JP2003188332A - Semiconductor device and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造技術に
関し、特に、ペリフェラル形の半導体装置の低コスト化
に適用して有効な技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing technique, and more particularly, to a technique effectively applied to cost reduction of a peripheral type semiconductor device.
【0002】[0002]
【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。2. Description of the Related Art The techniques described below are for studying the present invention,
The present invention was studied by the present inventors upon completion, and its outline is as follows.
【0003】小形化を図った樹脂封止形の半導体装置と
して、CSP(Chip Scale Package) あるいはQFN
(Quad Flat Non-leaded Package) と呼ばれるチップサ
イズまたは半導体チップより若干大きい程度の小形半導
体パッケージが開発されている。A CSP (Chip Scale Package) or a QFN is used as a resin-encapsulated semiconductor device which is miniaturized.
A small semiconductor package called a (Quad Flat Non-leaded Package) with a chip size or slightly larger than a semiconductor chip has been developed.
【0004】QFNでは、封止部の裏面(実装側の面)
の周縁部に複数のリードがその被接続面を露出して配置
されており、このような構造の半導体パッケージは、ペ
リフェラル形と呼ばれている。In QFN, the back surface of the sealing portion (the surface on the mounting side)
A plurality of leads are arranged on the peripheral edge of the so as to expose the connection surface, and the semiconductor package having such a structure is called a peripheral type.
【0005】さらに、QFNには、半導体チップを支持
するタブが封止部の裏面に露出する構造(以降、これを
タブ露出構造という)のものと、封止部内に埋め込まれ
て露出しない構造(以降、これをタブ埋め込み構造とい
う)のものとがある。Further, the QFN has a structure in which a tab for supporting a semiconductor chip is exposed on the back surface of the sealing portion (hereinafter referred to as a tab exposure structure), and a structure in which the tab is embedded and not exposed in the sealing portion ( Hereinafter, this is referred to as a tab embedding structure).
【0006】そのうち、タブ露出構造のQFNでは、そ
の組み立てにおけるタブの露出方法として、一般的に次
の2種類の方法が知られている。[0006] Among them, in the QFN having the tab exposed structure, the following two types of methods are generally known as the tab exposing method in the assembling.
【0007】1つめの方法は、予めリードフレームの裏
面に接着テープを貼り付けておき、この状態で、ダイボ
ンディング、ワイヤボンディング、樹脂封止を行い、樹
脂モールド後、接着テープを剥がしてタブを露出させる
方法である。In the first method, an adhesive tape is attached to the back surface of the lead frame in advance, and in this state, die bonding, wire bonding, and resin sealing are performed. After resin molding, the adhesive tape is peeled off to remove the tab. It is a method of exposing.
【0008】2つめの方法は、ラミネートモールディン
グと呼ばれる樹脂モールド方法であり、モールド金型内
でリードフレームの表裏面にフィルム状テープを配置し
てリードフレームをテープに食い込ませてモールディン
グを行い、これによってタブを露出させる方法である。The second method is a resin molding method called laminate molding, in which film tapes are arranged on the front and back surfaces of the lead frame in the molding die, and the lead frame is bitten into the tape for molding. Is the method of exposing the tab.
【0009】なお、タブ露出構造の半導体装置について
は、例えば、特開平8−83870号公報に、その構造
が記載されている。A semiconductor device having a tab exposed structure is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-83870.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記したタ
ブ露出構造の半導体装置の組み立てでは、接着テープあ
るいはフィルム状テープを用いているため、半導体装置
の製造単価が高くなることが問題である。However, since the adhesive tape or the film tape is used in the assembly of the semiconductor device having the tab exposed structure, there is a problem that the manufacturing cost of the semiconductor device is increased.
【0011】本発明の目的は、製造コストの低減化を図
る半導体装置およびその製造方法を提供することにあ
る。An object of the present invention is to provide a semiconductor device and a method for manufacturing the same, which can reduce the manufacturing cost.
【0012】また、本発明のその他の目的は、パッケー
ジ高さを変えずに半導体チップの厚さを厚くできる半導
体装置およびその製造方法を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a semiconductor device in which the thickness of a semiconductor chip can be increased without changing the package height and a method for manufacturing the same.
【0013】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.
【0015】すなわち、本発明は、半導体チップが樹脂
封止する封止部と、半導体チップを支持し、前記封止部
の実装側の面に露出するタブと、前記タブと一体で前記
タブから外側に向かって延在する吊りリードと、前記封
止部の実装側の面の周縁部に一部が露出する複数のリー
ドと、前記半導体チップの表面電極と前記リードとを接
続するワイヤとを有し、前記吊りリードの実装側の面と
反対側の面に前記封止部とかみ合う凹部が形成されてい
るものである。That is, according to the present invention, a sealing portion in which a semiconductor chip is sealed with a resin, a tab that supports the semiconductor chip and is exposed on a mounting side surface of the sealing portion, and the tab are integrally formed from the tab. A suspension lead extending outward, a plurality of leads partially exposed at the peripheral portion of the mounting side surface of the sealing portion, and a wire connecting the surface electrode of the semiconductor chip and the lead. And a recessed portion that engages with the sealing portion is formed on the surface of the suspension lead opposite to the mounting surface.
【0016】また、本発明は、タブと前記タブから外側
に延在する吊りリードと複数のリードとを有し、かつ前
記タブが前記吊りリードよりその実装側の面方向に配置
されたリードフレームを準備する工程と、前記タブに前
記半導体チップを搭載する工程と、前記半導体チップの
表面電極と前記リードとをワイヤによって接続する工程
と、前記タブのチップ支持面と反対側の面および前記リ
ードの一部が封止部の実装側の面に露出するようにして
前記半導体チップを樹脂封止する工程と、前記リードを
前記リードフレームから分離する工程とを有するもので
ある。Further, the present invention has a lead frame having a tab, a suspension lead extending outward from the tab, and a plurality of leads, and the tab being arranged in a surface direction on the mounting side of the suspension lead. , A step of mounting the semiconductor chip on the tab, a step of connecting the surface electrode of the semiconductor chip and the lead with a wire, a surface of the tab opposite to the chip supporting surface and the lead. A step of resin-sealing the semiconductor chip so that a part of it is exposed to the mounting side surface of the sealing portion, and a step of separating the lead from the lead frame.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において、同一の機能を有する部材には同
一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. In all the drawings for explaining the embodiments, members having the same function are designated by the same reference numerals, and the repeated description thereof will be omitted.
【0018】(実施の形態1)図1は本発明の実施の形
態1の半導体装置(QFN)の構造の一例を封止部を透
過して示す平面図、図2は図1のA−A線に沿って切断
した断面の構造を示す断面図、図3は図1に示すQFN
の構造を封止部を透過して示す底面図、図4は図1に示
すQFNの組み立て手順の一例を示す製造プロセスフロ
ー図、図5は図1に示すQFNの組み立てに用いられる
リードフレームの構造の一例を示す側面図、図6、図7
および図8は図1に示すQFNの組み立てのそれぞれダ
イボンディング後、樹脂モールディング時および樹脂モ
ールディング後の構造の一例を示す側面図、部分断面図
および断面図、図9は変形例のQFNの組み立てに用い
られるリードフレームの構造の一例を示す側面図、図1
0、図11および図12は変形例のQFNの組み立ての
それぞれダイボンディング後、樹脂モールディング時、
樹脂モールディング後の構造の一例を示す側面図、部分
断面図および断面図、図12は変形例のQFNの組み立
てにおける樹脂モールディング後の構造の一例を示す断
面図、図13は変形例のリードフレームの構造を示す側
面図、図14は変形例のリードフレームの構造を示す側
面図である。(Embodiment 1) FIG. 1 is a plan view showing an example of the structure of a semiconductor device (QFN) according to Embodiment 1 of the present invention through a sealing portion, and FIG. 2 is AA of FIG. Sectional drawing which shows the structure of the cross section cut | disconnected along the line, FIG. 3 is QFN shown in FIG.
FIG. 4 is a bottom view showing the structure of FIG. 1 through a sealing portion, FIG. 4 is a manufacturing process flow chart showing an example of an assembly procedure of the QFN shown in FIG. 1, and FIG. 5 is a lead frame used for assembling the QFN shown in FIG. Side view showing an example of the structure, FIG. 6, FIG.
FIG. 8 is a side view, a partial cross-sectional view and a cross-sectional view showing an example of a structure after die bonding, during resin molding and after resin molding of the assembly of the QFN shown in FIG. 1, and FIG. 9 shows assembly of the modified QFN. FIG. 1 is a side view showing an example of the structure of a lead frame used.
0, FIG. 11 and FIG. 12 are, respectively, after the die bonding of the assembly of the QFN of the modified example, at the time of resin molding,
A side view, a partial cross-sectional view and a cross-sectional view showing an example of the structure after resin molding, FIG. 12 is a cross-sectional view showing an example of the structure after resin molding in assembly of a QFN of a modified example, and FIG. 13 is a lead frame of a modified example. FIG. 14 is a side view showing a structure, and FIG. 14 is a side view showing a structure of a modified lead frame.
【0019】本実施の形態1の半導体装置は、樹脂封止
形で、かつ面実装形の小形半導体パッケージであり、こ
こでは、前記半導体装置の一例として、QFN5を取り
上げて説明する。The semiconductor device according to the first embodiment is a resin-sealed and surface-mount type small semiconductor package. Here, QFN5 will be described as an example of the semiconductor device.
【0020】なお、QFN5は、図3に示すように、複
数の外部端子であるリード1aの被接続面(一部)1g
が、樹脂モールディングによって形成された封止部3の
実装側の面(以降、裏面3aという)の周縁部に並んで
露出して配置されたペリフェラル形の半導体パッケージ
であり、各リード1aは、封止部3に埋め込まれたイン
ナリードと、封止部3の裏面3aに露出するアウタリー
ドとの両者の機能を兼ねている。As shown in FIG. 3, the QFN 5 has a surface (part) 1g to be connected (partial) to the leads 1a which are a plurality of external terminals.
Is a peripheral type semiconductor package that is arranged and exposed side by side with a peripheral portion of a mounting side surface (hereinafter referred to as a back surface 3a) of the sealing portion 3 formed by resin molding, and each lead 1a is sealed. It also functions as both the inner lead embedded in the stopper 3 and the outer lead exposed on the back surface 3 a of the sealing portion 3.
【0021】さらに、半導体チップ2が搭載されるタブ
1bが封止部3の裏面3aに露出したタブ露出構造のも
のである。Further, the tab 1b on which the semiconductor chip 2 is mounted is exposed on the back surface 3a of the sealing portion 3 so that the tab is exposed.
【0022】図1〜図3を用いて、QFN5の詳細構成
について説明すると、半導体チップ2を支持する薄板状
のタブ1bと、半導体チップ2が樹脂封止されて形成さ
れた封止部3と、タブ1bと一体でこれを支持してタブ
1bから外側に向かって真っ直ぐに延在する吊りリード
1eと、封止部3の裏面3aの周縁部に被接続面1gが
露出して配置された複数の外部端子であるリード1a
と、半導体チップ2のパッド(表面電極)2aとこれに
対応するリード1aとを接続するボンディング用のワイ
ヤ4とからなるものである。The detailed structure of the QFN 5 will be described with reference to FIGS. 1 to 3. A tab 1b in the form of a thin plate that supports the semiconductor chip 2 and a sealing portion 3 formed by resin-sealing the semiconductor chip 2 are described. , The suspension lead 1e that integrally supports the tab 1b and extends straight from the tab 1b toward the outside, and the connected surface 1g are arranged so as to be exposed at the peripheral edge of the back surface 3a of the sealing portion 3. Leads 1a that are a plurality of external terminals
And a bonding wire 4 for connecting the pad (surface electrode) 2a of the semiconductor chip 2 and the lead 1a corresponding thereto.
【0023】なお、半導体チップ2を支持するタブ1b
は、そのチップ支持面1cが半導体チップ2の主面2b
より大きく、したがって、本実施の形態1のQFN5
は、大タブ型のものであるが、タブ1bの大きさや平面
形状は、特に限定されるものではない。The tab 1b for supporting the semiconductor chip 2
The chip supporting surface 1c is the main surface 2b of the semiconductor chip 2.
Larger, and therefore QFN5 of the first embodiment
Is a large tab type, but the size and planar shape of the tab 1b are not particularly limited.
【0024】さらに、タブ1bは、その4つの角部にお
いて吊りリード1eによって支持されているが、吊りリ
ード1eの本数やその支持箇所などは特に限定されるも
のではない。Further, the tab 1b is supported by the suspension leads 1e at the four corners thereof, but the number of suspension leads 1e and the supporting points thereof are not particularly limited.
【0025】なお、リード1a、吊りリード1eおよび
タブ1bは、例えば、銅などの金属材からなり、その厚
さは、例えば、0.2mm程度である。The leads 1a, the suspension leads 1e and the tabs 1b are made of a metal material such as copper and have a thickness of, for example, about 0.2 mm.
【0026】また、半導体チップ2は、図2に示すよう
に、タブ1bのチップ支持面1cに銀ペーストなどのダ
イボンド材によって固着されている。Further, as shown in FIG. 2, the semiconductor chip 2 is fixed to the chip supporting surface 1c of the tab 1b by a die bonding material such as silver paste.
【0027】また、半導体チップ2のパッド2aとこれ
に対応するリード1aとを接続するボンディング用のワ
イヤ4は、例えば、金線などである。The bonding wire 4 for connecting the pad 2a of the semiconductor chip 2 and the corresponding lead 1a is, for example, a gold wire.
【0028】さらに、封止部3は、モールディング方法
による樹脂封止によって形成され、その際用いられる封
止用樹脂(モールディング用樹脂)は、例えば、熱硬化
性のエポキシ樹脂などである。Further, the sealing portion 3 is formed by resin sealing by a molding method, and the sealing resin (molding resin) used at that time is, for example, a thermosetting epoxy resin.
【0029】また、封止部3の裏面3aの周縁部に露出
する各リード1aの被接続面1gには、実装基板などへ
の実装時の半田接続用の半田メッキが形成されている
が、前記半田メッキの代わりとして、パラジウム(P
d)メッキなどを形成してもよい。Further, although solder-plating for solder connection at the time of mounting on a mounting board or the like is formed on the connected surface 1g of each lead 1a exposed at the peripheral portion of the back surface 3a of the sealing portion 3, As an alternative to the solder plating, palladium (P
d) Plating or the like may be formed.
【0030】次に、本実施の形態1のQFN5の製造方
法を図4に示す製造プロセスフロー図にしたがって説明
する。Next, the manufacturing method of the QFN 5 of the first embodiment will be described with reference to the manufacturing process flow chart shown in FIG.
【0031】まず、半導体チップ2を搭載可能な薄板状
のタブ1bと、タブ1bと一体でこれを支持するととも
にタブ1bから外側に向かって真っ直ぐに延在する吊り
リード1eと、タブ1bの周囲に配置された複数のリー
ド1aとを有する図5に示すリードフレーム1を準備す
る(ステップS1)。First, a thin plate-shaped tab 1b on which the semiconductor chip 2 can be mounted, a suspension lead 1e that integrally supports the tab 1b and extends straight from the tab 1b toward the outside, and the periphery of the tab 1b. A lead frame 1 shown in FIG. 5 having a plurality of leads 1a arranged in the above is prepared (step S1).
【0032】なお、リードフレーム1では、図6に示す
ように、タブ1bが吊りリード1eより吊りリード1e
の実装側の面方向に配置されている。すなわち、タブ下
げ加工が施されたリードフレーム1である。その際のタ
ブ下げ量(T)は、リードフレーム1の板厚(例えば、
0.2mm)程度か、またはそれより僅かに少ない程度
で、組成変形可能な程度の曲げ量である。Incidentally, in the lead frame 1, as shown in FIG. 6, the tab 1b is more than the suspension lead 1e.
Are arranged in the surface direction on the mounting side of. That is, it is the lead frame 1 that has been subjected to the tab lowering process. The tab lowering amount (T) at that time is the plate thickness of the lead frame 1 (for example,
The bending amount is such that the composition can be deformed by about 0.2 mm) or slightly less.
【0033】このタブ下げ加工は、樹脂モールディング
後に、図3に示すように、封止部3の裏面3aに確実に
タブ1bの裏面1dを露出させるための加工である。The tab lowering process is a process for surely exposing the back surface 1d of the tab 1b to the back surface 3a of the sealing portion 3 after the resin molding, as shown in FIG.
【0034】一方、図2に示す主面2bに半導体集積回
路が形成された半導体チップ2を準備した後、半導体チ
ップ2を供給し、図6に示すように、リードフレーム1
のタブ1bに半導体チップ2を搭載するステップS2に
示すダイボンディングを行う。On the other hand, after the semiconductor chip 2 having the semiconductor integrated circuit formed on the main surface 2b shown in FIG. 2 is prepared, the semiconductor chip 2 is supplied and, as shown in FIG.
The die bonding shown in step S2 for mounting the semiconductor chip 2 on the tab 1b is performed.
【0035】ここでは、リードフレーム1のタブ1bの
チップ支持面1cと半導体チップ2の裏面2cとを接合
する。すなわち、リードフレーム1のタブ1bのチップ
支持面1cにダイボンド材(例えば、銀ペーストなど)
を介して主面2bを上方に向けて半導体チップ2を固定
(搭載)する。Here, the chip supporting surface 1c of the tab 1b of the lead frame 1 and the back surface 2c of the semiconductor chip 2 are bonded together. That is, a die bond material (for example, silver paste) is attached to the chip supporting surface 1c of the tab 1b of the lead frame 1.
The semiconductor chip 2 is fixed (mounted) with the main surface 2b facing upward via.
【0036】続いて、半導体チップ2のパッド2aとこ
れに対応するリードフレーム1のリード1aとを金線な
どのワイヤ4によって接続するワイヤボンディングを行
う(ステップS3)。Then, wire bonding is performed to connect the pad 2a of the semiconductor chip 2 and the corresponding lead 1a of the lead frame 1 with the wire 4 such as a gold wire (step S3).
【0037】その後、ステップS4に示すように、モー
ルド(ここでは、トランスファーモールディング)によ
る半導体チップ2の樹脂封止を行う。After that, as shown in step S4, resin molding of the semiconductor chip 2 is performed by molding (here, transfer molding).
【0038】ここでは、タブ1bの裏面1dと各リード
1aの被接続面1gとが封止部3の裏面3aに露出する
ように封止部3を形成する。Here, the sealing portion 3 is formed so that the back surface 1d of the tab 1b and the connection surface 1g of each lead 1a are exposed on the back surface 3a of the sealing portion 3.
【0039】その際、図7に示すように、モールド用の
上金型6と下金型7とによってタブ下げ加工が施された
リードフレーム1を挟んでクランプし、この状態で上金
型6のキャビティ6aに封止用樹脂を充填してモールデ
ィングを行う。At this time, as shown in FIG. 7, the lead frame 1 having the tab lowering process is sandwiched between the upper mold 6 and the lower mold 7 for clamping and clamped, and in this state, the upper mold 6 is held. Molding is performed by filling the cavity 6a with a sealing resin.
【0040】なお、リードフレーム1においてはタブ下
げ加工が施されているため、上金型6と下金型7による
クランプ中には、タブ1bに対してタブ1bが下金型7
に押し付けられる方向への応力が働く。Since the lead frame 1 is subjected to the tab lowering process, the tab 1b is lower than the tab 1b during clamping by the upper mold 6 and the lower mold 7.
The stress acts in the direction of being pressed against.
【0041】したがって、封止用樹脂の充填中、タブ1
bは下金型7に確実に密着し、これによって、タブ1b
と下金型7の間に封止用樹脂が入り込むことを確実に防
げる。Therefore, during the filling of the sealing resin, the tab 1
b is firmly adhered to the lower mold 7, and as a result, the tab 1b
It is possible to reliably prevent the sealing resin from entering between the lower mold 7 and the lower mold 7.
【0042】封止用樹脂のキャビティ6aへの樹脂充填
の終了後、封止用樹脂を硬化させ、その後、型開きを行
って、リードフレーム1を取り出す。After the filling of the sealing resin into the cavity 6a is completed, the sealing resin is cured and then the mold is opened to take out the lead frame 1.
【0043】その後、ステップS5に示す切断(個片
化)を行う。After that, cutting (singulation) shown in step S5 is performed.
【0044】ここでは、各リード1aと各吊りリード1
eをリードフレーム1から切断分離して各パッケージの
個片化を行う。Here, each lead 1a and each suspension lead 1
e is cut and separated from the lead frame 1 to separate each package into individual pieces.
【0045】これにより、ステップS6に示すQFN完
成となる。As a result, the QFN shown in step S6 is completed.
【0046】本実施の形態1では、タブ下げ加工が施さ
れたリードフレーム1を用いてQFN5を組み立てるこ
とにより、封止部3の裏面3aにタブ1bを確実に露出
させることができる。In the first embodiment, by assembling the QFN 5 using the lead frame 1 having the tab lowering process, the tab 1b can be surely exposed on the back surface 3a of the sealing portion 3.
【0047】その際、モールディング工程において、フ
ィルム状テープや接着テープなどのテープ材を用いずに
樹脂モールディングを行うため、テープ材が不要とな
り、QFN5の製造コストの低減化を図ることができ
る。At this time, in the molding step, since resin molding is performed without using a tape material such as a film tape or an adhesive tape, the tape material is not required, and the manufacturing cost of the QFN 5 can be reduced.
【0048】なお、QFN5の組み立て工程としては、
タブ下げ加工が施されたリードフレーム1を用いるだけ
であり、従来の組み立て方法をそのまま用いて組み立て
を行うことができ、特殊な製造方法を必要とせずに従来
の製造方法で対応することが可能である。The assembly process of QFN5 is as follows.
Since only the lead frame 1 that has been subjected to the tab lowering process is used, the assembly can be performed using the conventional assembly method as it is, and the conventional manufacturing method can be used without requiring a special manufacturing method. Is.
【0049】したがって、QFN5の各部材の寸法など
の変更もないため、材料の安定供給を図ることができ
る。Therefore, since there is no change in the size of each member of the QFN 5, it is possible to stably supply the material.
【0050】次に、実施の形態1の変形例について説明
する。Next, a modification of the first embodiment will be described.
【0051】図9は変形例のリードフレーム1であり、
QFN5の組み立てに用いるリードフレーム1におい
て、図10に示すようにタブ下げ加工が施されていると
ともに、タブ1bのチップ支持面1cとこれに繋がる吊
りリード1eの表面とが吊りリード1eの端部1hの表
面より凹んで薄く形成されているものである。FIG. 9 shows a modified lead frame 1.
In the lead frame 1 used for assembling the QFN 5, tab lowering processing is performed as shown in FIG. 10, and the chip support surface 1c of the tab 1b and the surface of the suspension lead 1e connected thereto are the end portions of the suspension lead 1e. It is formed so as to be recessed and thinner than the surface of 1 h.
【0052】すなわち、図9および図10に示すよう
に、吊りリード1eの端部1hより内側領域からタブ1
bのチップ支持面1c全体に亘る領域が吊りリード1e
の端部1hより凹んで凹部1fとなっており、凹部1f
の厚さが、吊りリード1eの端部1hの厚さより薄くな
っている。That is, as shown in FIG. 9 and FIG. 10, the tab 1 starts from the region inside the end 1h of the suspension lead 1e.
The region extending over the entire chip support surface 1c of b is the suspension lead 1e.
The recess 1f is recessed from the end 1h of the
Is thinner than the thickness of the end 1h of the suspension lead 1e.
【0053】さらに、タブ下げ加工も施されている。Further, a tab lowering process is also applied.
【0054】なお、吊りリード1eの端部1hとは、吊
りリード1eの端からリード1aの長さと同等の長さの
領域までを意味しており、吊りリード1eにおいてタブ
下げのための曲げ加工を行う箇所は、端部1hより内側
の薄くなった領域である。The end portion 1h of the suspension lead 1e means a region from the end of the suspension lead 1e to a region having a length equivalent to the length of the lead 1a, and the suspension lead 1e is bent to lower the tab. The location where is performed is a thinned area inside the end 1h.
【0055】さらに、凹部1fの底部の薄くなった箇所
の厚さは、例えば、吊りリード1eの端部1hの厚さを
0.2mmとすると、その半分程度であり、薄くする加工
方法は、例えば、エッチングであるが、前記エッチング
以外のコイニングなどのプレス加工で薄くしてもよい。Further, the thickness of the thinned portion of the bottom of the recess 1f is, for example, the thickness of the end 1h of the suspension lead 1e.
If it is 0.2 mm, it is about half that, and the processing method for thinning is, for example, etching, but press processing such as coining other than the etching may be used for thinning.
【0056】なお、前記タブ下げを行うにあたり、吊り
リード1eのタブ下げのための曲げ箇所を薄くしておく
ことにより、タブ下げのための組成変形(曲げ加工)を
容易に行える。すなわち、図5に示すリードフレーム1
と図9に示すリードフレーム1とでは、タブ下げのため
の曲げ箇所におけるフレーム厚さが図9に示すリードフ
レーム1の方が薄いため、図9に示すリードフレーム1
の方が容易に組成変形させることができる。In performing the tab lowering, by thinning the bending portion for lowering the tab of the suspension lead 1e, the composition deformation (bending process) for lowering the tab can be easily performed. That is, the lead frame 1 shown in FIG.
9 and the lead frame 1 shown in FIG. 9, the lead frame 1 shown in FIG. 9 has a thinner frame thickness at the bent portion for lowering the tab.
The composition can be easily modified.
【0057】したがって、図5に示すリードフレーム1
と図9に示すリードフレーム1とでは、図9に示すリー
ドフレーム1の方がタブ下げ量が少なくて済む(図6と
図10に示すタブ下げ量において、T>Sとなる)。Therefore, the lead frame 1 shown in FIG.
With the lead frame 1 shown in FIG. 9, the lead frame 1 shown in FIG. 9 requires a smaller amount of tab lowering (T> S at the tab lowering amounts shown in FIGS. 6 and 10).
【0058】これにより、ワイヤボンディング後の図6
と図10それぞれに示す構造では、図10に示すリード
フレーム1の方がタブ下げ量が小さい分タブ1bの変位
量も小さいため、したがって、ワイヤ4にかかるストレ
スも小さくなり、ワイヤ4の接合部の剥離や断線も生じ
にくい。As a result, FIG. 6 after wire bonding is performed.
In the structure shown in FIG. 10 and the structure shown in FIG. 10, respectively, the lead frame 1 shown in FIG. Peeling off and disconnection are unlikely to occur.
【0059】図9に示すリードフレーム1を準備した
後、図10に示すようにタブ1bに半導体チップ2を搭
載し、さらに、ワイヤボンディングを行った後、図11
に示すようにモールディング用の上金型6と下金型7と
を用いて樹脂モールディングを行う。After the lead frame 1 shown in FIG. 9 is prepared, the semiconductor chip 2 is mounted on the tab 1b as shown in FIG. 10, and wire bonding is further performed.
Resin molding is performed using the upper mold 6 and the lower mold 7 for molding as shown in FIG.
【0060】その後、樹脂を硬化させ、さらに、リード
切断(個片化)を行って図12に示すようなQFN5の
完了となる。After that, the resin is hardened and leads are cut (divided into individual pieces) to complete the QFN 5 as shown in FIG.
【0061】なお、図9に示すリードフレーム1は、そ
のチップ搭載側を凹ませて薄くした構造のものである
が、図13に示す変形例のリードフレーム1のように、
タブ1bの裏面1d側を凹ませて薄くしてもよく、ある
いは、図14に示す変形例のように、チップ搭載側とタ
ブ1bの裏面側との両面を凹ませて薄く形成してもよ
い。Although the lead frame 1 shown in FIG. 9 has a structure in which the chip mounting side is recessed to be thin, like the lead frame 1 of the modified example shown in FIG.
The back surface 1d side of the tab 1b may be recessed to be thin, or, as in the modification shown in FIG. 14, both the chip mounting side and the back surface side of the tab 1b may be recessed to be thin. .
【0062】図9および図14に示すリードフレーム1
では、タブ1bの少なくともチップ搭載側を凹ませてい
るため、図12に示すように、タブ1bを薄くした分、
半導体チップ2の配置高さを低い位置とすることができ
る。Lead frame 1 shown in FIGS. 9 and 14.
Then, since at least the chip mounting side of the tab 1b is recessed, as shown in FIG.
The arrangement height of the semiconductor chip 2 can be set to a low position.
【0063】これにより、半導体チップ2の厚さを変え
ずにこれを基準として考えると、QFN5の高さ(厚
み)を低く(薄く)することができ、一方、QFN5の
高さを変えずにこれを基準として考えると、半導体チッ
プ2の高さ(厚み)を高く(厚く)することができる。Thus, if the thickness of the semiconductor chip 2 is not changed and is considered as a reference, the height (thickness) of the QFN 5 can be lowered (thinned), while the height of the QFN 5 is not changed. Considering this as a reference, the height (thickness) of the semiconductor chip 2 can be increased (thickened).
【0064】すなわち、パッケージ高さを変えずに半導
体チップ2の厚さを厚くすることができる。That is, the thickness of the semiconductor chip 2 can be increased without changing the package height.
【0065】(実施の形態2)図15は本発明の実施の
形態2の半導体装置(QFN)の構造の一例を封止部を
透過して示す平面図、図16は図15のB−B線に沿っ
て切断した断面の構造を示す断面図、図17は図15に
示すQFNの構造の一例を封止部を透過して示す底面
図、図18は図15のC−C線に沿って切断した断面の
構造を示す断面図、図19および図20はそれぞれ本発
明の実施の形態2の変形例のQFNの構造を示す断面図
である。(Embodiment 2) FIG. 15 is a plan view showing an example of the structure of a semiconductor device (QFN) according to Embodiment 2 of the present invention through the sealing portion, and FIG. 16 is BB of FIG. FIG. 17 is a cross-sectional view showing the structure of a cross section taken along the line, FIG. 17 is a bottom view showing an example of the structure of the QFN shown in FIG. 15 through the sealing portion, and FIG. 18 is taken along the line CC of FIG. 19 and 20 are cross-sectional views showing the structure of the QFN of the modified example of the second embodiment of the present invention.
【0066】図15〜図17に示す本実施の形態2のQ
FN8は、実施の形態1のQFN5と同様にタブ露出構
造のものであるが、タブ下げ加工は無く、吊りリード1
eの実装側の面と反対側の面、すなわち吊りリード1e
のチップ搭載側の面(表面)、あるいはタブ1bのチッ
プ支持面1cの少なくとも何れかに、図18、図19お
よび図20に示すような凹部1iが形成されているもの
である。Q of the second embodiment shown in FIGS.
The FN8 has a tab exposure structure similar to the QFN5 of the first embodiment, but there is no tab lowering process, and the suspension lead 1 is used.
The surface opposite to the mounting surface of e, that is, the suspension lead 1e
The recess 1i as shown in FIGS. 18, 19 and 20 is formed on at least one of the surface (front surface) on the chip mounting side or the chip supporting surface 1c of the tab 1b.
【0067】すなわち、タブ1bのチップ支持面1cま
たはこのチップ支持面1cに繋がる吊りリード1eの表
面の一部のうちのいずれか一方あるいは両者に、吊りリ
ード1eの端部1hより凹んで薄く形成された凹部1i
が形成されているものである。That is, one or both of the chip support surface 1c of the tab 1b and the surface of the suspension lead 1e connected to this chip support surface 1c or both of them is formed thinner than the end portion 1h of the suspension lead 1e. Recess 1i
Are formed.
【0068】そこで、図18はタブ1bのチップ支持面
1c全体と吊りリード1eの表面の一部が凹んで凹部1
iとなったものであり、また、図19はタブ1bのチッ
プ支持面1c全体とこれに繋がる吊りリード1eの端部
1hより内側領域とが凹んで凹部1iとなったものであ
り、さらに、図20は吊りリード1eの端部1hより内
側領域に凹部1iが形成された場合である。Therefore, in FIG. 18, the entire chip support surface 1c of the tab 1b and a part of the surface of the suspension lead 1e are recessed to form the recess 1
FIG. 19 shows that the entire chip support surface 1c of the tab 1b and the region inside the end 1h of the suspension lead 1e connected to the tab 1b are recessed to form a recess 1i. FIG. 20 shows a case where the recess 1i is formed in the region inside the end 1h of the suspension lead 1e.
【0069】これらの凹部1iは、リードフレーム1の
圧延加工時の残留歪みを応用してタブ1bを含む吊りリ
ード1eのチップ搭載側の面を削って薄くする領域を形
成することにより、タブ1bが実装側の面方向に凸とな
るようにタブ1bおよびその吊りリード1e領域を反ら
せて、タブ1bを封止部3の裏面3aに確実に露出させ
るものである。These recesses 1i are formed by applying residual strain during the rolling process of the lead frame 1 to form a region where the surface of the suspension lead 1e including the tab 1b on the chip mounting side is thinned to form the tab 1b. The tab 1b and the suspension lead 1e region thereof are bent so that the tab 1b becomes convex in the surface direction on the mounting side, and the tab 1b is surely exposed on the back surface 3a of the sealing portion 3.
【0070】また、図19や図20に示すQFN8にお
いて、吊りリード1eの端部1hの内側領域に形成され
た凹部1iは、封止部3とかみ合っており、凹部1iと
封止部3との接合面の関係が凹凸状になるため、外部か
らの水分の浸入経路を長くすることができ、その結果、
QFN8の耐湿性の向上を図ることができる。In the QFN 8 shown in FIGS. 19 and 20, the recess 1i formed in the inner region of the end 1h of the suspension lead 1e meshes with the sealing portion 3, and the recess 1i and the sealing portion 3 are connected to each other. Since the relationship of the joint surface of is uneven, it is possible to lengthen the infiltration route of moisture from the outside, and as a result,
The moisture resistance of QFN8 can be improved.
【0071】したがって、例えば、図20に示すQFN
8の場合、吊りリード1eに形成された凹部1iをさら
に細かな複数の凹部1iで形成することにより、水分の
浸入経路をさらに長くすることができるため、耐湿性の
向上をさらに図ることができる。Therefore, for example, the QFN shown in FIG.
In the case of No. 8, by forming the recesses 1i formed in the suspension lead 1e by a plurality of finer recesses 1i, it is possible to further lengthen the water entry path, and thus it is possible to further improve the moisture resistance. .
【0072】次に、銅などの金属の薄板材における材料
加工(圧延加工)時の歪みについて説明する。Next, the strain during material processing (rolling) of a thin plate material of metal such as copper will be described.
【0073】銅板などの金属材料では、板材にその材料
加工時の歪みが残っており、板材の片側のみをハーフエ
ッチングなどで削った場合、その歪みのバランスが崩
れ、結果的に板材の厚さ方向に対して反りなどの変形が
生じる。その際、板材の一方の面側を板厚の1/2程度
の厚さを削って薄くすれば、板材の削った側と反対側の
他方面側に凸となるように板材が反ることが知られてい
る。In the case of a metal material such as a copper plate, the plate material still has distortion during material processing, and when only one side of the plate material is cut by half etching or the like, the distortion is unbalanced, resulting in the thickness of the plate material. Deformation such as warpage occurs in the direction. At that time, if one side of the plate material is thinned by cutting about 1/2 of the plate thickness, the plate material warps so as to be convex on the other surface side opposite to the scraped side of the plate material. It has been known.
【0074】このことをリードフレーム1に応用して、
例えば、ハーフエッチングなどによってリードフレーム
1のタブ1bや、吊りリード1eのチップ搭載側の面の
一部に凹部1iを形成して薄くすることにより、タブ1
bがその裏面1d側に凸となるようにリードフレーム1
を反らせることができる。Applying this to the lead frame 1,
For example, the tab 1b of the lead frame 1 or a part of the surface of the suspension lead 1e on the chip mounting side is formed and thinned by half etching or the like to reduce the thickness of the tab 1b.
Lead frame 1 so that b is convex on the back surface 1d side
Can be warped.
【0075】したがって、本実施の形態2のQFN8で
は、この技術を用いることにより、タブ露出構造のQF
N8においてタブ1bを封止部3の裏面3aに確実に露
出させることができる。Therefore, in the QFN 8 of the second embodiment, by using this technique, the QFN of the tab exposed structure is used.
At N8, the tab 1b can be reliably exposed on the back surface 3a of the sealing portion 3.
【0076】つまり、モールディング工程の金型クラン
プ時に、タブ1bの裏面1dを図7に示す下金型7に密
着させることができるため、タブ1bと下金型7との間
に封止用樹脂が入り込むことを防止でき、その結果、タ
ブ1bを確実に露出させることができる。That is, since the back surface 1d of the tab 1b can be brought into close contact with the lower mold 7 shown in FIG. 7 during the mold clamping in the molding step, a sealing resin is provided between the tab 1b and the lower mold 7. Can be prevented from entering, and as a result, the tab 1b can be surely exposed.
【0077】なお、図18、図19および図20に示す
本実施の形態2のQFN8の組み立て方法については、
実施の形態1のQFN5と同じであり、図4に示す製造
プロセスフロー図にしたがって組み立てることが可能で
ある。The method of assembling the QFN 8 of the second embodiment shown in FIGS. 18, 19 and 20 is as follows.
It is the same as the QFN 5 of the first embodiment and can be assembled according to the manufacturing process flow chart shown in FIG.
【0078】そこで、本実施の形態2では、タブ1bや
吊りリード1eのチップ搭載側の面の一部に凹部1iを
形成して薄くすることにより、モールディング工程の金
型クランプ時に、タブ1bの裏面1dを下金型7に密着
させてタブ1bと下金型7との間に封止用樹脂が入り込
むことを防止でき、その結果、タブ1bの裏面1dを封
止部3の裏面3aに確実に露出させることができる。Therefore, in the second embodiment, the recess 1i is formed in a part of the surface of the tab 1b or the suspension lead 1e on the chip mounting side to make it thinner, so that the tab 1b can be clamped during the mold clamping in the molding process. The back surface 1d can be brought into close contact with the lower mold 7 to prevent the sealing resin from entering between the tab 1b and the lower mold 7. As a result, the back surface 1d of the tab 1b can be fixed to the back surface 3a of the sealing portion 3. It can be surely exposed.
【0079】さらに、図18および図19に示すQFN
8では、タブ1bが薄くなる分、半導体チップ2が低い
位置に配置されるため、半導体チップ2の主面上の体積
が増え、半導体チップ2の主面上に配置される封止用樹
脂の量も増える。Further, the QFN shown in FIG. 18 and FIG.
In FIG. 8, since the semiconductor chip 2 is arranged at a lower position as the tab 1b becomes thinner, the volume on the main surface of the semiconductor chip 2 is increased, and the sealing resin disposed on the main surface of the semiconductor chip 2 is increased. The amount also increases.
【0080】これによって、樹脂モールディングにおけ
る封止用樹脂の充填時に半導体チップ2をタブ1b側
(下方側)に押す力が作用する。As a result, a force that pushes the semiconductor chip 2 toward the tab 1b (lower side) acts when the sealing resin is filled in the resin molding.
【0081】したがって、樹脂充填時に、タブ1bの裏
面1dを下金型7に密着させてタブ1bと下金型7との
間に封止用樹脂が入り込むことを防止できるため、その
結果、タブ1bを確実に露出できる。Therefore, when the resin is filled, the back surface 1d of the tab 1b can be brought into close contact with the lower mold 7 to prevent the sealing resin from entering between the tab 1b and the lower mold 7. 1b can be reliably exposed.
【0082】さらに、図19に示すQFN8では、タブ
1bとこれに繋がる吊りリード1eの端部1hの内側領
域までを薄くしているため、タブ1bに搭載される半導
体チップ2のチップサイズを大きくすることができる。Further, in the QFN 8 shown in FIG. 19, since the tab 1b and the inner region of the end 1h of the suspension lead 1e connected to the tab 1b are thinned, the chip size of the semiconductor chip 2 mounted on the tab 1b is increased. can do.
【0083】なお、本実施の形態2のその他の効果につ
いては、実施の形態1で説明したものと同様であるた
め、その重複説明は省略する。Since the other effects of the second embodiment are the same as those described in the first embodiment, duplicate description thereof will be omitted.
【0084】また、本実施の形態2のQFN8では、図
18、図19および図20に示すように、吊りリード1
eの実装側の面に裏面側凹部1jが形成されている。こ
の裏面側凹部1jは、QFN8を実装基板に実装した際
に、吊りリード1eに隣接するリード1aに対応した基
板側の端子と吊りリード1eとの接触を防ぐためのもの
であり、加えて、吊りリード1eをなるべく封止部3内
に埋め込んで封止部3の裏面3aに露出する吊りリード
1eの面積を少なくするものである。Further, in the QFN 8 of the second embodiment, as shown in FIGS. 18, 19 and 20, the suspension lead 1 is used.
A back side recess 1j is formed on the mounting side surface of e. The back surface side recessed portion 1j is for preventing contact between the terminal on the substrate side corresponding to the lead 1a adjacent to the suspension lead 1e and the suspension lead 1e when the QFN 8 is mounted on the mounting substrate. The suspension lead 1e is embedded in the sealing portion 3 as much as possible to reduce the area of the suspension lead 1e exposed on the back surface 3a of the sealing portion 3.
【0085】これによって、QFN8の外観品質の向上
を図ることができる。As a result, the appearance quality of the QFN 8 can be improved.
【0086】ただし、裏面側凹部1jは、必ずしも形成
されていなくてもよい。However, the back surface side concave portion 1j does not necessarily have to be formed.
【0087】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments of the invention, the invention is not limited to the embodiments of the invention, and does not depart from the scope of the invention. It goes without saying that various changes can be made with.
【0088】例えば、実施の形態1で説明した凹部1f
と、実施の形態2で説明した凹部1iとを共通化して設
けてもよい。For example, the concave portion 1f described in the first embodiment.
The recess 1i described in the second embodiment may be provided in common.
【0089】すなわち、図10に示す構造であれば、タ
ブ下げによるタブ露出効果と、リードフレーム1の材料
の残留応力によるタブ露出効果との両者を兼ねることが
できる。That is, with the structure shown in FIG. 10, it is possible to have both the tab exposure effect due to the tab lowering and the tab exposure effect due to the residual stress of the material of the lead frame 1.
【0090】また、前記実施の形態1,2では、タブ1
bのチップ支持面1cが半導体チップ2の主面2bより
大きな大タブ構造を用いた場合を説明したが、図21の
変形例に示すように小タブ構造のQFN5であってもよ
い。In the first and second embodiments, the tab 1
The case of using the large tab structure in which the chip supporting surface 1c of b is larger than the main surface 2b of the semiconductor chip 2 has been described, but it may be a QFN 5 having a small tab structure as shown in the modification of FIG.
【0091】[0091]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.
【0092】タブ下げ加工が行われたリードフレームを
用いてタブ露出構造の半導体装置を組み立てることによ
り、タブを確実に露出させることができるとともに、フ
ィルム状テープや接着テープなどのテープ材を用いずに
組み立てることができるため、半導体装置の製造コスト
の低減化を図ることができる。By assembling the semiconductor device having the tab exposed structure using the lead frame subjected to the tab lowering process, the tab can be surely exposed, and a tape material such as a film tape or an adhesive tape is not used. Since the semiconductor device can be assembled in the same manner, the manufacturing cost of the semiconductor device can be reduced.
【図1】本発明の実施の形態1の半導体装置(QFN)
の構造の一例を封止部を透過して示す平面図である。FIG. 1 is a semiconductor device (QFN) according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing an example of the structure of FIG.
【図2】図1のA−A線に沿って切断した断面の構造を
示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a structure of a cross section taken along line AA of FIG.
【図3】図1に示すQFNの構造を封止部を透過して示
す底面図である。FIG. 3 is a bottom view showing the structure of the QFN shown in FIG. 1 through a sealing portion.
【図4】図1に示すQFNの組み立て手順の一例を示す
製造プロセスフロー図である。4 is a manufacturing process flow chart showing an example of an assembly procedure of the QFN shown in FIG. 1. FIG.
【図5】図1に示すQFNの組み立てに用いられるリー
ドフレームの構造の一例を示す側面図である。5 is a side view showing an example of the structure of a lead frame used for assembling the QFN shown in FIG. 1. FIG.
【図6】図1に示すQFNの組み立てにおけるダイボン
ディング後の構造の一例を示す側面図である。6 is a side view showing an example of a structure after die bonding in assembling the QFN shown in FIG.
【図7】図1に示すQFNの組み立てにおける樹脂モー
ルディング時の構造の一例を示す部分断面図である。7 is a partial cross-sectional view showing an example of a structure at the time of resin molding in assembling the QFN shown in FIG.
【図8】図1に示すQFNの組み立てにおける樹脂モー
ルディング後の構造の一例を示す断面図である。8 is a cross-sectional view showing an example of a structure after resin molding in assembling the QFN shown in FIG.
【図9】本発明の実施の形態1の変形例のQFNの組み
立てに用いられるリードフレームの構造の一例を示す側
面図である。FIG. 9 is a side view showing an example of the structure of a lead frame used for assembling the QFN according to the modified example of the first embodiment of the present invention.
【図10】本発明の実施の形態1の変形例のQFNの組
み立てにおけるダイボンディング後の構造の一例を示す
側面図である。FIG. 10 is a side view showing an example of a structure after die bonding in assembling the QFN according to the modified example of the first embodiment of the present invention.
【図11】本発明の実施の形態1の変形例のQFNの組
み立てにおける樹脂モールディング時の構造の一例を示
す部分断面図である。FIG. 11 is a partial cross-sectional view showing an example of a structure at the time of resin molding in assembling the QFN of the modified example of the first embodiment of the present invention.
【図12】本発明の実施の形態1の変形例のQFNの組
み立てにおける樹脂モールディング後の構造の一例を示
す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing an example of a structure after resin molding in assembling the QFN according to the modified example of the first embodiment of the present invention.
【図13】本発明の実施の形態1の変形例のリードフレ
ームの構造を示す側面図である。FIG. 13 is a side view showing the structure of the lead frame of the modification of the first embodiment of the present invention.
【図14】本発明の実施の形態1の変形例のリードフレ
ームの構造を示す側面図である。FIG. 14 is a side view showing a structure of a lead frame of a modified example of the first embodiment of the present invention.
【図15】本発明の実施の形態2の半導体装置(QF
N)の構造の一例を封止部を透過して示す平面図であ
る。FIG. 15 shows a semiconductor device (QF according to the second embodiment of the present invention.
It is a top view which shows an example of the structure of N) by seeing through a sealing part.
【図16】図15のB−B線に沿って切断した断面の構
造を示す断面図である。16 is a sectional view showing a structure of a section taken along line BB in FIG.
【図17】図15に示すQFNの構造の一例を封止部を
透過して示す底面図である。FIG. 17 is a bottom view showing an example of the structure of the QFN shown in FIG. 15 through the sealing portion.
【図18】図15のC−C線に沿って切断した断面の構
造を示す断面図である。18 is a cross-sectional view showing a structure of a cross section taken along line CC of FIG.
【図19】本発明の実施の形態2の変形例のQFNの構
造を示す断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view showing the structure of a QFN according to a modified example of the second embodiment of the present invention.
【図20】本発明の実施の形態2の変形例のQFNの構
造を示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view showing the structure of a QFN according to a modified example of the second embodiment of the present invention.
【図21】図1に示すQFNに対する変形例のQFNの
構造を封止部を透過して示す底面図である。FIG. 21 is a bottom view showing the structure of a modified QFN with respect to the QFN shown in FIG.
1 リードフレーム 1a リード 1b タブ 1c チップ支持面 1d 裏面(反対側の面) 1e 吊りリード 1f 凹部 1g 被接続面(一部) 1h 端部 1i 凹部 1j 裏面側凹部 2 半導体チップ 2a パッド(表面電極) 2b 主面 2c 裏面 3 封止部 3a 裏面(実装側の面) 4 ワイヤ 5 QFN(半導体装置) 6 上金型 6a キャビティ 7 下金型 8 QFN(半導体装置) 1 lead frame 1a lead 1b tab 1c Chip support surface 1d Back side (opposite side) 1e Hanging lead 1f recess 1g Connected surface (part) 1h end 1i recess 1j Back side recess 2 semiconductor chips 2a Pad (surface electrode) 2b Main surface 2c back side 3 Sealing part 3a Back surface (mounting side surface) 4 wires 5 QFN (semiconductor device) 6 Upper mold 6a cavity 7 Lower mold 8 QFN (semiconductor device)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F067 AA01 AA03 AA04 AB04 BD05 BE02 CA07 CC07 DA00 DA11 DA16 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 5F067 AA01 AA03 AA04 AB04 BD05 BE02 CA07 CC07 DA00 DA11 DA16
Claims (5)
体装置であって、 前記半導体チップが樹脂封止されて形成された封止部
と、 前記半導体チップを支持し、前記封止部の実装側の面に
露出するタブと、 前記タブと一体で前記タブから外側に向かって延在する
吊りリードと、 前記封止部の実装側の面の周縁部に一部が露出して配置
された複数のリードと、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
ドとを接続するワイヤとを有し、 前記吊りリードの実装側の面と反対側の面に前記封止部
とかみ合う凹部が形成されていることを特徴とする半導
体装置。1. A semiconductor device in which a semiconductor chip is resin-sealed, wherein a sealing portion formed by resin-sealing the semiconductor chip, and a mounting of the sealing portion supporting the semiconductor chip. A tab exposed on the side surface, a suspension lead that is integral with the tab and extends outward from the tab, and a part of the suspension lead is disposed on the peripheral portion of the mounting side surface of the sealing portion. A plurality of leads, a surface electrode of the semiconductor chip and a wire connecting the leads corresponding thereto, and a recess that engages with the sealing portion is formed on the surface opposite to the mounting side surface of the suspension lead. A semiconductor device characterized by being formed.
タブと一体で前記タブから外側に延在する吊りリード
と、前記タブの周囲に配置された複数のリードとを有し
ており、前記タブが前記吊りリードよりその実装側の面
方向に配置されたリードフレームを準備する工程と、 前記リードフレームの前記タブに前記半導体チップを搭
載する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
ドとをワイヤによって接続する工程と、 前記タブのチップ支持面と反対側の面および前記リード
の一部が封止部の実装側の面に露出するように前記封止
部を形成して前記半導体チップを樹脂封止する工程と、 前記リードを前記リードフレームから分離する工程とを
有することを特徴とする半導体装置の製造方法。2. A tab having a semiconductor chip mountable thereon, a suspension lead which is integral with the tab and extends outward from the tab, and a plurality of leads arranged around the tab. A step of preparing a lead frame in which tabs are arranged in a surface direction on the mounting side of the suspension leads; a step of mounting the semiconductor chip on the tabs of the lead frame; and a surface electrode of the semiconductor chip and corresponding thereto The step of connecting the lead with a wire, and forming the sealing portion such that the surface of the tab opposite to the chip supporting surface and a part of the lead are exposed to the surface of the mounting side of the sealing portion. And a step of sealing the semiconductor chip with a resin, and a step of separating the lead from the lead frame.
タブと一体で前記タブから外側に延在する吊りリード
と、前記タブの周囲に配置された複数のリードとを有し
ており、前記タブが前記吊りリードよりその実装側の面
方向に配置されているとともに、前記タブのチップ支持
面とこれに繋がる前記吊りリードの表面とが前記吊りリ
ードの端部より凹んで薄く形成されたリードフレームを
準備する工程と、 前記リードフレームの前記タブに前記半導体チップを搭
載する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
ドとをワイヤによって接続する工程と、 前記タブのチップ支持面と反対側の面および前記リード
の一部が封止部の実装側の面に露出するように前記封止
部を形成して前記半導体チップを樹脂封止する工程と、 前記リードを前記リードフレームから分離する工程とを
有することを特徴とする半導体装置の製造方法。3. A semiconductor chip mountable tab, a suspension lead that is integral with the tab and extends outward from the tab, and a plurality of leads that are arranged around the tab. The tab is arranged in the surface direction on the mounting side of the suspension lead, and the chip support surface of the tab and the surface of the suspension lead connected to the tab are recessed from the end of the suspension lead and formed thinly. A step of preparing a frame; a step of mounting the semiconductor chip on the tab of the lead frame; a step of connecting a surface electrode of the semiconductor chip and the lead corresponding thereto by a wire; chip support of the tab A step of resin-sealing the semiconductor chip by forming the sealing portion so that a surface opposite to the surface and a part of the lead are exposed at a mounting-side surface of the sealing portion, The method of manufacturing a semiconductor device characterized by a step of separating the serial read from the lead frame.
タブと一体で前記タブから外側に延在する吊りリード
と、前記タブの周囲に配置された複数のリードとを有し
ており、前記タブのチップ支持面または前記チップ支持
面に繋がる前記吊りリードの表面のうち何れか一方が前
記吊りリードの端部より凹んで薄く形成されたリードフ
レームを準備する工程と、 前記リードフレームの前記タブに前記半導体チップを搭
載する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
ドとをワイヤによって接続する工程と、 前記タブのチップ支持面と反対側の面および前記リード
の一部が封止部の実装側の面に露出するように前記封止
部を形成して前記半導体チップを樹脂封止する工程と、 前記リードを前記リードフレームから分離する工程とを
有することを特徴とする半導体装置の製造方法。4. A tab on which a semiconductor chip can be mounted, a suspension lead which is integral with the tab and extends outward from the tab, and a plurality of leads arranged around the tab, A step of preparing a lead frame in which any one of the chip support surface of the tab or the surface of the suspension lead connected to the chip support surface is recessed from the end portion of the suspension lead and thinly formed; and the tab of the lead frame. A step of mounting the semiconductor chip on, a step of connecting the surface electrode of the semiconductor chip and the lead corresponding thereto with a wire, and a surface of the tab opposite to the chip supporting surface and a part of the lead. A step of forming the sealing portion so as to be exposed at the mounting side surface of the sealing portion and resin-sealing the semiconductor chip; and separating the lead from the lead frame. The method of manufacturing a semiconductor device characterized by having a degree.
タブと一体で前記タブから外側に延在する吊りリード
と、前記タブの周囲に配置された複数のリードとを有し
ており、前記タブのチップ支持面とこれに繋がる前記吊
りリードの表面とが前記吊りリードの端部より凹んで薄
く形成されたリードフレームを準備する工程と、 前記リードフレームの前記タブに前記半導体チップを搭
載する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
ドとをワイヤによって接続する工程と、 前記タブのチップ支持面と反対側の面および前記リード
の一部が封止部の実装側の面に露出するように前記封止
部を形成して前記半導体チップを樹脂封止する工程と、 前記リードを前記リードフレームから分離する工程とを
有することを特徴とする半導体装置の製造方法。5. A tab having a semiconductor chip mountable thereon, a suspension lead that is integral with the tab and extends outward from the tab, and a plurality of leads arranged around the tab. A step of preparing a lead frame in which the chip supporting surface of the tab and the surface of the suspension lead connected to the tab are formed to be thinner than the end portion of the suspension lead; and the semiconductor chip is mounted on the tab of the lead frame. A step of connecting a surface electrode of the semiconductor chip and the lead corresponding thereto with a wire; And a step of resin-sealing the semiconductor chip by forming the sealing portion so as to be exposed on the surface, and a step of separating the lead from the lead frame. Method of manufacturing a conductor arrangement.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001382035A JP2003188332A (en) | 2001-12-14 | 2001-12-14 | Semiconductor device and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2001382035A JP2003188332A (en) | 2001-12-14 | 2001-12-14 | Semiconductor device and its manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2003188332A true JP2003188332A (en) | 2003-07-04 |
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ID=27592537
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JP (1) | JP2003188332A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100751890B1 (en) * | 2004-08-05 | 2007-08-23 | 옵티멈 케어 인터내셔널 테크 인코포레이티드 | The manufacturing method for a modularized leadframe |
JP2008091527A (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Sanyo Electric Co Ltd | Method of manufacturing semiconductor device |
JP2008091528A (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Sanyo Electric Co Ltd | Semiconductor device, and manufacturing method of semiconductor device |
US7456049B2 (en) | 2003-11-19 | 2008-11-25 | Rohm Co., Ltd. | Method of fabricating lead frame and method of fabricating semiconductor device using the same, and lead frame and semiconductor device using the same |
-
2001
- 2001-12-14 JP JP2001382035A patent/JP2003188332A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008091527A (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Sanyo Electric Co Ltd | Method of manufacturing semiconductor device |
JP2008091528A (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Sanyo Electric Co Ltd | Semiconductor device, and manufacturing method of semiconductor device |
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