JP2003146706A - 情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理方法及び化学強化処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 化学強化処理後のガラス基板の強度を確保す
ることができ、かつ平坦度を維持することができ、化学
強化処理を効率良く行うことができる情報記録媒体用ガ
ラス基板の化学強化処理方法及び化学強化処理装置を提
供する。 【解決手段】 化学強化槽内の加熱溶融した化学強化処
理液１４中に、複数のガラス基板２３をホルダーの支持
部材２２に支持された状態で浸漬する。これにより、ガ
ラス基板２３中の表面近傍に存在するリチウムイオン及
びナトリウムイオンと、化学強化処理液１４中のリチウ
ムイオン及びナトリウムイオンよりもイオン半径の大き
いカリウムイオンとがイオン交換されて化学強化処理が
行われる。このとき、対向するガラス基板２３間に存在
する化学強化処理液１４の量は、ガラス基板２３の表面
積に対して１．４〜７１ｇ／ｃｍ²に設定されている。
対向するガラス基板２３の間隔は０．３〜１．３ｃｍで
あることが望ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク、光
磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体に用いられ
るガラス基板の化学強化処理方法及び化学強化処理装置
に関するものである。さらに詳しくは、化学強化処理後
のガラス基板の強度を維持することができるとともに、
安定した品質のガラス基板が得られる情報記録媒体用ガ
ラス基板の化学強化処理方法及び化学強化処理装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種のガラス基板は中心に円孔
を有する円盤状に形成され、基板として所望される強度
を得るために、化学強化槽内に貯留された化学強化処理
液中に浸漬されることによってその表面が化学強化処理
されている。化学強化処理液としては、硝酸カリウム
（ＫＮＯ₃）等の溶融塩を加熱溶融して得られた溶融液
が用いられる。この場合、ガラス基板は複数枚が縦に並
行して並べられた状態で化学強化用のホルダーに収容さ
れ、そのホルダーが化学強化槽内の化学強化処理液中に
浸漬される。そして、ガラス基板中の表面近傍に存在す
るリチウムイオン（Ｌｉ⁺）やナトリウムイオン（Ｎ
ａ⁺）をこれらよりイオン半径の大きいカリウムイオン
（Ｋ⁺）にイオン交換することにより行われる。このた
め、化学強化処理されたガラス基板の表面には、圧縮応
力層が形成されることにより化学強化される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ガラス基板
の化学強化は主としてガラス基板の表裏面で行われるた
め、ガラス基板の表裏面の付近には化学強化処理液中の
カリウムイオン（Ｋ⁺）が充分に存在している必要があ
る。すなわち、ホルダー内で並列に並べられたガラス基
板間に存在する化学強化処理液が充分に確保されている
必要がある。

【０００４】従って、各ガラス基板間に存在する化学強
化処理液が不充分なときには、ガラス基板表面の化学強
化に必要なカリウムイオン（Ｋ⁺）が不足し、化学強化
が均一かつ充分に行われない。その結果、得られるガラ
ス基板の強度を確保することができなくなるうえに、平
坦度が悪くなる。一方、各ガラス基板間に存在する化学
強化処理液が多過ぎるときには、化学強化処理液の量に
対するガラス基板の割合が少なく化学強化処理の効率が
極めて悪くなる。

【０００５】本発明は、上記のような従来技術に存在す
る問題点に着目してなされたものである。その目的とす
るところは、化学強化処理後のガラス基板の強度を確保
することができ、かつ平坦度を維持することができると
ともに、化学強化処理を効率良く行うことができる情報
記録媒体用ガラス基板の化学強化処理方法及び化学強化
処理装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１に記載の発明の情報記録媒体用ガラス基
板の化学強化処理方法は、溶融塩を加熱溶融した化学強
化処理液中に複数のガラス基板を並べて浸漬し、ガラス
基板中の表面近傍に存在する一価の金属イオンと、化学
強化処理液に含有され、前記一価の金属イオンよりもイ
オン半径の大きい一価の金属イオンとをイオン交換して
ガラス基板を化学強化処理する情報記録媒体用ガラス基
板の化学強化処理方法であって、対向するガラス基板間
に存在する化学強化処理液の量は、ガラス基板の表面積
に対して１．４〜７１ｇ／ｃｍ²の範囲に設定されてい
ることを特徴とするものである。

【０００７】請求項２に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の化学強化処理方法は、請求項１に記載の発明
において、前記対向するガラス基板の間隔が０．３〜
１．３ｃｍの範囲に設定されているものである。

【０００８】請求項３に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の化学強化処理装置は、請求項１に記載の情報
記録媒体用ガラス基板の化学強化処理方法に用いられる
化学強化処理装置であって、溶融塩を加熱溶融した化学
強化処理液を収容する化学強化槽と、複数のガラス基板
を並べて化学強化液中に浸漬するための化学強化用ホル
ダーとを備え、対向するガラス基板間に存在する化学強
化処理液の量が、ガラス基板の表面積に対して１．４〜
７１ｇ／ｃｍ²の範囲に設定されていることを特徴とす
るものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて詳細に説明する。図３及び図４に示すように、
化学強化処理装置１１を構成する化学強化槽１２は有底
長四角箱状をなし、その四隅に設けられた支持脚１３に
よって支持されている。化学強化槽１２内の下部には、
溶融塩が加熱溶融された化学強化処理液１４が収容され
るようになっている。溶融塩の具体例としては、ＫＮＯ
₃、ＮａＮＯ₃、硝酸銀（ＡｇＮＯ₃）等が挙げられ、そ
れらの溶融塩がそれぞれ単独又は２種以上混合して使用
される。本実施形態では化学強化処理液１４は、ＫＮＯ
₃とＮａＮＯ₃とを加熱溶融した溶融液から構成されてい
る。

【００１０】化学強化槽１２内の底壁１２ｂ近傍位置に
は両端が側壁１２ａに支持された支持枠１５が配置さ
れ、後述するケージ１６が載置されるように構成されて
いる。このケージ１６には複数枚のガラス基板が保持さ
れた化学強化用ホルダーが複数個収容されている。化学
強化槽１２の底壁１２ａ中央部には使用済みの化学強化
処理液１４を排出するための排出管１７が取付けられて
いる。

【００１１】ここで、図５に従い化学強化用ホルダー
（以下、単にホルダーともいう）１８について説明す
る。一対の側板１９は複数の連結板２０によって連結さ
れ、両側板１９が一定の間隔になるように保持されてい
る。各側板１９の中央部の左右位置及び下部位置には、
上下又は左右に延びるスリット２１が互いに対向するよ
うに複数透設されている。各対向位置にあるスリット２
１には板状をなす支持部材２２の両端が挿通支持されて
いる。この支持部材２２は幅方向に湾曲形成されるとと
もに、長さ方向に波状に形成されている。波状に形成さ
れた部分の溝２２ａにはガラス基板２３の外周縁が係止
されるようになっている。

【００１２】この実施形態では、図２に示すように、ガ
ラス基板２３の中心を通る水平方向の左右位置及びガラ
ス基板の最下部位置に支持部材２２が設けられ、それら
の膨出部２２ｂの外面に形成された溝２２ａに複数のガ
ラス基板２３が一定間隔をおいて保持されている。ガラ
ス基板２３の中心を通る水平方向の左右位置にある両支
持部材２２の溝２２ａの中央部とガラス基板２３の中心
を結ぶ線の下側のなす角度θは１６０度を越え１８０度
以下であることが好ましい。この角度θが１６０度以下
の場合にはガラス基板２３の支持が不安定になりやす
く、１８０度を越える場合にはガラス基板２３の支持部
材２２間への挿入がしずらくなって好ましくない。さら
に、支持部材２２の同様の構成が隣接位置に設けられ、
ガラス基板２３は１つのホルダー１８に２列に並ぶよう
に構成されている。

【００１３】各ガラス基板２３は、中央に円孔２３ａを
有したドーナツ板状をなし、磁気ディスク、光磁気ディ
スク、光ディスク等の情報記録媒体の基板として使用さ
れる。ガラス基板２３を形成するガラス材料としては、
二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）、酸化ナトリウム（Ｎａ
₂Ｏ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）を主成分としたソー
ダライムガラス、ＳｉＯ₂、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ
₃）、Ｒ₂Ｏ（Ｒ＝カリウム（Ｋ）、ナトリウム（Ｎ
ａ）、リチウム（Ｌｉ））を主成分としたアルミノシリ
ケートガラス、ボロシリケートガラス、酸化リチウム
（Ｌｉ₂Ｏ）−ＳｉＯ₂系ガラス、Ｌｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−
ＳｉＯ₂系ガラス、Ｒ’Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラス
（Ｒ’＝マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、
ストロンチウム（Ｓｒ）又はバリウム（Ｂａ））を使用
することができ、これらガラス材料に酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ₂）や酸化チタン（ＴｉＯ₂）等を添加した化学
強化用ガラスであれば特に限定されない。そして、ガラ
ス基板２３は、例えば外径が８９ｍｍ（３．５イン
チ）、７６ｍｍ（３．０インチ）又は６４ｍｍ（２．５
インチ）等に形成されるとともに、その厚みは０．６３
ｍｍ等に形成される。

【００１４】次に、前記ケージ１６について説明する。
図６に示すように、ケージ１６は縦枠２４及び横枠２５
よりなる複数の保持枠２６がそれぞれ両端部で連結され
ることによって横長四角枠体として構成されている。こ
の横長四角枠体内には図示しない架設枠が横方向に延び
るように保持枠２６に架設され、その架設枠には複数の
ホルダー１８が載置されるようになっている。

【００１５】図４に示すように、化学強化槽１２の側壁
１２ａ及び底壁１２ｂには加熱手段としてのシーズヒー
タ２７が設けられ（底壁のシーズヒータは図示略）、化
学強化処理液１４を加熱して一定温度に保持している。
このときの化学強化処理液１４の温度は、ガラス基板２
３を形成するガラス材料の歪点よりも好ましくは５０〜
１５０℃程度低い温度であり、より好ましくは化学強化
処理液自体の温度が３５０〜４００℃程度である。ガラ
ス材料の歪点よりも１５０℃程度低い温度未満では、ガ
ラス基板を充分に化学強化処理することができない。一
方、ガラス材料の歪点よりも５０℃程度低い温度を越え
ると、ガラス基板２３を化学強化処理するときに、ガラ
ス基板２３に歪みが発生しやすい。

【００１６】図１に示すように、ケージ１６が化学強化
槽１２内の化学強化処理液１４中に浸漬されると、各ガ
ラス基板２３中の表面近傍に存在する一価の金属イオン
であるＬｉ⁺は化学強化処理液１４中の一価の金属イオ
ンであるＮａ⁺やＫ⁺にイオン交換される。また、Ｎａ⁺
は化学強化処理液１４中のＫ⁺にイオン交換される。イ
オン交換においては、イオン半径の小さい一価の金属イ
オンから、イオン半径の大きい一価の金属イオンへと変
換され、圧縮応力層が形成されて化学強化が行われる。
このため、化学強化処理液１４中にはＬｉ⁺やＮａ⁺が放
出され、特にＬｉ ⁺が増大する。

【００１７】このように、化学強化処理はガラス基板２
３表面付近で行われることから、ガラス基板２３間には
Ｋ⁺やＮａ⁺を含む化学強化処理液１４が化学強化処理を
円滑に継続するに足る量だけ存在している必要がある。
そのような条件下に化学強化処理が円滑に行われ、ガラ
ス基板２３全体の強度及び平坦度を確保することができ
る。

【００１８】そこで、対向するガラス基板２３間におい
て、ガラス基板２３の表面積に対する化学強化処理液１
４の量Ａ（ｇ／ｃｍ²）は、対向するガラス基板２３間
の間隔Ｂ（ｃｍ）と化学強化処理液１４の密度Ｃ（ｇ／
ｃｍ³）とから下記式（１）により求められる。

【００１９】Ａ＝Ｂ×Ｃ …（１） この値Ａは１．４〜７１（ｇ／ｃｍ²）、好ましくは
２．０〜５０（ｇ／ｃｍ²）、さらに好ましくは３〜１
０（ｇ／ｃｍ²）である。例えば、距離Ｂが０．７（ｃ
ｍ）に設定されるとともに、密度Ｃが２．２（ｇ／ｃｍ
³）となるようにＫＮＯ₃〔密度２．１（ｇ／ｃｍ³）〕
及びＮａＮＯ₃〔密度２．３（ｇ／ｃｍ³）〕が混合され
て化学強化処理液１４が構成されるときには、上記式
（１）より値Ａは１．５４（ｇ／ｃｍ²）となる。

【００２０】値Ａが１．４（ｇ／ｃｍ²）未満では、対
向するガラス基板２３間に存在する化学強化処理液１４
の量が不足するために、ガラス基板２３の全面を均一か
つ充分に化学強化処理することができない。一方、７１
（ｇ／ｃｍ²）を越えると、ガラス基板２３間の距離Ｂ
が大きくなるために、化学強化用ホルダー１８に保持さ
れるガラス基板２３の枚数が少なくなる。このため、一
度に化学強化処理することができるガラス基板２３の枚
数が減少して化学強化の処理効率が低下するとともに、
化学強化処理に要するコストが増大する。

【００２１】また、対向するガラス基板２３の間隔Ｂが
０．３〜１．３（ｃｍ）の範囲に設定されることが望ま
しい。対向するガラス基板２３の間隔Ｂをこのような範
囲に設定することにより、対向するガラス基板２３間に
存在する化学強化処理液１４の量を適正に維持すること
ができる。この間隔Ｂが０．３（ｃｍ）未満の場合、対
向するガラス基板２３の間隔Ｂが狭くなり過ぎてそこに
存在する化学強化処理液１４の流動が不足しやすくな
り、ガラス基板１１の全面を均一かつ充分に化学強化処
理しにくい傾向となる。一方、１．３（ｃｍ）を越える
場合、ガラス基板２３の間隔Ｂが広くなり過ぎて、一度
に化学強化処理可能なガラス基板２３の枚数が減少して
化学強化の処理効率が低下し、化学強化処理に要するコ
ストの増大を招きやすい。

【００２２】さらに、化学強化槽１２において、ガラス
基板２３の表面積に対する化学強化処理液１４の量Ｄ
（ｇ／ｃｍ²）は、化学強化槽１２内の化学強化処理液
１４の量Ｅ（ｇ）と、一枚のガラス基板２３の表面積Ｆ
（ｃｍ²）と、一度に化学強化処理されるガラス基板２
３の枚数Ｇ（枚）とから下記式（２）により求められ
る。

【００２３】Ｄ＝Ｅ／（Ｆ×Ｇ） …（２） 上記式（２）により算出される値Ｄは、化学強化処理液
１４の寿命又は化学強化処理を行うために必要な化学強
化槽１２の大きさを示している。この値Ｄは、化学強化
槽１２の大きさ、その化学強化槽１２内に収容される化
学強化処理液１４の量、ガラス基板２３の大きさ、ガラ
ス基板２３の間隔などによって変動する。値Ｄは好まし
くは３〜８（ｇ／ｃｍ²）である。例えば、外径６４
（ｍｍ）、厚み０．６３（ｍｍ）に形成されたガラス基
板２３〔表面積Ｆは１０１．１３（ｃｍ²）〕が化学強
化処理されるときに、化学強化処理液１４の量Ｅを８６
８（ｋｇ）とするとともに、枚数Ｇを２０００枚と設定
したときには、上記式（２）より算出される値Ｄは４．
２９（ｇ／ｃｍ²）となる。

【００２４】値Ｄが３（ｇ／ｃｍ²）未満の場合、ガラ
ス基板２３の表面積に対する化学強化処理液１４の量が
不足するために、化学強化処理液１４の寿命が短くなる
とともに、ガラス基板２３の全面をむらなく化学強化す
ることができなくなる。一方、８（ｇ／ｃｍ²）越える
場合、ガラス基板２３間以外の部分における化学強化処
理液１４の量が増加し、ガラス基板２３の化学強化処理
に寄与することが難しくなる。さらに、化学強化処理液
１４の量が多くなるために化学強化槽１２を大きくする
必要があり、化学強化処理に要するコストが増加しやす
い。

【００２５】ガラス基板２３は、このようなイオン交換
によりその表面に１００〜２００μｍの厚さで圧縮応力
層が形成されて強度が高められることによって、情報記
録媒体として使用されるときに、高速回転による破損を
防止することができる。

【００２６】次に、このガラス基板２３の化学強化処理
方法について説明する。さて、ガラス基板２３を化学強
化処理するときには、まず複数枚のガラス基板２３を２
列に並ぶように化学強化用ホルダー１８内に保持した後
に、それら複数個の化学強化用ホルダー１８をケージ１
６内に収容する。そのケージ１６を、化学強化槽１２内
のＫＮＯ₃とＮａＮＯ₃との加熱溶融液からなる化学強化
処理液１４中に投入して、ガラス基板２３を化学強化処
理液１４中に数時間浸漬する。

【００２７】これにより、ガラス基板２３中の表面近傍
に存在するＬｉ⁺は化学強化処理液１４中のＮａ⁺やＫ⁺
にイオン交換される。また、ガラス基板２３中の表面近
傍に存在するＮａ⁺は化学強化処理液１４中のＫ⁺にイオ
ン交換される。このため、化学強化処理されたガラス基
板２３の枚数が増加するに伴い、化学強化処理液１４中
のＫ⁺濃度は減少するとともにＬｉ⁺濃度は増加する。ま
た、ガラス基板２３と化学強化処理液１４との間でＮａ
⁺の入替えが行われるために、化学強化処理液１４中の
Ｎａ⁺濃度は変動する。係るイオン交換によりガラス基
板２３が化学強化処理され、その表面付近に圧縮応力層
が形成される。

【００２８】このとき、前記式（１）で表される値Ａが
１．４〜７１（ｇ／ｃｍ²）に設定され、対向するガラ
ス基板２３の間隔Ｂが０．３〜１．３（ｃｍ）に設定さ
れ、かつ式（２）で表される値Ｄが３〜８（ｇ／ｃ
ｍ²）に設定される。このため、対向するガラス基板２
３間には化学強化処理液１４が化学強化処理に足る量だ
け存在すると同時に、化学強化槽１２内には化学強化処
理液１４が充足されている。従って、ガラス基板２３の
化学強化処理が円滑に、しかも長時間にわたって安定し
た状態で連続的に行われる加えて、ガラス基板２３間に
存在する化学強化処理液１４は、主として化学強化槽１
２の底壁１２ｂに設けられたシーズヒータ２７の加熱に
よって緩やかな上昇流が生じ、その上昇流は層流になっ
て下方から上方へ流れる。このため、イオン交換によっ
てガラス基板２３から出たＬｉ⁺やＮａ⁺は上昇し、その
代りに新たな化学強化処理液１４が下から上がってきて
その中に存在するＫ⁺がイオン交換に寄与することとな
る。なお、化学強化槽１２の側壁１２ａに設けられたシ
ーズヒータ２７により、その近傍に存在する化学強化処
理液１４が加熱されて上昇流が生じて対流が起きてい
る。

【００２９】その後、各ガラス基板２３の化学強化処理
後にケージ１６を化学強化槽１２から引き上げて所定時
間徐冷するとともに、複数枚の新たなガラス基板２３を
保持した化学強化用ホルダー１８を保持したケージ１６
を化学強化槽１２内に投入し、新たなガラス基板２３を
化学強化処理する。

【００３０】以上詳述した本実施形態によれば、次のよ
うな効果が発揮される。 ・ 本実施形態の情報記録媒体用ガラス基板の化学強化
処理方法又は化学強化処理装置によれば、対向するガラ
ス基板２３間に存在する化学強化処理液１４の量が、ガ
ラス基板２３の表面積に対して１．４〜７１ｇ／ｃｍ²
の範囲に設定されている。このため、化学強化処理がガ
ラス基板全体に均一かつ充分に行われ、化学強化処理後
のガラス基板２３の強度を確保することができ、かつ平
坦度を維持することができる。しかも、化学強化処理に
不足を来たす事態を招くおそれが少なく、化学強化処理
を安定した状態で効率良く行うことができる。

【００３１】・ さらに、対向するガラス基板２３の間
隔が好ましくは０．３〜１．３ｃｍの範囲に設定される
ことから、ガラス基板２３間に存在する化学強化処理液
１４の流動性を確保することができる。

【００３２】・ また、ガラス基板２３が化学強化処理
液１４に浸漬された状態において、前述の式（２）より
求められる値Ｄは好ましくは３〜８ｇ／ｃｍ²であるた
め、ガラス基板２３の化学強化処理に必要な化学強化処
理液１４の量が確保でき、化学強化処理をより安定して
行うことができる。

【００３３】・ 加えて、ガラス基板２３間の化学強化
処理液１４は層流によって上昇するように構成されてい
る。このため、ガラス基板２３間に存在する化学強化処
理液１４の各イオン濃度を均一にすることができる。よ
って、化学強化処理液１４の寿命を延ばすことができ
る。さらに、化学強化処理液１４中に気泡が発生するの
を抑制するとともに、化学強化処理液１４の温度を均一
にすることができる。その結果、ガラス基板２３に化学
強化処理のむらや歪みが発生するのを抑制することがで
きる。

【００３４】なお、前記実施形態を次のように変更して
構成することも可能である。 ・ 式（１）により算出される値Ａを１．４〜７１（ｇ
／ｃｍ²）に設定し、ガラス基板の間隔Ｂを０．３〜
１．３（ｃｍ）の範囲外とし、かつ式（２）により算出
される値Ｄを３〜８（ｇ／ｃｍ²）の範囲外としてもよ
い。又は、間隔Ｂ及び値Ｄの少なくとも一方を満たすよ
うに設定してもよい。

【００３５】・ 前記化学強化槽１２中の化学強化処理
液１４の交換を通常よりも早目に交換したり、化学強化
処理時間を例えば１時間長くしたり、化学強化処理液１
４の加熱温度を例えば１０℃高くしてもよい。このよう
に構成した場合には、ガラス基板２３の化学強化処理を
より安定した状態で行うことができ、得られるガラス基
板２３の強度を確保することができる。

【００３６】・ 前記化学強化処理液１４を、ＫＮＯ₃
又はＮａＮＯ₃のみから構成してもよい。また、６０重
量％のＫＮＯ₃及び４０重量％のＮａＮＯ₃等の比率でＫ
ＮＯ₃とＮａＮＯ₃とを混合して化学強化処理液１４を構
成してもよい。

【００３７】・ 化学強化用ホルダー１８の側板１９に
Ｖ字状又はＵ字状の切り欠きを設けたり、適宜の大きさ
の貫通孔を設けてもよい。この場合、ガラス基板２３に
対する化学強化液１４の接触を良好なものにすることが
できる。

【００３８】次に、前記実施形態から把握できる技術的
思想について以下に記載する。 （１） 前記化学強化処理液は化学強化槽内に貯留さ
れ、ガラス基板が化学強化処理液中に浸漬された状態に
おいて、化学強化槽内の化学強化処理液の量Ｅ（ｇ）
と、ガラス基板一枚の表面積Ｆ（ｃｍ²）と、一度に化
学強化処理されるガラス基板の枚数Ｇ（枚）とから下記
式（２）により算出されるガラス基板の表面積に対する
化学強化処理液の量Ｄ（ｇ／ｃｍ²）は、３〜８ｇ／ｃ
ｍ²の範囲に設定されている請求項１又は請求項２に記
載の情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理方法。こ
の方法によれば、ガラス基板の化学強化処理をより安定
して行うことができる。

【００３９】Ｄ＝Ｅ／（Ｆ×Ｇ） …（２） （２） 前記対向するガラス基板間に存在する化学強化
処理液は、層流によって流動するように構成されている
請求項１、請求項２又は上記（１）に記載の情報記録媒
体用ガラス基板の化学強化処理方法。この方法によれ
ば、化学強化処理液の寿命を延ばすことができるととも
に、ガラス基板に化学強化処理むらや歪みが発生するの
を抑制することができる。

【００４０】（３） 対向するガラス基板間に存在する
化学強化処理液が層流にて流れるように化学強化槽の少
なくとも底壁に加熱手段を設けた請求項３に記載の化学
強化処理装置。このように構成した場合、化学強化処理
を安定した状態で連続的に行うことができる。

【００４１】（４） 前記化学強化用ホルダーは、化学
強化用のケージ内に複数収容されている請求項３又は上
記（３）に記載の化学強化処理装置。このように構成し
た場合、一度に多数のガラス基板を化学強化処理するこ
とができ、効率良く化学強化処理を行うことができる。

【００４２】

【発明の効果】本発明は、以上のように構成されている
ため、次のような効果を奏する。請求項１に記載の発明
の情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理方法又は請
求項３に記載の発明の化学強化処理装置によれば、化学
強化処理後のガラス基板の強度を確保することができ、
かつ平坦度を維持することができるとともに、化学強化
処理を効率良く行うことができる。

【００４３】請求項２に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の化学強化処理方法によれば、請求項１に記載
の発明の効果をより向上させることができるとともに、
ガラス基板間の化学強化処理液の流動を良好に維持する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施形態のガラス基板が支持部材によって支
持された状態を示す要部拡大断面図。

【図２】 ガラス基板が支持部材によって支持された状
態を示す側断面図。

【図３】 化学強化槽を示す縦断面図。

【図４】 化学強化槽を示す斜視図。

【図５】 化学強化用ホルダーを示す斜視図。

【図６】 化学強化用のケージを示す斜視図。

【符号の説明】

１１…化学強化処理装置、１２…化学強化槽、１４…化
学強化処理液、１８…化学強化用ホルダー、２３…ガラ
ス基板。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 溶融塩を加熱溶融した化学強化処理液中
   に複数のガラス基板を並べて浸漬し、ガラス基板中の表
   面近傍に存在する一価の金属イオンと、化学強化処理液
   に含有され、前記一価の金属イオンよりもイオン半径の
   大きい一価の金属イオンとをイオン交換してガラス基板
   を化学強化処理する情報記録媒体用ガラス基板の化学強
   化処理方法であって、対向するガラス基板間に存在する
   化学強化処理液の量は、ガラス基板の表面積に対して
   １．４〜７１ｇ／ｃｍ²の範囲に設定されていることを
   特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理方
   法。
2. 【請求項２】 前記対向するガラス基板の間隔が０．３
   〜１．３ｃｍの範囲に設定されている請求項１に記載の
   情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理方法。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス
   基板の化学強化処理方法に用いられる化学強化処理装置
   であって、溶融塩を加熱溶融した化学強化処理液を収容
   する化学強化槽と、複数のガラス基板を並べて化学強化
   液中に浸漬するための化学強化用ホルダーとを備え、対
   向するガラス基板間に存在する化学強化処理液の量が、
   ガラス基板の表面積に対して１．４〜７１ｇ／ｃｍ²の
   範囲に設定されていることを特徴とする化学強化処理装
   置。