JP2003160592A - 有機ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents

有機ケイ素化合物及びその製造方法

Info

Publication number
JP2003160592A
JP2003160592A JP2001364398A JP2001364398A JP2003160592A JP 2003160592 A JP2003160592 A JP 2003160592A JP 2001364398 A JP2001364398 A JP 2001364398A JP 2001364398 A JP2001364398 A JP 2001364398A JP 2003160592 A JP2003160592 A JP 2003160592A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
carbon atoms
alkyl
chemical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001364398A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4273690B2 (ja
Inventor
Takehiro Obara
健博 小原
Keijiro Takanishi
慶次郎 高西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2001364398A priority Critical patent/JP4273690B2/ja
Publication of JP2003160592A publication Critical patent/JP2003160592A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4273690B2 publication Critical patent/JP4273690B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 例えば金属イオン捕捉材として用いるに有用
である、ホスホン酸基を有した有機ケイ素化合物を得
る。 【解決手段】 下式(1)で示されることを特徴とする
有機ケイ素化合物。 【化1】 【化2】 ……(1) [式(1)中Xは、各々独立にハロゲン、炭素数1〜2
0のオキシアルキル基、オキシアリール基、トリス(炭
素数1〜20のアルキル)シリルエーテル基、トリアリ
ールシリルエーテル基からなる群から選ばれる。mは1
または2である。また、Vはアルキレン基、シクロアル
キレン基、フェニレン基、エーテル基、チオエーテル
基、スルホニル基、アミノ基、エステル基、アミド基か
らなる群から選ばれ、R’は水素または1価の炭化水素
基であり、Yはハロゲン原子、炭素数1〜20のオキシ
アルキル基、水酸基から選ばれ、Zは炭素数1〜20の
アルキル基およびアリール基から選ばれる。nは1、2
または3である。]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属捕捉剤等に有
用である、有機ケイ素化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】有機ケイ素化合物の一つであるシランカ
ップリング剤はガラス及びセラミックなどの表面水酸基
と縮合することから、固体表面の改質や機能付与等に広
く利用されている。上述の有機ケイ素化合物は、結合基
であるシランと機能性官能基を併せ持つことが特徴であ
り、機能性官能基として、ビニル基、エポキシ基、メタ
クリル基、アミノ基、メルカプト基等が知られている。
【0003】このように、様々な機能性官能基を有する
有機ケイ素化合物が知られているが、その中で酸性官能
基を有する有機ケイ素化合物は、酸性基と結合基である
シラノール基が分子内もしくは分子間で反応してしま
い、安定に存在することができない。そこで、酸性基を
エステル等で保護した有機ケイ素化合物が開発されてお
り、具体的には、スルホン酸エステル基を有するアルコ
シキシラン化合物が知られている(例えば、特開平9−
48610号公報)。
【0004】スルホン酸基を無機物表面に導入する方法
として、上記ケイ素化合物をシリカなどの無機物表面上
に修飾し、つづいてエステル部位を加水分解することに
より、無機物表面上にスルホン酸基を導入する方法が知
られている。これにより、表面上の親水性および水中で
の分散性が向上し、消臭剤、金属イオン捕捉のためのカ
チオン交換体として利用されている(特開平9−486
10号公報、特開平9−110473号公報)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のスルホ
ン酸基を有するアルコキシシラン化合物は、その強酸性
によって、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属イ
オンを捕捉することはできるが、スルホン酸基はイオン
解離度が大きいことや1価イオンであることから、水素
または1価の有機金属イオン以外の金属イオンを捕捉す
ることに対しては、必ずしも有効ではない。
【0006】
【課題を解決するための手段】このような本発明の課題
は、 (1)下式(1)で示されることを特徴とする有機ケイ
素化合物、
【0007】
【化5】
【0008】
【化6】
【0009】……(1) [式(1)中Xは、各々独立にハロゲン、炭素数1〜2
0のオキシアルキル基、オキシアリール基、トリス(炭
素数1〜20のアルキル)シリルエーテル基、トリアリ
ールシリルエーテル基からなる群から選ばれる。mは1
または2である。また、Vはアルキレン基、シクロアル
キレン基、フェニレン基、エーテル基、チオエーテル
基、スルホニル基、アミノ基、エステル基、アミド基か
らなる群から選ばれ、R’は水素または1価の炭化水素
基であり、Yはハロゲン原子、炭素数1〜20のオキシ
アルキル基、水酸基から選ばれ、Zは炭素数1〜20の
アルキル基およびアリール基から選ばれる。nは1、2
または3である。]、および新規な有機ケイ素化合物の
製造方法などにより達成することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明者らは前記課題に対し、リ
ン化合物の一つであるホスホン酸基に着目した。ホスホ
ン酸基は、スルホン酸基に比べてイオン解離度が小さ
く、特に遷移金属等の金属イオンとの親和性が高い。さ
らに同一炭素上に2つのホスホン酸基を有するジェミナ
ル-ビスホスホン酸は分子内水素結合により、強酸性を
示すことや、金属イオンとのキレートを2座で形成する
などの特徴を有しているから、酸性度および多価金属イ
オン捕捉能もスルホン酸を超える能力が期待できる。こ
れまでジェミナル-ビスホスホン酸誘導体基を有する有
機ケイ素化合物は知られておらず、本発明者らはその開
発を鋭意検討した結果、本発明に至った。
【0011】本発明の有機ケイ素化合物は下式(1)の
構造を有している。
【0012】
【化7】
【0013】
【化8】
【0014】……(1) [式(1)中Xは、各々独立にハロゲン、炭素数1〜2
0のオキシアルキル基、オキシアリール基、トリス(炭
素数1〜20のアルキル)シリルエーテル基、トリアリ
ールシリルエーテル基からなる群から選ばれる。mは1
または2である。また、Vはアルキレン基、シクロアル
キレン基、フェニレン基、エーテル基、チオエーテル
基、スルホニル基、アミノ基、エステル基、アミド基か
らなる群から選ばれ、R’は水素または1価の炭化水素
基であり、Yはハロゲン原子、炭素数1〜20のオキシ
アルキル基、水酸基から選ばれ、Zは炭素数1〜20の
アルキル基およびアリール基から選ばれる。nは1、2
または3である。] 本発明の有機ケイ素化合物は、その構造に応じ、例え
ば、次の3つの方法で製造することができる。
【0015】まず、第1は、メチレンビスホスホン酸誘
導体、例えば、メチレンビスホスホンテトラアルキルエ
ステルに塩基を作用させ、活性メチレン部位に生じたア
ニオンに不飽和結合基を有するハロゲン化アルキルを反
応せしめることにより、アルキレン基を有するビスホス
ホン酸エステルを得る。次にアルキレン基に塩化白金酸
等の触媒下、シラン化合物を付加させるヒドロシリル化
反応によって製造する。この場合において、メチレンビ
スホスホン酸テトラアルキルエステルについては、アル
キル部位がメチル、エチル、イソプロピル等の誘導体が
市販されており、容易に入手が可能であるし、常法によ
り合成することが可能である。塩基とは、例えば、アル
カリ金属元素、アルカリ土類金属元素およびこれらの金
属水素化物、アルキル金属試薬が用いられる。不飽和結
合基を有するハロゲン化アルキルのアルキル部位は直鎖
でも分枝でもよく、ハロゲン化物としては、塩化物、臭
化物、ヨウ化物いずれの場合も可能である。この場合の
反応溶媒は、無水エーテル系溶媒を用いることが好まし
く、反応温度は0℃から溶媒の沸点の間であることが好
ましい。
【0016】第2には、ビニリデンビスホスホン酸誘導
体、例えば、ビニリデンビスホスホン酸テトラアルキル
エステルに求核性基を生じるシラン化合物を付加させる
工程を有する製造方法である。この場合において、ビニ
リデンビスホスホン酸テトラアルキルエステルは上述の
市販品であるメチレンビスホスホン酸テトラアルキルエ
ステルに塩基存在下、ホルムアルデヒドを作用させる等
文献等により良く知られた公知の方法で合成が可能であ
る。求核性基とは、具体的にはアニオンを発生しうる化
合物を言い、アルキレン基、シクロアルキレン基、フェ
ニレン基、エーテル基、チオエーテル基、スルホニル
基、アミノ基、エステル基、アミド基があげられる。反
応溶媒としては、アルコキシシリル基との交換反応が進
行し、不均化するおそれがあるため、前記シリル化合物
におけるアルコキシシリル部位のアルコキシ基に対応す
る無水アルコール溶媒を用いることが望ましい。反応温
度は0℃から溶媒の沸点の間で行うことが好ましい。
【0017】第3には、ビニリデンビスホスホン酸誘導
体、例えば、ビニリデンビスホスホン酸テトラアルキル
エステルに不飽和結合基を有する有機金属試薬を作用さ
せることにより、アルキレン基を有するビスホスホン酸
エステルに変換する。次にアルキレン基に塩化白金酸等
の触媒下、シラン化合物を付加させる方法である。この
場合の反応溶媒は、無水エーテル系溶媒を用いることが
好ましく、反応温度は0℃から溶媒の沸点の間で行うこ
とが好ましい。
【0018】上記いずれの製造方法においても、シラン
化合物としては、トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノ
アルコキシシランが好適に採用される。
【0019】このアルコキシシラン部位は、公知の方法
により種々の官能基に変換することが可能であり、ハロ
ゲン化を行う場合を例に挙げて説明する。上述のヒドロ
シリル化の際、ハロシランを用いると、ハロシランがホ
スホン酸エステルと反応してしまうため、用いることは
できないが、アルコキシシランでヒドロシリル化した化
合物を臭化トリアルキルシリル、もしくはヨウ化トリア
ルキルシリルで処理することにより、アルコキシシリル
部位のアルコキシをシロキシに変換することが可能であ
る。この際同時にホスホン酸テトラアルキルエステル部
位もテトラアルキルシリルエステル基に変換される。
【0020】次にシリルエステルに5ハロゲン化リンを
作用させることにより、ケイ素上の置換基とホスホン酸
上の置換基をハロゲン化物に同時に変換することが可能
である。
【0021】次に、本発明の有機ケイ素化合物の使用態
様について説明する。
【0022】本発明の有機ケイ素化合物は、適当な担体
に担持させて用いることが有用である。担持には共有結
合、イオン結合、吸着、吸蔵等様々な態様があるが、本
発明においては、反応性基を利用し、共有結合にて担持
させることが好適である。担体には、有機物や無機物が
挙げられるが、無機物であることが好ましく、例えば、
シリカ、アルミナ、チタニアなどの金属酸化物が挙げら
れる。担持の方法としては、希釈した無機酸水溶液をも
ってシリル基部位を加水分解し、これを無機物上の水酸
基等の官能基と縮合させる方法や、アルコキシシラン、
ハロシランとして、直接無機物と反応させて得る方法が
あげられるが、特に制限されるわけではない。さらに反
応後熱処理を行うことが、化学結合をより強固にするた
めに好適である。
【0023】また、無機物だけではなく、ジアルキルジ
アルコキシシランなどと脱水縮合させ、ケイ素-酸素結
合のシロキサンネットワークを主鎖に有するポリマーの
一部として用いることも可能である。
【0024】このような好ましい本発明の態様は、次の
ようなものである。すなわち、下式(2)で示される構
造を含む材料、
【0025】
【化9】
【0026】
【化10】
【0027】……(2) [式(2)中Xは、各々独立にハロゲン、炭素数1〜2
0のオキシアルキル基、オキシアリール基、トリス(炭
素数1〜20のアルキル)シリルエーテル基、トリアリ
ールシリルエーテル基、水酸基からなる群から選ばれ、
Xが水酸基である場合は、そのアルカリ金属塩及びアル
カリ土類金属塩及びアンモニウム塩などの塩類も含む。
また、Vはアルキレン基、シクロアルキレン基、フェニ
レン基、エーテル基、チオエーテル基、スルホニル基、
アミノ基、エステル基、アミド基からなる群から選ば
れ、R’は水素または1価の炭化水素基であり、Zは炭
素数1〜20のアルキル基およびアリール基から選ばれ
る。mは1または2、nは1、2または3である。]で
ある。
【0028】ここで、R中の末端酸素は2価の酸素であ
り、一端を担体との結合に利用することができるのであ
り、担体との強固な結合が可能となるのである。
【0029】ホスホン酸の加水分解については、酸もし
くは塩基触媒下、水溶液中で加熱することにより、行う
ことができる。具体的には、酸としては硫酸、塩酸など
の無機酸、または酢酸などの有機酸及び無機酸と有機酸
の混合物でもよい。アルカリとしてはアンモニア、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウムなどがある。アルカリで
加水分解した場合には、対応する塩として得ることがで
きる。また、中和反応を用いても塩として得ることがで
きる。この場合、アンモニア水、対応するアルカリ水溶
液を反応させることにより可能である。
【0030】このようにして、得られたビスホスホン酸
を有する材料は、ビスホスホン酸の強酸性により、塩基
性化合物と反応し、吸着させることができる。このこと
から、アンモニア、アミンなどの不快性臭気を捕捉で
き、消臭剤として有効である。
【0031】また強酸性を利用し、無機酸、有機酸を触
媒として用いる反応の代用品として利用することが可能
である。この場合、ビスホスホン酸基が無機物表面上に
存在しているもしくはポリマーの一部であることから、
これまでの無機・有機酸に比べて濾過等の操作で容易に
除去が可能である。
【0032】さらに本発明ビスホスホン酸(塩)を含む
材料は、ポリ燐酸の一つの酸素原子が炭素原子に置換し
ている類似構造であり、水を吸着する効果がある。この
ことから吸水剤、脱水剤としての利用が可能である。ま
た温度上昇においても、これらの吸着水を放出しないこ
とから、燃料電池用プロトン交換ポリマーなどに応用が
可能である。
【0033】また、ビスホスホン酸(塩)基は金属イオ
ンとのイオン交換能があり、これにより金属イオンを捕
捉することが可能である。ビスホスホン酸基は従来用い
られているスルホン酸基と比べて、2価であり、イオン
解離度が小さく、またイオン半径は大きい。このため、
スルホン酸基は、リチウム、ナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属イオンの選択的捕捉能が優れているが、
ビスホスホン酸基は、アルカリ金属イオンだけでなく、
マグネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属イオ
ンやそのほかの多価金属イオン、特に遷移金属イオンを
捕捉する。応用例としては、水中の上述金属イオンの除
去等が挙げられる。また、ビスホスホン酸塩でも同様の
金属イオン捕捉能があり、この場合複塩交換反応によ
り、他のイオンとの交換が起こる。
【0034】
【実施例】本発明の具体的実施態様を以下に実施例をも
って述べるが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
【0035】実施例1 テトライソプロピルジアリルメタンビスホスホネートの
合成
【0036】
【化11】
【0037】窒素雰囲気下、2口ナスフラスコに水素化
ナトリウム (0.75g)を入れ、乾燥ヘキサン(3×5ml)で
洗浄した。真空乾燥後、乾燥テトラヒドロフラン(20 m
l)を加え、0℃に冷却して攪拌しながら、テトライソプ
ロピルメチレンビスホスホネート(2.00 g, 5.81 mmo
l)の乾燥テトラヒドロフラン溶液(5 ml)を滴下した。
滴下終了後、徐々に温度を上げ、室温で3時間攪拌し
た。再び0℃に冷却して、アリルブロマイド(2.51 g, 2
0.8 mmol)を滴下し、徐々に室温に昇温して、3時間攪
拌した。反応溶液を0℃に冷却して飽和塩化アンモニウ
ム水溶液(20 ml)で反応を停止させ、溶媒を留去した後
にジエチルエーテル(3×20 ml)で抽出し、合わせた有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に濾過、溶媒
を留去し、減圧蒸留(160 ℃/140 Pa)で精製して、テト
ライソプロピルジアリルメタンビスホスホネート(無色
透明液体, 1.54 g, 3.63 mol, 63%)を得た。化合物の分
析値を以下に示す。
【0038】1H-NMR(CDCl3, 300MHz) σ = 1.34 (dd, J
= 2.6, 6.3 Hz, 24H), 2.61 (dt, J = 7.2, 15.5 Hz,
4H), 4.83 (h, J = 6.3 Hz, 4H), 5.07 (dd, J = 9.6,
17.1 Hz, 4H), 5.90-6.15 (m, 2H)。
【0039】実施例2 テトライソプロピルビス(3-トリメトキシシリルプロピ
ル)メタンビスホスホネートの合成
【0040】
【化12】
【0041】窒素雰囲気下、テトライソプロピルジアリ
ルメタンビスホスホネート(0.99g,2.33 mmol)の乾燥テ
トラヒドロフラン溶液(10 ml)に室温でトリメトキシシ
ラン(0.65 ml, 4.66 mmol)を滴下し、続いて0.1M 塩化
白金酸6水和物テトラヒドロフラン溶液(0.2 ml,0.02mm
ol)を加え、30時間加熱環流を行った。反応終了後、
減圧下で溶媒を留去し、 テトライソプロピルビス(3-
トリメトキシシリルプロピル)メタンビスホスホネート
(淡黄色液体, 1.40 g,2.18 mmol, 93%)を得た。この化
合物の分析値を以下に示す。
【0042】1H-NMR(CDCl3, 300MHz) 0.61(m, 2H), 0.8
9(t,J = 7.6 Hz, 2H), 1.33 (dd,J = 3.3, 7.9 Hz 24
H), 1.50-2.00(m, 8H), 3.61 (s, 18H), 4.81 (m, 4
H)。
【0043】実施例3 テトラエチル-2-(3-トリメトキシシリルプロピルチオ)
エタンビスホスホネートの合成
【0044】
【化13】
【0045】窒素雰囲気下、乾燥メタノール(5 ml)に0
℃でナトリウム(14.9 mg, 0.65 mmol)を入れ、溶解させ
る。次に3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン(0.7
0 ml,3.7 mmol)の乾燥メタノール溶液(3 ml)を滴下し
た。0℃で30分攪拌した後、テトラエチルビニリデン
ビスホスホネート(0.99 g, 3.3 mmol)の乾燥メタノール
溶液(5 ml)を滴下し、0℃を保ったまま4時間攪拌し
た。次に徐々に室温まで昇温させ、減圧下で溶媒を留去
し、減圧蒸留(200℃/ 350 Pa)で目的物(無色透明液体,
0.98 g, 2.0 mmol, 60%)を得た。この化合物の分析値を
以下に示す。
【0046】1H-NMR(CDCl3, 300MHz) 0.75(m, 3H), 1.3
5(t,J = 7.3 Hz, 12H), 1.71 (m,2H), 2.40-2.80(m, 3
H), 3.04 (dt, 5.9, 16.2 Hz, 2H), 3.56 (s, 9H), 4.1
9 (m,8H)。
【0047】実施例4 テトラエチル-4-ペンテニルビスホスホネートの合成
【0048】
【化14】
【0049】窒素雰囲気下、テトラエチルビニリデンビ
スホスホネート(1.00g, 3.33 mmol)乾燥テトラヒドロフ
ラン溶液(15 ml)を0℃に冷却して攪拌しながら、臭化ア
リルマグネシウム(3.5 ml, 1 mol/l ジエチルエーテル
溶液)を滴下した。滴下終了後、徐々に温度を上げ、室
温で3時間攪拌した。反応溶液を0℃に冷却して飽和塩
化アンモニウム水溶液(20 ml)で反応を停止させ、溶媒
を留去した後にジエチルエーテル(3×20 ml)で抽出し、
合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次
に濾過、溶媒を留去し、減圧蒸留(180 ℃/400 Pa)で精
製して、テトラエチル-4-ペンテニルビスホスホネート
(無色透明液体, 0.91 g, 2.66 mol, 80%)を得た。化合
物の分析値を以下に示す。
【0050】1H-NMR(CDCl3, 300MHz) 1.35 (t,J = 7.3
Hz, 12H), 2.34 (m, 2H), 2.61 (dt, J = 7.2, 15.5 H
z, 2H), 2.85 (m, 1H), 4.19 (m, 8H), 5.07 (dd, J =
9.6, 17.1 Hz, 2H), 5.90-6.15 (m, 1H)。
【0051】実施例5 テトラエチル-5-トリメトキシシリルペンチルビスホス
ホネートの合成
【0052】
【化15】
【0053】窒素雰囲気下、テトラエチル-4-ペンテニ
ルビスホスホネート(0.91 g, 2.66 mol,乾燥テトラヒド
ロフラン溶液(10 ml)に室温でトリメトキシシラン(0.37
ml,2.66 mmol)を滴下し、続いて0.1M 塩化白金酸6水
和物テトラヒドロフラン溶液(0.1 ml,0.01mmol)を加
え、20時間加熱環流を行った。反応終了後、減圧下で
溶媒を留去し、 テトラエチル-5-トリメトキシシリルペ
ンチルビスホスホネート(淡黄色液体, 1.10 g,2.36 mmo
l, 89%)を得た。この化合物の分析値を以下に示す。
【0054】1H-NMR(CDCl3, 300MHz) 0.61(m, 2H), 0.8
9(t,J = 7.6 Hz, 2H), 1.40 (t,J= 7.9 Hz 12H), 1.50-
2.00(m, 4H), 2.61 (dt, J = 7.2, 15.5 Hz, 1H), 3.59
(s, 9H), 4.21 (m, 8H)。
【0055】実施例6 テトライソプロピルビス(3-トリメトキシシリルプロピ
ル)メタンビスホスホネートのシリカ微粒子表面上への
処理 テトライソプロピルビス(3-トリメトキシシリルプロピ
ル)メタンビスホスホネート(1.00g, 1.56 mmol)に0.01
N-HCl水溶液(0.168g)を滴下し、さらに室温で30分攪拌
した。
【0056】この溶液から0.50gを秤取り、エタノール
(7.78g)で希釈し、エタノール溶液(3ml)にシリカ微粒子
(0.30 g、富士シリシア化学 サイリシア350)を加
え、攪拌しながら10分間放置した。さらに110℃で18
時間熱処理した。
【0057】室温へ冷却後、エタノール(30 ml)で洗浄
して、真空下70℃で16時間乾燥し、白色固体(0.34
g)を得た。
【0058】得られたシラン処理シリカ微粒子(0.165
g)を6N-HCl酢酸溶液(9 ml)に懸濁させ、5時間加熱環流
した。終了後、蒸留水(20 ml)で洗浄した。減圧下60℃
で16時間乾燥し、白色固体(0.146 g)を得た。
【0059】微粒子シリカ表面上ビスホスホン酸の酸塩
基中和滴定得られたシラン処理シリカ微粒子(52.3 mg)
を蒸留水(2 ml)に懸濁させた。この溶液にフェノールフ
タレインを指示薬として加え、0.01N-水酸化ナトリウム
水溶液を用いて中和滴定を行ったところ、1.80 mlを要
した。
【0060】
【発明の効果】本発明の有機ケイ素化合物は、無機物表
面上にビスホスホン酸基を導入することやポリマーの一
部としてなど、ビスホスホン酸基を有する材料及びその
前駆体として用いられる。このビスホスホン酸基は金属
イオン特に遷移金属等との親和性が高く、2座のキレー
トを形成し得、高い金属イオン捕捉能材料として用いる
ことができる。また分子内水素結合により容易に1つの
プロトンを放出して安定化することから強酸性材料とし
て用いることができる。さらにポリリン酸と類似の構造
であることから吸水性材料として用いることができる。
このような用途の他、多岐の用途に渡り、応用可能であ
る。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下式(1)で示されることを特徴とする
    有機ケイ素化合物。 【化1】 【化2】 ……(1) [式(1)中Xは、各々独立にハロゲン、炭素数1〜2
    0のオキシアルキル基、オキシアリール基、トリス(炭
    素数1〜20のアルキル)シリルエーテル基、トリアリ
    ールシリルエーテル基からなる群から選ばれ、Vはアル
    キレン基、シクロアルキレン基、フェニレン基、エーテ
    ル基、チオエーテル基、スルホニル基、アミノ基、エス
    テル基、アミド基からなる群から選ばれ、R’は水素ま
    たは1価の炭化水素基であり、Yはハロゲン原子、炭素
    数1〜20のオキシアルキル基、水酸基から選ばれ、Z
    は炭素数1〜20のアルキル基およびアリール基から選
    ばれる。mは1または2、nは1、2または3であ
    る。]
  2. 【請求項2】 メチレンビスホスホン酸誘導体の活性メ
    チレン炭素を塩基により活性化し、不飽和結合基を有す
    る有機ハロゲン化物を作用させ、得られた化合物の不飽
    和結合にシラン化合物を付加させる工程を含む有機ケイ
    素化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】 ビニリデンビスホスホン酸誘導体にシラ
    ン化合物を付加させる工程を含む有機ケイ素化合物の製
    造方法。
  4. 【請求項4】 ビニリデンビスホスホン酸誘導体に不飽
    和結合基を有する有機金属試薬を作用させ、得られた化
    合物の不飽和結合にシラン化合物を付加させる工程を含
    む有機ケイ素化合物の製造方法。
  5. 【請求項5】 下式(2)で示される構造を含む材料。 【化3】 【化4】 ……(2) [式(2)中Xは、各々独立にハロゲン、炭素数1〜2
    0のオキシアルキル基、オキシアリール基、トリス(炭
    素数1〜20のアルキル)シリルエーテル基、トリアリ
    ールシリルエーテル基、水酸基からなる群から選ばれ、
    Xが水酸基である場合は、そのアルカリ金属塩及びアル
    カリ土類金属塩及びアンモニウム塩などの塩類も含む。
    また、Vはアルキレン基、シクロアルキレン基、フェニ
    レン基、エーテル基、チオエーテル基、スルホニル基、
    アミノ基、エステル基、アミド基からなる群から選ば
    れ、R’は水素または1価の炭化水素基であり、Zは炭
    素数1〜20のアルキル基およびアリール基から選ばれ
    る。mは1または2、nは1、2または3である。]
JP2001364398A 2001-11-29 2001-11-29 有機ケイ素化合物及びその製造方法 Expired - Fee Related JP4273690B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001364398A JP4273690B2 (ja) 2001-11-29 2001-11-29 有機ケイ素化合物及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001364398A JP4273690B2 (ja) 2001-11-29 2001-11-29 有機ケイ素化合物及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003160592A true JP2003160592A (ja) 2003-06-03
JP4273690B2 JP4273690B2 (ja) 2009-06-03

Family

ID=19174596

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001364398A Expired - Fee Related JP4273690B2 (ja) 2001-11-29 2001-11-29 有機ケイ素化合物及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4273690B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114561005A (zh) * 2022-04-11 2022-05-31 中山大学 一种可聚合型的硫杂蒽酮水性光引发剂及其制备方法和应用

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114561005A (zh) * 2022-04-11 2022-05-31 中山大学 一种可聚合型的硫杂蒽酮水性光引发剂及其制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP4273690B2 (ja) 2009-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107108663B (zh) 使用衍生自锗烯的有机催化剂的氢化硅烷化方法
WO2003064490A2 (en) Process for the functionalization of polyhedral oligomeric silsesquioxanes
TWI238825B (en) Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds
JPH02104592A (ja) オルガノシリコン化合物およびその製造法
KR20110006125A (ko) 유기 클로로하이드로실란과 이의 제조방법
CN104781909B (zh) 用于形成包含砷掺杂剂的基底的溶液配方和方法
WO2007091659A1 (ja) 多核錯体及びその縮合体
JP4273690B2 (ja) 有機ケイ素化合物及びその製造方法
JP3643535B2 (ja) 新規なアルミノシロキサン化合物およびその製造方法
CA2318928C (en) Silica gel incorporating polyazacycloalkane structural units
FR2904241A1 (fr) Procede de preparation de materiaux par greffage de groupements phosphores halogenes sur une surface inorganique
Dare et al. Modified procedure for improved synthesis of some octameric silsesquioxanes via hydrolytic polycondenzation in the presence of Amberlite ion-exchange resins
JP4132648B2 (ja) 有機修飾シリカコーティング粉体及びその構成要因である有機修飾シリカ
Kulikova et al. Preparation and Properties of Organo-Silicon-Phosphorus Hybrid Compounds Based on 3-Aminopropyltriethoxysilane, Tetraethoxysilane, and (1-Hydroxyethylidene) diphosphonic Acid
JPH09110473A (ja) 表面にスルホン酸基を有する無機物質とその製法及び用途
JPWO2005077960A1 (ja) 有機ケイ素化合物の製造方法並びにジオールを有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法
Li Grafting of phosphonate groups on the silica surface and characterization with spectroscopic methods
EP0499408B1 (en) Allyl cyclosilalactams
Guerrero et al. Immobilization of platinum (ii) and palladium (ii) complexes on metal oxides by sol–gel processing and surface modification using bifunctional phosphine–phosphonate esters
JPH04128292A (ja) γ―メタクリロキシプロピルシラン化合物の製造方法
JP5791040B2 (ja) ホスフィン化合物およびホスフィン含有有機無機複合材料とその利用
JP2001097980A (ja) 6個より多くの窒素原子を具備するポリアザシクロアルカンユニットを組み込んだ新規なシリカゲル、調製方法、及び使用
JP4013520B2 (ja) 新規なハロゲノシランおよびアルカリ可溶性樹脂
Yatluk et al. Synthesis and sorption properties of new hybrid chelating sorbents with β-alanine functional groups
JP4268435B2 (ja) 分子中にoh基を有する化合物からなる不純物の除去方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20041021

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080625

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20080708

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080908

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20081014

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090210

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090223

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120313

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees