JP2003195338A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2003195338A
JP2003195338A JP2001397495A JP2001397495A JP2003195338A JP 2003195338 A JP2003195338 A JP 2003195338A JP 2001397495 A JP2001397495 A JP 2001397495A JP 2001397495 A JP2001397495 A JP 2001397495A JP 2003195338 A JP2003195338 A JP 2003195338A
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JP
Japan
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liquid crystal
display device
gate
crystal display
static electricity
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001397495A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Hamaoka
拓 浜岡
Kazunori Hayakawa
和範 早川
Yoshihiro Konishi
芳広 小西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device capable of preventing static electricity from being generated and capable of preventing a luminescent point and a bright-line from being generated. <P>SOLUTION: On the TFT (thin film transistor) array substrate of a liquid crystal display device, a plurality of gate wirings 2a which extend from a packaging terminal part to the gate-terminal side through a display area are provided. Adjacent gate wirings 2a with each other are connected by a semiconductor layer 15 respectively at the packaging terminal part and at the gate-terminal side. As a result, even when static electricity is generated at one of gate wiring 2a, this static electricity is dispersed to many other gate wirings 2a with these semiconductor layers 15. Thus, generation of insulation failure or damage of TFTs or the like by the static electricity is prevented and the luminescent point and the bright-line are prevented from being generated in the liquid crystal display device. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数のゲート配線
と複数のソース配線との各交差部付近に配置された複数
の薄膜トランジスタを備えたTFTアレイ基板を用いて
液晶を駆動するようにした液晶表示装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal which drives a liquid crystal by using a TFT array substrate having a plurality of thin film transistors arranged near each intersection of a plurality of gate wirings and a plurality of source wirings. The present invention relates to a display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、画像表示装置として、一主面上に
複数の薄膜トランジスタ(以下、「TFT」と略称す
る。)が形成されたTFTアレイ基板を用いて、該TF
Tアレイ基板とカラーフィルタ基板との間に介在する液
晶を駆動し、この液晶により画像を表示するようにした
透過型の液晶表示装置が広く利用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, as an image display device, a TFT array substrate having a plurality of thin film transistors (hereinafter abbreviated as "TFT") formed on one main surface thereof has been used.
A transmission type liquid crystal display device in which a liquid crystal interposed between a T array substrate and a color filter substrate is driven to display an image is widely used.

【0003】以下、図2(a)、(b)および図3を参
照しつつ、かかる従来の液晶表示装置の一例を説明す
る。図2(a)、(b)は、この種の液晶表示装置の画
素構成を示す図である。また、図3は、従来の液晶表示
装置のTFTアレイ基板の表示エリア部と、実装端子部
分およびゲート終端側におけるゲート配線の構成を示す
図である。この従来の液晶表示装置は、およそ次のよう
な手順で製造される。
An example of such a conventional liquid crystal display device will be described below with reference to FIGS. 2 (a), 2 (b) and 3. 2A and 2B are diagrams showing a pixel configuration of a liquid crystal display device of this type. Further, FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a display area portion of a TFT array substrate of a conventional liquid crystal display device, a mounting terminal portion and a gate wiring on a gate terminal side. This conventional liquid crystal display device is manufactured by the following procedure.

【0004】図2(a)、(b)に示すように、まず、
1つの透明ガラス基板1a上に、ゲート電極ないしゲー
ト配線2aと、共通配線2bとを形成する。続いて、2
層構造のゲート絶縁膜3、4を堆積させる。次に、印加
される電圧によってその抵抗値が変化する一方TFTを
スイッチとして機能させる半導体膜5(アモルファスシ
リコン膜)を形成する。さらに、半導体膜5を、ソース
電極とドレイン電極とにオーミックコンタクトさせるた
めのn+a−Si層6(n+アモルファスシリコン層)
を形成する。
First, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b),
A gate electrode or gate wiring 2a and a common wiring 2b are formed on one transparent glass substrate 1a. Then 2
The gate insulating films 3 and 4 having a layered structure are deposited. Next, a semiconductor film 5 (amorphous silicon film) that causes the TFT to function as a switch while its resistance value changes depending on the applied voltage is formed. Further, an n + a-Si layer 6 (n + amorphous silicon layer) for making the semiconductor film 5 in ohmic contact with the source electrode and the drain electrode.
To form.

【0005】そして、ソース電極ないしソース配線7a
と、ドレイン電極7bとを同時に形成する。このとき、
同時に共通配線2b上に蓄積容量C1を形成する。次
に、TFTを保護するために保護膜8を堆積させる。そ
して、透明画素電極9を堆積させる。また、画素電極9
に信号電圧を供給するために、保護膜8を堆積させた
後、ドレイン電極7b上に開口部を設ける。
Then, the source electrode or source wiring 7a
And the drain electrode 7b are simultaneously formed. At this time,
At the same time, the storage capacitor C1 is formed on the common line 2b. Next, a protective film 8 is deposited to protect the TFT. Then, the transparent pixel electrode 9 is deposited. Also, the pixel electrode 9
In order to supply a signal voltage to the gate electrode, an opening is provided on the drain electrode 7b after depositing the protective film 8.

【0006】図3に示すように、液晶表示装置の実装端
子部分では、隣接するゲート配線2a同士を、半導体層
15によって接続する。一方、ゲート終端側では、隣接
するゲート配線2aを接続しない構成とする。これによ
り、液晶表示装置を構成するTFTアレイ基板T1が完
成する。
As shown in FIG. 3, in the mounting terminal portion of the liquid crystal display device, the adjacent gate wirings 2a are connected by the semiconductor layer 15. On the other hand, on the gate termination side, the adjacent gate wiring 2a is not connected. As a result, the TFT array substrate T1 forming the liquid crystal display device is completed.

【0007】一方、もう1つの透明ガラス基板1bに
は、ブラックマトリクス10を形成した後、赤(R)、
緑(G)または青(B)のカラーフィルタ11を形成す
る。さらに、その上に対向画素電極12を形成すること
によって、液晶表示装置を構成するカラーフィルタ基板
F1が完成する。続いて、十分に洗浄したTFTアレイ
基板T1に、ポリイミド配向膜を塗布し、焼成する。そ
して、これをローラーに巻き付けた布でラビングし、ポ
リイミド分子を一方向に配向させる。次に、カラーフィ
ルタ基板F1にも、同様に配向膜を形成してラビングを
行う。
On the other hand, after forming the black matrix 10 on the other transparent glass substrate 1b, red (R),
The green (G) or blue (B) color filter 11 is formed. Further, by forming the counter pixel electrode 12 thereon, the color filter substrate F1 constituting the liquid crystal display device is completed. Subsequently, a polyimide alignment film is applied to the sufficiently cleaned TFT array substrate T1 and baked. Then, this is rubbed with a cloth wound around a roller to orient the polyimide molecules in one direction. Next, an alignment film is similarly formed on the color filter substrate F1 and rubbing is performed.

【0008】配向処理の後、TFTアレイ基板T1にシ
ール剤を塗布し、スペーサ(図示せず)を散布する。そ
して、シール剤を予備硬化させ、スペーサを散布した
後、TFTアレイ基板T1とカラーフィルタ基板F1と
を貼り合わせ、シール剤を完全に硬化させる。この後、
真空状態で両基板間に液晶13を注入し、封止剤で両基
板間を封止し、透明ガラス基板1a、1bの前後に偏光
板(図示せず)を配置することによって液晶表示装置が
完成する。
After the alignment treatment, a sealing agent is applied to the TFT array substrate T1 and spacers (not shown) are scattered. Then, after pre-curing the sealant and spraying the spacers, the TFT array substrate T1 and the color filter substrate F1 are bonded together, and the sealant is completely cured. After this,
By injecting the liquid crystal 13 between both substrates in a vacuum state, sealing the both substrates with a sealant, and disposing polarizing plates (not shown) before and after the transparent glass substrates 1a and 1b, Complete.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の液晶表示装置では、ゲート入力側とゲート終端側と
でゲート配線間に電位差が生じ、静電気の発生を促すこ
とになる。このため、静電気により、絶縁不良あるいは
TFTの損傷等が生じることがあり、これらが液晶表示
装置に輝点および輝線を発生させる原因となるといった
問題がある。
However, in the above conventional liquid crystal display device, a potential difference is generated between the gate wirings on the gate input side and the gate termination side, which promotes the generation of static electricity. Therefore, there is a problem that static electricity may cause insulation failure or TFT damage, which causes bright spots and bright lines in the liquid crystal display device.

【0010】本発明は、上記従来の問題を解決するため
になされたものであって、静電気の発生を防止すること
ができ、絶縁不良あるいはTFTの損傷、ひいては輝点
および輝線の発生を防止ないし低減することができる液
晶表示装置を提供することを解決すべき課題とする。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned conventional problems, and it is possible to prevent the generation of static electricity, and to prevent defective insulation or damage to TFTs, and hence the generation of bright spots and bright lines. It is an object to be solved to provide a liquid crystal display device which can be reduced.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた本発明にかかる液晶表示装置は、(i)実装
端子部分から表示エリア部を経てゲート終端側に伸びる
複数のゲート配線と、該ゲート配線と交差する方向に伸
びる複数のソース配線と、それぞれ各ゲート配線と各ソ
ース配線との交差部付近に配置された薄膜トランジスタ
とを備えたアレイ基板により液晶を駆動するようになっ
ている液晶表示装置であって、(ii)ゲート終端側で、
隣接するゲート配線同士が半導体層によって接続されて
いることを特徴とするものである。
A liquid crystal display device according to the present invention made to solve the above problems includes (i) a plurality of gate wirings extending from a mounting terminal portion to a gate terminal side through a display area portion; Liquid crystal driven by an array substrate having a plurality of source wirings extending in a direction intersecting with the gate wirings and thin film transistors arranged near intersections of the respective gate wirings and the respective source wirings. A display device, (ii) at the gate end side,
It is characterized in that adjacent gate wirings are connected to each other by a semiconductor layer.

【0012】この液晶表示装置では、ゲート終端側で、
隣接するゲート配線同士が半導体層によって接続されて
いるので、いずれかのゲート配線に静電気が発生して
も、この静電気は半導体層を介して他の多数のゲート配
線に分散される。したがって、静電気による絶縁不良あ
るいはTFTの損傷等の発生が防止される。よって、液
晶表示装置に、輝点および輝線が生じるのが防止され
る。
In this liquid crystal display device, on the gate termination side,
Since the adjacent gate wirings are connected to each other by the semiconductor layer, even if static electricity is generated in any of the gate wirings, the static electricity is dispersed to many other gate wirings through the semiconductor layer. Therefore, the occurrence of insulation failure or TFT damage due to static electricity is prevented. Therefore, bright spots and bright lines are prevented from occurring in the liquid crystal display device.

【0013】上記液晶表示装置においては、実装端子部
分でも、隣接するゲート配線同士が半導体層によって接
続されているのが好ましい。また、隣接するゲート配線
を接続する上記半導体層が、平面視で正方形の形状を備
えているのがより好ましい。このようにすれば、あるゲ
ート配線に発生した静電気の他のゲート配線への分散が
促進される。したがって、静電気による絶縁不良あるい
はTFTの損傷等の発生をより有効に防止することがで
き、輝点および輝線の発生をより有効に防止することが
できる。
In the above liquid crystal display device, it is preferable that adjacent gate wirings are connected by a semiconductor layer even in the mounting terminal portion. Further, it is more preferable that the semiconductor layer connecting the adjacent gate wirings has a square shape in a plan view. In this way, dispersion of static electricity generated in a certain gate wiring to other gate wiring is promoted. Therefore, it is possible to more effectively prevent the occurrence of insulation failure or TFT damage due to static electricity, and it is possible to more effectively prevent the generation of bright spots and bright lines.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を具体
的に説明する。なお、従来の技術の説明に用いられた図
2(a)、(b)は、基本的には、本発明にかかる液晶
表示装置ないしはその製造方法にも当てはまるので、以
下では図1および図2(a)、(b)を用いて、実施の
形態を説明する。図1は、本発明の実施の形態にかかる
液晶表示装置のTFTアレイ基板の表示エリア部と、実
装端子部分およびゲート終端側におけるゲート配線の構
成とを示す平面図である。この本発明にかかる液晶表示
装置は、およそ次のような手順で製造される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be specifically described below. 2 (a) and 2 (b) used in the description of the related art are basically applicable to the liquid crystal display device according to the present invention or the manufacturing method thereof, and therefore, in FIGS. 1 and 2 below. The embodiment will be described with reference to (a) and (b). FIG. 1 is a plan view showing a display area portion of a TFT array substrate of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention and a structure of a gate wiring on a mounting terminal portion and a gate terminal side. The liquid crystal display device according to the present invention is manufactured by the following procedure.

【0015】すなわち、まず、1つの透明ガラス基板1
a上に、タンタル、クロム等の導電性材料(金属)から
なる複数のゲート電極ないしゲート配線2aと、複数の
共通配線2bとを形成する。ここで、各ゲート配線2a
は、実装端子部分から表示エリア部を経てゲート終端側
に伸びている。なお、これと同時に共通配線2b上に蓄
積容量C1を形成する。続いて、通常の場合と同様に、
2層構造のゲート絶縁膜3、4を、スパッタリングおよ
び気相成長法を用いて堆積させる。次に、印加される電
圧によってその抵抗値が変化する一方、TFTをスイッ
チとして機能させる半導体膜5(アモルファスシリコン
膜)を形成する。
That is, first, one transparent glass substrate 1
A plurality of gate electrodes or gate wirings 2a made of a conductive material (metal) such as tantalum or chromium and a plurality of common wirings 2b are formed on a. Here, each gate wiring 2a
Extends from the mounting terminal portion to the gate terminal side through the display area portion. At the same time, the storage capacitor C1 is formed on the common wiring 2b. Then, as usual,
The gate insulating films 3 and 4 having a two-layer structure are deposited by sputtering and vapor phase epitaxy. Next, a semiconductor film 5 (amorphous silicon film) that causes the TFT to function as a switch is formed while its resistance value changes depending on the applied voltage.

【0016】さらに、半導体膜5を、ソース電極とドレ
イン電極とにオーミックコンタクトさせるためのn+a
−Si層6を形成する。そして、チタン、タンタル、モ
リブデン等の金属からなるソース電極ないしソース配線
7aと、ドレイン電極7bとを同時に形成する。続い
て、TFTを保護するために、SiNx(窒化シリコ
ン)からなる保護膜8を堆積させる。そして、ITO
(インジウム・ティン・オキサイド)からなる透明画素
電極9を堆積させる。また、画素電極9に信号電圧を供
給するために、保護膜8を堆積させた後、ドレイン電極
7b上に開口部を設ける。
Further, n + a for making the semiconductor film 5 in ohmic contact with the source electrode and the drain electrode.
-The Si layer 6 is formed. Then, the source electrode or source wiring 7a made of a metal such as titanium, tantalum, molybdenum, and the drain electrode 7b are simultaneously formed. Subsequently, in order to protect the TFT, a protective film 8 made of SiNx (silicon nitride) is deposited. And ITO
A transparent pixel electrode 9 made of (indium tin oxide) is deposited. Further, in order to supply a signal voltage to the pixel electrode 9, after depositing the protective film 8, an opening is provided on the drain electrode 7b.

【0017】そして、図1の左側部分に示すように、液
晶表示装置の実装端子部分で、隣接する各ゲート配線2
a同士を、それぞれ半導体層15(アモルファスシリコ
ン層)によって接続する。さらに、図1の右側部分に示
すように、液晶表示装置のゲート終端側でも、隣接する
各ゲート配線2a同士を、それぞれ半導体層15(アモ
ルファスシリコン層)によって接続する。なお、半導体
層15は、平面視で正方形の形状を備えているのが好ま
しい。これにより、液晶表示装置を構成するTFTアレ
イ基板T1が、実質的に完成する。
Then, as shown in the left side portion of FIG. 1, at the mounting terminal portion of the liquid crystal display device, adjacent gate wirings 2 are provided.
The semiconductor layers 15 (amorphous silicon layers) are connected to each other. Further, as shown on the right side of FIG. 1, even on the gate terminal side of the liquid crystal display device, adjacent gate wirings 2a are connected to each other by the semiconductor layer 15 (amorphous silicon layer). The semiconductor layer 15 preferably has a square shape in plan view. As a result, the TFT array substrate T1 forming the liquid crystal display device is substantially completed.

【0018】他方、もう1つの透明ガラス基板1bに
は、クロム等からなるブラックマトリクス10を形成し
た後、赤、緑または青のカラーフィルタ11を形成す
る。さらに、その上に対向画素電極12を形成すること
によって、液晶表示装置を構成するカラーフィルタ基板
F1が完成する。続いて、十分に洗浄したTFTアレイ
基板T1に、ポリイミド配向膜を印刷法により塗布し、
焼成する。そして、これをローラーに巻き付けた布でラ
ビングし、ポリイミド分子を一方向に配向させる。次
に、カラーフィルタ基板F1にも、同様に配向膜を形成
してラビングを行う。
On the other hand, on the other transparent glass substrate 1b, after forming the black matrix 10 made of chromium or the like, the red, green or blue color filter 11 is formed. Further, by forming the counter pixel electrode 12 thereon, the color filter substrate F1 constituting the liquid crystal display device is completed. Then, a polyimide alignment film is applied to the thoroughly washed TFT array substrate T1 by a printing method,
Bake. Then, this is rubbed with a cloth wound around a roller to orient the polyimide molecules in one direction. Next, an alignment film is similarly formed on the color filter substrate F1 and rubbing is performed.

【0019】配向処理の後、TFTアレイ基板T1にシ
ール剤を塗布し、一定の直径を有するスペーサ(図示せ
ず)を散布する。これは、TFTアレイ基板T1とカラ
ーフィルタ基板F1とを貼り合わせる際に、両基板間に
一定のギャップを保たせるためである。そして、シール
剤を予備硬化させ、スペーサを散布した後、TFTアレ
イ基板T1とカラーフィルタ基板F1とを貼り合わせ、
シール剤を完全に硬化させる。この後、真空状態で両基
板間に液晶13を注入し、封止剤で両基板間を封止し、
透明ガラス基板1a、1bの前後に偏光板(図示せず)
を配置することによって液晶表示装置が完成する。
After the alignment treatment, a sealant is applied to the TFT array substrate T1 and spacers (not shown) having a constant diameter are scattered. This is to maintain a constant gap between the TFT array substrate T1 and the color filter substrate F1 when they are attached to each other. Then, after pre-curing the sealant and spraying spacers, the TFT array substrate T1 and the color filter substrate F1 are bonded together,
Completely cure the sealant. After that, the liquid crystal 13 is injected between the two substrates in a vacuum state, and the both substrates are sealed with a sealant,
Polarizing plates (not shown) before and after the transparent glass substrates 1a and 1b
The liquid crystal display device is completed by arranging.

【0020】この液晶表示装置においては、実装端子部
分とゲート終端側とで、それぞれ、隣接するゲート配線
2a同士が半導体層15によって接続されているので、
いずれかのゲート配線2aに静電気が発生しても、この
静電気は半導体層15を介して他の多数のゲート配線2
aに分散される。したがって、静電気による絶縁不良あ
るいはTFTの損傷等の発生が防止される。よって、液
晶表示装置に、輝点および輝線が生じるのが防止され
る。
In this liquid crystal display device, since the adjacent gate wirings 2a are connected by the semiconductor layer 15 at the mounting terminal portion and the gate termination side, respectively,
Even if static electricity is generated on any one of the gate wirings 2a, this static electricity is transmitted via the semiconductor layer 15 to a large number of other gate wirings 2a.
dispersed in a. Therefore, the occurrence of insulation failure or TFT damage due to static electricity is prevented. Therefore, bright spots and bright lines are prevented from occurring in the liquid crystal display device.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上、本発明によれば、ゲート入力側と
ゲート終端側とでゲート配線間に電位差が生じるのを防
止して、静電気の発生を防止することができ、絶縁不良
あるいはTFTの損傷、ひいては輝点および輝線の発生
を防止ないし低減することができる液晶表示装置を実現
することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to prevent a potential difference from occurring between the gate wirings on the gate input side and the gate termination side, and to prevent the generation of static electricity. It is possible to realize a liquid crystal display device capable of preventing or reducing damage, and consequently, generation of bright spots and bright lines.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の実施の形態にかかる液晶表示装置の
TFTアレイ基板の表示エリア部と、実装端子部分およ
びゲート終端側におけるゲート配線の構成とを示す平面
図である。
FIG. 1 is a plan view showing a display area portion of a TFT array substrate of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention and a configuration of a gate wiring on a mounting terminal portion and a gate terminal side.

【図2】 (a)は、本発明にかかる液晶表示装置ない
し従来の液晶表示装置の表示エリア部の平面図であり、
(b)は、(a)に示す液晶表示装置のA−B線断面図
である。
FIG. 2A is a plan view of a display area portion of a liquid crystal display device according to the present invention or a conventional liquid crystal display device,
6B is a cross-sectional view taken along the line AB of the liquid crystal display device shown in FIG.

【図3】 従来の液晶表示装置のTFTアレイ基板の表
示エリア部と、実装端子部分およびゲート終端側におけ
るゲート配線の構成とを示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a display area portion of a TFT array substrate of a conventional liquid crystal display device and a configuration of a gate wiring on a mounting terminal portion and a gate terminal side.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

T1…TFTアレイ基板、F1…カラーフィルタ基板、
1a…透明ガラス基板、 1b…透明ガラス基板、 2
a…ゲート配線(ゲート電極)、 2b…共通配線、
2c…接続層、 3…第1のゲート絶縁膜、 4…第2
のゲート絶縁膜、 5…半導体膜(アモルファスシリコ
ン)、 6…n+a−Si層、 7a…ソース配線(ソ
ース電極)、 7b…ドレイン電極、 8…保護膜、
9…透明画素電極、 10…ブラックマトリックス、
11…カラーフィルタ、 12…対向画素電極、 13
…液晶、 15…半導体層。
T1 ... TFT array substrate, F1 ... color filter substrate,
1a ... transparent glass substrate, 1b ... transparent glass substrate, 2
a ... Gate wiring (gate electrode), 2b ... Common wiring,
2c ... connection layer, 3 ... first gate insulating film, 4 ... second
Gate insulating film, 5 ... Semiconductor film (amorphous silicon), 6 ... n + a-Si layer, 7a ... Source wiring (source electrode), 7b ... Drain electrode, 8 ... Protective film,
9 ... Transparent pixel electrode, 10 ... Black matrix,
11 ... Color filter, 12 ... Opposing pixel electrode, 13
... liquid crystal, 15 ... semiconductor layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 29/786 H01L 29/78 612Z (72)発明者 小西 芳広 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H092 GA64 JA24 JA37 JB79 KB04 NA14 5C094 AA02 AA53 BA03 BA43 CA19 CA24 DB05 FB14 HA08 5F110 AA22 BB01 CC07 DD02 EE04 EE37 FF09 FF28 FF29 GG02 GG15 HK04 HK09 HK16 HK21 HM20 NN01 NN24 NN72 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H01L 29/786 H01L 29/78 612Z (72) Inventor Yoshihiro Konishi Osaka Prefecture Kadoma City 1006 Kadoma, Matsushita Electric Industrial In-house F-term (reference) 2H092 GA64 JA24 JA37 JB79 KB04 NA14 5C094 AA02 AA53 BA03 BA43 CA19 CA24 DB05 FB14 HA08 5F110 AA22 BB01 CC07 DD02 EE04 EE37 FF09 FF28 FF29 GG02 GG15 HK04 HK09 NN20 NN01 HM16 NN.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 実装端子部分から表示エリア部を経てゲ
ート終端側に伸びる複数のゲート配線と、該ゲート配線
と交差する方向に伸びる複数のソース配線と、それぞれ
各ゲート配線と各ソース配線との交差部付近に配置され
た薄膜トランジスタとを備えたアレイ基板により液晶を
駆動するようになっている液晶表示装置であって、 ゲート終端側で、隣接するゲート配線同士が半導体層に
よって接続されていることを特徴とする液晶表示装置。
1. A plurality of gate wirings extending from a mounting terminal portion to a gate termination side through a display area portion, a plurality of source wirings extending in a direction intersecting with the gate wirings, and each gate wiring and each source wiring. A liquid crystal display device in which liquid crystal is driven by an array substrate including a thin film transistor arranged near an intersection, and adjacent gate wirings are connected to each other by a semiconductor layer on a gate termination side. Liquid crystal display device characterized by.
【請求項2】 実装端子部分で、隣接するゲート配線同
士が半導体層によって接続されていることを特徴とする
請求項1に記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein adjacent gate wirings are connected by a semiconductor layer at a mounting terminal portion.
【請求項3】 隣接するゲート配線を接続する上記半導
体層が、平面視で正方形の形状を備えていることを特徴
とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the semiconductor layer connecting adjacent gate lines has a square shape in a plan view.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7982813B2 (en) 2006-05-25 2011-07-19 Samsung Electronics, Co., Ltd. Liquid crystal display

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