JP2003173752A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JP2003173752A JP2003173752A JP2001372820A JP2001372820A JP2003173752A JP 2003173752 A JP2003173752 A JP 2003173752A JP 2001372820 A JP2001372820 A JP 2001372820A JP 2001372820 A JP2001372820 A JP 2001372820A JP 2003173752 A JP2003173752 A JP 2003173752A
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- ray
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被照射物への電子線の照射を防止しながらも
Ｘ線取出し窓部における発熱を抑制することができるＸ
線発生装置を提供することを課題とする。 【解決手段】 電子線発生装置２１において発生した電
子線２６がＸ線取出し窓部２２のＸ線ターゲット２３に
入射すると、その際に発生する制動放射に伴ってＸ線２
７が発生する。このＸ線２７は、冷却風２９が流されて
いる冷却用の通風路２５を通過すると共に電子線遮蔽板
２４を透過し、被照射物２８へ照射される。Ｘ線ターゲ
ット２３に入射した電子線２６の一部はＸ線ターゲット
２３を透過するが、このような電子線２６ａは電子線遮
蔽板２４において停止される。その際、Ｘ線ターゲット
２３と電子線遮蔽板２４との間に設けられている冷却用
の通風路２５には冷却風２９が流され、Ｘ線ターゲット
２３及び電子線遮蔽板２４が冷却される。
Ｘ線取出し窓部における発熱を抑制することができるＸ
線発生装置を提供することを課題とする。 【解決手段】 電子線発生装置２１において発生した電
子線２６がＸ線取出し窓部２２のＸ線ターゲット２３に
入射すると、その際に発生する制動放射に伴ってＸ線２
７が発生する。このＸ線２７は、冷却風２９が流されて
いる冷却用の通風路２５を通過すると共に電子線遮蔽板
２４を透過し、被照射物２８へ照射される。Ｘ線ターゲ
ット２３に入射した電子線２６の一部はＸ線ターゲット
２３を透過するが、このような電子線２６ａは電子線遮
蔽板２４において停止される。その際、Ｘ線ターゲット
２３と電子線遮蔽板２４との間に設けられている冷却用
の通風路２５には冷却風２９が流され、Ｘ線ターゲット
２３及び電子線遮蔽板２４が冷却される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子線を用いたＸ線
発生装置に関する。
発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、Ｘ線発生装置では、電子線をタン
グステン等からなるターゲットに入射させた際の制動放
射に伴って発生するＸ線を利用している。電子線の入射
方向に対するＸ線の発生方向はターゲットへ入射する電
子線のエネルギに深く関係しており、制動放射によるＸ
線出射分布は概ね図４に示されるような関係となる。す
なわち、比較的エネルギが高い電子線を用いた場合には
電子線入射方向と利用Ｘ線方向はほぼ同一であるが、電
子線のエネルギが低くなるにしたがって斜め方向に出射
するようになる。したがって、比較的高エネルギの電子
線を用いる場合には、図５に示されるように、電子線発
生装置１から出射した電子線２をターゲット３に垂直に
入射させ、これにより発生した透過Ｘ線４を被照射物５
に照射する透過型のＸ線発生装置が用いられる。一方、
比較的低エネルギの電子線を用いる場合には、図６に示
されるように、電子線発生装置１から出射した電子線６
をターゲット３に斜めに入射させ、これにより発生した
反射Ｘ線７を被照射物５に照射する反射型のＸ線発生装
置が用いられる。
グステン等からなるターゲットに入射させた際の制動放
射に伴って発生するＸ線を利用している。電子線の入射
方向に対するＸ線の発生方向はターゲットへ入射する電
子線のエネルギに深く関係しており、制動放射によるＸ
線出射分布は概ね図４に示されるような関係となる。す
なわち、比較的エネルギが高い電子線を用いた場合には
電子線入射方向と利用Ｘ線方向はほぼ同一であるが、電
子線のエネルギが低くなるにしたがって斜め方向に出射
するようになる。したがって、比較的高エネルギの電子
線を用いる場合には、図５に示されるように、電子線発
生装置１から出射した電子線２をターゲット３に垂直に
入射させ、これにより発生した透過Ｘ線４を被照射物５
に照射する透過型のＸ線発生装置が用いられる。一方、
比較的低エネルギの電子線を用いる場合には、図６に示
されるように、電子線発生装置１から出射した電子線６
をターゲット３に斜めに入射させ、これにより発生した
反射Ｘ線７を被照射物５に照射する反射型のＸ線発生装
置が用いられる。
【０００３】図７にターゲット厚さとＸ線発生効率との
関係(解析結果)を示す。ここでは、ターゲットがタング
ステンの場合を想定し、従来反射型でＸ線照射処理を行
っていた電子線の概ね最大のエネルギ領域となる300keV
を対象としている。なお、エネルギが当該値以下の場合
でも全体の傾向は同等である。図７より明らかなよう
に、全出射領域を対象として想定した場合、Ｘ線発生効
率は反射Ｘ線よりも透過Ｘ線のほうが高い。また、透過
Ｘ線の発生効率はあるターゲット厚さ（入射電子線の飛
程の約60％）において極値を持ち、この厚さより小さい
と有効な制動放射量を得られず、一方この厚さを超える
と減衰散乱による発生効率の低下を生じる。
関係(解析結果)を示す。ここでは、ターゲットがタング
ステンの場合を想定し、従来反射型でＸ線照射処理を行
っていた電子線の概ね最大のエネルギ領域となる300keV
を対象としている。なお、エネルギが当該値以下の場合
でも全体の傾向は同等である。図７より明らかなよう
に、全出射領域を対象として想定した場合、Ｘ線発生効
率は反射Ｘ線よりも透過Ｘ線のほうが高い。また、透過
Ｘ線の発生効率はあるターゲット厚さ（入射電子線の飛
程の約60％）において極値を持ち、この厚さより小さい
と有効な制動放射量を得られず、一方この厚さを超える
と減衰散乱による発生効率の低下を生じる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図５に示さ
れる透過型のＸ線発生装置においては、ターゲット３に
入射する電子線２の一部がターゲット３を通過するた
め、Ｘ線の被照射物５に対してＸ線４だけでなく電子線
２ａも照射されてしまう虞があった。同様に、図６に示
される反射型のＸ線発生装置においても、ターゲット３
に入射される電子線６の一部がターゲット３において反
射するため、Ｘ線の被照射物５に対してＸ線７だけでな
く電子線６ａも照射されてしまう虞があった。従って、
被照射物５に対して所望のＸ線照射処理のみを有効に行
い得ない場合があった。そこで、このような被照射物５
への電子線の照射を防ぐため、Ｘ線は透過するが電子線
の透過を阻止するようなＸ線取出し窓部をターゲット３
の下流側に設けることが考えられるが、この場合には電
子線がＸ線取出し窓部を構成する原子や分子と相互作用
してＸ線取出し窓部に熱が発生してしまうという問題が
あった。
れる透過型のＸ線発生装置においては、ターゲット３に
入射する電子線２の一部がターゲット３を通過するた
め、Ｘ線の被照射物５に対してＸ線４だけでなく電子線
２ａも照射されてしまう虞があった。同様に、図６に示
される反射型のＸ線発生装置においても、ターゲット３
に入射される電子線６の一部がターゲット３において反
射するため、Ｘ線の被照射物５に対してＸ線７だけでな
く電子線６ａも照射されてしまう虞があった。従って、
被照射物５に対して所望のＸ線照射処理のみを有効に行
い得ない場合があった。そこで、このような被照射物５
への電子線の照射を防ぐため、Ｘ線は透過するが電子線
の透過を阻止するようなＸ線取出し窓部をターゲット３
の下流側に設けることが考えられるが、この場合には電
子線がＸ線取出し窓部を構成する原子や分子と相互作用
してＸ線取出し窓部に熱が発生してしまうという問題が
あった。
【０００５】この発明はこのような問題点を解消するた
めになされたもので、被照射物への電子線の照射を防止
しながらもＸ線取出し窓部における発熱を抑制すること
ができるＸ線発生装置を提供することを目的とする。
めになされたもので、被照射物への電子線の照射を防止
しながらもＸ線取出し窓部における発熱を抑制すること
ができるＸ線発生装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係るＸ線発生
装置は、電子線をターゲットに入射させた際の制動放射
に伴って発生するＸ線を利用するＸ線発生装置におい
て、間に冷却用の通風路が形成されるように互いに間隔
を隔てて配置された内側板と外側板とからなる２層構造
のＸ線取出し窓部を備え、内側板及び外側板のうち少な
くとも一方はターゲットから入射した電子線を透過しな
い電子線遮蔽板からなるものである。内側板はターゲッ
トからなり、外側板は電子線遮蔽板からなるものでもよ
い。また、電子線発生装置を更に備え、この電子線発生
装置に設けられる電子線取出し窓部をターゲットから形
成することもできる。さらに、電子線遮蔽板は原子番号
３０以下の材質からなるものが好ましく、ターゲットの
厚さは入射電子線の飛程の３０〜７０％であるものが好
ましい。
装置は、電子線をターゲットに入射させた際の制動放射
に伴って発生するＸ線を利用するＸ線発生装置におい
て、間に冷却用の通風路が形成されるように互いに間隔
を隔てて配置された内側板と外側板とからなる２層構造
のＸ線取出し窓部を備え、内側板及び外側板のうち少な
くとも一方はターゲットから入射した電子線を透過しな
い電子線遮蔽板からなるものである。内側板はターゲッ
トからなり、外側板は電子線遮蔽板からなるものでもよ
い。また、電子線発生装置を更に備え、この電子線発生
装置に設けられる電子線取出し窓部をターゲットから形
成することもできる。さらに、電子線遮蔽板は原子番号
３０以下の材質からなるものが好ましく、ターゲットの
厚さは入射電子線の飛程の３０〜７０％であるものが好
ましい。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を添
付図面に基づいて説明する。 実施の形態１．図１に透過型のＸ線発生装置に適用され
た、この発明の実施の形態１に係るＸ線発生装置の全体
構造を示す。Ｘ線発生装置は、電子線発生装置２１及び
Ｘ線取出し窓部２２を備えている。電子線発生装置２１
は電子線を透過する電子線取出し窓部２１ａを有する。
一方、Ｘ線取出し窓部２２は互いに間隔を隔てて配置さ
れた内側板としてのＸ線ターゲット２３と外側板として
の電子線遮蔽板２４とからなる２重構造を有しており、
これらＸ線ターゲット２３及び電子線遮蔽板２４との間
には冷却用の通風路２５が設けられている。Ｘ線ターゲ
ット２３と電子線遮蔽板２４との間隔、すなわち、冷却
用の通風路２５の厚さは、電子線が入射する領域におい
ては一定であり、ここにＸ線ターゲット２３及び電子線
遮蔽板２４を冷却するための冷却風２９を図示しない送
風機により通過させる構成になっている。ここで、冷却
風２９には低密度の不活性ガスを用いる。また、Ｘ線タ
ーゲット２３及び電子線遮蔽板２４は電気的に同電位に
置かれているものとし、通常は共に接地電位とする。こ
こで、Ｘ線ターゲット２３は高い原子番号の材質(原子
番号≧６０とする：Ｗ，Ｔａ等)からなり、電子線遮蔽
板２４は低い原子番号の材質(原子番号≦３０とする：
Ａｌ，Ｃ等)からなる。また、Ｘ線ターゲット２３の厚
さは入射電子線飛程の３０〜７０％、電子線遮蔽板２４
の厚さはＸ線ターゲット２３に入射した電子線が透過で
きない厚さ（入射電子線の飛程の３０〜７０％が目安値
であり、Ｘ線ターゲットとの組み合わせによりこの値は
決定される）とする。なお、単原子から構成されない化
合物材質においては、各構成要素の原子番号及び重量分
布率から求まる換算原子番号値で本議論は行う。
付図面に基づいて説明する。 実施の形態１．図１に透過型のＸ線発生装置に適用され
た、この発明の実施の形態１に係るＸ線発生装置の全体
構造を示す。Ｘ線発生装置は、電子線発生装置２１及び
Ｘ線取出し窓部２２を備えている。電子線発生装置２１
は電子線を透過する電子線取出し窓部２１ａを有する。
一方、Ｘ線取出し窓部２２は互いに間隔を隔てて配置さ
れた内側板としてのＸ線ターゲット２３と外側板として
の電子線遮蔽板２４とからなる２重構造を有しており、
これらＸ線ターゲット２３及び電子線遮蔽板２４との間
には冷却用の通風路２５が設けられている。Ｘ線ターゲ
ット２３と電子線遮蔽板２４との間隔、すなわち、冷却
用の通風路２５の厚さは、電子線が入射する領域におい
ては一定であり、ここにＸ線ターゲット２３及び電子線
遮蔽板２４を冷却するための冷却風２９を図示しない送
風機により通過させる構成になっている。ここで、冷却
風２９には低密度の不活性ガスを用いる。また、Ｘ線タ
ーゲット２３及び電子線遮蔽板２４は電気的に同電位に
置かれているものとし、通常は共に接地電位とする。こ
こで、Ｘ線ターゲット２３は高い原子番号の材質(原子
番号≧６０とする：Ｗ，Ｔａ等)からなり、電子線遮蔽
板２４は低い原子番号の材質(原子番号≦３０とする：
Ａｌ，Ｃ等)からなる。また、Ｘ線ターゲット２３の厚
さは入射電子線飛程の３０〜７０％、電子線遮蔽板２４
の厚さはＸ線ターゲット２３に入射した電子線が透過で
きない厚さ（入射電子線の飛程の３０〜７０％が目安値
であり、Ｘ線ターゲットとの組み合わせによりこの値は
決定される）とする。なお、単原子から構成されない化
合物材質においては、各構成要素の原子番号及び重量分
布率から求まる換算原子番号値で本議論は行う。
【０００８】次に、以上のような構成を有するＸ線発生
装置の作用を説明する。電子線発生装置２１において発
生した電子線２６が電子線取出し窓部２１ａを透過して
Ｘ線取出し窓部２２のＸ線ターゲット２３に入射する
と、その際に発生する制動放射に伴ってＸ線２７が発生
する。ここで、Ｘ線２７の出射方向は、Ｘ線ターゲット
２３の厚さ及び材質並びに入射電子線２６のエネルギ及
び入射角度に依存している。Ｘ線ターゲット２３におい
て発生したＸ線２７は、冷却風２９が流されている冷却
用の通風路２５を通過すると共に電子線遮蔽板２４を透
過し、被照射物２８へ照射される。このとき、Ｘ線取出
し窓部２２の冷却用の通風路２５に流されている冷却風
２９は相対的に低密度の気体であると共に電子線遮蔽板
２４は低い原子番号の材質からなるため、Ｘ線２７は冷
却用の通風路２５及び電子線遮蔽板２４で殆ど減衰散乱
を受けずにこれらを通過することができる。また、Ｘ線
ターゲット２３に入射した電子線２６の一部はＸ線ター
ゲット２３を透過するが、このような電子線２６ａは電
子線遮蔽板２４において停止される。このとき、電子線
２６ａはＸ線２７よりも単位距離あたりの減衰が大きい
ため、低い原子番号の材質からなる電子線遮蔽板２４で
は、Ｘ線２７の減衰散乱を生じることなく電子線２６ａ
のみを停止させることができる。すなわち、電子線２６
ａが被照射物２８に照射されるのを防止することができ
る。また、その際に電子線２６ａは電子線遮蔽板２４と
相互作用をすることにより熱を発生するが、Ｘ線ターゲ
ット２３と電子線遮蔽板２４との間に設けられている冷
却用の通風路２５には冷却風２９が流されているため、
電子線遮蔽板２４が冷却され、発熱が抑制される。ま
た、この冷却風２９によりＸ線ターゲット２３において
発生する熱も抑制することが可能となる。
装置の作用を説明する。電子線発生装置２１において発
生した電子線２６が電子線取出し窓部２１ａを透過して
Ｘ線取出し窓部２２のＸ線ターゲット２３に入射する
と、その際に発生する制動放射に伴ってＸ線２７が発生
する。ここで、Ｘ線２７の出射方向は、Ｘ線ターゲット
２３の厚さ及び材質並びに入射電子線２６のエネルギ及
び入射角度に依存している。Ｘ線ターゲット２３におい
て発生したＸ線２７は、冷却風２９が流されている冷却
用の通風路２５を通過すると共に電子線遮蔽板２４を透
過し、被照射物２８へ照射される。このとき、Ｘ線取出
し窓部２２の冷却用の通風路２５に流されている冷却風
２９は相対的に低密度の気体であると共に電子線遮蔽板
２４は低い原子番号の材質からなるため、Ｘ線２７は冷
却用の通風路２５及び電子線遮蔽板２４で殆ど減衰散乱
を受けずにこれらを通過することができる。また、Ｘ線
ターゲット２３に入射した電子線２６の一部はＸ線ター
ゲット２３を透過するが、このような電子線２６ａは電
子線遮蔽板２４において停止される。このとき、電子線
２６ａはＸ線２７よりも単位距離あたりの減衰が大きい
ため、低い原子番号の材質からなる電子線遮蔽板２４で
は、Ｘ線２７の減衰散乱を生じることなく電子線２６ａ
のみを停止させることができる。すなわち、電子線２６
ａが被照射物２８に照射されるのを防止することができ
る。また、その際に電子線２６ａは電子線遮蔽板２４と
相互作用をすることにより熱を発生するが、Ｘ線ターゲ
ット２３と電子線遮蔽板２４との間に設けられている冷
却用の通風路２５には冷却風２９が流されているため、
電子線遮蔽板２４が冷却され、発熱が抑制される。ま
た、この冷却風２９によりＸ線ターゲット２３において
発生する熱も抑制することが可能となる。
【０００９】実施の形態２．図２に透過型のＸ線発生装
置に適用された、本発明の実施の形態２に係るＸ線発生
装置の全体構造を示す。この実施の形態２のＸ線発生装
置は、実施の形態１のＸ線発生装置において、電子線発
生装置２１の電子線取出し窓部２１ａをＸ線ターゲット
２３から形成したものである。このＸ線ターゲット２３
はＸ線取出し窓部２２の内側板を構成し、Ｘ線ターゲッ
ト２３と電子遮蔽板２４との間には冷却用の通風路２５
が設けられている。以上のような構成にしても実施の形
態１と同様に、Ｘ線ターゲット２３を透過した電子線２
６ａが被照射物２８に照射されるのを防止しながらＸ線
取出し窓部２２における発熱を抑制することができる。
さらに、本実施の形態では電子線発生装置２１の電子線
取出し窓部がＸ線ターゲット２３からなるため、Ｘ線発
生装置を小型化することができる。
置に適用された、本発明の実施の形態２に係るＸ線発生
装置の全体構造を示す。この実施の形態２のＸ線発生装
置は、実施の形態１のＸ線発生装置において、電子線発
生装置２１の電子線取出し窓部２１ａをＸ線ターゲット
２３から形成したものである。このＸ線ターゲット２３
はＸ線取出し窓部２２の内側板を構成し、Ｘ線ターゲッ
ト２３と電子遮蔽板２４との間には冷却用の通風路２５
が設けられている。以上のような構成にしても実施の形
態１と同様に、Ｘ線ターゲット２３を透過した電子線２
６ａが被照射物２８に照射されるのを防止しながらＸ線
取出し窓部２２における発熱を抑制することができる。
さらに、本実施の形態では電子線発生装置２１の電子線
取出し窓部がＸ線ターゲット２３からなるため、Ｘ線発
生装置を小型化することができる。
【００１０】なお、上述の実施の形態１及び２では、Ｘ
線取出し窓部２２はＸ線ターゲット２３と電子線遮蔽板
２４とにより構成していたが、本発明はこれに限定され
るものではなく、Ｘ線ターゲットの下流側にＸ線を透過
する内側板を設け、この内側板と電子線遮蔽板とにより
２重構造のＸ線取出し窓部を構成するようにしてもよ
い。また、同様にして電子線遮蔽板を内側板とし、この
内側板とＸ線を透過する外側板とにより２重構造のＸ線
取出し窓部を構成することもできる。
線取出し窓部２２はＸ線ターゲット２３と電子線遮蔽板
２４とにより構成していたが、本発明はこれに限定され
るものではなく、Ｘ線ターゲットの下流側にＸ線を透過
する内側板を設け、この内側板と電子線遮蔽板とにより
２重構造のＸ線取出し窓部を構成するようにしてもよ
い。また、同様にして電子線遮蔽板を内側板とし、この
内側板とＸ線を透過する外側板とにより２重構造のＸ線
取出し窓部を構成することもできる。
【００１１】実施の形態３．図３に反射型のＸ線発生装
置に適用された、本発明の実施の形態３に係るＸ線発生
装置の全体構造を示す。Ｘ線発生装置は、電子線発生装
置２１、Ｘ線ターゲット２３及びＸ線取出し窓部３１を
備えている。Ｘ線ターゲット２３は電子線発生装置２１
から出射した電子線が斜めに入射し、その際に発生する
反射Ｘ線がＸ線取出し窓部３１の方向に出射するような
角度に配設されている。Ｘ線取出し窓部３１は互いに間
隔を隔てて配置される内側板３２と外側板３３とからな
る２重構造を有しており、これら内側板３２及び外側板
３３は両者ともＸ線を透過するが、少なくとも一方は電
子線を透過しない電子線遮蔽板からなる。また、内側板
３２と外側板３３との間には冷却用の通風路３４が設け
られており、この通風路３４に内側板３２及び外側板３
３を冷却するための冷却風２９を図示しない送風機によ
り通過させる構成になっている。ここで、冷却風２９に
は低密度の不活性ガスを用いる。また、内側板３２と外
側板３３とは電気的に同電位に置かれているものとし、
通常は共に接地電位とする。
置に適用された、本発明の実施の形態３に係るＸ線発生
装置の全体構造を示す。Ｘ線発生装置は、電子線発生装
置２１、Ｘ線ターゲット２３及びＸ線取出し窓部３１を
備えている。Ｘ線ターゲット２３は電子線発生装置２１
から出射した電子線が斜めに入射し、その際に発生する
反射Ｘ線がＸ線取出し窓部３１の方向に出射するような
角度に配設されている。Ｘ線取出し窓部３１は互いに間
隔を隔てて配置される内側板３２と外側板３３とからな
る２重構造を有しており、これら内側板３２及び外側板
３３は両者ともＸ線を透過するが、少なくとも一方は電
子線を透過しない電子線遮蔽板からなる。また、内側板
３２と外側板３３との間には冷却用の通風路３４が設け
られており、この通風路３４に内側板３２及び外側板３
３を冷却するための冷却風２９を図示しない送風機によ
り通過させる構成になっている。ここで、冷却風２９に
は低密度の不活性ガスを用いる。また、内側板３２と外
側板３３とは電気的に同電位に置かれているものとし、
通常は共に接地電位とする。
【００１２】次に、以上のような構成を有するＸ線発生
装置の作用を説明する。電子線発生装置２１において発
生した電子線２６がＸ線ターゲット２３に斜めに入射す
ると、その際に発生する制動放射に伴ってＸ線３５が発
生する。このＸ線３５は、内側板３２、冷却風２９が流
されている冷却用の通風路３４及び外側板３３を透過
し、被照射物２８へ照射される。このとき、冷却用の通
風路３４に流されている冷却風２９は低密度の気体であ
るため、Ｘ線３５は殆ど減衰散乱を受けずに通過するこ
とができる。また、Ｘ線ターゲット２３に入射した電子
線２６の一部はＸ線ターゲット２３において反射する
が、このような電子線２６ｂはＸ線取出し窓部３１にお
いて停止される。このとき、Ｘ線取出し窓部３１を構成
している内側板３２及び外側板３３は、両者ともＸ線を
透過するが、少なくとも一方が電子線を透過しない電子
線遮蔽板からなるため、Ｘ線取出し窓部３１はＸ線３５
を停止させることなく電子線２６ｂのみを停止させるこ
とができる。すなわち、電子線２６ｂが被照射物２８に
照射されるのを防止することができる。また、その際に
電子線２６ｂはＸ線取出し窓部３１と相互作用をするこ
とにより熱を発生するが、内側板３２と外側板３３との
間に設けられている冷却用の通風路３４には冷却風２９
が流されているため、Ｘ線取出し窓部３１の発熱が抑制
される。
装置の作用を説明する。電子線発生装置２１において発
生した電子線２６がＸ線ターゲット２３に斜めに入射す
ると、その際に発生する制動放射に伴ってＸ線３５が発
生する。このＸ線３５は、内側板３２、冷却風２９が流
されている冷却用の通風路３４及び外側板３３を透過
し、被照射物２８へ照射される。このとき、冷却用の通
風路３４に流されている冷却風２９は低密度の気体であ
るため、Ｘ線３５は殆ど減衰散乱を受けずに通過するこ
とができる。また、Ｘ線ターゲット２３に入射した電子
線２６の一部はＸ線ターゲット２３において反射する
が、このような電子線２６ｂはＸ線取出し窓部３１にお
いて停止される。このとき、Ｘ線取出し窓部３１を構成
している内側板３２及び外側板３３は、両者ともＸ線を
透過するが、少なくとも一方が電子線を透過しない電子
線遮蔽板からなるため、Ｘ線取出し窓部３１はＸ線３５
を停止させることなく電子線２６ｂのみを停止させるこ
とができる。すなわち、電子線２６ｂが被照射物２８に
照射されるのを防止することができる。また、その際に
電子線２６ｂはＸ線取出し窓部３１と相互作用をするこ
とにより熱を発生するが、内側板３２と外側板３３との
間に設けられている冷却用の通風路３４には冷却風２９
が流されているため、Ｘ線取出し窓部３１の発熱が抑制
される。
【００１３】なお、Ｘ線取出し窓部を冷却する冷媒とし
ては、水等の液体を用いると、この部分でのＸ線の減衰
を無視し得ないため、気体を使用することが好ましい。
さらに、上述の実施の形態１〜３においては、冷却風と
して不活性ガスを用い、電子線との相互作用によるオゾ
ンの発生を防止したが、この代りに、不活性ガス以外の
冷却風を利用して流し終えた冷却風をオゾン処理装置で
処理することも可能である。
ては、水等の液体を用いると、この部分でのＸ線の減衰
を無視し得ないため、気体を使用することが好ましい。
さらに、上述の実施の形態１〜３においては、冷却風と
して不活性ガスを用い、電子線との相互作用によるオゾ
ンの発生を防止したが、この代りに、不活性ガス以外の
冷却風を利用して流し終えた冷却風をオゾン処理装置で
処理することも可能である。
【００１４】
【発明の効果】この発明のＸ線発生装置は、間に冷却用
の通風路が形成されるように互いに間隔を隔てて配置さ
れた内側板と外側板とからなる２層構造のＸ線取出し窓
部を備え、内側板及び外側板のうち少なくとも一方はタ
ーゲットから入射した電子線を透過しない電子線遮蔽板
からなる構成としたので、被照射物への電子線の照射を
防止しながらもＸ線取出し窓部における発熱を抑制する
ことができた。
の通風路が形成されるように互いに間隔を隔てて配置さ
れた内側板と外側板とからなる２層構造のＸ線取出し窓
部を備え、内側板及び外側板のうち少なくとも一方はタ
ーゲットから入射した電子線を透過しない電子線遮蔽板
からなる構成としたので、被照射物への電子線の照射を
防止しながらもＸ線取出し窓部における発熱を抑制する
ことができた。
【図１】 この発明の実施の形態１に係る透過型のＸ線
発生装置の全体構造を示す図である。
発生装置の全体構造を示す図である。
【図２】 この発明の実施の形態２に係る透過型のＸ線
発生装置の全体構造を示す図である。
発生装置の全体構造を示す図である。
【図３】 この発明の実施の形態３に係る反射型のＸ線
発生装置の全体構造を示す図である。
発生装置の全体構造を示す図である。
【図４】 制動放射によるＸ線出射分布を概略的に示す
図である。
図である。
【図５】 従来の透過型のＸ線発生装置の全体構造を示
す図である。
す図である。
【図６】 従来の反射型のＸ線発生装置の全体構造を示
す図である。
す図である。
【図７】 ターゲット厚さとＸ線発生効率との関係を示
す図である。
す図である。
２１ 電子線発生装置、２１ａ 電子線取出し窓部、２
２，３１ Ｘ線取出し窓部、２３ Ｘ線ターゲット、２
４ 電子線遮蔽板、２５，３４ 冷却用の通風路、２
６，２６ａ，２６ｂ 電子線、２７，３５ Ｘ線、２８
被照射物、２９冷却風。
２，３１ Ｘ線取出し窓部、２３ Ｘ線ターゲット、２
４ 電子線遮蔽板、２５，３４ 冷却用の通風路、２
６，２６ａ，２６ｂ 電子線、２７，３５ Ｘ線、２８
被照射物、２９冷却風。
─────────────────────────────────────────────────────
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(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｊ 35/00 Ｈ０１Ｊ 35/00 Ａ
Ｈ０５Ｇ 1/00 Ｈ０５Ｇ 1/00 Ｇ
Claims (5)
- 【請求項１】 電子線をターゲットに入射させた際の制
動放射に伴って発生するＸ線を利用するＸ線発生装置に
おいて、 間に冷却用の通風路が形成されるように互いに間隔を隔
てて配置された内側板と外側板とからなる２層構造のＸ
線取出し窓部を備え、 前記内側板及び外側板のうち少なくとも一方はターゲッ
トから入射した電子線を透過しない電子線遮蔽板からな
ることを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項２】 前記内側板はターゲットからなり、前記
外側板は電子線遮蔽板からなることを特徴とする請求項
１に記載のＸ線発生装置。 - 【請求項３】 電子線発生装置を更に備え、この電子線
発生装置に設けられる電子線取出し窓部はターゲットか
らなることを特徴とする請求項１または２に記載のＸ線
発生装置。 - 【請求項４】 電子線遮蔽板は、原子番号３０以下の材
質からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一
項に記載のＸ線発生装置。 - 【請求項５】 ターゲットの厚さは、入射電子線の飛程
の３０〜７０％であることを特徴とする請求項１〜４の
いずれか一項に記載のＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001372820A JP2003173752A (ja) | 2001-12-06 | 2001-12-06 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001372820A JP2003173752A (ja) | 2001-12-06 | 2001-12-06 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003173752A true JP2003173752A (ja) | 2003-06-20 |
Family
ID=19181644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001372820A Withdrawn JP2003173752A (ja) | 2001-12-06 | 2001-12-06 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003173752A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011025740A3 (en) * | 2009-08-31 | 2011-06-03 | Varian Medical Systems, Inc. | Target assembly with electron and photon windows |
| WO2013051595A1 (ja) * | 2011-10-04 | 2013-04-11 | 株式会社ニコン | 装置、ｘ線照射方法、及び構造物の製造方法 |
-
2001
- 2001-12-06 JP JP2001372820A patent/JP2003173752A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011025740A3 (en) * | 2009-08-31 | 2011-06-03 | Varian Medical Systems, Inc. | Target assembly with electron and photon windows |
| US8098796B2 (en) | 2009-08-31 | 2012-01-17 | Varian Medical Systems, Inc. | Target assembly with electron and photon windows |
| WO2013051595A1 (ja) * | 2011-10-04 | 2013-04-11 | 株式会社ニコン | 装置、ｘ線照射方法、及び構造物の製造方法 |
| JPWO2013051595A1 (ja) * | 2011-10-04 | 2015-03-30 | 株式会社ニコン | 装置、ｘ線照射方法、及び構造物の製造方法 |
| US9234855B2 (en) | 2011-10-04 | 2016-01-12 | Nikon Corporation | Apparatus, X-ray irradiation method, and structure manufacturing method |
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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