JP2003173863A - 加熱装置 - Google Patents

加熱装置

Info

Publication number
JP2003173863A
JP2003173863A JP2001371126A JP2001371126A JP2003173863A JP 2003173863 A JP2003173863 A JP 2003173863A JP 2001371126 A JP2001371126 A JP 2001371126A JP 2001371126 A JP2001371126 A JP 2001371126A JP 2003173863 A JP2003173863 A JP 2003173863A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating element
substrate
resin
heating device
resin sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001371126A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinji Yamaguchi
慎治 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP2001371126A priority Critical patent/JP2003173863A/ja
Publication of JP2003173863A publication Critical patent/JP2003173863A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Resistance Heating (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Surface Heating Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】腐食性環境下において発熱体の腐食や、発熱体
の腐食に伴うメタルコンタミネーションを抑制でき、製
造コストを低くすることが可能であり、かつ温度上昇
時、温度下降時の応答性の良い加熱装置を提供する。 【解決手段】本加熱装置3は、樹脂シート1A、1B、
樹脂シートと積層されている加熱素子2、樹脂シート1
Aと積層されているセラミックス製の一方の基板5A、
樹脂シート1Bと積層されているセラミックスまたはプ
ラスチック製の他方の基板5B、樹脂シート1Aと一方
の基板5Aとを接着する一方の樹脂接着剤層3A、およ
び樹脂シート1Bと他方の基板5Bとを接着する他方の
樹脂接着剤層3Bを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、腐食環境下で使用
できる加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】コーティングプロセスにおいては、レジ
ストなどのコーティング物質をウエハーに滴下した状態
でスピンコートし、200℃以下の比較的に低温領域で
ウエハーを熱処理することが行われている。この熱処理
の際に、腐食性ガスが発生する。このためのアニール用
ヒーターとしては、基板の背面に抵抗発熱体を印刷した
ヒーターや、金属製ヒーターが知られている。
【0003】また、セラミック基体の内部に加熱素子を
埋設したセラミックヒーターが知られている。例えば、
特開2001−102157号公報においては、セラミ
ック基体内に、2層の加熱素子を埋設する。そして、各
層の加熱素子の内周側の発熱量と外周側の発熱量とを制
御することによって、内周ゾーンと外周ゾーンとの2ゾ
ーン制御を行っている。
【0004】また、特開2001−52843号公報に
おいては、円盤状のセラミック基体の表面に、複数の略
リング状の加熱素子を形成し、各加熱素子を同心円状に
配置する。各加熱素子は、金属粉末の焼結体によって成
形する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】基板の背面に抵抗発熱
体を印刷したヒーターの場合には、腐食性環境下では抵
抗発熱体が腐食を受ける。また、腐食性の液体が抵抗発
熱体にかかると短絡する可能性がある。
【0006】特開2001−102157号公報記載の
技術においては、加熱素子をセラミック基体の内部に埋
設することから、成形工程数が増加し、生産性が劣る傾
向がある。また、基体が必然的に肉厚になるので、熱容
量が増大し、温度上昇時、温度下降時の応答性が低下す
る。
【0007】特開2001−52843号公報記載の技
術においては、加熱素子の端子取り出し部分が、ヒータ
ーの周囲の雰囲気に対して曝露され、腐食を受け、メタ
ルコンタミネーションを引き起こす可能性がある。
【0008】本発明の課題は、腐食性環境下において発
熱体の腐食や、発熱体の腐食に伴うメタルコンタミネー
ションを抑制でき、製造コストを低くすることが可能で
あり、かつ温度上昇時、温度下降時の応答性の良い加熱
装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、樹脂シート、
この樹脂シートに設けられた加熱素子、前記樹脂シート
と積層されているセラミックス製の一方の基板、前記樹
脂シートと積層されているセラミックスまたはプラスチ
ック製の他方の基板、樹脂シートと一方の基板とを接着
する一方の樹脂接着剤層、および樹脂シートと他方の基
板とを接着する他方の樹脂接着剤層を備えていることを
特徴とする、加熱装置に係るものである。
【0010】本発明の加熱装置は、樹脂シート上あるい
は樹脂シート内に加熱素子を形成した後、樹脂シートを
一対の基板の間に接着することによって製造できる。従
って、製造が容易であり、低コストである。しかも、セ
ラミックヒーターの場合と異なり、加熱装置全体の肉厚
を小さく押さえることが容易であり、従って温度上昇
時、温度下降時の応答性が良い。その上、樹脂シートと
一方のセラミック基板との間には接着剤層が介在してい
る。そして、腐食性物質は、樹脂シートと接着剤層との
界面に侵入するよりも、接着剤層と基板との界面に侵入
する傾向がある。この結果、樹脂シート側に設けられた
加熱素子は腐食性物質と接触しにくく、従って加熱素子
の腐食やメタルコンタミネーションが生じにくい。
【0011】また、本発明は、加熱面と裏面とが設けら
れているセラミックス製の一方の基板、セラミックスま
たはプラスチック製の他方の基板、一方の基板と前記他
方の基板との間に設けられている加熱素子、加熱素子と
一方の基板の裏面との間に設けられている接着剤層、お
よび一方の基板の周縁部と他方の基板の周縁部とを封止
し、加熱素子を包囲する封止部を備えていることを特徴
とする、加熱装置に係るものである。
【0012】本発明の加熱装置は、セラミックス製の一
方の基板の裏面側に加熱素子を接着した後、一方の基板
の周縁部と他方の基板の周縁部とを封止し、一体化する
ことによって製造できる。従って、製造が容易であり、
低コストであり、かつ腐食性物質の加熱素子への接触を
防止できる。しかも、セラミックヒーターの場合と異な
り、加熱装置全体の肉厚を小さく押さえることが容易で
あり、従って温度上昇時、温度下降時の応答性が良い。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、適宜図面を参照しつつ、本
発明を更に詳細に説明する。図1(b)は、本発明の一
実施形態に係る加熱装置30を示し、図1(a)は、加
熱装置30用の樹脂シートと加熱素子との積層体28を
示す。
【0014】図1(a)に示すように、一対の樹脂シー
ト1A、1Bの間に平板状の加熱素子2を挟んで固定
し、積層体28を作製する。加熱素子2は、樹脂シート
1Aの内壁面1bと、樹脂シート1Bの内壁面1bとの
間に挟まれている。次いで、図1(b)に示すように、
積層体28を、一対の基板5Aと5Bとの間に挟み、接
着する。ここで、樹脂シート1Aの外壁面1aと一方の
基板5Aの内壁面5bとの間には接着剤層3Aを生成さ
せ、樹脂シート1Bの外壁面1aと他方の基板5Bの内
壁面5bとの間に接着剤層3Bを生成させる。また、積
層体28の端面を被覆するように、樹脂接着剤からなる
封止部4を、基板5Aの内壁面5bと基板5Bの内壁面
5bとの間に生成させる。これによって加熱装置3を作
製する。なお、5aは、加熱装置3の加熱面であり、5
cは背面である。
【0015】このような加熱装置30は、樹脂シート1
A、1Bを一対の基板5A、5Bの間に接着することに
よって製造できる。従って、製造が容易であり、低コス
トである。しかも、セラミックヒーターの場合と異な
り、加熱装置全体の肉厚を小さく押さえることが容易で
ある。また、樹脂シート1A、1Bと基板5A、5Bと
の間には接着剤層3A、3Bが介在している。腐食性物
質は、例えば樹脂シート1Aと接着剤層3Aとの界面に
侵入するよりも、接着剤層3Aと基板との界面に侵入し
やすい。これは、接着剤層3Aと樹脂シート1Aとは類
似の材質であって、なじみが良い一方、接着剤層3Aと
基板5Aとは異種材質であるからである。こうした理由
により、長期間使用時に加熱装置30が腐食を受けると
しても、その腐食は基板と接着剤層との界面において優
先的に生じ、発熱体2の腐食までは至りにくい。本例で
は、更に、封止部4によって積層体28の周囲を封止し
ているので、腐食性物質の発熱体2との接触が一層抑制
されている。
【0016】本発明で使用する樹脂シートの材質は、加
熱装置の上限温度に耐える耐熱性を有していれば特に限
定されない。しかし、耐熱性や強度の観点から、ポリイ
ミド樹脂、フッ素樹脂(特に「テフロン(登録商
標)」)が好ましい。
【0017】樹脂シートの厚さは限定されないが、加熱
素子の腐食性物質からの保護という観点からは、0.0
1mm以上であることが好ましく、0.1mm以上であ
ることが更に好ましい。しかし、加熱装置の応答性の向
上という観点からは、1mm以下であることが好まし
い。
【0018】加熱素子の形態は、樹脂シートと積層可能
である限り、特に限定されない。好ましくは、加熱素子
が、所定平面に沿って延びるように成形されており、あ
るいは平板状をなしている。
【0019】加熱素子の具体的形態は、以下を例示でき
る。 (1)バルク状の加熱素子。こうしたバルク状の加熱素
子は、例えば、線、箔、網状物、コイルスプリング状
物、平板状物、リボン状物、シート状物、膜の形態を有
しており、所定平面に沿って延びている。この加熱素子
を樹脂シートの表面に接合する。 (2)加熱素子を樹脂シートの表面に印刷法によって形
成する。 (3)別体の絶縁性基板に対して、線状、リボン状、ス
トリップ状、コイル状の抵抗発熱体を巻き付ける。
【0020】抵抗発熱体の材質は特に限定されず、金
属、導電性セラミックスであってよい。具体的な材質と
しては、タンタル、タングステン、モリブデン、白金、
レニウム、ハフニウムからなる群より選ばれた純金属、
あるいは、タンタル、タングステン、モリブデン、白
金、レニウム、ハフニウムからなる群より選ばれた二種
以上の金属の合金が好ましい。基板を窒化アルミニウム
から構成した場合においては、抵抗発熱体の材質はモリ
ブデン及びモリブデン合金であることが好ましい。ま
た、ニクロム線などの公知の抵抗発熱体や、カーボン、
TiN、TiCなどの導電性材料を使用することもでき
る。
【0021】樹脂シートと加熱素子とを積層する方法は
特に限定されない。好適な実施形態においては、複数の
樹脂シートの間に加熱素子を挟む。これによって、加熱
素子が両側から樹脂シートによって保護されるので、腐
食性物質に対する耐性が一層向上する。
【0022】特に好適な実施形態においては、図2に示
す加熱装置29のように、樹脂シート1Cと1Dとをそ
の端部30において接合し、樹脂シート1C、1Dの内
部に加熱素子2を封入する。
【0023】一方の基板、他方の基板を構成するセラミ
ックスの種類は特に限定されない。しかし、メタルコン
タミネーションの防止という観点からは、アルミナ、窒
化アルミニウム、窒化珪素、窒化ホウ素(p−BN)、
炭化珪素が特に好ましい。また、他方の基板はプラスチ
ックであってもよく、例えば、ポリイミド樹脂、フッ素
樹脂を例示できる。
【0024】一方の樹脂接着剤層、他方の樹脂接着剤層
の材質は、加熱装置の動作温度において、対象とする腐
食性物質に対する耐久性を有する限り、特に限定されな
いが、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂(特に「テフロン
(登録商標)」)が好ましい。
【0025】一方の樹脂接着剤層、他方の樹脂接着剤層
の厚さは、加熱素子の腐食性物質からの保護という観点
からは、0.01mm以上であることが好ましく、0.
05mm以上であることが更に好ましい。また、加熱装
置の応答性の向上という観点からは、1mm以下である
ことが好ましい。
【0026】好適な実施形態においては、一方の基板と
他方の基板との間に、樹脂シートおよび加熱素子の周縁
部を被覆する樹脂製の封止部が設けられている。この封
止部は、図1、図2、図3の符号4に該当する。このよ
うな封止部を設けることによって、加熱素子の腐食等が
一層抑制される。
【0027】封止部と一方の接着剤層、封止部と他方の
接着剤層とは、一体的に連続していてよく、あるいは別
体であってよい。また、封止部の材質と各接着剤層の材
質とは、同種の樹脂であることが好ましい。
【0028】図3は、本発明の他の実施形態に係る加熱
装置6を示す断面図である。樹脂シート1の表面に平板
状の加熱素子2が設けられている。一対の基板5Aと5
Bとの間に、加熱素子2および樹脂シート1が挟まれて
いる。樹脂シート1の外壁面1aと一方の基板5Aの内
壁面5bとの間には接着剤層3Aが設けられており、加
熱素子2と他方の基板5Bの内壁面5bとの間には接着
剤層3Cが設けられている。また、樹脂接着剤からなる
封止部4が、基板5Aの内壁面5bと基板5Bの内壁面
5bとの間に設けられており、封止部4によって加熱素
子2および樹脂シート1の全周が包囲されている。
【0029】図4は、本発明に係る加熱装置の一例を概
略的に示す断面図である。本例の加熱装置37において
は、一方の基板5A、他方の基板31の材質は前述した
とおりである。他方の基板31は、平板状部31aと、
平板状部31aの周縁部から突出する円環状突起31b
とを備えている。31dは基板31の背面であり、31
eは基板31の内壁面である。円環状突起31bの端面
31cが樹脂接着剤32によって基板5Aの裏面5bに
接着されている。
【0030】基板5Aの裏面5bには、一方の接着剤層
35によって加熱素子34が接着されている。本例にお
いては、加熱素子34は、更に樹脂接着剤シートからな
る被膜36によって被覆されており、樹脂接着剤中に埋
設されている。しかし、被膜36は必ずしも必要ない。
本例では、樹脂接着剤35、36と他方の基板31の内
壁面31eとの間に空隙33が形成されている。
【0031】なお、図1(a)、図2、図3、図4にお
いて、封止部4、32は、樹脂接着剤以外の封止材によ
って構成することができる。このような封止材として
は、いわゆるO−リング、ガスケットを例示できる。ま
た、図4において、被膜36と基板31とを、前述のよ
うな樹脂接着剤によって接着することができる。
【0032】好適な実施形態においては、本発明の加熱
装置は、200℃以下の温度で腐食性環境下で使用され
るものである。即ち、本発明の加熱装置は、耐熱性樹脂
を使用可能な温度領域において、腐食性環境下での使用
に特に適している。
【0033】本発明の加熱装置の用途は特に限定されな
いが、化学的気相成長装置、エッチング装置、ベーキン
グ装置、コータ用のキュアリング装置を例示できる。
【0034】腐食性物質は、液状であってよく、気体で
あってよい。液状の腐食性物質としては、塩酸、硝酸、
フッ酸、シュウ酸、硫酸、およびこれらの各酸の金属溶
解液を例示できる。気体状の腐食背物質としては、NF
、アンモニア、Cl、H、O、O、H
等を例示できる。
【0035】次に、加熱素子の好適な実施形態について
例示する。図5は、加熱素子2Aを樹脂シート1の表面
に設けた状態を示す平面図である。樹脂シート1の表面
には、リング状の絶縁体板10A、10B、10C、1
0D、10Eが同心円状に配列されている。本例におい
ては、加熱素子2Aの中央に一対の端子12が設けられ
ており、これらの端子12が抵抗発熱体11によって電
気的に接続されている。具体的には、絶縁体板10Aに
巻き付けられた抵抗発熱体11aは、例えば一対の接続
部11bを介して、絶縁体板10Bに巻き付けられた抵
抗発熱体11aに接続されている。同様に、絶縁体板1
0Bに巻き付けられた抵抗発熱体11aは、一対の接続
部11cを介して、絶縁体板10Cに巻き付けられた抵
抗発熱体11aに接続されており、絶縁体板10Cに巻
き付けられた抵抗発熱体11aは、一対の接続部11d
を介して、絶縁体板10Dに巻き付けられた抵抗発熱体
11aに接続されている。絶縁体板10Dに巻き付けら
れた抵抗発熱体11aは、一対の接続部11eを介し
て、絶縁体板10Eに巻き付けられた抵抗抵抗発熱体に
接続されている。
【0036】図6の加熱素子2Bは、2つの端子12間
を抵抗発熱膜によって接続したものである。樹脂シート
1の表面に、膜状の抵抗発熱体14が例えば6個、回転
対称的に配置されている。各抵抗発熱体14は、相対的
に幅の広い基部14a、2つに分かれた第一の分枝部1
4b、および分枝部14bから更に枝分かれした分枝部
14cを備えている。隣接する抵抗発熱体14は、外周
側の導電性接続部15、あるいは内周側の導電性接続部
16によって互いに直列に接続されている。また、各分
枝部14b、14cは、並列回路を構成している。
【0037】図7の加熱素子2Cも、一対の端子12間
を抵抗発熱体および導電性接続部によって電気的に接続
したものである。樹脂シート1の表面には、例えば3つ
のリング状の抵抗発熱体18A、18B、18Cが形成
されている。これらの抵抗発熱体は例えば膜状のもので
ある。そして、樹脂シート1の表面を直径方向に横断す
るように導電性接続部17が延びている。導電性接続部
17は各抵抗発熱体18A、18B、18Cの略中央部
を横断している。導電性接続部17の抵抗値は、抵抗発
熱体の抵抗値に比べて充分に小さくする。この結果、各
抵抗発熱体18A、18B、18Cは、それぞれ導電性
接続部17によって周方向に二つの円弧部18a、18
bに二分される。2つの円弧部18aと18bとは、導
電性接続部17に対して並列回路を構成する。
【0038】図8は、本発明の加熱装置3を、コータ用
のキュアリング装置のチャンバーに取り付けた状態を示
す断面図である。
【0039】加熱装置3をチャンバー25に取り付け
る。台座20上に加熱装置3が設置されている。本例の
加熱装置3には真空チャック用の気体吸引孔21が形成
されている。加熱装置3の加熱面5a上に、コータによ
り塗布された後のウエハーWが設置されている。この状
態で、気体吸引孔21から矢印Aのように気体を吸引
し、ウエハーWを真空チャックする。加熱装置3内の加
熱素子2は、図示しない外部電源に対して、周知の方法
によって電気的に接続されている。
【0040】チャンバー25内の空間24には流体導入
孔23が設置されており、流体導入孔23から流体を2
2のようにウエハーWの表面に供給し、加熱装置3によ
ってウエハーWを加熱し、熱硬化させる。これによっ
て、所定の膜特性を得る。膜としては、レジスト膜の他
に、低誘電率(3以下)の層間絶縁膜(Low-K膜/ 例え
ばSilk)や、キャパシタ材(例えばSBT)を例示でき
る。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
腐食性環境下において発熱体の腐食や、発熱体の腐食に
伴うメタルコンタミネーションを抑制でき、製造コスト
を低くすることが可能であり、かつ温度上昇時、温度下
降時の応答性の良い加熱装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は、加熱装置に使用する積層体28を示
す断面図であり、(b)は、加熱装置30を示す断面図
であり、一対の樹脂シート1A、1B間に加熱素子2が
挟まれている。
【図2】本発明の他の実施形態に係る加熱装置29を示
す断面図であり、樹脂シート1C、1D内に加熱素子2
が封入されている。
【図3】本発明の更に他の実施形態に係る加熱装置6を
示す断面図であり、樹脂シート1の表面に加熱素子2が
設けられている。
【図4】本発明に係る加熱装置の一例を概略的に示す断
面図である。
【図5】加熱素子2Aのパターンを示す平面図である。
【図6】加熱素子2Bのパターンを示す平面図である。
【図7】加熱素子2Cのパターンを示す平面図である。
【図8】本発明の加熱装置3をコータ用のチャンバー2
5内に設置した状態を示す模式図である。
【符号の説明】
1、1A、1B、1C、1D 樹脂シート 2、
2A、2B、2C、34 加熱素子 3A、35
一方の樹脂接着剤層 3B 他方の樹脂接着剤
層 4、32 封止部 5A 一方の基板 5B、31 他方の基板 5a 加熱面
5b 基板の内壁面 5c 加熱装置の背面
6、29、30、37 加熱装置 10A、10B、10C、10D、10E 絶縁体板
11a、11b、11c、11d、11e 抵抗
発熱体 28 積層体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K034 AA10 AA12 AA15 AA16 AA20 BA08 BA13 BA18 BB06 BB14 BC03 BC17 FA21 FA27 FA33 JA01 3K092 PP09 QA05 RF02 RF14 RF27 SS18 TT27 VV09 VV15 5F031 CA02 HA01 HA02 HA37 MA26 MA28 MA30 MA32 PA30

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】樹脂シート、この樹脂シートと積層されて
    いる加熱素子、前記樹脂シートと積層されているセラミ
    ックス製の一方の基板、前記樹脂シートと積層されてい
    るセラミックスまたはプラスチック製の他方の基板、前
    記樹脂シートと前記一方の基板とを接着する一方の樹脂
    接着剤層、および前記樹脂シートと前記他方の基板とを
    接着する他方の樹脂接着剤層を備えていることを特徴と
    する、加熱装置。
  2. 【請求項2】前記一方の基板と前記他方の基板との間
    に、前記樹脂シートおよび前記加熱素子の周縁部を包囲
    する封止部が設けられていることを特徴とする、請求項
    1記載の加熱装置。
  3. 【請求項3】前記封止部が樹脂からなることを特徴とす
    る、請求項2記載の加熱装置。
  4. 【請求項4】前記樹脂シートを複数備えており、前記加
    熱素子が複数の前記樹脂シートの間に挟まれていること
    を特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つの請求項に
    記載の加熱装置。
  5. 【請求項5】前記加熱素子が、絶縁体板と、この絶縁体
    板の周囲に巻き付けられている抵抗発熱体とを備えてい
    ることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一つの請
    求項に記載の加熱装置。
  6. 【請求項6】加熱面と裏面とが設けられているセラミッ
    クス製の一方の基板、セラミックスまたはプラスチック
    製の他方の基板、前記一方の基板と前記他方の基板との
    間に設けられている加熱素子、前記加熱素子と前記一方
    の基板の前記裏面との間に設けられている接着剤層、お
    よび前記一方の基板の周縁部と前記他方の基板の周縁部
    とを封止し、前記加熱素子を包囲する封止部を備えてい
    ることを特徴とする、加熱装置。
  7. 【請求項7】前記封止部が、前記一方の基板と前記他方
    の基板とを接着する樹脂接着剤からなることを特徴とす
    る、請求項6記載の加熱装置。
  8. 【請求項8】前記加熱素子と積層されている樹脂シー
    ト、および前記樹脂シートと前記一方の基板の前記裏面
    とを接着する樹脂接着剤層を備えていることを特徴とす
    る、請求項6または7記載の加熱装置。
  9. 【請求項9】樹脂シートを複数備えており、前記加熱素
    子が複数の前記樹脂シートの間に挟まれていることを特
    徴とする、請求項6〜8のいずれか一つの請求項に記載
    の加熱装置。
  10. 【請求項10】前記加熱素子が、絶縁体板と、この絶縁
    体板の周囲に巻き付けられている抵抗発熱体とを備えて
    いることを特徴とする、請求項6〜9のいずれか一つの
    請求項に記載の加熱装置。
  11. 【請求項11】200℃以下の温度で腐食性環境下で使
    用するための加熱装置であることを特徴とする、請求項
    1〜10のいずれか一つの請求項に記載の加熱装置。
JP2001371126A 2001-12-05 2001-12-05 加熱装置 Pending JP2003173863A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001371126A JP2003173863A (ja) 2001-12-05 2001-12-05 加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001371126A JP2003173863A (ja) 2001-12-05 2001-12-05 加熱装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003173863A true JP2003173863A (ja) 2003-06-20

Family

ID=19180226

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001371126A Pending JP2003173863A (ja) 2001-12-05 2001-12-05 加熱装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003173863A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011210931A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体製造装置用基板保持体
JP2020004820A (ja) * 2018-06-27 2020-01-09 京セラ株式会社 試料保持具
JP2020194800A (ja) * 2019-05-24 2020-12-03 日本特殊陶業株式会社 保持装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011210931A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体製造装置用基板保持体
JP2020004820A (ja) * 2018-06-27 2020-01-09 京セラ株式会社 試料保持具
JP6995019B2 (ja) 2018-06-27 2022-01-14 京セラ株式会社 試料保持具
JP2020194800A (ja) * 2019-05-24 2020-12-03 日本特殊陶業株式会社 保持装置
JP7299756B2 (ja) 2019-05-24 2023-06-28 日本特殊陶業株式会社 保持装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9984912B2 (en) Locally heated multi-zone substrate support
KR100281953B1 (ko) 가열 장치 및 그 제조 방법
US20090059461A1 (en) Electrostatic chuck
US20160307787A1 (en) Ceramic heater and electrostatic chuck
JP5896595B2 (ja) 2層rf構造のウエハ保持体
JP5236927B2 (ja) 耐腐食性積層セラミックス部材
JP3699349B2 (ja) ウエハー吸着加熱装置
KR20040031691A (ko) 세라믹 접합체
US20040074898A1 (en) Encapsulated graphite heater and process
JPH08227933A (ja) 静電吸着機能を有するウエハ加熱装置
JP2006287210A (ja) 静電チャック及びその製造方法
JP2001274230A (ja) 半導体製造装置用ウェハ保持体
JP3840990B2 (ja) 半導体/液晶製造装置
JP5846186B2 (ja) 静電チャック装置および静電チャック装置の製造方法
TWI709189B (zh) 靜電卡盤裝置
JP2002373862A (ja) セラミックヒータ
JPH0750736B2 (ja) ウエハー加熱装置及びその製造方法
JP2003173863A (ja) 加熱装置
JP4712836B2 (ja) 耐腐食性積層セラミックス部材
JP2002359281A (ja) セラミックヒータ及びその製造方法
JP3978011B2 (ja) ウエハ載置ステージ
JP2003086519A (ja) 被処理物保持体およびその製造方法ならびに処理装置
JP3662909B2 (ja) ウエハー吸着加熱装置及びウエハー吸着装置
JP2002313900A (ja) 基板保持構造体および基板処理装置
JP2007184289A (ja) ヒータ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041013

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060724

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060906

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070208