JP2003175026A - イメージング・システムを較正する方法及び装置 - Google Patents
イメージング・システムを較正する方法及び装置Info
- Publication number
- JP2003175026A JP2003175026A JP2002289353A JP2002289353A JP2003175026A JP 2003175026 A JP2003175026 A JP 2003175026A JP 2002289353 A JP2002289353 A JP 2002289353A JP 2002289353 A JP2002289353 A JP 2002289353A JP 2003175026 A JP2003175026 A JP 2003175026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phantom
- material block
- calibration
- element material
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 128
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 87
- 210000000481 breast Anatomy 0.000 claims description 19
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- 238000007476 Maximum Likelihood Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 6
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000009607 mammography Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000002059 diagnostic imaging Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000000762 glandular Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 235000007173 Abies balsamea Nutrition 0.000 description 1
- 239000004857 Balsam Substances 0.000 description 1
- 102100033041 Carbonic anhydrase 13 Human genes 0.000 description 1
- 101000867860 Homo sapiens Carbonic anhydrase 13 Proteins 0.000 description 1
- 244000018716 Impatiens biflora Species 0.000 description 1
- 229920005479 Lucite® Polymers 0.000 description 1
- 241000231739 Rutilus rutilus Species 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 210000000577 adipose tissue Anatomy 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- QXDMQSPYEZFLGF-UHFFFAOYSA-L calcium oxalate Chemical compound [Ca+2].[O-]C(=O)C([O-])=O QXDMQSPYEZFLGF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000003708 edge detection Methods 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 210000004907 gland Anatomy 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003325 tomography Methods 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus for radiation diagnosis, e.g. combined with radiation therapy equipment
- A61B6/58—Testing, adjusting or calibrating apparatus or devices for radiation diagnosis
- A61B6/582—Calibration
- A61B6/583—Calibration using calibration phantoms
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus for radiation diagnosis, e.g. combined with radiation therapy equipment
- A61B6/48—Diagnostic techniques
- A61B6/482—Diagnostic techniques involving multiple energy imaging
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus for radiation diagnosis, e.g. combined with radiation therapy equipment
- A61B6/40—Apparatus for radiation diagnosis, e.g. combined with radiation therapy equipment with arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis
- A61B6/4035—Apparatus for radiation diagnosis, e.g. combined with radiation therapy equipment with arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis the source being combined with a filter or grating
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Surgery (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多数回の走査を必要とせずに個々の検出器素
子の間の一様性を保証する較正を行なう。 【解決手段】 第一の高さ（６０）に第一の表面（５
８）を有し、第一の減弱係数を有する第一の物質（６
２）を少なくとも部分的に含んでいる第一のファントム
要素物質ブロック（５４）と、第二の高さ（６６）に第
二の表面（６４）を有し、第二の減弱係数を有する第二
の物質（６８）を少なくとも部分的に含んでいる第二の
ファントム要素物質ブロック（５６）を含む較正ファン
トム・システムを設ける。第一及び第二のファントム要
素物質ブロックは検出器上に共存配置される。本発明の
方法は、撮像によりファントム画像を取得し（１３
４）、これを処理し（１３６）、処理済のファントム画
像から複数の較正値を抽出する工程（１３８）を含む。
子の間の一様性を保証する較正を行なう。 【解決手段】 第一の高さ（６０）に第一の表面（５
８）を有し、第一の減弱係数を有する第一の物質（６
２）を少なくとも部分的に含んでいる第一のファントム
要素物質ブロック（５４）と、第二の高さ（６６）に第
二の表面（６４）を有し、第二の減弱係数を有する第二
の物質（６８）を少なくとも部分的に含んでいる第二の
ファントム要素物質ブロック（５６）を含む較正ファン
トム・システムを設ける。第一及び第二のファントム要
素物質ブロックは検出器上に共存配置される。本発明の
方法は、撮像によりファントム画像を取得し（１３
４）、これを処理し（１３６）、処理済のファントム画
像から複数の較正値を抽出する工程（１３８）を含む。
Description
【０００１】
【発明の背景】本発明は一般的には、イメージング・シ
ステムに関し、さらに具体的には、医用イメージング・
システムの較正に関する。
ステムに関し、さらに具体的には、医用イメージング・
システムの較正に関する。
【０００２】少なくとも幾つかの公知のイメージング・
システム構成では、放射線源がコーン（円錐）形状のビ
ームを投射し、このビームは患者等の被撮像物体を透過
して、放射線検出器の矩形アレイに入射する。幾つかの
公知の断層写真合成法（トモシンセシス）システムで
は、放射線源はガントリと共に枢軸点の周りを回転し
て、物体のビューを様々な投影角について取得する。本
書で用いる「ビュー」とは単一の投影画像を指してお
り、又はさらに具体的には、「ビュー」は投影画像を形
成する単一の投影放射線写真を指す。また、本書で用い
る場合には、検出器の上方の固定した高さにおける被撮
像物体の内部構造を表わす単一の再構成（断面）画像を
「スライス」と呼ぶ。また、ビューの集合（又は複数の
ビュー）を「投影データ集合」と呼ぶ。すべての高さに
ついてのスライスの集合（又は複数のスライス）を「被
撮像物体を表わす三次元データ集合」と呼ぶ。
システム構成では、放射線源がコーン（円錐）形状のビ
ームを投射し、このビームは患者等の被撮像物体を透過
して、放射線検出器の矩形アレイに入射する。幾つかの
公知の断層写真合成法（トモシンセシス）システムで
は、放射線源はガントリと共に枢軸点の周りを回転し
て、物体のビューを様々な投影角について取得する。本
書で用いる「ビュー」とは単一の投影画像を指してお
り、又はさらに具体的には、「ビュー」は投影画像を形
成する単一の投影放射線写真を指す。また、本書で用い
る場合には、検出器の上方の固定した高さにおける被撮
像物体の内部構造を表わす単一の再構成（断面）画像を
「スライス」と呼ぶ。また、ビューの集合（又は複数の
ビュー）を「投影データ集合」と呼ぶ。すべての高さに
ついてのスライスの集合（又は複数のスライス）を「被
撮像物体を表わす三次元データ集合」と呼ぶ。
【０００３】被撮像物体を表わす三次元データ集合を再
構成する公知の一方法は、単純逆投影又はシフト積算平
均法（shift-and-add）として当技術分野で公知であ
る。単純逆投影は、撮像空間にわたって各々のビューを
逆投影して、逆投影したビューを平均する。再構成され
たデータ集合の「スライス」は、検出器の上方の何らか
の着目高さについての逆投影画像の平均を含んでいる。
各々のスライスが着目高さでの被撮像物体の構造を表わ
しており、様々な高さについてのこれらスライスの集合
が被撮像物体を表わす三次元データ集合を構成する。代
替的には、例えば頭足方向走査（ＣＣ走査）又は内外斜
位方向走査（ＭＬＯ）のような二次元走査では、被撮像
物体を表わす二次元データ集合を構成する単一のスライ
スのみを取得する。
構成する公知の一方法は、単純逆投影又はシフト積算平
均法（shift-and-add）として当技術分野で公知であ
る。単純逆投影は、撮像空間にわたって各々のビューを
逆投影して、逆投影したビューを平均する。再構成され
たデータ集合の「スライス」は、検出器の上方の何らか
の着目高さについての逆投影画像の平均を含んでいる。
各々のスライスが着目高さでの被撮像物体の構造を表わ
しており、様々な高さについてのこれらスライスの集合
が被撮像物体を表わす三次元データ集合を構成する。代
替的には、例えば頭足方向走査（ＣＣ走査）又は内外斜
位方向走査（ＭＬＯ）のような二次元走査では、被撮像
物体を表わす二次元データ集合を構成する単一のスライ
スのみを取得する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】マンモグラフィ画像の
画質を確実に良好にするためには、個々の検出器素子の
間の一様性が重要である。さもないと、収集したデータ
に異常が生ずる虞がある。データ異常の結果として、一
般にアーティファクトと呼ばれている画像歪みが生ず
る。検出器の一様性は多くの要因に影響を受ける可能性
があり、これらの要因としては、放射線損傷、湿分損
傷、電磁場、及びシンチレータ材料の感度等があるがこ
れらに限定されない。この一様性について補正を行なう
ために、検出器の定期的な較正が必要となる。
画質を確実に良好にするためには、個々の検出器素子の
間の一様性が重要である。さもないと、収集したデータ
に異常が生ずる虞がある。データ異常の結果として、一
般にアーティファクトと呼ばれている画像歪みが生ず
る。検出器の一様性は多くの要因に影響を受ける可能性
があり、これらの要因としては、放射線損傷、湿分損
傷、電磁場、及びシンチレータ材料の感度等があるがこ
れらに限定されない。この一様性について補正を行なう
ために、検出器の定期的な較正が必要となる。
【０００５】較正の少なくとも一つの公知の方法では、
既知の腺及び脂肪組織組成の参照測定値集合が必要であ
る。この参照測定値集合を収集するためには、被撮像物
体の多数回の走査が必要となる場合がある。
既知の腺及び脂肪組織組成の参照測定値集合が必要であ
る。この参照測定値集合を収集するためには、被撮像物
体の多数回の走査が必要となる場合がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】イメージング・システム
と共に用いられる較正ファントム・システムを提供す
る。較正ファントム・システムは、第一の高さに第一の
表面を有する第一のファントム要素物質ブロックを含ん
でおり、第一のファントム要素物質ブロックは、第一の
減弱係数を有する第一の物質を少なくとも部分的に含ん
でいる。較正ファントム・システムはまた、第一の高さ
と異なる第二の高さに第二の表面を有する第二のファン
トム要素物質ブロックを含んでおり、第二のファントム
要素物質ブロックは、第一の減弱係数と異なる第二の減
弱係数を有する第二の物質を少なくとも部分的に含んで
いる。第一のファントム要素物質ブロック及び第二のフ
ァントム要素物質ブロックは検出器上に共存配置されて
いる。
と共に用いられる較正ファントム・システムを提供す
る。較正ファントム・システムは、第一の高さに第一の
表面を有する第一のファントム要素物質ブロックを含ん
でおり、第一のファントム要素物質ブロックは、第一の
減弱係数を有する第一の物質を少なくとも部分的に含ん
でいる。較正ファントム・システムはまた、第一の高さ
と異なる第二の高さに第二の表面を有する第二のファン
トム要素物質ブロックを含んでおり、第二のファントム
要素物質ブロックは、第一の減弱係数と異なる第二の減
弱係数を有する第二の物質を少なくとも部分的に含んで
いる。第一のファントム要素物質ブロック及び第二のフ
ァントム要素物質ブロックは検出器上に共存配置されて
いる。
【０００７】また、放射線源とディジタル検出器とを含
んでいるイメージング・システムの較正の方法を提供す
る。この方法は、第一の高さに第一の表面を有する第一
のファントム要素物質ブロックを含む較正ファントム・
システムを設ける工程を含んでおり、第一のファントム
要素物質ブロックは、第一の減弱係数を有する第一の物
質を少なくとも部分的に含んでいる。較正ファントム・
システムを設ける工程はまた、第一の高さと異なる第二
の高さに第二の表面を有する第二のファントム要素物質
ブロックを設ける工程を含んでおり、第二のファントム
要素物質ブロックは、第一の減弱係数と異なる第二の減
弱係数を有する第二の物質を少なくとも部分的に含んで
いる。第一のファントム要素物質ブロック及び第二のフ
ァントム要素物質ブロックは検出器上に共存配置されて
いる。この方法はまた、ファントム画像を得るために較
正ファントム・システムを撮像する工程と、ファントム
画像を処理する工程と、処理済のファントム画像から複
数の較正値を抽出する工程とを含んでいる。
んでいるイメージング・システムの較正の方法を提供す
る。この方法は、第一の高さに第一の表面を有する第一
のファントム要素物質ブロックを含む較正ファントム・
システムを設ける工程を含んでおり、第一のファントム
要素物質ブロックは、第一の減弱係数を有する第一の物
質を少なくとも部分的に含んでいる。較正ファントム・
システムを設ける工程はまた、第一の高さと異なる第二
の高さに第二の表面を有する第二のファントム要素物質
ブロックを設ける工程を含んでおり、第二のファントム
要素物質ブロックは、第一の減弱係数と異なる第二の減
弱係数を有する第二の物質を少なくとも部分的に含んで
いる。第一のファントム要素物質ブロック及び第二のフ
ァントム要素物質ブロックは検出器上に共存配置されて
いる。この方法はまた、ファントム画像を得るために較
正ファントム・システムを撮像する工程と、ファントム
画像を処理する工程と、処理済のファントム画像から複
数の較正値を抽出する工程とを含んでいる。
【０００８】さらに、放射線源とディジタル検出器とを
含んでいるイメージング・システムの較正のためにコン
ピュータによって実行可能なプログラムで符号化されて
いるコンピュータ読み取り可能な媒体を提供する。この
プログラムは、較正ファントム・システムを撮像すべく
コンピュータに指示するように構成されており、較正フ
ァントム・システムは、第一の高さに第一の表面を有す
る第一のファントム要素物質ブロックを含んでおり、第
一のファントム要素物質ブロックは、第一の減弱係数を
有する第一の物質を少なくとも部分的に含んでいる。較
正ファントム・システムはまた、第一の高さと異なる第
二の高さに第二の表面を有する第二のファントム要素物
質ブロックを含んでおり、第二のファントム要素物質ブ
ロックは、第一の減弱係数と異なる第二の減弱係数を有
する第二の物質を少なくとも部分的に含んでいる。第一
のファントム要素物質ブロック及び第二のファントム要
素物質ブロックは検出器上に共存配置されている。プロ
グラムはまた、ファントム画像を取得し、ファントム画
像を処理して、処理済のファントム画像から複数の較正
値を抽出すべくコンピュータに指示するように構成され
ている。
含んでいるイメージング・システムの較正のためにコン
ピュータによって実行可能なプログラムで符号化されて
いるコンピュータ読み取り可能な媒体を提供する。この
プログラムは、較正ファントム・システムを撮像すべく
コンピュータに指示するように構成されており、較正フ
ァントム・システムは、第一の高さに第一の表面を有す
る第一のファントム要素物質ブロックを含んでおり、第
一のファントム要素物質ブロックは、第一の減弱係数を
有する第一の物質を少なくとも部分的に含んでいる。較
正ファントム・システムはまた、第一の高さと異なる第
二の高さに第二の表面を有する第二のファントム要素物
質ブロックを含んでおり、第二のファントム要素物質ブ
ロックは、第一の減弱係数と異なる第二の減弱係数を有
する第二の物質を少なくとも部分的に含んでいる。第一
のファントム要素物質ブロック及び第二のファントム要
素物質ブロックは検出器上に共存配置されている。プロ
グラムはまた、ファントム画像を取得し、ファントム画
像を処理して、処理済のファントム画像から複数の較正
値を抽出すべくコンピュータに指示するように構成され
ている。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１について説明する。実施形態
の一例では、ディジタル・イメージング・システム１０
が、マンモグラフィ断層画像合成法において患者の乳房
１２等の被撮像物体１２を表わす三次元データ集合を生
成する。システム１０は、Ｘ線源１４のような放射線源
と、複数の投影角１８からビューを収集する１以上の検
出器アレイ１６とを含んでいる。明確に述べると、一実
施形態では、システム１０は、Ｘ線のコーン形状のビー
ムを投射する放射線源１４を含んでおり、ビームは物体
１２を透過して検出器アレイ１６に入射する。各々の角
度１８で得られたビューを用いて、複数のスライスすな
わち検出器１６に平行な複数の平面２０に位置する構造
を表わす画像を再構成することができる。検出器アレイ
１６は、乳房１２等の関心のある物体全体についての画
像を形成するように行及び列を成して配列した複数のピ
クセル（図示されていない）を有するパネル構成として
作製されている。一実施形態では、検出器アレイ１６は
心臓検出器アレイ１６であり、物体１２は心臓１２であ
る。各々のピクセルがフォトダイオードのような光セン
サを含んでおり、光センサは切り換えトランジスタを介
して二つの別個のアドレス線、一つの走査線及び一つの
データ線に結合されている。シンチレータ材料及びピク
セル光センサに入射した放射線は、ダイオードに跨がる
電荷の変化によって、Ｘ線とシンチレータとの相互作用
による発光の量の測定値を与える。結果として、各々の
ピクセルが、検出器アレイ１６に入射したＸ線ビームの
物体１２による減弱の後の強度を表わす電気信号を発生
する。一実施形態では、検出器アレイ１６は約２０ｃｍ
×２０ｃｍであって、関心のある物体、例えば乳房１２
の全体についてのビューを生成するように構成される。
代替的には、検出器アレイ１６は、所期の用途に応じて
可変的な寸法を有する。加えて、検出器アレイ１６の個
々のピクセルもまた、所期の用途に応じて任意のサイズ
を有していてよい。
の一例では、ディジタル・イメージング・システム１０
が、マンモグラフィ断層画像合成法において患者の乳房
１２等の被撮像物体１２を表わす三次元データ集合を生
成する。システム１０は、Ｘ線源１４のような放射線源
と、複数の投影角１８からビューを収集する１以上の検
出器アレイ１６とを含んでいる。明確に述べると、一実
施形態では、システム１０は、Ｘ線のコーン形状のビー
ムを投射する放射線源１４を含んでおり、ビームは物体
１２を透過して検出器アレイ１６に入射する。各々の角
度１８で得られたビューを用いて、複数のスライスすな
わち検出器１６に平行な複数の平面２０に位置する構造
を表わす画像を再構成することができる。検出器アレイ
１６は、乳房１２等の関心のある物体全体についての画
像を形成するように行及び列を成して配列した複数のピ
クセル（図示されていない）を有するパネル構成として
作製されている。一実施形態では、検出器アレイ１６は
心臓検出器アレイ１６であり、物体１２は心臓１２であ
る。各々のピクセルがフォトダイオードのような光セン
サを含んでおり、光センサは切り換えトランジスタを介
して二つの別個のアドレス線、一つの走査線及び一つの
データ線に結合されている。シンチレータ材料及びピク
セル光センサに入射した放射線は、ダイオードに跨がる
電荷の変化によって、Ｘ線とシンチレータとの相互作用
による発光の量の測定値を与える。結果として、各々の
ピクセルが、検出器アレイ１６に入射したＸ線ビームの
物体１２による減弱の後の強度を表わす電気信号を発生
する。一実施形態では、検出器アレイ１６は約２０ｃｍ
×２０ｃｍであって、関心のある物体、例えば乳房１２
の全体についてのビューを生成するように構成される。
代替的には、検出器アレイ１６は、所期の用途に応じて
可変的な寸法を有する。加えて、検出器アレイ１６の個
々のピクセルもまた、所期の用途に応じて任意のサイズ
を有していてよい。
【００１０】一実施形態では、再構成される三次元デー
タ集合は、検出器アレイ１６に平行な複数の平面に対応
するスライスとして構成されずに、より一般的な態様で
構成される。他の実施形態では、再構成されるデータ集
合は、単一の二次元画像、又は一次元関数のみから成っ
ている。さらに他の実施形態では、検出器１６は平面以
外の形状を有する。
タ集合は、検出器アレイ１６に平行な複数の平面に対応
するスライスとして構成されずに、より一般的な態様で
構成される。他の実施形態では、再構成されるデータ集
合は、単一の二次元画像、又は一次元関数のみから成っ
ている。さらに他の実施形態では、検出器１６は平面以
外の形状を有する。
【００１１】一実施形態では、放射線源１４及び検出器
アレイ１６は、物体１２に対して、且つ互いに対して可
動である。さらに明確に述べると、放射線源１４及び検
出器アレイ１６は、撮像空間の投影角１８を変化させる
ように並進可能となっている。放射線源１４及び検出器
アレイ１６は、投影角１８がいかなる鋭角投影角又は斜
位投影角にもなり得るように並進可能となっている。
アレイ１６は、物体１２に対して、且つ互いに対して可
動である。さらに明確に述べると、放射線源１４及び検
出器アレイ１６は、撮像空間の投影角１８を変化させる
ように並進可能となっている。放射線源１４及び検出器
アレイ１６は、投影角１８がいかなる鋭角投影角又は斜
位投影角にもなり得るように並進可能となっている。
【００１２】放射線源１４の動作は、イメージング・シ
ステム１０の制御機構２８によって制御されている。制
御機構２８は、放射線制御器３０とモータ制御器３２と
を含んでおり、放射線制御器３０は放射線源１４に電力
信号及びタイミング信号を供給し、モータ制御器３２は
放射線源１４及び検出器アレイ１６のそれぞれの並進速
度及び位置を制御する。制御機構２８内に設けられてい
るデータ取得システム（ＤＡＳ）３４が、後続の処理の
ために検出器１６からのディジタル・データをサンプリ
ングする。画像再構成器３６が、サンプリングされてデ
ィジタル化された投影データ集合をＤＡＳ３４から受け
取って本書に記載するような高速画像再構成を実行す
る。再構成された被撮像物体１２を表わす三次元データ
集合はコンピュータ３８への入力として印加されて、コ
ンピュータ３８は大容量記憶装置４０に三次元データ集
合を記憶させる。画像再構成器３６は、本書に記載する
諸機能を実行するようにプログラムされており、本書で
用いる「画像再構成器」という用語は、コンピュータ、
プロセッサ、マイクロコントローラ、マイクロコンピュ
ータ、プログラマブル・ロジック・コントローラ、特定
用途向け集積回路、及び他のプログラム可能な回路を指
すものとする。
ステム１０の制御機構２８によって制御されている。制
御機構２８は、放射線制御器３０とモータ制御器３２と
を含んでおり、放射線制御器３０は放射線源１４に電力
信号及びタイミング信号を供給し、モータ制御器３２は
放射線源１４及び検出器アレイ１６のそれぞれの並進速
度及び位置を制御する。制御機構２８内に設けられてい
るデータ取得システム（ＤＡＳ）３４が、後続の処理の
ために検出器１６からのディジタル・データをサンプリ
ングする。画像再構成器３６が、サンプリングされてデ
ィジタル化された投影データ集合をＤＡＳ３４から受け
取って本書に記載するような高速画像再構成を実行す
る。再構成された被撮像物体１２を表わす三次元データ
集合はコンピュータ３８への入力として印加されて、コ
ンピュータ３８は大容量記憶装置４０に三次元データ集
合を記憶させる。画像再構成器３６は、本書に記載する
諸機能を実行するようにプログラムされており、本書で
用いる「画像再構成器」という用語は、コンピュータ、
プロセッサ、マイクロコントローラ、マイクロコンピュ
ータ、プログラマブル・ロジック・コントローラ、特定
用途向け集積回路、及び他のプログラム可能な回路を指
すものとする。
【００１３】コンピュータ３８はまた、入力装置を有す
るコンソール４２を介して操作者から指令及び走査用パ
ラメータを受け取る。陰極線管表示器及び液晶表示器
（ＬＣＤ）のような表示器４４によって、操作者は再構
成された三次元データ集合及びコンピュータ３８からの
その他のデータを観測することができる。操作者が供給
する指令及びパラメータはコンピュータ３８によって用
いられて、ＤＡＳ３４、モータ制御器３２及び放射線制
御器３０に制御信号及び情報を供給する。
るコンソール４２を介して操作者から指令及び走査用パ
ラメータを受け取る。陰極線管表示器及び液晶表示器
（ＬＣＤ）のような表示器４４によって、操作者は再構
成された三次元データ集合及びコンピュータ３８からの
その他のデータを観測することができる。操作者が供給
する指令及びパラメータはコンピュータ３８によって用
いられて、ＤＡＳ３４、モータ制御器３２及び放射線制
御器３０に制御信号及び情報を供給する。
【００１４】利用時には、関心のある物体１２がシステ
ム１０の視野内に位置するように、すなわち放射線源１
４と検出器アレイ１６との間に延在する撮像空間内に乳
房１２が配置されるように患者を配置する。次いで、少
なくとも二つの投影角１８から乳房１２のビューを取得
して、関心のある空間の投影データ集合を生成する。こ
れらの複数のビューは、断層画像合成用投影データ集合
に相当している。次いで、収集された投影データ集合を
利用して、三次元データ集合、すなわち撮像されている
乳房１２の三次元放射線写真表現に相当する走査されて
いる乳房１２についての複数のスライスを形成する。放
射線源１４を起動して放射線ビームが第一の投影角４６
で照射されるようにした後に、検出器アレイ１６を用い
てビューを収集する。次いで、放射線ビームの中心軸４
８が第二の投影角４９に変化するように線源１４の位置
を並進させることによりシステム１０の投影角１８を変
化させると共に、検出器アレイ１６の位置を乳房１２が
システム１０の視野内に依然として位置するように変化
させる。放射線源１４を再び起動して、第二の投影角４
９についてビューを収集する。その後、後続の任意の数
の投影角１８について同じ手順を繰り返す。
ム１０の視野内に位置するように、すなわち放射線源１
４と検出器アレイ１６との間に延在する撮像空間内に乳
房１２が配置されるように患者を配置する。次いで、少
なくとも二つの投影角１８から乳房１２のビューを取得
して、関心のある空間の投影データ集合を生成する。こ
れらの複数のビューは、断層画像合成用投影データ集合
に相当している。次いで、収集された投影データ集合を
利用して、三次元データ集合、すなわち撮像されている
乳房１２の三次元放射線写真表現に相当する走査されて
いる乳房１２についての複数のスライスを形成する。放
射線源１４を起動して放射線ビームが第一の投影角４６
で照射されるようにした後に、検出器アレイ１６を用い
てビューを収集する。次いで、放射線ビームの中心軸４
８が第二の投影角４９に変化するように線源１４の位置
を並進させることによりシステム１０の投影角１８を変
化させると共に、検出器アレイ１６の位置を乳房１２が
システム１０の視野内に依然として位置するように変化
させる。放射線源１４を再び起動して、第二の投影角４
９についてビューを収集する。その後、後続の任意の数
の投影角１８について同じ手順を繰り返す。
【００１５】図２は、較正ファントム・システム５０の
実施形態の一例の遠近図である。この較正ファントム・
システム５０は非一体型で、検出器１６上に共存配置さ
れている少なくとも第一のファントム要素物質ブロック
５４と少なくとも第二のファントム要素物質ブロック５
６とを含めた複数のファントム要素５２を含んでいる。
第一のファントム要素物質ブロック５４は、第一の高さ
６０に第一の表面５８を有しており、乳房の等価物質６
２のような第一の物質６２を少なくとも部分的に含んで
いる。第一のファントム要素物質ブロック５４はまた、
第一の減弱係数を有している。第二のファントム要素物
質ブロック５６は、第一の高さ６０とは異なる第二の高
さ６６に第二の表面６４を有しており、第二の乳房の等
価物質６８のような第二の物質６８を少なくとも部分的
に含んでいる。第二のファントム要素物質ブロック５６
はまた、第一の減弱係数とは異なる第二の減弱係数を有
している。
実施形態の一例の遠近図である。この較正ファントム・
システム５０は非一体型で、検出器１６上に共存配置さ
れている少なくとも第一のファントム要素物質ブロック
５４と少なくとも第二のファントム要素物質ブロック５
６とを含めた複数のファントム要素５２を含んでいる。
第一のファントム要素物質ブロック５４は、第一の高さ
６０に第一の表面５８を有しており、乳房の等価物質６
２のような第一の物質６２を少なくとも部分的に含んで
いる。第一のファントム要素物質ブロック５４はまた、
第一の減弱係数を有している。第二のファントム要素物
質ブロック５６は、第一の高さ６０とは異なる第二の高
さ６６に第二の表面６４を有しており、第二の乳房の等
価物質６８のような第二の物質６８を少なくとも部分的
に含んでいる。第二のファントム要素物質ブロック５６
はまた、第一の減弱係数とは異なる第二の減弱係数を有
している。
【００１６】利用時には、較正ファントム・システム５
０は、複数の隣接する行７０及び隣接する列７２を成し
て配列されている複数のファントム要素５２を含んでい
る。一実施形態では、第一のファントム要素物質ブロッ
ク５４及び第二のファントム要素物質ブロック５６は、
減弱係数が小さくなる順序で配置される。もう一つの実
施形態では、第一のファントム要素物質ブロック５４及
び第二のファントム要素物質ブロック５６は、高さが低
くなる順序で配置される。較正ファントム・システム５
０全体の減弱係数のプロファイルは設計上の選択肢であ
り、図２に示したものに必ずしも対応していなくてもよ
いので、代替的に、何らかの他の構成で配列した複数の
ファントム要素５２を用いてもよい。一実施形態では、
ファントム要素５２は、ファントム要素５２がＸ線源１
４の視野内に位置するように検出器１６上に共存配置さ
れている。一実施形態では、減弱性の最も小さい物質
が、実際の人体の乳房において最小のＸ線減弱を有する
ものと予期される脂肪の等価組織に対応する。また、減
弱性の最も大きい物質が、人体の乳房に正常な状態で発
生する非石灰化組織のうち最大のＸ線減弱を有すると予
期される腺／乳房塊状組織の等価組織に対応する。代替
的な実施形態では、リン酸カルシウム又はシュウ酸カル
シウムの等価組織のように減弱係数のさらに高い物質を
用いてもよい。
０は、複数の隣接する行７０及び隣接する列７２を成し
て配列されている複数のファントム要素５２を含んでい
る。一実施形態では、第一のファントム要素物質ブロッ
ク５４及び第二のファントム要素物質ブロック５６は、
減弱係数が小さくなる順序で配置される。もう一つの実
施形態では、第一のファントム要素物質ブロック５４及
び第二のファントム要素物質ブロック５６は、高さが低
くなる順序で配置される。較正ファントム・システム５
０全体の減弱係数のプロファイルは設計上の選択肢であ
り、図２に示したものに必ずしも対応していなくてもよ
いので、代替的に、何らかの他の構成で配列した複数の
ファントム要素５２を用いてもよい。一実施形態では、
ファントム要素５２は、ファントム要素５２がＸ線源１
４の視野内に位置するように検出器１６上に共存配置さ
れている。一実施形態では、減弱性の最も小さい物質
が、実際の人体の乳房において最小のＸ線減弱を有する
ものと予期される脂肪の等価組織に対応する。また、減
弱性の最も大きい物質が、人体の乳房に正常な状態で発
生する非石灰化組織のうち最大のＸ線減弱を有すると予
期される腺／乳房塊状組織の等価組織に対応する。代替
的な実施形態では、リン酸カルシウム又はシュウ酸カル
シウムの等価組織のように減弱係数のさらに高い物質を
用いてもよい。
【００１７】図３は、図２に示すファントム要素５２の
実施形態の一例の遠近図であり、ファントム要素５２
は、放射線遮蔽板８０と、要素物質ブロック８２とを含
んでいる。放射線遮蔽板８０は、要素物質ブロック８２
に接触しており放射線ビームの減少を容易にする。代替
的な実施形態では、ファントム要素５２は放射線遮蔽板
８０を含まない。
実施形態の一例の遠近図であり、ファントム要素５２
は、放射線遮蔽板８０と、要素物質ブロック８２とを含
んでいる。放射線遮蔽板８０は、要素物質ブロック８２
に接触しており放射線ビームの減少を容易にする。代替
的な実施形態では、ファントム要素５２は放射線遮蔽板
８０を含まない。
【００１８】一実施形態では、放射線遮蔽板８０は実質
的に矩形である。代替的には、放射線遮蔽板８０は実質
的に方形、楕円形又は円形である。放射線遮蔽板８０は
実質的に中実又は一様であり、幅８６を有する開口８４
を含んでいる。放射線遮蔽板８０はまた、長さ８８、第
一の表面９０、第二の表面９２、及び第一の表面９０と
第二の表面９２との間で測定される厚み９４を有してい
る。幅８６、長さ８８及び厚み９４は、放射線遮蔽板８
０の所期の用途に応じて可変的に選択される。一実施形
態では、第一の表面９０及び第二の表面９２は実質的に
平行であり、開口８４は第一の表面９０から放射線遮蔽
板８０を貫通して第二の表面９２まで延在している。代
替的には、放射線遮蔽板８０は実質的に中実又は一様で
あり、意図的に設けた開口、内部空隙又は内部通路を有
さない。一実施形態では、開口８４は実質的に円形であ
り、０．５ｍｍ〜５ｍｍの直径を有しているが、較正フ
ァントム要素、当座の較正業務、及び所望の散乱拒絶に
適した任意の直径を用いてよい。代替的には、開口８４
は、放射線遮蔽板８０の所期の用途に応じて可変的に選
択される。代替的な実施形態では、放射線遮蔽板８０は
複数のスリットを含んでいる（図示されていない）。一
実施形態では、放射線遮蔽板８０は、鉛、タングステ
ン、及びアルミニウム等の金属物質９６を含んでいるが
金属物質はこれらに限定されない。金属物質９６は、Ｘ
線減弱の向上又は低下を容易にするように選択される。
一実施形態では、放射線遮蔽板８０は要素物質ブロック
８２を実質的に被覆している。代替的には、放射線遮蔽
板８０は要素物質ブロック８２の一部を被覆している。
他の実施形態では、放射線遮蔽板８０は要素物質ブロッ
ク８２を全く被覆していない。
的に矩形である。代替的には、放射線遮蔽板８０は実質
的に方形、楕円形又は円形である。放射線遮蔽板８０は
実質的に中実又は一様であり、幅８６を有する開口８４
を含んでいる。放射線遮蔽板８０はまた、長さ８８、第
一の表面９０、第二の表面９２、及び第一の表面９０と
第二の表面９２との間で測定される厚み９４を有してい
る。幅８６、長さ８８及び厚み９４は、放射線遮蔽板８
０の所期の用途に応じて可変的に選択される。一実施形
態では、第一の表面９０及び第二の表面９２は実質的に
平行であり、開口８４は第一の表面９０から放射線遮蔽
板８０を貫通して第二の表面９２まで延在している。代
替的には、放射線遮蔽板８０は実質的に中実又は一様で
あり、意図的に設けた開口、内部空隙又は内部通路を有
さない。一実施形態では、開口８４は実質的に円形であ
り、０．５ｍｍ〜５ｍｍの直径を有しているが、較正フ
ァントム要素、当座の較正業務、及び所望の散乱拒絶に
適した任意の直径を用いてよい。代替的には、開口８４
は、放射線遮蔽板８０の所期の用途に応じて可変的に選
択される。代替的な実施形態では、放射線遮蔽板８０は
複数のスリットを含んでいる（図示されていない）。一
実施形態では、放射線遮蔽板８０は、鉛、タングステ
ン、及びアルミニウム等の金属物質９６を含んでいるが
金属物質はこれらに限定されない。金属物質９６は、Ｘ
線減弱の向上又は低下を容易にするように選択される。
一実施形態では、放射線遮蔽板８０は要素物質ブロック
８２を実質的に被覆している。代替的には、放射線遮蔽
板８０は要素物質ブロック８２の一部を被覆している。
他の実施形態では、放射線遮蔽板８０は要素物質ブロッ
ク８２を全く被覆していない。
【００１９】要素物質ブロック８２は実質的に中実又は
一様であり、意図的に設けた内部空隙又は内部通路を有
さない。一実施形態では、要素物質ブロック８２は実質
的に矩形である。代替的な実施形態では、要素物質ブロ
ック８２は実質的に方形、球形、又は楕円の断面を有す
る形状である。要素物質ブロック８２は、幅１００、長
さ１０２、第一の表面１０４、第二の表面１０６、及び
第一の表面１０４と第二の表面１０６との間で測定され
る高さ１０８を含んでいる。高さ１０８は所期の用途に
応じて可変的に選択される。一実施形態では、第一の表
面１０４及び第二の表面１０６は実質的に平行である。
一実施形態では、要素物質ブロック８２は、乳房の等価
物質を含んでいるが、これに限定されない。代替的に
は、要素物質ブロック８２は実際の組織を含んでいる
（図示されていない）。一実施形態では、放射線遮蔽板
８０は要素物質ブロック８２に摩擦力で結合して、較正
時の放射線遮蔽板８０の取り外しを容易にする。
一様であり、意図的に設けた内部空隙又は内部通路を有
さない。一実施形態では、要素物質ブロック８２は実質
的に矩形である。代替的な実施形態では、要素物質ブロ
ック８２は実質的に方形、球形、又は楕円の断面を有す
る形状である。要素物質ブロック８２は、幅１００、長
さ１０２、第一の表面１０４、第二の表面１０６、及び
第一の表面１０４と第二の表面１０６との間で測定され
る高さ１０８を含んでいる。高さ１０８は所期の用途に
応じて可変的に選択される。一実施形態では、第一の表
面１０４及び第二の表面１０６は実質的に平行である。
一実施形態では、要素物質ブロック８２は、乳房の等価
物質を含んでいるが、これに限定されない。代替的に
は、要素物質ブロック８２は実際の組織を含んでいる
（図示されていない）。一実施形態では、放射線遮蔽板
８０は要素物質ブロック８２に摩擦力で結合して、較正
時の放射線遮蔽板８０の取り外しを容易にする。
【００２０】要素物質ブロック８２はブロック８２の高
さ１０８にわたって減弱スペクトルμi（Ｅ）を含んで
おり、すなわち減弱係数はフォトン・エネルギＥの関数
となっている。ここで、ＥはＸ線フォトン・エネルギで
あり、μiは単一のＸ線のスペクトルにおける減弱係数
である。一実施形態では、幅１００及び長さ１０２は較
正を容易にするように可変的に選択される。例えば、散
乱カーネル効果のため、最小の高さ１０８を有するファ
ントム要素５２を、底面積（footprint）すなわち検出
器上での要素領域が最小となるように機械加工すること
ができる。代替的には、ファントム要素５２は矩形でな
くてもよく、すなわち「尖鋭化（pointed）」させ、線
源焦点に対するファントム要素５２の指向を容易にし
て、ファントム要素５２の特定の幾何学的形状を変化さ
せることを容易にしてもよい。ファントムを図示の設計
から「歪ませる（warp）」（刈り込む（shear））こと
も可能であり、既知の幾何学的形状による較正業務に有
用な場合がある。
さ１０８にわたって減弱スペクトルμi（Ｅ）を含んで
おり、すなわち減弱係数はフォトン・エネルギＥの関数
となっている。ここで、ＥはＸ線フォトン・エネルギで
あり、μiは単一のＸ線のスペクトルにおける減弱係数
である。一実施形態では、幅１００及び長さ１０２は較
正を容易にするように可変的に選択される。例えば、散
乱カーネル効果のため、最小の高さ１０８を有するファ
ントム要素５２を、底面積（footprint）すなわち検出
器上での要素領域が最小となるように機械加工すること
ができる。代替的には、ファントム要素５２は矩形でな
くてもよく、すなわち「尖鋭化（pointed）」させ、線
源焦点に対するファントム要素５２の指向を容易にし
て、ファントム要素５２の特定の幾何学的形状を変化さ
せることを容易にしてもよい。ファントムを図示の設計
から「歪ませる（warp）」（刈り込む（shear））こと
も可能であり、既知の幾何学的形状による較正業務に有
用な場合がある。
【００２１】図４は、較正ファントム・システムの実施
形態のもう一つの例の遠近図である。較正ファントム・
システム１１０は一体型であり、複数のファントム凸部
１１２を含んでいる。各々のファントム凸部が、第一の
高さ１１６にある第一の表面１１４と、第一の高さ１１
６とは異なる第二の高さ１２０にある第二の表面１１８
とを含んでいる。較正ファントム・システム１１０は、
乳房の等価物質１２２等の物質１２２の空間的に変化す
る勾配を用いて作製されている。一実施形態では、較正
ファントム・システム１１０は射出成形され、すなわち
成分ポリマー濃度の混成を射出時にわたって制御して、
物質の組成が空間的に変化するようにするが、他のアプ
ローチでも較正ファントムに類似の特性を与えることが
できる。
形態のもう一つの例の遠近図である。較正ファントム・
システム１１０は一体型であり、複数のファントム凸部
１１２を含んでいる。各々のファントム凸部が、第一の
高さ１１６にある第一の表面１１４と、第一の高さ１１
６とは異なる第二の高さ１２０にある第二の表面１１８
とを含んでいる。較正ファントム・システム１１０は、
乳房の等価物質１２２等の物質１２２の空間的に変化す
る勾配を用いて作製されている。一実施形態では、較正
ファントム・システム１１０は射出成形され、すなわち
成分ポリマー濃度の混成を射出時にわたって制御して、
物質の組成が空間的に変化するようにするが、他のアプ
ローチでも較正ファントムに類似の特性を与えることが
できる。
【００２２】利用時には、医療の臨床現場で見受けられ
る所期の乳房の厚み変化に近似的に一致するように高さ
１１６及び高さ１２０を選択する。例えば、選択される
最小の高さは約３ｃｍであり、最大の高さは約７ｃｍで
あってよい。代替的には、較正の目的に応じて、高さ分
布のあらゆる任意の標本を用いてよい。
る所期の乳房の厚み変化に近似的に一致するように高さ
１１６及び高さ１２０を選択する。例えば、選択される
最小の高さは約３ｃｍであり、最大の高さは約７ｃｍで
あってよい。代替的には、較正の目的に応じて、高さ分
布のあらゆる任意の標本を用いてよい。
【００２３】図５は、方法１３０の流れ図であり、方法
１３０は、較正ファントム・システムを設ける工程１３
２と、１以上のファントム画像を形成するために較正フ
ァントム・システムを医用イメージング・システム１０
（図１に示す）によって撮像する工程１３４と、１以上
のファントム画像を処理する工程１３６と、１以上の処
理１３６済のファントム画像から複数の較正値を抽出し
て較正曲線を作成する工程１３８とを含んでいる。
１３０は、較正ファントム・システムを設ける工程１３
２と、１以上のファントム画像を形成するために較正フ
ァントム・システムを医用イメージング・システム１０
（図１に示す）によって撮像する工程１３４と、１以上
のファントム画像を処理する工程１３６と、１以上の処
理１３６済のファントム画像から複数の較正値を抽出し
て較正曲線を作成する工程１３８とを含んでいる。
【００２４】較正ファントム・システムを設ける工程１
３２は、較正ファントム・システム５０（図２に示す）
及び較正ファントム・システム１１０（図４に示す）を
設けることを含んでいる。代替的には、較正ファントム
・システム５０の複数の代替的な実施形態を設けてもよ
い。
３２は、較正ファントム・システム５０（図２に示す）
及び較正ファントム・システム１１０（図４に示す）を
設けることを含んでいる。代替的には、較正ファントム
・システム５０の複数の代替的な実施形態を設けてもよ
い。
【００２５】１以上のファントム画像を形成するために
較正ファントム・システム５０を医用イメージング・シ
ステム（図１に示す）によって撮像する工程１３４は、
放射線源１４（図１に示す）と検出器アレイ１６（図１
に示す）との間に較正ファントム・システム５０を配置
する工程１４０と、１以上のファントム画像について画
像取得パラメータを設定する工程１４２と、１以上のデ
ィジタル画像及び１以上のフィルム・スクリーン画像を
取得する工程１４４とを含んでいる。一実施形態では、
較正ファントム・システム５０を配置する工程１４０
は、較正ファントム・システム５０が放射線源１４と検
出器アレイ１６との間に位置するように較正ファントム
・システム５０を並進、回転及び傾斜させることを含ん
でいる。一実施形態では、較正ファントム・システム５
０は、公知の散乱防止グリッド（図示されていない）に
接触する。代替的には、散乱防止グリッドを用いずに、
較正ファントム・システム５０を検出器アレイ１８上に
配置する。他の実施形態では、較正ファントム・システ
ム５０を放射線源１４と検出器アレイ１６との間の一点
に懸吊する。さらにもう一つの実施形態では、圧迫板
（図示されていない）又は他の何らかの装置を用いて、
較正ファントム・システム５０を放射線源１４と検出器
アレイ１６との間に配置する。採用されている任意の特
定のＸ線手法に応じて画像取得パラメータを設定１４２
する場合に、パラメータとしては（１）陽極物質、
（２）フィルタ物質、（３）ｋＶｐ（発生したフォトン
・エネルギのピーク・キロ電子ボルト）、及び電荷の尺
度であるｍＡｓがある。陽極物質の典型的な選択肢は、
（ａ）モリブデン、（ｂ）ロジウム、又は（ｃ）タング
ステンである。フィルタ種別は任意の物質であってよ
い。典型的には、フィルタは（ａ）モリブデン又は
（ｂ）ロジウムである。但し、マンモグラフィ・エネル
ギ範囲にあるフィルタ物質の他の選択肢として、Ｃｕ、
Ａｌ、Ｗ、及びルーサイト（Lucite）がある。マンモグ
ラフィ・エネルギについてのｋＶｐは典型的には１５ｋ
ｅＶ〜４９ｋｅＶである。ｍＡｓは典型的には４ｍＡｓ
〜２５０ｍＡｓである。これら四つの変数すなわちフィ
ルタ、陽極、ｋＶｐ、及びｍＡｓの各々に一つずつの選
択が「取得パラメータ集合」を構成しており、このパラ
メータ集合が現場で「Ｘ線手法」と呼ばれるものの一つ
の例を記述する。例えば、Ｒｈ／Ｒｈ、Ｍｏ／Ｒｈ又は
Ｍｏ／Ｍｏ（フィルタ／陽極の三種の組み合わせ）手法
を、ｋＶｐを２０〜４０（２１の選択肢）とし、またｍ
Ａｓを５０、６０、７０、８０、９０、又は１００（６
つの値）のいずれかとして用いると、操作者は可能性と
しては３×２１×６＝３７８の異なるＸ線手法からの選
択を行なうことができる。１以上のファントム画像を取
得するためには１以上の手法が必要である。１以上のフ
ァントム画像は、較正ファントム・システム５０を配置
した後に取得される。ディジタル及びフィルム・スクリ
ーン画像を取得する工程１４４は、二重エネルギ・マン
モグラフィのような多数のエネルギで、フィルタと陽極
との多数の組み合わせで複数の画像を取得することを含
んでいる。例えば、較正ファントム・システム５０を用
いる場合に、較正手順は、２０キロ電子ボルト（ｋｅ
Ｖ）〜４０ｋｅＶでフィルタ／陽極の一定数の異なる組
み合わせでの取得を含み得る。各々の較正ファントム・
システム５０毎に１以上のファントム画像を処理する工
程１３６は、本書に記載した画像取得方法においてファ
ントム要素５２の特定の配列及び構成について特別に構
成することができる。代替的には、本書に記載したすべ
ての撮像方法に較正ファントム・システム１１０を用い
てもよい。
較正ファントム・システム５０を医用イメージング・シ
ステム（図１に示す）によって撮像する工程１３４は、
放射線源１４（図１に示す）と検出器アレイ１６（図１
に示す）との間に較正ファントム・システム５０を配置
する工程１４０と、１以上のファントム画像について画
像取得パラメータを設定する工程１４２と、１以上のデ
ィジタル画像及び１以上のフィルム・スクリーン画像を
取得する工程１４４とを含んでいる。一実施形態では、
較正ファントム・システム５０を配置する工程１４０
は、較正ファントム・システム５０が放射線源１４と検
出器アレイ１６との間に位置するように較正ファントム
・システム５０を並進、回転及び傾斜させることを含ん
でいる。一実施形態では、較正ファントム・システム５
０は、公知の散乱防止グリッド（図示されていない）に
接触する。代替的には、散乱防止グリッドを用いずに、
較正ファントム・システム５０を検出器アレイ１８上に
配置する。他の実施形態では、較正ファントム・システ
ム５０を放射線源１４と検出器アレイ１６との間の一点
に懸吊する。さらにもう一つの実施形態では、圧迫板
（図示されていない）又は他の何らかの装置を用いて、
較正ファントム・システム５０を放射線源１４と検出器
アレイ１６との間に配置する。採用されている任意の特
定のＸ線手法に応じて画像取得パラメータを設定１４２
する場合に、パラメータとしては（１）陽極物質、
（２）フィルタ物質、（３）ｋＶｐ（発生したフォトン
・エネルギのピーク・キロ電子ボルト）、及び電荷の尺
度であるｍＡｓがある。陽極物質の典型的な選択肢は、
（ａ）モリブデン、（ｂ）ロジウム、又は（ｃ）タング
ステンである。フィルタ種別は任意の物質であってよ
い。典型的には、フィルタは（ａ）モリブデン又は
（ｂ）ロジウムである。但し、マンモグラフィ・エネル
ギ範囲にあるフィルタ物質の他の選択肢として、Ｃｕ、
Ａｌ、Ｗ、及びルーサイト（Lucite）がある。マンモグ
ラフィ・エネルギについてのｋＶｐは典型的には１５ｋ
ｅＶ〜４９ｋｅＶである。ｍＡｓは典型的には４ｍＡｓ
〜２５０ｍＡｓである。これら四つの変数すなわちフィ
ルタ、陽極、ｋＶｐ、及びｍＡｓの各々に一つずつの選
択が「取得パラメータ集合」を構成しており、このパラ
メータ集合が現場で「Ｘ線手法」と呼ばれるものの一つ
の例を記述する。例えば、Ｒｈ／Ｒｈ、Ｍｏ／Ｒｈ又は
Ｍｏ／Ｍｏ（フィルタ／陽極の三種の組み合わせ）手法
を、ｋＶｐを２０〜４０（２１の選択肢）とし、またｍ
Ａｓを５０、６０、７０、８０、９０、又は１００（６
つの値）のいずれかとして用いると、操作者は可能性と
しては３×２１×６＝３７８の異なるＸ線手法からの選
択を行なうことができる。１以上のファントム画像を取
得するためには１以上の手法が必要である。１以上のフ
ァントム画像は、較正ファントム・システム５０を配置
した後に取得される。ディジタル及びフィルム・スクリ
ーン画像を取得する工程１４４は、二重エネルギ・マン
モグラフィのような多数のエネルギで、フィルタと陽極
との多数の組み合わせで複数の画像を取得することを含
んでいる。例えば、較正ファントム・システム５０を用
いる場合に、較正手順は、２０キロ電子ボルト（ｋｅ
Ｖ）〜４０ｋｅＶでフィルタ／陽極の一定数の異なる組
み合わせでの取得を含み得る。各々の較正ファントム・
システム５０毎に１以上のファントム画像を処理する工
程１３６は、本書に記載した画像取得方法においてファ
ントム要素５２の特定の配列及び構成について特別に構
成することができる。代替的には、本書に記載したすべ
ての撮像方法に較正ファントム・システム１１０を用い
てもよい。
【００２６】図６は、１以上のファントム画像を処理す
る工程１３６を含む方法１３０（図５に示す）の一部の
流れ図である。１以上のファントム画像を処理する工程
１３６は、１以上のファントム画像を前処理する工程１
５０と、１以上の前処理済の画像の散乱カーネルを推定
する工程１５２と、１以上の散乱カーネル推定値を用い
て散乱を補正する工程１５４と、１以上の散乱補正した
画像を用いてＸ線ピクセル雑音を推定する工程１５６と
を含んでいる。
る工程１３６を含む方法１３０（図５に示す）の一部の
流れ図である。１以上のファントム画像を処理する工程
１３６は、１以上のファントム画像を前処理する工程１
５０と、１以上の前処理済の画像の散乱カーネルを推定
する工程１５２と、１以上の散乱カーネル推定値を用い
て散乱を補正する工程１５４と、１以上の散乱補正した
画像を用いてＸ線ピクセル雑音を推定する工程１５６と
を含んでいる。
【００２７】１以上のファントム画像を前処理する工程
１５０は暗フレーム補正を含んでいてよく、すなわちフ
ァントム画像取得の前にＸ線放射線が存在しない状態で
Ｘ線走査を取得する。「暗フレーム」画像は、ファント
ム画像から減算することができる。代替的には、画像を
ゲイン補正してもよいし、又は独立に補正、すなわち検
出器アレイ１６に対するＸ線入射角の影響について操作
者が補正してもよい。ゲイン補正及び独立補正を用い
て、検出器アレイ１６全体での放射線源１４の可変的な
線束を考慮する。利用時には、陽極から特定のディジタ
ル検出器ピクセルまでの角度、又はフィルム・スクリー
ンの場合にはフィルムの特定の位置までの角度の余弦に
関する関数を用いて、個々のピクセル（図示されていな
い）上での実効的な線束を算出することができる。
１５０は暗フレーム補正を含んでいてよく、すなわちフ
ァントム画像取得の前にＸ線放射線が存在しない状態で
Ｘ線走査を取得する。「暗フレーム」画像は、ファント
ム画像から減算することができる。代替的には、画像を
ゲイン補正してもよいし、又は独立に補正、すなわち検
出器アレイ１６に対するＸ線入射角の影響について操作
者が補正してもよい。ゲイン補正及び独立補正を用い
て、検出器アレイ１６全体での放射線源１４の可変的な
線束を考慮する。利用時には、陽極から特定のディジタ
ル検出器ピクセルまでの角度、又はフィルム・スクリー
ンの場合にはフィルムの特定の位置までの角度の余弦に
関する関数を用いて、個々のピクセル（図示されていな
い）上での実効的な線束を算出することができる。
【００２８】１以上の前処理済の画像を用いて散乱カー
ネルを推定する工程１５２は、放射線遮蔽板８０（図３
に示す）、並びに較正ファントム・システム５０及び較
正ファントム・システム１１０等の複数の較正ファント
ム・システムを用いることを含んでいる。代替的には、
１以上の前処理済の画像を用いて散乱カーネルを推定す
る工程１５２を放射線遮蔽板８０を用いずに行なっても
よい。さらに明確に述べると、散乱防止グリッドを含む
イメージング・システム及び散乱防止グリッドを含まな
いイメージング・システム等の異なるイメージング・シ
ステム構成において、散乱カーネル推定を調節して散乱
及び一次Ｘ線事象の減少量を補償することができる。さ
らに、散乱防止グリッドを除去して検出器１６上で直接
取得される画像及び放射線源１４の近くで取得される画
像のように異なるファントム要素構成における散乱及び
一次Ｘ線事象の減少量に従って散乱カーネル推定を調節
してもよい。実施形態の一例では、１以上の前処理済の
画像を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２は、要
素物質ブロック８２の表面を覆って延在しており開口８
４を含む放射線遮蔽板８０を用いてファントム画像を取
得することを含んでいる。
ネルを推定する工程１５２は、放射線遮蔽板８０（図３
に示す）、並びに較正ファントム・システム５０及び較
正ファントム・システム１１０等の複数の較正ファント
ム・システムを用いることを含んでいる。代替的には、
１以上の前処理済の画像を用いて散乱カーネルを推定す
る工程１５２を放射線遮蔽板８０を用いずに行なっても
よい。さらに明確に述べると、散乱防止グリッドを含む
イメージング・システム及び散乱防止グリッドを含まな
いイメージング・システム等の異なるイメージング・シ
ステム構成において、散乱カーネル推定を調節して散乱
及び一次Ｘ線事象の減少量を補償することができる。さ
らに、散乱防止グリッドを除去して検出器１６上で直接
取得される画像及び放射線源１４の近くで取得される画
像のように異なるファントム要素構成における散乱及び
一次Ｘ線事象の減少量に従って散乱カーネル推定を調節
してもよい。実施形態の一例では、１以上の前処理済の
画像を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２は、要
素物質ブロック８２の表面を覆って延在しており開口８
４を含む放射線遮蔽板８０を用いてファントム画像を取
得することを含んでいる。
【００２９】一実施形態では、１以上の前処理済の画像
を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２はまた、開
口８６の下での一次線に対応するピークの位置を決定す
ること、散乱カーネルの台（support）すなわち何らか
の小さい定数よりも大きい値を有するカーネル位置を推
定すること、並びにファントム要素５２についての事前
情報すなわち物質ブロックの高さ、開口直径、ファント
ム要素５２の配列、ファントム要素５２の構成すなわち
散乱グリッドの有無、検出器１６の上方に懸吊されてい
るのか又は検出器１６上に直接位置しているのか、及び
他の幾何学的効果についての情報を用いることを含んで
いる。散乱カーネルを推定する工程１５２はまた、ファ
ントム要素の検出器上での底面積の任意の部分集合に対
するフーリエ及び空間領域のような複数のデコンボリュ
ーション手法を用いて、散乱カーネルの形状、振幅、及
び一次Ｘ線事象の振幅を推定することを含んでいる。散
乱Ｘ線事象とは、陽極で検出器１６に向かって放出され
たフォトンが物質を透過するＸ線軌跡の間に、Ｘ線軌跡
が直線から実質的に逸脱するように物質ブロック内の原
子核から逸れて偏向していることを意味する。本書では
陽極から放出されて検出器に入射するその他すべてのＸ
線フォトンを一次線と呼ぶ。
を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２はまた、開
口８６の下での一次線に対応するピークの位置を決定す
ること、散乱カーネルの台（support）すなわち何らか
の小さい定数よりも大きい値を有するカーネル位置を推
定すること、並びにファントム要素５２についての事前
情報すなわち物質ブロックの高さ、開口直径、ファント
ム要素５２の配列、ファントム要素５２の構成すなわち
散乱グリッドの有無、検出器１６の上方に懸吊されてい
るのか又は検出器１６上に直接位置しているのか、及び
他の幾何学的効果についての情報を用いることを含んで
いる。散乱カーネルを推定する工程１５２はまた、ファ
ントム要素の検出器上での底面積の任意の部分集合に対
するフーリエ及び空間領域のような複数のデコンボリュ
ーション手法を用いて、散乱カーネルの形状、振幅、及
び一次Ｘ線事象の振幅を推定することを含んでいる。散
乱Ｘ線事象とは、陽極で検出器１６に向かって放出され
たフォトンが物質を透過するＸ線軌跡の間に、Ｘ線軌跡
が直線から実質的に逸脱するように物質ブロック内の原
子核から逸れて偏向していることを意味する。本書では
陽極から放出されて検出器に入射するその他すべてのＸ
線フォトンを一次線と呼ぶ。
【００３０】他の実施形態では、１以上の前処理済の画
像を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２は、要素
物質ブロック８２の一部を覆って延在しており開口８２
を含む放射線遮蔽板８０を用いて複数のファントム画像
を取得することにより行なわれる。１以上の前処理済の
画像の散乱カーネルを推定する工程１５２はまた、ファ
ントム要素５２の配列及び構成に基づく事前情報を用い
て散乱事象のエッジの位置又は散乱及び一次事象のエッ
ジの位置を推定し、一次事象エッジの位置を用いてエッ
ジ拡がり関数を推定して、散乱カーネルの事前情報又は
散乱カーネルの特性を画定する物理学的情報を用いて散
乱カーネルを推定することを含んでいる。
像を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２は、要素
物質ブロック８２の一部を覆って延在しており開口８２
を含む放射線遮蔽板８０を用いて複数のファントム画像
を取得することにより行なわれる。１以上の前処理済の
画像の散乱カーネルを推定する工程１５２はまた、ファ
ントム要素５２の配列及び構成に基づく事前情報を用い
て散乱事象のエッジの位置又は散乱及び一次事象のエッ
ジの位置を推定し、一次事象エッジの位置を用いてエッ
ジ拡がり関数を推定して、散乱カーネルの事前情報又は
散乱カーネルの特性を画定する物理学的情報を用いて散
乱カーネルを推定することを含んでいる。
【００３１】さらにもう一つの実施形態では、１以上の
前処理済の画像を用いて散乱カーネルを推定する工程１
５２は、放射線遮蔽板８０を用いずに複数のファントム
画像を取得することを含んでいる。１以上の前処理済の
画像を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２はま
た、純粋に散乱性である事象と、散乱Ｘ線フォトン及び
一次Ｘ線フォトンの組み合わせによる事象との間でエッ
ジ位置を推定すること、複数の乳房等価物質６２及び６
８の間でエッジ位置を推定すること、並びに複数の乳房
等価物質ファントム要素の高さ６６及び６０の間でエッ
ジ位置を推定することを含んでいる。エッジ情報は、フ
ァントム位置測定値から事前に利用可能となっている場
合もある。散乱カーネル推定はまた、複数のエッジ位置
を用いて散乱カーネルの台を推定し、カーネルの台の推
定値を用いて一次及び散乱Ｘ線事象の空間的に変化する
複数の寄与を推定して、散乱放射線及び一次放射線の観
測値から一次推定の逆問題を解くことを含んでいる。
前処理済の画像を用いて散乱カーネルを推定する工程１
５２は、放射線遮蔽板８０を用いずに複数のファントム
画像を取得することを含んでいる。１以上の前処理済の
画像を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２はま
た、純粋に散乱性である事象と、散乱Ｘ線フォトン及び
一次Ｘ線フォトンの組み合わせによる事象との間でエッ
ジ位置を推定すること、複数の乳房等価物質６２及び６
８の間でエッジ位置を推定すること、並びに複数の乳房
等価物質ファントム要素の高さ６６及び６０の間でエッ
ジ位置を推定することを含んでいる。エッジ情報は、フ
ァントム位置測定値から事前に利用可能となっている場
合もある。散乱カーネル推定はまた、複数のエッジ位置
を用いて散乱カーネルの台を推定し、カーネルの台の推
定値を用いて一次及び散乱Ｘ線事象の空間的に変化する
複数の寄与を推定して、散乱放射線及び一次放射線の観
測値から一次推定の逆問題を解くことを含んでいる。
【００３２】放射線遮蔽板８０を含む較正ファントム・
システム５０を用いる一実施形態では、１以上の前処理
済の画像を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２
は、較正ファントム・システム５０について一次Ｘ線事
象のピクセル位置を決定し、空間依存型エッジ検出、閾
値処理、及びモルフォロジー演算子の組み合わせを用い
て一次Ｘ線の底面積を生成することを含んでいる。
システム５０を用いる一実施形態では、１以上の前処理
済の画像を用いて散乱カーネルを推定する工程１５２
は、較正ファントム・システム５０について一次Ｘ線事
象のピクセル位置を決定し、空間依存型エッジ検出、閾
値処理、及びモルフォロジー演算子の組み合わせを用い
て一次Ｘ線の底面積を生成することを含んでいる。
【００３３】一次Ｘ線の底面積を用い、また散乱カーネ
ルが円形対称であるとの仮定を用いると、カーネル推定
手順についてｒT（ここでｒはデカルト座標の極形態で
ありすなわちｒ＝（ｘ2＋ｙ2）1/2である）の有用な範
囲を決定することができる。一実施形態では、図３を参
照すると、ファントム要素５２についてのｒTの範囲
は、幅１００を２で除算したもの又は長さ１０２を２で
除算したものよりも小さくなる。利用時には、ｒTはま
た、ピンホール直径８６を２で除算したもの（ここでは
ｒpと呼ぶ）よりも大きくなる。代替的には、ｒTは、特
定の較正業務に応じて可変的に選択してよい。
ルが円形対称であるとの仮定を用いると、カーネル推定
手順についてｒT（ここでｒはデカルト座標の極形態で
ありすなわちｒ＝（ｘ2＋ｙ2）1/2である）の有用な範
囲を決定することができる。一実施形態では、図３を参
照すると、ファントム要素５２についてのｒTの範囲
は、幅１００を２で除算したもの又は長さ１０２を２で
除算したものよりも小さくなる。利用時には、ｒTはま
た、ピンホール直径８６を２で除算したもの（ここでは
ｒpと呼ぶ）よりも大きくなる。代替的には、ｒTは、特
定の較正業務に応じて可変的に選択してよい。
【００３４】一実施形態では、ｒTの有用な範囲はｒを
用いて決定され、ここで、θにわたって平均した平均信
号レベルｙ（ｒ，θ）はｒ＝ｒpの内部でその平均値の
Ｒ％まで低下するものとする。一実施形態では、散乱カ
ーネル・パラメータの推定のためのｒの有用な範囲はｒ
＜ｒpであり、ｙ（ｒ，θ）はｒ＜ｒpについてはβより
も大きい。例えば、散乱カーネル推定に有用な信号レベ
ルの一つの選択肢は、平均信号レベルがｒ＝ｒpの内部
でｙ（ｒ，θ）の平均信号レベルのＲ＝５％未満で変化
する場合の半径であってよい。
用いて決定され、ここで、θにわたって平均した平均信
号レベルｙ（ｒ，θ）はｒ＝ｒpの内部でその平均値の
Ｒ％まで低下するものとする。一実施形態では、散乱カ
ーネル・パラメータの推定のためのｒの有用な範囲はｒ
＜ｒpであり、ｙ（ｒ，θ）はｒ＜ｒpについてはβより
も大きい。例えば、散乱カーネル推定に有用な信号レベ
ルの一つの選択肢は、平均信号レベルがｒ＝ｒpの内部
でｙ（ｒ，θ）の平均信号レベルのＲ＝５％未満で変化
する場合の半径であってよい。
【００３５】さらに、ｒTの有用な範囲を用いて散乱カ
ーネルのパラメトリック・モデルが決定される。一実施
形態では、散乱カーネルのパラメトリック・モデルは、 Ｋg（ｒ） ＝ａ1Ｇ（ｒ；ｏ，σ1）＋ａ2Ｇ（ｒ；ｏ，σ2）＋...ａnＧ（ｒ；ｏ，σn） （式１） である。ここで、Ｋg（ｒ）は極座標での散乱カーネル
のパラメトリック・モデルであり、ｇ（ｘ；μ，σ）は
平均μ及び標準偏差σを有するｘについての二次元円対
称ガウス関数である。ここに記載するパラメトリック・
モデルでは、観測される平均信号は、すべて原点を中心
として、異なる振幅ａk、及び分散σkを有する放射対称
ガウス関数のｒ＝ｒpの円の内部での定数項の和とな
る。
ーネルのパラメトリック・モデルが決定される。一実施
形態では、散乱カーネルのパラメトリック・モデルは、 Ｋg（ｒ） ＝ａ1Ｇ（ｒ；ｏ，σ1）＋ａ2Ｇ（ｒ；ｏ，σ2）＋...ａnＧ（ｒ；ｏ，σn） （式１） である。ここで、Ｋg（ｒ）は極座標での散乱カーネル
のパラメトリック・モデルであり、ｇ（ｘ；μ，σ）は
平均μ及び標準偏差σを有するｘについての二次元円対
称ガウス関数である。ここに記載するパラメトリック・
モデルでは、観測される平均信号は、すべて原点を中心
として、異なる振幅ａk、及び分散σkを有する放射対称
ガウス関数のｒ＝ｒpの円の内部での定数項の和とな
る。
【００３６】もう一つの実施形態では、散乱カーネルの
パラメトリック・モデルは、 Ｋe（ｒ）＝ａeｅｘｐ（−ｒ／λ） （式２） であり、ここで、Ｋe（ｒ）は極座標での散乱カーネル
のパラメトリック・モデルであり、ａeは空間時間定数
λによる放射対称減衰指数関数の振幅である。一実施形
態では、Ｋe及びＫgのみが散乱カーネルのパラメータ化
についての唯二つの選択肢となる。代替的な実施形態で
は、散乱カーネルの空間的に変化する特性を捉える任意
のパラメータ化を用いることができる。
パラメトリック・モデルは、 Ｋe（ｒ）＝ａeｅｘｐ（−ｒ／λ） （式２） であり、ここで、Ｋe（ｒ）は極座標での散乱カーネル
のパラメトリック・モデルであり、ａeは空間時間定数
λによる放射対称減衰指数関数の振幅である。一実施形
態では、Ｋe及びＫgのみが散乱カーネルのパラメータ化
についての唯二つの選択肢となる。代替的な実施形態で
は、散乱カーネルの空間的に変化する特性を捉える任意
のパラメータ化を用いることができる。
【００３７】一実施形態では、本書に記載した散乱カー
ネルを用いると、散乱のモデルは、 ｙc＝Ｐ＋Ｐ＊Ｋ＋η （式３） となる。ここで、ｙcは観測される画像であり、Ｐは一
次Ｘ線すなわち散乱していないＸ線によるフォトン数デ
ータの確定的成分であり、Ｋで畳み込みしたＰは確定的
であるが未知の散乱フォトン数データ成分であり、ηは
系雑音（量子雑音及び電子雑音）である。利用時には、
この推定アプローチを一般的な散乱カーネルＫについて
用いることができるので、式１及び式２のＫe若しくは
Ｋgに適用することもできるし、又は他の任意のカーネ
ル表現に適用することもできる。極座標におけるＰの一
つのモデルは、ｒ＜ｒpではＰ＝βであり、ｒ＞ｒpでは
Ｐ＝０である。
ネルを用いると、散乱のモデルは、 ｙc＝Ｐ＋Ｐ＊Ｋ＋η （式３） となる。ここで、ｙcは観測される画像であり、Ｐは一
次Ｘ線すなわち散乱していないＸ線によるフォトン数デ
ータの確定的成分であり、Ｋで畳み込みしたＰは確定的
であるが未知の散乱フォトン数データ成分であり、ηは
系雑音（量子雑音及び電子雑音）である。利用時には、
この推定アプローチを一般的な散乱カーネルＫについて
用いることができるので、式１及び式２のＫe若しくは
Ｋgに適用することもできるし、又は他の任意のカーネ
ル表現に適用することもできる。極座標におけるＰの一
つのモデルは、ｒ＜ｒpではＰ＝βであり、ｒ＞ｒpでは
Ｐ＝０である。
【００３８】図７は、ＥＭ散乱カーネル・パラメータ推
定を示すプロット図である。一実施形態では、散乱カー
ネル・パラメータの識別に対して最尤（ＭＬ）推定アプ
ローチを用いる。一実施形態では、一次事象及び散乱事
象のＭＬ推定は、期待値最大化（ＥＭ）アルゴリズムを
用いて行なわれる。ＥＭアルゴリズムは、Ｅ段階、Ｍ段
階、及び初期化の定義を必要とする。
定を示すプロット図である。一実施形態では、散乱カー
ネル・パラメータの識別に対して最尤（ＭＬ）推定アプ
ローチを用いる。一実施形態では、一次事象及び散乱事
象のＭＬ推定は、期待値最大化（ＥＭ）アルゴリズムを
用いて行なわれる。ＥＭアルゴリズムは、Ｅ段階、Ｍ段
階、及び初期化の定義を必要とする。
【００３９】一実施形態では、ＥＭアルゴリズムは、第
ｊ回の繰り返しにおいて、この繰り返しでの完全データ
の期待値βj＝Ｅ［β｜ｙc，Ｋj-1］を算出する（Ｅ段
階）ことにより決定することができる。ここで、β
jは、Ｅ段階からの一次線に対応するｒpの内部の定数信
号レベルの推定値である。βは、一次線のみによる観測
信号の推定値である。例えば、Ｋ＝式１のＫgと設定す
るとＥ段階はβj＝Ｅ［β｜ｙc，ａk j，σk j］となり、
代替的には、Ｋ＝式２のＫeと設定するとＥ段階はβj＝
Ｅ［β｜ｙc，ａe j-1，λj-1］となる。βjが与えられ
たら、散乱の期待値が与えられたときの散乱カーネル・
パラメータの尤度を最大化（Ｍ段階）し、すなわち
ａk j，σk j＝ａｒｇ ｍａｘ ｐ（ａk j-1，σk j-1｜ｙ
c，α，β）とする。一般的には、Ｅ段階は、散乱カー
ネルが与えられた場合に一次Ｘ線事象を推定することに
対応する。Ｍ段階は、一次事象が既知であると仮定して
散乱カーネル特性を推定することに対応する。この概念
を図７に示す。
ｊ回の繰り返しにおいて、この繰り返しでの完全データ
の期待値βj＝Ｅ［β｜ｙc，Ｋj-1］を算出する（Ｅ段
階）ことにより決定することができる。ここで、β
jは、Ｅ段階からの一次線に対応するｒpの内部の定数信
号レベルの推定値である。βは、一次線のみによる観測
信号の推定値である。例えば、Ｋ＝式１のＫgと設定す
るとＥ段階はβj＝Ｅ［β｜ｙc，ａk j，σk j］となり、
代替的には、Ｋ＝式２のＫeと設定するとＥ段階はβj＝
Ｅ［β｜ｙc，ａe j-1，λj-1］となる。βjが与えられ
たら、散乱の期待値が与えられたときの散乱カーネル・
パラメータの尤度を最大化（Ｍ段階）し、すなわち
ａk j，σk j＝ａｒｇ ｍａｘ ｐ（ａk j-1，σk j-1｜ｙ
c，α，β）とする。一般的には、Ｅ段階は、散乱カー
ネルが与えられた場合に一次Ｘ線事象を推定することに
対応する。Ｍ段階は、一次事象が既知であると仮定して
散乱カーネル特性を推定することに対応する。この概念
を図７に示す。
【００４０】全ＥＭを初期化するために、一次事象の初
期推定値を決定する。一実施形態では、この初期化は、
期推定値を決定する。一実施形態では、この初期化は、
【００４１】
【数１】
【００４２】であり、ここでβ0は開口内での平均フォ
トン数に対応する。代替的には、散乱カーネルのＭＬ推
定値への収束を可能にする任意の初期化を用いてよい。
トン数に対応する。代替的には、散乱カーネルのＭＬ推
定値への収束を可能にする任意の初期化を用いてよい。
【００４３】ＥＭアルゴリズムを用いて、ファントム要
素パラメータから利用可能な事前情報を用いたＥＭアル
ゴリズムの第ｊ回の繰り返しについて、散乱カーネル・
モデルのカーネル・パラメータを更新することができ
る。事前情報は、ピンホール被覆孔が半径ｄｍｍの円で
あるとするならば、ピンホール中心の直上に点源が位置
しておりピクセル・ピッチ＝１００ミクロンであると仮
定してｒp＝５ｄとなる等の情報を含んでいる。２ｐピ
クセルの場合等の代替的なピクセル・ピッチ・サイズに
ついても同じ解析を適用することができ、ここで、ｄ及
びｐはｍｍ単位でのピンホール直径及びピクセル・ピッ
チである。ピンホール中心と点源とを結ぶ線が検出器に
垂直でない場合の射線については、一次及び散乱Ｘ線底
面積に対して適当な幾何学的変換を施す。利用時には、
この変換によって、検出器空間において観測される底面
積が、ピンホール中心の直上に位置する点源について検
出器空間において予期される底面積に歪む。
素パラメータから利用可能な事前情報を用いたＥＭアル
ゴリズムの第ｊ回の繰り返しについて、散乱カーネル・
モデルのカーネル・パラメータを更新することができ
る。事前情報は、ピンホール被覆孔が半径ｄｍｍの円で
あるとするならば、ピンホール中心の直上に点源が位置
しておりピクセル・ピッチ＝１００ミクロンであると仮
定してｒp＝５ｄとなる等の情報を含んでいる。２ｐピ
クセルの場合等の代替的なピクセル・ピッチ・サイズに
ついても同じ解析を適用することができ、ここで、ｄ及
びｐはｍｍ単位でのピンホール直径及びピクセル・ピッ
チである。ピンホール中心と点源とを結ぶ線が検出器に
垂直でない場合の射線については、一次及び散乱Ｘ線底
面積に対して適当な幾何学的変換を施す。利用時には、
この変換によって、検出器空間において観測される底面
積が、ピンホール中心の直上に位置する点源について検
出器空間において予期される底面積に歪む。
【００４４】一実施形態では、所望の忠実度に応じて、
第一近似として幾何学的変換を省略することもでき、β
jは、
第一近似として幾何学的変換を省略することもでき、β
jは、
【００４５】
【数２】
【００４６】を用いて推定することができる。ここで、
ｐa（ｒ）はｒ＝０からｒ＝ａまでの幅ａの矩形パルス
であり、Ｋは散乱カーネルであり、Ｋe、Ｋg又は第ｊ回
の繰り返しからのその他任意の散乱カーネル推定値をＫ
として用いることができる。例えば、Ｋ（ｒ）＝Ｋ
g（ｒ；ａi，σi）である場合には、ａi及びσiはＥＭ
アルゴリズムの前回の繰り返しで推定された散乱カーネ
ルのガウス成分の振幅及び標準偏差の推定値となる。代
替的に、Ｋ（ｒ）＝Ｋe（ｒ）である場合には、ａe及び
λは前回の繰り返しから得られた振幅及びλの推定値と
なる。
ｐa（ｒ）はｒ＝０からｒ＝ａまでの幅ａの矩形パルス
であり、Ｋは散乱カーネルであり、Ｋe、Ｋg又は第ｊ回
の繰り返しからのその他任意の散乱カーネル推定値をＫ
として用いることができる。例えば、Ｋ（ｒ）＝Ｋ
g（ｒ；ａi，σi）である場合には、ａi及びσiはＥＭ
アルゴリズムの前回の繰り返しで推定された散乱カーネ
ルのガウス成分の振幅及び標準偏差の推定値となる。代
替的に、Ｋ（ｒ）＝Ｋe（ｒ）である場合には、ａe及び
λは前回の繰り返しから得られた振幅及びλの推定値と
なる。
【００４７】Ｍ段階では、Ｅ段階からパラメータ推定で
算出された開口を通過する一次放射線の推定値によって
不完全データｇの定義が「完全化」されることを必要と
する。Ｍ段階は、
算出された開口を通過する一次放射線の推定値によって
不完全データｇの定義が「完全化」されることを必要と
する。Ｍ段階は、
【００４８】
【数３】
【００４９】である。
【００５０】図示のように、不完全データは、前回の繰
り返しでの開口における一次放射線成分の期待値を観測
値から減算したものとなる。次いで、散乱カーネル・パ
ラメータの推定に対するＭＬアプローチを用いる。この
過程は、フーリエ空間又はウェーブレット空間のような
変換空間でアプローチすることもできるし、又は空間領
域自体でアプローチすることもできる。一実施形態で
は、正則化フーリエ解析を用いて散乱カーネルの推定値
を先ず求める一アプローチがある。例えば、Ｇ（ω）を
ｇj（ｒ）の空間周波数表現とし、Φ（ω）を開口を通
過する一次放射線Ｐの空間周波数推定値であるとする
と、理論的な散乱カーネル周波数領域表現は、
り返しでの開口における一次放射線成分の期待値を観測
値から減算したものとなる。次いで、散乱カーネル・パ
ラメータの推定に対するＭＬアプローチを用いる。この
過程は、フーリエ空間又はウェーブレット空間のような
変換空間でアプローチすることもできるし、又は空間領
域自体でアプローチすることもできる。一実施形態で
は、正則化フーリエ解析を用いて散乱カーネルの推定値
を先ず求める一アプローチがある。例えば、Ｇ（ω）を
ｇj（ｒ）の空間周波数表現とし、Φ（ω）を開口を通
過する一次放射線Ｐの空間周波数推定値であるとする
と、理論的な散乱カーネル周波数領域表現は、
【００５１】
【数４】
【００５２】となる。ここで、τ-1は逆フーリエ変換を
示す。利用時には、散乱カーネル推定は、一次放射線の
周波数領域表現Φ（ω）におけるゼロによって複雑化す
る。公知の正則化アプローチを適用してこの問題点を改
善することができる。一実施形態では、Φ（ω）のフー
リエ係数について下限値を設定する一アプローチがあ
る。Φ（ω）のフーリエ係数が下限値未満に低下すると
きには、比における対応する係数をゼロに設定する。こ
のようにして、Ｋ（ｒ）の推定値をΦ（ω）の特定の形
態に対して不感受性にする。Ｋ（ｒ）の推定値が与えら
れれば、すなわちＫ e及びＫgの場合のようにＫが実際に
パラメータ化されれば、複数のパラメータ・フィッティ
ング・ルーチンをカーネル・パラメータに適用すること
ができる。代替的には、次回の繰り返しについてのＫ
（ｒ）の正則化した推定値を用いることもできる。例え
ば、複数のＭＬガウス混合フィッティング・ルーチンを
適用して、Ｍ段階でのパラメータ推定に対するＥＭアプ
ローチのように、式１における散乱カーネルについての
パラメータを推定することができる。従って、所載のＥ
Ｍアプローチは入れ子式ＥＭアプローチとなる。
示す。利用時には、散乱カーネル推定は、一次放射線の
周波数領域表現Φ（ω）におけるゼロによって複雑化す
る。公知の正則化アプローチを適用してこの問題点を改
善することができる。一実施形態では、Φ（ω）のフー
リエ係数について下限値を設定する一アプローチがあ
る。Φ（ω）のフーリエ係数が下限値未満に低下すると
きには、比における対応する係数をゼロに設定する。こ
のようにして、Ｋ（ｒ）の推定値をΦ（ω）の特定の形
態に対して不感受性にする。Ｋ（ｒ）の推定値が与えら
れれば、すなわちＫ e及びＫgの場合のようにＫが実際に
パラメータ化されれば、複数のパラメータ・フィッティ
ング・ルーチンをカーネル・パラメータに適用すること
ができる。代替的には、次回の繰り返しについてのＫ
（ｒ）の正則化した推定値を用いることもできる。例え
ば、複数のＭＬガウス混合フィッティング・ルーチンを
適用して、Ｍ段階でのパラメータ推定に対するＥＭアプ
ローチのように、式１における散乱カーネルについての
パラメータを推定することができる。従って、所載のＥ
Ｍアプローチは入れ子式ＥＭアプローチとなる。
【００５３】一実施形態では、追加の制約でアプローチ
を精密化することができる。例えば、ａk＞０と制約
し、且つ散乱カーネル平均をゼロに制約すると、関心の
あるカーネルに対するパラメータ検索空間が精密化す
る。この方式でａk及びσkの組を推定することができ
る。Ｍ段階に対する代替的なアプローチには、緩和フー
リエ解析、エネルギ最小化アプローチ、及び繰り返し式
条件付き期待値アプローチがある。代替的には、カーネ
ル・パラメータのＭＬ推定値を与える任意のアプローチ
を用いてよい。ＥＭ散乱カーネル・パラメータ推定手順
を図７に線図で示す。
を精密化することができる。例えば、ａk＞０と制約
し、且つ散乱カーネル平均をゼロに制約すると、関心の
あるカーネルに対するパラメータ検索空間が精密化す
る。この方式でａk及びσkの組を推定することができ
る。Ｍ段階に対する代替的なアプローチには、緩和フー
リエ解析、エネルギ最小化アプローチ、及び繰り返し式
条件付き期待値アプローチがある。代替的には、カーネ
ル・パラメータのＭＬ推定値を与える任意のアプローチ
を用いてよい。ＥＭ散乱カーネル・パラメータ推定手順
を図７に線図で示す。
【００５４】散乱カーネル推定値を用いて検出器上での
一次Ｘ線事象を推定する工程１５４は、本書で前に決定
した散乱カーネル推定値、及びファントム要素構成につ
いての事前情報を用いることを含んでいる。一次事象は
複数の方法で推定することができる。一実施形態では、
散乱推定は必要ではなく、放射線遮蔽板による遮蔽の開
口のコリメーションによって開口内部での散乱の寄与が
大幅に減少するので、Ｘ線開口の底面積内又は検出器内
での平均数データによって一次推定値を近似することが
できる。代替的には、散乱の寄与は既知であるが散乱カ
ーネル推定値Ｐが特に必要とされない場合には、Ｘ線開
口内の平均数データの何らかの部分数を用いて一次放射
線の寄与を推定することもできる。代替的には、散乱カ
ーネル推定における一次線の推定に対するＥＭアプロー
チからのＥ段階の任意の実施形態を用いてもよい。幾つ
かの実施形態では、散乱を無視することができ、散乱を
推定する必要も測定数から減算する必要もない。
一次Ｘ線事象を推定する工程１５４は、本書で前に決定
した散乱カーネル推定値、及びファントム要素構成につ
いての事前情報を用いることを含んでいる。一次事象は
複数の方法で推定することができる。一実施形態では、
散乱推定は必要ではなく、放射線遮蔽板による遮蔽の開
口のコリメーションによって開口内部での散乱の寄与が
大幅に減少するので、Ｘ線開口の底面積内又は検出器内
での平均数データによって一次推定値を近似することが
できる。代替的には、散乱の寄与は既知であるが散乱カ
ーネル推定値Ｐが特に必要とされない場合には、Ｘ線開
口内の平均数データの何らかの部分数を用いて一次放射
線の寄与を推定することもできる。代替的には、散乱カ
ーネル推定における一次線の推定に対するＥＭアプロー
チからのＥ段階の任意の実施形態を用いてもよい。幾つ
かの実施形態では、散乱を無視することができ、散乱を
推定する必要も測定数から減算する必要もない。
【００５５】１以上の散乱補正した画像を用いてＸ線ピ
クセル雑音を推定する工程１５６は、一次放射線の寄与
及び散乱放射線の寄与の推定値が与えられた場合に、一
次放射線の寄与及び散乱放射線の寄与から雑音寄与を推
定して、一次線についての雑音を算出することを含んで
いる。代替的には、画像から直接雑音パラメータを推定
するのではなく、Ｘ線事象のポアソン分布を用いたモデ
ル化によって散乱カーネル領域に予期される雑音を決定
することもできる。雑音推定についてのもう一つの代替
的な方法は、放射線遮蔽板８０を取り外して、別のＸ線
画像を取得し、この画像を用いて雑音を推定するもので
ある。雑音推定についてのもう一つの代替的な方法は、
物質ブロック組成の関数として雑音をモデル化し、これ
らの推定値を用いて組織組成推定値に対するエラー・バ
ー（error bar）を算出するものである。利用時には、
画像自体から雑音を推定する場合又は物質ブロック組成
に基づいて理論値として推定する場合には、フォトン数
の小領域についての標準偏差、分散、ロバスト統計、及
びハウスドルフ尺度を含めた複数の尺度を用いて、ばら
つきを定量化することができる。
クセル雑音を推定する工程１５６は、一次放射線の寄与
及び散乱放射線の寄与の推定値が与えられた場合に、一
次放射線の寄与及び散乱放射線の寄与から雑音寄与を推
定して、一次線についての雑音を算出することを含んで
いる。代替的には、画像から直接雑音パラメータを推定
するのではなく、Ｘ線事象のポアソン分布を用いたモデ
ル化によって散乱カーネル領域に予期される雑音を決定
することもできる。雑音推定についてのもう一つの代替
的な方法は、放射線遮蔽板８０を取り外して、別のＸ線
画像を取得し、この画像を用いて雑音を推定するもので
ある。雑音推定についてのもう一つの代替的な方法は、
物質ブロック組成の関数として雑音をモデル化し、これ
らの推定値を用いて組織組成推定値に対するエラー・バ
ー（error bar）を算出するものである。利用時には、
画像自体から雑音を推定する場合又は物質ブロック組成
に基づいて理論値として推定する場合には、フォトン数
の小領域についての標準偏差、分散、ロバスト統計、及
びハウスドルフ尺度を含めた複数の尺度を用いて、ばら
つきを定量化することができる。
【００５６】一実施形態では、雑音分散を用いる。所定
の画像の小領域を用いると共に、較正ファントムの既知
の幾何学的形状すなわちＸ線開口底面積を用いて、散乱
雑音寄与及び一次雑音寄与の単純なモデルを用いて雑音
を推定することができる。例えば、被覆板８０を用いる
と、フォトン数雑音を下記の式８を用いて推定すること
ができる。
の画像の小領域を用いると共に、較正ファントムの既知
の幾何学的形状すなわちＸ線開口底面積を用いて、散乱
雑音寄与及び一次雑音寄与の単純なモデルを用いて雑音
を推定することができる。例えば、被覆板８０を用いる
と、フォトン数雑音を下記の式８を用いて推定すること
ができる。
【００５７】
【数５】
【００５８】ここでは、変数ｒTを用いて雑音パワー推
定に有用な半径を記述している。
定に有用な半径を記述している。
【００５９】１以上の処理済のファントム画像から複数
の較正値を抽出して較正曲線を作成する工程１３８は、
一次事象及び雑音推定値を用いて較正曲線を作成するこ
とを含んでいる。利用時には、各々のファントム要素に
よる検出器における一次Ｘ線事象（フォトン数）を算出
する。第ｉの物質ブロックについての減弱係数を下記の
関係を用いて推定することができる。
の較正値を抽出して較正曲線を作成する工程１３８は、
一次事象及び雑音推定値を用いて較正曲線を作成するこ
とを含んでいる。利用時には、各々のファントム要素に
よる検出器における一次Ｘ線事象（フォトン数）を算出
する。第ｉの物質ブロックについての減弱係数を下記の
関係を用いて推定することができる。
【００６０】
【数６】
【００６１】ここで、βi（Ｔ）は特定の物質ブロック
組成についての厚みの関数としてのフォトン数データで
ある。例えば、脂肪及び腺の両方についての減弱係数を
式９を用いて推定することができる。利用時には、β
（Ｔ）の連続形態は既知でないか、又は選択された数の
厚みＴにおいてのみ既知である場合があるため、多項
式、スプライン、又は式９において導関数の算出に有用
なその他の曲線に関数をフィッティングさせるとよい。
組成についての厚みの関数としてのフォトン数データで
ある。例えば、脂肪及び腺の両方についての減弱係数を
式９を用いて推定することができる。利用時には、β
（Ｔ）の連続形態は既知でないか、又は選択された数の
厚みＴにおいてのみ既知である場合があるため、多項
式、スプライン、又は式９において導関数の算出に有用
なその他の曲線に関数をフィッティングさせるとよい。
【００６２】様々な特定の実施形態によって本発明を説
明したが、当業者であれば、特許請求の範囲及び要旨の
範囲内の改変を施して本発明を実施し得ることを理解さ
れよう。
明したが、当業者であれば、特許請求の範囲及び要旨の
範囲内の改変を施して本発明を実施し得ることを理解さ
れよう。
【図１】断層写真法イメージング・システムの見取り図
である。
である。
【図２】較正ファントム・システムの実施形態の一例の
遠近図である。
遠近図である。
【図３】図２に示すファントム・システムのファントム
要素の実施形態の一例の遠近図である。
要素の実施形態の一例の遠近図である。
【図４】較正ファントム・システムの実施形態のもう一
つの例の遠近図である。
つの例の遠近図である。
【図５】較正ファントム・システムを撮像することを含
む方法の流れ図である。
む方法の流れ図である。
【図６】ファントム要素を前処理することを含む図５に
示す方法の一部の流れ図である。
示す方法の一部の流れ図である。
【図７】ＥＭ散乱カーネル・パラメータ推定を示すプロ
ット図である。
ット図である。
１０ ディジタル・イメージング・システム
１２ 被撮像物体
１４ 放射線源
１６ 検出器アレイ
１８ 投影角
２０ スライス平面
２８ 制御機構
４４ 表示器
４６、４９ 投影角
４８ 放射線ビームの中心軸
５０ 非一体型較正ファントム・システム
５２ ファントム要素
５４ 第一のファントム要素物質ブロック
５６ 第二のファントム要素物質ブロック
５８ 第一の表面
６０ 第一の高さ
６２ 第一の物質
６４ 第二の表面
６６ 第二の高さ
６８ 第二の物質
７０ ファントム要素の行
７２ ファントム要素の列
８０ 放射線遮蔽板
８２ 要素物質ブロック
８４ 開口
８６ 開口の幅
８６ 遮蔽板の幅
８８ 長さ
９０ 第一の表面
９２ 第二の表面
９４ 厚み
９６ 金属物質
１００ 要素物質ブロックの幅
１０２ 長さ
１０４ 第一の表面
１０６ 第二の表面
１０８ 高さ
１１０ 一体型較正ファントム・システム
１１２ ファントム凸部
１１４ ファントム凸部の第一の表面
１１６ 第一の高さ
１１８ 第二の表面
１２０ 第二の高さ
１２２ 乳房等価物質
１３０ 較正の方法
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ジョン・エリック・トカチク
アメリカ合衆国、ニューヨーク州、デラン
ソン、バートン・ヒル・ロード、154番
(72)発明者 ディンコ・イー・ゴンザレス・トロッター
アメリカ合衆国、ニューヨーク州、クリフ
トン・パーク、パトナム・レーン、７番
(72)発明者 ジェフリー・ウェイン・エーベルハルト
アメリカ合衆国、ニューヨーク州、オール
バニ、バルサム・ウェイ、７番
(72)発明者 ジェフリー・エー・トマス
アメリカ合衆国、メリーランド州、ベテス
ダ、ジョーンズ・ブリッジ・ロード、4301
番
Ｆターム(参考） 4C093 AA16 CA09 CA13 CA36 DA06
GA01
Claims (25)
- 【請求項１】 イメージング・システム（１０）と共に
用いられる較正ファントム・システムであって、 第一の高さ（６０）に第一の表面（５８）を有する第一
のファントム要素物質ブロック（５４）であって、第一
の減弱係数を有する第一の物質（６２）を少なくとも部
分的に含んでいる第一のファントム要素物質ブロック
（５４）と、 前記第一の高さと異なる第二の高さ（６６）に第二の表
面（６４）を有する第二のファントム要素物質ブロック
（５６）であって、前記第一の減弱係数と異なる第二の
減弱係数を有する第二の物質（６８）を少なくとも部分
的に含んでいる第二のファントム要素物質ブロック（５
６）とを備えており、 前記第一のファントム要素物質ブロック及び前記第二の
ファントム要素物質ブロックは検出器（１６）上に共存
配置されている、較正ファントム・システム。 - 【請求項２】 前記第一のファントム要素物質ブロック
（５４）の頂部に配置されている第一の放射線遮蔽板
（８０）と、前記第二のファントム要素物質ブロック
（５６）の頂部に配置されている第二の放射線遮蔽板と
をさらに含んでいる請求項１に記載の較正ファントム・
システム。 - 【請求項３】 前記第一のファントム要素物質ブロック
（５４）は実質的に矩形である請求項１に記載の較正フ
ァントム要素物質ブロック。 - 【請求項４】 前記第一の放射線遮蔽板（８０）は実質
的に矩形である請求項２に記載の較正ファントム・シス
テム。 - 【請求項５】 前記要素物質ブロック（８２）は乳房等
価物質（１２２）を含んでいる請求項１に記載の較正フ
ァントム・システム。 - 【請求項６】 前記第一のファントム要素及び前記第二
のファントム要素は、減弱係数が小さくなる順序で共存
配置されている請求項１に記載の較正ファントム・シス
テム。 - 【請求項７】 前記放射線遮蔽板（８０）は前記要素物
質ブロック（８２）の表面（１０６）を覆って延在して
いる請求項２に記載の較正ファントム・システム。 - 【請求項８】 前記放射線遮蔽板（８０）は開口（８
４）を含んでいる請求項２に記載の較正ファントム・シ
ステム。 - 【請求項９】 前記放射線遮蔽板（８０）は金属物質
（９６）を含んでいる請求項２に記載の較正ファントム
・システム。 - 【請求項１０】 前記放射線遮蔽板（８０）は、鉛、タ
ングステン、及びアルミニウムの１以上を少なくとも部
分的に含んでいる請求項９に記載の較正ファントム・シ
ステム。 - 【請求項１１】 イメージング・システム（１０）と共
に用いられる較正ファントム・システムであって、 第一の高さ（６０）に第一の表面（５８）を有する第一
のファントム要素物質ブロック（５４）であって、第一
の減弱係数を有する第一の物質（６２）を少なくとも部
分的に含んでいる第一のファントム要素物質ブロック
（５４）と、 該第一のファントム要素物質ブロックの頂部に配置され
ている放射線遮蔽板（８０）と、 前記第一の高さと異なる第二の高さ（６６）に第二の表
面（６４）を有する第二のファントム要素物質ブロック
（５６）であって、前記第一の減弱係数と異なる第二の
減弱係数を有する第二の物質（６８）を少なくとも部分
的に含んでいる第二のファントム要素物質ブロック（５
６）とを備えており、 前記第一のファントム要素物質ブロック及び前記第二の
ファントム要素物質ブロックは検出器（１６）上に共存
配置されている、較正ファントム・システム。 - 【請求項１２】 放射線源（１４）とディジタル検出器
（１６）とを含んでいるイメージング・システム（１
０）の較正の方法（１３０）であって、 第一の高さ（６０）に第一の表面（５８）を有する第一
のファントム要素物質ブロック（５４）であって、第一
の減弱係数を有する第一の物質（６２）を少なくとも部
分的に含んでいる第一のファントム要素物質ブロック
（５４）と、前記第一の高さと異なる第二の高さ（６
６）に第二の表面（６４）を有する第二のファントム要
素物質ブロック（５６）であって、前記第一の減弱係数
と異なる第二の減弱係数を有する第二の物質（６８）を
少なくとも部分的に含んでいる第二のファントム要素物
質ブロック（５６）とを含む較正ファントム・システム
を設ける工程（１３２）であって、前記第一のファント
ム要素物質ブロック及び前記第二のファントム要素物質
ブロックは検出器上に共存配置される、設ける工程（１
３２）と、 ファントム画像を得るために前記較正ファントム・シス
テムを撮像する工程（１３４）と、 前記ファントム画像を処理する工程（１３６）と、 前記処理済のファントム画像から複数の較正値を抽出す
る工程と（１３８）を備えた方法（１３０）。 - 【請求項１３】 前記較正ファントム・システムを撮像
する工程（１３４）は、 前記ディジタル検出器（１６）上に前記較正ファントム
・システムを配置する工程（１４０）と、 １以上の画像について画像取得パラメータを設定する工
程（１４２）と、 １以上のディジタル画像及び１以上のフィルム・スクリ
ーン画像を取得する工程と（１４４）を含んでいる請求
項１２に記載の方法（１３０）。 - 【請求項１４】 前記ファントム画像を処理する工程
（１３６）は、 １以上のファントム画像を前処理する工程（１５０）
と、 １以上の前処理済の画像の散乱カーネルを推定する工程
（１５２）と、 該散乱カーネル推定値を用いて前記検出器での一次Ｘ線
事象を推定する工程（１５４）と、 該一次Ｘ線事象を用いて放射線ピクセル雑音を推定する
工程（１５６）とを含んでいる請求項１２に記載の方法
（１３０）。 - 【請求項１５】 前記処理済のファントム画像から複数
の較正値を抽出する工程（１３８）は、前記処理済の画
像から較正値を抽出して較正曲線を算出する工程を含ん
でいる請求項１２に記載の方法（１３０）。 - 【請求項１６】 前記散乱カーネルを推定する工程（１
５２）は、放射線遮蔽板（８０）を用いて散乱カーネル
を推定する工程を含んでいる請求項１４に記載の方法
（１３０）。 - 【請求項１７】 前記放射線遮蔽板（８０）を用いる工
程は、要素物質ブロック（８２）の表面（１０６）を覆
って延在する放射線遮蔽板を用いる工程を含んでいる請
求項１６に記載の方法（１３０）。 - 【請求項１８】 放射線源（１４）とディジタル検出器
（１６）とを含んでいるイメージング・システム（１
０）の較正の方法（１３０）であって、 第一の高さ（６０）に第一の表面（５８）を有する第一
のファントム要素物質ブロック（５４）であって、第一
の減弱係数を有する第一の物質（６２）を少なくとも部
分的に含んでいる第一のファントム要素物質ブロック
（５４）と、前記第一の高さと異なる第二の高さ（６
６）に第二の表面（６４）を有する第二のファントム要
素物質ブロック（５６）であって、前記第一の減弱係数
と異なる第二の減弱係数を有する第二の物質（６８）を
少なくとも部分的に含んでいる第二のファントム要素物
質ブロック（５６）とを含む較正ファントム・システム
を設ける工程（１３２）であって、前記第一のファント
ム要素物質ブロック及び前記第二のファントム要素物質
ブロックは検出器上に共存配置される、設ける工程（１
３２）と、 ファントム画像を得るために前記較正ファントム・シス
テムを撮像する工程（１３４）であって、 ・前記ディジタル検出器（１６）上に前記較正ファント
ム・システムを配置する工程（１４０）と、 ・１以上の画像について画像取得パラメータを設定する
工程（１４２）と、 ・１以上のディジタル画像及び１以上のフィルム・スク
リーン画像を取得する工程と（１４４）を含んでいる撮
像する工程（１３４）と、 前記ファントム画像を処理する工程（１３６）であっ
て、 ・１以上のファントム画像を前処理する工程（１５０）
と、 ・１以上の前処理済の画像の散乱カーネルを推定する工
程（１５２）と、 ・該散乱カーネル推定値を用いて前記検出器での一次Ｘ
線事象を推定する工程（１５４）と、 ・該一次Ｘ線事象を用いて放射線ピクセル雑音を推定す
る工程（１５６）とを含んでいる処理する工程（１３
６）と、 前記処理済のファントム画像から複数の較正値を抽出す
る工程と（１３８）を備えた方法（１３０）。 - 【請求項１９】 放射線源（１４）とディジタル検出器
（１６）とを含んでいるイメージング・システム（１
０）の較正のためにコンピュータ（３８）により実行可
能なプログラムで符号化されているコンピュータ読み取
り可能な媒体であって、前記プログラムは、 ファントム画像を得るために較正ファントム・システム
を撮像し（１３４）、ここで該較正ファントム・システ
ムは、第一の高さ（６０）に第一の表面（５８）を有す
る第一のファントム要素物質ブロック（５４）であっ
て、第一の減弱係数を有する第一の物質（６２）を少な
くとも部分的に含んでいる第一のファントム要素物質ブ
ロック（５４）と、前記第一の高さと異なる第二の高さ
（６６）に第二の表面（６４）を有する第二のファント
ム要素物質ブロック（５６）であって、前記第一の減弱
係数と異なる第二の減弱係数を有する第二の物質（６
８）を少なくとも部分的に含んでいる第二のファントム
要素物質ブロック（５６）とを含んでおり、前記第一の
ファントム要素物質ブロック及び前記第二のファントム
要素物質ブロックは検出器上に共存配置されており、 前記ファントム画像を処理し（１３６）、 該処理済のファントム画像から複数の較正値を抽出す
（１３８）べく前記コンピュータに指示するように構成
されている、コンピュータ読み取り可能な媒体。 - 【請求項２０】 前記較正ファントム・システムを撮像
するために、前記プログラムは、 前記ディジタル検出器（１６）上に前記較正ファントム
・システムを配置し（１４０）、 １以上の画像について画像取得パラメータを設定して
（１４２）、 １以上のディジタル画像及び１以上のフィルム・スクリ
ーン画像を取得する（１４４）ようにさらに構成されて
いる請求項１９に記載のコンピュータ読み取り可能な媒
体。 - 【請求項２１】 前記ファントム画像を処理する（１３
６）ために、前記プログラムは、 １以上のファントム画像を前処理し（１５０）、 １以上の前処理済の画像の散乱カーネルを推定し（１５
２）、 該散乱カーネル推定値を用いて前記検出器での一次Ｘ線
事象を推定して、 該一次Ｘ線事象を用いて放射線ピクセル雑音を推定する
（１５６）ようにさらに構成されている請求項１９に記
載のコンピュータ読み取り可能な媒体。 - 【請求項２２】 前記処理（１３６）済のファントム画
像から複数の較正値を抽出する（１３８）ために、前記
プログラムは、前記処理済の画像から較正値を抽出して
較正曲線を算出するようにさらに構成されている請求項
１９に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。 - 【請求項２３】 散乱カーネルを推定する（１５２）た
めに、前記プログラムは、放射線遮蔽板（８０）を用い
て散乱カーネルを推定するようにさらに構成されている
請求項２１に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。 - 【請求項２４】 散乱カーネルを推定する（１５２）た
めに、前記プログラムは、要素物質ブロック（８２）の
表面を覆って延在する放射線遮蔽板（８０）を用いて散
乱カーネルを推定するようにさらに構成されている請求
項２１に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。 - 【請求項２５】 放射線源（１４）とディジタル検出器
（１６）とを含んでいるイメージング・システム（１
０）の較正のためにコンピュータ（３８）により実行可
能なプログラムで符号化されているコンピュータ読み取
り可能な媒体であって、前記プログラムは、 第一の高さ（６０）に第一の表面（５８）を有する第一
のファントム要素物質ブロック（５４）であって、第一
の減弱係数を有する第一の物質（６２）を少なくとも部
分的に含んでいる第一のファントム要素物質ブロック
（５４）と、前記第一の高さと異なる第二の高さ（６
６）に第二の表面（６４）を有する第二のファントム要
素物質ブロック（５６）であって、前記第一の減弱係数
と異なる第二の減弱係数を有する第二の物質（６８）を
少なくとも部分的に含んでいる第二のファントム要素物
質ブロック（５６）とを含む較正ファントム・システム
を設け（１３２）、ここで前記第一のファントム要素物
質ブロック及び前記第二のファントム要素物質ブロック
は検出器上に共存配置されており、 ファントム画像を得るために前記較正ファントム・シス
テムを撮像し（１３４）、ここで該撮像は、 ・前記ディジタル検出器（１６）上に前記較正ファント
ム・システムを配置し（１４０）、 ・１以上の画像について画像取得パラメータを設定して
（１４２）、 ・１以上のディジタル画像及び１以上のフィルム・スク
リーン画像を取得する（１４４）ことを含んでおり、 前記ファントム画像を処理し（１３６）、ここで該処理
は、 ・１以上のファントム画像を前処理し（１５０）、 ・１以上の前処理済の画像の散乱カーネルを推定し（１
５２）、 ・該散乱カーネル推定値を用いて前記検出器での一次Ｘ
線事象を推定して（１５４）、 ・該一次Ｘ線事象を用いて放射線ピクセル雑音を推定す
る（１５６）ことを含んでおり、 前記処理済のファントム画像から複数の較正値を抽出す
（１３８）べく前記コンピュータに指示するように構成
されている、コンピュータ読み取り可能な媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/975,892 US6632020B2 (en) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | Method and apparatus for calibrating an imaging system |
| US09/975892 | 2001-10-12 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003175026A true JP2003175026A (ja) | 2003-06-24 |
| JP2003175026A5 JP2003175026A5 (ja) | 2005-11-10 |
| JP4293303B2 JP4293303B2 (ja) | 2009-07-08 |
Family
ID=25523539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002289353A Expired - Fee Related JP4293303B2 (ja) | 2001-10-12 | 2002-10-02 | イメージング・システムを較正する方法及び装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6632020B2 (ja) |
| JP (1) | JP4293303B2 (ja) |
| DE (1) | DE10247535A1 (ja) |
| FR (1) | FR2830741A1 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006141905A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-08 | Hitachi Medical Corp | Ｘ線撮影装置 |
| JP2008173311A (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Konica Minolta Holdings Inc | 断層面画像撮影のための装置及び方法、並びにそれらのための合成装置及び指標部材 |
| JP2010104517A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Canon Inc | 放射線画像処理装置、画像処理方法、ｘ線透視装置及びその制御方法 |
| KR101038741B1 (ko) | 2010-04-07 | 2011-06-03 | 한국전기연구원 | 팬텀을 이용하여 구조좌표를 측정하기 위한 ｘ―선 유방암진단 시스템 및 그 방법 |
| JP2015204985A (ja) * | 2014-04-18 | 2015-11-19 | 株式会社日立製作所 | Ｘ線エネルギースペクトル測定方法およびｘ線エネルギースペクトル測定装置およびｘ線ｃｔ装置 |
| KR20190043046A (ko) * | 2017-10-17 | 2019-04-25 | 연세대학교 원주산학협력단 | 단일 방사선 영상의 산란선 교정 시스템 및 방법 |
| JP2021534950A (ja) * | 2018-08-31 | 2021-12-16 | イベックス イノベーションズ エルティーディー | Ｘ線撮像システム |
Families Citing this family (53)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003098265A1 (en) * | 2002-05-17 | 2003-11-27 | Niton Corporation | A calibration source for x-ray detectors |
| US7963695B2 (en) | 2002-07-23 | 2011-06-21 | Rapiscan Systems, Inc. | Rotatable boom cargo scanning system |
| WO2006058160A2 (en) | 2004-11-26 | 2006-06-01 | Hologic, Inc. | Integrated multi-mode mammography/tomosynthesis x-ray system and method |
| US7577282B2 (en) | 2002-11-27 | 2009-08-18 | Hologic, Inc. | Image handling and display in X-ray mammography and tomosynthesis |
| US7616801B2 (en) | 2002-11-27 | 2009-11-10 | Hologic, Inc. | Image handling and display in x-ray mammography and tomosynthesis |
| US7123684B2 (en) | 2002-11-27 | 2006-10-17 | Hologic, Inc. | Full field mammography with tissue exposure control, tomosynthesis, and dynamic field of view processing |
| US10638994B2 (en) | 2002-11-27 | 2020-05-05 | Hologic, Inc. | X-ray mammography with tomosynthesis |
| US8565372B2 (en) | 2003-11-26 | 2013-10-22 | Hologic, Inc | System and method for low dose tomosynthesis |
| JP4468083B2 (ja) * | 2003-08-26 | 2010-05-26 | キヤノン株式会社 | 放射線撮影装置、放射線撮影方法 |
| US7016456B2 (en) * | 2003-10-31 | 2006-03-21 | General Electric Company | Method and apparatus for calibrating volumetric computed tomography systems |
| JP4533010B2 (ja) * | 2003-11-20 | 2010-08-25 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像方法及び放射線撮像システム |
| US8340373B2 (en) * | 2003-12-23 | 2012-12-25 | General Electric Company | Quantitative image reconstruction method and system |
| US7653229B2 (en) * | 2003-12-23 | 2010-01-26 | General Electric Company | Methods and apparatus for reconstruction of volume data from projection data |
| US7286631B2 (en) * | 2004-01-09 | 2007-10-23 | General Electric Co. | Method and apparatus for tomosynthesis image quality control |
| US7056020B2 (en) * | 2004-01-09 | 2006-06-06 | Ge Medical Systemes Global Technology Company, Llc | Alignment systems and methods for radiographic imaging systems |
| US7668361B2 (en) * | 2004-07-07 | 2010-02-23 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | System and method for the correction of temporal artifacts in tomographic images |
| US7480363B2 (en) * | 2004-09-15 | 2009-01-20 | Ge Betz, Inc. | Converting a digital radiograph to an absolute thickness map |
| DE102005017491B4 (de) * | 2005-04-15 | 2007-03-15 | Siemens Ag | Verfahren zum Erzeugen eines gainkorrigierten Röntgenbildes |
| EP1946622A2 (en) * | 2005-10-06 | 2008-07-23 | Imaging Sciences International, Inc. | Scatter correction |
| US7746976B2 (en) * | 2005-12-30 | 2010-06-29 | Carestream Health, Inc. | Bone mineral density assessment using mammography system |
| EP1971264A2 (en) * | 2006-01-05 | 2008-09-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Adjustable phantom |
| US7526066B2 (en) * | 2006-03-07 | 2009-04-28 | Orbital Therapy, Llc | Radiation therapy system for treating breasts and extremities |
| JP4694431B2 (ja) * | 2006-07-20 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 胸壁欠損量計測方法およびファントム |
| DE102006051778A1 (de) * | 2006-11-02 | 2008-05-15 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zur Anzeige eines im Rahmen einer Mammographie aufgenommenen Röntgenbildes |
| US8000522B2 (en) * | 2007-02-02 | 2011-08-16 | General Electric Company | Method and system for three-dimensional imaging in a non-calibrated geometry |
| US7991106B2 (en) * | 2008-08-29 | 2011-08-02 | Hologic, Inc. | Multi-mode tomosynthesis/mammography gain calibration and image correction using gain map information from selected projection angles |
| US8942342B2 (en) * | 2008-12-29 | 2015-01-27 | Analogic Corporation | Multi-modality image acquisition |
| US8724774B2 (en) * | 2009-08-04 | 2014-05-13 | Rapiscan Systems, Inc. | Method and system for extracting spectroscopic information from images and waveforms |
| US20120032946A1 (en) * | 2010-08-04 | 2012-02-09 | Wei-Chung Wang | New calibration procedures for three-dimensional digital image correlation |
| JP2013545545A (ja) | 2010-11-16 | 2013-12-26 | アナロジック コーポレーション | マルチ−モダリティ画像取得方法および装置 |
| US9218933B2 (en) | 2011-06-09 | 2015-12-22 | Rapidscan Systems, Inc. | Low-dose radiographic imaging system |
| CA2863382C (en) | 2011-06-09 | 2017-06-27 | Rapiscan Systems, Inc. | System and method for x-ray source weight reduction |
| US8483471B2 (en) * | 2011-06-30 | 2013-07-09 | General Electric Company | Method and system for scatter correction in X-ray imaging |
| EP2664280A3 (en) * | 2012-05-14 | 2013-12-04 | Samsung Electronics Co., Ltd | X-ray imaging apparatus and control method therefor |
| US8708562B1 (en) | 2013-03-05 | 2014-04-29 | Nosil DSC Innovations, Inc. | Phantom systems and methods for diagnostic x-ray equipment |
| US9936935B1 (en) | 2014-02-14 | 2018-04-10 | Nosil DSC Innovations, Inc. | Phantom systems and methods for diagnostic radiographic and fluoroscopic X-ray equipment |
| JP6156847B2 (ja) * | 2014-03-05 | 2017-07-05 | 富士フイルム株式会社 | 放射線画像処理装置および方法並びにプログラム |
| KR20150145633A (ko) * | 2014-06-20 | 2015-12-30 | 삼성전자주식회사 | 엑스선 영상 장치 및 그 제어 방법 |
| KR102393294B1 (ko) * | 2014-09-26 | 2022-05-03 | 삼성전자주식회사 | 의료 영상 장치 및 의료 영상 장치의 제어 방법 |
| JP6126058B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2017-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示装置、画像処理装置、放射線画像撮影システム、断層画像表示方法、及び断層画像表示プログラム。 |
| JP6525772B2 (ja) * | 2015-06-30 | 2019-06-05 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置、画像処理方法、放射線撮影システムおよび画像処理プログラム |
| CN106353828B (zh) * | 2015-07-22 | 2018-09-21 | 清华大学 | 在安检系统中估算被检查物体重量的方法和装置 |
| JP7085492B2 (ja) | 2016-04-22 | 2022-06-16 | ホロジック，インコーポレイテッド | アドレス指定可能なアレイを使用する偏移焦点ｘ線システムを用いるトモシンセシス |
| EP3468471B1 (en) | 2016-06-08 | 2021-12-22 | Koninklijke Philips N.V. | Test object for calibration of an x-ray imaging device |
| EP3668404B1 (en) | 2017-08-16 | 2022-07-06 | Hologic, Inc. | Techniques for breast imaging patient motion artifact compensation |
| EP3449835B1 (en) | 2017-08-22 | 2023-01-11 | Hologic, Inc. | Computed tomography system and method for imaging multiple anatomical targets |
| US10856835B2 (en) * | 2018-07-13 | 2020-12-08 | Loyola University Chicago | Phantoms and methods of calibrating dual energy imaging systems therewith |
| US11090017B2 (en) | 2018-09-13 | 2021-08-17 | Hologic, Inc. | Generating synthesized projection images for 3D breast tomosynthesis or multi-mode x-ray breast imaging |
| CN109646026B (zh) * | 2018-12-19 | 2022-07-22 | 上海联影医疗科技股份有限公司 | 一种乳腺图像去散射处理方法和系统 |
| DE102019204765B3 (de) * | 2019-04-03 | 2020-06-18 | Siemens Healthcare Gmbh | Verfahren zur Ermittlung eines dreidimensionalen Tomosynthesedatensatzes, Röntgeneinrichtung, Computerprogramm und elektronisch lesbarer Datenträger |
| EP3832689A3 (en) | 2019-12-05 | 2021-08-11 | Hologic, Inc. | Systems and methods for improved x-ray tube life |
| US11471118B2 (en) | 2020-03-27 | 2022-10-18 | Hologic, Inc. | System and method for tracking x-ray tube focal spot position |
| US11786191B2 (en) | 2021-05-17 | 2023-10-17 | Hologic, Inc. | Contrast-enhanced tomosynthesis with a copper filter |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5844965A (en) | 1989-11-24 | 1998-12-01 | Thomas Jefferson University | Method and apparatus for using film density measurements of a radiograph to monitor the reproducibility of X-ray exposure parameters of a mammography unit |
| US5805665A (en) | 1995-06-05 | 1998-09-08 | Nelson; Robert S. | Anthropomorphic mammography phantoms |
| US5719916A (en) | 1995-06-05 | 1998-02-17 | Nelson; Robert S. | Anthropomorphic mammography and lung phantoms |
| US5565678A (en) | 1995-06-06 | 1996-10-15 | Lumisys, Inc. | Radiographic image quality assessment utilizing a stepped calibration target |
| US6059727A (en) | 1995-06-15 | 2000-05-09 | The Regents Of The University Of Michigan | Method and apparatus for composition and display of three-dimensional image from two-dimensional ultrasound scan data |
| US5881127A (en) | 1996-01-19 | 1999-03-09 | The Regents Of The University Of California | Automatic x-ray beam equalizer |
| US5821541A (en) | 1996-02-02 | 1998-10-13 | Tuemer; Tuemay O. | Method and apparatus for radiation detection |
| FR2759800B1 (fr) | 1997-02-17 | 1999-03-26 | Commissariat Energie Atomique | Procede de correction du flux diffuse dans des images de radiographie numerique |
| US5917877A (en) * | 1997-09-05 | 1999-06-29 | Cyberlogic, Inc. | Plain x-ray bone densitometry apparatus and method |
| DE19802414A1 (de) * | 1998-01-23 | 1999-07-29 | Merck Patent Gmbh | Formkörper und Verfahren zur semiquantitativen Dichtebestimmung von Knochen, Knochenersatzmaterial und Knochenimplantaten |
| US6315447B1 (en) * | 1998-12-22 | 2001-11-13 | Bio-Imaging Technologies, Inc. | Variable composition phantom simulating varying degrees of body fat for dual energy x-ray machine calibration |
| US6302582B1 (en) * | 1998-12-22 | 2001-10-16 | Bio-Imaging Technologies, Inc. | Spine phantom simulating cortical and trabecular bone for calibration of dual energy x-ray bone densitometers |
| US6173038B1 (en) * | 1999-12-01 | 2001-01-09 | Cyberlogic, Inc. | Plain x-ray bone densitometry apparatus and method |
-
2001
- 2001-10-12 US US09/975,892 patent/US6632020B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-10-02 JP JP2002289353A patent/JP4293303B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-11 FR FR0212640A patent/FR2830741A1/fr active Pending
- 2002-10-11 DE DE10247535A patent/DE10247535A1/de not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006141905A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-08 | Hitachi Medical Corp | Ｘ線撮影装置 |
| JP2008173311A (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Konica Minolta Holdings Inc | 断層面画像撮影のための装置及び方法、並びにそれらのための合成装置及び指標部材 |
| JP2010104517A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Canon Inc | 放射線画像処理装置、画像処理方法、ｘ線透視装置及びその制御方法 |
| KR101038741B1 (ko) | 2010-04-07 | 2011-06-03 | 한국전기연구원 | 팬텀을 이용하여 구조좌표를 측정하기 위한 ｘ―선 유방암진단 시스템 및 그 방법 |
| JP2015204985A (ja) * | 2014-04-18 | 2015-11-19 | 株式会社日立製作所 | Ｘ線エネルギースペクトル測定方法およびｘ線エネルギースペクトル測定装置およびｘ線ｃｔ装置 |
| KR20190043046A (ko) * | 2017-10-17 | 2019-04-25 | 연세대학교 원주산학협력단 | 단일 방사선 영상의 산란선 교정 시스템 및 방법 |
| KR102003197B1 (ko) | 2017-10-17 | 2019-07-24 | 연세대학교 원주산학협력단 | 단일 방사선 영상의 산란선 교정 시스템 및 방법 |
| JP2021534950A (ja) * | 2018-08-31 | 2021-12-16 | イベックス イノベーションズ エルティーディー | Ｘ線撮像システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6632020B2 (en) | 2003-10-14 |
| DE10247535A1 (de) | 2003-06-05 |
| US20030072417A1 (en) | 2003-04-17 |
| FR2830741A1 (fr) | 2003-04-18 |
| JP4293303B2 (ja) | 2009-07-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4293303B2 (ja) | イメージング・システムを較正する方法及び装置 | |
| US6751285B2 (en) | Dose management system for mammographic tomosynthesis | |
| US6674835B2 (en) | Methods and apparatus for estimating a material composition of an imaged object | |
| JP6999576B2 (ja) | 空間とスペクトル情報に基づく複数エネルギーのｃｔ画像におけるノイズ制御のためのシステムと方法 | |
| US7444010B2 (en) | Method and apparatus for the reduction of artifacts in computed tomography images | |
| JP4152649B2 (ja) | Ｃｔスカウト画像処理のための方法及び装置 | |
| US8611626B2 (en) | System and methods for fast implementation of equally-sloped tomography | |
| US6633626B2 (en) | Methods and apparatus for correcting scatter | |
| EP1306807A2 (en) | A tomographic image reconstruction method for tomosynthesis | |
| US7920672B2 (en) | X-ray detector gain calibration depending on the fraction of scattered radiation | |
| JP4344191B2 (ja) | 画像形成システムの低線量画像シミュレーションのための方法及びシステム | |
| CN107004283A (zh) | 用于根据断层合成数据生成合成乳房摄影图的方法 | |
| US20060029285A1 (en) | Method for helical windmill artifact reduction with noise restoration for helical multislice CT | |
| EP1151322B1 (en) | X-ray imaging apparatus and method with scatter correction | |
| US10388000B2 (en) | Noise reduction in radiation image | |
| JP2017189618A (ja) | 放射線画像診断装置及び医用画像処理装置 | |
| JPH0661328B2 (ja) | 再生像の視野外の物体に対するｃｔデータの補償方式 | |
| JP4585158B2 (ja) | Ｘ線ｃｔスキャナ | |
| CN101721222B (zh) | 一种修正床板和摆位辅助装置对图像质量影响的方法 | |
| US7209580B2 (en) | Fast computed tomography method | |
| EP3773214B1 (en) | Cross directional bilateral filter for ct radiation dose reduction | |
| JPH0921876A (ja) | 改良型ガンマ・カメラ撮像システム | |
| EP3992912A1 (en) | Methods and systems for generating a spectral computed tomography image | |
| US11158095B2 (en) | System and method for reducing artifact bloom in a reconstructed object | |
| Klaften et al. | A new design for a micro-CT scanner |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050928 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050928 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080916 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081110 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090303 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090402 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090402 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090331 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120417 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120417 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130417 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |