JP2003146679A - Laser beam cutting method, laser beam cutting device, electro-optic panel manufacturing method, electro-optic device and electronic equipment - Google Patents

Laser beam cutting method, laser beam cutting device, electro-optic panel manufacturing method, electro-optic device and electronic equipment

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JP2003146679A
JP2003146679A JP2001342457A JP2001342457A JP2003146679A JP 2003146679 A JP2003146679 A JP 2003146679A JP 2001342457 A JP2001342457 A JP 2001342457A JP 2001342457 A JP2001342457 A JP 2001342457A JP 2003146679 A JP2003146679 A JP 2003146679A
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JP
Japan
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cutting
laser
panel
electro
pattern
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JP2001342457A
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Japanese (ja)
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Kinichi Maeda
謹一 前田
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Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/09Severing cooled glass by thermal shock
    • C03B33/091Severing cooled glass by thermal shock using at least one focussed radiation beam, e.g. laser beam
    • C03B33/093Severing cooled glass by thermal shock using at least one focussed radiation beam, e.g. laser beam using two or more focussed radiation beams
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B33/076Laminated glass comprising interlayers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B33/09Severing cooled glass by thermal shock
    • C03B33/091Severing cooled glass by thermal shock using at least one focussed radiation beam, e.g. laser beam

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser beam cutting method that can cut a liquid crystal panel or the like efficiently with high precision, and to provide a method and device for manufacturing an electro-optic panel by using the laser beam cutting method. SOLUTION: On the surface of an object to be cut such as glass substrates (10, 20) for example, there are formed cutting patterns (45, 55) with a material containing an endothermic material. The areas with the cutting patterns become higher in endothermism than other areas of the object. Then, laser beam cutting is performed by emitting laser beams (L1, L2) along the cutting patterns. The laser beam cutting is made possible by forming cracks on the object through a thermal stress due to temperature gradient generated by laser irradiation on the object. In this case, since endothermism is higher on the cutting patterns because of the presence of the endothermic material, the temperature gradient is more clearly formed. Thus, the object is cut with high precision along the cutting patterns.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルなどの
電気光学パネルを、レーザ光を用いて切断するためのレ
ーザ切断方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser cutting method for cutting an electro-optical panel such as a liquid crystal panel using laser light.

【0002】[0002]

【背景技術】近年、携帯電話、携帯型コンピュータ、ビ
デオカメラなどの電子機器の表示部として、液晶装置な
どの電気光学装置が広く用いられている。液晶装置で
は、2枚の基板をシール材によって重ねて貼り合わせて
空セルと呼ばれる空のパネルを構成した後、シール材で
区画された領域内に電気光学物質としての液晶が封入さ
れる。
2. Description of the Related Art In recent years, electro-optical devices such as liquid crystal devices have been widely used as display units for electronic devices such as mobile phones, portable computers, and video cameras. In a liquid crystal device, two substrates are stacked with a sealing material and bonded to each other to form an empty panel called an empty cell, and then liquid crystal as an electro-optical material is enclosed in a region partitioned by the sealing material.

【0003】このような液晶装置に用いる液晶パネル
は、個々のパネルに対応した2枚の基板を1枚ずつ形成
して貼り合わせる場合もあるが、小型の液晶装置を製造
する場合には、特に複数のパネルを形成できる大型基板
(元基板)に対して複数の液晶装置分の配線パターンを
形成するなど、製造工程の途中までは大型基板のままで
処理を行い、その後、大型基板を個々の基板に切断、分
割することが多い。また、2枚の大型基板を重ねて貼り
合わせて大型パネルとした後、この大型パネルを個々の
パネルサイズに切断することもある。
In the liquid crystal panel used in such a liquid crystal device, two substrates corresponding to each panel may be formed and bonded one by one, but especially when manufacturing a small liquid crystal device. For example, forming a wiring pattern for multiple liquid crystal devices on a large substrate (former substrate) that can form multiple panels, processing is performed on the large substrate as it is until the middle of the manufacturing process. Often cut and divided into substrates. In addition, two large substrates may be stacked and bonded to each other to form a large panel, and then the large panel may be cut into individual panel sizes.

【0004】このような切断は、従来、2枚の基板を貼
り合わせたパネルの表面に、ダイヤモンドチップなどに
よりスクライブラインを形成した後、パネルを裏返し、
パネルの裏面側からパネルに対してブレイク用の治具
(例えばゴムローラ)により曲げ応力を加え、この応力
によってパネルを切断するものである。
Conventionally, such cutting is performed by forming a scribe line with a diamond chip or the like on the surface of a panel obtained by bonding two substrates, and then turning the panel over.
Bending stress is applied to the panel from the back side of the panel by a breaking jig (for example, a rubber roller), and the panel is cut by this stress.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この切
断方法では、スクライブによって生じたパネル断面のマ
イクロクラックの制御ができないため、切断が不安定と
なる。また、マイクロクラックからの多数のチッピング
がパネル断面から発生する。このようなチッピングが多
数発生すると、パネル強度を弱めるとともに、その破片
を除去するための洗浄を行わなければならないという問
題点がある。また、上記の切断方法は接触式であるた
め、ゴムローラに異物が付着していると、パネルに傷を
付けてしまうおそれがある。
However, with this cutting method, it is not possible to control the microcracks in the panel cross section caused by the scribe, so that the cutting becomes unstable. Also, many chippings from the microcracks occur from the panel cross section. When a large number of such chippings occur, there is a problem that the panel strength is weakened and cleaning for removing the fragments must be performed. Further, since the above cutting method is a contact method, if foreign matter adheres to the rubber roller, the panel may be damaged.

【0006】一方、特開平11−104869号公報な
どにおいては、ガラス基板を切断する方法としてレーザ
光を利用する方法が提案されている。この方法によれ
ば、レーザ光が照射された領域が温度上昇して、その温
度勾配に起因して発生する熱応力が増大し、基板に厚さ
方向に亀裂が発生して基板が割れる。この切断方法は非
接触で切断を行うので、基板に傷を付けるおそれがな
い。
On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-104869 proposes a method of utilizing laser light as a method of cutting a glass substrate. According to this method, the temperature of the region irradiated with the laser beam rises, the thermal stress generated due to the temperature gradient increases, and the substrate is cracked in the thickness direction and the substrate is cracked. Since this cutting method performs the cutting in a non-contact manner, there is no risk of scratching the substrate.

【0007】しかし、特開平11−104869号公報
に記載された切断方法は、あくまで1枚のガラス基板を
切断することを前提としており、この方法により2枚の
ガラス基板を貼り合わせたパネルを切断しようとする
と、以下のような問題が発生する。
However, the cutting method described in JP-A-11-104869 is based on the premise that only one glass substrate is cut, and this method cuts a panel in which two glass substrates are bonded together. If you try, the following problems will occur.

【0008】まず、ガラス基板は光吸収率が高いため、
レーザ光を上側から照射したとき、上側のガラス基板は
加熱されるが下側のガラス基板は加熱されない。それゆ
え、熱応力は上側のガラス基板のみに働き、下側のガラ
ス基板には働かない。また、上下のガラス基板は、シー
ル材により連結されており、上側のガラス基板が割れよ
うとしても、下側のガラス基板は割れを抑えるように働
くため、1枚のガラス基板を切断する場合とは同一条件
で切断を行えないという問題点がある。さらに、熱エネ
ルギーを増大させると、上側のガラス基板が割れようと
する力が増大するが、下側のガラス基板はその力をシー
ル材を介して受けるだけである。従って、このような力
によって下側のガラス基板が割れるとしても、その力は
パネルの構造やシール材の接着状態などに依存し、再現
性に乏しいという問題点がある。
First, since the glass substrate has a high light absorption rate,
When the laser light is irradiated from the upper side, the upper glass substrate is heated but the lower glass substrate is not heated. Therefore, the thermal stress acts only on the upper glass substrate, not on the lower glass substrate. In addition, since the upper and lower glass substrates are connected by a sealant, and even if the upper glass substrate is broken, the lower glass substrate works to suppress the breakage, the case of cutting one glass substrate Has the problem that cutting cannot be performed under the same conditions. Further, when the thermal energy is increased, the force of the upper glass substrate about to break increases, but the lower glass substrate only receives the force via the sealing material. Therefore, even if the lower glass substrate is broken by such a force, the force depends on the structure of the panel, the bonding state of the sealing material, etc., and there is a problem that the reproducibility is poor.

【0009】本発明は、以上の点に鑑みてなされたもの
であり、液晶パネルなどを高精度に、かつ効率的に切断
することが可能なレーザ切断方法を提供することを課題
とする。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide a laser cutting method capable of cutting a liquid crystal panel or the like with high accuracy and efficiency.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の1つの観点で
は、レーザ切断方法は、切断対象物の表面に、吸熱材を
含む材料により切断パターンを形成するパターン形成工
程と、前記切断パターンに沿ってレーザ光を照射して、
前記切断対象物を切断する切断工程と、を有する。
According to one aspect of the present invention, a laser cutting method includes a pattern forming step of forming a cutting pattern on a surface of an object to be cut with a material containing an endothermic material, and the cutting pattern along the cutting pattern. Irradiate laser light,
A cutting step of cutting the object to be cut.

【0011】上記のレーザ切断方法によれば、例えばガ
ラス基板などの切断対象物の表面に、吸熱材を含む材料
により切断パターンが形成される。切断パターンの部分
は、切断対象物のその他の部分より、吸熱性が高くな
る。次に、切断パターンに沿って、レーザ光を照射して
レーザ切断を行う。レーザ切断は、レーザ照射により生
じた切断対象物上の温度勾配による熱応力により切断対
象物に亀裂が形成されることにより行われるが、切断パ
ターン上は吸熱材の存在により吸熱性が高くなっている
ので、温度勾配がより明確に形成される。よって、切断
対象物は、切断パターンに沿って安定的に切断される。
According to the above laser cutting method, a cutting pattern is formed on the surface of an object to be cut, such as a glass substrate, using a material containing a heat absorbing material. The part of the cutting pattern has higher heat absorption than the other parts of the cutting object. Next, a laser beam is irradiated along the cutting pattern to perform laser cutting. Laser cutting is performed by the formation of cracks in the cutting object due to the thermal stress due to the temperature gradient on the cutting object generated by laser irradiation, but the heat absorption becomes higher due to the presence of the heat absorbing material on the cutting pattern. Therefore, the temperature gradient is formed more clearly. Therefore, the object to be cut is stably cut along the cutting pattern.

【0012】上記のレーザ切断方法の一態様では、前記
パターン形成工程は、前記吸熱材を含むインクをインク
ジェット印刷することにより前記切断パターンを形成す
る。
In one mode of the above laser cutting method, in the pattern forming step, the cutting pattern is formed by inkjet printing the ink containing the heat absorbing material.

【0013】この態様によれば、吸熱材を含むインクを
インクジェット印刷することにより切断パターンが形成
されるので、単純な装置で容易に切断パターンを形成す
ることができる。また、インクジェット印刷技術を利用
するので、切断パターンの幅や厚さなども容易に調整す
ることができ、それにより切断対象物に与える吸熱性を
比較的精密に調整することができる。
According to this aspect, since the cutting pattern is formed by ink-jet printing the ink containing the heat absorbing material, the cutting pattern can be easily formed with a simple device. Further, since the inkjet printing technique is used, the width and thickness of the cutting pattern can be easily adjusted, and thereby the heat absorption given to the object to be cut can be adjusted relatively precisely.

【0014】上記のレーザ切断方法の他の一態様では、
前記吸熱材は、前記インクに含まれる希釈剤に対する溶
性を有する。
In another aspect of the above laser cutting method,
The heat absorbing material has solubility in the diluent contained in the ink.

【0015】この態様によれば、吸熱材はインクに混ぜ
る希釈剤に対する溶性を有するので、インク材料に希釈
剤と吸熱材を混ぜてインクジェット印刷するだけで、容
易に切断パターンを形成することができる。
According to this aspect, since the heat absorbing material has a solubility in the diluent mixed with the ink, the cutting pattern can be easily formed only by mixing the ink material with the diluent and the heat absorbing material and performing ink jet printing. .

【0016】本発明の他の観点では、レーザ切断装置
は、切断対象物の表面に、吸熱材を含む材料により切断
パターンを形成するパターン形成手段と、前記切断パタ
ーンに沿ってレーザ光を照射して、前記切断対象物を切
断する切断手段と、を有する。
According to another aspect of the present invention, a laser cutting device irradiates a surface of an object to be cut with pattern forming means for forming a cutting pattern with a material containing an endothermic material, and irradiates laser light along the cutting pattern. And a cutting means for cutting the object to be cut.

【0017】上記のレーザ切断装置によれば、例えばガ
ラス基板などの切断対象物の表面に、吸熱材を含む材料
により切断パターンが形成される。切断パターンの部分
は、切断対象物のその他の部分より、吸熱性が高くな
る。次に、切断パターンに沿って、レーザ光を照射して
レーザ切断を行う。レーザ切断は、レーザ照射により生
じた切断対象物上の温度勾配による熱応力により切断対
象物に亀裂が形成されることにより行われるが、切断パ
ターン上は吸熱材の存在により吸熱性が高くなっている
ので、温度勾配がより明確に形成される。よって、切断
対象物は、切断パターンに沿って安定的に切断される。
According to the above laser cutting device, a cutting pattern is formed on the surface of an object to be cut such as a glass substrate by using a material containing a heat absorbing material. The part of the cutting pattern has higher heat absorption than the other parts of the cutting object. Next, a laser beam is irradiated along the cutting pattern to perform laser cutting. Laser cutting is performed by the formation of cracks in the cutting object due to the thermal stress due to the temperature gradient on the cutting object generated by laser irradiation, but the heat absorption becomes higher due to the presence of the heat absorbing material on the cutting pattern. Therefore, the temperature gradient is formed more clearly. Therefore, the object to be cut is stably cut along the cutting pattern.

【0018】上記のレーザ切断装置の一態様では、前記
パターン形成手段は、前記吸熱材を含むインクをインク
ジェット印刷することにより前記切断パターンを形成す
る。
In one mode of the above laser cutting device, the pattern forming means forms the cutting pattern by inkjet printing the ink containing the heat absorbing material.

【0019】この態様によれば、吸熱材を含むインクを
インクジェット印刷することにより切断パターンが形成
されるので、単純な装置で容易に切断パターンを形成す
ることができる。また、インクジェット印刷技術を利用
するので、切断パターンの幅や厚さなども容易に調整す
ることができ、それにより切断対象物に与える吸熱性を
比較的精密に調整することができる。
According to this aspect, since the cutting pattern is formed by ink jet printing the ink containing the heat absorbing material, the cutting pattern can be easily formed by a simple device. Further, since the inkjet printing technique is used, the width and thickness of the cutting pattern can be easily adjusted, and thereby the heat absorption given to the object to be cut can be adjusted relatively precisely.

【0020】上記のレーザ切断装置の他の一態様では、
前記吸熱材は、前記インクに含まれる希釈剤に対する溶
性を有する。
In another mode of the above laser cutting device,
The heat absorbing material has solubility in the diluent contained in the ink.

【0021】この態様によれば、吸熱材はインクに混ぜ
る希釈剤に対する溶性を有するので、インク材料に希釈
剤と吸熱材を混ぜてインクジェット印刷するだけで、容
易に切断パターンを形成することができる。
According to this aspect, since the endothermic material has solubility in the diluent mixed with the ink, the cutting pattern can be easily formed only by mixing the ink material with the diluent and the endothermic material and performing inkjet printing. .

【0022】本発明のさらに他の観点では、レーザ切断
方法は、2枚の基板を貼り合わせてなるパネルの2つの
外面上に、吸熱材を含む材料により切断パターンをそれ
ぞれ形成するパターン形成工程と、前記切断パターンに
沿って前記2つの外面上に個別にレーザ光を照射して、
前記2枚の基板を切断することにより前記パネルを切断
する切断工程と、を有する。
According to still another aspect of the present invention, the laser cutting method includes a pattern forming step of forming a cutting pattern by a material containing a heat absorbing material on two outer surfaces of a panel formed by bonding two substrates together. Irradiating the two outer surfaces with laser light individually along the cutting pattern,
A cutting step of cutting the panel by cutting the two substrates.

【0023】上記のレーザ切断方法によれば、2枚の基
板を貼り合わせてなるパネルの外面上にそれぞれ吸熱材
を含む切断パターンを形成し、それらに個別にレーザ光
を照射して2枚の基板をレーザ切断することによりパネ
ルが切断される。吸熱材を含む切断パターンに沿って各
基板のレーザ切断が行われるので、パネルは高精度に切
断される。
According to the above laser cutting method, cutting patterns each containing a heat absorbing material are formed on the outer surface of a panel formed by bonding two substrates, and the cutting patterns are individually irradiated with laser light to form two cutting patterns. The panel is cut by laser cutting the substrate. Since the laser cutting of each substrate is performed along the cutting pattern including the heat absorbing material, the panel is cut with high accuracy.

【0024】上記のレーザ切断方法の一態様では、前記
パターン形成工程は、前記吸熱材を含むインクをインク
ジェット印刷することにより前記切断パターンを形成す
る。
In one mode of the above laser cutting method, the pattern forming step forms the cutting pattern by inkjet printing an ink containing the heat absorbing material.

【0025】この態様によれば、吸熱材を含むインクを
インクジェット印刷することにより切断パターンが形成
されるので、単純な装置で容易に切断パターンを形成す
ることができる。また、インクジェット印刷技術を利用
するので、切断パターンの幅や厚さなども容易に調整す
ることができ、それにより切断対象物に与える吸熱性を
比較的精密に調整することができる。
According to this aspect, since the cutting pattern is formed by ink-jet printing the ink containing the heat absorbing material, the cutting pattern can be easily formed by a simple device. Further, since the inkjet printing technique is used, the width and thickness of the cutting pattern can be easily adjusted, and thereby the heat absorption given to the object to be cut can be adjusted relatively precisely.

【0026】上記のレーザ切断方法の他の一態様では、
前記吸熱材は、前記インクに含まれる希釈剤に対する溶
性を有する。
In another aspect of the above laser cutting method,
The heat absorbing material has solubility in the diluent contained in the ink.

【0027】この態様によれば、吸熱材はインクに混ぜ
る希釈剤に対する溶性を有するので、インク材料に希釈
剤と吸熱材を混ぜてインクジェット印刷するだけで、容
易に切断パターンを形成することができる。
According to this aspect, since the endothermic material has solubility in the diluent mixed with the ink, the cutting pattern can be easily formed only by mixing the diluent and the endothermic material with the ink material and performing ink jet printing. .

【0028】上記のレーザ切断方法のさらに他の一態様
では、前記切断工程は、前記パネルの2枚の基板の切断
を同時に行う。
In still another mode of the above laser cutting method, the cutting step simultaneously cuts the two substrates of the panel.

【0029】この態様によれば、2枚の基板が同時に切
断されるので、効率的にパネルの切断を行うことができ
る。
According to this aspect, since the two substrates are cut at the same time, the panel can be cut efficiently.

【0030】本発明のさらに他の観点では、電気光学パ
ネルの製造方法は、2枚の基板を貼り合わせて、複数の
電気光学パネルを含む大型パネルを製作する工程と、上
記のレーザ切断方法により、前記大型パネルを切断して
複数の電気光学パネルを製作する工程と、を有する。
In still another aspect of the present invention, a method of manufacturing an electro-optical panel includes a step of bonding two substrates to each other to manufacture a large panel including a plurality of electro-optical panels, and the laser cutting method described above. Cutting the large panel to produce a plurality of electro-optical panels.

【0031】上記の電気光学パネルの製造方法によれ
ば、2枚の基板を貼り合わせて大判パネルを製作した
後、それをレーザ切断により高精度かつ効率的に切断し
て、個別の電気光学パネルを製作することができる。
According to the above-described method for manufacturing an electro-optical panel, two substrates are bonded to each other to manufacture a large-sized panel, and then the large-sized panel is cut by laser cutting with high precision and efficiency to obtain individual electro-optical panels. Can be manufactured.

【0032】また、上記の電気光学パネルの製造方法に
より電気光学装置を製造し、さらにその電気光学装置を
表示部として利用して電子機器を製造することができ
る。
Further, it is possible to manufacture an electro-optical device by the above-mentioned method for manufacturing an electro-optical panel, and further to manufacture an electronic device by using the electro-optical device as a display section.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
適な実施の形態について説明する。なお、以下の説明で
は、本発明に係るレーザ切断方法を、パッシブマトリク
ス型の電気光学装置の製造方法に適用した例を説明す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following description, an example in which the laser cutting method according to the present invention is applied to a method for manufacturing a passive matrix electro-optical device will be described.

【0034】[全体構成]図1及び図2はそれぞれ本発
明を適用した電気光学装置の斜視図及び分解斜視図であ
る。図3は、本発明を適用した電気光学装置を図1のI
−I’線で切断したときのI側の端部の断面図である。
なお、図1及び図2には、電極パターン及び端子などを
模式的に示してあるだけであり、実際の電気光学装置で
は、より多数の電極パターンや端子が形成されている。
[Overall Structure] FIGS. 1 and 2 are a perspective view and an exploded perspective view, respectively, of an electro-optical device to which the present invention is applied. FIG. 3 shows an electro-optical device to which the present invention is applied, as shown in FIG.
It is sectional drawing of the edge part on the I side when it cut | disconnects by a -I 'line.
It should be noted that FIGS. 1 and 2 only schematically show electrode patterns, terminals, and the like, and in an actual electro-optical device, a larger number of electrode patterns and terminals are formed.

【0035】図1及び図2において、本実施形態の電気
光学装置1は、携帯電話などの電子機器に搭載されてい
るパッシブマトリクスタイプの液晶表示装置である。こ
の電気光学装置1に用いた液晶パネル1’では、所定の
間隙を介してシール材30によって貼り合わされた矩形
のガラス基板からなる一対の透明基板10、20間にシ
ール材30によって液晶封入領域35が区画されている
とともに、この液晶封入領域35内に電気光学物質とし
ての液晶が封入されている。
1 and 2, the electro-optical device 1 of the present embodiment is a passive matrix type liquid crystal display device mounted in an electronic device such as a mobile phone. In the liquid crystal panel 1 ′ used in the electro-optical device 1, the liquid crystal encapsulation region 35 is formed by the sealing material 30 between the pair of transparent substrates 10 and 20 made of rectangular glass substrates that are bonded together by the sealing material 30 with a predetermined gap. And a liquid crystal as an electro-optical material is sealed in the liquid crystal sealing area 35.

【0036】ここに示す電気光学装置1は透過型の例で
あり、第2の透明基板20の外側表面に偏光板61が貼
られ、第1の透明基板10の外側表面にも偏光板62が
貼られている。また、第2の透明基板20の外側にはバ
ックライト装置9が配置されている。
The electro-optical device 1 shown here is an example of a transmission type, and a polarizing plate 61 is attached to the outer surface of the second transparent substrate 20, and a polarizing plate 62 is also attached to the outer surface of the first transparent substrate 10. It is pasted. Further, the backlight device 9 is arranged outside the second transparent substrate 20.

【0037】第1の透明基板10には、図3に示すよう
に、第1の電極パターン40と第2の電極パターン50
との交点に相当する領域に赤(R)、緑(G)、青
(B)のカラーフィルタ7R、7G、7Bが形成され、
これらのカラーフィルタ7R、7G、7Bの表面側に絶
縁性の平坦化膜13、第1の電極パターン40及び配向
膜12がこの順に形成されている。これに対して、第2
の透明基板20には、第2の電極パターン50、オーバ
ーコート膜29及び配向膜22がこの順に形成されてい
る。
As shown in FIG. 3, the first transparent substrate 10 has a first electrode pattern 40 and a second electrode pattern 50.
Red (R), green (G), and blue (B) color filters 7R, 7G, and 7B are formed in the area corresponding to the intersection with
An insulating flattening film 13, a first electrode pattern 40, and an alignment film 12 are formed in this order on the surface side of these color filters 7R, 7G, 7B. In contrast, the second
On the transparent substrate 20, the second electrode pattern 50, the overcoat film 29, and the alignment film 22 are formed in this order.

【0038】本実施形態の電気光学装置1において、第
1の電極パターン40及び第2の電極パターン50はい
ずれもITO膜に代表される透明電極膜によって形成さ
れている。ここで、第2の電極パターン50の下に絶縁
膜を介し、パターニングされた薄いアルミニウム膜など
といった半透過・半反射性の膜を形成すれば、半透過・
半反射型の電気光学装置1を構成できる。また、第2の
電極パターン50の下に形成された反射層を厚いアルミ
ニウム膜などといった反射性の膜で形成すれば、反射型
の電気光学装置1を構成でき、この場合には第2の透明
基板20の裏面側からバックライト装置9を省略すれば
よい。
In the electro-optical device 1 of this embodiment, both the first electrode pattern 40 and the second electrode pattern 50 are formed by a transparent electrode film represented by an ITO film. Here, if a semi-transmissive / semi-reflective film such as a patterned thin aluminum film is formed under the second electrode pattern 50 via an insulating film, the semi-transmissive / semi-reflective film is formed.
The semi-reflective electro-optical device 1 can be constructed. Further, if the reflective layer formed under the second electrode pattern 50 is formed of a reflective film such as a thick aluminum film, the reflective electro-optical device 1 can be configured, and in this case, the second transparent film. The backlight device 9 may be omitted from the back surface side of the substrate 20.

【0039】[切断パターンの形成]次に、本実施形態
における切断パターンの形成について説明する。本発明
のレーザ切断方法においては、図3に示すような、シー
ル材30を介して貼り合わされた2枚のガラス基板10
及び20からなる大型基板をレーザ切断(ブレイク)す
る際に、各ガラス基板10及び20の外側表面にインク
ジェット工法により切断パターン線を形成する。図3に
おいては、ガラス基板10の外側表面に切断パターン4
5が形成されており、ガラス基板20の外側表面には切
断パターン55が形成されている。
[Formation of Cutting Pattern] Next, formation of the cutting pattern in the present embodiment will be described. In the laser cutting method of the present invention, as shown in FIG. 3, two glass substrates 10 bonded together with a sealing material 30 interposed therebetween.
When laser cutting (breaking) a large-sized substrate composed of 20 and 20, cutting pattern lines are formed on the outer surface of each glass substrate 10 and 20 by an inkjet method. In FIG. 3, the cutting pattern 4 is formed on the outer surface of the glass substrate 10.
5 is formed, and a cutting pattern 55 is formed on the outer surface of the glass substrate 20.

【0040】切断パターン45、55は、各ガラス基板
10及び20の外側表面上に、吸熱材入りのインクをイ
ンクジェット工法により印刷することで形成される。吸
熱材としては、例えばシリカ、カーボン、又は黒色の着
色剤などを使用することができる。液晶パネルを構成す
るガラス基板10及び20は透明であるので、黒色など
の吸熱効率の高い色の着色剤を塗布することにより、そ
の部分の吸熱性を高めることができる。また、吸熱材
は、インクジェット工法により噴射するインクに混入さ
れる希釈剤に対して溶性を有するものが好ましい。即
ち、上記のような吸熱材を希釈剤に溶かしてインクに混
入し、インクジェット噴射によりガラス基板上に切断パ
ターンを印刷する。なお、吸熱剤としてITOを使用
し、液体ITOをインクジェット噴射することにより切
断パターンをガラス基板上に形成してもよい。
The cutting patterns 45 and 55 are formed by printing an ink containing a heat absorbing material on the outer surface of each glass substrate 10 and 20 by an ink jet method. As the heat absorbing material, for example, silica, carbon, or a black colorant can be used. Since the glass substrates 10 and 20 constituting the liquid crystal panel are transparent, by applying a colorant of a color having high heat absorption efficiency such as black, the heat absorption of that portion can be enhanced. Further, the heat absorbing material is preferably one having a solubility in the diluent mixed in the ink ejected by the inkjet method. That is, the endothermic material as described above is dissolved in a diluent and mixed in the ink, and a cutting pattern is printed on the glass substrate by inkjet ejection. It should be noted that ITO may be used as the heat absorbing agent and the cutting pattern may be formed on the glass substrate by jetting liquid ITO by ink jet.

【0041】ガラス基板上に吸熱材入りインクで切断パ
ターンを印刷すると、切断パターン上においては、それ
以外の部分に比べて吸熱性が高くなる。レーザ切断は、
レーザ照射によりガラス基板表面に形成される温度勾配
に起因して熱応力が発生し、それによりガラス基板上の
亀裂が進行することにより生じる。よって、レーザ切断
工程においてレーザ光がガラス基板上に照射されたとき
にガラス基板に生じる亀裂は、吸熱性が高い切断パター
ンに沿って進行しやすくなり、これにより切断パターン
に沿ってレーザ切断を安定的に進行させることが可能と
なる。
When the cutting pattern is printed on the glass substrate with the ink containing the heat absorbing material, the heat absorbing property on the cutting pattern becomes higher than that on other portions. Laser cutting
Thermal stress is generated due to the temperature gradient formed on the glass substrate surface by laser irradiation, and this is caused by the progress of cracks on the glass substrate. Therefore, a crack generated in the glass substrate when the glass substrate is irradiated with the laser beam in the laser cutting process easily progresses along the cutting pattern having a high heat absorption property, which stabilizes the laser cutting along the cutting pattern. It is possible to make progress.

【0042】レーザ切断においては、上述のように熱応
力によるガラスの亀裂の進行を利用してガラス基板が切
断されるので、切断線、即ちガラスの亀裂の進行方向を
制御することが難しいという問題がある。通常、液晶パ
ネルなどにおいては大型パネルを縦及び横の方向に直線
的に切断するが、亀裂の直進性が悪いと、切断された液
晶パネルの周辺が直線とならなかったり、亀裂がガラス
基板の内部方向へ進んでしまったりという不具合が生じ
る。この観点から、レーザ切断の直進性を改善するため
に、切断対象となるガラス基板などに予め切断予定線に
沿った溝などを設けることが提案されている。例えば、
前述の特開平11−104869号公報などでは化学的
エッチングによりガラス基板上に切断ガイド溝を形成し
ている。また、カッターなどを利用して基板上に機械的
に切断ガイド溝を形成することも提案されている。
In the laser cutting, since the glass substrate is cut by utilizing the progress of the glass crack due to the thermal stress as described above, it is difficult to control the cutting line, that is, the progress direction of the glass crack. There is. Usually, in a liquid crystal panel or the like, a large panel is cut linearly in the vertical and horizontal directions, but if the straightness of the crack is poor, the periphery of the cut liquid crystal panel will not be a straight line, or the crack of the glass substrate There will be problems such as going inward. From this viewpoint, in order to improve the straightness of laser cutting, it has been proposed to previously provide a groove or the like along the planned cutting line on the glass substrate or the like to be cut. For example,
In the above-mentioned JP-A-11-104869, etc., the cutting guide groove is formed on the glass substrate by chemical etching. It has also been proposed to mechanically form a cutting guide groove on a substrate using a cutter or the like.

【0043】しかし、そのようなガイド溝を形成する
と、切断工程以前における大型パネルの強度が低下する
という問題がある。また、大型パネルをまず1次ブレイ
クしていわゆる短冊状基板の状態で液晶を真空注入する
ような場合は、切断ガイド溝内部に液晶材料が侵入して
しまうなどの不具合もある。
However, when such a guide groove is formed, there is a problem that the strength of the large-sized panel before the cutting step is reduced. Further, when a large-sized panel is first subjected to a primary break and liquid crystal is vacuum-injected in the state of a so-called strip substrate, there is a problem that the liquid crystal material enters the cutting guide groove.

【0044】これに対し、本発明では、吸熱材を含むイ
ンクを利用して切断パターンをインクジェット印刷する
ことによりレーザ切断の直線性を改善する手法を採用す
るので、ガラス基板上にガイド溝を形成することはな
く、上述のような不具合は生じない。また、インク中に
含まれる吸熱材の割合を調整したり、インクジェット印
刷する切断パターンの幅を調整したりすることにより、
切断パターンの吸熱性を調整することができるので、ガ
ラス基板の厚さなどを考慮して適切な吸熱性を与えてレ
ーザ切断を正確に行うことができる。さらには、インク
ジェット工法によれば、曲線や湾曲、角などの異形状の
切断パターンを用意に形成できるので、単純な直線パタ
ーンに沿ってレーザ切断を行うだけでなく、各種の形状
に沿ってレーザ切断を進行させることも可能となる。
On the other hand, in the present invention, since the method of improving the linearity of laser cutting by ink jet printing the cutting pattern using the ink containing the heat absorbing material, the guide groove is formed on the glass substrate. Therefore, the above-mentioned inconvenience does not occur. Further, by adjusting the ratio of the endothermic material contained in the ink, or by adjusting the width of the cutting pattern for inkjet printing,
Since the heat absorption of the cutting pattern can be adjusted, the laser cutting can be accurately performed by giving an appropriate heat absorption in consideration of the thickness of the glass substrate and the like. Furthermore, according to the inkjet method, it is possible to easily form a cutting pattern having an irregular shape such as a curve, a curve, or a corner. Therefore, not only can laser cutting be performed along a simple straight line pattern, but laser cutting can be performed along various shapes. It is also possible to proceed with cutting.

【0045】[電気光学装置の製造方法]図4及び図5
は、それぞれ電気光学装置1の製造方法を示す工程図及
び説明図である。図6(A)は電気光学装置の製造工程
において大型パネル300を切断する様子を示す説明図
である。
[Method of Manufacturing Electro-Optical Device] FIGS. 4 and 5
3A and 3B are a process diagram and an explanatory diagram, respectively, showing a manufacturing method of the electro-optical device 1. FIG. 6A is an explanatory diagram showing a state in which the large panel 300 is cut in the manufacturing process of the electro-optical device.

【0046】本実施形態の電気光学装置1を製造するに
あたって、第1の透明基板10及び第2の透明基板20
はいずれも図4及び図5に示す工程(A)において、こ
れらの基板10、20を各々、多数枚取りできる大型基
板100、200の状態で電極パターン40、50など
の形成工程が行われる。
In manufacturing the electro-optical device 1 of this embodiment, the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 are used.
In both cases, in the step (A) shown in FIGS. 4 and 5, the step of forming the electrode patterns 40, 50 and the like is performed in the state of the large substrates 100, 200 capable of taking a large number of these substrates 10, 20, respectively.

【0047】そして、大型基板100、200の各々に
対して、図4及び図5に示す工程(B)において、配向
膜12、22の形成及びラビング工程を行った後、例え
ば図4及び図5に示す工程(C)において、第1の大型
基板100にシール材30を塗布する一方、第2の大型
基板200にギャップ材28を散布する。
After the alignment films 12 and 22 are formed and the rubbing process is performed on the large substrates 100 and 200 in the process (B) shown in FIGS. 4 and 5, for example, FIGS. In the step (C) shown in (1), the sealing material 30 is applied to the first large-sized substrate 100, while the gap material 28 is sprinkled on the second large-sized substrate 200.

【0048】次に、図4及び図5に示す工程(D)にお
いて、大型基板100、200を所定の位置関係をもっ
て貼り合わせて大型パネル200を形成する。
Next, in step (D) shown in FIGS. 4 and 5, the large-sized substrates 100 and 200 are bonded together in a predetermined positional relationship to form a large-sized panel 200.

【0049】次に、図4及び図5に示す工程(E)にお
いて、大型パネル300に対する切断工程(1次ブレイ
ク工程)を行う。この1次ブレイク工程では、まず、前
述の切断パターン45、55をインクジェット工法によ
り大型パネル300の外側表面上に形成する(図6
(A)参照)。そして、切断パターン45、55に沿っ
てレーザ光L1、L2を照射して、大型パネル300を
短冊状パネル400に切断する。このとき、切断パター
ン45、55は前述のように吸熱材を含んでいるので、
レーザ光照射による熱は切断パターン45、55に集中
し、切断パターン45、55に沿って高精度でレーザ切
断が行われる。
Next, in step (E) shown in FIGS. 4 and 5, a cutting step (primary break step) is performed on the large-sized panel 300. In this primary break process, first, the cutting patterns 45 and 55 described above are formed on the outer surface of the large-sized panel 300 by the inkjet method (FIG. 6).
(See (A)). Then, the large-sized panel 300 is cut into the strip-shaped panels 400 by irradiating the laser beams L1 and L2 along the cutting patterns 45 and 55. At this time, since the cutting patterns 45 and 55 include the heat absorbing material as described above,
The heat generated by the laser light irradiation is concentrated on the cutting patterns 45 and 55, and the laser cutting is performed with high accuracy along the cutting patterns 45 and 55.

【0050】こうして形成された短冊状パネル400の
切断部分には、液晶注入口31(図2を参照)が開口し
ている。従って、図4及び図5に示す工程(F)におい
て、液晶注入口31から液晶を注入した後、液晶注入口
31を封止材32(図2を参照)で封止する。
A liquid crystal injection port 31 (see FIG. 2) is opened at the cut portion of the strip-shaped panel 400 thus formed. Therefore, in the step (F) shown in FIGS. 4 and 5, after the liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port 31, the liquid crystal injection port 31 is sealed with the sealing material 32 (see FIG. 2).

【0051】次に、図4及び図5に示す工程(G)にお
いて、短冊状パネル400を各電気光学装置1毎の単品
の液晶パネル1’に切断するための切断工程(2次ブレ
イク)が行われる。この2次ブレイクも、前述の1次ブ
レイクと同様に、まずインクジェット工法により吸熱材
のインクを短冊状パネル400上に噴射して切断パター
ン45及び55を形成し、次にそれら切断パターン45
及び55に沿ってレーザ光を照射して短冊状パネル40
0を単品の液晶パネル1’に切断する。
Next, in the step (G) shown in FIGS. 4 and 5, a cutting step (secondary break) for cutting the strip-shaped panel 400 into a single liquid crystal panel 1 ′ for each electro-optical device 1 is performed. Done. Similarly to the above-mentioned primary break, this secondary break also first ejects the ink of the heat absorbing material onto the strip-shaped panel 400 by the ink jet method to form the cutting patterns 45 and 55, and then the cutting patterns 45.
And a strip-shaped panel 40 by irradiating a laser beam along 55.
0 is cut into a single liquid crystal panel 1 '.

【0052】次に、単品の液晶パネル1’については、
図1及び図2に示すように、第1の透明基板10を第2
の透明基板よりも小さめに仕上げて、端子領域(張り出
し領域とも呼ばれる)を露出させる必要があるので、短
冊状パネル400から切り出した単品の液晶パネル1’
に対して、前述と同様にインクジェット工程により切断
パターン403を形成し、それに沿ってレーザ光Lを照
射して第2の透明基板20から端子領域を露出させる。
Next, regarding the single liquid crystal panel 1 ',
As shown in FIGS. 1 and 2, the first transparent substrate 10 is formed into a second transparent substrate 10.
Since it is necessary to finish it to be smaller than the transparent substrate and expose the terminal area (also referred to as an overhang area), a single liquid crystal panel 1 ′ cut out from the strip-shaped panel 400.
On the other hand, similarly to the above, the cutting pattern 403 is formed by the inkjet process, and the laser beam L is irradiated along the cutting pattern 403 to expose the terminal region from the second transparent substrate 20.

【0053】その後、図4及び5に示す工程(H)にお
いて、フレキシブル基板90などの実装を行う。
Then, in step (H) shown in FIGS. 4 and 5, the flexible substrate 90 and the like are mounted.

【0054】なお、上記の例では、1次ブレイク及び2
次ブレイクのそれぞれの工程において、まずインクジェ
ット工法により切断パターン45、55を形成し、続い
てレーザ切断を行っている。その代わりに、1次ブレイ
ク工程中において、1次ブレイク及び2次ブレイク用の
切断パターンを一度に大型パネル300に形成してしま
い、2次ブレイク工程においては既に形成されている切
断パターンに沿ってレーザ切断のみを行うこととしても
よい。
In the above example, the first break and the second break
In each step of the next break, first, the cutting patterns 45 and 55 are formed by the inkjet method, and then the laser cutting is performed. Instead, during the primary break process, the cutting patterns for the primary break and the secondary break are formed on the large-sized panel 300 at one time, and along the cutting pattern already formed in the secondary break process. Only laser cutting may be performed.

【0055】また、さらに他の方法として、1次ブレイ
ク工程と2次ブレイク工程を一度に行って単品の液晶パ
ネル1’を作った後、それら単品の液晶パネル1’に対
して個別に液晶の注入を行うこともできる。
As still another method, a single liquid crystal panel 1'is manufactured by performing the primary break process and the secondary break process at the same time, and then the liquid crystal panels 1'are individually separated. Injection can also be performed.

【0056】また、上述の1次ブレイク工程及び2次ブ
レイク工程では、大型基板300や短冊状基板400の
2枚のガラス基板に上下方向からレーザ光を同時に照射
して、同時にレーザ切断することができる。この点、従
来のレーザ切断方法では、もともと切断線の直進性が悪
いために、上下方向から同時にレーザ光を照射すると切
断線がより不安定となるので、2枚のガラス基板を1枚
ずつ順にレーザ切断していた。しかし、本発明のレーザ
切断方法では、吸熱材を含む切断パターンをガラス基板
に形成して切断線の直進性を改善しているため、2枚の
ガラス基板を上下方向から同時にレーザ切断することが
できる。
Further, in the above-described primary break process and secondary break process, it is possible to simultaneously irradiate two glass substrates such as the large-sized substrate 300 and the strip-shaped substrate 400 with laser light from above and below and simultaneously perform laser cutting. it can. On the other hand, in the conventional laser cutting method, since the straightness of the cutting line is originally poor, the cutting lines become more unstable when the laser light is irradiated from the upper and lower directions at the same time. Therefore, two glass substrates are sequentially processed one by one. It was laser cut. However, in the laser cutting method of the present invention, the cutting pattern including the heat absorbing material is formed on the glass substrate to improve the straightness of the cutting line, so that the two glass substrates can be simultaneously laser-cut from the vertical direction. it can.

【0057】[レーザ切断装置]以上に説明したレーザ
切断を行うにあたって、本実施形態では以下に説明する
レーザ切断装置を使用する。
[Laser Cutting Device] In performing the laser cutting described above, the laser cutting device described below is used in this embodiment.

【0058】図7は、本発明によるレーザ切断方法を実
施するためのレーザ切断装置の基本構成を模式的に示し
た図である。図示のように、本実施形態のレーザ切断装
置500は、大型パネル300に向けて表面側及び裏面
側の双方にレーザ光L1及びL2を照射するレーザ照射
装置501と、レーザ切断の対象物(この場合は、大型
パネル300)を指示するためのパネル支持具600と
を備える。レーザ照射装置501は、光源コントローラ
541を備えており、この光源コントローラ541は炭
酸ガスレーザ542、543を制御する。炭酸ガスレー
ザ543、542は、それぞれレーザ光L1、L2を出
射する。炭酸ガスレーザ542からのレーザ光L2は全
反射ミラー544により反射されて集光レンズ546を
介して前記した大型パネル300の表面に照射される。
また、炭酸ガスレーザ543からのレーザ光L1も、レ
ーザ光L2と同様に、全反射ミラー545により反射さ
れた後、集光レンズ547を介して大判パネル300の
裏面に照射される。
FIG. 7 is a diagram schematically showing the basic structure of a laser cutting device for carrying out the laser cutting method according to the present invention. As shown in the figure, the laser cutting device 500 according to the present embodiment includes a laser irradiation device 501 that irradiates the large-sized panel 300 with the laser beams L1 and L2 on both the front surface side and the back surface side, and a laser cutting object ( In the case of a large-sized panel 300), the panel support 600 is provided. The laser irradiation device 501 includes a light source controller 541, and the light source controller 541 controls the carbon dioxide lasers 542 and 543. The carbon dioxide gas lasers 543 and 542 emit laser lights L1 and L2, respectively. The laser beam L2 from the carbon dioxide gas laser 542 is reflected by the total reflection mirror 544 and is applied to the surface of the large-sized panel 300 described above via the condenser lens 546.
Similarly to the laser beam L2, the laser beam L1 from the carbon dioxide gas laser 543 is reflected by the total reflection mirror 545 and then is irradiated onto the back surface of the large-sized panel 300 via the condenser lens 547.

【0059】その結果、レーザ光L1、L2が照射され
た領域、特に切断パターン45、55が形成された領域
が温度上昇し、その温度勾配に起因して発生する熱応力
が増大し、大型パネル300を構成する2枚のガラス基
板100、200の各々に亀裂が厚さ方向に発生して2
枚のガラス基板が切断される。これにより、大型パネル
300は複数の短冊状パネル400に切断される(1次
ブレイク工程)。なお、短冊状パネル400を複数の単
品の液晶パネル1’に切断する2次ブレイク工程も、短
冊状パネル400をパネル支持具600上に載置して同
様に行われる。
As a result, the temperature of the area irradiated with the laser beams L1 and L2, particularly the area where the cutting patterns 45 and 55 are formed, rises, and the thermal stress generated due to the temperature gradient increases, resulting in a large panel. Cracks are generated in the thickness direction on each of the two glass substrates 100 and 200 that form 300
A piece of glass substrate is cut. As a result, the large panel 300 is cut into a plurality of strip-shaped panels 400 (primary breaking step). The secondary break step of cutting the strip-shaped panel 400 into a plurality of single liquid crystal panels 1 ′ is also performed by placing the strip-shaped panel 400 on the panel support 600.

【0060】なお、全反射ミラー544、545は、そ
の反射角度及び取り付け位置が任意に調整できるように
支持されており、レーザ光L1が炭酸ガスレーザ542
に到達しないよう、かつ、レーザ光L2が炭酸ガスレー
ザ543に到達しないように、レーザ光L1、L2が大
型パネル300に対して所定の傾きをもって斜めに入射
するようになっている。
The total reflection mirrors 544 and 545 are supported so that the reflection angle and the mounting position thereof can be arbitrarily adjusted, and the laser beam L1 emits the carbon dioxide gas laser 542.
The laser light L1 and the laser light L2 are obliquely incident on the large-sized panel 300 with a predetermined inclination so that the laser light L2 does not reach the carbon dioxide gas laser 543.

【0061】また、レーザ切断装置500において、大
型パネル300はパネル支持具600により支持され、
このパネル支持具600はロボット部550によりその
位置が制御される。
In the laser cutting device 500, the large panel 300 is supported by the panel supporting member 600,
The position of the panel support 600 is controlled by the robot unit 550.

【0062】また、上記の例は炭酸ガスレーザのみを使
用するレーザ切断装置であったが、炭酸ガスレーザとと
もに、ペルチェ素子や冷却ガスを噴射する冷却管を使用
するタイプのレーザ切断装置を使用することもできる。
その場合、切断パターンに沿ってレーザ光を進行させる
とともに、レーザ光を追いかけるように切断パターンに
沿って冷却管を移動させ、切断パターン上に急峻な温度
勾配を形成して、切断線の直進性をより改善することが
できる。
In the above example, the laser cutting device uses only the carbon dioxide laser, but a laser cutting device of the type using a Peltier element or a cooling pipe for injecting a cooling gas may be used together with the carbon dioxide laser. it can.
In that case, while advancing the laser beam along the cutting pattern, the cooling pipe is moved along the cutting pattern so as to follow the laser beam, and a steep temperature gradient is formed on the cutting pattern, so that the straightness of the cutting line is improved. Can be improved.

【0063】そのようなレーザ切断装置の原理を図8に
示す。なお、図8は、大型パネル300の上側を切断す
る構成のみを示すが、同様の構成を大型パネル300の
下方にもう1組設けることにより、上下方向からレーザ
切断することができる。
The principle of such a laser cutting device is shown in FIG. Although FIG. 8 shows only the configuration in which the upper side of the large-sized panel 300 is cut, laser cutting can be performed in the vertical direction by providing another set of the same configuration below the large-sized panel 300.

【0064】図8において、大型パネル300の上方に
はレーザ205及び冷却ノズル210が割断予定線20
7に沿って移動可能に配置される。なお、大型パネル3
00は図示しないテーブルなどの上に固定されている。
レーザ205により大型パネル300上にレーザ照射点
206が形成され、冷却ノズル210により冷却点20
9が形成される。また、コントローラ215及び図示し
ない移動機構により、レーザ205及び冷却ノズル21
0の移動を制御する。
In FIG. 8, a laser 205 and a cooling nozzle 210 are provided above the large-sized panel 300 with a planned cutting line 20.
It is arranged so as to be movable along 7. In addition, large panel 3
00 is fixed on a table or the like (not shown).
A laser irradiation point 206 is formed on the large-sized panel 300 by the laser 205, and a cooling point 20 is formed by the cooling nozzle 210.
9 is formed. Further, the laser 205 and the cooling nozzle 21 are controlled by the controller 215 and a moving mechanism (not shown).
Control the movement of 0.

【0065】また、割断進行点Brを検出するためにC
CDカメラ220が大型パネル300の下方に配置され
る。CCDカメラ220は割断進行点付近の画像を撮影
して画像信号を画像処理部221へ出力する。画像処理
部221は、画像信号に対して2値化などの信号処理を
行って割断進行点Brの位置を検出する。割断進行点B
rの大型パネル300に対する位置は、割断方向Xにお
けるCCDカメラ220の位置及びCCDカメラ220
で撮影した画像中における割断進行点Brの位置を計算
することにより得られる。画像処理部221はこうして
得られた割断進行点Brの位置座標をコントローラ21
5へ供給する。
Further, in order to detect the breaking progress point Br, C
The CD camera 220 is arranged below the large panel 300. The CCD camera 220 captures an image near the cleaving progress point and outputs an image signal to the image processing unit 221. The image processing unit 221 performs signal processing such as binarization on the image signal to detect the position of the cleaving progress point Br. Breaking progress point B
The position of r with respect to the large panel 300 is the position of the CCD camera 220 in the cutting direction X and the CCD camera 220.
It is obtained by calculating the position of the cleaving progress point Br in the image photographed in. The image processing unit 221 uses the position coordinates of the cutting progress point Br thus obtained as the controller 21.
Supply to 5.

【0066】コントローラ215は、図示しない移動機
構により、レーザ205及び冷却ノズル210の割断方
向Xへの移動を制御する。コントローラ215は、移動
機構により得られるレーザ205の大型パネル300に
対する位置、及びレーザ205とレーザ照射点206と
の位置関係に基づいて、レーザ照射点206の座標を得
ることができる。また、コントローラ215は、冷却ノ
ズル210の位置、及び冷却ノズル210と冷却点20
9との位置関係に基づいて冷却点209の基板1に対す
る座標を得ることができる。こうして、コントローラ2
15は、レーザ照射点206、冷却点209及び割断進
行点Brの大型パネル300に対する座標を取得し、制
御する。
The controller 215 controls the movement of the laser 205 and the cooling nozzle 210 in the cutting direction X by a moving mechanism (not shown). The controller 215 can obtain the coordinates of the laser irradiation point 206 based on the position of the laser 205 with respect to the large-sized panel 300 obtained by the moving mechanism and the positional relationship between the laser 205 and the laser irradiation point 206. The controller 215 also controls the position of the cooling nozzle 210, the cooling nozzle 210 and the cooling point 20.
The coordinates of the cooling point 209 with respect to the substrate 1 can be obtained based on the positional relationship with the substrate 9. Thus, the controller 2
Reference numeral 15 acquires and controls the coordinates of the laser irradiation point 206, the cooling point 209, and the cleaving progress point Br with respect to the large-sized panel 300.

【0067】上記のレーザ割断装置によれば、パネルに
レーザ光を照射することにより、レーザ照射点が高温と
なり、一方、レーザ照射点の後方に冷却ガスを噴射する
ことにより冷却点が低温となる。レーザ照射点と冷却点
を、割断予定線に沿って移動することにより、レーザ照
射点と冷却点との間に急峻な温度勾配が形成され、温度
勾配に起因する応力によって割断対象物上の亀裂が進行
する。レーザ照射点と冷却点との相対的位置を適切に可
変制御することにより、割断予定線に沿って直進性のよ
い、正確なレーザ割断が実行される。
According to the above laser cleaving apparatus, the laser irradiation point is heated to a high temperature by irradiating the panel with the laser beam, while the cooling gas is injected to the rear of the laser irradiation point to reduce the cooling point. . By moving the laser irradiation point and the cooling point along the planned cleavage line, a steep temperature gradient is formed between the laser irradiation point and the cooling point, and cracks on the cleavage object due to the stress caused by the temperature gradient. Progresses. By appropriately variably controlling the relative positions of the laser irradiation point and the cooling point, accurate laser cutting with good straightness along the planned cutting line is executed.

【0068】[その他の実施形態]上記の実施形態で
は、2枚の基板によって液晶を保持する液晶パネルなど
の電気光学パネルを切断する場合について述べたが、1
枚のガラス基板などの切断対象物をレーザ切断する場合
にも本発明を適用することができる。この場合には、ガ
ラス基板の表面側又は裏面側のいずれか一方にインクジ
ェット工法により切断パターンを形成し、その上方から
レーザ光を照射してレーザ切断を行えばよい。
Other Embodiments In the above embodiment, the case where the electro-optical panel such as a liquid crystal panel holding the liquid crystal is cut by the two substrates has been described.
The present invention can also be applied to the case of laser cutting an object to be cut such as one glass substrate. In this case, a cutting pattern may be formed on either the front surface side or the back surface side of the glass substrate by an inkjet method, and laser light may be irradiated from above to perform laser cutting.

【0069】なお、上記実施形態では、パッシブマトリ
クス型の電気光学装置1の製造に本発明を適用した例を
示したが、能動素子としてTFD素子を用いたアクティ
ブマトリクス方式の液晶装置、あるいは能動素子として
TFTを用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置な
ど、各種の電気光学装置の製造に本発明を適用すること
ができる。 [電子機器]次に、本発明の電気光学パネルを使用する
電子機器の例について図9を参照して説明する。
In the above embodiment, an example in which the present invention is applied to the manufacture of the passive matrix type electro-optical device 1 is shown. However, an active matrix type liquid crystal device using a TFD element as an active element, or an active element. The present invention can be applied to the manufacture of various electro-optical devices such as active matrix type liquid crystal devices using TFTs as. [Electronic Equipment] Next, examples of electronic equipment using the electro-optical panel of the present invention will be described with reference to FIG.

【0070】図9(a)は携帯電話を示す斜視図であ
る。1000は携帯電話本体を示し、そのうちの100
1は本発明の液晶パネルを備えた液晶装置を用いた液晶
表示部である。
FIG. 9A is a perspective view showing a mobile phone. 1000 indicates a mobile phone body, of which 100
Reference numeral 1 denotes a liquid crystal display unit using a liquid crystal device including the liquid crystal panel of the present invention.

【0071】図9(b)は腕時計型電子機器を示す斜視
図である。1100は時計本体を示し、1101は本発
明の液晶パネルを備えた液晶装置を用いた液晶表示部で
ある。この液晶パネルは、従来の時計表示部に比べて高
精細の画素を有するので、テレビ画像表示も可能とする
ことができ、腕時計型テレビを実現できる。
FIG. 9B is a perspective view showing a wrist watch type electronic device. Reference numeral 1100 denotes a watch body, and 1101 denotes a liquid crystal display unit using a liquid crystal device including the liquid crystal panel of the present invention. Since this liquid crystal panel has high-definition pixels as compared with the conventional timepiece display section, it is possible to display a television image and realize a wristwatch television.

【0072】図9(c)はワープロ、パソコンなどの携
帯型情報処理装置を示す図である。1200は情報処理
装置を示し、1202はキーボードなどの入力部、12
06は本発明の液晶パネルを備えた液晶装置を用いた表
示部、1204は情報処理装置本体を示す。
FIG. 9C is a diagram showing a portable information processing device such as a word processor and a personal computer. Reference numeral 1200 denotes an information processing device, and 1202 denotes an input unit such as a keyboard.
Reference numeral 06 denotes a display unit using a liquid crystal device including the liquid crystal panel of the present invention, and 1204 denotes an information processing apparatus main body.

【0073】このほか、本発明の液晶パネルは、携帯型
の小型テレビ、壁掛けテレビ、ノート型パソコンや携帯
型ゲーム機の液晶ディスプレイなどバックライトユニッ
トを組み込む液晶装置の全般に使用することができる。
In addition, the liquid crystal panel of the present invention can be used in general liquid crystal devices incorporating a backlight unit such as a portable small television, a wall-mounted television, a liquid crystal display of a notebook computer and a portable game machine.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した電気光学装置の斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view of an electro-optical device to which the invention is applied.

【図2】図1に示す電気光学装置の分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of the electro-optical device shown in FIG.

【図3】図1に示す電気光学装置を図1のI−I’線で
切断したときのI側の端部の断面図である。
3 is a cross-sectional view of an end portion on the I side when the electro-optical device shown in FIG. 1 is cut along a line II ′ in FIG.

【図4】図1に示す電気光学装置の製造方法を示す工程
図である。
4A to 4D are process diagrams showing a method of manufacturing the electro-optical device shown in FIG.

【図5】図1に示す電気光学装置の製造方法を示す説明
図である。
5A and 5B are explanatory views showing a method of manufacturing the electro-optical device shown in FIG.

【図6】図1に示す電気光学装置の製造工程のうちの1
次ブレイク及び2次ブレイクの様子を示す説明図であ
る。
6 is one of manufacturing steps of the electro-optical device shown in FIG.
It is explanatory drawing which shows the mode of a next break and a secondary break.

【図7】本発明に係るレーザ切断方法を実施するための
レーザ切断装置の基本構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a basic configuration of a laser cutting device for carrying out a laser cutting method according to the present invention.

【図8】本発明に係るレーザ切断方法を実施するための
レーザ切断装置の他の例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing another example of the laser cutting device for carrying out the laser cutting method according to the present invention.

【図9】本発明の電気光学パネルを適用した電子機器の
概略図である。
FIG. 9 is a schematic view of an electronic device to which the electro-optical panel of the present invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電気光学装置 10 第1の透明基板 20 第2の透明基板 30 シール材 35 液晶封入領域 45、55 切断パターン 100、200 大型基板 300 大型パネル 400 短冊状パネル 500 レーザ切断装置 L1、L2 レーザ光 1 Electro-optical device 10 First transparent substrate 20 Second transparent substrate 30 sealing material 35 Liquid crystal enclosed area 45, 55 cutting pattern 100, 200 Large substrate 300 large panel 400 strip-shaped panels 500 laser cutting device L1, L2 laser light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/13 101 G02F 1/13 101 1/1333 500 1/1333 500 // B23K 101:36 B23K 101:36 Fターム(参考) 2H088 FA05 FA16 FA19 FA27 FA28 2H090 JB02 JC02 JC12 JC13 4E068 AA04 AE01 CA10 CF01 CF03 DA09 DB14 4G015 FA03 FA06 FB02 FC01 FC10 FC14 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02F 1/13 101 G02F 1/13 101 1/1333 500 1/1333 500 // B23K 101: 36 B23K 101: 36 F-term (reference) 2H088 FA05 FA16 FA19 FA27 FA28 2H090 JB02 JC02 JC12 JC13 4E068 AA04 AE01 CA10 CF01 CF03 DA09 DB14 4G015 FA03 FA06 FB02 FC01 FC10 FC14

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 切断対象物の表面に、吸熱材を含む材料
により切断パターンを形成するパターン形成工程と、 前記切断パターンに沿ってレーザ光を照射して、前記切
断対象物を切断する切断工程と、を有することを特徴と
するレーザ切断方法。
1. A pattern forming step of forming a cutting pattern on a surface of an object to be cut with a material containing a heat absorbing material, and a cutting step of irradiating a laser beam along the cutting pattern to cut the object to be cut. And a laser cutting method.
【請求項2】 前記パターン形成工程は、前記吸熱材を
含むインクをインクジェット印刷することにより前記切
断パターンを形成することを特徴とする請求項1に記載
のレーザ切断方法。
2. The laser cutting method according to claim 1, wherein in the pattern forming step, the cutting pattern is formed by inkjet printing an ink containing the heat absorbing material.
【請求項3】 前記吸熱材は、前記インクに含まれる希
釈剤に対する溶性を有することを特徴とする請求項2に
記載のレーザ切断方法。
3. The laser cutting method according to claim 2, wherein the heat absorbing material has a solubility in a diluent contained in the ink.
【請求項4】 切断対象物の表面に、吸熱材を含む材料
により切断パターンを形成するパターン形成手段と、 前記切断パターンに沿ってレーザ光を照射して、前記切
断対象物を切断する切断手段と、を有することを特徴と
するレーザ切断装置。
4. A pattern forming means for forming a cutting pattern on a surface of an object to be cut with a material containing a heat absorbing material, and a cutting means for irradiating a laser beam along the cutting pattern to cut the object to be cut. And a laser cutting device.
【請求項5】 前記パターン形成手段は、前記吸熱材を
含むインクをインクジェット印刷することにより前記切
断パターンを形成することを特徴とする請求項4に記載
のレーザ切断装置。
5. The laser cutting device according to claim 4, wherein the pattern forming unit forms the cutting pattern by inkjet printing ink containing the heat absorbing material.
【請求項6】 前記吸熱材は、前記インクに含まれる希
釈剤に対する溶性を有することを特徴とする請求項5に
記載のレーザ切断装置。
6. The laser cutting device according to claim 5, wherein the heat absorbing material has a solubility with respect to a diluent contained in the ink.
【請求項7】 2枚の基板を貼り合わせてなるパネルの
2つの外面上に、吸熱材を含む材料により切断パターン
をそれぞれ形成するパターン形成工程と、 前記切断パターンに沿って前記2つの外面上に個別にレ
ーザ光を照射して、前記2枚の基板を切断することによ
り前記パネルを切断する切断工程と、を有することを特
徴とするレーザ切断方法。
7. A pattern forming step of forming a cutting pattern by a material containing a heat absorbing material on two outer surfaces of a panel formed by bonding two substrates together, and on the two outer surfaces along the cutting pattern. And a cutting step of cutting the panel by individually irradiating laser light to cut the two substrates.
【請求項8】 前記パターン形成工程は、前記吸熱材を
含むインクをインクジェット印刷することにより前記切
断パターンを形成することを特徴とする請求項7に記載
のレーザ切断方法。
8. The laser cutting method according to claim 7, wherein in the pattern forming step, the cutting pattern is formed by inkjet printing ink containing the heat absorbing material.
【請求項9】 前記吸熱材は、前記インクに含まれる希
釈剤に対する溶性を有することを特徴とする請求項8に
記載のレーザ切断方法。
9. The laser cutting method according to claim 8, wherein the heat absorbing material has a solubility in a diluent contained in the ink.
【請求項10】 前記切断工程は、前記パネルの2枚の
基板の切断を同時に行うことを特徴とする請求項7乃至
9のいずれか一項に記載のレーザ切断方法。
10. The laser cutting method according to claim 7, wherein in the cutting step, the two substrates of the panel are cut at the same time.
【請求項11】 2枚の基板を貼り合わせて、複数の電
気光学パネルを含む大型パネルを製作する工程と、 請求項7乃至10のいずれか一項に記載のレーザ切断方
法により、前記大型パネルを切断して複数の電気光学パ
ネルを製作する工程と、を有することを特徴とする電気
光学パネルの製造方法。
11. A process for producing a large-sized panel including a plurality of electro-optical panels by bonding two substrates together, and the large-sized panel by the laser cutting method according to claim 7. And a step of manufacturing a plurality of electro-optical panels by cutting.
【請求項12】 請求項11に記載の電気光学パネルの
製造方法により製造されたことを特徴とする電気光学装
置。
12. An electro-optical device manufactured by the method for manufacturing an electro-optical panel according to claim 11.
【請求項13】 請求項12に記載の電気光学装置によ
り構成される表示部を備えることを特徴とする電子機
器。
13. An electronic apparatus comprising a display unit including the electro-optical device according to claim 12.
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