JP2003154657A - 加熱素子に近接した駆動回路を備える流体噴射装置 - Google Patents

加熱素子に近接した駆動回路を備える流体噴射装置

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JP2003154657A JP2002285636A JP2002285636A JP2003154657A JP 2003154657 A JP2003154657 A JP 2003154657A JP 2002285636 A JP2002285636 A JP 2002285636A JP 2002285636 A JP2002285636 A JP 2002285636A JP 2003154657 A JP2003154657 A JP 2003154657A
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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】プリントヘッド基板に占める駆動トランジスタ
の面積を小さくすることにより基板の面積を削減し、コ
ストを削減すること。 【解決手段】加熱素子(56)用の駆動回路(85)を含む流体
噴射装置。駆動回路のうちの少なくとも一部が加熱素子
に近接して60μmの範囲内に配置される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、流体噴射装置に関
し、特に流体噴射装置の加熱素子に関する駆動回路の近
接配置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】インクジェットプリンタのプリントヘッ
ドでは、加熱された流体即ちインクにより駆動バブルが
形成され、プリントヘッドのオリフィス即ちノズルから
媒体へ向けて噴射すべき流体の滴が生成される。この流
体は、トランジスタに応答して駆動する抵抗器によって
加熱される。これらの抵抗器及びトランジスタは、シリ
コン基板上に形成されることが多い。
【0003】抵抗器の駆動に用いられるMOSトランジ
スタの中には、大抵抗のあまり断熱性の高くない導体と
してポリシリコンとも呼ばれる多結晶シリコンを断熱基
層の上に積層し、トランジスタのゲートに用いているも
のがある。このトランジスタのゲートに電流が流れる
と、トランジスタのソースとドレインの間に電子の流れ
を「開始」させる電界が形成され、回路を形成する。ト
ランジスタのゲートに対して電流がオフになると、電子
の流れが停止し、トランジスタがオフになる。
【0004】例えば、酸化珪素層などの極めて薄い断熱
基層を加熱抵抗器とシリコン基板との間にあるプリント
ヘッドの珪素基板に被着させる場合がある。この断熱基
層は、加熱抵抗器が駆動パルスの間、シリコン基板を保
護する。この断熱基層は極めて薄い場合があるので、ゲ
ートにより生成された電界がトランジスタの電子の動き
に悪影響を与える場合がある。
【0005】多くの場合、駆動トランジスタは、トラン
ジスタが高熱に頻繁にさらされないように、即ち、トラ
ンジスタの動作寿命が短くならないように、抵抗器から
ある距離をあけて配置されている。トランジスタと抵抗
器の間に距離をあけるもう1つの理由は、流体が加熱さ
れたときに流体バブルの破裂による駆動トランジスタへ
の機械的打撃を最小限に抑えるためである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】プリントヘッド基板に
占める駆動トランジスタの面積を小さくし、基板の面積
を削減してコストを削減することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】加熱素子用の駆動回路を
含む流体噴射装置であって、該駆動回路のうちの少なく
とも一部が前記加熱素子に近接して60μmの範囲内に
配置された流体噴射装置。以下の説明および複数の図面
を通して、同様の構成要素には同じ参照符号を付してい
る。
【0008】
【発明の実施の形態】図1及び図2を参照すると、本発
明を採用することができるインクジェットプリントヘッ
ド(または流体噴射装置あるいは交換可能なプリンタ構
成要素)の一定の縮尺ではない斜視図が概略的に示され
ている。このインクジェットプリントヘッドには、概し
て(a)シリコンなどの基板を含み様々な薄膜層が形成
された薄膜基礎構造即ちダイ11と、(b)薄膜基礎構
造11上に堆積させたインク障壁層12と、(c)イン
ク障壁12の上部に層をなすように取り付けられたオリ
フィス板即ちノズル板13とが含まれる。
【0009】薄膜基礎構造11は、従来の集積回路技術
に従って形成され、内部に薄膜加熱抵抗器56が形成さ
る。インク障壁層12は、ドライフィルムから形成さ
れ、加熱および加圧により薄膜基板11に積層され、加
熱抵抗器が形成された領域の上に写真石版によってイン
ク室19およびインク通路29が形成される。薄膜基礎
構造11の長手方向に離れた両端には、外部電気接続用
の金のボンディングパッド74が配置されており、イン
ク障壁層12には被覆されない。例えば、インク障壁層
の材料には、E.I.duPont de Nemou
rs and Company of Wilming
ton,Delwareから入手可能な「Parad」
ブランドの感光性樹脂製ドライフィルムなどのアクリラ
ートベースの感光性樹脂製ドライフィルムが含まれる。
同様のドライフィルムには、「Riston」ブランド
のドライフィルムなどの他のduPont製品、及び、
他の化学製品供給業者によって製造されたドライフィル
ムが含まれる。オリフィス板13には、例えばポリマ材
料から構成された平面基板などが含まれ、例えば、参考
までに本明細書で援用する米国特許第5,469,19
9号に開示されているようなレーザ加工によりオリフィ
スが形成される。オリフィス板には、ニッケルなどの板
金も含まれる場合がある。
【0010】図3に示すように、詳しくは、インク障壁
層12内のインク室19は個々のインク噴射抵抗器56
の上に配置されており、各インク室19はインク障壁層
12に形成された室状開口部の相互接続された端面すな
わち壁によって画定される。インク通路29は、障壁層
12に形成されたさらなる開口部によって画定され、個
々のインク噴射室すなわち流体噴射室19と一体になる
ように繋がっている。図1〜図3には、一例として、イ
ンク通路が薄膜基礎構造のインク供給スロット71〜7
3によって形成されたエッジに向けて開口し、インク供
給スロットのエッジが供給エッジを形成するようになっ
ているスロット供給型インクジェットプリントヘッドを
例示している。
【0011】オリフィス板13には個々のインク室19
上に配置されたオリフィス即ちノズル21が含まれ、各
インク噴射抵抗器56、関連インク室19および関連オ
リフィス21が整列されてインク滴発生器40を形成す
るようになっている。
【0012】開示のプリントヘッドは障壁層及び独立し
たオリフィス板を備えるものとして説明したが、当然明
らかなように、本発明は、一体型障壁/オリフィス構造
をもつプリントヘッドとして実施することもでき、その
場合、単一の感光性樹脂層を用い、複数回の露光処理に
より露光して現像することにより実施することができ
る。
【0013】インク滴発生器40は、基準方向Lに対し
て交差方向に間隔をあけた3列のアレイ即ちグループ6
1、62、63になるように構成される。各グループの
加熱抵抗器56は、基準方向Lにほぼ整列されており、
基準方向Lについて所定の中心間距離すなわちノズルピ
ッチPを有する。例えば、薄膜基礎構造11が矩形であ
るものとし、その両側のエッジ51、52を長手方向の
エッジとし、長手方向に離れている両側のエッジ53、
54をプリントヘッドの長さよりも短い幅方向のエッジ
とする。薄膜基礎構造の長手方向は、基準方向Lに対し
て平行な場合もあるエッジ51、52に沿った方向であ
る。使用時には、基準方向Lは一般に媒体送り方向と呼
ばれる方向に整列させることができる。
【0014】各インク滴発生器グループのインク滴発生
器40はほぼ同一線上にあるものとして例示している
が、例えば噴射遅延を補償するため、インク滴発生器グ
ループのインク滴発生器40は列の中心線からわずかに
ずらすこともできることが分かるであろう。
【0015】インク滴発生器40の各々が加熱抵抗器5
6を含む場合、加熱抵抗器もそれに従ってそのインク滴
発生器に対応するグループ即ちアレイに構成される。便
宜上、加熱抵抗器のアレイ即ちグループも同じ参照符号
61、62、63で参照する。
【0016】詳しくは、図1、図2及び図3のプリント
ヘッドの薄膜基礎構造11には、基準方向Lに整列され
たインク供給スロット71、72、73が含まれ、基準
方向Lに対して交差する方向に互いに間隔をあけて配置
されている。インク供給スロット71、72、73の各
々はインク滴発生器グループ61、62、63へインク
を供給するものであり、例えばインク滴発生器グループ
の片側に配置され、それぞれインクを供給する。例えば
インク供給スロットの各々は、シアン、黄、及び、マゼ
ンタなどの異なる色のインクを供給する。
【0017】薄膜基礎構造11には駆動トランジスタ回
路アレイ81、82、83がさらに形成され、これらが
インク滴発生器グループ(61、62、63)にそれぞ
れ隣接して配置される。各駆動回路アレイ(81、8
2、83)には、対応する加熱抵抗器56に接続された
複数のFET駆動回路85が含まれる。各駆動回路アレ
イ(81、82、83)には接地バス(181、18
2、183)が結合され、隣接する駆動回路アレイ(8
1、82、83)内の全てのFET駆動回路85のソー
ス端子が接地バスと電気的に接続される。各接地バス
(181、182、183)は、プリントヘッド構造の
一端にある少なくとも1つのボンディングパッド74に
相互接続されると共に、プリントヘッド構造の他端にあ
る少なくとも1つのボンディングパッド74にも相互接
続される。
【0018】図5に概略を示すように、各FET駆動回
路85のドレイン端子は隣接する加熱抵抗器56の一端
に接続され、加熱抵抗器56の他端は導電性トレース8
6を介して適当なインク噴射基本選択信号PSを受信
し、導電性トレース86はプリントヘッド構造の一端で
接触パッド74に接続される。導電性トレース86は、
例えば、接地バス181、182、183が形成される
メタライゼーション層の上方に絶縁分離された金のメタ
ライゼーション層202(図6)を含む。導電性トレー
ス86は、接地バス181、182、183と同じメタ
ライゼーション層に形成された導電性バイア200及び
金属トレース57(図6)により、加熱抵抗器56と電
気的に接続される。また、特定の加熱抵抗器用の導電性
トレース86は、通常、その加熱抵抗器に最も近い端部
のボンディングパッド74に接続することができる。図
5に示す導電性バイア200は、金のメタライゼーショ
ン層202と金属トレース57との接点である。一実施
形態において、印刷コマンドは電気信号として、関連す
る加熱抵抗器56の駆動回路85へ送信される。この印
刷コマンドに応答して加熱抵抗器が駆動され、加熱され
た流体が噴射室から噴射される。
【0019】図4Aおよび図6Aは、本発明の第2の実
施形態を例示している。図4および図6に示す第1の実
施形態に比べると、駆動回路すなわちトランジスタ85
の幅が抵抗器56またはインク滴発生器61の方向へ拡
がっている。一実施形態では、トランジスタ85は金の
メタライゼーション層202と金属トレース57の間に
まで拡がる場合もある。
【0020】図6Aに示すように、トランジスタは加熱
抵抗器の方向へ移動させられ、導電性バイア200が少
なくとも部分的にトランジスタ領域上に重なる位置にな
るようにしている。図6に示す第1の実施形態と比べる
と、これら2つの実施形態間で導電性バイアと加熱抵抗
器との間の距離は実質的に変化していない。
【0021】一実施形態において、ポリシリコン・ゲー
ト91の幅を増加させる場合がある。特定の実施形態で
は、ゲート幅が増えると、図6の基板と比較してトラン
ジスタ85全体にわたって熱の発生が少なくなり、及び
/または、抵抗が小さくなる。
【0022】図6Aに示す実施形態の場合、導電性バイ
ア200の下方に拡がるトランジスタ85の接触部は存
在しない。トランジスタの拡大された領域には、導電性
バイア200の下方の第1の領域と、第2の領域とがあ
る。この実施形態の場合、接触部は第1の領域には延び
ていないが第2の領域には延びている。一実施形態にお
いて、第1の領域には接触させなくても高いトランジス
タ効率を実現することが可能である。
【0023】一実施形態において、加熱素子(すなわち
抵抗器)の駆動回路(すなわちトランジスタ)の少なく
とも一部は、加熱素子に近接して60μmの範囲内に配
置される。駆動回路85のエッジは、加熱素子すなわち
抵抗器56のエッジから1〜60μmの範囲内に配置さ
れる。特定の実施形態において、駆動回路は加熱素子か
ら約1〜30μmの範囲内に配置される。さらに特定の
実施形態において、駆動回路要素は加熱素子から約5μ
mの位置に配置される。
【0024】図4Aに示す一実施形態において、各々の
流体加熱抵抗器は基板に沿って千鳥状に配列されてい
る。この実施形態の場合、各抵抗器と対応するトランジ
スタとの間の距離「d」は、約1〜60μmの範囲内に
ある。他の実施形態において、抵抗器はほぼまっすぐな
行をなしている。
【0025】図4Bおよび図6Bは、本発明の第3の実
施形態を例示している。第3の実施形態は、本明細書に
説明のある場合を除き、第2の実施形態とほぼ同様であ
る。図4および図6に示す第1の実施形態と比較する
と、駆動回路すなわちトランジスタ85が抵抗器56ま
たはインク滴発生器61の方向へシフトされている。一
実施形態において、トランジスタ85の幅は拡大される
場合がある。インク滴発生器とトランジスタのエッジと
の間の距離は、上述の第2の実施形態の場合と同じであ
る。一実施形態では、ポリシリコン・ゲートが抵抗器の
方向へシフトされる場合がある。
【0026】図6Bに示すように、トランジスタは抵抗
器の方向へ移動され、導電性バイア200が少なくとも
部分的にトランジスタの領域上に位置するようになって
いる。図6に示す第1の実施形態と比較すると、導電性
バイアと抵抗器との間の距離は、各実施形態を通じて実
質的に同じままである。
【0027】図6Bの実施形態の場合、プリントヘッド
の基板すなわちダイ11の幅は、ダイのトランジスタ8
5が対応する抵抗器の方向へシフトされる距離とほぼ同
じ距離だけ縮小することが可能である。他の実施形態に
おいて、図1の駆動回路要素アレイ81、82、83の
トランジスタ85の各々を対応する抵抗器の方向へシフ
トすると、ダイの幅をかなり縮小することが可能にな
る。プリントヘッドのダイはプリントヘッドの比較的高
価な部品であるため、製造の際の材料の節約は大幅なコ
スト削減になる。
【0028】実施形態によっては、特定のインク滴発生
器グループ(61、62、63)内の加熱抵抗器56を
複数の基本グループに構成し、特定の基本グループのイ
ンク滴発生器を同一のインク噴射基本選択信号に対して
切り替え可能に並列に接続することも可能である。この
ような例は、例えば米国特許第5,604,519号、
第5,638,101号、及び、第3,568,171
号に開示されており、参考までに本明細書で援用する。
各々のFET駆動回路のソース端子は、隣接する関連接
地バス(181、182、183)と電気的に接続され
ている。
【0029】説明を簡単にするため、加熱抵抗器56及
び関連FET駆動回路85とボンディングパッド74と
を電気的に接続する導電性トレース86及び接地バスを
含む導電性トレースは、まとめて、電力トレースと呼
ぶ。また、説明を簡単にするため、導電性トレース86
は、High側または非接地電力トレースと呼ぶことも
できる。
【0030】一般に、各々のFET駆動回路85の寄生
抵抗(またはオン抵抗)は、電力トレースにより形成さ
れた寄生経路によって、様々なFET駆動回路85に対
して示される寄生抵抗の変動を補償するように構成さ
れ、加熱抵抗器へ供給されるエネルギの変動を低減させ
るようにしている。特に、これらの電力トレースはFE
T駆動回路に対して寄生抵抗を示す寄生経路を形成し、
この寄生抵抗が経路上の位置に応じて変化するため、各
々のFET駆動回路85の寄生抵抗を選択することによ
り、各々のFET駆動回路85の寄生抵抗と該FET駆
動回路に対して示される電力トレースの寄生抵抗との組
み合わせがインク滴発生器毎にわずかに異なるようにし
ている。従って、加熱抵抗器56が全てほぼ同じ抵抗値
である限り、各FET駆動回路85の寄生抵抗は、異な
るFET駆動回路85に対して示される関連電力トレー
スの寄生抵抗の変動を補償するように構成される。この
ようにして、電力トレースに接続されたボンディングパ
ッドに対してほぼ等しいエネルギを供給し、異なる加熱
抵抗器56に対してほぼ等しいエネルギを供給すること
ができるように拡張される。
【0031】図6および図7をさらに詳しく参照する
と、FET駆動回路85の各々には、シリコン基板11
1に形成されたドレイン領域フィンガ89の上に配置さ
れた複数の電気的に相互接続されたドレイン電極フィン
ガ87と、シリコン基板111に形成されたソース領域
フィンガ99の上に配置され、ドレイン電極87と相互
に噛み合わされた、即ちドレイン電極87と交互配置さ
れた複数の電気的に相互接続されたソース電極フィンガ
97とが含まれる。シリコン基板111に形成された薄
いゲート酸化物層93の上には、それぞれの端部が相互
接続されたポリシリコン・ゲート・フィンガ91が配置
される。ホスホシリケート・ガラス層95によって、ド
レイン電極87及びソース電極97をシリコン基板11
1から分離している。複数の導電性ドレイン接触部88
がドレイン電極87とドレイン領域89とを電気的に接
続し、一方、複数の導電性ソース接触部98がソース電
極97とソース領域99とを電気的に接続している。例
えば、ドレイン電極87、ドレイン領域89、ソース電
極97、ソース領域99、及び、ポリシリコン・ゲート
・フィンガ91は、基準方向Lおよび接地バス181、
182、183の長手方向の対してほぼ直交する方向、
即ち交差する方向に延びている。また、図6に示すよう
に、各FET回路85について、基準方向Lと交差する
方向のドレイン領域89およびソース領域99の範囲
は、基準方向Lと交差する方向のゲート・フィンガーの
範囲と同じであり、これによって基準方向Lと交差する
方向の活性領域の範囲が決まる。説明を簡単にするた
め、ドレイン電極フィンガ87、ドレイン領域フィンガ
89、ソース電極フィンガ97、ソース領域フィンガ9
9、及び、ポリシリコン・ゲート・フィンガ91の範囲
は、これらの構成要素がストリップやフィンガのように
長細い限り、これらの構成要素の長手方向の範囲と呼ぶ
ことができる。
【0032】例えば、各々のFET回路85のオン抵抗
は、ドレイン領域フィンガ89のうちの電気的接触部8
8の無い連続的非接触部分の長手方向の範囲すなわち長
さを調節することにより個別に設定される。例えば、ド
レイン領域フィンガのこの連続的非接触部分は、加熱抵
抗器56から最も遠いドレイン領域87の端部から始め
ることが可能である。特定のFET回路85のオン抵抗
はドレイン領域フィンガの連続的非接触部分の長さが増
すにつれて増大し、この長さを選択することにより特定
のFET回路のオン抵抗が決まる。
【0033】他の例として、各FET85のオン抵抗
は、FET回路のサイズを選択することによって構成す
ることもできる。例えば、基準方向Lと交差する方向の
FET回路の範囲を選択することによってオン抵抗を決
めることもできる。
【0034】一実施例として、特定のFET回路85用
の電力トレースがプリントヘッド構造の長手方向に離れ
た端部にある最も近いボンディングパッド74まで適度
に直線的な経路で接続される場合、寄生抵抗はプリント
ヘッドの最も近い端部からの距離が増すにつれて増大
し、FET駆動回路85のオン抵抗はこのような最も近
い端部からの距離が増すにつれて減少する(FET回路
の効率は良くなる)ので、電力トレースの寄生抵抗の増
大は相殺される。特定の例として、連続的に接触の無い
ドレイン・フィンガー部分が加熱抵抗器86から最も遠
いドレイン領域フィンガの端部から始まる場合、そのよ
うな部分の長さは、プリントヘッド構造の長手方向に離
れた端部のうちの最も近い端部からの距離に応じて短く
なる。
【0035】各接地バス(181、182、183)は
FET回路85のドレイン電極87及びソース電極97
と同じ薄膜導電層から形成され、ソース領域99、ドレ
イン領域89およびポリシリコン・ゲート91からなる
各FET回路の活性領域が都合良く関連接地バス(18
1、182、183)の下方に延びている。これによっ
て、接地バス及びFET回路アレイが占める領域を狭く
することができ、薄膜基礎構造を薄くし、コストを削減
することができる。
【0036】また、ドレイン領域フィンガの連続的非接
触部分が加熱抵抗器56から最も遠いドレイン領域フィ
ンガの端部から始まる実施例の場合、ドレイン電極をド
レイン領域フィンガの連続的非接触部分の上にまで延ば
す必要がないので、ドレイン領域フィンガの連続的非接
触部分の長さを増やすのに応じて、基準方向Lに対して
交差する方向すなわち横方向についての関連する加熱抵
抗器56の方向の各接地バス(181、182、18
3)の範囲を拡大することができる。換言すれば、接地
バス(181、182、183)の幅Wは、連続的非接
触ドレイン領域部分の長さに応じて接地バスがFET駆
動回路85の活性領域上に重なる量を増加させることに
より、拡大することが可能である。これは、接地バスと
FET駆動回路85の活性領域とが重なる量を増すこと
により拡大されるので、接地バス(181、182、1
83)及びその関連FET駆動回路アレイ(81、8
2、83)が占める領域の幅を増すことなく実現可能で
ある。有効なことに、いずれの特定のFET回路85に
ついても、接地バスは概ねドレイン領域の非接触部分の
長さだけ、基準方向Lと交差する方向に活性領域と重ね
ることができる。
【0037】連続的非接触ドレイン領域部分が加熱抵抗
器56から最も遠いドレイン領域フィンガの端部から始
まる場合、及び、連続的非接触ドレイン領域部分の長さ
がプリントヘッド構造の最も近い端部からの距離が増す
につれて短くなる特定の例の場合、連続的非接触ドレイ
ン領域部分の長さのばらつきに応じて接地バス(18
1、182、183)の幅を調節または変更することに
より、図8に示すように、プリントヘッド構造の最も近
い端部に近づくにつれて幅Wの増す接地バスが得られ
る。こうした形状によれば、好都合なことに、ボンディ
ングパッド74に近づくにつれて共用電流の量が増大す
るので、ボンディングパッド74に近づくにつれて接地
バスの抵抗が小さくなる。
【0038】上記は、3つのインク供給スロットを備
え、インク供給スロットの片側だけにインク滴発生器が
配置されたプリントヘッドを対象にしたものであるが、
当然明らかなように、開示のFET駆動回路アレイ及び
接地バス構造は、さまざまなスロット供給、エッジ供給
により実施することができ、スロット供給とエッジ供給
との組み合わせ構成によっても実施することができる。
また、インク滴発生器は、インク供給スロットの片側に
も両側にも配置することが可能である。
【0039】次に図9を参照すると、上述のプリントヘ
ッドを用いることが可能なインクジェット印刷装置11
0の一例に関する略透視図が示されている。図9のイン
クジェット印刷装置110には通常、成形プラスチック
材料によるハウジングすなわちエンクロージャ124に
よって包囲されたシャーシ122が含まれる。シャーシ
122は、例えば板金から形成され、垂直パネル122
aを含む。印刷媒体のシートは適応型印刷媒体取り扱い
システム126により個別に印刷領域125へ通され、
該印刷媒体取り扱いシステム126には印刷前の印刷媒
体を格納するための供給トレイ128が含まれる。印刷
媒体としては、紙、カード紙、透明紙、マイラー(R)紙
等、任意の種類の適当な印刷可能なシート材料を用いる
ことが可能であるが、便宜上、例示の実施形態は印刷媒
体として紙を使用するものとして説明する。ステッパモ
ータによって駆動される駆動ローラ129を含む一連の
モータ駆動のローラを用いて、供給トレイ128から印
刷領域125へ印刷媒体を移動させることができる。印
刷後、駆動ローラ129は、印刷されたシートを格納式
出力物乾燥用翼状部材130の上に出力する。この翼状
部材は、新たに印刷されたシートを出力トレイ132の
まだ乾燥していない印刷済みシートの上方に短時間だけ
保持し、その後曲線矢印133に示すように旋回して両
側へ引っ込み、新たに印刷されたシートを出力トレイ1
32の中へ落とす。印刷媒体取り扱いシステムには、レ
ターサイズ、リーガルサイズ、A4サイズ、封筒サイズ
などの様々な大きさの印刷媒体を収容するための一連の
調節機構が含まれる場合があり、例えば、スライド式長
さ調節アーム134及び封筒供給スロット135などが
含まれる場合がある。
【0040】図9のプリンタは、図示的にはマイクロプ
ロセッサとして例示しているプリンタコントローラ13
6をさらに含み、プリンタコントローラ136はシャー
シの垂直パネル122aの背面に支持されたプリント回
路基板139上に設けられる。プリンタ・コントローラ
136は、パーソナルコンピュータ(図示せず)などの
ホスト装置から命令を受信し、印刷領域125を通る印
刷媒体の送り、プリントキャリッジ140の移動、及
び、インク滴発生器40への信号の供給などを含むプリ
ンタの動作を制御する。
【0041】キャリッジ走査方向と平行な長手方向をも
つプリントカートリッジ摺動ロッド138は、シャーシ
122に支持され、プリントキャリッジ140の横方向
の往復運動すなわちキャリッジ走査方向の走査を支える
プリントキャリッジ140は、第1および第2の着脱可
能なインクジェットプリントヘッド・カートリッジ15
0、152(いずれも「ペン」、「プリントカートリッ
ジ」または「カートリッジ」と呼ぶ場合がある)を支持
している。プリントカートリッジ150、152はプリ
ントヘッド154、156をそれぞれ備え、各々のプリ
ントヘッドは印刷領域125にある印刷媒体の一部へ向
けて概ね下方へインクを噴射するためのほぼ下向きのノ
ズルを有する。詳しくは、プリントカートリッジ15
0、152は、クランプレバー、ラッチ部材または蓋1
70、172を含むラッチ機構によりプリントキャリッ
ジ140に固定されている。
【0042】適当なプリントキャリッジの一例が、Ha
rmon他により1996年11月26日付けで出願さ
れた米国特許出願第08/757,009号に開示され
ている。
【0043】参考のため、印刷媒体は、カートリッジ1
50、152の下方にある印刷媒体のカートリッジのノ
ズルが横断する部分の接線に対して平行な媒体方向に、
印刷領域125を通して送られる。媒体進行方向とキャ
リッジ走査方向とが同一平面上に位置する場合、図9に
示すように、これらは互いに垂直になる。
【0044】プリントキャリッジの背面にある回転防止
機構は、例えば、シャーシ122の垂直パネル122a
と一体成形されて水平方向に配置された回転防止バー1
85と係合し、摺動ロッド138を中心とするプリント
キャリッジ140の前方への旋回を防止する。
【0045】例えば、プリントカートリッジ150をモ
ノクロ印刷カートリッジとし、プリントカートリッジ1
52を本明細書の教示によるプリントヘッドを用いた3
色印刷カートリッジとすることもできる。
【0046】プリントキャリッジ140はエンドレスベ
ルト158により摺動ロッド138に沿って移動され、
線形エンコーダストリップ159を利用してキャリッジ
走査方向のプリントキャリッジ140の位置が検出され
る。
【0047】上記は、本発明の特定の実施形態について
説明および例示しているが、当業者であれば、付記した
特許請求の範囲によって規定される本発明の範囲及び思
想を外れることなく、さまざまな修正及び変更を加える
ことができる。
【0048】
【発明の効果】本発明は、上記のように構成することに
より、プリントヘッド基板に占める駆動トランジスタの
面積を小さくすることにより基板の面積を削減し、コス
トを削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態を用いたインクジェットプリ
ントヘッドのレイアウト示す一定の比率でない略平面図
である。
【図2】図1のインクジェットプリントヘッドの部分切
り取り略透視図である。
【図3】図1のインクジェットプリントヘッドの一定の
比率でない略部分平面図である。
【図4】図1のプリントヘッドの一部(符号4の部分)
を示す部分平面図であり、FET駆動回路アレイ及び関
連接地バスのレイアウトに関する第1の実施形態の概要
を例示している。
【図4A】図1のプリントヘッドの一部(符号4の部
分)を示す部分平面図であり、FET駆動回路アレイ及
び関連接地バスのレイアウトに関する第2の実施形態の
概要を例示している。
【図4B】図1のプリントヘッドの一部(符号4の部
分)を示す部分平面図であり、FET駆動回路アレイ及
び関連接地バスのレイアウトに関する第3の実施形態の
概要を例示している。
【図5】図1のプリントヘッドの加熱抵抗器及びFET
駆動回路の電気的接続を示す略電気回路図である。
【図6】図1のプリントヘッドの第1の実施形態の典型
的なFET駆動回路及び関連接地バスに関する平面図で
ある。
【図6A】図1のプリントヘッドの第2の実施形態の典
型的なFET駆動回路及び関連接地バスに関する平面図
である。
【図6B】図1のプリントヘッドの第3の実施形態の典
型的なFET駆動回路及び関連接地バスに関する平面図
である。
【図7】図1のプリントヘッドの典型的なFET駆動回
路の断面立面図である。
【図8】図1のプリントヘッドのFET駆動回路アレイ
及び関連接地バスの実施例を示す平面図である。
【図9】本発明のプリントヘッドの一実施形態を用いる
ことが可能なプリンタの一定の比率でない略透視図であ
る。
【符号の説明】
11 流体噴射装置 19 噴射室 40 流体噴射装置 56 加熱素子 85 駆動回路要素 150 流体噴射カートリッジ 152 流体噴射カートリッジ 154 基板 156 基板 200 導電性バイア
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成14年10月11日(2002.10.
11)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョセフ・エム・トーゲルソン アメリカ合衆国オレゴン州97370,フィロ マス,ヒデン・バレイ・ロード・24901 Fターム(参考) 2C057 AF34 AG15 AG46 AG80 AG85 AK07 AQ02 AR14 AR17 BA04 BA13

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】加熱素子(56)用の駆動回路(85)を含む流体
    噴射装置(11,40)であって、該駆動回路のうちの少なく
    とも一部が前記加熱素子に近接して60μmの範囲内に
    配置された流体噴射装置(11,40)。
  2. 【請求項2】第1の面を有する基板をさらに含み、 前記駆動回路および前記加熱素子が前記基板の第1の面
    上に配置され、 前記基板が、前記加熱素子と電気接続され且つ前記駆動
    回路の領域上に少なくとも部分的に配置された導電性バ
    イア(200)をさらに有する、請求項1の流体噴射装置。
  3. 【請求項3】加熱した流体を噴射するための噴射室(19)
    と、前記噴射室内の流体を加熱するための抵抗器(56)
    と、前記加熱素子と電気接続されたトランジスタ(85)と
    からなるプリントヘッド(11)であって、 前記トランジスタが前記抵抗器に近接して60μmの範
    囲内に配置される、プリントヘッド。
  4. 【請求項4】前記トランジスタが前記抵抗器から約1〜
    30μmの範囲内に配置される、請求項3のプリントヘ
    ッド。
  5. 【請求項5】前記トランジスタが前記抵抗器から約5μ
    mの位置に配置される、請求項3のプリントヘッド。
  6. 【請求項6】第1の面を有する基板をさらに含み、 前記トランジスタおよび前記加熱素子が前記基板の第1
    の面上に配置され、 前記基板が、前記抵抗器と電気接続されかつ前記トラン
    ジスタの領域上に少なくとも部分的に配置された導電性
    バイア(200)をさらに有する、請求項3のプリントヘッ
    ド。
  7. 【請求項7】交換可能なプリンタ構成要素であって、 第1の面を有する基板と、 加熱された流体を噴射するための前記第1の面上の噴射
    室と、 前記噴射室内の流体を加熱するための加熱素子と、 前記第1の面上の領域における前記加熱素子用の駆動回
    路と、 前記加熱素子と電気接続されかつ前記駆動回路の領域上
    に少なくとも部分的に配置された導電性バイアと、 からなるプリンタ構成要素。
  8. 【請求項8】前記駆動回路が前記加熱素子から60μm
    の範囲内に配置される、請求項7のプリンタ構成要素。
  9. 【請求項9】流体噴射カートリッジ(150,152)であっ
    て、 流体リザーバと、 複数の流体噴射室を有する基盤(154,156)であって、該
    流体噴射室の各々が流体加熱抵抗器を有し、該流体加熱
    抵抗器が前記基板の上面に沿って配置され、少なくとも
    1つの前記流体噴射室が前記流体加熱抵抗器用の各々の
    駆動回路から60μmの範囲内に配置される、基板と、 前記流体リザーバと前記流体噴射室とを連通させる流体
    通路と、 からなる流体噴射カートリッジ。
  10. 【請求項10】流体噴射装置(11,40)を製造する方法で
    あって、 基板の第1の面上の噴射室内に加熱素子を形成するステ
    ップと、 前記第1の面上の領域に前記加熱素子用の駆動回路(85)
    を配置するステップと、 導電性バイア(200)を前記加熱素子と電気接続するステ
    ップと、 前記導電性バイア(200)を少なくとも部分的に前記駆動
    回路の領域上に配置するステップと、 からなる方法。
  11. 【請求項11】前記駆動回路が個々の前記加熱抵抗器か
    ら約1〜30μmの範囲内に配置される、請求項1また
    は9の駆動回路。
  12. 【請求項12】前記駆動回路が前記加熱抵抗器から約5
    μmの位置に配置される、請求項11の駆動回路。
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