JP2003197652A - Mounting apparatus of semiconductor element - Google Patents

Mounting apparatus of semiconductor element

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JP2003197652A
JP2003197652A JP2001391824A JP2001391824A JP2003197652A JP 2003197652 A JP2003197652 A JP 2003197652A JP 2001391824 A JP2001391824 A JP 2001391824A JP 2001391824 A JP2001391824 A JP 2001391824A JP 2003197652 A JP2003197652 A JP 2003197652A
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semiconductor
work
semiconductor element
supply device
station
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JP2001391824A
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Japanese (ja)
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Yoshio Ichikawa
良雄 市川
Yoshiteru Okamoto
好輝 岡本
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Sanyo Electric Co Ltd
Hitachi High Tech Instruments Co Ltd
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Sanyo Electric Co Ltd
Hitachi High Tech Instruments Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mounting apparatus of a semiconductor element whereby a space occupied by the mounting apparatus is reduced and the oxidation of the semiconductor element on a semiconductor supply device due to a heating body is prevented (heat shielding). <P>SOLUTION: Below a heater block 61, a heat shielding body 63 is provided which has an upper area equal to or slightly larger than a bottom area of the heater block 61. The heat shielding body 63 prevents a semiconductor element 23 placed on a semiconductor supply device 20 from being oxidized by the heat of the heater block 61. Namely, the heat shielding body 63 is provided with a space between the heater block 61 and a sheet 22 of the semiconductor supply device 20 moving below the heater block 61. The heat shielding body has a medium path space 64, to which a cooling medium is applied, and a shielding plate 65 which is placed with a space on the side of the heater block 61 near the semiconductor supply device 20. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ヒートシンク又は
セラミック基板等のワークに半導体素子を装着する半導
体素子の装着装置に関する。詳述すれば、搬送装置によ
り間欠送りされるヒートシンクやセラミック基板等のワ
ークが供給装置により供給ステーションで搬送路上に供
給され、はんだ塗布ステーションで前記ワーク上にはん
だ塗布装置によりはんだが塗布され、装着ステーション
で装着装置により半導体素子が前記ワーク上にはんだを
介して装着され、排出ステーションで排出取出し装置に
より前記半導体素子が装着されたワークが取出される半
導体素子の装着装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor element mounting apparatus for mounting a semiconductor element on a work such as a heat sink or a ceramic substrate. More specifically, workpieces such as heat sinks and ceramic substrates that are intermittently fed by the transport device are supplied to the transport path at the supply station by the supply device, solder is applied to the work at the solder application station by the solder application device, and mounting is performed. The present invention relates to a semiconductor device mounting device in which a semiconductor device is mounted on a workpiece by a mounting device at a station via solder, and a work on which the semiconductor device is mounted is taken out by an ejection / ejecting device at an ejection station.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の装着装置では、半導体素子をワー
ク(ヒートシンク又はセラミック基板)に載置する吸着
ノズルを、静置されている半導体供給装置上の半導体素
子がある場所まで移動させ、吸着して搬送路上のワーク
位置へ移動して載置していた。
2. Description of the Related Art In a conventional mounting apparatus, a suction nozzle for mounting a semiconductor element on a work (heat sink or ceramic substrate) is moved to a position where the semiconductor element on the stationary semiconductor supply apparatus is located, and suction is performed. And moved to the work position on the transport path and placed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述せる方法
では、吸着ノズルがワークを載置するための移動時間が
長く、効率良く載置できないことは勿論、載置に時間が
掛かるため、ワークや半導体素子がヒータブロック等の
加熱体の熱を受け、酸化され易い状況にあった。また、
半導体供給装置が静置されているため、場所的にもスペ
ースを取る必要であった。これを解決するため、半導体
供給装置を自由に移動させ、移載時間の短縮を図ってき
た。しかし、半導体供給装置のシート上に載置されてい
る半導体素子が前記加熱体の下方まで移動させると、該
加熱体の熱の影響を半導体供給装置のシート上の半導体
素子が受け、酸化される恐れがあるため、加熱防止の遮
熱板を設けて、前記加熱体と半導体素子との間隔をある
程度近くまで保つ事が出来ていた。しかし、ヒートシン
ク等のワークの大型化に伴いヒータ容量が大きくなるに
従い、前記シート上の半導体素子が前記加熱体の熱の影
響を受けて酸化しないために遮熱板と半導体素子との間
隔を更に広げる必要があった。
However, in the method described above, the suction nozzle takes a long time to mount a work, and it is not possible to mount the work efficiently. The semiconductor element is in a state of being easily oxidized by receiving heat from a heating body such as a heater block. Also,
Since the semiconductor supply device is stationary, it is necessary to take space in terms of location. In order to solve this, the semiconductor supply device is freely moved to shorten the transfer time. However, when the semiconductor element mounted on the sheet of the semiconductor supply device is moved below the heating body, the semiconductor element on the sheet of the semiconductor supply device is affected by the heat of the heating body and is oxidized. Therefore, a heat shield plate for preventing heating can be provided to keep the distance between the heating element and the semiconductor element close to a certain degree. However, as the capacity of the heater increases with the increase in the size of the work such as the heat sink, the semiconductor element on the sheet is not oxidized under the influence of the heat of the heating body, so that the distance between the heat shield plate and the semiconductor element is further increased. I needed to unfold it.

【0004】そこで本発明は、装着装置の占有スペース
を縮小し、加熱体による半導体供給装置上の半導体素子
の酸化防止(熱遮断)もできる半導体素子の装着装置を
提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a mounting device for a semiconductor element which can reduce the space occupied by the mounting device and prevent the semiconductor element on the semiconductor supply device from being oxidized (heat is blocked) by a heating element.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】このため第1の発明は、
搬送装置により間欠送りされるヒートシンクやセラミッ
ク基板等のワークが供給装置により供給ステーションで
搬送路上に供給され、はんだ塗布ステーションで前記ワ
ーク上にはんだ塗布装置によりはんだが塗布され、装着
ステーションで装着装置により半導体供給装置から取出
された半導体素子が前記ワーク上にはんだを介して装着
され、排出ステーションで排出取出し装置により前記半
導体素子が装着されたワークが取出される半導体素子の
装着装置であって、前記半導体供給装置が前記搬送路上
の前記ワークを加熱するための加熱体の下方に移動可能
とし、前記加熱体の下方に移動した前記半導体供給装置
と前記加熱体との間に冷却媒体が流される媒体通路空間
を有する遮熱体を設けたことを特徴とする。
Therefore, the first invention is
Workpieces such as heat sinks and ceramic substrates that are intermittently fed by the carrier device are supplied by the supply device onto the carrier path at the supply station, solder is applied on the work by the solder application device at the solder application station, and by the installation device at the installation station. A semiconductor element mounting device in which a semiconductor element taken out from a semiconductor supply device is mounted on the work piece via solder, and a work piece mounted with the semiconductor element is taken out by a discharge and take-out device at a discharge station, wherein A medium in which a semiconductor supply device is movable below a heating body for heating the work on the conveyance path, and a cooling medium is flown between the semiconductor supply device moved below the heating body and the heating body. A heat shield having a passage space is provided.

【0006】また第2の発明は、前記遮熱体は、前記半
導体供給装置寄りの前記加熱体の側方に空間を存して配
設される遮熱板を有していることを特徴とする。
A second aspect of the invention is characterized in that the heat shield has a heat shield plate which is arranged laterally of the heating body near the semiconductor supply device with a space. To do.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下図面に基づき、本発明の実施
の形態を説明する。図1において、1は半導体素子の装
着装置で、この装着装置1外から供給されるヒートシン
クやセラミック基板等のワーク3を搬送装置2により間
欠送りしながら、このワーク3上に所定作業を施した
後、装着装置1外に取出されるものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a semiconductor element mounting apparatus, which performs a predetermined work on the work 3 while intermittently feeding a work 3 such as a heat sink or a ceramic substrate supplied from the outside of the mounting apparatus 1 by a carrier device 2. After that, it is taken out of the mounting apparatus 1.

【0008】前記装着装置1は、上流から供給ステーシ
ョンI、はんだ塗布ステーションII、装着ステーショ
ンIII及び排出ステーションIVを有している。図2
は前記装着ステーションIIIの縦断面図を示し、図3
ははんだ塗布ステーションIIの縦断側面図を示す。図
3に示すように装置本体1Aには密閉空間4が形成され
ている。
The mounting apparatus 1 has a supply station I, a solder coating station II, a mounting station III and a discharge station IV from the upstream side. Figure 2
3 is a vertical sectional view of the mounting station III, and FIG.
Shows a vertical side view of the solder coating station II. As shown in FIG. 3, a closed space 4 is formed in the device body 1A.

【0009】前記密閉空間4内に設けられる前記搬送装
置2は、前記ワーク3の搬送方向に沿って設けられるト
ランスファ5と、搬送路6上の各ワーク3に係止して移
動させるために該トランスファ5に所定間隔毎に設けら
れる複数の送り爪7と、前記トランスファ5を所定長さ
の1ピッチずつ往復動させる往復駆動源(図示せず)
と、該駆動源によりトランスファ5を1ピッチ往動作に
より移動させた後下端を支点として揺動させてワーク3
と送り爪7との係止を解除する揺動駆動源(図示せず)
とを備えている。
The transfer device 2 provided in the closed space 4 is provided for transferring the transfer 5 provided along the transfer direction of the work 3 and each work 3 on the transfer path 6 so as to move. A plurality of feed claws 7 provided at predetermined intervals on the transfer 5 and a reciprocating drive source (not shown) for reciprocating the transfer 5 by one pitch of a predetermined length.
Then, the transfer source 5 is moved by one pitch forward operation by the drive source, and is then swung about the lower end as a fulcrum to move the work 3
Swing drive source (not shown) for releasing the locking between the feed claw 7 and the feed claw 7.
It has and.

【0010】8は前記密閉空間4内の前記ワーク3の酸
化を防止したり還元させるために窒素ガスや、窒素及び
水素の混合ガスを前記密閉空間4内に供給する複数のガ
ス供給パイプで、この各ガス供給パイプ8は図示しない
ガス供給源に各流量調節器を介して接続されている。
Reference numeral 8 denotes a plurality of gas supply pipes for supplying nitrogen gas or a mixed gas of nitrogen and hydrogen to the closed space 4 in order to prevent or reduce the oxidation of the work 3 in the closed space 4, Each gas supply pipe 8 is connected to a gas supply source (not shown) through each flow rate controller.

【0011】図2において、前記搬送路6上の所定位置
で前記密閉空間4内の前記ワーク3を真空吸引して搬送
する際のオーバーランを防止するためのパイプ10は、
切換バルブ43を介して、真空吸引パイプ41と、酸化
を防止したり還元させるために窒素ガスや窒素及び水素
の混合ガス等の酸化防止ガスを前記密閉空間4内に供給
するガス供給パイプ42と接続されている。通常、前記
パイプ10は、切換バルブ43を介して真空吸引パイプ
41と接続されてワーク3を吸引するようになってい
る。ここで、ワーク3が有るか無いかの確認の所定位置
を、例えば装着ステーションIIIとすると、装着ステ
ーションIIIにワーク3の供給が無い場合は、前記パ
イプ10に設けられた真空センサ(図示せず)からの信
号により切換バルブ43が切換り、前記酸化防止ガスが
その供給源(図示せず)からガス供給パイプ42を通じ
て装着ステーショIIIに供給される。また、図2の装
着ステーションIIIにおける装着装置1の縦断側面図
に示すように、前記密閉空間4の上面に開口11を形成
して、該開口11をシリンダー12により開閉するシャ
ッター13を設けるが、この構成は前記供給ステーショ
ンI及びはんだ塗布ステーションIIにおいても同様な
構成である。また、各ステーション間には透明なガラス
窓14を設けて、この窓14を介して装置本体1A内、
例えばワイヤはんだの塗布状態やベアチップなどの半導
体素子の装着状態などを作業者が覗くことができる。
In FIG. 2, a pipe 10 for preventing overrun when the work 3 in the closed space 4 is vacuum-sucked and carried at a predetermined position on the carrying path 6,
A vacuum suction pipe 41 via a switching valve 43, and a gas supply pipe 42 for supplying an antioxidant gas such as nitrogen gas or a mixed gas of nitrogen and hydrogen into the closed space 4 in order to prevent or reduce oxidation. It is connected. Usually, the pipe 10 is connected to the vacuum suction pipe 41 via a switching valve 43 to suck the work 3. Here, when the predetermined position for checking whether or not the work 3 is present is, for example, the mounting station III, when the work 3 is not supplied to the mounting station III, a vacuum sensor (not shown) provided on the pipe 10 is provided. ), The switching valve 43 is switched, and the antioxidant gas is supplied from the supply source (not shown) to the mounting station III through the gas supply pipe 42. Further, as shown in a vertical sectional side view of the mounting device 1 in the mounting station III of FIG. 2, an opening 11 is formed in the upper surface of the closed space 4, and a shutter 13 for opening and closing the opening 11 by a cylinder 12 is provided. This configuration is the same in the supply station I and the solder coating station II as well. In addition, a transparent glass window 14 is provided between each station, and the inside of the apparatus main body 1A is opened through the window 14.
For example, the operator can see the applied state of the wire solder and the attached state of the semiconductor element such as the bare chip.

【0012】先ず、供給ステーションIでは、トレイ1
5上に整列されて収納されている前記ワーク3を供給装
置の吸着ノズル15Aが図示しない駆動源により平面方
向及び上下方向に移動しながら取出して、前記シリンダ
ー12によりシャッター13を移動させて開口11を介
して搬送路6上に順次供給し、この供給後シャッター1
3を移動させて開口11を閉塞する。そして、前述した
ように搬送装置2により搬送路6上のワーク3を順次1
ピッチずつ間欠送りすることとなる。
First, in the supply station I, the tray 1
The work 3 housed in line on 5 is taken out while the suction nozzle 15A of the supply device moves in the plane direction and the vertical direction by a drive source (not shown), and the shutter 12 is moved by the cylinder 12 to open the work 11. Are sequentially supplied to the conveying path 6 via the
3 is moved to close the opening 11. Then, as described above, the work 3 on the transfer path 6 is sequentially transferred by the transfer device 2 one by one.
It will be intermittently fed pitch by pitch.

【0013】次のはんだ塗布ステーションIIでは、前
記シリンダー12によりシャッター13を移動させて開
口11を介して搬送路6上のワーク3上に図示しないは
んだ塗布装置により接合材であるワイヤはんだを塗布
し、この塗布後シャッター13を移動させて開口11を
閉塞する。尚、このはんだ塗布装置は、平面方向及び上
下方向に図示しない駆動源により移動可能な構成であ
る。また、図2に示すように搬送路6の下部にはヒータ
61Aが埋設された加熱体であるヒータブロック61が
設けられ、搬送路6の形成ブロック6Aを介してワーク
3を加熱し、前記ワイヤはんだを溶融しながら塗布する
こととなるものである。後述するように、ヒータブロッ
ク61の下方には、半導体供給装置20がときに搬送路
6(ヒータブロック61)の下方に入り込むので、半導
体供給装置20に載置された半導体素子23がヒータブ
ロック61の熱により酸化されるのを防止するための遮
熱体63がヒータブロック61の底面積と同等若しくは
少し大きな上面積を有して設けられている。
In the next solder coating station II, the shutter 13 is moved by the cylinder 12 and the wire solder as a bonding material is coated on the work 3 on the transport path 6 through the opening 11 by a solder coating device (not shown). After this application, the shutter 13 is moved to close the opening 11. It should be noted that this solder coating device is configured to be movable in the plane direction and the vertical direction by a drive source (not shown). Further, as shown in FIG. 2, a heater block 61, which is a heating body in which a heater 61A is embedded, is provided in the lower part of the transport path 6, and the work 3 is heated via the formation block 6A of the transport path 6, and the wire The solder is applied while melting. As will be described later, the semiconductor supply device 20 sometimes enters below the transport path 6 (heater block 61) below the heater block 61, so that the semiconductor element 23 mounted on the semiconductor supply device 20 is placed in the heater block 61. A heat shield 63 for preventing oxidation by the heat is provided with an upper area equal to or slightly larger than the bottom area of the heater block 61.

【0014】即ち、前記遮熱体63は前記ヒータブロッ
ク61の下方に移動したときの前記半導体供給装置20
のシート22とヒータブロック61との間に空間を存す
るように配設され、図示しない供給源から冷却媒体がバ
ルブ66及び流入口64Aを介して流される媒体通路空
間64を有すると共に、前記半導体供給装置20寄りの
前記ヒータブロック61の側方にも空間を存して配設さ
れる遮熱板65を有する。尚、前記冷却媒体は、水や空
気等の流体が使用され、前記バルブ66を介して前記媒
体通路空間64に流入され、他端側のバルブ67を介し
て装着装置外に排出される構成である。
That is, the heat shield 63 moves to a position below the heater block 61, and the semiconductor supply device 20 moves.
Is provided so as to have a space between the seat 22 and the heater block 61, and has a medium passage space 64 through which a cooling medium from a supply source (not shown) flows through a valve 66 and an inlet 64A. A heat shield plate 65 is also provided in the side of the heater block 61 near the apparatus 20 with a space. A fluid such as water or air is used as the cooling medium, and the cooling medium flows into the medium passage space 64 through the valve 66 and is discharged to the outside of the mounting device through the valve 67 on the other end side. is there.

【0015】次の装着ステーションIIIでは、装着装
置の吸着ノズル16が図示しない駆動源により平面方向
及び上下方向に移動しながら、半導体供給装置20のX
Yテーブル21上のシート22に配置されたダイシング
されたベアチップなどの半導体素子23を吸着し、取出
して、前記シリンダー12によりシャッター13を移動
させて開口11を介して搬送路6上の前記ワーク3上に
ワイヤはんだを介して装着し、装着後シャッター13を
移動させて開口11を閉塞する。
At the next mounting station III, the suction nozzle 16 of the mounting device moves in the plane direction and the vertical direction by a drive source (not shown), and the X of the semiconductor supply device 20
The semiconductor element 23 such as a dicing bare chip arranged on the sheet 22 on the Y table 21 is adsorbed and taken out, and the shutter 13 is moved by the cylinder 12 to move the shutter 13 through the opening 11 and the work 3 on the conveyance path 6. It is mounted via wire solder on top, and after mounting, the shutter 13 is moved to close the opening 11.

【0016】なお、XYテーブル21上にはシート取付
け台22Aが設置され、この上にウエハシート22が配
置されている。また、吸着ノズル16が下降してくるポ
イントの真下に半導体素子23を下から突き上げる突き
上げ針を有する突き上げ装置24が設置されている。
A sheet mount 22A is installed on the XY table 21, and the wafer sheet 22 is placed on the seat mount 22A. A push-up device 24 having a push-up needle that pushes up the semiconductor element 23 from below is installed just below the point where the suction nozzle 16 descends.

【0017】次に、前記半導体供給装置20について説
明する。支持体254に固定されたY軸モータ251が
駆動すると、カップリング252を介してボールネジで
あるY軸25が回転し、このY軸25が嵌合するナット
体253がY方向に移動する。また、前記ナット体25
3には支持体264が固定され、該支持体264に固定
されたX軸駆動モータ261が駆動すると、カップリン
グ262を介してボールネジであるX軸26が回転し、
このX軸26が嵌合するナット体263がX方向に移動
する。従って、X軸駆動モータ261及びY軸モータ2
51が駆動すると、結果としてXYテーブル21が平面
におけるXY方向に移動するので、シート取付台22A
も移動し、ウエハシート22上の取出すべき半導体素子
23が不動(平面方向において)の突き上げ装置24上
方に移動することとなる。
Next, the semiconductor supply device 20 will be described. When the Y-axis motor 251 fixed to the support body 254 is driven, the Y-axis 25, which is a ball screw, rotates via the coupling 252, and the nut body 253 into which the Y-axis 25 fits moves in the Y direction. Also, the nut body 25
3, a support 264 is fixed, and when the X-axis drive motor 261 fixed to the support 264 is driven, the X-axis 26, which is a ball screw, rotates via the coupling 262,
The nut body 263 with which the X axis 26 is fitted moves in the X direction. Therefore, the X-axis drive motor 261 and the Y-axis motor 2
When 51 is driven, as a result, the XY table 21 moves in the XY directions on the plane, so that the seat mount 22A
Also, the semiconductor element 23 to be taken out on the wafer sheet 22 moves above the immovable (in the plane direction) push-up device 24.

【0018】そして、吸着ノズル16により取出されて
半導体素子23は、ワーク3上に装着される。従って、
次々にウエハシート22上の半導体素子23を取出すた
めにXYテーブル21を移動させるが、ときにシート2
2上の一部の半導体素子23が、図1の2点鎖線で示す
シート22の移動範囲Sのように、前記装着装置1の搬
送路6の下方に入り込むことがある。このため図2に示
すようにシート22上の半導体素子23は搬送路6の下
部に設置されたヒータブロック61からの熱を受けない
ように、前記遮熱体63が設けられている。
The semiconductor element 23 taken out by the suction nozzle 16 is mounted on the work 3. Therefore,
The XY table 21 is moved in order to take out the semiconductor elements 23 on the wafer sheet 22 one after another.
A part of the semiconductor elements 23 on 2 may enter below the conveying path 6 of the mounting apparatus 1 like the moving range S of the sheet 22 shown by the chain double-dashed line in FIG. Therefore, as shown in FIG. 2, the heat shield 63 is provided so that the semiconductor element 23 on the sheet 22 does not receive heat from the heater block 61 installed in the lower portion of the transport path 6.

【0019】即ち、前記半導体供給装置20のシート2
2が前記ヒータブロック61の下方に移動しても、冷却
媒体がバルブ66を介して流される媒体通路空間64を
有する前記遮熱体63により前記シート22上の半導体
素子23はヒータブロック61からの熱を遮熱するの
で、酸化が防止される。また、シート22が前記ヒータ
ブロック61の下方に移動しても、移動しなくとも、前
記遮熱体63の遮熱板65により、前記シート22上の
半導体素子23方向への熱も遮熱するので、酸化が確実
に防止される。
That is, the sheet 2 of the semiconductor supply device 20.
Even if 2 moves below the heater block 61, the semiconductor element 23 on the sheet 22 is removed from the heater block 61 by the heat shield 63 having the medium passage space 64 through which the cooling medium flows through the valve 66. Oxidation is prevented because it shields heat. Even if the sheet 22 moves below the heater block 61, the heat shield plate 65 of the heat shield 63 also shields heat toward the semiconductor element 23 on the sheet 22. Therefore, oxidation is surely prevented.

【0020】このため、シート22に載置された半導体
素子23は、ヒータブロック61の熱の影響を受けるこ
とがほとんどなくなり、XYテーブル21上のシート2
2ひいては、半導体素子23と搬送路6の下部にあるヒ
ータブロック61との間隔を狭くとることができ、装置
装置の占有スペースも縮小される。
Therefore, the semiconductor element 23 mounted on the seat 22 is hardly affected by the heat of the heater block 61, and the seat 2 on the XY table 21 is not affected.
Furthermore, the space between the semiconductor element 23 and the heater block 61 below the transport path 6 can be narrowed, and the space occupied by the device can be reduced.

【0021】装着ステーションIIIの後工程の搬送路
6上方には、半導体素子23の装着が終わったワーク3
の迅速なる冷却により酸化を防止するために、図1、図
5及び図6に示すような窒素ガス等の酸化防止ガスのエ
アーカーテン30が形成される。前記エアーカーテン3
0は密閉空間4内に搬送方向と直交する方向の全域に亘
って形成され、ワーク3の搬送路6上方からワーク3に
酸化防止ガスを吹き付けるものである。例えば、搬送路
6上方に配設されたパイプ31に複数個の穴を開けて、
ガス供給源(図示せず)に連通するガス供給バルブ44
を介して該パイプ31の穴より酸化防止ガスを噴出させ
る。
Above the transport path 6 in the subsequent step of the mounting station III, the work 3 on which the semiconductor element 23 has been mounted is finished.
In order to prevent oxidation by rapid cooling of the air, an air curtain 30 of an antioxidant gas such as nitrogen gas is formed as shown in FIGS. 1, 5 and 6. The air curtain 3
0 is formed in the closed space 4 over the entire area in the direction orthogonal to the conveying direction, and blows an antioxidant gas onto the workpiece 3 from above the conveying path 6 of the workpiece 3. For example, by making a plurality of holes in the pipe 31 arranged above the transport path 6,
Gas supply valve 44 communicating with a gas supply source (not shown)
The antioxidant gas is ejected from the hole of the pipe 31 through the.

【0022】前記エアーカーテン30は、図1に示すよ
うに、装着ステーションIIIと排出ステーションIV
の中間で、出来れば装着ステーションIIIに近い方が
好ましい。このように酸化防止と早期冷却を兼ねた酸化
防止ガスをワーク3及び装着された半導体素子23に噴
出するので、酸化を免れるのである。このように、エア
ーカーテン30を設けた場合は、ヒータブロック61は
エアーカーテン30の下流側には不要であり、またエア
ーカーテン30以降の搬送路6の上方には密閉空間4は
形成しないものであり、エアーカーテン30は密閉空間
4のワーク出口(開口部)に位置し、該エアーカーテン
30により密閉空間4への外気の侵入又は密閉空間4か
らの酸化防止ガスの漏れを防止する。
As shown in FIG. 1, the air curtain 30 has a mounting station III and a discharge station IV.
In the middle of the above, it is preferable to be closer to the mounting station III if possible. In this way, the antioxidizing gas, which has both antioxidation and early cooling, is ejected to the work 3 and the mounted semiconductor element 23, so that the oxidation is avoided. As described above, when the air curtain 30 is provided, the heater block 61 is not required on the downstream side of the air curtain 30, and the closed space 4 is not formed above the transport path 6 after the air curtain 30. The air curtain 30 is located at the work outlet (opening) of the closed space 4, and the air curtain 30 prevents outside air from entering the closed space 4 or leakage of the antioxidant gas from the closed space 4.

【0023】最後の排出ステーションIVでは、前記搬
送路6上の前記半導体素子が装着されたワーク3が図示
しない駆動源により平面方向及び上下方向に移動する排
出取出し装置の吸着ノズル17により取出され、収納装
置であるトレイ18上に収納される。
At the final discharging station IV, the work 3 on the carrying path 6 on which the semiconductor element is mounted is taken out by a suction nozzle 17 of a discharging and taking-out device which moves in a plane direction and a vertical direction by a driving source (not shown), It is stored on the tray 18, which is a storage device.

【0024】以上のように、供給ステーションIで供給
された搬送路6上の前記ワーク3を搬送装置2により順
次1ピッチずつ間欠送りしながら、各作業、即ちワーク
3上にワイヤはんだを塗布したり、該ワーク3上に半導
体素子23を装着したり、該ワーク3を搬送路6上から
取出して収納したりするものである。
As described above, each work, that is, the wire solder is applied onto the work 3 while the work 3 on the transfer path 6 supplied at the supply station I is intermittently fed by the transfer device 2 one pitch at a time. Alternatively, the semiconductor element 23 is mounted on the work 3, or the work 3 is taken out from the transport path 6 and stored.

【0025】しかも、装置本体1Aには密閉空間4を形
成して、前述したようなワーク供給、ワイヤはんだ塗
布、半導体素子の装着、ワーク取出し作業を行なうとき
のみ、前記シリンダー12によりシャッター13を移動
させて開口11を開くようにするため、酸化防止・還元
雰囲気を損なうことなく、各種の作業を行なうことがで
きる。
Moreover, the shutter 13 is moved by the cylinder 12 only when the work space supply, wire solder coating, semiconductor element mounting, and work removal work are performed by forming the closed space 4 in the apparatus body 1A. Since the opening 11 is opened by doing so, various operations can be performed without impairing the oxidation preventing / reducing atmosphere.

【0026】以上本発明の実施態様について説明した
が、上述の説明に基づいて当業者にとって種々の代替
例、修正又は変形が可能であり、本発明はその趣旨を逸
脱しない範囲で前述の種々の代替例、修正又は変形を包
含するものである。
Although the embodiments of the present invention have been described above, various alternatives, modifications, and variations can be made by those skilled in the art based on the above description, and the present invention includes various modifications described above without departing from the spirit of the invention. It is intended to cover alternatives, modifications or variations.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上のように本発明は、半導体供給装置
が加熱体の下方に移動しても、冷却媒体が流される媒体
通路空間を有する遮熱体により半導体素子は加熱体から
の熱を遮熱するので、酸化が防止され、また前記遮熱体
の遮熱板によっても前記半導体供給装置の半導体素子方
向への熱も遮熱するので、酸化が確実に防止される。更
に、前述したように遮熱できるので、前記加熱体と前記
半導体供給装置との間隔を狭くとることができ、装置装
置の占有スペースも縮小することができる。
As described above, according to the present invention, even if the semiconductor supply device moves below the heating body, the semiconductor element can receive the heat from the heating body by the heat shield having the medium passage space through which the cooling medium flows. Since the heat is shielded, the oxidation is prevented, and since the heat shield plate of the heat shield also shields the heat toward the semiconductor element of the semiconductor supply device, the oxidation is surely prevented. Further, since the heat can be shielded as described above, the space between the heating body and the semiconductor supply device can be narrowed and the space occupied by the device can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】装着装置の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a mounting device.

【図2】装着ステーションIIIの縦断面図である。FIG. 2 is a vertical sectional view of a mounting station III.

【図3】図3ははんだ塗布ステーションIIの縦断側面
図を示す。
FIG. 3 shows a vertical side view of a solder application station II.

【図4】半導体供給装置の機構を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a mechanism of a semiconductor supply device.

【図5】エアーカーテン装置の搬送路と直交する面での
断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a surface of the air curtain device that is orthogonal to the transport path.

【図6】装着装置の要部正面図である。FIG. 6 is a front view of a main part of the mounting device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体素子の装着装置 1A 装置本体 2 搬送装置 3 ワーク 4 密閉空間 6 搬送路 20 半導体供給装置 23 半導体素子 61 ヒータブロック(加熱体) 63 遮熱体 64 冷却媒体通路空間 65 遮熱板 1 Semiconductor device mounting device 1A device body 2 Conveyor 3 work 4 closed space 6 transport paths 20 Semiconductor supply equipment 23 Semiconductor element 61 Heater block (heating body) 63 Heat shield 64 Coolant passage space 65 heat shield

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡本 好輝 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 Fターム(参考) 5F047 FA51 FA52    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Yoshiteru Okamoto             2-5-3 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Prefecture             Within Yo Denki Co., Ltd. F-term (reference) 5F047 FA51 FA52

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 搬送装置により間欠送りされるヒートシ
ンクやセラミック基板等のワークが供給装置により供給
ステーションで搬送路上に供給され、はんだ塗布ステー
ションで前記ワーク上にはんだ塗布装置によりはんだが
塗布され、装着ステーションで装着装置により半導体供
給装置から取出された半導体素子が前記ワーク上にはん
だを介して装着され、排出ステーションで排出取出し装
置により前記半導体素子が装着されたワークが取出され
る半導体素子の装着装置であって、前記半導体供給装置
が前記搬送路上の前記ワークを加熱するための加熱体の
下方に移動可能とし、前記加熱体の下方に移動した前記
半導体供給装置と前記加熱体との間に冷却媒体が流され
る媒体通路空間を有する遮熱体を設けたことを特徴とす
る半導体素子の装着装置。
1. A work such as a heat sink or a ceramic substrate which is intermittently fed by a carrying device is fed by a feeding device onto a feeding path at a feeding station, and solder is applied on the work by a solder applying device at a solder applying station and mounted. A semiconductor device mounting device in which a semiconductor device taken out from a semiconductor supply device by a mounting device in a station is mounted on the work through solder, and a work in which the semiconductor device is mounted is taken out by a discharge / eject device in a discharge station. Where the semiconductor supply device is movable below a heating body for heating the work on the transfer path, and cooling is performed between the semiconductor supply device and the heating body moved below the heating body. Mounting of a semiconductor element, characterized in that a heat shield having a medium passage space through which a medium flows is provided. apparatus.
【請求項2】 前記遮熱体は、前記半導体供給装置寄り
の前記加熱体の側方に空間を存して配設される遮熱板を
有していることを特徴とする請求項1に記載の半導体素
子の装着装置。
2. The heat shield comprises a heat shield plate which is disposed laterally of the heating body near the semiconductor supply device with a space therebetween. A mounting device for a semiconductor element as described above.
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