JP2003181658A - レーザによるマーキング方法およびそれに用いる素材 - Google Patents

レーザによるマーキング方法およびそれに用いる素材

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JP2003181658A JP2001383075A JP2001383075A JP2003181658A JP 2003181658 A JP2003181658 A JP 2003181658A JP 2001383075 A JP2001383075 A JP 2001383075A JP 2001383075 A JP2001383075 A JP 2001383075A JP 2003181658 A JP2003181658 A JP 2003181658A
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Toshikazu Onishi
敏和 大西
Takashi Ekusa
隆志 江草
Akira Kawai
彰 河合
Kenji Yamada
賢司 山田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】金属表面でのレーザビームの反射を防止し、加
工ムラが発生しないようにして高精度の加工が行えるマ
ーキング方法を提供する。 【解決手段】金属母材1の表面に形成される膜を厚膜2
とし、レーザビームL1を照射した場合に、厚膜2を金
属母材1の表面に達しない深さまで除去してマーキング
を行う。金属母材1がアルミニウムの場合、アルマイト
処理で形成される厚膜2の厚みαを10μm〜30μm
とする。こうすることで、レーザビームを照射しても金
属母材1の表面が露出しないので、レーザビームL1の
反射が防止され、反射光が炭酸ガスレーザのガス封入管
に戻って干渉が生じることがなくなり、レーザ出力が安
定して加工ムラが発生しなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームによ
り素材表面にマーキングを行うマーキング方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】銘板などを製作する場合に、炭酸ガスレ
ーザ等のレーザマーカーを用いて、素材の表面にレーザ
ビームを照射することにより、文字、記号、図柄等のマ
ーキングを行う方法が従来から行われている。素材とし
ては、アルミニウム、鉄、ステンレスなど金属素材や、
ABSなどの樹脂素材など、各種の素材が用いられてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、素材と
してたとえばアルミニウムの金属素材を用いる場合、金
属表面には光沢があるため、図12に示したように、照
射されたレーザビーム52が金属素材51の表面で反射
し、レーザ加工ができないという問題がある。また、図
13のように、アルミニウムの金属素材51の表面に、
アルマイト処理によって着色酸化膜52を施したもので
は、着色酸化膜52の結晶構造に孔が存在するため、レ
ーザビーム53の反射をある程度防ぐことができるが、
着色酸化膜52の厚みδが数μm(2μm〜3μm程
度)と非常に薄いために、着色酸化膜52のビーム照射
による焼失部分54において金属素材51の表面が部分
的に露出して、レーザビーム53の一部が反射する。そ
うすると、この反射したビームがレーザマーカーの炭酸
ガス封入管に戻り、光の干渉により出力エネルギーに乱
れが生じるため、これが原因で加工ムラが発生するとい
う問題がある。
【0004】本発明は、上記問題点を解決するものであ
って、その課題とするところは、金属表面でのレーザビ
ームの反射を防止し、加工ムラが発生しないようにして
高精度の加工が行えるマーキング方法を提供することに
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明では、金属母材の
表面に厚膜が形成されており、この厚膜をレーザビーム
の照射により金属母材の表面に達しない深さまで除去し
てマーキングを行う。このようにすることで、レーザビ
ームを照射しても金属表面の膜は一部が除去されるだけ
であり、金属表面が露出することがないので、レーザビ
ームの反射が防止される。この結果、レーザビームの反
射光がレーザマーカーに戻って干渉が生じることがなく
なり、レーザ出力が安定して加工ムラが発生しなくな
る。
【0006】このような本発明は、光沢の大きいアルミ
ニウムを金属母材とする場合に効果が大きい。金属母材
がアルミニウムの場合は、母材の表面にアルマイト処理
により厚膜の着色酸化膜を形成することができる。ここ
で、厚膜の厚みは10μm〜30μmであることが望ま
しい。
【0007】また、本発明では、金属母材の表面に厚膜
からなる第1の着色膜が形成され、この第1の着色膜の
上にさらに第2の着色膜が形成されている素材を用い
て、第2の着色膜を通して第1の着色膜をレーザビーム
の照射により金属母材の表面に達しない深さまで除去し
てマーキングを行うようにしてもよい。
【0008】この場合も、第1の着色膜は一部が除去さ
れるだけであり、金属表面が露出することがないので、
レーザビームの反射光がレーザマーカーに戻って干渉が
生じることがなくなり、加工ムラが発生しなくなる。ま
た、第1の着色膜と第2の着色膜の色を変えることで、
さまざまな模様なども容易に形成することができ、デザ
イン性を高めることができる。
【0009】ここで、第1の着色膜は、たとえば塗装に
よる塗装膜であり、第2の着色膜は、たとえばシルク印
刷による印刷膜から構成することができる。また、第1
の着色膜の厚みは20μm〜200μm、第2の着色膜
の厚みは3μm〜10μmであることが望ましい。
【0010】本発明においては、マーキングの手段とし
て安価な炭酸ガスレーザからなるレーザマーカーを用い
ることが推奨される。YAGレーザを用いると、高価で
あるばかりでなく、出力エネルギーが大きいために金属
表面の膜が完全に除去されてしまい、着色層の加工によ
ってさまざまなデザインを施すことができなくなるが、
炭酸ガスレーザだとこういう不具合は生じない。
【0011】本発明は、レーザビームを走査方向と直交
する方向にずらせて複数回走査する加工を行う場合に特
に効果が大きい。太い文字などを形成するには、レーザ
ビームを1回走査するだけでなく、走査方向と直交する
方向にずらせながら何回も走査する必要がある。この場
合、レーザビームを微小なピッチでずらせるため、ビー
ムの軌跡が前のビームの軌跡と重なり合うことがある。
すると、膜が薄い場合は、軌跡の重なった膜の部分がえ
ぐられて金属素材の表面が露出し、レーザビームの反射
に基因して前述した加工ムラが発生する。しかるに、本
発明の方法によると膜が厚いために、ビームの軌跡が重
なった部分で金属素材の表面が露出することがなく、レ
ーザビームの反射に基因する加工ムラは発生しない。こ
のため、高精度の加工が可能となり、太い文字や図柄等
であっても美しく仕上げることができる。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は、本発明のマーキング方法
に用いる素材を示している。素材M1は、金属母材1
と、この金属母材1の表面に形成された厚膜2とを備え
ている。金属母材1としては、アルミニウム、ステンレ
ス鋼、鉄、銅、黄銅など、各種の金属材料を用いること
ができるが、ここでは金属母材1はアルミニウムからな
る。厚膜2は、アルミニウムの金属母材1の表面をアル
マイト処理することにより形成された着色酸化膜からな
る。この着色酸化膜は、結晶構造に孔が存在することか
ら、レーザビームを吸収する性質を有している。また、
酸化膜を黒色等に着色することにより、炭酸ガスレーザ
(波長10.6μm)からの赤外線が吸収されやすくな
り、レーザ加工が容易となる。ここで、厚膜2の厚みα
は、レーザビームの照射により金属母材1の表面に達し
ない深さまで除去されるような厚みに選定されている。
具体的には、厚膜2の厚みαは10μm〜30μmに選
定される。
【0013】図2は、上記素材M1に対してレーザ加工
によりマーキングを行うマーキング装置を示した図であ
る。図2において、4は炭酸ガスレーザから構成される
レーザマーカー、5はレーザマーカー4のマーキング速
度や出力等を制御するコントローラ、6はコントローラ
5に対してマーキング速度や出力等を入力するためのコ
ンソールである。レーザマーカー4は、コントローラ5
の制御に従ってレーザビームLを走査しながら、素材M
1の表面にレーザ加工を行い文字7を形成する。この場
合、文字7を太く形成する必要があることから、図3に
示すように、レーザビームをL1,L2,L3,…のよ
うに、ビームの走査方向yと直交する方向xにずらせて
複数回走査する。
【0014】図4〜図6は、図2のマーキング装置を用
いたマーキング方法を説明する図であって、いずれも図
3のA−Aにおける断面図を表している。レーザマーカ
ー4から発射されるレーザビームを、図3におけるy方
向に走査しながら素材M1の表面に照射すると、図4の
ように、金属母材1の表面に形成された厚膜2のビーム
照射部分が、レーザビームL1のエネルギー(熱)によ
り焼失して一部が除去され、レーザビームL1のスポッ
ト径に応じた溝31がビーム走査方向に形成される。こ
のとき、厚膜2を金属母材1の表面に達しない深さまで
除去するので、溝31に金属母材1が露出することはな
い。
【0015】次に、レーザビームを図3におけるx方向
へわずかにずらせて、図5のようにレーザビームL2を
走査しながら素材M1の表面に照射すると、厚膜2のビ
ーム照射部分が焼失して一部が除去され、レーザビーム
L2のスポット径に応じた溝32がビーム走査方向に形
成される。この場合も、厚膜2を金属母材1の表面に達
しない深さまで除去するため、溝32に金属母材1が露
出することはない。また、レーザビームL2の照射によ
り、先に形成された溝31の一部がさらにえぐられて、
侵食部分35が生じるが、厚膜2が厚いためにこの侵食
部分35によって金属母材1が露出することはない。
【0016】さらに、レーザビームをx方向へわずかに
ずらせ、図6のようにレーザビームL3を走査しながら
素材M1の表面に照射すると、厚膜2のビーム照射部分
が焼失して一部が除去され、レーザビームL3のスポッ
ト径に応じた溝33がビーム走査方向に形成される。こ
の場合も、厚膜2を金属母材1の表面に達しない深さま
で除去するため、溝33に金属母材1が露出することは
ない。また、レーザビームL3の照射により、先に形成
された溝32の一部がさらにえぐられて、侵食部分36
が生じるが、厚膜2が厚いためにこの侵食部分36によ
って金属母材1が露出することはない。
【0017】以下同様にして、レーザビームの走査を繰
り返すことにより、厚膜2には走査方向に延びる溝が多
数形成されて、文字7が加工されてゆく。
【0018】上記工程においては、厚膜2を金属母材1
の表面に達しない深さまでレーザビームで除去してマー
キングを行っている。したがって、厚膜2は一部が除去
されるだけであり、金属母材1の表面が露出しないの
で、金属表面でのレーザビームの反射が防止される。こ
の結果、レーザビームの反射光がレーザマーカー4の炭
酸ガス封入管(図示省略)に戻って干渉が生じることが
なくなり、レーザ出力が安定して加工ムラが発生しなく
なる。これによって、文字7を美しく仕上げることがで
きる。
【0019】レーザマーカー4として、出力10W〜1
00Wの炭酸ガスレーザを用い、レーザビームのスポッ
ト径を80μm〜200μmに設定して実験を行ったと
ころ、金属母材1の表面に形成された膜の厚みが10μ
mより小さい場合は、レーザビームの反射光による加工
ムラが発生したが、膜の厚みが10μm以上の場合は加
工ムラが減少し、特に25μm〜30μmの膜厚におい
て、加工ムラのない美しい文字を形成することができ
た。
【0020】図7は、以上述べたマーキング方法により
文字を形成した銘板10の一例を示している。11はコ
ーポレートロゴ、12は製品名、13は製品型式をそれ
ぞれ表している。
【0021】図8は、本発明のマーキング方法に用いる
素材の他の例を示している。素材M2は、金属母材21
と、この金属母材21の表面に形成された厚膜からなる
塗装膜(第1の着色膜)22と、この塗装膜22の上に
形成された印刷膜(第2の着色膜)23とを備えてい
る。金属母材21としては、アルミニウム、ステンレス
鋼、鉄、銅、黄銅など、各種の金属材料を用いることが
できるが、ここでは金属母材21は鉄またはステンレス
鋼からなる。
【0022】塗装膜22は、塗料を塗装することにより
形成されており、その厚みβはレーザビームの照射によ
り金属母材21の表面に達しない深さまで除去されるよ
うな厚みに選定されている。具体的には、厚みβは20
μm〜200μmに選定される。なお、塗料としては、
メラミン樹脂塗料、エポキシ変性メラミン樹脂塗料、エ
ポキシ樹脂塗料、ウレタン樹脂塗料、ポリエステル樹脂
塗料など、各種の塗料を用いることができる。
【0023】印刷膜23は、シルク印刷により形成され
ており、その厚みγは3μm〜10μmに選定されてい
て、塗装膜22よりも薄くなっている。シルク印刷のイ
ンクとしては、たとえばメラミン・アルキット樹脂を用
いることができる。
【0024】上記素材M2に対してマーキングを行うマ
ーキング装置は図2と同じであり、また、レーザビーム
の走査についても図3と同じである。
【0025】図9〜図11は、素材M2を用いたマーキ
ング方法を説明する図であって、いずれも図3のA−A
における断面図を表している。レーザマーカー4から発
射されるレーザビームを、図3におけるy方向に走査し
ながら素材M2の表面に照射すると、図9のように、印
刷膜23のビーム照射部分がレーザビームL1のエネル
ギーにより焼失して除去される。また、塗装膜22のビ
ーム照射部分も焼失して一部が除去され、印刷膜23と
塗装膜22とにまたがって、レーザビームL1のスポッ
ト径に応じた溝41がビーム走査方向に形成される。こ
のとき、塗装膜22を金属母材21の表面に達しない深
さまで除去するので、溝41に金属母材21が露出する
ことはない。
【0026】次に、レーザビームを図3におけるx方向
へわずかにずらせて、図10のようにレーザビームL2
を走査しながら素材M2の表面に照射すると、印刷膜2
3のビーム照射部分がレーザビームL2のエネルギーに
より焼失して除去される。また、塗装膜22のビーム照
射部分も焼失して一部が除去され、印刷膜23と塗装膜
22とにまたがって、レーザビームL2のスポット径に
応じた溝42がビーム走査方向に形成される。このと
き、塗装膜22を金属母材21の表面に達しない深さま
で除去するので、溝42に金属母材21が露出すること
はない。また、レーザビームL2の照射により、先に形
成された溝41の一部がさらにえぐられて、侵食部分4
5が生じるが、塗装膜22が厚いためにこの侵食部分4
5によって金属母材21が露出することはない。
【0027】さらに、レーザビームをx方向へわずかに
ずらせて、図11のようにレーザビームL3を走査しな
がら素材M2の表面に照射すると、印刷膜23のビーム
照射部分がレーザビームL3のエネルギーにより焼失し
て除去される。また、塗装膜22のビーム照射部分も焼
失して一部が除去され、印刷膜23と塗装膜22とにま
たがって、レーザビームL3のスポット径に応じた溝4
3がビーム走査方向に形成される。このとき、塗装膜2
2を金属母材21の表面に達しない深さまで除去するの
で、溝43に金属母材21が露出することはない。ま
た、レーザビームL3の照射により、先に形成された溝
42の一部がさらにえぐられて、侵食部分46が生じる
が、塗装膜22が厚いためにこの侵食部分46によって
金属母材21が露出することはない。
【0028】以下同様にして、レーザビームの走査を繰
り返すことにより、印刷膜23と塗装膜22とにまたが
るビーム走査方向の溝が多数形成されて、文字等が加工
されてゆく。この場合、たとえば印刷膜23を青色と
し、塗装膜22を黒色とすれば、青色を背景とした黒色
の文字が得られる。
【0029】上記工程においては、塗装膜22を金属母
材21の表面に達しない深さまでレーザビームLで除去
してマーキングを行っている。したがって、塗装膜22
は一部が除去されるだけであり、金属母材21の表面が
露出しないので、金属表面でのレーザビームの反射が防
止される。この結果、レーザビームの反射光がレーザマ
ーカー4の炭酸ガス封入管(図示省略)に戻って干渉が
生じることがなくなり、レーザ出力が安定して加工ムラ
が発生しなくなる。これによって、文字や図柄等を美し
く仕上げることができる。また、塗装膜22と印刷膜2
3の色を変えることで、さまざまな模様なども容易に形
成することができ、デザイン性を高めることができる。
【0030】本発明では、以上述べた実施形態以外にも
種々の形態が考えられる。たとえば、図1では、アルミ
ニウムの金属母材1の表面をアルマイト処理することに
より、着色酸化膜からなる厚膜2を形成しているが、こ
れに代えて、金属母材1の表面に塗装やシルク印刷によ
り厚膜を形成するようにしてもよい。また、図8では第
1の着色膜として塗装膜22を形成し、第2の着色膜と
してシルク印刷による印刷膜23を形成したが、これに
代えて、第1および第2の着色膜の双方を塗装膜もしく
はシルク印刷による印刷膜で形成するようにしてもよ
い。
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、レーザ加工を行っても
素材の金属表面が露出しないので、レーザビームの反射
光に基因する干渉を防止して、安定したレーザ出力を得
ることができる。この結果、加工ムラのない高精度で美
しい加工を素材に施すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のマーキング方法に用いる素材を示した
断面図である。
【図2】マーキング装置を示した図である。
【図3】レーザビームの走査を説明する図である。
【図4】本発明のマーキング方法を説明する図である。
【図5】本発明のマーキング方法を説明する図である。
【図6】本発明のマーキング方法を説明する図である。
【図7】銘板の一例を示した図である。
【図8】本発明における素材の他の例を示した断面図で
ある。
【図9】本発明のマーキング方法の他の例を説明する図
である。
【図10】本発明のマーキング方法の他の例を説明する
図である。
【図11】本発明のマーキング方法の他の例を説明する
図である。
【図12】従来例を説明する図である。
【図13】他の従来例を説明する図である。
【符号の説明】
1 金属母材 2 厚膜 4 レーザマーカー 7 文字 21 金属母材 22 塗装膜(第1の着色膜) 23 印刷膜(第2の着色膜) 31,32,33 溝 41,42,43 溝 L,L1,L2,L3 レーザビーム M1 素材 M2 素材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河合 彰 京都府京都市南区吉祥院宮の東町2番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 山田 賢司 京都府京都市南区吉祥院宮の東町2番地 株式会社堀場製作所内 Fターム(参考) 2H086 AA05 4E068 AB01 CB09 CF03 DB04 DB15

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属母材の表面に膜が形成された素材に対
    して、レーザビームを走査しながら照射することにより
    素材の表面にマーキングを行う方法において、 前記金属母材は表面に厚膜が形成されており、この厚膜
    をレーザビームの照射により金属母材の表面に達しない
    深さまで除去して、マーキングを行うことを特徴とする
    レーザによるマーキング方法。
  2. 【請求項2】請求項1に記載のマーキング方法におい
    て、 金属母材がアルミニウムであり、厚膜がアルマイト処理
    により形成された着色酸化膜であることを特徴とするレ
    ーザによるマーキング方法。
  3. 【請求項3】金属母材の表面に膜が形成された素材に対
    して、レーザビームを走査しながら照射することにより
    素材の表面にマーキングを行う方法において、 前記金属母材は表面に厚膜からなる第1の着色膜が形成
    されているとともに、この第1の着色膜の上にさらに第
    2の着色膜が形成されており、 前記第2の着色膜を通して第1の着色膜をレーザビーム
    の照射により金属母材の表面に達しない深さまで除去し
    て、マーキングを行うことを特徴とするレーザによるマ
    ーキング方法。
  4. 【請求項4】請求項3に記載のマーキング方法におい
    て、 第1の着色膜が塗装による塗装膜であり、第2の着色膜
    がシルク印刷による印刷膜であることを特徴とするレー
    ザによるマーキング方法。
  5. 【請求項5】請求項1ないし請求項4のいずれかに記載
    のマーキング方法において、 炭酸ガスレーザからなるレーザマーカーを用いてマーキ
    ングを行うことを特徴とするレーザによるマーキング方
    法。
  6. 【請求項6】請求項1ないし請求項5のいずれかに記載
    のマーキング方法において、 レーザビームを走査方向と直交する方向にずらせて複数
    回走査することを特徴とするレーザによるマーキング方
    法。
  7. 【請求項7】レーザビームを走査しながら照射すること
    により表面にマーキングが行われる素材であって、 金属母材と、この金属母材の表面に形成された厚膜とを
    備え、 前記厚膜は、レーザビームの照射により金属母材の表面
    に達しない深さまで除去されるような厚みを有している
    ことを特徴とする素材。
  8. 【請求項8】レーザビームを走査しながら照射すること
    により表面にマーキングが行われる素材であって、 金属母材と、この金属母材の表面に形成された厚膜から
    なる第1の着色膜と、この第1の着色膜の上に形成され
    た第2の着色膜とを備え、 前記第1の着色膜は、レーザビームの照射により金属母
    材の表面に達しない深さまで除去されるような厚みを有
    していることを特徴とする素材。
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