JP2001110974A - Semiconductor device and its manufacturing method - Google Patents

Semiconductor device and its manufacturing method

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JP2001110974A JP29249299A JP29249299A JP2001110974A JP 2001110974 A JP2001110974 A JP 2001110974A JP 29249299 A JP29249299 A JP 29249299A JP 29249299 A JP29249299 A JP 29249299A JP 2001110974 A JP2001110974 A JP 2001110974A
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chip
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典之 高橋
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Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve reliability by improving the pulling strength of a lead in a semiconductor device of a bottom lead type, and to improve the joint strength of a wire joint part at the lead side by wire bonding. SOLUTION: The semiconductor device consists of a tab 1e for supporting a semiconductor chip 2, a sealing part 3 that is formed while the semiconductor chip 2 is resin-sealed, a plurality of leads 1a that are arranged around the tab 1e and are provided with an inner part 1b being buried into the sealing part 3 and an outer part 1c being exposed inside the reverse side 3a of the sealing part 3, and a bonding wire 4 for electrically connecting a pad 2a of the semiconductor chip 2 and the leads 1a. The inner part 1b of the lead 1a is formed while being inclined to the tab 1e so that a covering part 3b for covering a surface 1d at the side to be packaged of the inner part 1b of the lead 1a out of the sealing part 3 becomes thinner toward the exposure direction of the lead 1a, thus improving the pull strength of the lead 1a from the sealing part 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造技術に
関し、特に、小形のボトムリードタイプの半導体装置に
おけるリードの引き抜き強度向上に適用して有効な技術
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing technology, and more particularly to a technology effective when applied to improving the lead pull-out strength in a small bottom lead type semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
2. Description of the Related Art The technology described below studies the present invention,
Upon completion, they were examined by the inventor, and the outline is as follows.

【0003】小形化・軽量化を図った樹脂封止形のCS
P(Chip Scale Package) の一例としてQFN(Quad F
lat Non-leaded Package) と呼ばれる小形パッケージが
ある。
[0003] Resin-sealed CS for miniaturization and weight reduction
As an example of P (Chip Scale Package), QFN (Quad F
There is a small package called lat Non-leaded Package).

【0004】QFNは、アウタ部とインナ部とからなる
複数の薄板状のリードを有しており、このアウタ部が封
止部の裏面(実装側の面)に配置されるエリアアレイ端
子型のものである。
[0004] The QFN has a plurality of thin plate-shaped leads including an outer portion and an inner portion, and the outer portion is an area array terminal type arranged on the back surface (mounting surface) of the sealing portion. Things.

【0005】さらに、QFNでは、そのアウタ部が、実
装面積を確保するために平坦に形成されている。
[0005] In the QFN, the outer portion is formed flat to secure a mounting area.

【0006】つまり、封止部の裏面と平坦面に形成され
たアウタ部とがほぼ同一面に形成される(このような構
造を、以降、ボトムリードタイプと呼ぶ)。
That is, the back surface of the sealing portion and the outer portion formed on the flat surface are formed on substantially the same surface (such a structure is hereinafter referred to as a bottom lead type).

【0007】なお、QFNの構造については、例えば、
日刊工業新聞社1997年3月1日発行、「表面実装技
術1997/3月号/Vol.7、No.3」、5頁に
記載されている。
[0007] For the structure of the QFN, for example,
It is described in Nikkan Kogyo Shimbun, March 1, 1997, "Surface Mount Technology 1997 / March Issue / Vol. 7, No. 3," p.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術のQFNは、そのリードが平坦で、かつ短いため、リ
ードの引き抜き強度が十分でなく、したがって、封止部
からリードが抜け落ちる場合があり、その信頼性に乏し
いことが問題となる。
However, in the QFN of the above-mentioned technology, since the leads are flat and short, the pull-out strength of the leads is not sufficient, so that the leads may fall off from the sealing portion. The lack of reliability poses a problem.

【0009】また、封止部の裏面におけるリードのアウ
タ部の突出量(スタンドオフのこと)を確保する必要が
あるため、フィルムを用いたモールドを行ったり、ある
いは、リード面研磨・バリ取りによってリードを露出さ
せた後、めっきによって前記スタンドオフを形成するな
ど、リードのアウタ部を封止部の裏面から突出させるの
にコストが掛かることが問題となる。
In addition, since it is necessary to ensure the amount of protrusion (stand-off) of the outer portion of the lead on the back surface of the sealing portion, molding using a film or polishing and deburring the lead surface is performed. Producing the outer portion of the lead from the back surface of the sealing portion is expensive, such as forming the standoff by plating after exposing the lead.

【0010】さらに、リードの引き抜き防止対策とし
て、リードにハーフエッチング加工を行い、これによっ
てインナ部に段差を形成して引き抜き強度の向上を図っ
たり、リードにオフセット曲げを形成して引き抜き強度
の向上を図るなどの対策も考案されているが、外形形状
が大きくなったり、また、コストが高くなることが問題
となる。
Further, as a measure for preventing the lead from being pulled out, a half-etching process is performed on the lead, thereby forming a step in the inner part to improve the pulling strength, or improving the pulling strength by forming an offset bend in the lead. Although measures have been devised to reduce the size, there is a problem that the external shape becomes large and the cost increases.

【0011】本発明の目的は、リードの引き抜き強度を
向上させて信頼性を高めるとともに、ワイヤボンディン
グによるリード側のワイヤ接合部の接合強度の向上を図
る半導体装置およびその製造方法を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same, which improve the reliability by improving the pull-out strength of the lead and improve the bonding strength of the wire bonding portion on the lead side by wire bonding. is there.

【0012】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0014】すなわち、本発明の半導体装置は、半導体
チップを支持するタブと、前記半導体チップが樹脂封止
されて形成された封止部と、前記タブの周囲に配置さ
れ、前記封止部に埋め込まれるインナ部と前記封止部の
半導体装置実装側の面内に露出するアウタ部とを備えた
複数のリードと、前記半導体チップの表面電極とこれに
対応する前記リードとを電気的に接続する接続部材とを
有し、前記封止部のうち前記リードの前記インナ部の被
実装側の面を覆う被覆部が前記リードの露出方向に向か
って薄くなるように、前記リードがそのチップ側端部か
ら前記アウタ部に向けて傾斜して形成されているもので
ある。
That is, the semiconductor device of the present invention comprises a tab for supporting a semiconductor chip, a sealing portion formed by sealing the semiconductor chip with a resin, and a periphery of the tab, wherein A plurality of leads each having an embedded inner portion and an outer portion exposed in a surface of the sealing portion on the semiconductor device mounting side, and electrically connecting a surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding lead; And a connecting member that covers the inner surface of the lead on the mounting side of the lead in the sealing portion so that the lead becomes thinner toward the direction in which the lead is exposed. It is formed so as to be inclined from the end toward the outer part.

【0015】これにより、リードの傾斜によってリード
引き抜き時の応力を分散させることができ、したがっ
て、リードの引き抜き強度を向上させることができる。
Thus, the stress at the time of pulling out the lead can be dispersed by the inclination of the lead, and therefore, the pull-out strength of the lead can be improved.

【0016】その結果、半導体装置の信頼性を高めるこ
とができる。
As a result, the reliability of the semiconductor device can be improved.

【0017】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
半導体装置の封止部に埋め込まれるインナ部と前記封止
部の半導体装置実装側の面内に露出するアウタ部とを備
え、チップ側端部から前記アウタ部に向けて傾斜して形
成された複数のリードを有するリードフレームを準備す
る工程と、前記リードフレームのタブと半導体チップと
を接合する工程と、前記半導体チップの表面電極とこれ
に対応する前記リードフレームの前記リードの前記イン
ナ部とを接続部材によって電気的に接続する工程と、前
記半導体チップを樹脂封止して、前記インナ部の被実装
側の面を覆う前記封止部の被覆部が前記リードの露出方
向に向かって薄くなるように、前記リードをそのチップ
側端部から前記アウタ部に向けて傾斜させて配置し、前
記半導体装置実装側の面内に前記アウタ部を露出させて
前記封止部を形成する工程と、複数の前記リードを前記
リードフレームの枠部から分離する工程とを有するもの
である。
Further, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention
The semiconductor device includes an inner portion embedded in a sealing portion of the semiconductor device and an outer portion exposed in a surface of the sealing portion on the semiconductor device mounting side, and is formed to be inclined from a chip side end toward the outer portion. A step of preparing a lead frame having a plurality of leads; a step of joining a tab of the lead frame to a semiconductor chip; and a surface electrode of the semiconductor chip and the inner part of the lead of the lead frame corresponding thereto. Electrically connecting the semiconductor chip with a connecting member, and sealing the semiconductor chip with a resin, so that a covering portion of the sealing portion covering a surface of the inner portion on a mounting side is thinner in a direction in which the leads are exposed. The lead is inclined from the chip side end toward the outer part, and the outer part is exposed in a surface on the semiconductor device mounting side to form the sealing part. And that step, and a step of separating a plurality of said leads from the frame portion of the lead frame.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において、同一の機能を有する部材には同
一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments, members having the same functions are denoted by the same reference numerals, and the repeated description thereof will be omitted.

【0019】図1は本発明による半導体装置(QFN)
の構造の実施の形態の一例を示す斜視図、図2は図1に
示す半導体装置の構造を示す断面図、図3は図1に示す
半導体装置の構造を示す底面図、図4(a),(b)は図
1に示す半導体装置におけるタブの構造を示す部分拡大
平面図、図5は本発明による半導体装置の製造方法の実
施の形態の一例を示す製造プロセスフロー図、図6は図
5に示す各工程ごとのリードフレームまたは半導体装置
の構造の一例を示す側面図であり、(a)はリードフレ
ーム製造工程、(b),(c)はダイボンディング工程、
(d)はワイヤボンディング工程、図7は図5に示す各
工程ごとの半導体装置の構造の一例を示す断面図であ
り、(a)は封止工程、(b) は切断工程、図8は図1
に示す半導体装置の実装基板への実装状態の一例を示す
図であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。
FIG. 1 shows a semiconductor device (QFN) according to the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing an example of the embodiment of the structure of FIG. 1, FIG. 2 is a sectional view showing the structure of the semiconductor device shown in FIG. 1, FIG. 3 is a bottom view showing the structure of the semiconductor device shown in FIG. And (b) are partial enlarged plan views showing the structure of the tab in the semiconductor device shown in FIG. 1, FIG. 5 is a manufacturing process flow chart showing an example of an embodiment of a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, and FIG. 5 is a side view showing an example of the structure of a lead frame or a semiconductor device in each step shown in FIG. 5, (a) is a lead frame manufacturing step, (b) and (c) are die bonding steps,
FIG. 7D is a cross-sectional view showing an example of the structure of the semiconductor device in each step shown in FIG. 5A, FIG. 7A is a sealing step, FIG. 7B is a cutting step, and FIG. FIG.
FIGS. 2A and 2B are diagrams illustrating an example of a mounting state of the semiconductor device illustrated in FIGS. 1A and 1B on a mounting board, wherein FIG. 1A is a plan view and FIG.

【0020】図1〜図3に示す本実施の形態の半導体装
置は、小形・樹脂封止形で、かつ面実装形のものであ
り、本実施の形態では前記半導体装置の一例として、Q
FN7を取り上げて説明する。
The semiconductor device according to the present embodiment shown in FIGS. 1 to 3 is a small-sized, resin-sealed type and a surface-mount type. In this embodiment, Q is an example of the semiconductor device.
FN7 will be described.

【0021】また、QFN7は、半導体チップ2より若
干大きい程度の小形パッケージであり、比較的ピン数が
少なく、主に携帯用電子機器などに組み込まれるもので
あり、図3に示すように、モールドによって形成された
封止部3の半導体装置実装側の面(以降、裏面3aとい
う)内にプリント基板などの実装基板9(図8参照)の
基板側端子と電気的に接続する複数のリード1aのアウ
タ部1cが配置されたエリアアレイタイプのものであ
る。
The QFN 7 is a small package that is slightly larger than the semiconductor chip 2, has a relatively small number of pins, and is mainly incorporated in portable electronic equipment. As shown in FIG. A plurality of leads 1a that are electrically connected to board-side terminals of a mounting board 9 (see FIG. 8) such as a printed board are provided in a surface on the semiconductor device mounting side (hereinafter, referred to as a back surface 3a) of the sealing portion 3 formed by the above. Area array type in which the outer portion 1c is arranged.

【0022】なお、QFN7に組み込まれる半導体チッ
プ2は、例えば、マイコン、ロジック、ASIC(Ap
plication Specific Integr
ated Circuit)用などのチップであるが、
これらに限定されるものではない。
The semiconductor chip 2 incorporated in the QFN 7 is, for example, a microcomputer, a logic, an ASIC (Ap
application Specific Integr
chip for the added circuit)
It is not limited to these.

【0023】図1〜図4を用いて本実施の形態のQFN
7(半導体装置)の構成について説明する。
Referring to FIG. 1 to FIG.
7 (semiconductor device) will be described.

【0024】前記QFN7は、前記エリアアレイタイプ
のものであるとともに、複数のリード1aの各アウタ部
1cが、図3に示すように、封止部3の裏面3aに僅か
に突出して配置されたボトムリードタイプのものであ
る。
The QFN 7 is of the area array type, and the outer portions 1c of the plurality of leads 1a are arranged so as to slightly protrude from the back surface 3a of the sealing portion 3 as shown in FIG. It is a bottom lead type.

【0025】前記QFN7の構成について説明すると、
主面2bに半導体集積回路が形成された半導体チップ2
を支持するタブ1eと、半導体チップ2が樹脂封止され
て形成された封止部3と、タブ1eの周囲に配置され、
かつ封止部3に埋め込まれるインナ部1bと封止部3の
裏面3a(半導体装置実装側の面)内に露出するアウタ
部1cとを備えた複数のリード1aと、半導体チップ2
の表面電極であるパッド2aとこれに対応するリード1
aとを電気的に接続する接続部材であるボンディングワ
イヤ4とからなり、封止部3のうちリード1aのインナ
部1bの被実装側の面1dを覆う被覆部3bがリード1
aの露出方向に向かって薄くなるように、リード1aが
タブ1eに対してそのチップ側端部1gからアウタ部1
cに向けて傾斜して形成されているものである。
The structure of the QFN 7 will be described.
Semiconductor chip 2 having semiconductor integrated circuit formed on main surface 2b
A sealing portion 3 formed by sealing the semiconductor chip 2 with a resin, and a tab 1e supporting the
A plurality of leads 1a each having an inner portion 1b embedded in the sealing portion 3 and an outer portion 1c exposed in the back surface 3a (the surface on the semiconductor device mounting side) of the sealing portion 3;
Pad 2a, which is the surface electrode, and the corresponding lead 1
and a bonding wire 4 serving as a connecting member for electrically connecting the lead 1a to the mounting portion 3b of the sealing portion 3 that covers the surface 1d of the inner portion 1b of the lead 1a on the mounting side.
The lead 1a is moved from the chip side end 1g to the outer part 1 with respect to the tab 1e so that the lead 1a becomes thinner in the direction of exposure.
It is formed to be inclined toward c.

【0026】なお、QFN7におけるリード1aは、イ
ンナリード(インナ部1b)とアウタリード(アウタ部
1c)との両者の機能を併せ持ったものである。
The lead 1a in the QFN 7 has both functions of an inner lead (inner portion 1b) and an outer lead (outer portion 1c).

【0027】これにより、図2に示すそれぞれのリード
1aの縦断面(垂直方向の断面)に表されるように、封
止部3に埋め込まれる複数のリード1aの各インナ部1
bが、封止部3の裏面3aつまりタブ1eの裏面1hに
平行な面に対して僅かに傾斜し(ハの字型を成し)、か
つ図3に示すように、四角形の裏面3aの外周に沿って
並んで各リード1aがアウタ部1cとして突出してい
る。
As a result, as shown in the vertical section (vertical section) of each lead 1a shown in FIG.
b is slightly inclined with respect to the back surface 3a of the sealing portion 3, that is, the surface parallel to the back surface 1h of the tab 1e (having a C shape), and as shown in FIG. Each lead 1a protrudes as an outer portion 1c along the outer periphery.

【0028】また、リード1aは、曲げが形成されずに
フラットな形状のままインナ部1bからアウタ部1cま
でが形成されている。
Further, the lead 1a is formed from the inner part 1b to the outer part 1c in a flat shape without bending.

【0029】したがって、外観形状としては、各リード
1aのアウタ部1cが、図1に示すように、封止部3の
4方向の各側面3cの下方において側面3cおよび裏面
3a(図3参照)の両面に対して僅かに突出して並んで
配置されている。
Therefore, as for the external shape, as shown in FIG. 1, the outer portion 1c of each lead 1a has a side surface 3c and a back surface 3a below each side surface 3c in four directions of the sealing portion 3 (see FIG. 3). Are slightly juxtaposed with respect to both surfaces.

【0030】その結果、QFN7組み立て後、各リード
1aの封止部3からの引き抜きテストを行った際に、リ
ード1aは、封止部3の裏面3aおよび側面3cの両面
に対して傾斜して配置されているため、リード1aの引
き抜き強度を向上させることができ、したがって、封止
部3からリード1aが容易に抜け落ちることを防げる。
As a result, after assembling the QFN 7, when a pull-out test of each lead 1a from the sealing portion 3 is performed, the lead 1a is inclined with respect to both the back surface 3a and the side surface 3c of the sealing portion 3. Since they are arranged, the pull-out strength of the lead 1a can be improved, and therefore, the lead 1a can be prevented from easily falling off from the sealing portion 3.

【0031】また、本実施の形態のQFN7では、封止
部3の裏面3aに平行な面に対するリード1aのインナ
部1bの傾斜の角度が、ボンディングワイヤ4をボンデ
ィングする際に用いられる図6(d)に示すキャピラリ
6の先端角度とほぼ同じである。例えば、前記傾斜の角
度は、2〜5°程度である。
In the QFN 7 of the present embodiment, the angle of inclination of the inner portion 1b of the lead 1a with respect to a surface parallel to the back surface 3a of the sealing portion 3 is used when bonding the bonding wire 4 as shown in FIG. This is almost the same as the tip angle of the capillary 6 shown in d). For example, the angle of the inclination is about 2 to 5 °.

【0032】これにより、ワイヤボンディング時に、キ
ャピラリ6の先端とリード1aとの隙間を小さくできる
ため、ワイヤ切断時の押し付け力を向上でき、その結
果、リード1a側のワイヤ接合部4aの圧着強度を向上
できる。
As a result, the gap between the tip of the capillary 6 and the lead 1a can be reduced at the time of wire bonding, so that the pressing force at the time of cutting the wire can be improved, and as a result, the crimp strength of the wire joint 4a on the lead 1a side can be reduced. Can be improved.

【0033】また、本実施の形態のQFN7は、そのタ
ブ1eの厚さが、図2に示すように、リード1aの厚さ
の約1/2程度となっている。
In the QFN 7 of the present embodiment, the thickness of the tab 1e is about 1/2 of the thickness of the lead 1a as shown in FIG.

【0034】これは、図6(a)に示すリードフレーム
1の製造時に、タブ1eの裏面1hをエッチングによっ
て削ったものであり、これにより、封止部3に対してタ
ブ1eの位置を上昇させることなく、タブ1eの裏面1
h側にも封止部3を形成できる。
This is because the back surface 1h of the tab 1e is etched away during the manufacture of the lead frame 1 shown in FIG. 6A, whereby the position of the tab 1e with respect to the sealing portion 3 is raised. The back 1 of the tab 1e
The sealing portion 3 can be formed also on the h side.

【0035】したがって、図2に示すQFN7において
タブ1eの高さ方向の位置は変わらないため、QFN7
の厚さを薄くできるとともに、タブ1eが完全に封止部
3内に埋め込まれるため、図8に示すように、実装基板
9にQFN7を実装した際に、実装基板9において封止
部3の下側の位置にも基板配線を引き回すことができ
る。
Therefore, the position of the tab 1e in the height direction does not change in the QFN 7 shown in FIG.
8, the tab 1e is completely embedded in the sealing portion 3, so that when the QFN 7 is mounted on the mounting substrate 9, as shown in FIG. The board wiring can also be routed to the lower position.

【0036】また、本実施の形態のQFN7のタブ1e
は、図4(a)に示すように、平面形状が円形の小タブ
や、あるいは、図4(b)に示すように、X字形の小ク
ロスタブである。すなわち、タブ1eの大きさは、半導
体チップ2の大きさと比べて遙に小さく、これにより、
1種類のタブ1eによって複数種類の大きさの半導体チ
ップ2を搭載することができるとともに、半導体チップ
2とその裏面2c側の封止部3との接触面積を増やすこ
とができるため、半導体チップ2と封止部3との密着性
を向上でき、封止部3と半導体チップ2との剥離を防止
できる。
Further, the tab 1e of the QFN 7 of the present embodiment.
Is a small tab having a circular planar shape as shown in FIG. 4A, or a small X-shaped cross tab as shown in FIG. 4B. That is, the size of the tab 1e is much smaller than the size of the semiconductor chip 2, and as a result,
One type of tab 1e can mount a plurality of sizes of semiconductor chips 2 and can increase the contact area between the semiconductor chip 2 and the sealing portion 3 on the back surface 2c side thereof. The adhesion between the semiconductor chip 2 and the sealing portion 3 can be improved, and the separation between the sealing portion 3 and the semiconductor chip 2 can be prevented.

【0037】なお、半導体チップ2は、例えば、エポキ
シ系の接着材などのダイボンド材5によってタブ1eに
固定されている。
The semiconductor chip 2 is fixed to the tab 1e by a die bond material 5 such as an epoxy adhesive.

【0038】また、タブ1eやリード1aを有するリー
ドフレーム1の材料は、例えば、銅(Cu)、鉄(F
e)、または、鉄とニッケルとの合金(Fe−Ni)な
どであり、その厚さは、例えば、0.1〜0.2mm程度で
あるが、前記材料や前記厚さなどは、これらに限定され
るものではない。
The material of the lead frame 1 having the tabs 1e and the leads 1a is, for example, copper (Cu), iron (F).
e) or an alloy of iron and nickel (Fe-Ni), and the thickness thereof is, for example, about 0.1 to 0.2 mm. It is not limited.

【0039】さらに、半導体チップ2のパッド2aとこ
れに対応するリード1aのインナ部1bとを電気的に接
続するボンディングワイヤ4(接続部材)は、例えば、
金線などである。
Further, the bonding wire 4 (connection member) for electrically connecting the pad 2a of the semiconductor chip 2 and the corresponding inner portion 1b of the lead 1a is, for example,
Gold wire.

【0040】また、封止部3は、モールド方法による樹
脂封止によって形成され、その際用いられる封止用の樹
脂は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂などである。
The sealing portion 3 is formed by resin sealing by a molding method, and a sealing resin used at this time is, for example, a thermosetting epoxy resin.

【0041】次に、本実施の形態のQFN7の製造方法
を図5に示す製造プロセスフロー図にしたがって説明す
る。
Next, a method of manufacturing the QFN 7 according to the present embodiment will be described with reference to a manufacturing process flow chart shown in FIG.

【0042】まず、QFN7の封止部3に埋め込まれる
インナ部1bと封止部3の裏面3a内に露出するアウタ
部1cとを備え、かつチップ側端部1gからアウタ部1
cに向かうインナ部1bが封止部3の裏面3a(タブ1
eの裏面1h)および側面3cに対して傾斜するように
形成された複数のリード1aを有するリードフレーム1
を準備する(図5のステップS1)。
First, an inner portion 1b embedded in the sealing portion 3 of the QFN 7 and an outer portion 1c exposed in the back surface 3a of the sealing portion 3 are provided.
c is formed on the back surface 3a of the sealing portion 3 (the tab 1).
e, a lead frame 1 having a plurality of leads 1a formed to be inclined with respect to the back surface 1h) and the side surface 3c.
Is prepared (step S1 in FIG. 5).

【0043】本実施の形態では、インナ部1bの封止部
3の裏面3aに平行な面に対する傾斜角度が、ワイヤボ
ンディング用のツールであるキャピラリ6の先端角度と
ほぼ同じ角度に形成されている場合を説明する。
In the present embodiment, the inclination angle of the inner portion 1b with respect to a surface parallel to the back surface 3a of the sealing portion 3 is formed to be substantially the same as the tip angle of the capillary 6 which is a wire bonding tool. The case will be described.

【0044】ただし、インナ部1bの傾斜角度は、必ず
しもキャピラリ6の先端角度と一致していなくてもよ
い。
However, the angle of inclination of the inner portion 1b does not necessarily have to coincide with the tip angle of the capillary 6.

【0045】なお、リード1aのインナ部1bの傾斜成
形工程については、リードフレーム1の製造工程におい
て、図6(a)に示すように曲げ型8を用いて曲げ加工
によって形成する。
As for the step of forming the inner portion 1b of the lead 1a, the lead frame 1 is formed by bending using a bending die 8 as shown in FIG.

【0046】ここで、図6に示すリードフレーム1のタ
ブ1eは、半導体チップ2の面積より大きな大タブであ
り、さらにタブ1eのハーフエッチングが行われていな
いタイプのリードフレーム1であるが、QFN7の組み
立て手順としては、タブ1eが小タブのものであって
も、また、ハーフエッチングが行われたタブ1eであっ
ても図6に示す手順と同様である。
Here, the tab 1e of the lead frame 1 shown in FIG. 6 is a large tab larger than the area of the semiconductor chip 2, and is a type of the lead frame 1 in which the tab 1e is not half-etched. The procedure for assembling the QFN 7 is the same as that shown in FIG. 6 whether the tab 1e is a small tab or a tab 1e that has been half-etched.

【0047】さらに、リードフレーム1は、1枚のリー
ドフレーム1から複数個のQFN7を製造することが可
能な長尺状の細長い多連のものである。
Further, the lead frame 1 is a long and narrow multiple unit capable of manufacturing a plurality of QFNs 7 from one lead frame 1.

【0048】すなわち、1枚のリードフレーム1には、
1個のQFN7に対応したパッケージ領域が複数個形成
されており、それぞれの各リード1aのインナ部1bに
傾斜加工が施されている。
That is, in one lead frame 1,
A plurality of package regions corresponding to one QFN 7 are formed, and the inner portion 1b of each lead 1a is subjected to a tilting process.

【0049】その後、主面2bに半導体集積回路が形成
された半導体チップ2を準備し、ステップS2に示すダ
イボンディング(チップマウントまたはペレットボンデ
ィングともいう)を行う。
Thereafter, a semiconductor chip 2 having a semiconductor integrated circuit formed on the main surface 2b is prepared, and die bonding (also referred to as chip mounting or pellet bonding) shown in step S2 is performed.

【0050】すなわち、リードフレーム1のタブ1eと
半導体チップ2とを接合する。
That is, the tab 1e of the lead frame 1 and the semiconductor chip 2 are joined.

【0051】ここでは、図6(b)に示すように、ま
ず、リードフレーム1のタブ1e上にポッティングノズ
ル10からダイボンド材5を吐出し、これをタブ1e上
に塗布する。
Here, as shown in FIG. 6B, first, the die bonding material 5 is discharged from the potting nozzle 10 onto the tab 1e of the lead frame 1 and applied to the tab 1e.

【0052】その後、リードフレーム1のタブ1eと半
導体チップ2の裏面2cとを接合する。
Thereafter, the tab 1e of the lead frame 1 and the back surface 2c of the semiconductor chip 2 are joined.

【0053】すなわち、図6(c)に示すように、リー
ドフレーム1のタブ1eにダイボンド材5を介して主面
2bを上方に向けて半導体チップ2を固定する。
That is, as shown in FIG. 6C, the semiconductor chip 2 is fixed to the tab 1e of the lead frame 1 via the die bond material 5 with the main surface 2b facing upward.

【0054】なお、ダイボンド材5は、例えば、接着剤
などであるが、粘着層を有したフィルムシートを用い、
これをタブ1e上に貼り付けて半導体チップ2を固定し
てもよい。
The die bonding material 5 is, for example, an adhesive, but a film sheet having an adhesive layer is used.
This may be stuck on the tab 1e to fix the semiconductor chip 2.

【0055】その後、ステップS3に示すワイヤボンデ
ィングを行う。
Thereafter, wire bonding shown in step S3 is performed.

【0056】すなわち、まず、図6(d)に示すよう
に、半導体チップ2のパッド2aとボンディングワイヤ
4とを接続し、続いて、キャピラリ6の先端をインナ部
1bに押し付けてインナ部1bにボンディングワイヤ4
を接続する。
That is, first, as shown in FIG. 6D, the pads 2a of the semiconductor chip 2 and the bonding wires 4 are connected, and then, the tip of the capillary 6 is pressed against the inner portion 1b to be pressed on the inner portion 1b. Bonding wire 4
Connect.

【0057】その際、本実施の形態では、リード1aの
インナ部1bが、封止部3の裏面3aに対してキャピラ
リ6の先端角度とほぼ同じ角度で傾斜していることによ
り、キャピラリ6の先端とリード1aとの隙間を低減で
きる。
At this time, in the present embodiment, the inner portion 1b of the lead 1a is inclined at substantially the same angle as the tip angle of the capillary 6 with respect to the back surface 3a of the sealing portion 3, so that the capillary 6 The gap between the tip and the lead 1a can be reduced.

【0058】したがって、ワイヤ切断時の押し付け力を
向上でき、その結果、リード1a側のワイヤ接合部4a
の圧着強度を向上できる。
Therefore, the pressing force at the time of cutting the wire can be improved, and as a result, the wire bonding portion 4a on the lead 1a side can be improved.
Can improve the crimp strength.

【0059】これにより、図6(d)に示すように、半
導体チップ2のパッド2aとこれに対応するリードフレ
ーム1のリード1aのインナ部1bとが接続部材である
ボンディングワイヤによって電気的に接続される。
As a result, as shown in FIG. 6D, the pads 2a of the semiconductor chip 2 and the corresponding inner portions 1b of the leads 1a of the lead frame 1 are electrically connected by bonding wires as connection members. Is done.

【0060】その後、ステップS4に示す樹脂封止を、
図7(a)に示すようにモールド金型11を用いて行
う。ここでは、トランスファーモールド方式によってモ
ールドを行う。
Thereafter, the resin sealing shown in step S4 is
As shown in FIG. 7A, the process is performed using a mold 11. Here, molding is performed by a transfer molding method.

【0061】その際、リード1aのインナ部1bをその
チップ側端部1gからアウタ部1cに向けて傾斜させて
配置し、これにより、インナ部1bの被実装側の面1d
を覆う封止部3の被覆部3bがリード1aの露出方向に
向かって徐々に薄くなるように形成する。
At this time, the inner portion 1b of the lead 1a is arranged so as to be inclined from the chip side end portion 1g toward the outer portion 1c, whereby the surface 1d on the mounting side of the inner portion 1b is mounted.
Is formed so that the covering portion 3b of the sealing portion 3 covering the lead 1a gradually becomes thinner in the direction in which the leads 1a are exposed.

【0062】これにより、封止部3の裏面3aの外周に
アウタ部1cを露出させて封止部3を形成する。
Thus, the outer portion 1c is exposed on the outer periphery of the back surface 3a of the sealing portion 3 to form the sealing portion 3.

【0063】なお、樹脂封止は、トランスファーモール
ド方式に限定されずに、真空印刷封止方式(液状樹脂塗
布方式)などで行ってもよい。
The resin sealing is not limited to the transfer molding method, but may be performed by a vacuum printing sealing method (liquid resin coating method) or the like.

【0064】樹脂封止後、ステップS5に示す切断を行
って、リードフレーム1のリード1aを切断し、これに
より、複数のリード1aをリードフレーム1の枠部1f
から分離する。
After the resin sealing, the cutting shown in step S5 is performed to cut the leads 1a of the lead frame 1, thereby connecting the plurality of leads 1a to the frame portion 1f of the lead frame 1.
Separate from

【0065】その際、図7(b)に示すように、切断金
型12を用いたカット方式によってリード1aをリード
フレーム1の枠部1fから切断分離する。
At this time, as shown in FIG. 7B, the lead 1a is cut and separated from the frame 1f of the lead frame 1 by a cutting method using a cutting die 12.

【0066】なお、切断金型12を用いたカット方式で
はなく、ダイシングカットによる個片化方式でリードフ
レーム1から切断分離してもよい。
It is to be noted that, instead of the cutting method using the cutting die 12, a cutting and separating method from the lead frame 1 may be performed by an individualizing method by dicing cut.

【0067】これにより、図1〜図3に示すQFN7を
組み立てることができる。
Thus, the QFN 7 shown in FIGS. 1 to 3 can be assembled.

【0068】また、完成したQFN7の実装形態の一例
を図8(a),(b)に示す。
FIGS. 8A and 8B show an example of a completed QFN 7 mounting form.

【0069】つまり、QFN7は、QFP(Quad Flat
Package)13やBGA(Ball GridArray)14などとと
もに、実装基板9上に実装するものである。
That is, the QFN 7 is a QFP (Quad Flat
A package 13 and a BGA (Ball Grid Array) 14 are mounted on the mounting board 9.

【0070】本実施の形態のQFN7(半導体装置)お
よびその製造方法によれば、以下のような作用効果が得
られる。
According to the QFN 7 (semiconductor device) and the method of manufacturing the same according to the present embodiment, the following operational effects can be obtained.

【0071】すなわち、ボトムリードタイプの小形のQ
FN7において、封止部3のうちリード1aのインナ部
1bの被実装側の面1dを覆う被覆部3bがリード1a
の露出方向に向かって薄くなるように、リード1aがそ
のチップ側端部1gからアウタ部1cに向けて傾斜して
形成されていることにより、リード1aの傾斜によって
リード引き抜き時の応力を分散させることができ、これ
により、リード1aの引き抜き強度を向上させることが
できる。
That is, a small Q of the bottom lead type
In the FN7, the covering portion 3b of the sealing portion 3 covering the surface 1d of the inner portion 1b of the lead 1a on the mounting side is the lead 1a.
The lead 1a is formed so as to be inclined from the chip side end 1g toward the outer part 1c so as to become thinner in the direction of exposure, thereby dispersing the stress at the time of pulling out the lead due to the inclination of the lead 1a. Accordingly, the pull-out strength of the lead 1a can be improved.

【0072】ここで、リード1aの引き抜きテストは、
封止部3の裏面3aに対して平行な方向と直角な方向と
に行われるため、封止部3に埋め込まれるリード1aの
インナ部1bを傾斜させることにより応力を分散させ、
これにより、リード1aの引き抜き強度の向上を図るこ
とができる。
Here, the test for pulling out the lead 1a is as follows.
The stress is distributed by inclining the inner portion 1b of the lead 1a embedded in the sealing portion 3 in the direction parallel to the direction parallel to the back surface 3a of the sealing portion 3 and the direction perpendicular thereto.
Thereby, the pull-out strength of the lead 1a can be improved.

【0073】その結果、QFN7の信頼性を高めること
ができる。
As a result, the reliability of QFN 7 can be improved.

【0074】さらに、封止部3に埋め込まれるリード1
aのインナ部1bを傾斜させることにより、リード1a
が単に平坦な場合と比較すると、封止部3に埋め込まれ
るリード1aのインナ部1bの体積が増加するため、リ
ード1aのインナ部1bと封止部3との接触面積が増
え、これによってもリード1aの引き抜き強度の向上を
図ることができる。
Further, the lead 1 embedded in the sealing portion 3
By inclining the inner portion 1b of the lead 1a
Compared to the case where is simply flat, since the volume of the inner portion 1b of the lead 1a embedded in the sealing portion 3 increases, the contact area between the inner portion 1b of the lead 1a and the sealing portion 3 increases. The pull-out strength of the lead 1a can be improved.

【0075】また、リード1aがそのチップ側端部1g
からアウタ部1cに向けて傾斜して形成されていること
により、アウタ部1cを封止部3の裏面3aに突出して
露出させることができる。
The lead 1a is connected to its chip end 1g.
Is formed so as to be inclined toward the outer portion 1c from the outside, so that the outer portion 1c can be projected and exposed on the back surface 3a of the sealing portion 3.

【0076】その結果、アウタ部1cのスタンドオフ
(封止部3の裏面3aにおけるアウタ部1cの突出量)
を確保するためのフィルムを用いたモールドやめっきに
よるスタンドオフなどのコストの掛かるQFN製造を実
施せずに済む。
As a result, the stand-off of the outer portion 1c (the amount of protrusion of the outer portion 1c on the back surface 3a of the sealing portion 3).
Costly QFN manufacturing, such as a mold using a film to ensure the quality and a stand-off by plating, can be omitted.

【0077】したがって、ボトムリードタイプの小形の
QFN7における製造コストを低減することができ、そ
の結果、低価格で、かつリード1aの引き抜き強度を向
上させたQFN7を実現できる。
Therefore, the manufacturing cost of the small QFN 7 of the bottom lead type can be reduced, and as a result, the QFN 7 which is inexpensive and has improved lead-out strength of the lead 1 a can be realized.

【0078】これにより、ボトムリードタイプの小形の
QFN7をさらに軽量化かつ小形化することができると
ともに、リード1aをより短く形成しても容易に製造す
ることができる。
As a result, the bottom lead type small QFN 7 can be further reduced in weight and size, and can be easily manufactured even if the lead 1a is formed shorter.

【0079】また、リード1aがそのチップ側端部1g
からアウタ部1cに向けて傾斜し、かつこの傾斜の角度
が、ボンディングワイヤ4をボンディングする際に用い
られるキャピラリ6の先端角度と同じであることによ
り、ワイヤボンディング時のキャピラリ6の先端とリー
ド1aとの隙間を低減できる。
The lead 1a is connected to the chip end 1g.
And the angle of the inclination is the same as the tip angle of the capillary 6 used when bonding the bonding wire 4, so that the tip of the capillary 6 and the lead 1a during wire bonding are inclined. Can be reduced.

【0080】したがって、ワイヤ切断時の押し付け力を
向上でき、その結果、リード1a側のワイヤ接合部4a
の圧着強度を向上できる。
Therefore, the pressing force at the time of cutting the wire can be improved, and as a result, the wire bonding portion 4a on the lead 1a side can be improved.
Can improve the crimp strength.

【0081】これにより、リード1a側のワイヤ接合部
4aの接合強度を向上でき、その結果、QFN7の信頼
性を向上できる。
Thus, the bonding strength of the wire bonding portion 4a on the lead 1a side can be improved, and as a result, the reliability of the QFN 7 can be improved.

【0082】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments of the invention, and does not depart from the gist of the invention. It is needless to say that various changes can be made.

【0083】例えば、前記実施の形態では、リード1a
に曲げが形成されずにフラットな形状のままインナ部1
bからアウタ部1cまでが形成され、かつ、傾斜して配
置されている場合を説明したが、リード1aの形状とし
ては種々のものが考えられる。
For example, in the above embodiment, the lead 1a
The inner part 1 remains flat without bending
Although the case where the portion from b to the outer portion 1c is formed and arranged so as to be inclined has been described, various shapes of the lead 1a can be considered.

【0084】そこで、図9に示す他の実施の形態のQF
N7は、リード1aのアウタ部1cが、封止部3の裏面
3a(半導体装置実装側の面)と同一面に露出する平坦
面1iを有しているものである。
Therefore, the QF of another embodiment shown in FIG.
N7 indicates that the outer portion 1c of the lead 1a has a flat surface 1i exposed on the same surface as the back surface 3a (the surface on the semiconductor device mounting side) of the sealing portion 3.

【0085】すなわち、リード1aに曲げが形成され、
インナ部1bは、タブ1eの裏面1hおよび封止部3の
裏面3aに対して傾斜しているものの、リード1aの途
中に折り曲げ(屈曲)が形成され、これにより、アウタ
部1cは、封止部3の裏面3aと同一面に露出する平坦
面1iとなっている。なお、この場合、アウタ部1c
は、封止部3の側面3cから突出しない形状でもよい。
That is, a bend is formed in the lead 1a,
Although the inner portion 1b is inclined with respect to the back surface 1h of the tab 1e and the back surface 3a of the sealing portion 3, a bend (bend) is formed in the middle of the lead 1a, whereby the outer portion 1c is sealed. The flat surface 1i is exposed on the same surface as the back surface 3a of the portion 3. In this case, the outer portion 1c
May have a shape that does not protrude from the side surface 3 c of the sealing portion 3.

【0086】これによっても、前記実施の形態のQFN
7と同様の作用効果が得られる。
In this way, the QFN of the above-described embodiment can be used.
The same operation and effect as those of 7 can be obtained.

【0087】さらに、リード1aの途中に形成する折り
曲げを湾曲させて形成してもよく、これによっても、前
記実施の形態のQFN7と同様の作用効果が得られる。
Further, the bend formed in the middle of the lead 1a may be formed to be curved, and the same operation and effect as those of the QFN 7 of the above embodiment can be obtained.

【0088】また、前記実施の形態においては、QFN
7のタブ1eがハーフエッチングされた薄形タイプで、
かつ小タブ構造の場合を説明したが、タブ1eの厚さや
形状および大きさについては、種々のものが考えられ
る。
In the above embodiment, the QFN
7 is a thin type half-etched tab 1e,
Although the case of the small tab structure has been described, various thicknesses, shapes, and sizes of the tab 1e can be considered.

【0089】そこで、図10の他の実施の形態のQFN
7は、タブ1eの厚さをリード1aの厚さと同じとし、
リード1aの傾斜形成時に、リード1aのみを傾斜成形
し、タブ1eはそのままの状態にした構造のものであ
る。
Therefore, the QFN of another embodiment of FIG.
7, the thickness of the tab 1e is the same as the thickness of the lead 1a,
When the lead 1a is inclined, only the lead 1a is inclined and the tab 1e is left as it is.

【0090】また、図11の他の実施の形態のQFN7
は、タブ1eの厚さをリード1aの厚さと同じとし、リ
ード1aの傾斜形成時に、リード1aと一緒にタブ1e
も上方に押し上げ加工した構造のものである。
The QFN 7 according to another embodiment of FIG.
Sets the thickness of the tab 1e equal to the thickness of the lead 1a, and forms the tab 1e together with the lead 1a when the lead 1a is inclined.
Also have a structure that is pushed upward.

【0091】図10および図11に示すQFN7におい
ても、リード1aの引き抜き強度の向上を図ることがで
きるとともに、ワイヤ接合部4aの接合力も向上でき
る。
In the QFN 7 shown in FIGS. 10 and 11, the pull-out strength of the lead 1a can be improved, and the bonding strength of the wire bonding portion 4a can be improved.

【0092】また、前記実施の形態では、タブ1eが、
半導体チップ2の大きさより遙に小さい小タブ構造の場
合を説明したが、図12に示す他の実施の形態のタブ1
eは、枠状に形成され、かつタブ枠部1jに半導体チッ
プ2の外周部が支持されているものである。
In the above embodiment, the tab 1e is
Although the case of the small tab structure which is much smaller than the size of the semiconductor chip 2 has been described, the tab 1 according to another embodiment shown in FIG.
“e” is formed in a frame shape, and the outer peripheral portion of the semiconductor chip 2 is supported by the tab frame portion 1j.

【0093】これにより、ボトムリードタイプの小形の
QFN7において半導体チップ2と封止部3との密着性
を向上でき、したがって、チップ剥離などを防止でき
る。
As a result, in the small QFN 7 of the bottom lead type, the adhesion between the semiconductor chip 2 and the sealing portion 3 can be improved, so that chip peeling can be prevented.

【0094】その結果、QFN7の信頼性を向上でき
る。
As a result, the reliability of the QFN 7 can be improved.

【0095】また、前記実施の形態においては、リード
フレーム1を準備する際に、予めリード1aが傾斜加工
されたリードフレーム1を準備する場合を説明したが、
前記傾斜加工されていないリードフレーム1を準備し、
このリードフレーム1を搬入した後、QFN7の製造工
程のダイボンディング工程で、ダイボンディングの際の
荷重を利用してリード1aに傾斜加工を行ってもよい。
Further, in the above-described embodiment, the case where the lead frame 1 in which the lead 1a is pre-tilted is prepared when preparing the lead frame 1 has been described.
Preparing the lead frame 1 that has not been tilted,
After loading the lead frame 1, in the die bonding step of the manufacturing process of the QFN 7, the lead 1a may be subjected to a tilting process using a load at the time of die bonding.

【0096】すなわち、タブ1eと半導体チップ2とを
接合するのと同時に、リード1aに、そのチップ側端部
1gからアウタ部1cに向けて傾斜を形成するものであ
り、ダイボンディング工程においてリード1aへの傾斜
加工を行うものである。
That is, at the same time that the tab 1e and the semiconductor chip 2 are joined, the lead 1a is formed with an inclination from the chip side end 1g toward the outer part 1c. This is to perform a tilting process.

【0097】これにより、リードフレーム1のタブ1e
と半導体チップ2との接合と、リード1aへの傾斜の加
工とを同時に行うことができ、したがって、QFN7の
製造工程の簡略化を図ることができる。
As a result, the tab 1e of the lead frame 1
And the semiconductor chip 2 and the inclination of the lead 1a can be processed at the same time, so that the manufacturing process of the QFN 7 can be simplified.

【0098】その結果、QFN7の製造コストを低減で
きる。
As a result, the manufacturing cost of QFN 7 can be reduced.

【0099】なお、前記実施の形態においては、半導体
装置が小形のQFN7の場合について説明したが、前記
半導体装置は、樹脂封止形で、かつリードフレーム1を
用いて組み立てるボトムリードタイプのものであるとと
もに、リード1aのインナ部1bの被実装側の面1dに
これを覆う封止部3の被覆部3bが形成され、この被覆
部3bがリード1aの露出方向に向けて徐々に薄くなる
ような半導体装置であれば、QFN7以外の短リード形
QFPなどであってもよい。
In the above embodiment, the case where the semiconductor device is a small-sized QFN 7 has been described. However, the semiconductor device is a resin-sealed type and a bottom lead type which is assembled using the lead frame 1. At the same time, a coating 3b of the sealing portion 3 is formed on the surface 1d of the inner portion 1b of the lead 1a on the mounting side, so that the coating 3b gradually becomes thinner in the direction in which the lead 1a is exposed. As long as the semiconductor device is suitable, a short lead type QFP other than the QFN 7 may be used.

【0100】[0100]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0101】(1).ボトムリードタイプの小形の半導
体装置において、封止部のうちリードのインナ部の被実
装側の面を覆う被覆部がリードの露出方向に向かって薄
くなるように、リードが傾斜して形成されていることに
より、リード引き抜き時の応力を分散させることがで
き、これにより、リードの引き抜き強度を向上させるこ
とができる。その結果、半導体装置の信頼性を高めるこ
とができる。
(1). In the small semiconductor device of the bottom lead type, the leads are formed so as to be inclined such that the coating portion covering the mounting side of the inner portion of the lead in the sealing portion becomes thinner in the direction in which the lead is exposed. By doing so, it is possible to disperse the stress at the time of pulling out the lead, thereby improving the pull-out strength of the lead. As a result, the reliability of the semiconductor device can be improved.

【0102】(2).封止部に埋め込まれるリードのイ
ンナ部を傾斜させることにより、リードが単に平坦な場
合と比較すると、封止部に埋め込まれるリードの体積が
増加するため、リードのインナ部と封止部との接触面積
が増え、これによってもリードの引き抜き強度の向上を
図ることができる。
(2). By inclining the inner portion of the lead embedded in the sealing portion, the volume of the lead embedded in the sealing portion is increased as compared with a case where the lead is simply flat, so that the distance between the inner portion of the lead and the sealing portion is increased. The contact area increases, which can also improve the lead pull-out strength.

【0103】(3).リードが傾斜して形成されている
ことにより、アウタ部を封止部の被実装側の面に突出し
て露出させることができる。その結果、フィルムを用い
たモールドやめっきによるスタンドオフなどのコストの
掛かる製造を実施せずに済むため、ボトムリードタイプ
の半導体装置における製造コストを低減することができ
る。これにより、低価格で、かつリードの引き抜き強度
を向上させた半導体装置を実現でき、その結果、ボトム
リードタイプの小形の半導体装置をさらに軽量化かつ小
形化することができる。
(3). Since the lead is formed to be inclined, the outer portion can be projected and exposed on the surface of the sealing portion on the mounting side. As a result, costly manufacturing such as a mold using a film or a standoff by plating is not required, so that the manufacturing cost of a bottom-lead type semiconductor device can be reduced. This makes it possible to realize a semiconductor device that is inexpensive and has improved lead withdrawal strength. As a result, a small-sized bottom lead type semiconductor device can be further reduced in weight and size.

【0104】(4).リードが傾斜し、かつその傾斜の
角度がキャピラリの先端角度と同じであることにより、
ワイヤ切断時の押し付け力を向上でき、その結果、リー
ド側のワイヤ接合部の圧着強度を向上できる。これによ
り、リード側のワイヤ接合部の接合強度を向上でき、そ
の結果、半導体装置の信頼性を向上できる。
(4). Because the lead is inclined and the angle of the inclination is the same as the tip angle of the capillary,
The pressing force at the time of cutting the wire can be improved, and as a result, the crimp strength of the wire joint on the lead side can be improved. Thereby, the bonding strength of the wire bonding portion on the lead side can be improved, and as a result, the reliability of the semiconductor device can be improved.

【0105】(5).リードに傾斜を形成する際に、ダ
イボンディング工程においてリードへの傾斜加工を行う
ことにより、リードフレームのタブと半導体チップとの
接合と、リードへの傾斜の加工とを同時に行うことがで
き、これにより、半導体装置の製造工程の簡略化を図る
ことができる。その結果、半導体装置の製造コストを低
減できる。
(5). When forming the inclination on the lead, by performing the inclination processing on the lead in the die bonding process, the joining of the tab of the lead frame and the semiconductor chip and the inclination processing on the lead can be performed at the same time. Thereby, the manufacturing process of the semiconductor device can be simplified. As a result, the manufacturing cost of the semiconductor device can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による半導体装置(QFN)の構造の実
施の形態の一例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of an embodiment of a structure of a semiconductor device (QFN) according to the present invention.

【図2】図1に示す半導体装置の構造を示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a structure of the semiconductor device shown in FIG.

【図3】図1に示す半導体装置の構造を示す底面図であ
る。
FIG. 3 is a bottom view showing the structure of the semiconductor device shown in FIG. 1;

【図4】(a),(b)は図1に示す半導体装置における
タブの構造を示す部分拡大平面図である。
FIGS. 4A and 4B are partially enlarged plan views showing the structure of a tab in the semiconductor device shown in FIG. 1;

【図5】本発明による半導体装置の製造方法の実施の形
態の一例を示す製造プロセスフロー図である。
FIG. 5 is a manufacturing process flow chart showing one example of an embodiment of a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention.

【図6】(a),(b),(c),(d)は図5に示す各工程
ごとのリードフレームまたは半導体装置の構造の一例を
示す側面図であり、(a)はリードフレーム製造工程、
(b),(c)はダイボンディング工程、(d)はワイヤ
ボンディング工程である。
6 (a), (b), (c), (d) are side views showing an example of the structure of a lead frame or a semiconductor device for each step shown in FIG. 5, and (a) is a lead frame. Manufacturing process,
(B) and (c) are die bonding steps, and (d) is a wire bonding step.

【図7】(a),(b) は図5に示す各工程ごとの半導体
装置の構造の一例を示す断面図であり、(a)は封止工
程、(b) は切断工程である。
FIGS. 7A and 7B are cross-sectional views showing an example of the structure of the semiconductor device in each step shown in FIG. 5, in which FIG. 7A is a sealing step and FIG. 7B is a cutting step.

【図8】(a),(b) は図1に示す半導体装置の実装基
板への実装状態の一例を示す図であり、(a)は平面
図、(b) は側面図である。
8A and 8B are diagrams showing an example of a mounting state of the semiconductor device shown in FIG. 1 on a mounting board, wherein FIG. 8A is a plan view and FIG. 8B is a side view.

【図9】本発明の他の実施の形態の半導体装置の構造を
示す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a structure of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【図10】本発明の他の実施の形態の半導体装置の構造
を示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a structure of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【図11】本発明の他の実施の形態の半導体装置の構造
を示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a structure of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【図12】本発明の他の実施の形態の半導体装置におけ
るタブの構造を示す部分拡大平面図である。
FIG. 12 is a partially enlarged plan view showing a structure of a tab in a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リードフレーム 1a リード 1b インナ部 1c アウタ部 1d 被実装側の面 1e タブ 1f 枠部 1g チップ側端部 1h 裏面 1i 平坦面 1j タブ枠部 2 半導体チップ 2a パッド(表面電極) 2b 主面 2c 裏面 3 封止部 3a 裏面(半導体装置実装側の面) 3b 被覆部 3c 側面 4 ボンディングワイヤ(接続部材) 4a ワイヤ接合部 5 ダイボンド材 6 キャピラリ 7 QFN(半導体装置) 8 曲げ型 9 実装基板 10 ポッティングノズル 11 モールド金型 12 切断金型 13 QFP 14 BGA DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lead frame 1a Lead 1b Inner part 1c Outer part 1d Surface to be mounted 1e Tab 1f Frame 1g Chip side end 1h Back 1i Flat surface 1j Tab frame 2 Semiconductor chip 2a Pad (surface electrode) 2b Main surface 2c Back surface REFERENCE SIGNS LIST 3 sealing portion 3a back surface (surface on the semiconductor device mounting side) 3b covering portion 3c side surface 4 bonding wire (connection member) 4a wire bonding portion 5 die bonding material 6 capillary 7 QFN (semiconductor device) 8 bending die 9 mounting substrate 10 potting nozzle Reference Signs List 11 mold die 12 cutting die 13 QFP 14 BGA

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂封止形の半導体装置であって、 半導体チップを支持するタブと、 前記半導体チップが樹脂封止されて形成された封止部
と、 前記タブの周囲に配置され、前記封止部に埋め込まれる
インナ部と前記封止部の半導体装置実装側の面内に露出
するアウタ部とを備えた複数のリードと、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
ドとを電気的に接続する接続部材とを有し、 前記封止部のうち前記リードの前記インナ部の被実装側
の面を覆う被覆部が前記リードの露出方向に向かって薄
くなるように、前記リードがそのチップ側端部から前記
アウタ部に向けて傾斜して形成されていることを特徴と
する半導体装置。
1. A resin-sealed semiconductor device, comprising: a tab for supporting a semiconductor chip; a sealing portion formed by resin-sealing the semiconductor chip; A plurality of leads including an inner portion embedded in a sealing portion and an outer portion exposed in a surface of the sealing portion on the semiconductor device mounting side, and a surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding lead. A connection member that electrically connects the lead, so that a covering portion of the sealing portion that covers a surface of the lead on a mounting side of the inner portion is thinner in a direction in which the lead is exposed. Is formed so as to be inclined from the chip side end toward the outer part.
【請求項2】 樹脂封止形の半導体装置であって、 半導体チップを支持するタブと、 前記半導体チップが樹脂封止されて形成された封止部
と、 前記タブの周囲に配置され、前記封止部に埋め込まれる
インナ部と前記封止部の半導体装置実装側の面内に露出
するアウタ部とを備えた複数のリードと、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
ドとを電気的に接続する接続部材であるボンディングワ
イヤとを有し、 前記封止部のうち前記リードの前記インナ部の被実装側
の面を覆う被覆部が前記リードの露出方向に向かって薄
くなるように、前記リードがそのチップ側端部から前記
アウタ部に向けて傾斜し、前記傾斜の角度が、前記ボン
ディングワイヤをボンディングする際に用いられるキャ
ピラリの先端角度と同じであることを特徴とする半導体
装置。
2. A resin-encapsulated semiconductor device, comprising: a tab for supporting a semiconductor chip; a sealing portion formed by resin-sealing the semiconductor chip; A plurality of leads including an inner portion embedded in a sealing portion and an outer portion exposed in a surface of the sealing portion on the semiconductor device mounting side, and a surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding lead. A bonding wire that is a connection member for electrical connection, wherein a covering portion of the sealing portion that covers a surface of the lead on a mounting side of the inner portion is thinned in a direction in which the lead is exposed. Wherein the lead is inclined from the end on the chip side toward the outer part, and the angle of the inclination is the same as the tip angle of a capillary used when bonding the bonding wire. The semiconductor device according to symptoms.
【請求項3】 請求項1または2記載の半導体装置であ
って、前記リードの前記アウタ部が、前記封止部の前記
半導体装置実装側の面と同一面に露出する平坦面を有し
ていることを特徴とする半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the outer portion of the lead has a flat surface exposed on the same surface as a surface of the sealing portion on the semiconductor device mounting side. A semiconductor device.
【請求項4】 請求項1,2または3記載の半導体装置
であって、前記タブが枠状に形成され、タブ枠部に前記
半導体チップの外周部が支持されていることを特徴とす
る半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein said tab is formed in a frame shape, and an outer peripheral portion of said semiconductor chip is supported by a tab frame portion. apparatus.
【請求項5】 樹脂封止形の半導体装置の製造方法であ
って、 前記半導体装置の封止部に埋め込まれるインナ部と前記
封止部の半導体装置実装側の面内に露出するアウタ部と
を備え、チップ側端部から前記アウタ部に向けて傾斜し
て形成された複数のリードを有するリードフレームを準
備する工程と、 前記リードフレームのタブと半導体チップとを接合する
工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
ドフレームの前記リードの前記インナ部とを接続部材に
よって電気的に接続する工程と、 前記半導体チップを樹脂封止して、前記インナ部の被実
装側の面を覆う前記封止部の被覆部が前記リードの露出
方向に向かって薄くなるように、前記リードをそのチッ
プ側端部から前記アウタ部に向けて傾斜させて配置し、
前記半導体装置実装側の面内に前記アウタ部を露出させ
て前記封止部を形成する工程と、 複数の前記リードを前記リードフレームの枠部から分離
する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造
方法。
5. A method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device, comprising: an inner portion embedded in a sealing portion of the semiconductor device; and an outer portion exposed in a surface of the sealing portion on a semiconductor device mounting side. A step of preparing a lead frame having a plurality of leads formed to be inclined from a chip side end toward the outer part; a step of joining a tab of the lead frame to a semiconductor chip; and A step of electrically connecting a surface electrode of the chip and the inner part of the lead of the lead frame corresponding thereto with a connecting member; and sealing the semiconductor chip with a resin, and mounting the inner part on the mounting side of the inner part. The lead is inclined from the chip-side end toward the outer part so that the covering part of the sealing part covering the surface becomes thinner in the direction in which the lead is exposed,
A semiconductor, comprising: exposing the outer portion in a surface on the semiconductor device mounting side to form the sealing portion; and separating the plurality of leads from a frame portion of the lead frame. Device manufacturing method.
【請求項6】 樹脂封止形の半導体装置の製造方法であ
って、 前記半導体装置の封止部に埋め込まれるインナ部と前記
封止部の半導体装置実装側の面内に露出するアウタ部と
を備え、チップ側端部から前記アウタ部に向けてワイヤ
ボンディング用のキャピラリの先端角度と同じ角度に傾
斜して形成された複数のリードを有するリードフレーム
を準備する工程と、 前記リードフレームのタブと半導体チップとを接合する
工程と、 前記キャピラリの先端を前記インナ部に押し付けてワイ
ヤボンディングを行って、前記半導体チップの表面電極
とこれに対応する前記リードフレームの前記リードの前
記インナ部とを接続部材であるボンディングワイヤによ
って電気的に接続する工程と、 前記半導体チップを樹脂封止して、前記インナ部の被実
装側の面を覆う前記封止部の被覆部が前記リードの露出
方向に向かって薄くなるように、前記リードをそのチッ
プ側端部から前記アウタ部に向けて傾斜させて配置し、
前記半導体装置実装側の面内に前記アウタ部を露出させ
て前記封止部を形成する工程と、 複数の前記リードを前記リードフレームの枠部から分離
する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造
方法。
6. A method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device, comprising: an inner portion embedded in a sealing portion of the semiconductor device; and an outer portion exposed in a surface of the sealing portion on a semiconductor device mounting side. A step of preparing a lead frame having a plurality of leads formed to be inclined at the same angle as the tip angle of the capillary for wire bonding from the chip side end toward the outer part; and a tab of the lead frame. Bonding the tip of the capillary to the inner portion to perform wire bonding, thereby forming a surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding inner portion of the lead of the lead frame. A step of electrically connecting with a bonding wire as a connecting member; and a step of sealing the semiconductor chip with a resin to mount the inner portion on a mounting side. As cover portion of the sealing portion covering the surface becomes thinner toward the exposed direction of the lead, placing the lead from its tip end portion is inclined toward the outer portion,
A semiconductor, comprising: exposing the outer portion in a surface on the semiconductor device mounting side to form the sealing portion; and separating the plurality of leads from a frame portion of the lead frame. Device manufacturing method.
【請求項7】 樹脂封止形の半導体装置の製造方法であ
って、 前記半導体装置の封止部に埋め込まれるインナ部と前記
封止部の半導体装置実装側の面内に露出するアウタ部と
を備えた複数のリードを有するリードフレームを準備す
る工程と、 前記リードフレームのタブと半導体チップとを接合する
とともに、前記リードに、そのチップ側端部から前記ア
ウタ部に向けて傾斜を形成する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
ドフレームの前記リードの前記インナ部とを接続部材に
よって電気的に接続する工程と、 前記半導体チップを樹脂封止して、前記インナ部の被実
装側の面を覆う前記封止部の被覆部が前記リードの露出
方向に向かって薄くなるように、前記リードをそのチッ
プ側端部から前記アウタ部に向けて傾斜させて配置し、
前記半導体装置実装側の面内に前記アウタ部を露出させ
て前記封止部を形成する工程と、 複数の前記リードを前記リードフレームの枠部から分離
する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造
方法。
7. A method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising: an inner portion embedded in a sealing portion of the semiconductor device; and an outer portion exposed in a surface of the sealing portion on a semiconductor device mounting side. Preparing a lead frame having a plurality of leads including: a step of joining a tab of the lead frame to a semiconductor chip, and forming an inclination on the lead from the chip side end toward the outer part. A step of electrically connecting a surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding inner part of the lead of the lead frame by a connecting member, and sealing the semiconductor chip with a resin to form the inner part. The lead is directed from the chip-side end to the outer part so that the covering part of the sealing part covering the surface on the mounting side of the lead becomes thinner in the direction in which the lead is exposed. By obliquely arranged,
A semiconductor, comprising: exposing the outer portion in a surface on the semiconductor device mounting side to form the sealing portion; and separating the plurality of leads from a frame portion of the lead frame. Device manufacturing method.
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