JP2003197694A - Apparatus and method for implanting film carrier tape for mounting electronic element, and method for manufacturing the film carrier tape - Google Patents

Apparatus and method for implanting film carrier tape for mounting electronic element, and method for manufacturing the film carrier tape

Info

Publication number
JP2003197694A
JP2003197694A JP2001400583A JP2001400583A JP2003197694A JP 2003197694 A JP2003197694 A JP 2003197694A JP 2001400583 A JP2001400583 A JP 2001400583A JP 2001400583 A JP2001400583 A JP 2001400583A JP 2003197694 A JP2003197694 A JP 2003197694A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
implant
carrier tape
film carrier
hole
tape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001400583A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3554554B2 (en
Inventor
Toshiyuki Nakamura
村 敏 幸 中
Fumiaki Karasawa
沢 文 明 唐
Akira Ichiyanagi
柳 彰 一
Katsuhiko Hayashi
克 彦 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzuki Co Ltd
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Original Assignee
Suzuki Co Ltd
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzuki Co Ltd, Mitsui Mining and Smelting Co Ltd filed Critical Suzuki Co Ltd
Priority to JP2001400583A priority Critical patent/JP3554554B2/en
Publication of JP2003197694A publication Critical patent/JP2003197694A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3554554B2 publication Critical patent/JP3554554B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To perform an implanting method with high productivity and at low cost by speedily and precisely punching a large number of implanting holes at a base film tape and speedily and precisely burying implanting metallic materials into these implanting holes. <P>SOLUTION: This apparatus is provided with an implanting die provided with an implanting hole boring part where implanting hole boring pins for boring by punching are arranged and an implanting part where implanting pins for burying the implanting metallic material into the implanting holes by punching are arranged. The implanting metallic material is supplied crossing the carrying direction of the film carrier tape. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープ(TAB(Tape AutomatedBondin
g)テープ、T-BGA(Tape Ball Grid Array)テープ、
CSP(Chip Size Package)テープ、ASIC(Appli
cation Specific Integrated Circuit)テープ、FPC
(Flexible Printed Circuit)、COF(Chip On Fil
m)テープなど)(以下、単に「電子部品実装用フィル
ムキャリアテープ」と言う。)のインプラント装置およ
びインプラント方法ならびに電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film carrier tape (TAB (Tape Automated Bondin) for mounting electronic parts.
g) Tape, T-BGA (Tape Ball Grid Array) tape,
CSP (Chip Size Package) tape, ASIC (Appli
cation Specific Integrated Circuit) tape, FPC
(Flexible Printed Circuit), COF (Chip On Fil)
m) Tape etc.) (hereinafter, simply referred to as “electronic component mounting film carrier tape”), implant device and method, and electronic component mounting film carrier tape manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】エレクトロニクス産業の発達に伴い、I
C(集積回路)、LSI(大規模集積回路)などの電子
部品を実装するプリント配線板の需要が急激に増加して
いるが、電子機器の小型軽量化、高機能化、高信頼性、
低価格化などが要望されている。
2. Description of the Related Art With the development of the electronics industry, I
Although the demand for printed wiring boards for mounting electronic components such as C (integrated circuits) and LSI (large-scale integrated circuits) is rapidly increasing, electronic devices are becoming smaller and lighter, more sophisticated, and more reliable.
There is a demand for lower prices.

【0003】ところで、昨今の小型軽量化、高機能化に
対応して、IC配線の高密度化が要求され、このため、
電子部品を実装する実装基板に対しても高密度化が要求
されているのが実情である。このため、従来のTABテ
ープでは、主に実装基板の片面側(表面側)だけを配線
パターンに利用していたが、片面側(表面側)だけでな
く、基板の両面を配線パターンに利用する必要が生じて
いる。
By the way, in response to recent miniaturization and weight reduction and high functionality, high density of IC wiring is required.
In reality, there is also a demand for higher density on a mounting board on which electronic components are mounted. Therefore, in the conventional TAB tape, only one surface side (front surface side) of the mounting substrate is mainly used for the wiring pattern, but not only one surface side (front surface side) but also both surfaces of the substrate are used for the wiring pattern. There is a need.

【0004】このような特性を実現するための電子部品
実装方法として、表裏面に配線パターンを有するプリン
ト回路基板が開発されており、半導体実装パッケージに
マトリックス状に配列した微小な半田ボールを形成し、
これらの半田ボールを外部配線基板と接続するBGA
(Ball Grid Array)方式が普及しつつあり、このBG
A方式によるパッケージ材料の中でもフィルムキャリア
テープを利用したものも増加しつつある。
A printed circuit board having wiring patterns on the front and back surfaces has been developed as an electronic component mounting method for realizing such characteristics, and minute solder balls arranged in a matrix are formed on a semiconductor mounting package. ,
BGA that connects these solder balls to an external wiring board
(Ball Grid Array) method is becoming popular and this BG
Among the package materials according to the A method, those using a film carrier tape are also increasing.

【0005】また、半導体実装パッケージ自体のサイズ
を半導体チップのサイズにまで縮小したCSP(Chip S
ize Package)が採用されつつあるが、このCSPに
も、テープタイプCSP(Chip Size Package)と呼ば
れるフィルムキャリアテープのパッケージ自体のサイズ
を、IC(半導体チップ)のサイズまでに縮小し、その
接続方法がBGA方式と同じであるフィルムキャリアテ
ープも用いられるようになっている。
In addition, the size of the semiconductor mounting package itself is reduced to the size of a semiconductor chip.
ize Package) is being adopted, but in this CSP as well, the size of the film carrier tape package itself called tape type CSP (Chip Size Package) is reduced to the size of the IC (semiconductor chip), and the connection method is used. A film carrier tape, which is the same as the BGA system, is also used.

【0006】さらに、電子部品実装用フィルムキャリア
テープとして、最近では、COF(チップオンフィルム
(Chip On Film))と呼ばれる樹脂フィルムと導電性金
属箔とからなる2層テープで、デバイスホールがなくI
Cが実装されるタイプの電子部品実装用フィルムキャリ
アテープが普及している。ところで、これらの表裏面に
配線パターンを有するプリント回路基板を製造する方法
として、従来より下記のような方法が採用されている。
Further, as a film carrier tape for mounting electronic parts, recently, a two-layer tape composed of a resin film called COF (Chip On Film) and a conductive metal foil, which has no device hole and is I
A film carrier tape for mounting electronic components of the type in which C is mounted has been widespread. By the way, as a method for manufacturing a printed circuit board having wiring patterns on the front and back surfaces, the following method has been conventionally adopted.

【0007】図17に示したように、電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープ102の表裏面の回路パターン1
03と電気的に接続するために、基材を構成するポリイ
ミドフィルム等の絶縁性樹脂フィルム104にビアホー
ル106をドリルなどで穿設することによって形成して
いる。そして、このビアホール106内に無電解メッキ
などのメッキ技術によって、導通メッキ層108を形成
して、電子部品実装用フィルムキャリアテープの表裏面
を電気的に接続する方法がある。
As shown in FIG. 17, the circuit pattern 1 on the front and back surfaces of the electronic component mounting film carrier tape 102.
In order to make electrical connection with the substrate 03, a via hole 106 is formed in the insulating resin film 104 such as a polyimide film forming the base material with a drill or the like. Then, there is a method in which a conductive plating layer 108 is formed in the via hole 106 by a plating technique such as electroless plating to electrically connect the front and back surfaces of the electronic component mounting film carrier tape.

【0008】しかしながら、この方法では、ビアホール
の形成面積が大きくなってしまい、昨今の電子機器の小
型軽量化には対応ができず、しかも、ビアホール106
内にメッキ層108がうまく形成されず導通不良となる
こともあるなどの問題がある。これに代わる方法とし
て、図18に示したように、電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープ102のビアホール106内に、導電性粒
子を含有するペースト110を充填して、導電性粒子が
相互に接合することにより電気的導通を確保するように
する方法がある。
However, according to this method, the formation area of the via hole becomes large, and it is not possible to cope with the recent reduction in size and weight of electronic equipment, and moreover, the via hole 106.
There is a problem that the plated layer 108 is not formed well in the inside, resulting in poor conduction. As an alternative method, as shown in FIG. 18, a paste 110 containing conductive particles is filled in the via holes 106 of the electronic component mounting film carrier tape 102 to bond the conductive particles to each other. There is a method for ensuring electrical continuity.

【0009】しかしながら、この方法では、独立して存
在する導電性粒子の接合によって導電性を確保している
ため、導通の信頼性の点で問題があり、また、ビアホー
ル106の径が小さくなるにともなって、ビアホール1
06内に導電性ペースト110を均一に充填するのが困
難になるという問題もある。また、図19に示したよう
に、スクリーン印刷を利用して導電性のバンプ202を
形成し、このバンプが絶縁層204を貫通してその上に
設けられた回路基板206との間で電気的導通を確保す
るものである。
However, in this method, since the conductivity is ensured by the bonding of the conductive particles that exist independently, there is a problem in the reliability of conduction, and the diameter of the via hole 106 becomes small. Along with, beer hole 1
There is also a problem in that it is difficult to uniformly fill the conductive paste 110 in 06. Further, as shown in FIG. 19, a conductive bump 202 is formed by using screen printing, and the bump penetrates the insulating layer 204 to electrically connect with a circuit board 206 provided thereon. This is to ensure continuity.

【0010】しかしながら、この方法においてもバンプ
を形成する際にスクリーン印刷技術を利用するために、
使用される導電性インクに導電性を有しない物質を配合
せざるをえないという問題がある。また、このバンプを
形成するためのスクリーン印刷技術も非常に難しい技術
である。
However, in this method as well, in order to utilize the screen printing technique when forming bumps,
There is a problem that the conductive ink used has to mix a substance having no conductivity. Moreover, the screen printing technique for forming the bumps is also a very difficult technique.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】このため、従来より、
いわゆる「インプラント法」と呼ばれる方法が提案され
ている。すなわち、この方法は、ポンチ301と、ダイ
ス孔303を有するベースとを有する金型302,30
4を用いて、図20に示したように、樹脂フィルム30
0にビアホール308を打ち抜くとともに、このビアホ
ール308内に導電性金属シート306を、ビアホール
308の打ち抜き後に打ち抜いて、導電性金属片310
をビアホール308内に位置させて、電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープの表裏面を電気的に接続する方法
である。
Therefore, in the past,
A so-called "implant method" has been proposed. That is, in this method, the molds 302, 30 having the punch 301 and the base having the die hole 303 are provided.
4, the resin film 30 is used as shown in FIG.
0, the conductive metal sheet 306 is punched out after punching the via hole 308, and the conductive metal piece 310 is punched.
Is located in the via hole 308 to electrically connect the front and back surfaces of the electronic component mounting film carrier tape.

【0012】また、このようなインプラント技術を、従
来から行われているリール・ツー・リールで製造されて
いるTABテープ製造工程と組み合わせて、連続的、自
動的に操業することができれば、生産性が向上でき、生
産コストの低減化が図れることができるため、このよう
なリール・ツー・リールによるインプラント技術を利用
した連続的な製造方法が、従来よりこの分野では熱望さ
れているのが現状であった。
Further, if such an implant technique is combined with a conventional TAB tape manufacturing process which is manufactured by reel-to-reel, it is possible to operate continuously and automatically. Since it is possible to improve the production cost and reduce the production cost, the continuous manufacturing method using the reel-to-reel implant technology has been eagerly desired in this field. there were.

【0013】このため、図21に示したように、リール
・ツー・リールで製造するために、送り出しリール40
2から、スプロケットホール穿設金型402、インプラ
ント孔穿設金型404、インプラント用金型406を通
過して、巻き取りリール408にて巻き取るように、イ
ンプラント装置400を構成することが考えられる。し
かしながら、この場合、インプラント用の銅箔410を
供給する場合、フィルムキャリアテープTの搬送方向に
平行に供給する方法が考えられるが、これでは、スプロ
ケットホール穿設金型402、インプラント孔穿設金型
404などの諸設備が邪魔になって、例えば、図21の
一点鎖線で示すように、これらの金型などの設備を避け
て、かなり上方にインプラント銅箔供給装置412を配
置しなければならず、ガイドロール414を設ける必要
があり、複雑な構成の装置が必要となる。
Therefore, as shown in FIG. 21, in order to manufacture the reel-to-reel, the delivery reel 40
It is conceivable that the implant device 400 is configured so as to pass through the sprocket hole punching die 402, the implant hole punching die 404, and the implant die 406 and be wound by the take-up reel 408 from 2. . However, in this case, when supplying the copper foil 410 for implants, a method of supplying the film carrier tape T in parallel with the transport direction may be considered. Various equipment such as the mold 404 is an obstacle, and for example, as shown by the alternate long and short dash line in FIG. 21, the equipment such as the mold must be avoided and the implant copper foil supply device 412 must be arranged considerably above. First, it is necessary to provide the guide roll 414, which requires a device having a complicated structure.

【0014】本発明はこのような実情に鑑み、ベースフ
ィルムテープに多数のインプラント用孔を迅速にかつ高
精度に穿孔することができるとともに、このインプラン
ト用孔にインプラント用金属材料を迅速にかつ高精度に
埋設することが可能で、生産効率良くしかも低コスト
で、インプラント法を実施できる電子部品実装用フィル
ムキャリアテープのインプラント装置およびインプラン
ト方法ならびに電子部品実装用フィルムキャリアテープ
の製造方法を提供することを目的とする。
In view of such circumstances, the present invention is capable of punching a large number of implant holes in a base film tape quickly and with high precision, and at the same time, a metal material for implant is swiftly and highly punched in the implant holes. To provide an implanting device and an implanting method for a film carrier tape for mounting electronic parts, which can be embedded with high accuracy, and which can perform an implanting method with high production efficiency and low cost, and a method for manufacturing a film carrier tape for mounting electronic parts With the goal.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は、前述したよう
な従来技術における課題及び目的を達成するために発明
なされたものであって、本発明の電子部品実装用フィル
ムキャリアテープのインプラント装置は、フィルムキャ
リアテープのインプラント用孔を、パンチングにて穿設
し、穿設したインプラント用孔に、インプラント用金属
シート材のインプラント金属材をパンチングによって埋
設するインプラント金型を備えるとともに、前記インプ
ラント金型で埋設したインプラント材の上下面をかしめ
加工するかしめ金型を備えた電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープのインプラント装置であって、前記インプ
ラント用孔に、インプラント金属材をパンチングによっ
て埋設する際に、フィルムキャリアテープの搬送方向と
交差して、インプラント金属材を供給するように構成し
たことを特徴とする。
The present invention has been made in order to achieve the problems and objects in the prior art as described above, and an implanting device for a film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention comprises: An implant mold is provided, in which an implant hole of a film carrier tape is punched, and an implant metal material of a metal sheet material for implant is buried in the drilled implant hole by punching. An implant device for a film carrier tape for mounting electronic components, comprising a caulking die for caulking the upper and lower surfaces of an implant material embedded in, wherein the implant hole is embedded in the implant metal material by punching. Make sure that the Characterized by being configured to provide a cement metal material.

【0016】また、本発明の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープのインプラント方法、ならびに電子部品実
装用フィルムキャリアテープの製造方法は、ピンを備え
たインプラント金型を用いて片面または両面に金属層が
形成されたフィルムキャリアテープに対して、インプラ
ント用孔を前記ピンによってパンチングにて穿設し、前
記インプラント用孔が穿設されたフィルムキャリアテー
プに対して、穿設したインプラント用孔に、前記ピンを
用いてインプラント用金属シート材のインプラント金属
材をパンチングによって埋設する電子部品実装用フィル
ムキャリアテープのインプラント方法であって、前記イ
ンプラント部分で、インプラント用孔に、インプラント
金属材をパンチングによって埋設する際に、フィルムキ
ャリアテープの搬送方向と交差して、インプラント金属
材を供給することを特徴とする。
In the method of implanting a film carrier tape for mounting electronic parts and the method of manufacturing a film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention, a metal layer is formed on one side or both sides using an implant mold having a pin. The hole for implant is punched by the pin with respect to the film carrier tape formed, and the pin is inserted into the hole for implant with respect to the film carrier tape with the hole for implant. A method of implanting a film carrier tape for mounting an electronic component, wherein an implant metal material of an implant metal sheet material is embedded by punching, the method comprising: implanting an implant metal material into an implant hole in the implant portion by punching. Carrying film carrier tape Intersects the direction, and supplying the implant metal material.

【0017】このように、ピンを備えたインプラント金
型を用いるので、ベースフィルムテープに多数のインプ
ラント用孔のパンチングによる穿設と、この穿設したイ
ンプラント用孔への、インプラント用金属シート材のイ
ンプラント金属材のパンチングによる埋設を行うことが
できる。従って、ベースフィルムテープに多数のインプ
ラント用孔のパンチングによる穿設と、この穿設したイ
ンプラント用孔への、インプラント用金属シート材のイ
ンプラント金属材のパンチングによる埋設を、迅速にか
つ高精度に実施することができ、生産効率良くしかも低
コストで、インプラント法を実施できる。
As described above, since the implant mold provided with the pins is used, the base film tape is punched with a large number of holes for implants, and the metal sheet material for implants is punched into the punched holes for implants. The implant metal material can be embedded by punching. Therefore, the punching of a large number of implant holes in the base film tape and the burying of the implant metal sheet material in the punched implant holes by the implant metal material can be performed quickly and with high accuracy. The implant method can be carried out with good production efficiency and at low cost.

【0018】しかも、本発明では、インプラント用孔
に、インプラント金属材をパンチングによって埋設する
際に、フィルムキャリアテープの搬送方向と交差して、
インプラント金属材を供給するので、邪魔になり、スプ
ロケットホール穿設金型などの諸設備が邪魔にならず、
これらの諸設備を避ける必要もなく、インプラント用金
属シート材を供給できるので、複雑な構成の装置が不要
で、簡単な構成で、大量生産が可能である。
In addition, in the present invention, when the implant metal material is embedded in the implant hole by punching, it intersects with the transport direction of the film carrier tape,
Since it supplies the implant metal material, it does not get in the way, and various equipment such as sprocket hole drilling dies do not get in the way,
Since it is possible to supply the metal sheet material for implants without the need to avoid these various facilities, a device having a complicated structure is not required, and mass production is possible with a simple structure.

【0019】また、本発明では、複数のスプロケット孔
が穿設されたフィルムキャリアテープが、パイロット装
置にガイドされた状態で、前記インプラント金型を通過
するように構成されており、前記パイロット装置が、フ
ィルムキャリアテープに穿設されたスプロケット孔を利
用して、パイロット装置に設けた位置決めピンをスプロ
ケット孔内に嵌入させることによって、ベースフィルム
テープを正確な位置に位置決めできるように構成されて
いることを特徴とする。
Further, in the present invention, the film carrier tape having a plurality of sprocket holes formed therein is configured to pass through the implant mold in a state of being guided by the pilot device. , The sprocket hole formed in the film carrier tape is used to insert the positioning pin provided in the pilot device into the sprocket hole so that the base film tape can be positioned at an accurate position. Is characterized by.

【0020】このように、パイロット装置の位置きめピ
ンによって、フィルムキャリアテープに穿設されたスプ
ロケット孔を利用して、フィルムキャリアテープを正確
な位置に位置決めして、インプラント金型に供給できる
ので、インプラント金型におけるインプラント用孔の穿
設、インプラント金属材のパンチングによる埋設を、電
子部品実装部単位で、迅速にかつ高精度に実施すること
ができる。
As described above, the locating pin of the pilot device can be used to position the film carrier tape at an accurate position by using the sprocket holes formed in the film carrier tape and supply it to the implant mold. The holes for implants in the implant mold and the burying by implanting the implant metal material can be carried out rapidly and highly accurately for each electronic component mounting unit.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態(実施例)について説明する。図1は、本
発明の対象とする電子部品実装用フィルムキャリアテー
プの一例として、「COF(チップオンフィルム(Chip
On Film))」等の両面配線タイプのフィルムキャリア
テープを示す平面図である。なお、この実施例では、両
面配線タイプのフィルムキャリアテープを示したが、片
面配線タイプのフィルムキャリアテープに適用すること
ももちろん可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments (examples) of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of a film carrier tape for mounting electronic parts, which is an object of the present invention, as a "COF (Chip On Film
FIG. 3 is a plan view showing a double-sided wiring type film carrier tape such as “On Film))”. Although the double-sided wiring type film carrier tape is shown in this embodiment, it is of course possible to apply it to a single-sided wiring type film carrier tape.

【0022】電子部品実装用フィルムキャリアテープ1
は、ポリイミドなどの合成樹脂からなる絶縁性フィルム
であるベースフィルムテープ2から構成されており、こ
のベースフィルムテープ2の表裏面に例えば、電解銅箔
からなる導電性金属層3が貼着されている。なお、この
電子部品実装用フィルムキャリアテープ1としては、ポ
リイミドフィルムにスパッタリングや無電解メッキによ
って、ポリイミドフィルムの表裏両面に金属薄膜を形成
した後に、この金属薄膜の表面に銅メッキを施したもの
であってもよい。
Film carrier tape 1 for mounting electronic parts
Is composed of a base film tape 2 which is an insulating film made of a synthetic resin such as polyimide, and a conductive metal layer 3 made of, for example, an electrolytic copper foil is attached to the front and back surfaces of the base film tape 2. There is. As the electronic component mounting film carrier tape 1, a polyimide film is formed by forming metal thin films on both front and back surfaces of the polyimide film by sputtering or electroless plating, and then plating the surface of the metal thin film with copper. It may be.

【0023】ベースフィルムテープ2の寸法としては、
特に限定されるものではないが、製品規格、生産性を考
慮すれば、好ましくは、テープ幅が35〜156mmと
するのが望ましく、例えば、厚さが50μm、テープ幅
が48mm、テープ長さが105mであり、長尺状に形
成されている。なお、ベースフィルムテープ2を構成す
る合成樹脂としては、特に限定されるものではなく、例
えば、ポリイミド、ポリエステル、ポリプロピレン、ポ
リフェニレンスルフィド、ポリビニリデンクロリド、エ
バールなどが使用可能である。
The dimensions of the base film tape 2 are as follows.
Although not particularly limited, in consideration of product standards and productivity, it is preferable that the tape width is 35 to 156 mm, and for example, the thickness is 50 μm, the tape width is 48 mm, and the tape length is 50 mm. It is 105 m long and is formed in a long shape. The synthetic resin forming the base film tape 2 is not particularly limited, and for example, polyimide, polyester, polypropylene, polyphenylene sulfide, polyvinylidene chloride, eval, etc. can be used.

【0024】また、導電性金属層3としては、電解銅箔
などが使用でき、その厚さとしては、特に限定されるも
のではないが、ファインパターンを形成するためには、
3〜70μm、好ましくは、9〜12μmとするのが望
ましい。このベースフィルムテープ2には、その両側縁
部にそれぞれ、長手方向(長尺方向)に所定のピッチで
離間して、複数のスプロケット孔4が形成されている。
As the conductive metal layer 3, an electrolytic copper foil or the like can be used, and the thickness thereof is not particularly limited, but in order to form a fine pattern,
It is desirable that the thickness is 3 to 70 μm, preferably 9 to 12 μm. The base film tape 2 has a plurality of sprocket holes 4 formed on both side edges thereof at a predetermined pitch in the longitudinal direction (longitudinal direction).

【0025】これらの両側縁部のスプロケット孔4に挟
まれた部分(テープの中央部分)に、矩形状の電子部品
実装部6が、一定間隔離間して、長手方向及び幅方向に
マトリックス状に連続して形成されている。なお、この
電子部品実装部6は、常法に従って、感光性フォトレジ
ストの塗布、回路パターンの露光、現像及び銅エッチン
グを行い、銅回路パターンが形成されている。
Rectangular electronic component mounting portions 6 are formed in a matrix shape in the longitudinal direction and the width direction in the portions sandwiched by the sprocket holes 4 on the both side edges (the central portion of the tape) with a constant interval. It is formed continuously. The electronic component mounting portion 6 is formed with a copper circuit pattern by applying a photosensitive photoresist, exposing a circuit pattern, developing and copper etching according to a conventional method.

【0026】また、電子部品実装部6はそれぞれ、電子
部品実装用フィルムキャリアテープ1に実装する電子部
品1セット分に相当しており、これにより、この電子部
品実装部6に、電子部品を実装することができるように
なっている。また、図1に示したように、電子部品実装
部6の内部にはそれぞれ、表裏面の配線の導通をとるた
めのビアホールとなるインプラント部7からなるインプ
ラント群8が形成されている。
Further, each electronic component mounting portion 6 corresponds to one set of electronic components mounted on the electronic component mounting film carrier tape 1, whereby electronic components are mounted on the electronic component mounting portion 6. You can do it. In addition, as shown in FIG. 1, inside the electronic component mounting portion 6, an implant group 8 including an implant portion 7 serving as a via hole for establishing electrical continuity between the wirings on the front and back surfaces is formed.

【0027】なお、インプラント部7の直径は、特に限
定されるものではなく、例えば、40μmφ〜300μ
mφのものが用いられる。このような電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープ1を製造するには、下記のような
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープのイン
プラント装置を用いて作製する。
The diameter of the implant part 7 is not particularly limited, and is, for example, 40 μmφ to 300 μm.
mφ is used. In order to manufacture such a film carrier tape 1 for mounting an electronic component, the film carrier tape 1 for mounting an electronic component of the present invention as described below is used to manufacture.

【0028】図2は、本発明の電子部品実装用フィルム
キャリアテープのインプラント装置の第1の実施例の概
略平面図、図3はその概略側面図である。図2に示した
ように、10は全体で、本発明の電子部品実装用フィル
ムキャリアテープのインプラント装置(以下、単に「イ
ンプラント装置10」と言う)を示している。
FIG. 2 is a schematic plan view of a first embodiment of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention, and FIG. 3 is a schematic side view thereof. As shown in FIG. 2, reference numeral 10 generally indicates an implant device for the electronic component mounting film carrier tape of the present invention (hereinafter, simply referred to as "implant device 10").

【0029】インプラント装置10は、図2および図3
に示したように、図示しない送り出しロールなどから送
給されたベースフィルムテープ2に、その両側縁部にそ
れぞれ、長手方向(長尺方向)に所定のピッチで離間し
て、複数のスプロケット孔4を穿設するためのスプロケ
ットホール穿設部12を備えている。このスプロケット
ホール穿設部12は、スプロケットホール穿設ピン14
を備えた上金型16と、このスプロケットホール穿設ピ
ン14に対応するダイス孔(図示せず)を備えた下金型
18とから構成されている。そして、これらの上金型1
6と下金型18を離接することによって、複数のスプロ
ケット孔4を穿設するように構成されている。
The implant device 10 is shown in FIGS.
As shown in FIG. 2, the base film tape 2 fed from a delivery roll (not shown) or the like is provided with a plurality of sprocket holes 4 on both side edges thereof at a predetermined pitch in the longitudinal direction (longitudinal direction). Is provided with a sprocket hole drilling portion 12 for drilling. This sprocket hole drilling portion 12 has a sprocket hole drilling pin 14
And a lower mold 18 having a die hole (not shown) corresponding to the sprocket hole drilling pin 14. And these upper mold 1
A plurality of sprocket holes 4 are formed by separating and contacting 6 and the lower mold 18.

【0030】このようにスプロケットホール穿設部12
で、複数のスプロケット孔4が穿設されたベースフィル
ムテープ2は、続いてパイロット部20、22を通過す
るようになっている。このパイロット部20、22は、
スプロケットホール穿設部12で穿設されたスプロケッ
ト孔4を利用して、パイロット部20に設けた位置決め
ピン24、26をこのスプロケット孔4内に嵌入させる
ことによって、ベースフィルムテープ2を正確な位置に
位置決めできるように構成されている。
Thus, the sprocket hole drilling portion 12
Then, the base film tape 2 having the plurality of sprocket holes 4 formed therein is configured to subsequently pass through the pilot portions 20 and 22. The pilot parts 20 and 22 are
By utilizing the sprocket holes 4 bored in the sprocket hole punching portions 12, the positioning pins 24 and 26 provided in the pilot portion 20 are fitted into the sprocket holes 4, so that the base film tape 2 is accurately positioned. It is configured so that it can be positioned at.

【0031】そして、パイロット部20、22の間で、
正確に位置決めされたベースフィルムテープ2は、イン
プラント部30にて、インプラントが実施されるように
なっている。インプラント部30は、図2に示したよう
に、インプラント金型32を備えている。このインプラ
ント金型32は、インプラント孔穿設部分32aと、イ
ンプラント部分32bとが対称に配置されている。
Then, between the pilot parts 20 and 22,
The correctly positioned base film tape 2 is designed to be implanted at the implant part 30. The implant part 30 includes an implant mold 32, as shown in FIG. In this implant mold 32, an implant hole punching portion 32a and an implant portion 32b are arranged symmetrically.

【0032】また、このインプラント金型32は、上下
一対の上金型34と下金型36とから構成されている。
上金型34のインプラント孔穿設部分34aには、ベー
スフィルムテープ2にインプラント用孔40を、パンチ
ングにて穿設するインプラント用孔穿設ピン38が配設
されている。
The implant mold 32 is composed of a pair of upper and lower molds 34 and 36.
An implant hole drilling pin 34 for punching an implant hole 40 in the base film tape 2 by punching is provided in the implant hole drilling portion 34 a of the upper mold 34.

【0033】また、上金型34のインプラント部分34
bには、インプラント孔穿設部分34aで穿設したイン
プラント用孔40に、インプラント用金属シート材64
のインプラント金属材68をパンチングによって埋設す
るインプラント用ピン42が配設されている。この場
合、図2に示したように、インプラント用孔穿設ピン3
8は、インプラント孔穿設部分34aに、電子部品実装
用フィルムキャリアテープ1の電子部品実装部6のイン
プラント群8に対応する位置に複数のインプラント用孔
穿設ピン38が配置されている。なお、図2の実施例の
場合には、電子部品実装用フィルムキャリアテープ1の
幅方向に2個の電子部品実装部6を設けた例を示してい
るが、この電子部品実装部6の数は特に限定されるもの
ではない。
Further, the implant portion 34 of the upper mold 34
In b, the implant hole 40 formed in the implant hole forming portion 34a is provided with the implant metal sheet material 64.
The implant pins 42 for burying the implant metal material 68 by punching are provided. In this case, as shown in FIG. 2, the implant hole drilling pin 3
In the implant hole punching portion 34a, a plurality of implant hole punching pins 38 are arranged at positions corresponding to the implant groups 8 of the electronic component mounting portion 6 of the electronic component mounting film carrier tape 1. In the case of the embodiment shown in FIG. 2, an example in which two electronic component mounting portions 6 are provided in the width direction of the electronic component mounting film carrier tape 1 is shown. Is not particularly limited.

【0034】同様に、インプラント用ピン42は、イン
プラント部分34bに、電子部品実装用フィルムキャリ
アテープ1の電子部品実装部6のインプラント群8に対
応する位置に複数のインプラント用ピン42が配置され
ている。これらのインプラント用孔穿設ピン38、イン
プラント用ピン42の直径は、後述するインプラント用
孔40の直径に対応して設定すればよい。また、これら
のインプラント用孔穿設ピン38、インプラント用ピン
42の材質としては、例えば、超硬合金、高速度鋼、1
2%クロム工具鋼などの金属を用いればよい。
Similarly, a plurality of implant pins 42 are arranged in the implant portion 34b at positions corresponding to the implant groups 8 of the electronic component mounting portion 6 of the electronic component mounting film carrier tape 1. There is. The diameters of the implant hole drilling pin 38 and the implant pin 42 may be set according to the diameter of the implant hole 40 described later. The material of the implant hole drilling pin 38 and the implant pin 42 is, for example, cemented carbide, high speed steel, 1
A metal such as 2% chrome tool steel may be used.

【0035】このインプラント金型32のインプラント
孔穿設部分34aは、図4の断面図に示したように構成
されている。すなわち、上金型34に押圧板46が設け
られており、この押圧板46は、スプリング50を介し
て可動板52に支持されている。そして、ガイド棒54
に案内されて、可動板52に対して押圧板46が離接可
能になっている。
The implant hole punching portion 34a of the implant mold 32 is constructed as shown in the sectional view of FIG. That is, the upper mold 34 is provided with the pressing plate 46, and the pressing plate 46 is supported by the movable plate 52 via the spring 50. And the guide rod 54
The movable plate 52 is guided by the pressing plate 46 so that the pressing plate 46 can come into contact with and separate from the movable plate 52.

【0036】また、可動板52には、ポンチ部として、
ストッパ部材56を介して、ポンチプレート58が固着
されており、このポンチプレート58に、インプラント
用孔穿設ピン38が装着されている。そして、押圧板4
6のポンチ部当接用開口部60に形成されたピン孔62
を介して、インプラント用孔穿設ピン38が突出可能に
構成されている。
Further, the movable plate 52 is provided with a punch portion,
A punch plate 58 is fixed via a stopper member 56, and an implant hole drilling pin 38 is attached to the punch plate 58. And the pressing plate 4
6 is a pin hole 62 formed in the punch contacting opening 60.
The implant hole drilling pin 38 is configured to be projectable via the.

【0037】さらに、押圧板46の下端には、ベースフ
ィルムテープ2を押さえるフィルム押さえ凹部63が形
成されている。一方、下金型36には、インプラント用
孔穿設ピン38が嵌入するダイス孔36aが形成されて
いる。また、インプラント金型32のインプラント部分
34bは、図5の断面図に示したように構成されてい
る。
Further, a film pressing recess 63 for pressing the base film tape 2 is formed at the lower end of the pressing plate 46. On the other hand, the lower die 36 is formed with a die hole 36a into which the implant hole drilling pin 38 is fitted. The implant portion 34b of the implant mold 32 is configured as shown in the sectional view of FIG.

【0038】なお、インプラント部分34bは、図4の
インプラント金型32のインプラント孔穿設部分34a
と基本的には同様な構造であるので、図5において、図
4と同じ構成部材については、同じ参照番号を付して、
その詳細な説明を省略する。すなわち、インプラント部
分34bについては、ストッパ部材56の高さhを、イ
ンプラント孔穿設部分34aの場合よりも低く調整する
ことによって、インプラント用孔40内に後述するイン
プラント用金属シート材64のインプラント金属材68
をパンチングによって埋設するようにしている。
The implant portion 34b is the implant hole punching portion 34a of the implant mold 32 shown in FIG.
Since the structure is basically the same as the above, in FIG. 5, the same components as those in FIG.
Detailed description thereof will be omitted. That is, for the implant portion 34b, the height h of the stopper member 56 is adjusted to be lower than that for the implant hole punching portion 34a, so that the implant metal of the implant metal sheet material 64, which will be described later, is placed in the implant hole 40. Material 68
Is buried by punching.

【0039】また、インプラント部分34bの下金型3
6には、インプラント用ピン42が嵌入するダイス孔が
形成されていない点が、図4とは相違している。さら
に、図2に示したように、インプラント部分34bに
は、ベースフィルムテープ2の搬送方向と交差する方向
に、好ましくは、ベースフィルムテープ2の搬送方向と
垂直に交差する方向に、すなわち、ベースフィルムテー
プ2の幅方向に、ベースフィルムテープ2の上面にイン
プラント用金属シート材64を供給するインプラント用
金属シート材供給部66が設けられている。
Further, the lower mold 3 of the implant portion 34b
6 is different from FIG. 4 in that a die hole into which the implant pin 42 is fitted is not formed. Further, as shown in FIG. 2, the implant portion 34b includes a base film tape 2 in a direction that intersects the transport direction of the base film tape 2, preferably in a direction that intersects perpendicularly to the transport direction of the base film tape 2, that is, the base. In the width direction of the film tape 2, an implant metal sheet material supply unit 66 for supplying the implant metal sheet material 64 is provided on the upper surface of the base film tape 2.

【0040】なお、この場合、インプラント用金属シー
ト材64を、ベースフィルムテープ2の搬送方向と垂直
に交差する方向において、図示しないが、水平方向に供
給することも、斜め上方、または斜め下方から供給する
ことも可能である。また、インプラント用金属シート材
64を、図示しないが、ベースフィルムテープ2の搬送
方向と垂直に交差する方向に供給したが、交差角度を変
更して、供給することももちろん可能である。
In this case, although not shown, the metal sheet material 64 for implants may be fed in a horizontal direction in a direction perpendicular to the transport direction of the base film tape 2 from diagonally above or diagonally below. It is also possible to supply. Although not shown, the metal sheet material 64 for implant was supplied in a direction perpendicular to the transport direction of the base film tape 2, but it is also possible to change the intersecting angle and supply.

【0041】さらに、インプラント用金属シート材64
を供給する速度は、特に限定されるものではなく、上記
のベースフィルムテープ2の搬送と同期して、インプラ
ントを実施できるように、新しいインプラント用金属シ
ート材64を供給するようにすればよい。なお、この場
合、インプラント用金属シート材64としては、導電性
を有する金属材料であればよく、特に限定されるもので
はなく、例えば、鉛、スズ、銅、ニッケル、またはこれ
らの金属を主成分とする合金、インジウム、金、銀など
の貴金属などからなるシート、または、これらの金属の
表面にはんだめっき層が形成されたシートなどが使用可
能である。その厚さとしては、特に限定されるものでは
ないが、インプラント金型の加工特性、およびビアホー
ルの導通特性を考慮すれば、100μm〜150μmと
するのが望ましい。
Furthermore, the metal sheet material 64 for implants
The speed of supplying the metal sheet material for implant is not particularly limited, and a new metal sheet material 64 for implant may be supplied in synchronization with the transportation of the base film tape 2 described above so that the implant can be performed. In this case, the metal sheet material 64 for implant is not particularly limited as long as it is a metal material having conductivity, and is, for example, lead, tin, copper, nickel, or a main component of these metals. It is possible to use a sheet made of an alloy such as, a noble metal such as indium, gold, or silver, or a sheet having a solder plating layer formed on the surface of these metals. The thickness is not particularly limited, but is preferably 100 μm to 150 μm in consideration of the processing characteristics of the implant mold and the conduction characteristics of the via hole.

【0042】さらに、インプラント部30にて、インプ
ラント用孔40の穿設、およびインプラント用孔40へ
のインプラント金属材68の埋設が行われたベースフィ
ルムテープ2は、パイロット部22を通過して、インプ
ラント用孔40内に埋設されたインプラント金属材68
の上下面をかしめるかしめ部70に搬送されるようにな
っている。
Further, in the implant part 30, the base film tape 2 in which the implant hole 40 is bored and the implant metal material 68 is embedded in the implant hole 40 passes through the pilot part 22, Implant metal material 68 embedded in the implant hole 40
The upper and lower surfaces are conveyed to the caulking portion 70.

【0043】かしめ部70は、図2および図6に示した
ように、上下一対の上金型72と下金型74とから構成
されている。これらの上金型72と下金型74とにはそ
れぞれ、インプラント用孔40の位置に対応する箇所
に、上金型突設部76と下金型突設部78とが突設され
ている。なお、これらの突設部76、78は、放電加工
で部分的に硬化処理させておくのが望ましい。このよう
に、放電加工による硬化処理を行うことによって、ファ
インピッチ化されたかしめ領域に相当する突設部76、
78のみを、例えば、NC制御することによって、高精
度にスポット的に簡単に硬化処理することができる。
As shown in FIGS. 2 and 6, the caulking portion 70 is composed of a pair of upper and lower molds 72 and 74. The upper mold 72 and the lower mold 74 respectively have an upper mold projecting portion 76 and a lower mold projecting portion 78 projecting from positions corresponding to the positions of the implant holes 40. . It is desirable that these protruding portions 76 and 78 be partially cured by electric discharge machining. As described above, by performing the hardening process by the electric discharge machining, the protruding portion 76 corresponding to the fine pitched caulking region,
By performing NC control of only 78, for example, it is possible to easily perform the curing treatment with high precision and spot.

【0044】この場合、放電加工処理の加工処理条件と
しては、加工液をイオン水、ピーク電流値を5〜300
A、放電間隔を10〜100μs、ワイヤーを負極とし
た直流波形のワイヤー放電加工を行えばよい。なお、こ
のようなかしめ部70の構成については、以下の実施例
においても同様に適用することができる。
In this case, as the processing conditions for the electric discharge processing, the processing liquid is ion water and the peak current value is 5 to 300.
A, the electric discharge interval may be 10 to 100 μs, and the wire electric discharge machining may be performed with a DC waveform using the wire as a negative electrode. In addition, such a configuration of the caulking portion 70 can be similarly applied to the following embodiments.

【0045】また、これらの突設部76、78の突設距
離としては、特に限定されるものではなく、ロールプレ
スでベースフィルムテープ2を押圧することによって、
インプラント用孔40内に埋設されたインプラント金属
材68の上下面をかしめることができる距離とするのが
望ましい。このように構成されるインプラント部30の
インプラント金型32は、下記のように作動する。
The projecting distance between the projecting portions 76 and 78 is not particularly limited, and by pressing the base film tape 2 with a roll press,
It is desirable that the distance is such that the upper and lower surfaces of the implant metal material 68 embedded in the implant hole 40 can be caulked. The implant mold 32 of the implant part 30 configured as described above operates as follows.

【0046】スプロケットホール穿設部12で、複数の
スプロケット孔4が穿設され、パイロット部20を通過
したベースフィルムテープ2は、インプラント金型32
の上金型34と下金型36との間に供給される。この状
態で、インプラント孔穿設部分34aでは、インプラン
ト用孔40の穿設が行われる。
A plurality of sprocket holes 4 are bored in the sprocket hole punching portion 12, and the base film tape 2 which has passed through the pilot portion 20 has an implant mold 32.
It is supplied between the upper mold 34 and the lower mold 36. In this state, the implant hole 40 is formed in the implant hole forming portion 34a.

【0047】すなわち、上金型34が下降することによ
って、図7に示したように、可動板52が下方に移動
し、これにともなって、スプリング50を介して、押圧
板46が下金型36に当接する。これによって、下金型
36上のベースフィルムテープ2が、押圧板46の下端
に形成されたフィルム押さえ凹部63内で所定の位置に
押さえられる。
That is, when the upper mold 34 descends, the movable plate 52 moves downward as shown in FIG. 7, and accordingly, the pressing plate 46 moves the lower mold via the spring 50. Abut 36. As a result, the base film tape 2 on the lower die 36 is pressed to a predetermined position in the film pressing recess 63 formed at the lower end of the pressing plate 46.

【0048】この状態で、さらに上金型34が下降する
と、スプリング50に抗して、可動板52がさらに下降
して、ポンチプレート58に装着されたインプラント用
孔穿設ピン38が、押圧板46に形成されたピン孔62
を介して突出する。これによって、インプラント用孔穿
設ピン38が、ベースフィルムテープ2およびベースフ
ィルムテープ2の表裏面の導電性金属層3を貫通して、
下金型36のダイス孔36aに嵌入するパンチングによ
って、ベースフィルムテープ2にインプラント用孔40
が穿設されるようになっている。
When the upper mold 34 is further lowered in this state, the movable plate 52 is further lowered against the spring 50, and the implant hole drilling pin 38 mounted on the punch plate 58 is pushed by the pressing plate. Pin hole 62 formed in 46
Project through. As a result, the implant hole drilling pin 38 penetrates the base film tape 2 and the conductive metal layer 3 on the front and back surfaces of the base film tape 2,
By punching into the die hole 36a of the lower mold 36, the hole 40 for implant is formed in the base film tape 2.
Are to be drilled.

【0049】なお、この場合、ストッパ部材56の高さ
hを、ポンチプレート58が、押圧板46に当接した状
態で、インプラント用孔穿設ピン38が、ダイス孔36
aに嵌入する高さに調整されている。また、インプラン
ト用孔40の直径としては、特に限定されるものではな
いが、電子部品実装用フィルムキャリアテープの配線パ
ターン設計を考慮すれば、好ましくは、40μmφ〜3
00μmφとするのが望ましい。
In this case, the height h of the stopper member 56 is set so that the implant hole drilling pin 38 is moved to the die hole 36 while the punch plate 58 is in contact with the pressing plate 46.
The height is adjusted so that it fits into a. The diameter of the implant hole 40 is not particularly limited, but is preferably 40 μmφ to 3 in view of the wiring pattern design of the electronic component mounting film carrier tape.
It is desirable to set it to 00 μmφ.

【0050】このようにインプラント孔穿設部分34a
で、インプラント用孔40が穿設されたベースフィルム
テープ2は、インプラント部分34bにおいて、インプ
ラント用孔40に、インプラント用金属シート材64の
インプラント金属材68をパンチングによって埋設する
ようになっている。すなわち、インプラント孔穿設部分
34aで、インプラント用孔40が穿設されたベースフ
ィルムテープ2は、インプラント部分34bに搬送され
る。同時に、図2に示したように、インプラント用金属
シート材供給部66において、ベースフィルムテープ2
の搬送方向と垂直に交差する方向に、すなわち、ベース
フィルムテープ2の幅方向に、ベースフィルムテープ2
の上面にインプラント用金属シート材64が供給され
る。
In this way, the implant hole punched portion 34a
In the base film tape 2 having the implant holes 40 formed therein, the implant metal material 68 of the implant metal sheet material 64 is embedded in the implant hole 34 by punching at the implant portion 34b. That is, the base film tape 2 having the implant hole 40 formed therein at the implant hole forming portion 34a is conveyed to the implant portion 34b. At the same time, as shown in FIG. 2, in the metal sheet material supplying portion 66 for implant, the base film tape 2
The base film tape 2 in the direction perpendicular to the transport direction of the base film tape, that is, in the width direction of the base film tape
The metal sheet material 64 for implant is supplied to the upper surface of the.

【0051】この状態で、インプラント孔穿設部分34
aと同様にして、上金型34が下降することによって、
図8に示したように、インプラント用ピン42が押圧板
46のピン孔62を介して突出する。これによって、イ
ンプラント用ピン42が、インプラント用金属シート材
64を貫通するパンチングによって、インプラント用金
属シート材64のインプラント金属材68が、インプラ
ント用孔40内に埋設されるようになっている。
In this state, the implant hole punched portion 34
In the same manner as a, by lowering the upper mold 34,
As shown in FIG. 8, the implant pin 42 projects through the pin hole 62 of the pressing plate 46. As a result, the implant pin 42 penetrates the implant metal sheet material 64, so that the implant metal material 68 of the implant metal sheet material 64 is embedded in the implant hole 40.

【0052】これによって、図9に示したように、イン
プラント用孔40内に埋設されたインプラント金属材6
8を介して、ベースフィルムテープ2の表裏面の導電性
金属層3との導通が確保されることになる。なお、イン
プラント用金属シート材64の厚さは、ベースフィルム
テープ2の表裏面の導電性金属層3の厚さと略同一の厚
さか、若干厚くすることによって、後述するかしめ部7
0におけるかしめ工程が容易に行えるようにするのが好
ましい。
As a result, as shown in FIG. 9, the implant metal material 6 embedded in the implant hole 40 is formed.
Through 8, the electrical continuity with the conductive metal layers 3 on the front and back surfaces of the base film tape 2 is secured. The thickness of the metal sheet material for implant 64 is substantially the same as the thickness of the conductive metal layer 3 on the front and back surfaces of the base film tape 2 or slightly thickened, so that the caulking portion 7 to be described later is formed.
It is preferable that the crimping step at 0 can be easily performed.

【0053】また、インプラント部分34bでは、スト
ッパ部材56の高さhを、インプラント孔穿設部分34
aの場合よりも低く調整している。すなわち、インプラ
ント用ピン42が、押圧板46のピン孔62を介して突
出した状態で、インプラント金属材68が、インプラン
ト用孔40内に埋設するような高さに設定している。こ
のようにインプラント用孔40へのインプラント金属材
68の埋設が行われたベースフィルムテープ2は、パイ
ロット部22を通過して、インプラント用孔40内に埋
設されたインプラント金属材68の上下面をかしめるか
しめ部70に搬送されるようになっている。
In the implant portion 34b, the height h of the stopper member 56 is set to the implant hole punching portion 34.
It is adjusted lower than in the case of a. That is, the height is set such that the implant metal material 68 is embedded in the implant hole 40 in a state where the implant pin 42 projects through the pin hole 62 of the pressing plate 46. The base film tape 2 in which the implant metal material 68 is embedded in the implant hole 40 in this manner passes through the pilot portion 22 and the upper and lower surfaces of the implant metal material 68 embedded in the implant hole 40 are removed. The caulking portion 70 is conveyed to the caulking portion 70.

【0054】かしめ部70では、図10に示したよう
に、上金型72を下金型74に対して下降することによ
って、上金型突設部76と下金型突設部78との間で、
ベースフィルムテープ2のインプラント用孔40内に埋
設されたインプラント金属材68の上下面68a、68
bが押圧される。これによって、これらのインプラント
金属材68の上下面68a、68bの周縁部がかしめら
れて、ベースフィルムテープ2の表裏面の導電性金属層
3のインプラント用孔40の周囲にかしめ部68c、6
8dが形成されて、インプラント部7が形成される。こ
れによって、インプラント金属材68のインプラント用
孔40からの抜け落ちが防止されるとともに、導通が確
保されることになる。
In the caulking portion 70, as shown in FIG. 10, by lowering the upper mold 72 with respect to the lower mold 74, the upper mold projection 76 and the lower mold projection 78 are formed. Between,
Upper and lower surfaces 68a, 68 of the implant metal material 68 embedded in the implant hole 40 of the base film tape 2
b is pressed. As a result, the peripheral edges of the upper and lower surfaces 68a and 68b of the implant metal material 68 are caulked, and the caulking portions 68c and 6 around the implant hole 40 of the conductive metal layer 3 on the front and back surfaces of the base film tape 2 are caulked.
8d is formed, and the implant part 7 is formed. This prevents the implant metal material 68 from slipping out of the implant hole 40 and ensures continuity.

【0055】ところで、かしめ金型を構成する上金型7
2を下金型74の表面に、インプラント位置に対応する
箇所に上金型突設部76と下金型突設部78が形成され
ているので、これらの突設部76、78によって、イン
プラント金属材68の上下面68a、68bのみを確実
にかしめ加工することができる。従って、かしめ領域以
外の他の部分にも押圧力が作用することがなく影響を及
ぼすことがない。また、かしめ金型のかしめ領域がこの
ような突設部76、78であるので、インプラント金属
材68の寸法に誤差がある場合、斜めにインプラントさ
れたような場合であっても、この突設部76、78によ
って押圧されるので、正確にかしめ加工ができることに
なり、かしめ不良が発生することがないようになってい
る。
By the way, the upper die 7 constituting the caulking die
2, the upper mold protrusion 76 and the lower mold protrusion 78 are formed on the surface of the lower mold 74 at positions corresponding to the implant positions. Only the upper and lower surfaces 68a and 68b of the metal material 68 can be reliably caulked. Therefore, the pressing force does not act on the portions other than the caulking area, and the pressing force does not affect the portions. Further, since the caulking area of the caulking die is such protruding portions 76 and 78, even if there is an error in the size of the implant metal material 68 or even if it is implanted obliquely, this protruding portion Since it is pressed by the portions 76 and 78, the caulking process can be accurately performed, and the caulking defect does not occur.

【0056】なお、この実施例では、かしめ金型を構成
する上金型72を下金型74の表面に、インプラント位
置に対応する箇所に上金型突設部76と下金型突設部7
8を形成したが、かしめ金型を構成する上金型72を下
金型74の表面にこのような突設部76、78を設ける
ことなく、平坦な表面として、これらのインプラント位
置に対応する箇所を放電加工処理によって硬化処理する
こともできる。
In this embodiment, the upper die 72 forming the caulking die is provided on the surface of the lower die 74, and the upper die projecting portion 76 and the lower die projecting portion are provided at the positions corresponding to the implant positions. 7
8 is formed, but the upper die 72 forming the caulking die is a flat surface corresponding to these implant positions without providing such protrusions 76 and 78 on the surface of the lower die 74. The place can be hardened by electric discharge machining.

【0057】このように、放電加工による硬化処理を行
うことによって、ファインピッチ化されたかしめ領域に
相当する部分のみを、例えば、NC制御することによっ
て、高精度にスポット的に簡単に硬化処理することがで
きる。この場合、放電加工処理の加工処理条件として
は、加工液をイオン水、ピーク電流値を5〜300A、
放電間隔を10〜100μs、ワイヤーを負極とした直
流波形のワイヤー放電加工を行えばよい。
As described above, by performing the hardening process by the electric discharge machining, only the part corresponding to the fine pitched caulking region is easily and spot-wise hardened by the NC control, for example. be able to. In this case, as the processing conditions of the electric discharge processing, the processing liquid is ion water, the peak current value is 5 to 300 A,
Wire discharge processing of a direct current waveform with a discharge interval of 10 to 100 µs and a wire as a negative electrode may be performed.

【0058】この場合には、かしめ金型を構成する上金
型72を下金型74の表面を、インプラント位置に対応
する箇所を部分的に硬化処理によって硬化させてあるの
で、この硬化部分によって、インプラント金属材68の
上下面のみを確実にかしめ加工することができる。従っ
て、かしめ領域以外の他の部分にも押圧力が作用するこ
とがなく影響を及ぼすことがない。また、かしめ金型の
かしめ領域がこのような硬化部分であるので、大量にか
しめ加工を行っても、かしめ領域が磨耗損傷して、かし
め不良が発生することがないようになっている。
In this case, the surface of the lower mold 74 of the upper mold 72 constituting the caulking mold is partially hardened by the hardening treatment at the portion corresponding to the implant position. Only the upper and lower surfaces of the implant metal material 68 can be securely caulked. Therefore, the pressing force does not act on the portions other than the caulking area, and the pressing force does not affect the portions. Further, since the caulking area of the caulking die is such a hardened portion, even if a large amount of caulking is carried out, the caulking area will not be worn and damaged and a caulking defect will not occur.

【0059】なお、このようなかしめ部70の構成につ
いては、以下の実施例においても同様に適用することが
できる。このようにかしめ部70でかしめ加工が行われ
たベースフィルムテープ2は、ファインパターンを形成
するために、ファインパターン形成面の銅箔の表面全面
をエッチング液を用いて溶解することによって、銅箔
を、例えば、3μmの厚さにハーフエッチングした後
(ハーフエッチング工程)、接続信頼性向上のため全面
を銅メッキを施した後(被せメッキ工程)、常法に従っ
て、感光性フォトレジストの塗布、回路パターンの露
光、現像及び銅エッチングを行い、銅回路パターンが形
成される。
The structure of the caulking portion 70 can be similarly applied to the following embodiments. The base film tape 2 thus crimped at the crimping portion 70 is formed by dissolving the entire surface of the copper foil on the fine pattern forming surface with an etching solution to form a fine pattern. After half-etching to a thickness of, for example, 3 μm (half-etching step), after plating the entire surface with copper to improve connection reliability (cover plating step), application of a photosensitive photoresist in accordance with a conventional method, The circuit pattern is exposed, developed and copper-etched to form a copper circuit pattern.

【0060】なお、この実施例の場合には、本発明のイ
ンプラント装置10で、インプラントが行われた後に、
銅回路パターンが形成したが、予めベースフィルムテー
プ2に銅回路パターンを形成することも可能である。ま
た、この実施例では、表裏面に導電性金属層3を有する
ベースフィルムテープ2を用いたが、図11(A)〜
(B)に示したように、ベースフィルムテープ2とし
て、ベースフィルムテープ2だけのもの、表面または裏
面にのみ導電性金属層3を有するものを用いることも可
能である。さらに、図示しないが、多層回路基板、また
は外部基板への接続用として、インプラント材を突出さ
せてバンプを形成することも可能である。
In the case of this embodiment, after the implant is performed by the implant device 10 of the present invention,
Although the copper circuit pattern is formed, it is also possible to previously form the copper circuit pattern on the base film tape 2. In addition, in this example, the base film tape 2 having the conductive metal layers 3 on the front and back surfaces was used.
As shown in (B), as the base film tape 2, it is possible to use the base film tape 2 alone or the one having the conductive metal layer 3 only on the front surface or the back surface. Further, although not shown, it is also possible to project the implant material to form bumps for connection to a multilayer circuit board or an external board.

【0061】このように、一つの金型内に、インプラン
ト用孔穿設ピン38を配設したインプラント孔穿設部分
と、インプラント用ピン42を配設したインプラント部
分とを対称に配置したインプラント金型32を用いるの
で、ベースフィルムテープ2に多数のインプラント用孔
40のパンチングによる穿設と、この穿設したインプラ
ント用孔40への、インプラント用金属シート材64の
インプラント金属材68のパンチングによる埋設を、一
回のパンチングで同時に行うことができる。
As described above, the implant metal having the implant hole-perforated portion with the implant hole-perforated pin 38 and the implant portion with the implant pin 42 arranged symmetrically in one mold. Since the mold 32 is used, a large number of implant holes 40 are punched in the base film tape 2 and the implant metal sheet material 64 is embedded in the punched implant holes 40 by the punch punching of the implant metal material 68. Can be performed simultaneously with one punching.

【0062】従って、ベースフィルムテープ2に多数の
インプラント用孔40のパンチングによる穿設と、この
穿設したインプラント用孔40への、インプラント用金
属シート材64のインプラント金属材68のパンチング
による埋設を、迅速にかつ高精度に実施することがで
き、生産効率良くしかも低コストで、インプラント法を
実施できる。
Therefore, a large number of implant holes 40 are punched in the base film tape 2 and the implant metal sheet material 64 is embedded in the drilled implant holes 40 by punching. The implant method can be carried out quickly and with high accuracy, and the implant method can be carried out with high production efficiency and at low cost.

【0063】このように本発明のインプラント装置10
で、インプラントが行われた電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープ1は、半導体IC、その他の必要な電子部
品が搭載された後、必要に応じて、半導体デバイスの保
護のためにエポキシ系樹脂等でポッティングやトランス
ファモールドにより樹脂封止される。なお、図示しない
が、本発明のインプラント部7が形成された電子部品実
装用フィルムキャリアテープ1は、多層に積層すること
によって多層基板としても使用できる。
Thus, the implant device 10 of the present invention
After the semiconductor IC and other necessary electronic components are mounted on the film carrier tape 1 for mounting electronic components which has been implanted, potting is performed with an epoxy resin or the like to protect the semiconductor device, if necessary. It is sealed with resin by transfer molding. Although not shown, the electronic component mounting film carrier tape 1 of the present invention on which the implant part 7 is formed can also be used as a multilayer substrate by laminating in multiple layers.

【0064】図12は、本発明の電子部品実装用フィル
ムキャリアテープのインプラント装置の第2の実施例の
概略平面図である。この実施例のインプラント装置10
は、図2に示したインプラント装置10と基本的な構成
については同様であるので、同じ構成部材には同じ参照
番号を付して、その詳細な説明を省略する。
FIG. 12 is a schematic plan view of a second embodiment of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic parts according to the present invention. The implant device 10 of this embodiment
Since the basic configuration is the same as that of the implant device 10 shown in FIG. 2, the same components are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0065】この実施例のインプラント装置10では、
インプラント孔穿設部分34aに、1個のインプラント
用孔穿設ピン38が配設されている。また、インプラン
ト部分34bに、1個のインプラント用ピン42が配設
されている。さらに、インプラント用孔穿設ピンに対応
して、下金型36には、インプラント用孔穿設ピン38
が嵌入する1個のダイス孔36aが形成されている。
In the implant device 10 of this embodiment,
One implant hole drilling pin 38 is disposed in the implant hole drilling portion 34a. Further, one implant pin 42 is arranged in the implant portion 34b. Further, in correspondence with the implant hole drilling pin, the lower mold 36 is provided with the implant hole drilling pin 38.
Is formed with one die hole 36a.

【0066】そして、上記のインプラント孔穿設と、イ
ンプラントの際に、図示しない制御装置の制御に基づい
て、図12に示したように、インプラント金型を、フィ
ルムキャリアテープの搬送方向Xと、幅方向Yに移動し
ながらインプラント孔穿設とインプラントを行うように
構成している。このように構成することによって、多数
のピンを金型に配置することがないので、金型費用が高
価となることがなく、しかも、たとえ、ピンが破損した
としても、それぞれ一つのピン38、42を交換するだ
けでよいので効率的である。
Then, at the time of the above-mentioned drilling of the implant hole and the implantation, the implant die is moved in the transport direction X of the film carrier tape as shown in FIG. It is configured to perform implant hole drilling and implant while moving in the width direction Y. With this configuration, since a large number of pins are not arranged in the mold, the cost of the mold does not increase, and even if the pins are damaged, one pin 38, This is efficient because it is only necessary to replace 42.

【0067】また、このようにインプラント用孔穿設ピ
ン38と、インプラント用ピン42とが、それぞれ1個
配設されて、インプラント金型32を、フィルムキャリ
アテープの搬送方向と幅方向に移動しながらインプラン
ト孔穿設とインプラントを行うので、様々な配線パター
ンの電子部品実装部に対応して、インプラントを行うこ
とが可能である。
Further, as described above, one implant hole drilling pin 38 and one implant pin 42 are provided, and the implant die 32 is moved in the transport direction and the width direction of the film carrier tape. However, since the implant hole is formed and the implant is performed, it is possible to perform the implant corresponding to the electronic component mounting portions of various wiring patterns.

【0068】図13は、本発明の電子部品実装用フィル
ムキャリアテープのインプラント装置の第3の実施例の
概略平面図である。この実施例のインプラント装置10
は、図2に示したインプラント装置10と基本的な構成
については同様であるので、同じ構成部材には同じ参照
番号を付して、その詳細な説明を省略する。
FIG. 13 is a schematic plan view of a third embodiment of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention. The implant device 10 of this embodiment
Since the basic configuration is the same as that of the implant device 10 shown in FIG. 2, the same components are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0069】この実施例のインプラント装置10では、
インプラント孔穿設部分34aに、インプラント用孔穿
設ピン38が電子部品実装用フィルムキャリアテープ1
の幅方向に一列に配設されている。また、インプラント
部分34bに、インプラント用ピン42が電子部品実装
用フィルムキャリアテープ1の幅方向に一列に配設され
ている。さらに、インプラント用孔穿設ピンに対応し
て、下金型36には、インプラント用孔穿設ピン38が
嵌入するダイス孔36aが電子部品実装用フィルムキャ
リアテープ1の幅方向に一列に形成されている。
In the implant device 10 of this embodiment,
The implant hole drilling pin 34 has the implant hole drilling pin 38 in the implant hole drilling portion 34a.
Are arranged in a line in the width direction. Further, the implant pins 42 are arranged in a row in the width direction of the electronic component mounting film carrier tape 1 at the implant portion 34b. Further, corresponding to the implant hole drilling pins, the lower mold 36 is provided with die holes 36a into which the implant hole drilling pins 38 are fitted in a row in the width direction of the electronic component mounting film carrier tape 1. ing.

【0070】そして、上記のインプラント孔穿設と、イ
ンプラントの際に、図示しない制御装置の制御に基づい
て、図13に示したように、インプラント金型32を、
フィルムキャリアテープの搬送方向Xに移動しながら、
列単位でインプラント孔穿設とインプラントを行うよう
に構成している。このようにインプラント用孔穿設ピン
38と、インプラント用ピン42とが、電子部品実装用
フィルムキャリアテープ1の幅方向に一列に配設されて
いるので、一度のパンチングで、列単位でインプラント
孔穿設とインプラントを同時に行うことができる。
Then, at the time of the above-described drilling of the implant hole and the implant, the implant mold 32 is set as shown in FIG. 13 based on the control of the control device (not shown).
While moving in the transport direction X of the film carrier tape,
It is configured to perform implant hole drilling and implanting on a row-by-row basis. As described above, since the implant hole punching pins 38 and the implant pins 42 are arranged in one row in the width direction of the electronic component mounting film carrier tape 1, the punching is performed once for each row by one punching. Drilling and implanting can be done simultaneously.

【0071】従って、ベースフィルムテープ2に多数の
インプラント用孔40のパンチングによる穿設と、この
穿設したインプラント用孔40への、インプラント用金
属シート材64のインプラント金属材68のパンチング
による埋設を、列単位で、迅速にかつ高精度に実施する
ことができ、さらに生産効率良くしかも低コストで、イ
ンプラント法を実施できる。
Therefore, the base film tape 2 is punched with a number of implant holes 40, and the implant metal sheet material 64 is punched with the implant metal material 68 to be embedded in the punched implant holes 40. In addition, the implant method can be carried out rapidly and highly accurately in a row unit, and the implant method can be carried out with high production efficiency and at low cost.

【0072】図14は、本発明の電子部品実装用フィル
ムキャリアテープのインプラント装置の第4の実施例の
概略平面図である。この実施例のインプラント装置10
は、図2に示したインプラント装置10と基本的な構成
については同様であるので、同じ構成部材には同じ参照
番号を付して、その詳細な説明を省略する。
FIG. 14 is a schematic plan view of a fourth embodiment of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention. The implant device 10 of this embodiment
Since the basic configuration is the same as that of the implant device 10 shown in FIG. 2, the same components are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0073】この実施例のインプラント装置10では、
インプラント金型32に、インプラント孔穿設部分32
aのみを配置して、ベースフィルムテープ2にインプラ
ント用孔40を、インプラント金型32のインプラント
孔穿設部分32aのインプラント用孔穿設ピン38によ
って穿設するように構成されている。そして、このよう
に、ベースフィルムテープ2にインプラント用孔40を
穿設した後、図示しない制御装置の制御に基づいて、イ
ンプラント金型32を、フィルムキャリアテープの搬送
方向Xに移動して、このインプラント金型32のインプ
ラント孔穿設部分32aのインプラント用孔穿設ピン3
8を利用して、インプラント孔穿設部分32aで穿設し
たインプラント用孔40に、インプラント金属材68を
パンチングによって埋設するように構成されている。
In the implant device 10 of this embodiment,
The implant die 32 has an implant hole drilling portion 32.
By disposing only a, the implant hole 40 is formed in the base film tape 2 by the implant hole forming pin 38 of the implant hole forming portion 32 a of the implant mold 32. Then, after the implant holes 40 are formed in the base film tape 2 in this way, the implant mold 32 is moved in the transport direction X of the film carrier tape under the control of a control device (not shown). Implant hole drilling pin 3 of implant hole drilling portion 32a of implant mold 32
8 is used to embed the implant metal material 68 in the implant hole 40 formed at the implant hole forming portion 32a by punching.

【0074】このように構成することによって、インプ
ラント金型32には、インプラント孔穿設部分32aの
みを配置するだけでよいので、金型製作費用が半分で済
み、コストを低減でき、少量、中生産規模の生産に好適
である。図15は、本発明の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープのインプラント装置の第5の実施例の概略
平面図である。
With this structure, since only the implant hole punching portion 32a needs to be arranged in the implant mold 32, the mold manufacturing cost can be halved and the cost can be reduced. Suitable for production scale production. FIG. 15 is a schematic plan view of a fifth embodiment of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.

【0075】この実施例のインプラント装置10は、図
14に示したインプラント装置10と基本的な構成につ
いては同様であるので、同じ構成部材には同じ参照番号
を付して、その詳細な説明を省略する。この実施例のイ
ンプラント装置10では、インプラント孔穿設部分34
aに、1個のインプラント用孔穿設ピン38が配設され
ているとともに、下金型36には、インプラント用孔穿
設ピン38が嵌入する1個のダイス孔36aが形成され
ている。
Since the implanting device 10 of this embodiment is similar in basic structure to the implanting device 10 shown in FIG. 14, the same components are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be given. Omit it. In the implant device 10 of this embodiment, the implant hole drilling portion 34
One implant hole drilling pin 38 is provided in a, and one die hole 36a into which the implant hole drilling pin 38 is fitted is formed in the lower mold 36.

【0076】そして、上記のインプラント孔穿設と、イ
ンプラントの際に、図示しない制御装置の制御に基づい
て、図15に示したように、インプラント金型を、フィ
ルムキャリアテープの搬送方向Xと、幅方向Yに移動し
ながらインプラント孔穿設とインプラントを行うように
構成している。このように構成することによって、多数
のピンを金型に配置することがないので、金型費用が高
価となることがなく、しかも、たとえ、ピンが破損した
としても、一つのピン38を交換するだけでよいので効
率的である。
Then, at the time of the above-mentioned implant hole drilling and implanting, as shown in FIG. 15, the implant mold is moved in the transport direction X of the film carrier tape under the control of a control device (not shown). It is configured to perform implant hole drilling and implant while moving in the width direction Y. With this configuration, since a large number of pins are not arranged in the mold, the cost of the mold does not increase, and even if the pins are damaged, one pin 38 is replaced. It is efficient because it only needs to be done.

【0077】また、このようにインプラント用孔穿設ピ
ン38が、1個配設されて、インプラント金型32を、
フィルムキャリアテープの搬送方向と幅方向に移動しな
がらインプラント孔穿設とインプラントを行うので、様
々な配線パターンの電子部品実装部に対応して、インプ
ラントを行うことが可能である。図16は、本発明の電
子部品実装用フィルムキャリアテープのインプラント装
置の第6の実施例の概略平面図である。
Further, as described above, one implant hole drilling pin 38 is provided, and the implant die 32 is
Since the implant hole is formed and the implant is performed while moving in the transport direction and the width direction of the film carrier tape, it is possible to perform the implant corresponding to the electronic component mounting portions of various wiring patterns. FIG. 16 is a schematic plan view of a sixth embodiment of the implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.

【0078】この実施例のインプラント装置10は、図
14に示したインプラント装置10と基本的な構成につ
いては同様であるので、同じ構成部材には同じ参照番号
を付して、その詳細な説明を省略する。この実施例のイ
ンプラント装置10では、インプラント孔穿設部分34
aに、インプラント用孔穿設ピン38が電子部品実装用
フィルムキャリアテープ1の幅方向に一列に配設されて
いる。さらに、インプラント用孔穿設ピン38に対応し
て、下金型36には、インプラント用孔穿設ピン38が
嵌入するダイス孔36aが電子部品実装用フィルムキャ
リアテープ1の幅方向に一列に形成されている。
Since the implanting device 10 of this embodiment is similar in basic structure to the implanting device 10 shown in FIG. 14, the same components are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be given. Omit it. In the implant device 10 of this embodiment, the implant hole drilling portion 34
The implant hole drilling pins 38 are arranged in a row in the width direction of the electronic component mounting film carrier tape 1. Further, corresponding to the implant hole drilling pins 38, the lower mold 36 is provided with die holes 36a into which the implant hole drilling pins 38 are fitted, in a row in the width direction of the electronic component mounting film carrier tape 1. Has been done.

【0079】そして、上記のインプラント孔穿設と、イ
ンプラントの際に、図示しない制御装置の制御に基づい
て、図16に示したように、インプラント金型32を、
フィルムキャリアテープの搬送方向Xに移動しながら、
列単位でインプラント孔穿設とインプラントを行うよう
に構成している。このようにインプラント用孔穿設ピン
38が、電子部品実装用フィルムキャリアテープ1の幅
方向に一列に配設されているので、一度のパンチング
で、列単位でインプラント孔穿設とインプラントを同時
に行うことができる。
Then, at the time of the above-mentioned drilling of the implant hole and at the time of implanting, the implant mold 32 is set as shown in FIG.
While moving in the transport direction X of the film carrier tape,
It is configured to perform implant hole drilling and implanting on a row-by-row basis. In this way, since the implant hole drilling pins 38 are arranged in a row in the width direction of the electronic component mounting film carrier tape 1, the punching and implanting of implant holes are performed simultaneously in a row by punching once. be able to.

【0080】従って、ベースフィルムテープ2に多数の
インプラント用孔40のパンチングによる穿設と、この
穿設したインプラント用孔40への、インプラント用金
属シート材64のインプラント金属材68のパンチング
による埋設を、列単位で、迅速にかつ高精度に実施する
ことができ、さらに生産効率良くしかも低コストで、イ
ンプラント法を実施できる。
Therefore, the base film tape 2 is punched with a large number of implant holes 40, and the implant metal sheet material 64 is embedded in the punched implant holes 40 by punching. In addition, the implant method can be carried out rapidly and highly accurately in a row unit, and the implant method can be carried out with high production efficiency and at low cost.

【0081】以上、本発明の好ましい実施の態様を説明
したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例え
ば、上記実施例では、一本の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープを作成する場合について説明したが、複数
本の電子部品実装用フィルムキャリアテープを同時に幅
方向に並べて供給して、作製するようにすることも可能
であるなど、本発明の目的を逸脱しない範囲で種々の変
更が可能である。
Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this. For example, in the above embodiment, when one film carrier tape for mounting electronic parts is prepared. However, it is also possible to supply a plurality of film carrier tapes for mounting electronic components side by side in the width direction at the same time, and to produce the film carrier tapes. It is possible.

【0082】[0082]

【実施例】【Example】

【0083】[0083]

【実施例1】ベースフィルムテープ2として、テープ幅
48mm、ポリイミド厚さ50μm、銅箔厚さ12μm
の両面銅貼りポリイミドフィルム(商品名:「エスパネ
ックス」新日鉄化学(株)製)を用いた。このベースフィ
ルムテープに、図2に示したようなインプラント装置1
0を用いて、スプロケットホール穿設部12で、スプロ
ケット孔4をベースフィルムテープ2の両側の側縁部に
形成した。
Example 1 As the base film tape 2, the tape width is 48 mm, the polyimide thickness is 50 μm, and the copper foil thickness is 12 μm.
A double-sided copper-clad polyimide film (trade name: "Espanex" manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was used. An implant device 1 as shown in FIG. 2 is formed on the base film tape.
No. 0 was used to form the sprocket holes 4 in the sprocket hole drilling portions 12 at the side edge portions on both sides of the base film tape 2.

【0084】そして、インプラント金型32のインプラ
ント孔穿設部分34aのインプラント用孔穿設ピン38
で、直径100μmのインプラント用孔40を穿設し
た。続いて、インプラント部分34bにおいて、インプ
ラント用金属シート材供給部66から、テープ幅20m
m、厚さ100μmの圧延銅箔からなるインプラント用
金属シート材64を、ベースフィルムテープ2の搬送方
向と垂直に交差する方向にベースフィルムテープ2の上
面に供給するとともに、インプラント用ピン42にて、
インプラント用金属シート材64のインプラント金属材
68を、パンチングによりインプラント用孔40内に埋
設した。
Then, the implant hole drilling pin 38 of the implant hole drilling portion 34a of the implant die 32.
Then, the implant hole 40 having a diameter of 100 μm was formed. Then, at the implant portion 34b, the tape width of 20 m from the implant metal sheet material supply portion 66.
A metal sheet material 64 for an implant made of a rolled copper foil having a thickness of 100 μm and a thickness of 100 μm is supplied to the upper surface of the base film tape 2 in a direction perpendicular to the transport direction of the base film tape 2, and at the time of implant pins 42. ,
The implant metal material 68 of the implant metal sheet material 64 was embedded in the implant hole 40 by punching.

【0085】そして、かしめ部70において、ワイヤー
放電加工を施した直径が300μm以上で、500μm
の突設距離を有する上金型突設部76と、ワイヤー放電
加工を施した直径が300μm以上で、500μmの突
設距離を有する下金型突設部78によって、インプラン
ト金属材68の上下面68a、68bを押圧することに
よってかしめ加工を施して、インプラント部7を形成し
た。
Then, in the crimped portion 70, the wire-discharge-processed diameter is 300 μm or more and 500 μm.
The upper and lower surfaces of the implant metal material 68 by the upper mold protrusion 76 having a protrusion distance of 70 mm and the lower mold protrusion 78 having a diameter of 300 μm or more subjected to wire electric discharge machining and a protrusion distance of 500 μm. The implant portion 7 was formed by crimping by pressing 68a and 68b.

【0086】また、かしめ部70において、上金型突設
部76と下金型突設部78が形成されていない平坦な上
金型72を下金型74で、これらの金型の表面を、イン
プラント位置に対応する箇所を部分的に硬化処理によっ
て硬化させた金型を用いてかしめ加工を行った。このよ
うにかしめ部70でかしめ加工が行われたベースフィル
ムテープ2は、ファインパターンを形成するために、フ
ァインパターン形成面の銅箔の表面全面をエッチング液
を用いて溶解することによって、銅箔を3μmの厚さに
ハーフエッチングした後(ハーフエッチング工程)、こ
の銅箔表面を接続信頼性向上のため全面を銅メッキして
(被せメッキ工程)、常法に従って、感光性フォトレジ
ストの塗布、回路パターンの露光につづいて、現像及び
銅エッチングを行い、銅回路パターンを形成した。
In the caulking portion 70, a flat upper die 72 without the upper die protruding portion 76 and the lower die protruding portion 78 is formed by the lower die 74, and the surfaces of these die are covered. The caulking process was performed using a mold in which a portion corresponding to the implant position was partially cured by the curing treatment. The base film tape 2 thus crimped at the crimping portion 70 is formed by dissolving the entire surface of the copper foil on the fine pattern forming surface with an etching solution to form a fine pattern. Is half-etched to a thickness of 3 μm (half-etching step), the entire surface of this copper foil is plated with copper to improve connection reliability (cover plating step), and a photosensitive photoresist is applied according to a conventional method. Following the exposure of the circuit pattern, development and copper etching were performed to form a copper circuit pattern.

【0087】次に、得られたテープをメッキ層に移行さ
せ、テープのソルダーレジストが塗工されていない露出
した銅箔表面部分に厚さ0.1μmの金メッキを施し、
電子部品実装用フィルムキャリアテープ1を作製した。
このようにして得られた電子部品実装用フィルムキャリ
アテープ1について、導通試験を行ったが、いずれも導
通不良は発生しなかった。
Next, the obtained tape was transferred to a plating layer, and the exposed copper foil surface portion not coated with the solder resist of the tape was gold-plated with a thickness of 0.1 μm,
A film carrier tape 1 for mounting electronic parts was produced.
A continuity test was conducted on the film carrier tape 1 for mounting electronic parts thus obtained, but no continuity failure occurred.

【0088】[0088]

【実施例2】実施例1と同様にして、電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープ1を作製した。但し、この実施例
では、図12のインプラント装置を用いた。このように
して得られた電子部品実装用フィルムキャリアテープ1
について、導通試験を行ったが、導通不良は発生しなか
った。
Example 2 In the same manner as in Example 1, a film carrier tape 1 for mounting electronic parts was produced. However, in this example, the implant device of FIG. 12 was used. Film carrier tape 1 for mounting electronic parts thus obtained
A continuity test was conducted on the above, but no defective continuity occurred.

【0089】[0089]

【実施例3】実施例1と同様にして、電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープ1を作製した。但し、この実施例
では、図13のインプラント装置を用いた。このように
して得られた電子部品実装用フィルムキャリアテープ1
について、導通試験を行ったが、導通不良は発生しなか
った。
Example 3 In the same manner as in Example 1, a film carrier tape 1 for mounting electronic components was produced. However, in this example, the implant device of FIG. 13 was used. Film carrier tape 1 for mounting electronic parts thus obtained
A continuity test was conducted on the above, but no defective continuity occurred.

【0090】[0090]

【実施例4】実施例1と同様にして、電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープ1を作製した。但し、この実施例
では、図14のインプラント装置を用いた。このように
して得られた電子部品実装用フィルムキャリアテープ1
について、導通試験を行ったが、導通不良は発生しなか
った。
Example 4 In the same manner as in Example 1, a film carrier tape 1 for mounting electronic parts was produced. However, in this example, the implant device of FIG. 14 was used. Film carrier tape 1 for mounting electronic parts thus obtained
A continuity test was conducted on the above, but no defective continuity occurred.

【0091】[0091]

【実施例5】実施例1と同様にして、電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープ1を作製した。但し、この実施例
では、図15のインプラント装置を用いた。このように
して得られた電子部品実装用フィルムキャリアテープ1
について、導通試験を行ったが、導通不良は発生しなか
った。
Example 5 A film carrier tape 1 for mounting electronic parts was produced in the same manner as in Example 1. However, in this example, the implant device of FIG. 15 was used. Film carrier tape 1 for mounting electronic parts thus obtained
A continuity test was conducted on the above, but no defective continuity occurred.

【0092】[0092]

【実施例6】実施例1と同様にして、電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープ1を作製した。但し、この実施例
では、図16のインプラント装置を用いた。このように
して得られた電子部品実装用フィルムキャリアテープ1
について、導通試験を行ったが、導通不良は発生しなか
った。
Example 6 In the same manner as in Example 1, a film carrier tape 1 for mounting electronic parts was produced. However, in this example, the implant device of FIG. 16 was used. Film carrier tape 1 for mounting electronic parts thus obtained
A continuity test was conducted on the above, but no defective continuity occurred.

【0093】いずれの場合にも、品質的に十分な電子部
品実装用フィルムキャリアテープが得られた。
In each case, a film carrier tape for mounting electronic parts of sufficient quality was obtained.

【0094】[0094]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ピンを備えたインプラント金型を用いるので、ベースフ
ィルムテープに多数のインプラント用孔のパンチングに
よる穿設と、この穿設したインプラント用孔への、イン
プラント用金属シート材のインプラント金属材のパンチ
ングによる埋設を行うことができる。
As described above, according to the present invention,
Since an implant mold equipped with pins is used, a large number of implant holes are punched in the base film tape, and the implant metal sheet material is embedded in the drilled implant holes by punching the implant metal material. It can be performed.

【0095】従って、ベースフィルムテープに多数のイ
ンプラント用孔のパンチングによる穿設と、この穿設し
たインプラント用孔への、インプラント用金属シート材
のインプラント金属材のパンチングによる埋設を、迅速
にかつ高精度に実施することができ、生産効率良くしか
も低コストで、インプラント法を実施できる。しかも、
本発明では、インプラント用孔に、インプラント金属材
をパンチングによって埋設する際に、フィルムキャリア
テープの搬送方向と交差して、インプラント金属材を供
給するので、邪魔になり、スプロケットホール穿設金型
などの諸設備が邪魔にならず、これらの諸設備を避ける
必要もなく、インプラント用金属シート材を供給できる
ので、複雑な構成の装置が不要で、簡単な構成で、大量
生産が可能である。
Therefore, the punching of a large number of implant holes in the base film tape by punching and the burying of the implant metal sheet material by punching the implant metal material into the drilled implant holes can be carried out quickly and with high efficiency. The implant method can be performed with high accuracy, high production efficiency, and low cost. Moreover,
In the present invention, when the implant metal material is embedded in the implant hole by punching, the implant metal material is supplied by intersecting the transport direction of the film carrier tape, which is an obstacle and causes a sprocket hole punching die or the like. Since various equipments of (1) do not get in the way and there is no need to avoid these equipments, the metal sheet material for implants can be supplied, so that a device having a complicated configuration is unnecessary, and mass production is possible with a simple configuration.

【0096】さらに、本発明によれば、パイロット装置
の位置きめピンによって、フィルムキャリアテープに穿
設されたスプロケット孔を利用して、フィルムキャリア
テープを正確な位置に位置決めして、インプラント金型
に供給できるので、インプラント金型におけるインプラ
ント用孔の穿設、インプラント金属材のパンチングによ
る埋設、ならびにインプラント金属材のかしめ金型によ
るかしめ加工を、電子部品実装部単位で、迅速にかつ高
精度に実施することができるなど幾多の顕著な作用効果
を奏する極めて優れた発明である。
Furthermore, according to the present invention, the locating pin of the pilot device is used to position the film carrier tape at an accurate position by utilizing the sprocket holes formed in the film carrier tape, and to make the implant mold. Since it can be supplied, the punching of implant holes in the implant mold, the embedding of the implant metal material by punching, and the crimping of the implant metal material by the crimping die can be performed quickly and highly accurately in the electronic component mounting unit. It is an extremely excellent invention that has various remarkable effects such as being able to achieve.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明の対象とする電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープの一例を示す要部平面図である。
FIG. 1 is a plan view of essential parts showing an example of a film carrier tape for mounting electronic parts, which is a target of the present invention.

【図2】図2は、本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープのインプラント装置の第1の実施例の概略平
面図である。
FIG. 2 is a schematic plan view of a first embodiment of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention.

【図3】図3は、図2のその概略側面図である。FIG. 3 is a schematic side view of FIG.

【図4】図4は、本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープのインプラント装置のインプラント金型32
のインプラント孔穿設部分34aの断面図である。
FIG. 4 is an implant die 32 of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.
FIG. 4B is a cross-sectional view of the implant hole punching portion 34a of FIG.

【図5】図5は、本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープのインプラント装置のインプラント金型32
のインプラント部分34bの断面図である。
FIG. 5 is an implant mold 32 of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.
3 is a cross-sectional view of the implant portion 34b of FIG.

【図6】図6は、本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープのインプラント装置のかしめ部70の断面図
である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a caulking portion 70 of the implant device for the electronic component mounting film carrier tape of the present invention.

【図7】図7は、本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープのインプラント装置のインプラント金型32
のインプラント孔穿設部分34aの作動状態を示す断面
図である。
FIG. 7 is an implant die 32 of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.
FIG. 13 is a cross-sectional view showing an operating state of the implant hole punching portion 34a of FIG.

【図8】図8は、本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープのインプラント装置のインプラント金型32
のインプラント部分34bの作動状態を示す断面図であ
る。
FIG. 8 is an implant mold 32 of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.
It is sectional drawing which shows the operating state of the implant part 34b of this.

【図9】図9は、本発明の電子部品実装用フィルムキャ
リアテープのインプラント装置のインプラント金型32
のインプラント部分34bの作動状態を示す断面図であ
る。
FIG. 9 is an implant mold 32 of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.
It is sectional drawing which shows the operating state of the implant part 34b of this.

【図10】図10は、本発明の電子部品実装用フィルム
キャリアテープのインプラント装置のかしめ部70の作
動状態を示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing an operating state of the crimp portion 70 of the implant device for an electronic component mounting film carrier tape according to the present invention.

【図11】図11は、本発明で用いるベースフィルムテ
ープ2の部分拡大断面図である。
FIG. 11 is a partially enlarged sectional view of the base film tape 2 used in the present invention.

【図12】図12は、本発明の電子部品実装用フィルム
キャリアテープのインプラント装置の第2の実施例の概
略平面図である。
FIG. 12 is a schematic plan view of a second embodiment of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.

【図13】図13は、本発明の電子部品実装用フィルム
キャリアテープのインプラント装置の第3の実施例の概
略平面図である。
FIG. 13 is a schematic plan view of a third embodiment of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic parts of the present invention.

【図14】図14は、本発明の電子部品実装用フィルム
キャリアテープのインプラント装置の第4の実施例の概
略平面図である。
FIG. 14 is a schematic plan view of a fourth embodiment of the implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.

【図15】図15は、本発明の電子部品実装用フィルム
キャリアテープのインプラント装置の第5の実施例の概
略平面図である。
FIG. 15 is a schematic plan view of a fifth embodiment of the implant device for the electronic component mounting film carrier tape of the present invention.

【図16】図16は、本発明の電子部品実装用フィルム
キャリアテープのインプラント装置の第6の実施例の概
略平面図である。
FIG. 16 is a schematic plan view of a sixth embodiment of an implant device for a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.

【図17】図17は、従来の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープを製造する方法を示す概略図である。
FIG. 17 is a schematic view showing a method for manufacturing a conventional film carrier tape for mounting electronic components.

【図18】図18は、従来の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープを製造する方法を示す概略図である。
FIG. 18 is a schematic view showing a method for manufacturing a conventional film carrier tape for mounting electronic components.

【図19】図19は、従来の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープを製造する方法を示す概略図である。
FIG. 19 is a schematic view showing a method for manufacturing a conventional film carrier tape for mounting electronic parts.

【図20】図20は、従来の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープを製造する方法を示す概略図である。
FIG. 20 is a schematic view showing a method for manufacturing a conventional film carrier tape for mounting electronic components.

【図21】図21は、従来の電子部品実装用フィルムキ
ャリアテープを製造する方法を示す概略図である。
FIG. 21 is a schematic view showing a method for manufacturing a conventional film carrier tape for mounting electronic components.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電子部品実装用フィルムキャリアテープ 2 ベースフィルムテープ 3 導電性金属層 4 スプロケット孔 6 電子部品実装部 7 インプラント部 8 インプラント群 10 インプラント装置 12 スプロケットホール穿設部 14 スプロケットホール穿設ピン 16 上金型 18 下金型 20、22 パイロット部 24、26 位置決めピン 30 インプラント部 32 インプラント金型 32a インプラント孔穿設部分 32b インプラント部分 34a インプラント孔穿設部分 34b インプラント部分 34 上金型 36 下金型 36a ダイス孔 38 インプラント用孔穿設ピン 40 インプラント用孔 42 インプラント用ピン 46 押圧板 50 スプリング 52 可動板 54 ガイド棒 56 ストッパ部材 58 ポンチプレート 60 ポンチ部当接用開口部 62 ピン孔 63 押さえ凹部 64 インプラント用金属シート材 66 インプラント用金属シート材供給部 68 インプラント金属材 68a 上面 68b 下面 68c、68d かしめ部 70 かしめ部 72 上金型 74 下金型 76 上金型突設部 78 下金型突設部 80 半導体装置 82 半導体デバイス X 搬送方向 Y 幅方向 1 Film carrier tape for electronic component mounting 2 Base film tape 3 Conductive metal layer 4 sprocket holes 6 Electronic component mounting department 7 Implant 8 implant groups 10 Implant device 12 Sprocket hole drilling part 14 Sprocket hole drilling pin 16 Upper mold 18 Lower mold 20, 22 Pilot section 24, 26 Positioning pin 30 Implant 32 Implant mold 32a Implant hole drilling portion 32b Implant part 34a Implant hole drilling portion 34b Implant part 34 Upper mold 36 Lower mold 36a Die hole 38 Implant hole drilling pin 40 implant hole 42 Implant Pin 46 Press plate 50 spring 52 movable plate 54 guide rod 56 Stopper member 58 punch plate 60 Punch part contact opening 62 pin hole 63 Holding recess 64 Metal sheet material for implants 66 Metal sheet material supply unit for implants 68 Implant metal material 68a upper surface 68b lower surface 68c, 68d caulking part 70 Caulking part 72 Upper mold 74 Lower mold 76 Upper mold protrusion 78 Lower mold protruding part 80 Semiconductor device 82 Semiconductor device X transport direction Y width direction

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 唐 沢 文 明 長野県須坂市大字小河原2150−1 株式会 社鈴木内 (72)発明者 一 柳 彰 埼玉県上尾市原市1333−2 三井金属鉱業 株式会社総合研究所内 (72)発明者 林 克 彦 埼玉県上尾市原市1333−2 三井金属鉱業 株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 5E317 AA24 BB03 BB12 CC08 CD32 GG17 5F044 MM04 MM49    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Fumiaki Karasawa             2150-1, Ogawara, Suzaka City, Nagano Stock Association             Company Suzuki (72) Inventor Ichiyanagi Akira             1333-2 Hara-shi, Ageo-shi, Saitama Mitsui Mining & Smelting             Research Institute, Inc. (72) Inventor Katsuhiko Hayashi             1333-2 Hara-shi, Ageo-shi, Saitama Mitsui Mining & Smelting             Research Institute, Inc. F term (reference) 5E317 AA24 BB03 BB12 CC08 CD32                       GG17                 5F044 MM04 MM49

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フィルムキャリアテープのインプラント
用孔を、パンチングにて穿設し、穿設したインプラント
用孔に、インプラント用金属シート材のインプラント金
属材をパンチングによって埋設するインプラント金型を
備えるとともに、 前記インプラント金型で埋設したインプラント材の上下
面をかしめ加工するかしめ金型を備えた電子部品実装用
フィルムキャリアテープのインプラント装置であって、 前記インプラント用孔に、インプラント金属材をパンチ
ングによって埋設する際に、フィルムキャリアテープの
搬送方向と交差して、インプラント金属材を供給するよ
うに構成したことを特徴とする電子部品実装用フィルム
キャリアテープのインプラント装置。
1. An implant mold for punching an implant hole of a film carrier tape by punching, and embedding the implant metal material of an implant metal sheet material by punching in the drilled implant hole, What is claimed is: 1. An implant device for a film carrier tape for mounting an electronic component, comprising an caulking die for caulking an implant material embedded in the implant die, wherein an implant metal material is embedded in the implant hole by punching. At this time, an implant device for a film carrier tape for mounting electronic parts, characterized in that it is configured so as to supply an implant metal material while intersecting the transport direction of the film carrier tape.
【請求項2】 複数のスプロケット孔が穿設されたフィ
ルムキャリアテープが、パイロット装置にガイドされた
状態で、前記インプラント金型を通過するように構成さ
れており、 前記パイロット装置が、フィルムキャリアテープに穿設
されたスプロケット孔を利用して、パイロット装置に設
けた位置決めピンをスプロケット孔内に嵌入させること
によって、ベースフィルムテープを正確な位置に位置決
めできるように構成されていることを特徴とする請求項
1に記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープのイ
ンプラント装置。
2. A film carrier tape having a plurality of sprocket holes formed therein, configured to pass through the implant mold while being guided by a pilot device, wherein the pilot device is a film carrier tape. The base film tape can be positioned at an accurate position by fitting the positioning pin provided in the pilot device into the sprocket hole by using the sprocket hole formed in the sprocket hole. An implant device for a film carrier tape for mounting electronic components according to claim 1.
【請求項3】 ピンを備えたインプラント金型を用いて
片面または両面に金属層が形成されたフィルムキャリア
テープに対して、インプラント用孔を前記ピンによって
パンチングにて穿設し、 前記インプラント用孔が穿設されたフィルムキャリアテ
ープに対して、穿設したインプラント用孔に、前記ピン
を用いてインプラント用金属シート材のインプラント金
属材をパンチングによって埋設する電子部品実装用フィ
ルムキャリアテープのインプラント方法であって、 前記インプラント部分で、インプラント用孔に、インプ
ラント金属材をパンチングによって埋設する際に、フィ
ルムキャリアテープの搬送方向と交差して、インプラン
ト金属材を供給することを特徴とする電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープのインプラント方法。
3. An implant hole is punched by the pin in a film carrier tape having a metal layer formed on one side or both sides using an implant mold having a pin, and the implant hole is formed by punching. In the method of implanting a film carrier tape for mounting electronic parts, the implant metal material of a metal sheet material for implant is embedded by punching in the hole for implant which is punched, with respect to the film carrier tape formed by punching. In the implant portion, when the implant metal material is embedded in the implant hole by punching, the implant metal material is supplied so as to intersect with the transport direction of the film carrier tape. Method of implanting film carrier tape.
【請求項4】 複数のスプロケット孔が穿設されたフィ
ルムキャリアテープが、パイロット装置にガイドされた
状態で、前記インプラント金型を通過するように構成さ
れており、 前記パイロット装置が、フィルムキャリアテープに穿設
されたスプロケット孔を利用して、パイロット装置に設
けた位置決めピンをスプロケット孔内に嵌入させること
によって、ベースフィルムテープを正確な位置に位置決
めできるように構成されていることを特徴とする請求項
3に記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープのイ
ンプラント方法。
4. A film carrier tape having a plurality of sprocket holes formed therein is configured to pass through the implant mold while being guided by a pilot device, and the pilot device is a film carrier tape. The base film tape can be positioned at an accurate position by fitting the positioning pin provided in the pilot device into the sprocket hole by using the sprocket hole formed in the sprocket hole. The method for implanting a film carrier tape for mounting electronic components according to claim 3.
【請求項5】 ピンを備えたインプラント金型を用いて
片面または両面に金属層が形成されたフィルムキャリア
テープに対して、インプラント用孔を前記ピンによって
パンチングにて穿設し、 前記インプラント用孔が穿設されたフィルムキャリアテ
ープに対して、穿設したインプラント用孔に、前記ピン
を用いてインプラント用金属シート材のインプラント金
属材をパンチングによって埋設する電子部品実装用フィ
ルムキャリアテープのインプラント方法であって、 前記インプラント部分で、インプラント用孔に、インプ
ラント金属材をパンチングによって埋設する際に、フィ
ルムキャリアテープの搬送方向と交差して、インプラン
ト金属材を供給することを特徴とする電子部品実装用フ
ィルムキャリアテープの製造方法。
5. An implant hole is punched by the pin in a film carrier tape having a metal layer formed on one side or both sides using an implant die having a pin, and the implant hole is formed by punching. In the method of implanting a film carrier tape for mounting electronic parts, the implant metal material of a metal sheet material for implant is embedded by punching in the hole for implant which is punched, with respect to the film carrier tape formed by punching. In the implant portion, when the implant metal material is embedded in the implant hole by punching, the implant metal material is supplied so as to intersect with the transport direction of the film carrier tape. Method for manufacturing film carrier tape.
【請求項6】 複数のスプロケット孔が穿設されたフィ
ルムキャリアテープが、パイロット装置にガイドされた
状態で、前記インプラント金型を通過するように構成さ
れており、 前記パイロット装置が、フィルムキャリアテープに穿設
されたスプロケット孔を利用して、パイロット装置に設
けた位置決めピンをスプロケット孔内に嵌入させること
によって、ベースフィルムテープを正確な位置に位置決
めできるように構成されていることを特徴とする請求項
5に記載の電子部品実装用フィルムキャリアテープの製
造方法。
6. A film carrier tape having a plurality of sprocket holes formed therein is configured to pass through the implant mold while being guided by a pilot device, and the pilot device is a film carrier tape. The base film tape can be positioned at an accurate position by fitting the positioning pin provided in the pilot device into the sprocket hole by using the sprocket hole formed in the sprocket hole. A method for manufacturing a film carrier tape for mounting electronic parts according to claim 5.
JP2001400583A 2001-12-28 2001-12-28 Implant device and method of film carrier tape for mounting electronic components, and method of manufacturing film carrier tape for mounting electronic components Expired - Fee Related JP3554554B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001400583A JP3554554B2 (en) 2001-12-28 2001-12-28 Implant device and method of film carrier tape for mounting electronic components, and method of manufacturing film carrier tape for mounting electronic components

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001400583A JP3554554B2 (en) 2001-12-28 2001-12-28 Implant device and method of film carrier tape for mounting electronic components, and method of manufacturing film carrier tape for mounting electronic components

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003197694A true JP2003197694A (en) 2003-07-11
JP3554554B2 JP3554554B2 (en) 2004-08-18

Family

ID=27605075

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001400583A Expired - Fee Related JP3554554B2 (en) 2001-12-28 2001-12-28 Implant device and method of film carrier tape for mounting electronic components, and method of manufacturing film carrier tape for mounting electronic components

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3554554B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP3554554B2 (en) 2004-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8912451B2 (en) Multilayered printed circuit board and method for manufacturing the same
US9018538B2 (en) Wiring substrate having columnar protruding part
US8146243B2 (en) Method of manufacturing a device incorporated substrate and method of manufacturing a printed circuit board
US6365974B1 (en) Flex circuit substrate for an integrated circuit package
US20100096171A1 (en) Printed circuit board having round solder bump and method of manufacturing the same
EP1280204A2 (en) Wiring substrate having position problem
US9510450B2 (en) Printed wiring board and method for manufacturing the same
US9021690B2 (en) Method of manufacturing printed circuit board having buried solder bump
JP3554552B2 (en) Implant device and method of film carrier tape for mounting electronic components, and method of manufacturing film carrier tape for mounting electronic components
JP2002118204A (en) Semiconductor device, substrate for mounting semiconductor and method for manufacturing the same
JP3554553B2 (en) Implant device and method of film carrier tape for mounting electronic components, and method of manufacturing film carrier tape for mounting electronic components
KR20090032840A (en) Method for manufacturing printed circuit board
JP3561744B2 (en) Implant device and method of film carrier tape for mounting electronic components, and method of manufacturing film carrier tape for mounting electronic components
JP3554554B2 (en) Implant device and method of film carrier tape for mounting electronic components, and method of manufacturing film carrier tape for mounting electronic components
JP2006294670A (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2700259B2 (en) Method of forming solder layer having recess in printed wiring board
JP2002176232A (en) Alignment mark
JP4984502B2 (en) BGA type carrier substrate manufacturing method and BGA type carrier substrate
JP3374777B2 (en) 2-metal TAB, double-sided CSP, BGA tape, and manufacturing method thereof
JP2002093861A (en) Bimetal tab and double-coated csp, bga tape, and method for manufacturing them
JP2000340594A (en) Transfer bump sheet and manufacture thereof
JP2004281752A (en) Single side circuit board and method for manufacturing it
JP2002252460A (en) Alignment method
JPH09219580A (en) Solder feeder device and method
JPH0685007A (en) Film carrier tape and its production

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Effective date: 20040126

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040205

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040401

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040428

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20040507

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080514

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100514

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110514

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110514

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees