JP2003149418A5

JP2003149418A5 -

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Publication number: JP2003149418A5
Application number: JP2002206914A
Authority: JP
Filing date: 2002-07-16
Publication date: 2005-10-20

Claims

幾何ビームスプリッタを作製する方法であって、
透明材料からなる基板の表面に、少なくとも１つの金属層を含む反射コーティングを塗布する段階と、
多数の透過孔を有する孔パターンを反射コーティングに形成する段階とを含み、
孔パターンの孔は、レーザ処理によって形成され、
不規則分布の孔を有する孔パターンが形成される、方法。
所定の公称透過率を有するビームスプリッタを形成するために、
ビームスプリッタの全透過率がそれの公称透過率より小さくなるように、好ましくは不規則な分布の孔を形成する段階と、
ビームスプリッタの透過率を測定して、それの実際の透過率を決定する段階と、
ビームスプリッタの透過率を、それの実際の透過率に応じて増加させるために、追加孔を形成する段階とを実施し、好ましくは、追加孔を形成する前記段階において、追加孔は不規則分布を有するようにした先行請求項のいずれかに記載の方法。
ビームスプリッタの実際の透過率を測定した後、それの公称透過率とそれの実際の透過率との差に基づいて、追加すべき追加孔の数の計算を行い、追加孔の追加は、該計算の結果によって決まる請求項２記載の方法。
好ましくは不規則分布の多数の孔を連続的に形成する段階と、
孔を形成する間にビームスプリッタの透過率を測定して（現場測定）それの実際の透過率を決定する段階と、
該実際の透過率がそれの公称透過率とほぼ等しくなった時、孔の形成を終了する段階とを含む先行請求項のいずれかに記載の方法。
金属層を形成するために、アルミニウムが付着される、特に蒸着される先行請求項のいずれかに記載の方法。
金属層の材料、特にアルミニウムは、好ましくは直線的に増加する速度で蒸着され、それによって、初期段階では、蒸着された材料が蒸着雰囲気内に存在する残留汚染物の吸着体として作用できるほど低く選択された速度で蒸着が起きるようにした先行請求項のいずれかに記載の方法。
反射コーティングの形成において、少なくとも１層の誘電体からなるコーティングが金属層に付着され、誘電体コーティングは好ましくは、反射率向上コーティング、特に多重層コーティングの形をしている先行請求項のいずれかに記載の方法。
マイクロリソグラフィ投影照明装置（１）の照明系（２）用の幾何ビームスプリッタ、特に照射量測定鏡（１５）であって、
透明材料で形成された基板（２５）と、
該基板の表面（２６）上に配置された少なくとも１つの金属層（２８）を含む反射コーティング（２７）と、
レーザ処理を使用して前記反射コーティングに形成された多数の透過孔（３０）を有する孔パターンとを備え、
前記孔パターンは、不規則分布の孔（３０）を有する、ビームスプリッタ。
前記金属層（２８）は、主にアルミニウムからなる請求項８記載のビームスプリッタ。
前記金属層（２８）は、横方向に直交する方向に傾斜した特に酸化物の汚染物を有し、汚染物は、前記金属層（２８）を支持している基板付近に位置し、反射面付近の領域には汚染物がほとんどない請求項８または９のいずれかに記載のビームスプリッタ。
好ましくは高／低屈折率誘電体が交互した幾つかの層を有する多重層コーティングの形である反射率向上誘電コーティング（２９）が、前記金属コーティング（２８）に塗布されている請求項８乃至１０のいずれかに記載のビームスプリッタ。
前記反射コーティング（２７）は、少なくとも４５°±１°の入射角範囲にわたって約９０％を超える、好ましくは約９５％を超える反射率を有し、入射角の範囲は好ましくは、少なくとも４５°±１２°である請求項８乃至１１のいずれかに記載のビームスプリッタ。
光学装置、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明系であって、光源（３）と、光出口（４）とを備えており、光源（３）から送られた光の一部分を分離させる少なくとも１つの幾何ビームスプリッタ（１５）が、光源と光出口との間に配置されており、該幾何ビームスプリッタは、
透明材料で形成された基板（２５）と、
該基板の表面（２６）上に配置された少なくとも１つの金属層（２８）を含む反射コーティング（２７）と、
レーザ処理を使用して前記反射コーティングに形成された多数の透過孔（３０）を有する孔パターンとを備え、
前記パターンは、不規則分布の孔（３０）を有する、
照明系。