JP2006186296A - Supporting frame, cleaning and drying apparatus, and cutting machine for workpiece - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning and drying apparatus for a workpiece cleaning and drying uniformly all over the workpiece. <P>SOLUTION: The apparatus comprises: a workpiece transporting mechanism which transports a cut workpiece supporting frame 2 with changing the position of the frame from horizontal position to vertical position; and a cleaning and drying mechanism which washes and dries the workpiece W as fixing the frame 2 in the vertical position and moving a cleaning nozzle 29 and a drying nozzle 30 after closing a cleaning and drying chamber 16, where the workpiece supporting frame 2 is placed by the transporting mechanism. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、枠体に粘着テープを貼り付けることによりワークを粘着支持するワーク支持枠体、粘着テープに粘着支持されたままX−Y方向に切断されるワークの洗浄乾燥を行うワーク洗浄乾燥装置及び切断装置に関する。   The present invention relates to a work support frame for adhering and supporting a work by attaching an adhesive tape to the frame, and a work washing and drying device for performing washing and drying of a work cut in the XY direction while being adhering and supported by the adhesive tape. And a cutting device.

近年、半導体装置の小型化が進みCSP(Chip・Size・Package又はChip・Scale・Package)タイプの半導体装置に代表されるように、半導体チップが基板の一方の面にマトリクス状に搭載され、多数個取りのできるワークが用いられる。このワークは、チップ搭載面側が一括して樹脂封止され、樹脂封止後切断装置により半導体チップ毎に個片になるように切断される。切断後のワークは、ワークに付着する切屑、粉塵などが洗浄により除去され乾燥されて、切断された半導体装置が個々に回収されるようになっている。   In recent years, semiconductor devices have been miniaturized, and semiconductor chips are mounted in a matrix on one surface of a substrate, as represented by CSP (Chip / Size / Package or Chip / Scale / Package) type semiconductor devices. Workpieces that can be picked up are used. This workpiece is resin-sealed on the chip mounting surface side in a lump, and is cut into individual pieces for each semiconductor chip by a cutting apparatus after resin sealing. In the cut workpiece, chips, dust and the like adhering to the workpiece are removed by washing and dried, and the cut semiconductor devices are individually collected.

図10において、ワークWはリング状の支持枠体101に粘着テープ(例えばUVテープ)102がリング孔103を閉止するように貼着した当該粘着テープ102に粘着支持される。このワークWを粘着支持した支持枠体101は切断部へ移送されて、X−Y方向に切断される。ワークは、洗浄乾燥後、粘着テープにUV光を照射することによりワークを剥離し易くしてから回収される。この支持枠体101としては、例えば直径8インチの半導体ウエハに対応する最大外径276mmのリングフレームが用いられている。   In FIG. 10, the workpiece W is adhesively supported by the adhesive tape 102 that is adhered to the ring-shaped support frame 101 so that the adhesive tape (for example, UV tape) 102 closes the ring hole 103. The support frame body 101 that supports and supports the workpiece W is transferred to the cutting unit and cut in the XY directions. After washing and drying, the work is collected after the work is easily peeled off by irradiating the adhesive tape with UV light. As the support frame 101, for example, a ring frame having a maximum outer diameter of 276 mm corresponding to a semiconductor wafer having a diameter of 8 inches is used.

切断装置の構成は、カセットに収納されたワークを粘着支持する支持枠体をチャックハンドなどにより取り出してY方向に移動可能なチャックテーブルに吸着保持させる。チャックテーブルは支持枠体をチャックしたまま切断部に移動し、切断ブレードによりワークがX−Y方向に切断される。切断後の支持枠体を載せたチャックテーブルは洗浄乾燥部へ移動してテーブルを回転させながら洗浄液を噴射して洗浄乾燥させた後、チャックハンドなどにより取り出してUV照射部へ搬入するようになっている(特許文献1参照)。
また、切断後のワークの洗浄乾燥装置は、ワークをチャックテーブルに吸着したまま回転させて、ワークの上方に揺動可能に設けられたノズルより洗浄液を噴射して洗浄し乾燥する装置が提案されている(特許文献2参照)。
特開平2003−203887号公報 特開平11−214333号公報
In the configuration of the cutting device, a support frame body that adheres and supports a work housed in a cassette is taken out by a chuck hand or the like, and is sucked and held on a chuck table that can move in the Y direction. The chuck table moves to the cutting portion while the support frame is chucked, and the workpiece is cut in the XY direction by the cutting blade. The chuck table on which the cut support frame is placed moves to the cleaning / drying unit, sprays the cleaning liquid while rotating the table, and then cleans and dries it. Then, the chuck table is taken out by a chuck hand and carried into the UV irradiation unit. (See Patent Document 1).
In addition, a device for cleaning and drying the workpiece after cutting has been proposed in which the workpiece is rotated while adsorbed to the chuck table, and a cleaning liquid is sprayed from a nozzle provided so as to be swingable above the workpiece to be cleaned and dried. (See Patent Document 2).
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-203887 JP 11-214333 A

図10におけるリング状の支持枠体101に矩形状ワーク(樹脂基板)を粘着支持して半導体装置を多数個取りする場合、例えば直径8インチ対応(最大外径276mm)の場合、最大でも幅75mm長さ210mmのワークサイズまでしか対応できないという課題がある。また、粘着テープは比較的高価であり、リング孔103全面を塞ぐように支持枠体101に貼着されるため、ワークWの粘着支持に寄与しない無駄な面積が大きく、製造コストが嵩むという課題もある。   When a large number of semiconductor devices are obtained by adhering and supporting a rectangular workpiece (resin substrate) on the ring-shaped support frame 101 in FIG. 10, for example, in the case of 8 inch diameter (maximum outer diameter 276 mm), the width is 75 mm at the maximum. There is a problem that only a workpiece size of 210 mm in length can be handled. Moreover, since the adhesive tape is relatively expensive and is attached to the support frame 101 so as to block the entire ring hole 103, there is a large wasteful area that does not contribute to the adhesive support of the workpiece W, and the manufacturing cost increases. There is also.

また、洗浄乾燥部においてはワークを高速回転させながら、洗浄液を噴出するようになっているが、ワークの回転中心側と周縁部では線速度が異なるため、洗浄にむらが生じ易いという課題がある。
更に切断装置は、切断部と洗浄乾燥部とが平面的にレイアウトされるため、設置面積が大きく、装置が大型になり易い。また、ワークの搬送路が長くなるため工程間のサイクルタイムが長くなり生産性が低下する。
Further, in the cleaning / drying unit, the cleaning liquid is ejected while rotating the workpiece at a high speed. However, since the linear velocity is different between the rotation center side and the peripheral portion of the workpiece, there is a problem that uneven cleaning is likely to occur. .
Further, since the cutting device and the cleaning / drying unit are laid out in a planar manner, the cutting device has a large installation area and the device tends to be large. In addition, since the workpiece conveyance path becomes longer, the cycle time between the processes becomes longer and the productivity is lowered.

本発明は上記従来技術の課題を解決し、第1の目的は支持枠体の外形サイズを従来の大きさのまま大判の矩形状ワークを支持することができ、粘着テープの無駄を省くことができるワーク支持枠体を提供すること、第2の目的はワーク全面にわたって均一に洗浄乾燥が行えるワーク洗浄乾燥装置を提供すること、第3の目的は、ワークの洗浄乾燥に要する設置面積を減らして小型化を促進し、切断工程と洗浄乾燥工程が効率よく行える切断装置を提供することにある。   The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and a first object is to support a large rectangular work while maintaining the outer size of the support frame as the conventional size, thereby eliminating the waste of adhesive tape. The second object is to provide a workpiece cleaning / drying apparatus that can perform uniform cleaning and drying over the entire surface of the workpiece, and the third object is to reduce the installation area required for cleaning and drying the workpiece. It is an object of the present invention to provide a cutting device that facilitates downsizing and can efficiently perform a cutting process and a washing and drying process.

本発明は上記目的を達成するため、次の構成を備える。
即ち、リング状の枠体に粘着テープを貼り付けることによりワークを粘着支持するワーク支持枠体において、矩形状に形成された枠体の対角線方向に沿って矩形孔が形成され、該矩形孔を囲む仕切り枠に沿って粘着テープが粘着されることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention comprises the following arrangement.
That is, in a work support frame that adheres and supports a work by attaching an adhesive tape to a ring-shaped frame, a rectangular hole is formed along the diagonal direction of the rectangular frame, and the rectangular hole The adhesive tape is adhered along the surrounding partition frame.

また、ワーク支持枠体に粘着した粘着テープに粘着支持されたまま切断されるワークの洗浄乾燥を行うワーク洗浄乾燥装置において、切断後のワーク支持枠体を水平姿勢から垂直姿勢に変えて洗浄乾燥室へ搬入搬出するワーク移送機構と、ワーク移送機構によりワーク支持枠体が収納された洗浄乾燥室を閉止して、当該ワーク支持枠体を垂直姿勢で固定したまま洗浄乾燥ノズルを移動しながらワークの洗浄乾燥を行う洗浄乾燥機構を具備したことを特徴とする。
ワーク移送機構は、ワーク切断後のワーク支持枠体を水平姿勢で位置決めしたまま垂直姿勢へ姿勢変更可能な第1のガイドレールと、垂直姿勢の第1のガイドレールからワーク支持枠体を垂直姿勢のまま洗浄乾燥室内へ案内及び保持する第2のガイドレールと、垂直姿勢の第1のガイドレールから第2のガイドレールへワーク支持枠体の下端を受けたまま移動するガイドヘッドを具備することを特徴とする。
また、第1のガイドレールは、ワーク支持枠体を水平姿勢で載置可能な第1の位置と、ワーク支持枠体を両側から挟持して位置決めする第2の位置と、ワーク支持枠体の平面部をガイドしつつ長手方向への移動を許容する第3の位置へ開閉移動することを特徴とする。
更に、ガイドヘッドは、洗浄ノズル及び乾燥ノズルと一体に設けられていることを特徴とする。
また、第1のガイドレールが水平姿勢から垂直姿勢に姿勢変更する際に、閉止された洗浄乾燥室の開閉扉を開放して第1のガイドレールと第2のガイドレールが連通し、第1のガイドレールが水平姿勢に戻ると開閉扉を閉止することを特徴とする。
第2のガイドレールは断面コ字状に形成され、垂直姿勢でワーク支持枠体の自重による移動を阻止する係止部が形成されていることを特徴とする。
洗浄乾燥機構は、洗浄乾燥室内で第2のガイドレールに垂直姿勢のままガイドされたワーク支持枠体を、第2のガイドレールごと移動させる駆動源と、ワーク貼付け面とは反対側の粘着テープ面を吸着保持する吸着ヘッドと、吸着ヘッドに吸着保持されたワークに対向させて垂直方向へ移動しながら洗浄液を噴射して洗浄する洗浄ノズルと、エアーブローにより乾燥する乾燥ノズルを備えたことを特徴とする。
また、洗浄乾燥室内には、洗浄乾燥後に室外へ搬出されるワークの両面を乾燥するためのエア吹出し部が開閉扉の近傍に設けられていることを特徴とする。
Also, in a workpiece cleaning and drying device that performs cleaning and drying of workpieces that are to be cut while being adhesively supported by an adhesive tape that is adhered to the workpiece support frame, the workpiece support frame after cutting is changed from a horizontal posture to a vertical posture for cleaning and drying. The workpiece transfer mechanism for loading and unloading into the chamber and the cleaning / drying chamber in which the workpiece support frame is stored by the workpiece transfer mechanism are closed, and the workpiece is moved while the cleaning / drying nozzle is moved while the workpiece support frame is fixed in a vertical posture. And a cleaning / drying mechanism for performing the cleaning / drying.
The workpiece transfer mechanism includes a first guide rail capable of changing a posture to a vertical posture while positioning the workpiece support frame after the workpiece is cut in a horizontal posture, and a vertical posture of the workpiece support frame from the first guide rail in the vertical posture. A second guide rail that guides and holds the cleaning and drying chamber as it is, and a guide head that moves from the first guide rail in the vertical posture to the second guide rail while receiving the lower end of the work support frame. It is characterized by.
The first guide rail includes a first position where the work support frame can be placed in a horizontal position, a second position where the work support frame is sandwiched and positioned from both sides, and the work support frame. It is characterized by opening and closing to a third position that allows movement in the longitudinal direction while guiding the flat surface portion.
Further, the guide head is provided integrally with the cleaning nozzle and the drying nozzle.
In addition, when the first guide rail changes its posture from the horizontal posture to the vertical posture, the first and second guide rails communicate with each other by opening the open / close door of the closed cleaning / drying chamber. The door is closed when the guide rail returns to a horizontal position.
The second guide rail is formed in a U-shaped cross section, and is formed with a locking portion that prevents the workpiece support frame body from moving due to its own weight in a vertical posture.
The cleaning / drying mechanism includes a drive source that moves the work support frame guided in a vertical position on the second guide rail in the cleaning / drying chamber together with the second guide rail, and an adhesive tape on the side opposite to the work pasting surface. It has a suction head that sucks and holds the surface, a cleaning nozzle that sprays and cleans the cleaning liquid while moving in the vertical direction facing the work held by the suction head, and a drying nozzle that dries by air blow Features.
In the cleaning / drying chamber, an air blowing portion for drying both surfaces of the work carried out after the cleaning / drying is provided in the vicinity of the open / close door.

切断装置においては、ワーク支持枠体に貼着した粘着テープにワークが粘着支持された当該ワーク支持枠体を収納するワーク供給部と、ワーク供給部から供給されたワーク支持枠体を回転テーブルに固定したままワークを切断する切断部と、切断後のワーク支持枠体に支持されたワークを洗浄乾燥する請求項2乃至請求項9のいずれか1項に記載のワーク洗浄乾燥装置を備え、ワーク供給部から供給されるワーク支持枠体が切断部へ搬送されて切断が行われ、ワーク洗浄乾燥装置による洗浄乾燥後のワーク支持枠体が再度ワーク供給部へ収納されることを特徴とする。
また、ワーク供給部から第1のガイドレールへ引き出されたワーク支持枠体を保持し回転テーブルへ搬送し、切断後のワーク支持枠体を回転テーブルから第1のガイドレールへ搬送する搬送手段を複数備え、第1のガイドレールからワーク支持枠体を回転テーブルへ搬送する動作と、回転テーブルから切断後のワーク支持枠体を第1のガイドレールへ搬送する動作を並行することを特徴とする。
また、ワーク支持枠体を保持する第1、第2の搬送手段が、装置上部に併設された第1、第2の搬送レールに沿って第1のガイドレールと回転テーブルとの間を各々往復動可能に設けられることを特徴とする。
In the cutting device, the work supply unit that stores the work support frame body in which the work is adhesively supported on the adhesive tape attached to the work support frame body, and the work support frame body supplied from the work supply unit to the rotary table. A work cleaning / drying device according to any one of claims 2 to 9, wherein the work is supported by a cutting part that cuts the work while being fixed, and the work supported by the work support frame after cutting. The workpiece support frame supplied from the supply unit is transported to the cutting unit to be cut, and the workpiece support frame after cleaning and drying by the workpiece cleaning / drying apparatus is stored in the workpiece supply unit again.
Also, a conveying means for holding the workpiece support frame drawn from the workpiece supply unit to the first guide rail and conveying it to the rotary table, and conveying the cut workpiece support frame from the rotary table to the first guide rail. It is provided with two or more, The operation which conveys a work support frame from a 1st guide rail to a turntable, and the operation which conveys the work support frame after cutting from a turntable to a 1st guide rail are characterized by being parallel. .
The first and second transport means for holding the work support frame reciprocate between the first guide rail and the rotary table along the first and second transport rails provided in the upper part of the apparatus. It is provided to be movable.

本発明に係るワーク支持枠体を用いれば、矩形状に形成された枠体の対角線方向に沿って矩形孔が形成されるので、枠体の外径を大きくすることなく従来に比べてワークの長さサイズを大きなものまで支持することができ、しかも矩形孔を囲む枠体に部分的にテープ粘着面が形成されるため高価な粘着テープの無駄を抑えて生産コストを低減することができる。例えば、最大外径276mmの矩形状枠体においては、幅75mm長さ210mmから幅75mm長さ250mmまでのワークを粘着支持することができ、更に多数個取りが可能となる。   If the workpiece support frame according to the present invention is used, a rectangular hole is formed along the diagonal direction of the rectangular frame, so that the workpiece can be compared with the conventional one without increasing the outer diameter of the frame. Even a large size can be supported, and a tape adhesive surface is partially formed on the frame surrounding the rectangular hole, so that waste of expensive adhesive tape can be suppressed and production cost can be reduced. For example, in a rectangular frame having a maximum outer diameter of 276 mm, a workpiece having a width of 75 mm and a length of 210 mm to a width of 75 mm and a length of 250 mm can be supported by adhesion, and a large number of pieces can be obtained.

また、ワーク洗浄乾燥装置においては、ワーク移送機構がワーク切断後のワーク支持枠体を水平姿勢から垂直姿勢に変えて洗浄乾燥室へ搬入し、ワーク支持枠体が収納された洗浄乾燥室を閉止して、当該ワーク支持枠体を垂直姿勢で固定したまま洗浄乾燥ノズルを移動しながらワークの洗浄乾燥を行うので、ワークに付着した粉塵や洗浄液が自重により落下しやすく、ノズルの移動によりワーク全面にわたって均一に洗浄乾燥が行える。また、ノズルの移動速度を無段階に調節することで、ワークの汚れの度合いに応じた洗浄乾燥が省スペースで行える。また、洗浄液を吹き付ける量、場所、タイミングを状況に応じて制御することができる。
垂直姿勢の第1のガイドレールから第2のガイドレールへワーク支持枠体の下端をガイドヘッドが受けたまま移動するだけで洗浄乾燥室へワークを搬入でき、ガイドヘッドにより押し上げるだけで洗浄乾燥室からワークを搬出できるので、洗浄乾燥室への搬入搬出機構が簡略になる。また、上下方向に移動できるガイドヘッドが洗浄ノズル及び乾燥ノズルと一体に設けられ多機能化することにより、省スペースで洗浄乾燥機構及び搬入搬出機構を兼用して小型化を促進できる。
第1のガイドレールが水平姿勢と垂直姿勢とで姿勢変更する際に、閉止された洗浄乾燥室の開閉扉を開閉させるので、開閉扉の開閉機構を別途設ける必要がなく部品点数を減らすことができる。また、洗浄乾燥室がワーク搬入搬出時のみに開閉するので、洗浄液が漏れ出すおそれはないため、洗浄乾燥中に次のワークの切断動作を並行することができる。
Also, in the workpiece cleaning and drying device, the workpiece transfer mechanism changes the workpiece support frame after cutting the workpiece from the horizontal posture to the vertical posture and carries it into the cleaning and drying chamber, and closes the cleaning and drying chamber in which the workpiece support frame is stored. Since the workpiece is washed and dried while moving the washing and drying nozzle while the workpiece support frame is fixed in a vertical posture, dust and washing liquid adhering to the workpiece can easily fall due to its own weight. Can be washed and dried uniformly. Further, by adjusting the nozzle moving speed steplessly, cleaning and drying according to the degree of dirt on the workpiece can be performed in a small space. Further, the amount, location, and timing of spraying the cleaning liquid can be controlled according to the situation.
The workpiece can be carried into the washing / drying chamber simply by moving the lower end of the work support frame from the first guide rail in the vertical posture to the second guide rail while the guide head is received, and the washing / drying chamber can be simply pushed up by the guide head. Since the workpiece can be carried out from the machine, the carrying-in / out mechanism to the cleaning / drying chamber is simplified. In addition, since the guide head that can move in the vertical direction is provided integrally with the cleaning nozzle and the drying nozzle and is multi-functional, it is possible to promote downsizing in a space-saving manner by using both the cleaning and drying mechanism and the carry-in / out mechanism.
When the first guide rail changes its posture between the horizontal posture and the vertical posture, the open / close door of the closed cleaning / drying chamber is opened / closed, so that it is not necessary to separately provide an open / close mechanism for the open / close door, thereby reducing the number of parts. it can. In addition, since the cleaning / drying chamber opens and closes only when the work is carried in and out, there is no risk of the cleaning liquid leaking out, so that the cutting operation of the next work can be performed in parallel during the cleaning / drying.

切断装置においては、ワークの洗浄乾燥を垂直姿勢で行うことで、ワーク搬送路の下側に洗浄乾燥装置を配置できるので、設置面積を減らして小型化を促進できる。第1の搬送手段が第1のガイドレールからワーク支持枠体を回転テーブルへ搬送する動作と、第2の搬送手段が回転テーブルから切断後のワーク支持枠体を第1のガイドレールへ搬送する動作を並行することで、切断工程と洗浄乾燥工程が効率よく行える。
また、ワーク支持枠体を保持する第1、第2の搬送手段が、装置上部に並設された第1、第2の搬送レールに沿って第1のガイドレールと回転テーブルとの間を各々往復動可能に設けられるので、第1、第2の搬送装置を所定位置へ退避させることで装置前面から切断部までの距離が短く、作業スペースが十分確保できるため、切断ブレードを交換するなどのメンテナンスを行う作業がし易くなる。
In the cutting device, since the cleaning and drying device can be arranged below the workpiece conveyance path by performing the cleaning and drying of the workpiece in a vertical posture, the installation area can be reduced and the miniaturization can be promoted. The first conveying means conveys the workpiece support frame from the first guide rail to the rotary table, and the second conveying means conveys the workpiece support frame after cutting from the rotary table to the first guide rail. By performing the operations in parallel, the cutting process and the cleaning and drying process can be performed efficiently.
In addition, the first and second transfer means for holding the work support frame are respectively provided between the first guide rail and the rotary table along the first and second transfer rails arranged in parallel on the upper part of the apparatus. Since it is provided so as to be able to reciprocate, the distance from the front of the device to the cutting part is short by retracting the first and second transport devices to a predetermined position, and a sufficient working space can be secured. The maintenance work becomes easier.

以下、本発明に係るワーク支持枠体、ワーク洗浄乾燥装置及び切断装置の好適な実施の形態について添付図面と共に詳述する。本実施例では、半導体チップが基板の一方の面にマトリクス状に搭載され、樹脂封止された多数個取りできるワークが用いられる。
先ず、切断装置の概略構成について、図1を参照して説明する。
図1において、ワーク供給部1には、ワーク支持枠体2を複数収納する供給マガジン3が公知のエレベータ機構4により昇降可能に設けられている。ワーク支持枠体2には粘着テープ(例えばUVテープ)が矩形孔を閉止するように貼着した当該粘着テープにワークWが粘着支持されている。
Hereinafter, preferred embodiments of a workpiece support frame, a workpiece cleaning / drying device, and a cutting device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In this embodiment, a semiconductor chip is mounted on one surface of a substrate in a matrix and a workpiece that can be taken in large numbers and is resin-sealed is used.
First, a schematic configuration of the cutting device will be described with reference to FIG.
In FIG. 1, a workpiece supply unit 1 is provided with a supply magazine 3 for storing a plurality of workpiece support frames 2 so as to be moved up and down by a known elevator mechanism 4. The workpiece W is adhesively supported on the adhesive tape that is adhered to the workpiece support frame 2 so that the adhesive tape (for example, UV tape) closes the rectangular hole.

図1において、ワーク供給部1からX軸方向へ取り出され取出ステージPへ搬送されたワーク支持枠体2は、後述する第1のガイドレール17によって位置決めされる。ワーク支持枠体2は、第1の搬送装置41によって取出ステージPから回転テーブル5へ搬送されて吸着固定される。回転テーブル5は多孔質円板材が用いられ、エア吸引によりワーク支持枠体2を吸着保持するようになっている。この回転テーブル5は吸着位置Qと切断位置Rとの間をY軸方向へ往復動するようになっている。切断部6はワーク支持枠体2に粘着支持されたワークWを切断ブレード7a、7bにより、X−Y方向に切断する。切断ブレード7a、7bはスピンドル部8a、8bにより回転駆動される。これらは、移動体9a、9bに各々支持され、移動レール10に沿ってX軸方向へ移動するようになっている。移動体9a、9bには図示しないカメラが各々搭載されており、移動レール10に沿って移動してワークWの基準マークを読み取って切断ブレード7a、7bとの位置合わせを行ってから切断を開始する。切断ブレード7a、7bはY軸方向に沿って往復動し、回転テーブル5を90度回転させて切断することにより、ワークWをX−Y方向に切断する。   In FIG. 1, the work support frame 2 taken out from the work supply unit 1 in the X-axis direction and transported to the take-out stage P is positioned by a first guide rail 17 described later. The work support frame 2 is conveyed from the take-out stage P to the rotary table 5 by the first conveying device 41 and is fixed by suction. The rotary table 5 is made of a porous disk material, and holds the work support frame 2 by air suction. The rotary table 5 reciprocates in the Y-axis direction between the suction position Q and the cutting position R. The cutting unit 6 cuts the workpiece W that is adhesively supported by the workpiece support frame 2 in the XY direction by the cutting blades 7a and 7b. The cutting blades 7a and 7b are rotationally driven by the spindle portions 8a and 8b. These are respectively supported by the moving bodies 9a and 9b, and move along the moving rail 10 in the X-axis direction. Cameras (not shown) are mounted on the moving bodies 9a and 9b, respectively, move along the moving rail 10, read the reference mark of the workpiece W, and after aligning with the cutting blades 7a and 7b, start cutting. To do. The cutting blades 7a and 7b reciprocate along the Y-axis direction, rotate the rotary table 5 by 90 degrees, and cut the workpiece W in the XY direction.

図1の取出ステージPの下側にはワーク洗浄乾燥装置12が設けられている。ワーク洗浄乾燥装置12は、切断後のワーク支持枠体2に支持されたワークWを洗浄乾燥する。洗浄乾燥装置12が取出ステージPの下方に設けられることにより、ワーク供給部1から次に供給されるワーク支持枠体2が第1の搬送装置41により回転テーブル5を経て切断部6へ搬送されて切断が行われる間に、先に切断が終了したワーク支持枠体2は第2の搬送装置42によって吸着位置Qから取出ステージPにある第1のガイドレール17へ搬送され、ワークWの洗浄乾燥が並行される。洗浄乾燥後のワーク支持枠体2は、第1のガイドレール17上の取出ステージPから再度供給マガジン3へ収納される。
尚、切断動作と洗浄乾燥動作を並行することなく、ワーク供給部1からワーク支持枠体2を取出ステージPへ取出し、第1のガイドレール17による位置決め、ワーク支持枠体2を取出ステージPから吸着位置Qへ搬送、ワーク支持枠体2を回転テーブル5に吸着したまま切断位置Rへ移動、ワークWを切断、ワーク支持枠体2を吸着位置Qから取出ステージPへ搬送、ワーク洗浄乾燥装置12によるワークWの洗浄乾燥、ワーク支持枠体2のワーク供給部1への収納までの一連の作業を順次行うこともできる。
A workpiece cleaning / drying device 12 is provided below the take-out stage P in FIG. The workpiece cleaning / drying device 12 cleans and drys the workpiece W supported by the workpiece support frame 2 after cutting. By providing the cleaning / drying device 12 below the take-out stage P, the workpiece support frame 2 to be supplied next from the workpiece supply unit 1 is conveyed by the first conveyance device 41 to the cutting unit 6 via the rotary table 5. During the cutting, the workpiece support frame 2 that has been cut first is transferred from the suction position Q to the first guide rail 17 in the take-out stage P by the second transfer device 42, and the workpiece W is cleaned. Drying is performed in parallel. The workpiece support frame 2 after being washed and dried is stored in the supply magazine 3 again from the take-out stage P on the first guide rail 17.
Note that the workpiece support frame 2 is taken out from the workpiece supply unit 1 to the take-out stage P without paralleling the cutting operation and the cleaning / drying operation, positioning by the first guide rail 17, and the workpiece support frame 2 is taken out from the take-out stage P. Transport to the suction position Q, move the workpiece support frame 2 to the cutting position R while being attracted to the rotary table 5, cut the workpiece W, transport the workpiece support frame 2 from the suction position Q to the take-out stage P, and a workpiece cleaning and drying device A series of operations from cleaning and drying of the workpiece W by 12 and storage of the workpiece support frame 2 in the workpiece supply unit 1 can be sequentially performed.

次に、ワーク支持枠体2の構成について説明する。
本発明に係るワーク洗浄乾燥装置においては、図7及び図10に示すワーク支持枠体の他に各種サイズ又は様々な外形の支持枠を使用することができるが、以下では一例として図7を参照して説明する。
ワーク支持枠体2は、本実施形態においては、1辺の長さが276mmの矩形状の枠体が用いられる。この枠体矩形孔に粘着テープ(例えばUVテープ)13を貼り付けることによりワークWを粘着支持する。矩形状に形成された枠体の対角線方向に沿って矩形状の孔14aが形成されている。この矩形状の孔14aを囲む仕切り枠15に沿ってテープ粘着面が形成される。尚、仕切り枠15と外枠に囲まれた部分はダミー孔14bになっており枠体の軽量化が図られている。このように、矩形状枠体の対角線方向に沿って矩形孔14aを形成することで、ワーク支持枠体2の外形を大きくすることなく従来に比べて矩形状のワークWの長さサイズが大きなものまで支持することができる。例えば、最大外径276mmの矩形状枠体においては、幅75mm長さ210mmから、幅75mm長さ250mmまでのワークWを粘着支持することができ、更に多数個取りが可能となる。また、矩形孔14aを囲む仕切り枠15に沿って部分的にテープ貼付け面が形成されるため高価な粘着テープ13の無駄を抑えて生産コストを低減することができる。また、図7の支持枠体は方形であるため、後述する第2のガイドレール22に収納される際、図10の支持枠体(リングフレーム)に比べて第2のガイドレール22に接するガイド部が長く、安定してスライドガイドできること及び吸着ヘッド26への吸着も安定する利点がある。
Next, the configuration of the work support frame 2 will be described.
In the workpiece cleaning / drying apparatus according to the present invention, support frames of various sizes or various shapes can be used in addition to the workpiece support frame body shown in FIGS. 7 and 10, but in the following, refer to FIG. 7 as an example. To explain.
In the present embodiment, the work support frame 2 is a rectangular frame having a side length of 276 mm. By sticking an adhesive tape (for example, UV tape) 13 to this frame body rectangular hole, the workpiece W is adhesively supported. A rectangular hole 14a is formed along the diagonal direction of the rectangular frame. A tape adhesive surface is formed along the partition frame 15 surrounding the rectangular hole 14a. A portion surrounded by the partition frame 15 and the outer frame is a dummy hole 14b, so that the weight of the frame body is reduced. Thus, by forming the rectangular holes 14a along the diagonal direction of the rectangular frame body, the length size of the rectangular workpiece W is larger than before without increasing the outer shape of the workpiece support frame body 2. You can support anything. For example, in a rectangular frame having a maximum outer diameter of 276 mm, workpieces W having a width of 75 mm and a length of 210 mm to a width of 75 mm and a length of 250 mm can be adhered and supported, and a larger number can be obtained. Moreover, since a tape sticking surface is partially formed along the partition frame 15 surrounding the rectangular hole 14a, waste of the expensive adhesive tape 13 can be suppressed and production cost can be reduced. Further, since the support frame body of FIG. 7 is rectangular, when it is housed in a second guide rail 22 to be described later, the guide contacting the second guide rail 22 compared to the support frame body (ring frame) of FIG. There is an advantage that the portion is long and can be slidably guided and the suction to the suction head 26 is also stable.

次に、ワーク洗浄乾燥装置12の構成について、図2乃至図6を参照して説明する。
図2において、ワーク洗浄乾燥装置12には、切断後のワーク支持枠体2を水平姿勢から垂直姿勢に変えて洗浄乾燥室16へ搬入搬出するワーク移送機構が設けられている。また、ワーク支持枠体2が収納された洗浄乾燥室16を閉止して、当該ワーク支持枠体2を垂直姿勢で固定したまま洗浄ノズル及び乾燥ノズルを移動させてワークWの洗浄乾燥を行う洗浄乾燥機構を具備している。以下、これらの機構について具体的に説明する。
Next, the configuration of the workpiece cleaning / drying apparatus 12 will be described with reference to FIGS. 2 to 6.
In FIG. 2, the workpiece cleaning / drying device 12 is provided with a workpiece transfer mechanism that changes the workpiece support frame 2 after being cut from a horizontal posture to a vertical posture and carries it into and out of the cleaning / drying chamber 16. Further, the cleaning / drying chamber 16 in which the work support frame 2 is housed is closed, and the work W is cleaned and dried by moving the cleaning nozzle and the drying nozzle while the work support frame 2 is fixed in a vertical posture. A drying mechanism is provided. Hereinafter, these mechanisms will be described in detail.

先ず、ワーク移送機構の構成について説明する。
図4(a)は、取出ステージP部分の拡大図である(図1及び図2参照)。この取出ステージPには切断後のワーク支持枠体2が載置され、取出ステージPから洗浄乾燥後のワーク支持枠体2が供給マガジン3へ収納されるようになっている。第1のガイドレール17は、基台19上の両側に開閉可能に設けられる。第1のガイドレール17は、切断後のワーク支持枠体2を水平姿勢で位置決めしたまま回転軸20を中心に90度回転して垂直姿勢へ姿勢変更可能になっている。図2において、基台19には後述する回転用シリンダ(エアシリンダ)21のシリンダロッドが連繋しており、回転用シリンダ21を作動させると、第1のガイドレール17が基台19と共に90度回転して垂直姿勢へ姿勢変更するようになっている。第1のガイドレール17には、垂直姿勢時にワーク支持枠体2の落下を防ぐ係止部17aが設けられている。
First, the configuration of the workpiece transfer mechanism will be described.
Fig.4 (a) is an enlarged view of the extraction stage P part (refer FIG.1 and FIG.2). The workpiece support frame 2 after cutting is placed on the extraction stage P, and the workpiece support frame 2 after washing and drying is stored in the supply magazine 3 from the extraction stage P. The 1st guide rail 17 is provided in the both sides on the base 19 so that opening and closing is possible. The first guide rail 17 can be changed in posture to a vertical posture by rotating 90 degrees around the rotary shaft 20 while the workpiece support frame 2 after being cut is positioned in a horizontal posture. In FIG. 2, a cylinder rod of a rotation cylinder (air cylinder) 21, which will be described later, is connected to the base 19, and when the rotation cylinder 21 is operated, the first guide rail 17 is moved 90 degrees together with the base 19. The posture is changed to a vertical posture by rotating. The first guide rail 17 is provided with a locking portion 17a that prevents the workpiece support frame body 2 from falling when in a vertical posture.

また、第1のガイドレール17は、ワーク支持枠体2を水平姿勢で載置する第1の位置(図2及び図4(d)参照)と、ワーク支持枠体2を第1のガイドレール17により両側から挟持して位置決めする第2の位置(図4(b)参照)と、ワーク支持枠体2の平面部をガイドしつつ洗浄乾燥室方向への移動を許容する第3の位置(図4(c)参照)へ各々移動してレール幅を変更可能になっている。ワーク支持枠体2が回転テーブル5から取出ステージPへ移送される際、或いは取出ステージPから供給マガジン3へ収納される際には、第1のガイドレール17は第1の位置(図4(d)参照)にある。ワーク支持枠体2が基台19に載置されると、図示しない駆動源(モータなど)を作動させて、ワーク支持枠体2を第1のガイドレール17により両側から挟持してセンター基準で位置決めする(第2の位置:図4(b)参照)。また、第1のガイドレール17が水平姿勢から垂直姿勢へ回転しワーク支持枠体2を洗浄乾燥室16へ搬入する際には、図示しない駆動源を作動させて第2の位置(図4(b)参照)から第3の位置(図4(c)参照)へ移動させる。これにより、第1のガイドレール17に保持されたワーク支持枠体2が傾倒せずに平面部がガイドされたまま洗浄乾燥室16への移動が許容される。これにより、第1のガイドレール17からワーク支持枠体2が洗浄乾燥室16内に垂直姿勢で保持された第2のガイドレール22へ送り込まれる。第1のガイドレール17は基台19とで断面コ字状に形成されてワーク支持枠体2をガイドするようになっている。また、ワーク支持枠体2として従来のリング状のタイプを用いる場合には、図4(e)のように第1のガイドレール17は短くなるが、垂直姿勢時にワーク支持枠体2の落下を防ぐ係止部17aが同様に設けられる。   The first guide rail 17 includes a first position (see FIGS. 2 and 4D) where the work support frame 2 is placed in a horizontal posture, and the work support frame 2 as the first guide rail. A second position (see FIG. 4B) that is sandwiched and positioned by both sides by 17 and a third position that allows movement in the direction of the cleaning and drying chamber while guiding the flat portion of the work support frame 2 ( The rail width can be changed by moving each to FIG. 4 (c). When the work support frame 2 is transferred from the rotary table 5 to the take-out stage P or stored in the supply magazine 3 from the take-out stage P, the first guide rail 17 is moved to the first position (FIG. 4 ( d)). When the work support frame 2 is placed on the base 19, a drive source (such as a motor) (not shown) is operated, and the work support frame 2 is sandwiched from both sides by the first guide rail 17 on the basis of the center. Positioning is performed (second position: see FIG. 4B). When the first guide rail 17 is rotated from the horizontal posture to the vertical posture and the work support frame 2 is carried into the cleaning / drying chamber 16, a driving source (not shown) is operated to move to the second position (FIG. 4 ( b)) to a third position (see FIG. 4C). As a result, the workpiece support frame 2 held by the first guide rail 17 is allowed to move to the cleaning / drying chamber 16 while the plane portion is guided without tilting. As a result, the work support frame 2 is sent from the first guide rail 17 to the second guide rail 22 held in the cleaning / drying chamber 16 in a vertical posture. The first guide rail 17 is formed in a U-shaped cross section with the base 19 so as to guide the work support frame 2. When a conventional ring type is used as the work support frame 2, the first guide rail 17 is shortened as shown in FIG. 4 (e), but the work support frame 2 is dropped in a vertical posture. A locking portion 17a to prevent is provided in the same manner.

図2において、洗浄乾燥室16内には第1のガイドレール17からワーク支持枠体2を垂直姿勢のまま洗浄乾燥室16へ案内する第2のガイドレール22が設けられている。図5(a)において、断面コ字状の第2のガイドレール22は支持板24に支持されており、支持板24はシャフト25に連繋しており該シャフト25は図示しない吸着用シリンダのシリンダロッドに連結されている(図2参照)。吸着用シリンダを作動させると、ワーク支持枠体2は洗浄乾燥室16内に垂直方向に吸着面が設けられた吸着ヘッド26に向かって引き寄せられるようになっている。図5(a)において、第2のガイドレール22には垂直姿勢でワーク支持枠体2の自重による落下を阻止する枠体係止部27aが形成されている(図5(d)参照)。   In FIG. 2, a second guide rail 22 is provided in the cleaning / drying chamber 16 to guide the workpiece support frame 2 from the first guide rail 17 to the cleaning / drying chamber 16 in a vertical posture. 5A, the second guide rail 22 having a U-shaped cross section is supported by a support plate 24, and the support plate 24 is connected to a shaft 25. The shaft 25 is a cylinder of a suction cylinder (not shown). It is connected to the rod (see FIG. 2). When the suction cylinder is operated, the workpiece support frame 2 is drawn toward the suction head 26 provided with a suction surface in the cleaning / drying chamber 16 in the vertical direction. 5A, the second guide rail 22 is formed with a frame body locking portion 27a that prevents the workpiece support frame body 2 from dropping due to its own weight in a vertical posture (see FIG. 5D).

図5(b)において、吸着ヘッド26は第2のガイドレール22に案内されて搬入されたワーク支持枠体2を粘着テープ面側が吸着面26aへ押し当てられると、吸引孔26bからエア吸引を行ってワーク支持枠体2を垂直姿勢のまま吸着保持するようになっている。吸着面26aには粘着テープ13を例えば6箇所の吸引孔26bで吸引するようになっている。尚、吸着ヘッド26はワーク支持枠体2の変更によって交換可能であり、図5(c)においてワーク支持枠体2が仕切り枠15のないリング形状であれば吸引孔26bを環状に設けることも可能である。この場合、ワーク支持枠体2のワークWを粘着支持しないダミー孔14bにUVテープ以外の安価なテープを貼り付けておくことで、吸着ヘッド26を共用することも可能である。   In FIG. 5B, when the suction head 26 presses the work support frame 2 guided and carried by the second guide rail 22 against the suction surface 26a, the suction head 26 sucks air from the suction hole 26b. The workpiece support frame 2 is sucked and held in a vertical posture. The adhesive tape 13 is sucked to the suction surface 26a by, for example, six suction holes 26b. The suction head 26 can be replaced by changing the work support frame 2. If the work support frame 2 has a ring shape without the partition frame 15 in FIG. 5C, the suction hole 26b may be provided in an annular shape. Is possible. In this case, the suction head 26 can be shared by attaching an inexpensive tape other than the UV tape to the dummy hole 14b that does not support the work W of the work support frame 2 in an adhesive manner.

図2において、洗浄乾燥室16にはガイドヘッド28が上下方向に往復動可能に設けられている。ガイドヘッド28は、垂直姿勢のワーク支持枠体2の下端を受ける。ガイドヘッド28がワーク支持枠体2の下端を受けたまま第2のガイドレール22の下端へ移動することにより、ワーク支持枠体2を第2のガイドレール22へ受け渡される。ワーク支持枠体2は、第2のガイドレール22の枠体係止部27aへ係止するとそのまま保持される。また、ガイドヘッド28を第2のガイドレール22の上端へ移動することにより、逆の手順で第1のガイドレール17へ受け渡されるようになっている。   In FIG. 2, a guide head 28 is provided in the cleaning / drying chamber 16 so as to reciprocate in the vertical direction. The guide head 28 receives the lower end of the workpiece support frame 2 in a vertical posture. By moving the guide head 28 to the lower end of the second guide rail 22 while receiving the lower end of the work support frame 2, the work support frame 2 is transferred to the second guide rail 22. The workpiece support frame 2 is held as it is when locked to the frame locking portion 27a of the second guide rail 22. Further, by moving the guide head 28 to the upper end of the second guide rail 22, the guide head 28 is transferred to the first guide rail 17 in the reverse procedure.

図6において、ガイドヘッド28は、洗浄ノズル29及び乾燥ノズル30と一体に設けられている。洗浄ノズル29は水平方向に複数個設けられたノズル孔から洗浄液が高圧エアと共に霧状に噴出してワークWを洗浄するようになっている。また、乾燥ノズル30は水平方向にスリット孔が形成されており、該スリット孔から高圧エア又は温風が吹き出て洗浄後のワークWを乾燥するようになっている。これらのガイドヘッド28、洗浄ノズル29及び乾燥ノズル30を一体に備えた洗浄ヘッド31は、例えば無端状のベルトチェーン32に連繋している。ベルトチェーン32は上下に設けられたプーリ33間に架設されておりベルト駆動モータ34により回転する。ベルト駆動モータ34を正逆回転駆動することで、洗浄ヘッド31を上下に往復動させることができる。洗浄ヘッド31の移動速度は任意に(無段階に)設定でき、ワークWの汚れに応じた洗浄が可能である。尚、洗浄ヘッド31は、第2のガイドレール22がワーク支持枠体2と共に吸着ヘッド26に向かって引き寄せられて形成されるスペースを利用して往復動しながら洗浄乾燥が行えるようになっている。洗浄ヘッド31の乾燥ノズル30は、洗浄液が落下し易いよう斜め下向きに吹き出してもよい。また、洗浄ヘッド31の移動速度は、洗浄乾燥室16の上方から下方へ移動するときは、下方から上方へ移動するときよりはゆっくり移動するなど、様々な制御を行なってもよい。また、高圧エア及び洗浄液は高温にすると乾燥が早くなる。   In FIG. 6, the guide head 28 is provided integrally with the cleaning nozzle 29 and the drying nozzle 30. The cleaning nozzle 29 cleans the workpiece W by spraying a cleaning liquid together with high-pressure air in a mist form from a plurality of nozzle holes provided in the horizontal direction. Further, the drying nozzle 30 is formed with a slit hole in the horizontal direction, and high pressure air or warm air blows out from the slit hole to dry the workpiece W after cleaning. The cleaning head 31 integrally including the guide head 28, the cleaning nozzle 29, and the drying nozzle 30 is connected to an endless belt chain 32, for example. The belt chain 32 is installed between pulleys 33 provided on the upper and lower sides, and is rotated by a belt drive motor 34. The cleaning head 31 can be reciprocated up and down by driving the belt drive motor 34 forward and backward. The moving speed of the cleaning head 31 can be set arbitrarily (steplessly), and cleaning according to the contamination of the workpiece W is possible. The cleaning head 31 can be cleaned and dried while reciprocating using a space formed by the second guide rail 22 being drawn toward the suction head 26 together with the work support frame 2. . The drying nozzle 30 of the cleaning head 31 may blow off obliquely downward so that the cleaning liquid can easily fall. Further, the moving speed of the cleaning head 31 may be controlled in various ways, such as when moving from the upper side to the lower side of the cleaning / drying chamber 16 more slowly than when moving from the lower side to the upper side. Moreover, when the high-pressure air and the cleaning liquid are heated to a high temperature, drying is accelerated.

図2において、洗浄乾燥室16内で第2のガイドレール22に垂直姿勢のまま保持されたワーク支持枠体2を、当該第2のガイドレール22ごと吸着ヘッド26へ引き寄せて粘着テープ面側を吸着保持する。このワークWに対向させて洗浄ヘッド31が垂直方向へ移動しながら洗浄ノズル29から洗浄液を噴射して洗浄し、次いで乾燥ノズル30から高圧エア又は温風を吹き付けてワークWを乾燥する。   In FIG. 2, the work support frame 2 that is held in the vertical position on the second guide rail 22 in the cleaning / drying chamber 16 is drawn together with the second guide rail 22 to the suction head 26 so that the adhesive tape surface side is moved. Hold by adsorption. The cleaning head 31 is sprayed with cleaning liquid from the cleaning nozzle 29 while being moved in the vertical direction so as to face the work W, and then the high-pressure air or warm air is blown from the drying nozzle 30 to dry the work W.

また、洗浄乾燥室16の開閉扉35付近には、エア吹出し部36が複数対向して設けられている。エア吹出し部36は、洗浄乾燥後第2のガイドレール22から第1のガイドレール17へ搬出されるワーク支持枠体2の吸着面と洗浄面を再度乾燥するようになっている。また、開閉扉35は、バネ37の引っ張り力により常時洗浄乾燥室16を閉止している。基台19が水平姿勢から垂直姿勢に姿勢変更する際に、基台19の端部に設けられたローラ19aが開閉扉35の当接部38に当接してバネ37の引っ張り力に抗して押動することにより、洗浄乾燥室16を開放する。これにより、第1のガイドレール17と第2のガイドレール22とは垂直姿勢で連通可能となる。また、第1のガイドレール17が水平姿勢に戻ると、ローラ19aによる当接部38への押動が解除されるため、バネ37の引っ張り力により開閉扉35が閉止する。また、洗浄乾燥室16には、洗浄時の洗浄液を排出する排水口39及び洗浄時の湿気を含んだエアを排気する排気口40が設けられている。   A plurality of air blowing portions 36 are provided in the vicinity of the open / close door 35 of the cleaning / drying chamber 16 so as to face each other. The air blowing part 36 dries again the suction surface and the cleaning surface of the work support frame 2 that is transported from the second guide rail 22 to the first guide rail 17 after cleaning and drying. The open / close door 35 always closes the cleaning / drying chamber 16 by the pulling force of the spring 37. When the base 19 changes its posture from a horizontal posture to a vertical posture, the roller 19a provided at the end of the base 19 abuts against the abutting portion 38 of the open / close door 35 and resists the pulling force of the spring 37. By pushing, the cleaning / drying chamber 16 is opened. Thereby, the first guide rail 17 and the second guide rail 22 can communicate with each other in a vertical posture. Further, when the first guide rail 17 returns to the horizontal posture, the pushing force to the contact portion 38 by the roller 19 a is released, so that the opening / closing door 35 is closed by the pulling force of the spring 37. Further, the cleaning / drying chamber 16 is provided with a drain port 39 for discharging a cleaning liquid at the time of cleaning and an exhaust port 40 for exhausting air containing moisture at the time of cleaning.

次に、図2及び図3を参照して、ワーク支持枠体2の搬送系について説明する。
第1の搬送装置41(第1の搬送手段)は、供給マガジン3から基台19へ引き出されたワーク支持枠体2を保持し、第1の搬送レール43に沿って当該ワーク支持枠体2を回転テーブル5へ搬送する。また、第2の搬送装置42(第2の搬送手段)は切断後のワーク支持枠体2を保持し、第2の搬送レール44に沿って回転テーブル5から基台19へ搬送する。
第1、第2の搬送装置41、42としては、ワーク支持枠体2の上面を吸着する吸着ハンドを備えた搬送装置が用いられる。第1の搬送装置41が第1のガイドレール17からワーク支持枠体2を回転テーブル5へ搬送する動作と、第2の搬送装置42が回転テーブル5から切断後のワーク支持枠体2を基台19へ搬送する動作が並行する。図3において、第1、第2の搬送装置41、42は上下方向へ移動可能に設けられており、ワーク支持枠体2の搬送が逆向きに行われても干渉することはない。本実施形態においては、第1、第2の搬送装置41、42は交互に同じ動作を行う。第1の搬送レール43及び第2の搬送レール44を装置上部に並設することにより、第1、第2の搬送装置41、42を所定位置へ退避させることで装置前面から切断部6までの距離が短く、作業スペースを十分確保できるため、切断ブレード7a、7b(図1参照)を交換するなどのメンテナンスを行う作業がし易くなる。
Next, with reference to FIG.2 and FIG.3, the conveyance system of the workpiece | work support frame 2 is demonstrated.
The first transfer device 41 (first transfer means) holds the work support frame 2 pulled out from the supply magazine 3 to the base 19 and moves along the first transfer rail 43 with respect to the work support frame 2. Is conveyed to the rotary table 5. The second transport device 42 (second transport means) holds the cut work support frame 2 and transports it from the turntable 5 to the base 19 along the second transport rail 44.
As the first and second transfer devices 41 and 42, a transfer device including a suction hand that sucks the upper surface of the work support frame 2 is used. The operation of the first transport device 41 transporting the work support frame 2 from the first guide rail 17 to the rotary table 5, and the second transport device 42 based on the work support frame 2 cut from the rotary table 5. The operation of conveying to the table 19 is performed in parallel. In FIG. 3, the first and second transfer devices 41 and 42 are provided so as to be movable in the vertical direction, and will not interfere even if the work support frame 2 is transferred in the reverse direction. In the present embodiment, the first and second transfer apparatuses 41 and 42 alternately perform the same operation. By arranging the first transport rail 43 and the second transport rail 44 side by side in the upper part of the apparatus, the first and second transport apparatuses 41 and 42 are retracted to a predetermined position, so that the distance from the front of the apparatus to the cutting section 6 can be reduced. Since the distance is short and a sufficient work space can be secured, it is easy to perform maintenance work such as replacing the cutting blades 7a and 7b (see FIG. 1).

次に、ワーク洗浄乾燥装置12の洗浄乾燥動作について、ワーク搬入動作とワーク搬出動作に分けて説明する。先ず、図8A〜図8Hを参照して切断後のワーク搬入動作について説明する。図8Aにおいて、第2の搬送装置42が切断後のワーク支持枠体2を回転テーブル5から取出ステージP(基台19)へ移送する前に、チャックハンド18が供給マガジン3からワーク支持枠体2を把持して取出ステージP(基台19)へ取り出して載置する。このとき、第1のガイドレール17は図4(d)の状態にある。ワーク支持枠体2が基台19に載置されると、第1のガイドレール17は図4(b)のようにワーク支持枠体2を両側から挟み込んでセンター基準で位置決めを行う。次に、第1のガイドレール17は挟み込みを解除して図4(d)の状態に戻り、第1の搬送装置41が取出ステージP(基台19)から切断前のワーク支持枠体2を保持して回転テーブル5へ搬送する。   Next, the cleaning / drying operation of the workpiece cleaning / drying apparatus 12 will be described separately for a workpiece carry-in operation and a workpiece carry-out operation. First, the workpiece carrying-in operation after cutting will be described with reference to FIGS. 8A to 8H. In FIG. 8A, the chuck hand 18 moves from the supply magazine 3 to the work support frame before the second transport device 42 transfers the cut work support frame 2 from the rotary table 5 to the take-out stage P (base 19). 2 is gripped and taken out to the take-out stage P (base 19). At this time, the first guide rail 17 is in the state shown in FIG. When the workpiece support frame 2 is placed on the base 19, the first guide rail 17 positions the workpiece support frame 2 with reference to the center by sandwiching the workpiece support frame 2 from both sides as shown in FIG. 4B. Next, the first guide rail 17 releases the pinch and returns to the state of FIG. 4D, and the first transport device 41 moves the workpiece support frame 2 before cutting from the take-out stage P (base 19). It is held and conveyed to the rotary table 5.

次に、図8Bにおいて、第2の搬送装置42が切断後のワーク支持枠体2を取出ステージPへ搬送すると下降して基台19へ載置する。このとき、第1のガイドレール17は図4(d)の状態にある。第1のガイドレール17は、ワーク支持枠体2が基台19に載置されると、図4(b)のようにワーク支持枠体2を両側から挟み込んでセンター基準で位置決めする。   Next, in FIG. 8B, when the second transport device 42 transports the cut work support frame 2 to the take-out stage P, it is lowered and placed on the base 19. At this time, the first guide rail 17 is in the state shown in FIG. When the work support frame 2 is placed on the base 19, the first guide rail 17 sandwiches the work support frame 2 from both sides as shown in FIG.

次に、図8Cにおいて、回転用シリンダ21を作動させてシリンダロッドを矢印方向へ伸長させると基台19が回転軸20を中心に90度回転して水平姿勢から垂直姿勢へ姿勢変更する。このとき、ワーク支持枠体2は、第1のガイドレール17により挟持されているため(図4(b)参照)、自重により移動することはない。基台19の回転に伴ってローラ19aは洗浄乾燥室16の開閉扉35の当接部38に当接して押動するので、開閉扉35がバネ37の引っ張り力に抗して開放される。このとき、洗浄乾燥室16内では、洗浄ヘッド31が開口付近(上動した位置)にあり、ガイドヘッド28がワーク支持枠体2の真下で待機している。   Next, in FIG. 8C, when the cylinder 21 for rotation is operated and the cylinder rod is extended in the direction of the arrow, the base 19 rotates 90 degrees around the rotation shaft 20 to change the posture from the horizontal posture to the vertical posture. At this time, since the work support frame 2 is sandwiched between the first guide rails 17 (see FIG. 4B), it does not move due to its own weight. As the base 19 rotates, the roller 19 a contacts and pushes against the contact portion 38 of the opening / closing door 35 of the cleaning / drying chamber 16, so that the opening / closing door 35 is opened against the pulling force of the spring 37. At this time, in the cleaning / drying chamber 16, the cleaning head 31 is in the vicinity of the opening (position moved upward), and the guide head 28 stands by just below the workpiece support frame 2.

第1のガイドレール17が、図4(b)の状態から、図4(c)の状態へ両側に移動すると、ワーク支持枠体2が自重により洗浄乾燥室16へ開口から進入して下端部がガイドヘッド28に支持される。このとき、ガイドヘッド28は開閉扉35より上方へ移動させてガイドヘッド28とワーク支持枠体2の下端とのクリアランスを小さくすることも可能である。図8Dにおいて、洗浄ヘッド31が洗浄乾燥室16の下方へ移動すると、ワーク支持枠体2は第1のガイドレール17から第2のガイドレール22に両側をガイドされながら洗浄乾燥室16へ搬入される。そして、図8Eにおいて、洗浄ヘッド31が洗浄乾燥室16の下部へ移動しガイドヘッド28がワーク支持枠体2から離れても、ワーク支持枠体2は第2のガイドレール22の枠体係止部27aに係止して保持される(図5(a)参照)。   When the first guide rail 17 moves from the state shown in FIG. 4B to the state shown in FIG. 4C, the workpiece support frame 2 enters the cleaning / drying chamber 16 from its opening due to its own weight, and the lower end portion. Is supported by the guide head 28. At this time, the guide head 28 can be moved upward from the opening / closing door 35 to reduce the clearance between the guide head 28 and the lower end of the work support frame 2. In FIG. 8D, when the cleaning head 31 moves below the cleaning / drying chamber 16, the work support frame 2 is carried into the cleaning / drying chamber 16 while being guided from the first guide rail 17 to the second guide rail 22 on both sides. The 8E, even if the cleaning head 31 moves to the lower part of the cleaning / drying chamber 16 and the guide head 28 moves away from the work support frame 2, the work support frame 2 is locked to the frame of the second guide rail 22. It latches and is hold | maintained at the part 27a (refer Fig.5 (a)).

次に、図8Fにおいて、図示しない吸着用シリンダを作動させてシャフト25を矢印方向へ引き寄せることにより、支持板24を介して連繋する第2のガイドレール22も同方向に移動して吸着ヘッド26へ引き寄せられる。ワーク支持枠体2に貼り付けられた粘着テープ13のワーク粘着面と反対面側が吸着面26aに当接すると、吸引孔26bよりエア吸引を行い、粘着テープ13を介してワークWを吸着面26aに吸着保持する(図5(b)参照)。   Next, in FIG. 8F, the suction cylinder (not shown) is operated to pull the shaft 25 in the direction of the arrow, so that the second guide rail 22 connected via the support plate 24 also moves in the same direction, and the suction head 26. Be drawn to. When the surface opposite to the workpiece adhesive surface of the adhesive tape 13 affixed to the workpiece support frame 2 comes into contact with the suction surface 26a, air suction is performed through the suction hole 26b, and the workpiece W is attracted to the suction surface 26a via the adhesive tape 13. (See FIG. 5B).

次に、図8Gにおいて回転用シリンダ21を作動させて、シリンダロッドを矢印方向に引き込むと、基台19が回転軸20を中心に90度回転して垂直姿勢から水平姿勢へ戻る。このとき、ローラ19aによる当接部38の押動が解除されるので、開閉扉35はバネ37の引っ張り力により開口部を閉止する。洗浄乾燥室16が密閉されると、図8Hにおいて洗浄ヘッド31を上下に往復させながら、洗浄ノズル29より洗浄液をワークWに向けて噴射する。洗浄ヘッド31の移動速度や洗浄時間は、ワークWによって任意に設定することができる。洗浄後の洗浄液は、排水口39から室外へ排出される。ワークWの洗浄が終了すると、洗浄ヘッド31を上下に往復させながら乾燥ノズル30から高圧エア又は温風を吹き付けてワークWを乾燥する。洗浄乾燥室16内の湿気を含んだ空気は、排気口40より室外へ排気される。   Next, when the rotating cylinder 21 is operated in FIG. 8G and the cylinder rod is pulled in the direction of the arrow, the base 19 rotates 90 degrees about the rotating shaft 20 and returns from the vertical posture to the horizontal posture. At this time, since the pushing of the contact portion 38 by the roller 19 a is released, the opening / closing door 35 closes the opening portion by the pulling force of the spring 37. When the cleaning / drying chamber 16 is sealed, the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle 29 toward the workpiece W while the cleaning head 31 is reciprocated up and down in FIG. 8H. The moving speed and cleaning time of the cleaning head 31 can be arbitrarily set depending on the workpiece W. The cleaning liquid after cleaning is discharged from the outlet 39 to the outside. When the cleaning of the workpiece W is completed, the workpiece W is dried by blowing high-pressure air or warm air from the drying nozzle 30 while reciprocating the cleaning head 31 up and down. Air containing moisture in the cleaning / drying chamber 16 is exhausted from the exhaust port 40 to the outside.

次に、洗浄乾燥後のワーク搬出動作について図9I〜図9Oを参照して説明する。
図9Iにおいて、洗浄乾燥動作が終了すると、洗浄ヘッド31は一旦第2のガイドレール22の下方(矢印方向)へ移動して待機する。次に、図9Jにおいて、回転用シリンダ21を作動させてシリンダロッドを矢印方向へ伸長させて基台19が回転軸20を中心に90度回転して水平姿勢から垂直姿勢へ姿勢変更する。このとき、基台19の回転に伴ってローラ19aは洗浄乾燥室16の開閉扉35の当接部38に当接して押動するので、開閉扉35がバネ37の引っ張り力に抗して開放される。
Next, the work carry-out operation after cleaning and drying will be described with reference to FIGS. 9I to 9O.
In FIG. 9I, when the cleaning / drying operation is completed, the cleaning head 31 temporarily moves below the second guide rail 22 (in the direction of the arrow) and stands by. Next, in FIG. 9J, the rotation cylinder 21 is operated to extend the cylinder rod in the direction of the arrow, and the base 19 rotates 90 degrees about the rotation shaft 20 to change the posture from the horizontal posture to the vertical posture. At this time, as the base 19 rotates, the roller 19 a contacts and presses against the contact portion 38 of the opening / closing door 35 of the cleaning / drying chamber 16, so that the opening / closing door 35 opens against the pulling force of the spring 37. Is done.

次に、図9Kにおいて、吸着ヘッド26の吸着を解除してから図示しない吸着用シリンダを作動させてシャフト25を図の矢印方向へ伸長させると、支持板24を介して第2のガイドレール22が開口部の真下に位置する。このとき、ワーク支持枠体2は第2のガイドレール22の枠体係止部27aに係止したまま保持されて移動するため、ガイドヘッド28の真上位置まで移動する。次いで、図9Lにおいて、洗浄乾燥室16の下部に待機していた洗浄ヘッド31を上方(図の矢印方向)へ移動させると、ガイドヘッド28がワーク支持枠体2の下端に当接したまま第2のガイドレール22に沿って押し上げる。ワーク支持枠体2が洗浄乾燥室16の開口部を通過する際に、対向するエア吹出し部36より高圧エア又は温風がワーク支持枠体2の両面に吹き付けられて、ワークWの吸着面と洗浄面を再度乾燥してから、第1のガイドレール17へ受け渡される。   Next, in FIG. 9K, when the suction head 26 is released and the suction cylinder (not shown) is operated to extend the shaft 25 in the direction of the arrow in the figure, the second guide rail 22 is interposed via the support plate 24. Is located directly below the opening. At this time, since the workpiece support frame 2 is held and moved while being locked to the frame locking portion 27a of the second guide rail 22, it moves to a position directly above the guide head 28. Next, in FIG. 9L, when the cleaning head 31 waiting in the lower part of the cleaning / drying chamber 16 is moved upward (in the direction of the arrow in the figure), the guide head 28 remains in contact with the lower end of the work support frame 2. Push up along the two guide rails 22. When the work support frame 2 passes through the opening of the cleaning / drying chamber 16, high-pressure air or hot air is blown from both sides of the air blowing part 36 facing the work support frame 2, After the cleaning surface is dried again, it is transferred to the first guide rail 17.

図9Mにおいて、洗浄ヘッド31の上方への移動に伴って、ガイドヘッド28によりワーク支持枠体2が第1のガイドレール17へ押し上げられると、第1のガイドレール17は図示しない駆動源を作動させて図4(c)の状態から図4(b)の状態へ移行してワーク支持枠体2を両側で挟持する。次いで、図9Nにおいて、回転用シリンダ21を作動させて、シリンダロッドを矢印方向に引き込むと、基台19が回転軸20を中心に90度回転して垂直姿勢から水平姿勢へ戻る。このとき、ローラ19aによる当接部38の押動が解除されるので、開閉扉35はバネ37の引っ張り力により開口部を閉止する。第1のガイドレール17は、水平姿勢になると図4(b)の状態から図4(d)の状態へ移行してワーク支持枠体2が基台19に載置された状態となる。尚、洗浄ヘッド31は、洗浄乾燥室16の開口部近傍へ上動した位置で待機する。   In FIG. 9M, when the work support frame 2 is pushed up to the first guide rail 17 by the guide head 28 as the cleaning head 31 moves upward, the first guide rail 17 operates a drive source (not shown). Then, the state shifts from the state shown in FIG. 4C to the state shown in FIG. 4B, and the work support frame 2 is clamped on both sides. Next, in FIG. 9N, when the rotating cylinder 21 is operated and the cylinder rod is pulled in the direction of the arrow, the base 19 rotates 90 degrees about the rotating shaft 20 and returns from the vertical posture to the horizontal posture. At this time, since the pushing of the contact portion 38 by the roller 19 a is released, the opening / closing door 35 closes the opening portion by the pulling force of the spring 37. When the first guide rail 17 is in a horizontal position, the state shifts from the state of FIG. 4B to the state of FIG. 4D, and the work support frame 2 is placed on the base 19. The cleaning head 31 stands by at a position where the cleaning head 31 is moved up to the vicinity of the opening of the cleaning / drying chamber 16.

次に、図9Oにおいて、基台19からチャックハンド18によりワーク支持枠体2を把持して供給マガジン3へ収納する。チャックハンド18が洗浄乾燥後のワーク支持枠体2を供給マガジン3へ戻すと、エレベータ機構4が作動して、供給マガジン3が上昇又は下降して新たなワーク支持枠体2を把持して取出ステージPへ取り出す。そして、図8A〜図9Oで説明したワーク搬入搬出動作が繰り返し行われる。   Next, in FIG. 9O, the work support frame 2 is gripped from the base 19 by the chuck hand 18 and stored in the supply magazine 3. When the chuck hand 18 returns the workpiece support frame 2 after cleaning and drying to the supply magazine 3, the elevator mechanism 4 is operated, and the supply magazine 3 is raised or lowered to grip and remove a new workpiece support frame 2. Take out to stage P. Then, the work loading / unloading operation described in FIGS. 8A to 9O is repeatedly performed.

尚、チャックハンド18は、第1の搬送装置41と一体であっても別体であってもいずれでも良い。   The chuck hand 18 may be integrated with the first transfer device 41 or may be a separate body.

切断装置の平面図である。It is a top view of a cutting device. 図1の切断装置の正面図である。It is a front view of the cutting device of FIG. 図1の切断装置の左側面図である。It is a left view of the cutting device of FIG. 第1のガイドレールの構造を示す平面図、正面図及び開閉動作を示す状態図である。It is the top view which shows the structure of a 1st guide rail, a front view, and the state figure which shows opening / closing operation | movement. 第2のガイドレールの正面図、右側面図、上視図、吸着ヘッドの正面図及び右側面図である。It is a front view, a right side view, a top view, a front view and a right side view of the suction head of the second guide rail. 洗浄ヘッドの駆動機構の説明図及び洗浄ヘッドをノズル面から見た説明図である。It is explanatory drawing of the drive mechanism of the cleaning head, and explanatory drawing which looked at the cleaning head from the nozzle surface. ワーク支持枠体の説明図である。It is explanatory drawing of a workpiece | work support frame. ワーク洗浄乾燥装置へのワーク搬入動作の説明図である。It is explanatory drawing of the workpiece | work carrying-in operation | movement to a workpiece | work washing | drying apparatus. ワーク洗浄乾燥装置からのワーク搬出動作の説明図である。It is explanatory drawing of the workpiece carrying-out operation | movement from a workpiece | work washing drying apparatus. ワーク支持枠体の説明図である。It is explanatory drawing of a workpiece | work support frame.

符号の説明Explanation of symbols

W ワーク
1 ワーク供給部
2 ワーク支持枠体
3 供給マガジン
4 エレベータ機構
5 回転テーブル
6 切断部
7a、7b 切断ブレード
8a、8b スピンドル部
9a、9b 移動体
10 移動レール
11 吸気口
12 ワーク洗浄乾燥装置
13 粘着テープ
14a 矩形孔
14b ダミー孔
15 仕切り枠
16 洗浄乾燥室
17 第1のガイドレール
17a,27a 枠体係止部
18 チャックハンド
19 基台
19a ローラ
20 回転軸
21 回転用シリンダ
22 第2のガイドレール
24 支持板
25 シャフト
26 吸着ヘッド
26a 吸着面
26b 吸引孔
28 ガイドヘッド
29 洗浄ノズル
30 乾燥ノズル
31 洗浄ヘッド
32 ベルトチェーン
33 プーリ
34 ベルト駆動モータ
35 開閉扉
36 エア吹出し部
37 バネ
38 当接部
39 排水口
40 排気口
41 第1の搬送装置
42 第2の搬送装置
43 第1の搬送レール
44 第2の搬送レール

W Work 1 Work supply part 2 Work support frame 3 Supply magazine 4 Elevator mechanism 5 Rotary table 6 Cutting part 7a, 7b Cutting blade 8a, 8b Spindle part 9a, 9b Moving body 10 Moving rail 11 Intake port 12 Work washing dryer 13 Adhesive tape 14a Rectangular hole 14b Dummy hole 15 Partition frame 16 Washing / drying chamber 17 First guide rail 17a, 27a Frame locking part 18 Chuck hand 19 Base 19a Roller 20 Rotating shaft 21 Rotating cylinder 22 Second guide rail 24 support plate 25 shaft 26 suction head 26a suction surface 26b suction hole 28 guide head 29 cleaning nozzle 30 drying nozzle 31 cleaning head 32 belt chain 33 pulley 34 belt drive motor 35 opening / closing door 36 air blowing portion 37 spring 38 abutting portion 39 Drain port 40 Exhaust port 41 First transport device 42 Second transport device 43 First transport rail 44 Second transport rail

Claims (12)

リング状の枠体に粘着テープを貼り付けることによりワークを粘着支持するワーク支持枠体において、
矩形状に形成された枠体の対角線方向に沿って矩形孔が形成され、該矩形孔を囲む仕切り枠に沿って粘着テープが粘着されることを特徴とするワーク支持枠体。
In the work support frame that adheres and supports the work by attaching an adhesive tape to the ring-shaped frame,
A work support frame, wherein a rectangular hole is formed along a diagonal direction of a rectangular frame, and an adhesive tape is adhered along a partition frame surrounding the rectangular hole.
ワーク支持枠体に粘着した粘着テープに粘着支持されたまま切断されるワークの洗浄乾燥を行うワーク洗浄乾燥装置において、
切断後のワーク支持枠体を水平姿勢から垂直姿勢に変えて洗浄乾燥室へ搬入搬出するワーク移送機構と、
ワーク移送機構によりワーク支持枠体が収納された洗浄乾燥室を閉止して、当該ワーク支持枠体を垂直姿勢で固定したまま洗浄乾燥ノズルを移動しながらワークの洗浄乾燥を行う洗浄乾燥機構を具備したことを特徴とするワーク洗浄乾燥装置。
In a workpiece cleaning and drying apparatus for cleaning and drying a workpiece to be cut while being adhesively supported by an adhesive tape adhered to a workpiece support frame,
A workpiece transfer mechanism that changes the workpiece support frame after cutting from a horizontal posture to a vertical posture and carries it into and out of the cleaning and drying chamber;
A cleaning / drying mechanism for cleaning and drying the workpiece while moving the cleaning / drying nozzle while closing the cleaning / drying chamber in which the workpiece supporting frame is stored by the workpiece transfer mechanism and fixing the workpiece supporting frame in a vertical posture. A workpiece cleaning and drying apparatus characterized by that.
ワーク移送機構は、
ワーク切断後のワーク支持枠体を水平姿勢で位置決めしたまま垂直姿勢へ姿勢変更可能な第1のガイドレールと、
垂直姿勢の第1のガイドレールからワーク支持枠体を垂直姿勢のまま洗浄乾燥室内へ案内する第2のガイドレールと、
垂直姿勢の第1のガイドレールから第2のガイドレールへワーク支持枠体の下端を受けたまま移動するガイドヘッドを具備することを特徴とする請求項2記載のワーク洗浄乾燥装置。
The workpiece transfer mechanism
A first guide rail capable of changing the posture to a vertical posture while positioning the workpiece support frame body in a horizontal posture after cutting the workpiece;
A second guide rail that guides the workpiece support frame from the first guide rail in a vertical posture into the cleaning and drying chamber in a vertical posture;
3. The work washing and drying apparatus according to claim 2, further comprising a guide head that moves from the first guide rail in a vertical posture to the second guide rail while receiving the lower end of the work support frame.
第1のガイドレールは、ワーク支持枠体を水平姿勢で載置可能な第1の位置と、ワーク支持枠体を両側から挟持して位置決めする第2の位置と、ワーク支持枠体の平面部をガイドしつつ長手方向への移動を許容する第3の位置へ開閉移動することを特徴とする請求項3記載のワーク洗浄乾燥装置。   The first guide rail includes a first position where the workpiece support frame can be placed in a horizontal posture, a second position where the workpiece support frame is sandwiched and positioned from both sides, and a planar portion of the workpiece support frame. 4. The workpiece cleaning / drying apparatus according to claim 3, wherein the workpiece cleaning / drying apparatus is opened and closed to a third position allowing movement in the longitudinal direction while guiding the guide. ガイドヘッドは、洗浄ノズル及び乾燥ノズルと一体に設けられていることを特徴とする請求項3記載のワーク洗浄乾燥装置。   4. The workpiece cleaning / drying apparatus according to claim 3, wherein the guide head is provided integrally with the cleaning nozzle and the drying nozzle. 第1のガイドレールが水平姿勢から垂直姿勢に姿勢変更する際に、閉止された洗浄乾燥室の開閉扉を開放して第1のガイドレールと第2のガイドレールが連通し、第1のガイドレールが水平姿勢に戻ると開閉扉を閉止することを特徴とする請求項3記載のワーク洗浄乾燥装置。   When the first guide rail changes its posture from a horizontal posture to a vertical posture, the first guide rail and the second guide rail communicate with each other by opening the open / close door of the closed washing / drying chamber. 4. The work washing and drying apparatus according to claim 3, wherein the door is closed when the rail returns to a horizontal posture. 第2のガイドレールは断面コ字状に形成され、垂直姿勢でワーク支持枠体の自重による移動を阻止する係止部が形成されていることを特徴とする請求項3記載のワーク洗浄乾燥装置。   4. The workpiece cleaning / drying apparatus according to claim 3, wherein the second guide rail is formed in a U-shaped cross section, and is formed with a locking portion that prevents the workpiece support frame body from moving due to its own weight in a vertical posture. . 洗浄乾燥機構は、
洗浄乾燥室内で第2のガイドレールに垂直姿勢のままガイドされたワーク支持枠体を、第2のガイドレールごと移動させる駆動源と、
ワーク貼付け面とは反対側の粘着テープ面を吸着保持する吸着ヘッドと、
吸着ヘッドに吸着保持されたワークに対向させて垂直方向へ移動しながら洗浄液を噴射して洗浄する洗浄ノズルとエアーブローにより乾燥する乾燥ノズルを備えたことを特徴とする請求項2記載のワーク洗浄乾燥装置。
The washing and drying mechanism
A drive source that moves the work support frame guided in a vertical position on the second guide rail in the cleaning / drying chamber together with the second guide rail;
A suction head that sucks and holds the pressure-sensitive adhesive tape surface opposite to the workpiece attachment surface;
3. A workpiece cleaning apparatus according to claim 2, further comprising a cleaning nozzle for spraying and cleaning the cleaning liquid while moving in a vertical direction so as to face the workpiece held by the suction head, and a drying nozzle for drying by air blow. Drying equipment.
洗浄乾燥室内には、洗浄乾燥後に室外へ搬出されるワークの両面を乾燥するためのエア吹出し部が開閉扉の近傍に設けられていることを特徴とする請求項8記載のワーク洗浄乾燥装置。   9. The workpiece cleaning / drying apparatus according to claim 8, wherein an air blow-out unit for drying both surfaces of the workpiece carried out of the chamber after cleaning / drying is provided in the vicinity of the open / close door in the cleaning / drying chamber. ワーク支持枠体に貼着した粘着テープにワークが粘着支持された当該ワーク支持枠体を収納するワーク供給部と、
ワーク供給部から供給されたワーク支持枠体を回転テーブルに固定したままワークを切断する切断部と、
切断後のワーク支持枠体に支持されたワークを洗浄乾燥する請求項2乃至請求項9のいずれか1項に記載のワーク洗浄乾燥装置を備え、
ワーク供給部から供給されるワーク支持枠体が切断部へ搬送されて切断が行われ、ワーク洗浄乾装置による洗浄乾燥後のワーク支持枠体が再度ワーク供給部へ収納されることを特徴とする切断装置。
A workpiece supply unit for storing the workpiece support frame in which the workpiece is adhesively supported on the adhesive tape attached to the workpiece support frame; and
A cutting part for cutting the work while fixing the work support frame supplied from the work supply part to the rotary table;
The workpiece washing and drying apparatus according to any one of claims 2 to 9, wherein the workpiece supported by the workpiece support frame after cutting is washed and dried.
The workpiece support frame supplied from the workpiece supply unit is transported to the cutting unit and cut, and the workpiece support frame after cleaning and drying by the workpiece cleaning and drying apparatus is stored in the workpiece supply unit again. Cutting device.
ワーク供給部から第1のガイドレールへ引き出されたワーク支持枠体を保持し回転テーブルへ搬送し、切断後のワーク支持枠体を回転テーブルから第1のガイドレールへ搬送する搬送手段を複数備え、
第1のガイドレールからワーク支持枠体を回転テーブルへ搬送する動作と、回転テーブルから切断後のワーク支持枠体を第1のガイドレールへ搬送する動作を並行することを特徴とする請求項10記載の切断装置。
A plurality of conveying means are provided for holding the workpiece support frame drawn from the workpiece supply unit to the first guide rail and conveying it to the rotary table, and conveying the cut workpiece support frame from the rotary table to the first guide rail. ,
11. The operation of conveying the work support frame from the first guide rail to the rotary table and the operation of conveying the work support frame after cutting from the rotary table to the first guide rail are parallel to each other. The cutting device as described.
ワーク支持枠体を保持する第1、第2の搬送手段が、装置上部に併設された第1、第2の搬送レールに沿って第1のガイドレールと回転テーブルとの間を各々往復動可能に設けられることを特徴とする請求項11記載の切断装置。
First and second transport means for holding the work support frame can reciprocate between the first guide rail and the rotary table along the first and second transport rails provided in the upper part of the apparatus. The cutting device according to claim 11, wherein the cutting device is provided on the cutting device.
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