JP2003152050A - 平面体の搬送機構および薄膜形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 シートフィルムや基板などの平面体に対して
ダメージを与えることなく吸着保持しながら該平面体を
良好に搬送することができる搬送機構、ならびに該搬送
機構を備えた薄膜形成装置を提供する。 【解決手段】 ハンド本体２２の下面側には、シートフ
ィルムＦの周縁部を臨むようにリング溝２３が形成さ
れ、さらに該リング溝２３に多孔質材料で形成された多
孔質部材２４が圧入されている。また、このハンド本体
２２の上面部には、排気ポート２６が取り付けられてお
り、この排気ポート２６を介してリング溝２３の内部空
間と排気ブロア２７とが相互に連通されている。このた
め、排気ブロア２７が作動すると、リング溝２４内を排
気する。その結果、多孔質部材２４と当接するシートフ
ィルムＦの周縁部２５が、多孔質部材２４を介して周縁
部２５に負圧がかかり、吸着ハンド２１によりシートフ
ィルムＦが吸着保持される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、シートフィルムや
基板などの平面体を吸着保持しながら平面体を搬送する
搬送機構、ならびに該搬送機構を設けた薄膜形成装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より半導体装置や液晶表示装置など
の電子部品を製造する製造工程においては、半導体ウエ
ハやガラス基板などの基板を搬送するために基板を真空
吸着しながら該基板を搬送する搬送機構が採用されてい
る。その従来の搬送機構では、基板を保持するための吸
着ハンドが設けられている。この吸着ハンドの一端側に
は吸着エア取入部が設けられる一方、他端側に複数個の
吸着孔が設けられており、この吸着エア取入部と吸着孔
との間、および吸着孔の相互間が、エア通路用の溝部に
よって相互に連通されている。

【０００３】そして、基板に収容されたカセットから所
定の処理ユニットに基板を搬送する場合、上記吸着ハン
ドをカセットに差し込んで、基板を吸着孔で吸着保持し
てカセットから取り出し、さらに吸着保持したまま該基
板を処理ユニットの手前まで搬送した後、吸着ハンドを
処理ユニット内に差し込んで処理ユニットの基板保持部
に受け渡す。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の搬送
機構では吸着孔を介して基板を吸着保持しているため、
基板の表面領域のうち吸着孔と対向する吸着領域に対し
ては集中的に大きな負圧がかかり、すでに基板に形成さ
れている配線や素子などに欠陥が発生するおそれがあっ
た。特に、近年においては基板上に形成される配線や素
子などの微細化および高集積化が進行しており、負圧集
中による問題がより重大なものとなってきている。

【０００５】また、近年、半導体装置などの製造に用い
る基板の大口径化、大面積化、多層配線化に伴い、基板
に絶縁膜などの薄膜を形成する薄膜形成装置において、
以下のような問題も顕著なものとなってきている。すな
わち、基板の大口径化、大面積化、多層配線化に適合し
た薄膜形成方法として、加圧転写方法によって基板に薄
膜を形成する薄膜形成装置が提案されているが、この薄
膜形成装置において自動化を図る上でシートフィルムの
搬送に好適な搬送機構の提供が重要となっている。

【０００６】この薄膜形成技術とは、処理容器の内部に
形成される薄膜形成室内において、加熱ヒータを内蔵す
る基板用プレートが設けられており、薄膜形成対象とな
る基板を保持可能となっている。また、薄膜形成室内に
は、基板用プレートの下方にフィルム用プレートが基板
用プレートと対向しながら配置されており、シートフィ
ルムに形成される薄膜を基板用プレート上の基板に対向
させながら、該シートフィルムを保持している。

【０００７】また、この薄膜形成室には真空ポンプが連
通されており、基板を基板用プレートによって保持する
とともに、シートフィルムをフィルム用プレートに保持
し、さらに薄膜形成室を密閉する。その後、真空ポンプ
によって薄膜形成室内を排気減圧しながら、基板を保持
する基板用プレートと、シートフィルムを保持するフィ
ルム用プレートとを相互に近接移動させることによっ
て、基板とシートフィルムとを相互に押し付けてシート
フィルム上の薄膜を基板に転写する。

【０００８】このように構成された従来の薄膜形成装置
では、転写処理の前にシートフィルムを薄膜形成室に搬
入してフィルム用プレートに載置する一方、転写処理後
においては薄膜転写後のシートフィルムを処理容器から
搬出する必要があるが、かかるシートフィルムの搬送を
オペレータの手作業で行っていた。というのも、シート
フィルムは薄くて柔らかく弾性変形しやすいため、例え
ば上記のように構成された搬送機構をそのまま採用した
のでは、吸着孔に集中的にかかる負圧によってシートフ
ィルムのうち吸着孔に対向する領域が吸着孔に引き込ま
れてシートフィルムが変形してしまうからである。その
ため、オペレータの手作業による搬送が必要となり、こ
のことがスループット低下の主要因の一つとなってお
り、効率的なシートフィルムの吸着ハンドリング（保持
・搬送）技術が強く要望されていた。

【０００９】また、シートフィルムの搬送に人手が介在
すると、シートフィルムにパーティクルが付着したり、
シートフィルムの熱が放熱されて熱履歴を管理し難くな
るという問題が生じて薄膜品質の低下、さらには製品歩
留りの低下を招いてしまう。さらに、装置を設置するの
に広い床面積が必要になるという問題点もある。これら
の問題を解消するためには、シートフィルム搬送の自動
化が不可欠であるが、従来、この自動化に適した搬送機
構は存在していなかった。

【００１０】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、シートフィルムや基板などの平面体に対してダメー
ジを与えることなく吸着保持しながら該平面体を良好に
搬送することができる搬送機構、ならびに該搬送機構を
備えた薄膜形成装置を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明にかかる搬送機構
は、平面体の一方主面の一部または全部を吸着領域と
し、その吸着領域を吸着保持しながら、前記平面体を搬
送するものであって、上記目的を達成するため、多孔質
材料で形成された多孔質部材を前記吸着領域に当接可能
となっている吸着ハンドと、前記多孔質部材を介して前
記吸着領域に負圧を与える負圧手段とを備えている（請
求項１）。

【００１２】このように構成された搬送機構では、多孔
質部材が吸着領域に当接した状態で負圧手段が作動する
と、多孔質部材を介して平面体の吸着領域に負圧がかか
り、吸着ハンドにより平面体が吸着保持される。このた
め、負圧手段により平面体に作用する負圧が吸着領域の
全面にほぼ均等にかかることとなり、シートフィルムや
基板などの平面体に対してダメージを与えることなく平
面体が吸着ハンドに吸着保持される。そして、このよう
な吸着保持状態で平面体が搬送されることとなる。

【００１３】また、本発明にかかる薄膜形成装置は、シ
ートフィルムの表面に形成された薄膜を基板の表面に転
写して前記基板に薄膜を形成するものであって、上記目
的を達成するため、前記シートフィルムの表面に形成さ
れた前記薄膜を前記基板に密着させて前記薄膜を介して
前記基板と前記シートフィルムとが一体化された密着物
を得る密着機構と、前記密着物から前記シートフィルム
を選択的に剥離する剥離機構と、前記密着機構に前記シ
ートフィルムおよび前記基板を搬送する搬送機構とを備
えている。そして、前記搬送機構は、多孔質材料で形成
されたフィルム用多孔質部材を介して前記シートフィル
ムに負圧を与えて吸着保持しながら、前記シートフィル
ムを前記密着機構に搬送するように、構成されている
（請求項２）。

【００１４】このように構成された発明では、密着機構
にシートフィルムを搬送するために、多孔質材料で形成
されたフィルム用多孔質部材を用いてシートフィルムを
吸着保持している。すなわち、多孔質部材を介してシー
トフィルムに負圧がかかり、シートフィルムが吸着保持
される。このため、シートフィルムに作用する負圧は、
フィルム用多孔質部材とシートフィルムとが相互に当接
する領域全面にほぼ均等にかかることとなり、従来技術
の問題、つまり吸着孔へのシートフィルムの引き込みに
よりシートフィルムが変形するという問題を発生させる
ことなく、シートフィルムを良好に吸着保持しながら搬
送することが可能となる。

【００１５】また、基板についても、多孔質材料で形成
された基板用多孔質部材を介して前記基板に負圧を与え
て吸着保持しながら、前記基板を前記密着機構に搬送す
るようにしてもよく、これによって基板へのダメージを
抑えることができる（請求項３）。

【００１６】さらに、薄膜形成装置が、シートフィルム
の表面に薄膜材料を塗布して該シートフィルムの表面に
薄膜を形成する塗布機構をさらに備えている場合には、
上記したフィルム用多孔質部材により薄膜形成前のシー
トフィルムを吸着保持しながら塗布機構に対するシート
フィルム搬送を行うようにしてもよい（請求項４）。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１は、本発明にかかる薄膜形成
装置の一実施形態の概略構成を示すブロック図であり、
薄膜形成装置を構成する装置各部のレイアウトを示して
いる。この薄膜形成装置は、同図に示すように、上手側
（同図の左側）にインデクサ部１が設けられている。

【００１８】このインデクサ部１の上手側には、薄膜形
成処理終了後の基板Ｗを回収する基板回収カセット３
と、未処理の基板Ｗを供給する基板供給カセット４と、
未使用のシートフィルムＦを供給するフィルム供給カセ
ット５と、薄膜形成処理終了後のシートフィルムＦを回
収するフィルム回収カセット６とが配設されている。ま
た、インデクサ部１の下手側には、各カセット３〜６に
基板ＷやシートフィルムＦを出し入れするためのインデ
クサ用搬送部７が設置されている。

【００１９】このインデクサ用搬送部７には、基板Ｗま
たはシートフィルムＦを仮置きする仮置き台８と、本発
明の搬送機構に相当するインデクサ用搬送ロボット９と
が備えられている。インデクサ用搬送ロボット９は、図
１中に矢印ＲＡで示した搬送経路を移動可能であるとと
もに、ロボット９のハンドリング用のアームはスライド
自在で、かつ昇降および旋回可能に構成されている。

【００２０】一方、ユニット部２には、後述する各処理
ユニットに基板ＷやシートフィルムＦを搬送するための
ユニット用搬送部１０が設置されている。このユニット
用搬送部１０には、本発明の搬送機構に相当するユニッ
ト用搬送ロボット１１が設けられており、同図中に矢印
ＲＤで示した搬送経路を移動する。そして、このユニッ
ト用搬送ロボット１１の搬送経路の両側に複数種類のユ
ニット１２〜１５が配設されている。より詳しくは、ユ
ニット部２には、シートフィルムＦに塗布液を塗布して
シートフィルムＦ上に薄膜を形成する塗布ユニット１２
と、後述する密着ユニット１５において形成される密着
物からシートフィルムＦだけを選択的に剥離する剥離ユ
ニット１３と、その表面に塗布液の薄膜が形成されたシ
ートフィルムＦに対して熱処理を行って薄膜中の溶媒を
揮発させる２つの乾燥ユニット１４（１４ａ，１４ｂ）
と、薄膜が形成されたシートフィルムＦと基板Ｗとを相
互に密着させて密着物を形成する密着ユニット１５
（１５ａ，１５ｂ）とが備えられている。

【００２１】次に、インデクサ用搬送ロボット９と、ユ
ニット用搬送ロボット１１との構成および動作につい
て、図２と図３とを参照しながら説明する。なお、図２
および図３中の基板ＷとシートフィルムＦとの厚みにつ
いては、インデクサ用搬送ロボット９とユニット用搬送
ロボット１１との説明の都合上、厚めに表示している。
また同様に、図４以降の基板ＷとシートフィルムＦとの
厚みについても，各図の都合上、厚みは変わっている
が、実際の厚みはそれぞれ同じとする。

【００２２】インデクサ用搬送ロボット９およびユニッ
ト用搬送ロボット１１はともに同一構成を有しており、
以下のように構成されている。搬送ロボット９，１１
は、図２（ａ）の側面図に示すように、支持台１６と、
支柱１７と、アーム支持部１８とを備えている。

【００２３】支持台１６は、図２（ａ）および（ｂ）に
示すように、搬送経路ＲＡ、 ＲＤの方向に移動可能で
ある。支柱１７は、その軸心周り、即ち、図２中の矢印
ＲＥの方向に回転可能である。また、支柱１７は、上下
方向、即ち、図２中の矢印ＲＦの方向に移動可能であ
る。基板保持アーム１９はアーム支持部１８の表面に対
して、フィルム保持アーム２０はアーム支持部１８の裏
面に対して、図２中の矢印ＲＧの方向にそれぞれスライ
ド移動可能である。基板保持アーム１９は、水平軸心周
り、即ち、図２中の矢印ＲＨの方向に回転可能であると
ともに、縦軸心周り、即ち図２中の矢印ＲＩの方向に旋
回可能である。

【００２４】アーム支持部１８には、図２（ａ）の側面
図および図２（ｂ）の平面図に示すように、基板Ｗを保
持する基板保持アーム１９と、シートフィルムＦを保持
する馬蹄形のフィルム保持アーム２０とが配設されてい
る。これらのアームのうち基板保持アーム１９には、基
板Ｗを吸着して保持する複数個の吸着部１９ａが備えら
れている。一方、フィルム保持アーム２０には、シート
フィルムＦを吸着保持する吸着ハンド２１が取り付けら
れている。

【００２５】例えば基板Ｗを保持するときには、図２
(a)に示すように、薄膜を形成すべき薄膜形成面を上に
向けた状態、いわゆるフェイスアップの状態にして、基
板保持アーム１９の先端部表面に基板Ｗを吸着する。基
板保持アーム１９を矢印ＲＨの方向に回転させることに
よって、いわゆるフェイスダウンの状態にして、基板Ｗ
を保持することもできる。シートフィルムＦを保持する
ときには、図２（ａ）に示すように、フィルム保持アー
ム２０の吸着ハンド２１によって、シートフィルムＦを
フェイスアップ状態にして、シートフィルムＦの周縁部
を吸着する。

【００２６】ユニット用搬送ロボット１１が、薄膜を介
して基板ＷとシートフィルムＦとを密着してなる密着物
Ｃを保持する場合について説明する。後で詳述するよう
に基板ＷとシートフィルムＦとが密着されたときには、
基板Ｗの薄膜形成面とシートフィルムＦの表面が、図３
（ａ）の側面図に示すように、重なり合う。密着処理時
には、後で詳述するように、シートフィルムＦはフェイ
スアップ状態、基板Ｗはフェイスダウン状態になる。一
方、基板保持アーム１９を図２中の矢印ＲＨの方向に１
８０°回転させ、図２中の矢印ＲＩの方向に１８０°旋
回させることで、図３（ａ）の側面図または図３（ｂ）
の平面図に示すように、フィルム保持アーム２０の上に
基板保持アーム１９が移動してくる。このような状態
で、密着物Ｃを保持する。即ち、基板Ｗは、基板保持ア
ーム１９によって保持され、シートフィルムＦは、フィ
ルム保持アーム２０によって保持される形態となる。

【００２７】図４は吸着ハンドの外観構成を示す斜視図
である。また、図５は吸着ハンドの部分断面図であり、
同図（ａ）は吸着ハンドの排気ポート部分Ａでの断面図
である一方、同図（ｂ）は排気ポート以外の部分Ｂでの
断面図である。この吸着ハンド２１は、リング状のハン
ド本体２２を備えている。このハンド本体２２の下面側
には、シートフィルムＦの周縁部２５を臨むようにリン
グ溝２３が形成され、さらに該リング溝２３に発泡樹脂
（例えば、トリフルオロエチレンなどのフッ素樹脂から
なる発泡フッ素樹脂）、焼結部材、発泡セラミックスな
どの多孔質材料で形成された多孔質部材２４が圧入され
ている。

【００２８】また、リング溝２３内の底部（図５
（ａ）、（ｂ）ではリング溝２３の上壁）には、リング
溝２３の２つの側壁に沿ってそれぞれ固定溝２３ａが形
成されている。固定溝２３ａはリング溝２３に沿って、
ハンド本体２２の全周にわたって形成されている。そし
て、固定溝２３ａには弾性部材２８が嵌め込まれてい
る。

【００２９】弾性部材２８は、多孔質部材２４に比べて
弾性を有する材料で構成され、断面が略円形のリング状
部材である。弾性部材２８を構成する材料としてはエチ
レンプロピレンゴム、パーフロロエラストマ、フッ素ゴ
ムが挙げられる。また、弾性部材２８は固定溝２３ａか
ら突出するような断面寸法を有する。弾性部材２８が固
定溝２３ａから突出する寸法は多孔質部材２４がシート
フィルムＦに押し付けられ、多孔質部材２４が図中上方
に移動した場合でも、多孔質部材２４とハンド本体２２
との間に隙間が残るような寸法である。

【００３０】多孔質部材２４は上面２４ａが前記弾性部
材２８に接触した状態で配置される。また、該多孔質部
材２４の下面（吸着面２４ｂ）はハンド本体２２の下面
２２ａから突出している。吸着面２４ｂが前記下面２２
ａに対して突出する寸法は０．１ｍｍ〜１ｍｍ程度が好
ましい。特に、多孔質部材２４がシートフィルムＦに押
し付けられたとき、前記多孔質部材２４が弾性部材２８
の弾発力に抗してリング溝２３内に移動するが、このと
き前記吸着面２４ｂが前記下面２２ａと同一平面になる
ような寸法にすることが好ましい。このような構成で、
フィルム保持アーム２０がシートフィルムＦ側に降下移
動して吸着ハンド２１がシートフィルムＦの表面まで移
動すると、多孔質部材２４がシートフィルムＦの周縁部
２５に当接する。

【００３１】さらに、多孔質部材２４がシートフィルム
Ｆに押し付けられると、多孔質部材２４によって弾性部
材２８が押されて弾性部材２８が変形するとともに多孔
質部材２４リング溝２３内に退行する。これにより、シ
ートフィルムＦ表面と多孔質部材２４下面との並行度が
少々悪くても、良好に多孔質部材２４がシートフィルム
Ｆ表面に密着することができる。

【００３２】また、ハンド本体２２の上面部には、排気
ポート２６が取り付けられており、この排気ポート２６
を介してリング溝２３の内部空間と排気ブロア２７とが
相互に連通されている。この排気ブロア２７は本発明の
「負圧手段」として機能するものであり、装置全体を制
御する制御部（図示省略）からの制御指令に応じて作動
することで、リング溝２４内を排気する。なお、多孔質
部材２４がシートフィルムＦに押し付けられたとき、多
孔質部材２４が弾性部材２８側に移動しても多孔質部材
２４とハンド本体２２との間に隙間が残るように弾性部
材２８を構成したので前記隙間を通して多孔質部材２４
の上面２４ａすべてに排気が行き渡る。その結果、吸着
面２４ｂ全面において均等に負圧が生じる。

【００３３】こうして排気動作を実行することで、多孔
質部材２４がシートフィルムＦと当接する領域、つまり
シートフィルムＦの周縁部２５が、多孔質部材２４を介
して周縁部２５に負圧がかかり、吸着ハンド２１により
シートフィルムＦが吸着保持される。このように、この
実施形態では、シートフィルムＦの周縁部２５を吸着領
域として吸着保持するが、シートフィルムＦに作用する
負圧が周縁部２５の全面にほぼ均等にかかることとな
り、吸着孔を用いてシートフィルムＦを吸着保持する従
来技術において発生していた問題を解消することができ
る、つまりシートフィルムＦに対してダメージを与える
ことなくシートフィルムＦを吸着保持することができ
る。

【００３４】次に、上記のように構成された薄膜形成装
置の動作について、１枚の基板Ｗに薄膜を形成する手順
に絞って、図６および図７を参照しつつ説明する。

【００３５】図６は図１の薄膜形成装置の基本動作を示
す図であり、同図中の実線矢印は基板Ｗの搬送順序を示
し、１点鎖線矢印はシートフィルムＦの搬送順序を示
し、白抜矢印は密着物の搬送を示している。また、図７
は図６の基本動作を示す模式図である。この薄膜形成装
置では、その表面に電極配線３１が形成された基板Ｗが
基板供給カセット４に収容される一方、薄膜形成前の未
使用シートフィルムＦがフィルム供給カセット５に収容
されている。

【００３６】この薄膜形成装置では、まずインデクサ用
搬送ロボット９は、フィルム保持アーム２０をフィルム
供給カセット５に進入させて、シートフィルムＦを吸着
保持した後、該シートフィルムＦを吸着保持したままフ
ィルム保持アーム２０をフィルム供給カセット５から後
退させる。こうすることで、シートフィルムＦをフィル
ム供給カセット５から取り出す。

【００３７】また、インデクサ用搬送ロボット９はシー
トフィルムＦを仮置き台８まで搬送して、仮置き台８に
仮置きした後、基板保持アーム１９を基板供給カセット
４に進入させて、基板Ｗを取り出して保持する。一方、
ユニット用搬送ロボット１１は、仮置き台８に仮置きさ
れたシートフィルムＦを受け取り、塗布ユニット１２ま
で搬送する。なお、シートフィルムＦが搬送されて仮置
き台８が空になると、インデクサ用搬送ロボット９は保
持している基板Ｗを仮置き台８に仮置きする。

【００３８】塗布ユニット１２に未使用のシートフィル
ムＦが搬入されると、図７（ａ）に示すように、そのシ
ートフィルムＦの表面に本発明の「薄膜」として絶縁膜
３２を塗布する（ステップＳ１：塗布処理）。そして、
塗布処理済みのシートフィルムＦをユニット用搬送ロボ
ット１１が次の乾燥ユニット１４に搬送し、その絶縁膜
３２を乾燥させる（ステップＳ２：乾燥処理）。

【００３９】乾燥処理が完了すると、ユニット用搬送ロ
ボット１１は乾燥ユニット１４からシートフィルムＦを
受け取り、密着ユニット１５に搬送する。また、密着ユ
ニット１５へのシートフィルムＦの搬送に前後して、ユ
ニット用搬送ロボット１１は仮置き台８に仮置きされた
基板Ｗを受け取り、密着ユニット１５まで搬送する。こ
の密着ユニット１５では、シートフィルムＦの表面に形
成された絶縁膜３２に対して基板Ｗの薄膜形成面、つま
り電極配線３１が形成された側の表面３３を対向するよ
うに、シートフィルムＦおよび基板Ｗがそれぞれ所定位
置に配置される（図７（ｂ））。そして、その対向状態
のまま基板ＷおよびシートフィルムＦに相互に近接移動
させることによって、絶縁膜３２を薄膜形成面３３に密
着させて、絶縁膜３２を介して基板Ｗとシートフィルム
Ｆとが一体化された密着物Ｃを形成する（ステップＳ
３：密着処理）。

【００４０】次に、上記のようにして形成された密着物
Ｃを、ユニット用搬送ロボット１１が密着ユニット１５
から剥離ユニット１３に搬送する。そして、その剥離ユ
ニット１３において、密着物ＣからシートフィルムＦの
みが選択的に剥離されて基板Ｗへの絶縁膜３２の転写が
完了する（ステップＳ４：剥離処理）。こうすることで
基板Ｗの薄膜形成面３３に絶縁膜３２が形成される。

【００４１】その後、ユニット用搬送ロボット１１が絶
縁膜３２が形成された基板Ｗを仮置き台８に搬送すると
ともに、その基板Ｗをインデクサ用搬送ロボット９が仮
置き台８から受け取り、基板回収カセット３に収容す
る。また、剥離された使用済シートフィルムＦについて
も、基板Ｗと同様にしてフィルム回収カセット６に収容
される。すなわち、ユニット用搬送ロボット１１が使用
済みのシートフィルムＦを仮置き台８に搬送するととも
に、そのシートフィルムＦをインデクサ用搬送ロボット
９が仮置き台８から受け取り、フィルム回収カセット６
に収容する。

【００４２】以上のように、シートフィルムＦを搬送す
る搬送機構として機能するインデクサ用搬送ロボット９
およびユニット用搬送ロボット１１では、フィルム用多
孔質部材２４を介してシートフィルムＦの周縁部（吸着
領域）に負圧を与えることによってシートフィルムＦを
吸着保持しているため、シートフィルムＦに作用する負
圧を周縁部２５の全面に均等化することができ、シート
フィルムＦに対してダメージを与えることなくシートフ
ィルムＦを吸着保持することができる。

【００４３】また、上記したようにシートフィルムＦを
良好に吸着保持しながら、各カセット５，６、仮置き台
８およびユニット１２〜１５の間を搬送することができ
るように構成されており、シートフィルムＦを単独でハ
ンドリングしていた従来技術に比べてシートフィルムＦ
のハンドリングを容易に、しかも効率的に行うことがで
きる。また、シートフィルムＦを直接オペレータがハン
ドリングする必要がなくなり、薄膜形成装置の自動化が
可能となった。その結果、基板Ｗの１枚当たりの処理時
間を短くすることができ、スループットの向上を図るこ
とができる。

【００４４】また、搬送ロボット１１が移動するユニッ
ト用搬送部１０に沿って各ユニット１２〜１５がそれぞ
れ配設されているので、より多くのユニットをユニット
用搬送部１０に沿って配設することができ、その結果、
基板Ｗに対する薄膜形成処理をより効率良く行うことが
できる。

【００４５】また、各ユニット１２〜１５をまとめてシ
ステム化しているので、上述の一連の処理シーケンス
（塗布処理、乾燥処理、密着処理および剥離処理）にわ
たって管理・制御・操作を行い易く、基板Ｗとシートフ
ィルムＦとに対する各ユニット間の処理履歴を管理する
ことができ、薄膜形成処理においてプロセスの安定化を
図ることができる。

【００４６】さらに、各ユニット１２〜１５間での基板
ＷやシートフィルムＦの搬送に人手を介さないので、基
板ＷやシートフィルムＦにパーティクルが付着し難くな
る。また、各ユニット１２〜１５をまとめてシステム化
しているので設置面積が軽減されるという効果もある。

【００４７】なお、本発明は上記した実施形態に限定さ
れるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて
上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能であ
る。例えば、上記実施形態では、本発明の搬送機構たる
インデクサ用搬送ロボット９およびユニット用搬送ロボ
ット１１において、シートフィルム側についてのみフィ
ルム用多孔質部材２４を介して吸着保持するように構成
しているが、基板側についてもシートフィルム側と同様
に多孔質部材、つまり基板用多孔質部材を介して基板Ｗ
を吸着保持するようにしてもよく、これによって基板Ｗ
に形成されている配線や素子などに対して負圧が集中す
るのを防止することができ、吸着保持した際に配線など
に欠陥が発生するのを防止することができる。特に、基
板の薄肉化、配線や素子の微細化が進行する場合には、
本発明の有用性はより高いものとなる。

【００４８】また、上記実施形態では、シートフィルム
Ｆの周縁部２５のみを吸着保持しているが、多孔質部材
２４がシートフィルムＦの全面と当接するように構成
し、シートフィルムＦの全面を吸着保持するように構成
してもよい。これに関しては、基板用多孔質部材を介し
て基板を吸着保持する場合にも全く同様である。

【００４９】また、上記実施形態では、シートフィルム
Ｆを本発明の「平面体」として吸着保持する搬送機構に
本発明を適用しているが、この「平面体」にはシートフ
ィルムＦ以外に、上記したように基板Ｗやその他の平面
体を搬送する搬送機構全般に本発明を適用することがで
きる。

【００５０】また、上記実施形態では、シートフィルム
Ｆと基板Ｗとを搬送する搬送ロボット９，１１に対して
本発明を適用しているが、いずれか一方のみを搬送する
搬送ロボットに対しても本発明を適用することができる
ことはいうまでもない。

【００５１】また、上記実施形態では、本発明の密着機
構としての密着ユニット１５と、本発明の剥離機構とし
ての剥離ユニット１３とをそれぞれ独立して設けている
が、これらのユニット１３，１５の代わりに密着機構と
剥離機構とを兼ね備えたユニットを設けた薄膜形成装置
に対して本発明を適用するようにしてもよい。

【００５２】さらに、本発明は、半導体ウエハや液晶パ
ネル用ガラス基板以外に、フォトマスク用ガラス基板、
プラズマ表示用ガラス基板、光ディスク用基板などの基
板に薄膜を形成する場合のみならず、さらにはＩＣカー
ドや太陽電池装置の製造などにも適用することができ
る。

【００５３】

【発明の効果】以上のように、本発明にかかる搬送機構
によれば、多孔質部材を介して平面体の吸着領域に負圧
を与えることによって平面体を吸着保持するように構成
しているので、平面体に作用する負圧を吸着領域の全面
にほぼ均等にかけることができ、シートフィルムや基板
などの平面体に対してダメージを与えることなく平面体
を吸着ハンドにより吸着保持することができる。そし
て、このような吸着保持状態で平面体を搬送することが
でき、平面体の搬送を良好に行うことができる。

【００５４】また、本発明にかかる薄膜形成装置によれ
ば、多孔質材料で形成されたフィルム用多孔質部材を介
してシートフィルムを吸着保持しながら搬送するように
構成しているので、シートフィルムに作用する負圧を、
フィルム用多孔質部材とシートフィルムとが相互に当接
する領域全面にほぼ均等にかけることができ、シートフ
ィルムを変形させることなく、良好な状態のまま搬送す
ることができる。また、このようにオペレータを介さず
とも、搬送機構によりシートフィルムを搬送することが
できるため、薄膜形成装置の自動化を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる薄膜形成装置の一実施形態の概
略構成を示すブロック図である。

【図２】図１の薄膜形成装置に採用されている搬送機構
を示す図である。

【図３】図１の薄膜形成装置に採用されている搬送機構
の動作を示す図である。

【図４】吸着ハンドの外観構成を示す斜視図である。

【図５】吸着ハンドの部分断面図である。

【図６】図１の薄膜形成装置の基本動作を示す図であ
る。

【図７】図６の基本動作を示す模式図である。

【符号の説明】

９…インデクサ用搬送ロボット（搬送機構） １１…ユニット用搬送ロボット（搬送機構） １２…塗布ユニット（塗布手段） １３…剥離ユニット（剥離機構） １５，１５ａ，１５ｂ…密着ユニット（密着機構） ２１…吸着ハンド ２２…ハンド本体 ２３…リング溝 ２４…（フィルム用）多孔質部材 ２５…周縁部（吸着領域） ２７…排気ブロア（負圧手段） ３２…絶縁膜（薄膜） Ｃ…密着物 Ｆ…シートフィルム Ｗ…基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井関 出 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る４丁 目天神北町１番地の１ 大日本スクリーン 製造株式会社内 Ｆターム(参考） 3C007 AS06 AS24 BS06 BS26 CT02 CT04 CT05 CV03 DS01 FS01 FT07 FT08 FT12 NS09 NS10 5F031 CA02 CA05 CA09 FA01 FA02 FA05 FA07 GA24 GA25 GA26 GA32 PA13 PA18 PA20 5F045 EN04 EN10

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平面体の一方主面の一部または全部を吸
   着領域とし、その吸着領域を吸着保持しながら、前記平
   面体を搬送する搬送機構において、 多孔質材料で形成された多孔質部材を前記吸着領域に当
   接可能となっている吸着ハンドと、 前記多孔質部材を介して前記吸着領域に負圧を与える負
   圧手段とを備えることを特徴とする平面体の搬送機構。
2. 【請求項２】 シートフィルムの表面に形成された薄膜
   を基板の表面に転写して前記基板に薄膜を形成する薄膜
   形成装置において、 前記シートフィルムの表面に形成された前記薄膜を前記
   基板に密着させて前記薄膜を介して前記基板と前記シー
   トフィルムとが一体化された密着物を得る密着機構と、 前記密着物から前記シートフィルムを選択的に剥離する
   剥離機構と、 前記密着機構に前記シートフィルムおよび前記基板を搬
   送する搬送機構とを備え、 前記搬送機構は、多孔質材料で形成されたフィルム用多
   孔質部材を介して前記シートフィルムに負圧を与えて吸
   着保持しながら、前記シートフィルムを前記密着機構に
   搬送することを特徴とする薄膜形成装置。
3. 【請求項３】 前記搬送機構は、多孔質材料で形成され
   た基板用多孔質部材を介して前記基板に負圧を与えて吸
   着保持しながら、前記基板を前記密着機構に搬送する請
   求項２記載の薄膜形成装置。
4. 【請求項４】 シートフィルムの表面に薄膜材料を塗布
   して該シートフィルムの表面に薄膜を形成する塗布機構
   をさらに備え、 前記搬送機構は、前記フィルム用多孔質部材により薄膜
   形成前のシートフィルムを吸着保持しながら前記塗布機
   構に搬送し、また前記塗布機構により薄膜が形成された
   シートフィルムを前記フィルム用多孔質部材で吸着保持
   しながら前記塗布機構から搬送する請求項２または３記
   載の薄膜形成装置。