属のアルコキシドとしては、ナトリウムメトキシド、
カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、リチウム−
ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキ
シド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシドが好ましく、リ
チウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム−ｔｅｒｔ
−ブトキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシドがより
好ましい。塩基は不飽和有機化合物（１）に対して、通
常０．１〜１０当量倍用い、好ましくは１〜５当量倍用
いられる。又、２種類以上の塩基を併用して用いても良
い。

【００２４】以下に、本発明の製造方法について、さら
に詳しく述べる。本発明の製造方法は、好ましくは有機
溶媒中で行なわれる。溶媒としては、Ｎ−メチルピロリ
ドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、アセトニトリルなどの非プロトン性溶媒、ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン、テト
ラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘ
プタンなどの脂肪族炭化水素類などが挙げられる。かか
る溶媒はそれぞれ単独でまたは２種以上を組合わせて用
いられ、その使用量は不飽和有機化合物（１）である対
して通常は１重量倍以上２００重量倍以下、好ましくは
５重量倍以上１００重量倍以下程度である。かかる溶媒
の中でも芳香族炭化水素類溶媒が望ましい。

【００２５】本発明の製造方法において、不飽和有機化
合物（１）、アミン化合物（２）、ビスジシクロヘキシ
ルホスフィン配位子，ニッケル系化合物，またはビスジ
シクロヘキシルホスフィン配位子とニッケル系化合物か
らなる錯体、ならびに塩基は、必要に応じて適当な溶媒
を用い、任意の順番で加えることができるが、還元剤を
使用し、かつ還元剤が不飽和有機化合物（１）、アミン
化合物（２）と反応する可能性がある場合は，これを回
避する順に仕込むことが好ましい。例えば予め不飽和有
機化合物（１）、アミン化合物（２）、塩基ならびに必
要に応じて適当な溶媒を任意の順番に加えた系に触媒及
び還元剤から調整された混合物を投入する方法又は、触
媒及び還元剤から調整された混合物に不飽和有機化合物
（１）、アミン化合物（２）、塩基ならびに必要に応じ
て適当な溶媒を任意の順番で仕込む方法が挙げられる。

【００２６】反応温度は不飽和有機化合物（１）の構造
によるが、通常は５０℃以上２００℃以下であり、好ま
しくは５０℃から１４０℃である。反応時間は特に制限
されるものではなく、原料の不飽和有機化合物（１）ま
たはアミン化合物（２）が消失した時点を反応終点とす
ることができる。通常、数分〜７２時間程度の範囲であ
るが、反応速度の遅いものは不飽和有機化合物（１）ま
たはアミン化合物（２）が消失する時点までさらに延長
すれば反応収率が向上する。また、反応中に酸素による
触媒の失活を防ぐ為に、反応は不活性ガス雰囲気下で行
なうことが好ましい。不活性ガスとしては例えば、窒素
ガスやアルゴンガスなどが挙げられる。また、反応圧力
は特に制限されないが、通常は大気圧で行なわれる。

【００２７】生成したアミン誘導体（３）は、例えば反
応液に希塩酸又は希硫酸等の鉱酸の水溶液などを加え
て、酸性にした後、必要に応じて有機層で抽出、水洗し
た後、溶媒を留去することにより、反応マスから取り出
すことができる。又、得られたアミン誘導体は、必要に
応じて蒸留、再結晶、各種クロマトグラフィー等の手段
を施すことにより、更に生成することもできる。

【００２８】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
なお、以下に示す反応率及び残存率とは、反応混合物を
ガスクロマトグラフィーで分析し，不飽和有機化合物由
来の目的物と未反応不飽和有機化合物のガスクロマトグ
ラフィーの面積値総和で，不飽和有機化合物由来の目的
物を割り百分率に換算した値が反応率であり、未反応不
飽和有機化合物の面積値を割り百分率に換算した値が残
存率である。なお、本実施例では副生物は生成していな
かった又、表中において、１，２−ビス（ジシクロヘキ
シルホスフィノ）エタンを略称ｄｃｙｐｅ、１，３−ビ
ス（ジシクロヘキシルホスフィノ）プロパンを略称ｄｃ
ｙｐｐとして記述する。

【００２９】（実施例１）アルゴン雰囲気下、ｐ−トル
イジンを０．４ｍｍｏｌ（４３ｍｇ）、４−クロロトル
エン０．３ｍｍｏｌ（３８ｍｇ）、ｔ−ブトキシナトリ
ウム０．３６ｍｍｏｌ（４９ｍｇ）、１，２−ビスジシ
クロヘキシルホスフィノエタン０．０１５ｍｍｏｌ
（６．３ｍｇ）及びビス（１，５−シクロオクタジエ
ン）ニッケル０．０１５ｍｍｏｌ（４．１ｍｇ）をキシ
レン１ｍｌと混合した。その後、内温を１２０℃に昇温
した後に、同温度で６時間加熱攪拌を行なった。反応終
了後、室温まで放冷し、飽和塩化アンモニウム水溶液１
０ｍｌを加えた後、反応物は分液ロートに移し酢酸エチ
ルで抽出、有機相を飽和食塩水で洗浄した。目的物Ｎ−
（４−メチルフェニル）−ｐ−トルイジンの反応率は１
００％であり、未反応不飽和有機化合物である４−クロ
ロトルエンの残存率は０％であった。結果を表１に示し
た。

【００３０】（実施例２〜１５）実施例１において、ｐ
−トルイジンの代わりに、表１記載の化合物を０．４ｍ
ｍｏｌ用い、４−クロロトルエンの代わりに、表１記載
の化合物を０．３ｍｍｏｌ用い、１，２−ビスジシクロ
ヘキシルホスフィノエタンの代わりに、表１記載の化合
物を０．０１５ｍｍｏｌ（６．５ｍｇ）用い、加熱攪拌
時間を８時間として、実施例１に準拠して実施した。結
果を表１に示した。

【００３１】

【表１】

【００３２】（実施例１６）アルゴン雰囲気下中、アニ
リンを０．４ｍｍｏｌ（３７ｍｇ）、２−ブロモピリジ
ン０．６ｍｍｏｌ（９５ｍｇ）、ｔ−ブトキシナトリウ
ム０．３６ｍｍｏｌ（４９ｍｇ）、１，３−ビスジシク
ロヘキシルホスフィノプロパン０．０１５ｍｍｏｌ
（６．５ｍｇ）、ビス（１，５−シクロオクタジエン）
ニッケル０．０１５ｍｍｏｌ（４．１ｍｇ）をキシレン
１ｍｌと混合した。その後、内温を１２０℃に昇温した
後に、同温度で８時間加熱攪拌を行なった。反応終了
後、室温まで放冷し、飽和塩化アンモニウム水溶液１０
ｍｌを加えた後、反応液は分液ロートに移し酢酸エチル
で抽出、有機相を飽和食塩水で洗浄した。目的物Ｎ．Ｎ
−ジ（ピリジル）アニリンの反応率は１００％であり、
未反応不飽和有機化合物である２−ブロモピリジンの残
存率は０％であった。結果を表２に示した。

【００３３】（実施例１７〜１８）実施例１６におい
て、アニリンの代わりに、表２記載の化合物を０．４ｍ
ｍｏｌ用い、２−ブロモピリジンの代わりに、表２記載
の化合物を０．６ｍｍｏｌ用い、実施例１６に準拠して
実施した。結果を表２に示した。

【表２】

【００３４】（実施例１９）アルゴン雰囲気下中、ジク
ロロ（１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）エ
タン）ニッケル０．０１５ｍｍｏｌ（４．４ｍｇ）をジ
オキサン０．３ｍｌと混合し、攪拌を行なった後に、ｎ
−ブチルリチウム（１．５９Ｍヘキサン溶液）０．０３
ｍｍｏｌ（０．０１９ｍｌ）を滴下し、室温で１０分間
攪拌を行ない、触媒調整液を得た。別途、アルゴン雰囲
気下中、アニリン０．４ｍｍｏｌ（３７ｍｇ）、ｐ−ク
ロロトルエン０．３ｍｍｏｌ（３８ｍｇ）、ｔ−ブトキ
シナトリウム０．３６ｍｍｏｌ（４９ｍｇ）をキシレン
０．７ｍｌと混合させた後に、前記の触媒混合液を加え
た。その後、１２０℃に昇温し、同温度で８時間加熱攪
拌を行なった。反応終了後、室温まで放冷し、１Ｎ塩酸
水１０ｍｌを加えて過剰のリン酸カリウムを溶解させた
後、反応液は分液ロートに移し酢酸エチルで抽出、有機
相を飽和食塩水で洗浄した。目的物Ｎ−（４−メチルフ
ェニル）アニリンの反応率は８６％であり、未反応不飽
和有機化合物である４−クロロトルエンの残存率は１４
％であった。

【００３５】（比較例１）１，２−ビスジシクロヘキシ
ルホスフィノエタンの代わりに、トリシクロヘキシルホ
スフィン０．０３０ｍｍｏｌ（８．４ｍｇ）を用い、実
施例１に準拠して実施した。目的物Ｎ−（４−メチルフ
ェニル）−ｐ−トルイジンの反応率は０％であった。
又、未反応不飽和有機化合物である４−クロロトルエン
の残存率は１００％であった。結果を表３に示した。

【００３６】（比較例２）１，２−ビスジシクロヘキシ
ルホスフィノプロパンの代わりに、１，１’−ビスジフ
ェニルホスフィノフェロセン０．０１５ｍｍｏｌ（８．
７ｍｇ）を用い、実施例１に準拠して実施した。目的物
Ｎ−（４−メチルフェニル）−ｐ−トルイジンの反応率
は２６％であった。又、未反応不飽和有機化合物である
４−クロロトルエンの残存率は８４％であった。結果を
表３に示した。

【００３７】

【表３】

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０７Ｃ 229/60 Ｃ０７Ｃ 229/60 253/30 253/30 255/58 255/58 Ｃ０７Ｄ 213/74 Ｃ０７Ｄ 213/74 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００Ｆターム(参考） 4C055 AA01 BA02 BA52 BB10 CA01 DA01 EA01 FA32 FA34 FA37 4H006 AA02 AC52 BA02 BA21 BA32 BA48 BA53 BJ50 BP30 BT32 BU46 QN30 4H039 CA71 CD10 CD20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（１）〔式中、Ｒ^１は、アリール基、ヘテロアリール基、アル
ケニル基、又はシクロアルケニル基を表し（これら置換
基は、それぞれ１つ又は複数の同一又は異なる置換基で
置換されていてもよい。）、Ｘ¹は塩素、臭素、ヨウ素
原子、メシル基又はトリフルオロメタンスルホニル基を
表し、ｎは１から３までの整数を示す。〕で示される不
飽和有機化合物と一般式（２）〔式中、Ｒ²は水素原子、置換されていてもよいアルキ
ル基を表し、Ｒ³は水素原子、置換されていてもよいア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、あるいはＲ
²及びＲ³が窒素原子と一緒になってヘテロ環を形成する
基を表す。〕で示されるアミン化合物とを縮合反応させ
るにあたり、触媒として、１，２−ビス（ジシクロヘキ
シルホスフィノ）エタン又は１，３−ビス（ジシクロヘ
キシルホスフィノ）プロパンとニッケル系化合物との錯
体を用いることを特徴とする一般式（３）Ｒ^２Ｒ^３ＮＲ^１（３）［式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、前記と同じ意味を表
す。］で示されるアミン誘導体の製造方法。
【請求項２】一般式(２)で示されるアミン化合物におい
て、Ｒ²又はＲ^３のいずれかが水素原子である請求項１
に記載の製造方法。
【請求項３】一般式（１）で示される不飽和有機化合物
が、一般式（４）［式中、Ｒ^３は同一または相異なり、フッ素原子、アル
キル基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シル基、フェノキシ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、
置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミノド基、
イミノ基、イミド基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、無置換または置換カルバモイル
基、ヘテロ環残基、アリール基、または脱離基を表し、
隣接する炭素原子上の置換基は結合して縮合多環性芳香
環を形成していてもよい、ｍ1は、１〜４の整数を表
し、Ｒ^４は水素原子を表すか、あるいは隣接する炭素原
子上の置換基と結合して縮合多環性芳香環を形成してい
る。］で示される化合物である請求項１又は２に記載の
製造方法。
【請求項４】一般式（１）で示される不飽和有機化合物
において、Ｒ^１がへテロアリール基である請求項１又は
２に記載の製造方法。