JP4775313B2 - Laser cutting method - Google Patents

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Description

本発明は、液晶パネルなどに用いるガラス基板を切断するためのレーザ切断方法に関するものである。 The present invention relates to a laser cutting how to cut a glass substrate used such as a liquid crystal panel.

近年、携帯電機、携帯型コンピュータ、ビデオカメラ等といった電子機器の表示部として、液晶装置などといった電気光学装置が広く用いられている。液晶装置では、2枚のガラス基板をシール材によって重ねて貼り合わせて空セルと称せられる空のパネルを構成した後、シール材で区画された領域内に電気光学物質としての液晶が封入される。   In recent years, electro-optical devices such as liquid crystal devices have been widely used as display units of electronic devices such as portable electric machines, portable computers, and video cameras. In a liquid crystal device, two glass substrates are stacked and bonded together with a sealing material to form an empty panel called an empty cell, and then a liquid crystal as an electro-optical material is sealed in a region partitioned by the sealing material. .

このような液晶装置に用いるガラス基板は、個々のパネルに対応した大きさに切断した後、2枚の基板を重ねて貼り合わせる場合もあるが、小型の液晶装置を製造する場合には特に、複数のパネルを形成できる大きな元基板(大型のガラス基板)に対して複数の液晶装置分の配線パターンを形成するなど、製造工程の途中までは、大型の元基板のままで処理を行い、その後、元基板を個々の基板に切断、分割することが多い。   The glass substrate used in such a liquid crystal device may be cut and bonded to a size corresponding to each panel, and then the two substrates may be stacked and bonded together, especially when manufacturing a small liquid crystal device, For example, forming wiring patterns for multiple liquid crystal devices on a large original substrate (large glass substrate) on which multiple panels can be formed. In many cases, the original substrate is cut and divided into individual substrates.

これらいずれの製造方法においても、従来は、ガラス基板の表面にダイヤモンドチップなどによりスクライブラインを形成した後、ガラス基板の裏面側からブレーク用の冶具(例えば、ゴムローラ)により曲げ応力を加え、この応力によって切断する。   In any of these manufacturing methods, conventionally, after a scribe line is formed on the surface of the glass substrate with a diamond chip or the like, a bending stress is applied from the back surface side of the glass substrate by a jig for breakage (for example, a rubber roller). Disconnect by.

しかしながら、この切断方法では、スクライブによって生じた基板断面のマイクロクラックの制御ができない為、切断が不安定となる。また、マイクロクラックからの多数のチッピングが基板断面から発生する。このようなチッピングが多数、発生すると、ガラス基板の強度を弱めるとともに、その破片を除去するための洗浄を行わなければならないという問題点がある。また、接触式であるため、ゴムローラに異物が付着していると、ガラス基板に傷を付けてしまうおそれがある。   However, in this cutting method, since the microcracks in the cross section of the substrate caused by scribing cannot be controlled, the cutting becomes unstable. In addition, many chippings from the microcracks occur from the cross section of the substrate. When such a lot of chipping occurs, there is a problem that the strength of the glass substrate is weakened and cleaning for removing the fragments must be performed. Moreover, since it is a contact type, if the foreign material has adhered to the rubber roller, there exists a possibility of scratching a glass substrate.

一方、特開平11−104869号公報などにおいては、ガラス基板を切断する方法としてレーザ光を利用する方法が提案されている。   On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-104869 has proposed a method using laser light as a method for cutting a glass substrate.

しかしながら、特開平11−104869号に開示の切断方法でガラス基板を切断すると、切断開始箇所でガラス基板が過度に過熱されてクラックが入るなどの不具合が発生しやすい。そこで、クラックが発生しないようにレーザ光のパワーを低下させる代わりに、ガラス基板上におけるレーザ光の照射位置の移動速度を遅くして、ガラス基板をゆっくり加熱しながら切断するなどの対策が検討されているが、このような条件では、切断速度が遅すぎて生産性が低下してしまう。   However, when the glass substrate is cut by the cutting method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-104869, problems such as excessive heating of the glass substrate at the cutting start location and cracks are likely to occur. Therefore, instead of reducing the power of the laser beam so that cracks do not occur, measures such as cutting the glass substrate while slowly heating it by slowing the moving speed of the laser beam irradiation position on the glass substrate have been studied. However, under such conditions, the cutting speed is too slow and productivity is reduced.

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、クラックなどの不具合を発生させることなく、ガラス基板、あるいはガラス基板を貼り合わせたパネルを効率よく切断することのできるレーザ切断方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器、およびレーザ切断装置を提案することにある。   In view of the above-described problems, an object of the present invention is to provide a laser cutting method and an electro-optical device capable of efficiently cutting a glass substrate or a panel on which a glass substrate is bonded without causing defects such as cracks. A manufacturing method, an electro-optical device, an electronic apparatus, and a laser cutting device are proposed.

上記課題を解決するために、本発明のレーザ切断方法は、第1ガラス基板と、第2ガラス基板とを貼り合わせた大型パネルに対して、第1ガラス基板側から、および、第2ガラス基板側からそれぞれレーザ光を照射するとともに、大型パネルと2つのレーザ光との位置を相対移動させることによって、大型パネルを切断するためのレーザ切断方法であって、切断開始位置および切断終了位置における2つのレーザ光の照射強度を、切断開始位置と切断終了位置との中間位置における照射強度よりも低くすることを特徴とするレーザ切断方法。
In order to solve the above-mentioned problems, the laser cutting method of the present invention provides a large glass panel bonded with a first glass substrate and a second glass substrate from the first glass substrate side. A laser cutting method for cutting a large panel by irradiating a laser beam from each side and relatively moving the positions of the large panel and the two laser beams. A laser cutting method, wherein the irradiation intensity of two laser beams is lower than the irradiation intensity at an intermediate position between a cutting start position and a cutting end position.

このレーザ切断方法によれば、大型パネルの第1ガラス基板側、および、第2ガラス基板側からそれぞれレーザ光を照射することにより、大型パネルの両面を形成する第1、第2ガラス基板を並行して、効率良く切断することができる。
さらに、切断開始位置および切断終了位置における2つのレーザ光の照射強度を、切断開始位置と切断終了位置との中間位置における照射強度よりも低くすることにより、切断開始位置および切断終了位置における過度の加熱を防止することができるため、当該部位におけるクラックの発生を防止することができる。
従って、クラックを発生させることなく、ガラス基板を効率よく切断することができる。
According to this laser cutting method, the first and second glass substrates forming both surfaces of the large panel are irradiated in parallel by irradiating laser light from the first glass substrate side and the second glass substrate side of the large panel. And can be cut efficiently.
Furthermore, by setting the irradiation intensity of the two laser beams at the cutting start position and the cutting end position to be lower than the irradiation intensity at the intermediate position between the cutting start position and the cutting end position, an excessive amount at the cutting start position and the cutting end position is obtained. Since heating can be prevented, generation of cracks at the site can be prevented.
Therefore, the glass substrate can be efficiently cut without generating cracks.

本発明に係るレーザ切断方法によれば、(a)2つのレーザ光が相対移動する速度をあらかじめ定められた開始速度から開始速度より高速な切断速度になるまで逓増させながら、2つのレーザ光を大型パネルの切断開始位置から切断終了位置に向かって相対移動させる工程と、(b)2つのレーザ光が切断終了位置付近に達するまで、切断速度を維持したまま2つのレーザ光を相対移動させる工程と、(c)相対移動の速度を切断速度から前記開始速度よりも大きい速度まで逓減させながら、レーザ光を切断終了位置まで相対移動させる工程と、を含むことが好ましい。
また、工程(a)においては相対移動における速度の増加にともない、2つのレーザ光の照射強度を所定の照射強度である第1照射強度から第1照射強度より高い第2照射強度にまで逓増させ、工程(b)においては第2照射強度を維持し、工程(c)においては相対移動の速度の減少にともない、照射強度を第2照射強度から前記第1照射強度よりも大きい第3照射強度まで逓減させることが好ましい。
また、工程(a)の前に、第1ガラス基板と第2ガラス基板とにおける切断開始位置から切断終了位置までにスクライブラインを形成する工程をさらに有することが好ましい。
また、工程(c)の後に、(d)ガラス基板の切断状態を撮像し、検査する工程と、(e)検査結果を、次に切断する切断予定ラインにおける2つのレーザ光の照射強度、および/または、2つのレーザ光の相対移動速度を含む切断条件にフィードバックする工程とを、をさらに含むことが好ましい。
また、第1照射強度は、2つのレーザ光が開始速度により切断開始位置から相対移動しながら照射されたときに、クラックを生じさせない照射強度で、かつ、ガラス基板を切断するのに必要な熱量が得られる照射強度となるように設定され、前記第3照射強度は、それまでのレーザ照射によって発生した熱が伝わってきても前記切断終了位置でクラックを生じさせない照射強度で、かつ、前記ガラス基板を切断するのに必要な熱量が得られる照射強度となるように設定されることが好ましい。
また、大型パネルには、複数の電気光学パネルが面付けされており、第1ガラス基板と、第2ガラス基板は、電気光学パネルごとに電気光学物質を封入するための領域を規定するシール材によって貼り合わされ、切断予定ラインは、平面的にシール材と重なるように設けられていることが好ましい。
According to the laser cutting method of the present invention, (a) the two laser beams are increased while increasing the relative moving speed of the two laser beams from a predetermined start speed to a cutting speed higher than the start speed. A step of relatively moving the large panel from the cutting start position toward the cutting end position; and (b) a step of relatively moving the two laser beams while maintaining the cutting speed until the two laser beams reach the vicinity of the cutting end position. And (c) a step of relatively moving the laser light to the cutting end position while gradually decreasing the speed of the relative movement from the cutting speed to a speed larger than the start speed .
Further, in the step (a), the irradiation intensity of the two laser beams is gradually increased from the first irradiation intensity that is the predetermined irradiation intensity to the second irradiation intensity that is higher than the first irradiation intensity as the speed of the relative movement increases. In the step (b), the second irradiation intensity is maintained, and in the step (c), the irradiation intensity is increased from the second irradiation intensity to the third irradiation intensity with the decrease in the relative movement speed. it is preferable to declining to.
Moreover, it is preferable to further have the process of forming a scribe line from the cutting start position in a 1st glass substrate and a 2nd glass substrate to a cutting end position before a process (a).
In addition, after the step (c), (d) a step of imaging and inspecting the cutting state of the glass substrate, (e) the irradiation result of the two laser beams in the cutting scheduled line to be cut next, and Preferably, the method further includes a step of feeding back to a cutting condition including a relative moving speed of the two laser beams.
The first irradiation intensity is an irradiation intensity that does not cause cracks when two laser beams are irradiated while moving relative to each other from the cutting start position at the starting speed, and the amount of heat necessary for cutting the glass substrate. The third irradiation intensity is an irradiation intensity that does not cause a crack at the cutting end position even if the heat generated by the previous laser irradiation is transmitted, and the glass has the third irradiation intensity. It is preferable to set the irradiation intensity so as to obtain the amount of heat necessary for cutting the substrate .
In addition, the large-sized panel is provided with a plurality of electro-optic panels, and the first glass substrate and the second glass substrate are sealing materials that define regions for enclosing the electro-optic material for each electro-optic panel. It is preferable that the line to be cut and the line to be cut are provided so as to overlap the sealing material in a plane.

上記課題を解決するために、本発明のレーザ切断装置は、第1ガラス基板と、第2ガラス基板とを貼り合わせた大型パネルに対して、第1ガラス基板側、および、第2ガラス基板側からそれぞれレーザ光を照射するとともに、2つのレーザ光の照射位置に対して大型パネルを相対移動させることによって、大型パネルを切断するためのレーザ切断装置であって、第1ガラス基板側からレーザ光を照射する第1レーザと、第2ガラス基板側からレーザ光を照射する第2レーザと、大型パネルを支持するパネル支持部と、パネル支持部が固定されるとともに、レーザ光の照射位置に対するパネル支持部の位置を平面的に相対移動させるロボット部と、前記第1レーザ、第2レーザ及び前記ロボット部を制御するコントローラと、を少なくとも備え、第1および第2レーザは、切断開始位置および切断終了位置における前記レーザ光の照射強度を、前記切断開始位置と前記切断終了位置との中間位置における照射強度よりも低くすることを特徴とする。
本発明に係るレーザ切断装置によれば、前記コントローラは、(a)2つの前記レーザ光が前記相対移動する速度をあらかじめ定められた開始速度から前記開始速度より高速な切断速度になるまで逓増させながら、2つの前記レーザ光を前記大型パネルの切断開始位置から切断終了位置に向かって前記相対移動させ、(b)2つの前記レーザ光が前記切断終了位置付近に達するまで、前記切断速度を維持したまま2つの前記レーザ光を前記相対移動させ、(c)前記相対移動の速度を前記切断速度から前記開始速度よりも大きい速度まで逓減させながら、前記レーザ光を前記切断終了位置まで前記相対移動させることが好ましい。
また、前記(a)においては前記相対移動における速度の増加にともない、2つの前記レーザ光の照射強度を所定の照射強度である第1照射強度から前記第1照射強度より高い第2照射強度にまで逓増させ、前記(b)においては前記第2照射強度を維持し、前記(c)においては前記相対移動の速度の減少にともない、前記照射強度を前記第2照射強度から前記第1照射強度よりも大きい第3照射強度まで逓減させることが好ましい。
また、前記第1照射強度は、2つの前記レーザ光が前記開始速度により前記切断開始位置から前記相対移動しながら照射されたときに、クラックを生じさせない照射強度で、かつ、前記ガラス基板を切断するのに必要な熱量が得られる照射強度となるように設定され、前記第3照射強度は、それまでのレーザ照射によって発生した熱が伝わってきても前記切断終了位置でクラックを生じさせない照射強度で、かつ、前記ガラス基板を切断するのに必要な熱量が得られる照射強度となるように設定されることが好ましい。
また、さらに、大型パネルの切断状態を撮像する撮像部を備え、撮像部による撮像結果を、次に切断する切断予定ラインにおける2つのレーザ光の照射強度、および/または、2つのレーザ光の相対移動速度を含む切断条件にフィードバックすることが好ましい。
また、パネル支持部は、大型パネルにおける複数の切断予定ラインに沿った部分に、それぞれ貫通した開口部を有していることを特徴とする。
また、大型パネルには、複数の電気光学パネルが面付けされており、第1ガラス基板と、第2ガラス基板は、電気光学パネルごとに電気光学物質を封入するための領域を規定するシール材によって貼り合わされるとともに、シール材に囲まれた領域内における第1ガラス基板と第2ガラス基板との間には、電気光学パネルごとに電気光学物質が挟持されていることが好ましい。
In order to solve the above-mentioned problems, the laser cutting device of the present invention has a first glass substrate side and a second glass substrate side with respect to a large panel in which a first glass substrate and a second glass substrate are bonded together. And a laser cutting device for cutting the large panel by moving the large panel relative to the irradiation positions of the two laser beams, respectively, and the laser beam from the first glass substrate side. The first laser that irradiates the laser, the second laser that irradiates the laser light from the second glass substrate side, the panel support that supports the large panel, the panel support is fixed, and the panel with respect to the irradiation position of the laser light comprising a robot unit to the position of the support portion planarly relative movement, the first laser, and a controller for controlling the second laser and the robot unit, at least First and second lasers, the irradiation intensity of the laser beam at the cutting start position and cutting end position, characterized by lower than the irradiation intensity at the intermediate position between the cutting end position to the cutting start position.
According to the laser cutting device of the present invention, the controller increases (a) the speed at which the two laser beams move relative to each other from a predetermined start speed to a cutting speed faster than the start speed. While, the two laser beams are relatively moved from the cutting start position of the large panel toward the cutting end position, and (b) the cutting speed is maintained until the two laser beams reach the vicinity of the cutting end position. The two laser beams are moved relative to each other as they are, and (c) the relative movement of the laser beams to the cutting end position is performed while decreasing the speed of the relative movement from the cutting speed to a speed larger than the starting speed. It is preferable to make it.
In (a), as the speed of the relative movement increases, the irradiation intensity of the two laser beams is changed from a first irradiation intensity that is a predetermined irradiation intensity to a second irradiation intensity that is higher than the first irradiation intensity. In step (b), the second irradiation intensity is maintained. In (c), the irradiation intensity is changed from the second irradiation intensity to the first irradiation intensity as the relative movement speed decreases. It is preferable to gradually decrease to a third irradiation intensity that is larger than the first irradiation intensity.
The first irradiation intensity is an irradiation intensity that does not cause a crack when the two laser beams are irradiated while moving relative to the cutting start position at the start speed, and the glass substrate is cut. The third irradiation intensity is set so as to obtain an amount of heat necessary to perform the irradiation, and the third irradiation intensity is an irradiation intensity that does not cause a crack at the cutting end position even if the heat generated by the previous laser irradiation is transmitted. In addition, it is preferable to set the irradiation intensity so as to obtain the amount of heat necessary for cutting the glass substrate.
In addition, an imaging unit that images the cutting state of the large panel is provided, and the imaging result of the imaging unit is used to determine the irradiation intensity of the two laser beams in the line to be cut next and / or the relative relationship between the two laser beams. It is preferable to feed back to the cutting conditions including the moving speed.
Moreover, the panel support part has the opening part which each penetrated in the part along the some cutting plan line in a large sized panel, It is characterized by the above-mentioned.
In addition, the large-sized panel is provided with a plurality of electro-optic panels, and the first glass substrate and the second glass substrate are sealing materials that define regions for enclosing the electro-optic material for each electro-optic panel. It is preferable that an electro-optical material is sandwiched for each electro-optical panel between the first glass substrate and the second glass substrate in the region surrounded by the sealing material.

本発明では、前記ガラス基板に対する切断結果を検査し、その検査結果を、それ以降に行うガラス基板に対する切断条件にフィードバックすることが好ましい。   In this invention, it is preferable to test | inspect the cutting result with respect to the said glass substrate, and to feed back the inspection result to the cutting conditions with respect to the glass substrate performed after that.

本発明では、例えば、前記ガラス基板に対する切断開始位置から切断終了位置までの間で前記レーザ光のパワーを変化させる。   In the present invention, for example, the power of the laser beam is changed between a cutting start position and a cutting end position with respect to the glass substrate.

この場合、前記ガラス基板に対する切断開始位置付近では前記レーザ光のパワーを逓増させていくことが好ましい。このように構成すると、切断開始位置において、ガラス基板は冷えた状態から徐々に加熱されるので、クラックが発生しない。また、切断が進むにつれてパワーを上げていくため、切断開始位置付近を過ぎた後は、ガラス基板上におけるレーザ光の照射位置の移動速度を高めることができるので、一枚のガラス基板、あるいはパネル状に重ねて貼り合わされたガラス基板を貼り合わせたパネルを効率よく切断することができる。   In this case, it is preferable to gradually increase the power of the laser light in the vicinity of the cutting start position with respect to the glass substrate. If comprised in this way, in a cutting start position, since a glass substrate is heated gradually from the cold state, a crack does not generate | occur | produce. In addition, since the power is increased as the cutting progresses, the moving speed of the irradiation position of the laser beam on the glass substrate can be increased after the vicinity of the cutting start position, so that one glass substrate or panel It is possible to efficiently cut a panel in which glass substrates that are stacked and bonded in a shape are bonded.

また、前記ガラス基板に対する切断終了位置付近では前記レーザ光のパワーを逓減させていくことが好ましい。このように構成すると、切断終了位置では、それまでのレーザ照射によって発生した熱が伝わってきても熱の逃げる場所がないためガラス基板の温度がすでに上昇していたとしても、レーザ光のパワーを徐々に低下させるため、ガラス基板が過熱状態とならないので、クラックが発生しない。また、切断終了位置まではパワーが大きいので、ガラス基板上におけるレーザ光の照射位置の移動速度を高めることができるので、一枚のガラス基板、あるいはパネル状に貼り合わされたガラス基板を効率よく切断することができる。   Further, it is preferable that the power of the laser beam is gradually reduced in the vicinity of the cutting end position with respect to the glass substrate. With this configuration, even if the temperature of the glass substrate has already risen because there is no place for the heat to escape even if the heat generated by the previous laser irradiation is transmitted at the cutting end position, the power of the laser beam is reduced. Since the glass substrate is gradually lowered, the glass substrate is not overheated, so that no cracks are generated. In addition, since the power is large up to the cutting end position, the moving speed of the laser light irradiation position on the glass substrate can be increased, so that a single glass substrate or a glass substrate bonded in a panel shape can be efficiently cut. can do.

本発明においては、前記ガラス基板に対する切断開始位置から切断終了位置までの間で前記ガラス基板上における前記レーザ光の照射位置の移動速度を変化させてもよい。   In this invention, you may change the moving speed of the irradiation position of the said laser beam on the said glass substrate between the cutting start position with respect to the said glass substrate to a cutting end position.

例えば、前記ガラス基板に対する切断開始位置付近では前記ガラス基板上における前記レーザ光の照射位置の移動速度を逓増させていく。ガラス基板に対する切断開始位置付近においてレーザ光のパワーを下げると熱量が不足する場合でも、この部分を切断している間、ガラス基板上におけるレーザ光の照射位置の移動速度が遅いので、熱量が不足することがない。また、切断開始位置付近を過ぎた後は、ガラス基板上におけるレーザ光の照射位置の移動速度を早めるので、一枚のガラス基板、あるいはパネル状に重ねて貼り合わされたガラス基板を効率よく切断することができる。   For example, in the vicinity of the cutting start position with respect to the glass substrate, the moving speed of the irradiation position of the laser beam on the glass substrate is gradually increased. Even if the amount of heat is insufficient when the laser beam power is lowered near the cutting start position on the glass substrate, the amount of heat is insufficient because the moving speed of the laser beam irradiation position on the glass substrate is slow while this part is being cut. There is nothing to do. In addition, after the vicinity of the cutting start position, the moving speed of the laser light irradiation position on the glass substrate is increased, so that a single glass substrate or a glass substrate laminated in a panel shape is efficiently cut. be able to.

また、前記ガラス基板に対する切断終了位置付近では前記ガラス基板上における前記レーザ光の照射位置の移動速度を逓減させてもよい。ガラス基板に対する切断終了位置付近においてレーザ光のパワーを下げると熱量が不足する場合でも、この部分を切断している間、ガラス基板上におけるレーザ光の照射位置の移動速度が遅いので、熱量が不足することがない。また、切断終了位置付近までは、ガラス基板上におけるレーザ光の照射位置の移動速度が早いので、一枚のガラス基板、あるいはパネル状に重ねて貼り合わされたガラス基板を効率よく切断することができる。   Moreover, the moving speed of the irradiation position of the laser beam on the glass substrate may be gradually decreased in the vicinity of the cutting end position with respect to the glass substrate. Even if the amount of heat is insufficient when the power of the laser beam is lowered near the cutting end position on the glass substrate, the amount of heat is insufficient because the moving speed of the laser beam irradiation position on the glass substrate is slow while cutting this part. There is nothing to do. In addition, since the moving speed of the laser light irradiation position on the glass substrate is fast up to the vicinity of the cutting end position, it is possible to efficiently cut a single glass substrate or a glass substrate bonded in a panel shape. .

本発明において、前記ガラス基板は、2枚が重ねて貼り合わされてパネルを構成している場合があり、この場合には、当該パネルの表面側および裏面側の双方に対して前記切断予定線に沿って前記レーザ光をそれぞれ照射して当該パネルを切断する。   In the present invention, the glass substrate may constitute a panel in which two sheets are laminated and bonded together. In this case, the cut line is cut with respect to both the front side and the back side of the panel. The panel is cut by irradiating each of the laser beams along.

パネル状に貼り合わされたガラス基板をレーザ光によって切断する場合、一方の基板の側からのみレーザ光を照射しても適正な状態に2枚のガラス基板を切断できないが、パネルの表面側および裏面側の双方に対してレーザ光を照射すれば、2枚のガラス基板を適正な状態に切断することができる。すなわち、ガラス基板は、比較的、光吸収率が高いため、レーザ光を上側のガラス基板の側からのみ照射したとき、上側のガラス基板は加熱されるが、下側のガラス基板は加熱されない。それ故、熱応力は、上側のガラス基板のみに働き、下側のガラス基板に働かないが、本発明を適用すれば、2枚のガラス基板の双方に熱応力を働かせることができる。また、シール材により貼り合わされている2枚のガラス基板を、シール材によって挟まれた領域で切断する場合、レーザ光を上側のガラス基板の側からのみ照射しただけでは、2枚のガラス基板が割れようとしても、下側のガラス基板は、割れを抑えるように働いて、1枚の基板と同一条件で切断を行えないが、このような問題も、本発明を適用すれば回避することができる。さらに、レーザ光を上側のガラス基板の側からのみ照射する場合、熱エネルギーを増大させれば、上側のガラス基板が割れようとする力が増大するが、下側のガラス基板は、その力をシール材を介して受けるだけである。従って、このような力によって、下側のガラス基板が割れるとしても、その力は、パネルの構造やシール材の接着状態等に依存し、再現性に乏しいという問題点があるが、このような問題も本発明を適用すれば回避することができる。   When a glass substrate bonded in a panel shape is cut with a laser beam, the two glass substrates cannot be cut into an appropriate state even if the laser beam is irradiated only from one substrate side. If both sides are irradiated with laser light, the two glass substrates can be cut into an appropriate state. That is, since the glass substrate has a relatively high light absorption rate, when the laser beam is irradiated only from the upper glass substrate side, the upper glass substrate is heated, but the lower glass substrate is not heated. Therefore, the thermal stress acts only on the upper glass substrate and does not act on the lower glass substrate, but if the present invention is applied, the thermal stress can be exerted on both of the two glass substrates. Further, when two glass substrates bonded with a sealing material are cut in a region sandwiched by the sealing materials, the two glass substrates are simply irradiated with laser light only from the upper glass substrate side. Even if it tries to break, the lower glass substrate works to suppress cracking and cannot be cut under the same conditions as a single substrate, but such a problem can also be avoided by applying the present invention. it can. Furthermore, when the laser beam is irradiated only from the upper glass substrate side, increasing the thermal energy increases the force to break the upper glass substrate, but the lower glass substrate exerts that force. It is only received through the sealing material. Therefore, even if the lower glass substrate is cracked by such a force, the force depends on the structure of the panel, the adhesion state of the sealing material, etc., and there is a problem that the reproducibility is poor. Problems can also be avoided by applying the present invention.

本発明において、前記ガラス基板は、液晶などの電気光学物質を保持するための基板である。   In the present invention, the glass substrate is a substrate for holding an electro-optical material such as liquid crystal.

本発明に係るレーザ切断方法は、電気光学装置の製造方法において、電気光学物質を保持するためのガラス基板を切断する際に用いられる。このようにして製造した電気光学装置については、携帯電話機、モバイルコンピュータなどの電子機器の表示部として用いられる。   The laser cutting method according to the present invention is used when cutting a glass substrate for holding an electro-optical material in a method for manufacturing an electro-optical device. The electro-optical device manufactured as described above is used as a display unit of an electronic device such as a mobile phone or a mobile computer.

本発明に係るレーザ切断方法を実施するためのレーザ切断装置は、レーザ光源部と、該レーザ光源部から出射されたレーザ光の前記ガラス基板に対する照射位置を移動させる駆動手段と、該駆動手段および前記レーザ光源部を制御して、前記ガラス基板に対する切断開始位置から切断終了位置までの間で前記レーザ光による切断条件を変更する制御手段とを有することを特徴とする。   A laser cutting apparatus for carrying out the laser cutting method according to the present invention includes a laser light source unit, a driving unit that moves an irradiation position of the laser light emitted from the laser light source unit on the glass substrate, the driving unit, Control means for controlling the laser light source unit to change a cutting condition by the laser light between a cutting start position and a cutting end position with respect to the glass substrate.

本発明では、前記ガラス基板に対する切断結果を検査し、その検査結果を、それ以降に行うガラス基板に対する切断条件にフィードバックするための検査手段を有していることが好ましい。   In this invention, it is preferable to have a test | inspection means for test | inspecting the cutting result with respect to the said glass substrate, and feeding back the test result to the cutting conditions with respect to the glass substrate performed after that.

本発明において、前記制御手段は、例えば、前記ガラス基板に対する切断開始位置から切断終了位置までの間で前記レーザ光のパワーを変化させる。この場合、前記制御手段は、前記ガラス基板に対する切断開始位置付近では前記レーザ光のパワーを逓増させていくことが好ましい。また、前記制御手段は、前記ガラス基板に対する切断終了位置付近では前記レーザ光のパワーを逓減させていくことが好ましい。   In the present invention, the control unit changes the power of the laser beam between a cutting start position and a cutting end position with respect to the glass substrate, for example. In this case, it is preferable that the control means gradually increases the power of the laser light in the vicinity of the cutting start position with respect to the glass substrate. Moreover, it is preferable that the control means gradually decreases the power of the laser light in the vicinity of the cutting end position with respect to the glass substrate.

本発明において、前記制御手段は、前記ガラス基板に対する切断開始位置から切断終了位置までの間で前記ガラス基板上における前記レーザ光の照射位置の移動速度を変化させてもよい。例えば、前記制御手段は、前記ガラス基板に対する切断開始位置付近では前記ガラス基板上における前記レーザ光の照射位置の移動速度を逓増させていく。また、前記制御手段は、前記ガラス基板に対する切断終了位置付近では前記ガラス基板上における前記レーザ光の照射位置の移動速度を逓減させてもよい。   In this invention, the said control means may change the moving speed of the irradiation position of the said laser beam on the said glass substrate between the cutting start position with respect to the said glass substrate to a cutting end position. For example, the control means gradually increases the moving speed of the irradiation position of the laser beam on the glass substrate in the vicinity of the cutting start position with respect to the glass substrate. Moreover, the said control means may reduce the moving speed of the irradiation position of the said laser beam on the said glass substrate in the vicinity of the cutting completion position with respect to the said glass substrate.

本発明において、2枚のガラス基板が重ねて貼り合わされたパネルを切断する場合には、前記レーザ照射手段は、前記パネルの表面側および裏面側の双方に対して前記レーザ光を照射する。   In the present invention, when cutting a panel in which two glass substrates are laminated and bonded together, the laser irradiation means irradiates both the front side and the back side of the panel with the laser beam.

図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明では、本発明に係るレーザ切断方法を、パッシブマトリクス型の電気光学装置の製造方法に適用した例を説明する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, an example in which the laser cutting method according to the present invention is applied to a method for manufacturing a passive matrix electro-optical device will be described.

(全体構成)
図1および図2はそれぞれ、本発明を適用した電気光学装置の斜視図、および分解斜視図である。図3は、本発明を適用した電気光学装置を図1のI−I'線で切断したときのI側の端部の断面図である。なお、図1および図2には、電極パターンおよび端子などを模式的に示してあるだけであり、実際の電気光学装置では、より多数の電極パターンや端子が形成されている。
(overall structure)
1 and 2 are a perspective view and an exploded perspective view, respectively, of an electro-optical device to which the present invention is applied. 3 is a cross-sectional view of the end portion on the I side when the electro-optical device to which the present invention is applied is cut along the line II ′ in FIG. FIGS. 1 and 2 only schematically show electrode patterns and terminals. In an actual electro-optical device, a larger number of electrode patterns and terminals are formed.

図1および図2において、本形態の電気光学装置1は、携帯電話などの電子機器に搭載されているパッシブマトリクスタイプの液晶表示装置であり、所定の間隙を介してシール材30によって貼り合わされた矩形の無アルカリガラス、耐熱ガラス、石英ガラスなどのガラス基板からなる一対の透明基板10、20間にシール材30によって液晶封入領域35が区画されているとともに、この液晶封入領域35内に電気光学物質としての液晶が封入されている。   1 and 2, an electro-optical device 1 according to this embodiment is a passive matrix type liquid crystal display device mounted on an electronic device such as a mobile phone, and is bonded by a sealing material 30 with a predetermined gap therebetween. A liquid crystal sealing region 35 is defined by a sealing material 30 between a pair of transparent substrates 10 and 20 made of a glass substrate such as rectangular non-alkali glass, heat-resistant glass, quartz glass, and the like. Liquid crystal as a substance is enclosed.

ここに示す電気光学装置1は透過型の例であり、第2の透明基板20の外側表面に偏光板61が貼られ、第1の透明基板10の外側表面にも偏光板62が貼られている。また、第2の透明基板20の外側にはバックライト装置9が配置されている。   The electro-optical device 1 shown here is a transmission type example, and a polarizing plate 61 is pasted on the outer surface of the second transparent substrate 20, and a polarizing plate 62 is pasted on the outer surface of the first transparent substrate 10. Yes. A backlight device 9 is disposed outside the second transparent substrate 20.

第1の透明基板10には、図3に示すように、第1の電極パターン40と第2の電極パターン50との交点に相当する領域に赤(R)、緑(G)、青(B)のカラーフィルタ7R、7G、7Bが形成され、これらのカラーフィルタ7R、7G、7Bの表面側に絶縁性の平坦化膜13、第1の電極パターン40および配向膜12がこの順に形成されている。これに対して、第2の透明基板20には、第2の電極パターン50、オーバーコート膜29、および配向膜22がこの順に形成されている。   As shown in FIG. 3, the first transparent substrate 10 has red (R), green (G), and blue (B) in a region corresponding to the intersection of the first electrode pattern 40 and the second electrode pattern 50. ) Color filters 7R, 7G, and 7B are formed, and an insulating planarizing film 13, a first electrode pattern 40, and an alignment film 12 are formed in this order on the surface side of these color filters 7R, 7G, and 7B. Yes. On the other hand, the second electrode pattern 50, the overcoat film 29, and the alignment film 22 are formed in this order on the second transparent substrate 20.

本形態において、電気光学装置1において、第1の電極パターン40および第2の電極パターン50はいずれも、ITO膜(Indium Tin Oxide)に代表される透明導電膜によって形成されている。なお、第2の電極パターン50の下に絶縁膜を介しパターニングされたアルミ等の膜を形成すれば、半透過・半反射型の電気光学装置1を構成できる。また、外部表面の偏向板61の外部に半透過反射板をラミネートすることでも可能である。また、第2の電極パターン50の下に形成された反射層を反射性の膜で形成すれば、反射型の電気光学装置1を構成でき、この場合には、第2の透明基板20の裏面側からバックライト装置9を省略すればよい。   In this embodiment, in the electro-optical device 1, both the first electrode pattern 40 and the second electrode pattern 50 are formed of a transparent conductive film typified by an ITO film (Indium Tin Oxide). If a film of aluminum or the like patterned through an insulating film is formed under the second electrode pattern 50, the semi-transmissive / semi-reflective electro-optical device 1 can be configured. It is also possible to laminate a transflective plate outside the deflection plate 61 on the outer surface. Further, if the reflective layer formed under the second electrode pattern 50 is formed of a reflective film, the reflective electro-optical device 1 can be configured. In this case, the back surface of the second transparent substrate 20 The backlight device 9 may be omitted from the side.

(電極パターンおよび端子の構成)
再び図1および図2において、本形態の電気光学装置1では、外部からの信号入力および基板間の導通のいずれを行うにも、第1の透明基板10および第2の透明基板20の同一方向に位置する各基板辺101、201付近において第1の透明基板10および第2の透明基板20のそれぞれに形成されている第1の端子形成領域11および第2の端子形成領域21が用いられる。従って、第2の透明基板20としては、第1の透明基板10よりも大きな基板が用いられ、第1の透明基板10と第2の透明基板20とを貼り合わせたときに第1の透明基板10の基板辺101から第2の透明基板20が張り出す部分25を利用して、駆動用IC7をCOF実装したフレキシブル基板90の接続などが行われる。
(Electrode pattern and terminal configuration)
1 and 2 again, in the electro-optical device 1 of the present embodiment, the same direction of the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 is used for both external signal input and conduction between the substrates. The first terminal forming region 11 and the second terminal forming region 21 formed on the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 in the vicinity of the substrate sides 101 and 201 located at the same position are used. Therefore, a substrate larger than the first transparent substrate 10 is used as the second transparent substrate 20, and the first transparent substrate 10 is bonded to the first transparent substrate 10 when the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 are bonded together. Using the portion 25 where the second transparent substrate 20 protrudes from the ten substrate sides 101, the flexible substrate 90 on which the driving IC 7 is COF mounted is connected.

このため、第2の透明基板20において、第2の端子形成領域21は、基板辺201に近い部分が第1の透明基板10から張り出した部分25に形成され、この基板辺201に近い端子形成領域部分の表面は開放状態にある。これに対して、第2の透明基板20において、第2の端子形成領域21の液晶封入領域35の側に位置する部分は、第1の透明基板10の側との基板間導通用に用いられるので、この第2の端子形成領域21のうち、液晶封入領域35の側に位置する部分は、第1の透明基板10との重なり部分に形成されている。   For this reason, in the second transparent substrate 20, the second terminal formation region 21 is formed in a portion 25 that protrudes from the first transparent substrate 10 in a portion that is close to the substrate side 201, and a terminal that is close to the substrate side 201 is formed. The surface of the region portion is in an open state. On the other hand, in the second transparent substrate 20, the portion located on the liquid crystal sealing region 35 side of the second terminal forming region 21 is used for inter-substrate conduction with the first transparent substrate 10 side. Therefore, a portion of the second terminal formation region 21 located on the liquid crystal sealing region 35 side is formed in an overlapping portion with the first transparent substrate 10.

また、第1の透明基板10において、第1の端子形成領域11は、第2の透明基板20の側との基板間導通に用いられるので、第2の透明基板20との重なり部分に形成されている。   Further, in the first transparent substrate 10, the first terminal formation region 11 is used for inter-substrate conduction with the second transparent substrate 20 side, so that it is formed in an overlapping portion with the second transparent substrate 20. ing.

このような接続構造を構成するにあたって、本形態では、第1の透明基板10において、第1の端子形成領域11は第1の透明基板10の基板辺101の中央部分に沿って形成され、この第1の端子形成領域11では、基板辺101に沿って複数の第1の基板間導通用端子60が所定の間隔をもって並んでいる。また、第1の透明基板10では、第1の基板間導通用端子60から対向する基板辺102に向かって複数列の液晶駆動用の第1の電極パターン40が両側に斜めに延びた後、液晶封入領域35内で基板辺101、102に直交する方向に延びている。   In constructing such a connection structure, in this embodiment, in the first transparent substrate 10, the first terminal formation region 11 is formed along the central portion of the substrate side 101 of the first transparent substrate 10, In the first terminal formation region 11, a plurality of first inter-substrate conduction terminals 60 are arranged at a predetermined interval along the substrate side 101. Further, in the first transparent substrate 10, after the first electrode patterns 40 for driving a plurality of columns of liquid crystal are obliquely extended on both sides from the first inter-substrate conduction terminal 60 toward the opposite substrate side 102, The liquid crystal sealing region 35 extends in a direction orthogonal to the substrate sides 101 and 102.

第2の透明基板20において、第2の端子形成領域21も基板辺201に沿って形成されているが、この第2の端子形成領域21は、基板辺201の両端を除く比較的広い範囲にわたって形成されている。第2の端子形成領域21には、その中央領域で基板辺201に沿って所定の間隔をもって並ぶ複数の第1の外部入力用端子81、およびこれらの第1の外部入力用端子81が形成されている領域の両側2箇所で基板辺201に沿って所定の間隔をもって並ぶ複数の第2の外部入力用端子82が形成されている。   In the second transparent substrate 20, the second terminal formation region 21 is also formed along the substrate side 201, but this second terminal formation region 21 extends over a relatively wide range excluding both ends of the substrate side 201. Is formed. In the second terminal formation region 21, a plurality of first external input terminals 81 arranged at a predetermined interval along the substrate side 201 in the central region, and these first external input terminals 81 are formed. A plurality of second external input terminals 82 are formed along the substrate side 201 at two positions on both sides of the region.

また、第1の外部入力用端子81からは、第1の透明基板10と第2の透明基板20とを貼り合わせたときに第1の基板間導通用端子60と重なる複数の第2の基板間導通用端子70が基板辺202に向かって直線的に延びている。   Also, from the first external input terminal 81, a plurality of second substrates that overlap with the first inter-substrate conduction terminal 60 when the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 are bonded together. The inter-conduction terminal 70 extends linearly toward the substrate side 202.

さらに、第2の透明基板20において、第2の外部入力用端子82からは、第1の透明基板10と第2の透明基板20とを貼り合わせたときに第1の電極パターン40の形成領域の両側に相当する領域を回り込むように複数列の液晶駆動用の第2の電極パターン50が形成され、これらの第2の電極パターン50は、液晶封入領域35内において第1の電極パターン40と交差するように延びている。   Further, in the second transparent substrate 20, a region where the first electrode pattern 40 is formed from the second external input terminal 82 when the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 are bonded together. A plurality of columns of second electrode patterns 50 for driving a liquid crystal are formed so as to wrap around regions corresponding to both sides of the first electrode pattern 40 and the second electrode pattern 50. It extends to intersect.

このように構成した第1の透明基板10および第2の透明基板20を用いて電気光学装置1を構成するにあたって、本形態では、第1の透明基板10と第2の透明基板20とをシール材30を介して貼り合わせる際に、シール材30にギャップ材および導通材を配合しておくとともに、シール材30を第1の基板間導通用端子60および第2の基板間導通用端子70が重なる領域に形成する。ここで、シール材30に含まれる導電材は、たとえば、弾性変形可能なプラスチックビーズの表面にめっきを施した粒子であり、その粒径は、シール材30に含まれるギャップ材の粒径よりもわずかに大きい。それ故、第1の透明基板10と第2の透明基板20とを重ねた状態でその間隙を狭めるような力を加えながらシール材30を溶融、硬化させると、導電材は、第1の透明基板10と第2の透明基板20との間で押し潰された状態で第1の基板間導通用端子60と第2の基板間導通用端子70とを導通させる。   When the electro-optical device 1 is configured using the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 configured as described above, in the present embodiment, the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 are sealed. When the material 30 is bonded together, the gap material and the conductive material are blended in the seal material 30, and the first inter-substrate conduction terminal 60 and the second inter-substrate conduction terminal 70 are combined with the seal material 30. They are formed in overlapping areas. Here, the conductive material included in the sealing material 30 is, for example, particles obtained by plating the surface of an elastically deformable plastic bead, and the particle size thereof is larger than the particle size of the gap material included in the sealing material 30. Slightly bigger. Therefore, when the sealing material 30 is melted and cured while applying a force that narrows the gap with the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 overlapped, the conductive material becomes the first transparent substrate. In a state of being crushed between the substrate 10 and the second transparent substrate 20, the first inter-substrate conduction terminal 60 and the second inter-substrate conduction terminal 70 are made conductive.

また、第1の透明基板10と第2の透明基板20とをシール材30を介して貼り合わせると、第1の電極パターン40と第2の電極パターン50との交差部分によって画素がマトリクス状に形成される。このため、第2の透明基板20の第2の端子形成領域21の基板辺201側の端部に対してフレキシブル基板90を異方性導電材などを用いて実装した後、このフレキシブル基板90を介して第2の透明基板20の第1の外部入力用端子81および第2の外部入力用端子82に信号入力すると、第2の透明基板20に形成されている第2の電極パターン50には第2の外部入力用端子82を介して走査信号を直接、印加することができ、かつ、第1の透明基板10に形成されている第1の電極パターン40には、第1の外部入力用端子81、第2の基板間導通用端子70、導通材および第1の基板間導通用端子60を介して画像データを信号入力することができる。よって、これらの画像データおよび走査信号によって、各画素5において第1の電極パターン40と第2の電極パターン50との間に位置する液晶の配向状態を制御することができるので、所定の画像を表示することができる。   In addition, when the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 are bonded to each other through the sealing material 30, the pixels are arranged in a matrix by the intersection of the first electrode pattern 40 and the second electrode pattern 50. It is formed. For this reason, after mounting the flexible substrate 90 to the end of the second terminal formation region 21 of the second transparent substrate 20 on the substrate side 201 side using an anisotropic conductive material, the flexible substrate 90 is mounted. When a signal is input to the first external input terminal 81 and the second external input terminal 82 of the second transparent substrate 20 through the second electrode pattern 50 formed on the second transparent substrate 20, A scanning signal can be directly applied via the second external input terminal 82, and the first electrode pattern 40 formed on the first transparent substrate 10 includes the first external input terminal. Image data can be input as a signal through the terminal 81, the second inter-substrate conduction terminal 70, the conducting material and the first inter-substrate conduction terminal 60. Therefore, the alignment state of the liquid crystal positioned between the first electrode pattern 40 and the second electrode pattern 50 in each pixel 5 can be controlled by these image data and scanning signals, so that a predetermined image can be displayed. Can be displayed.

(電気光学装置1の製造方法)
図4および図5は、それぞれ電気光学装置の製造方法を示す工程図、および説明図である。図6(A)、(B)はそれぞれ、大型パネルを切断する位置を示す断面図、および短冊状パネルを単品のパネルに切断した後、基板の余剰な部分を除去した様子を示す断面図である。
(Method of manufacturing electro-optical device 1)
4 and 5 are a process diagram and an explanatory diagram, respectively, showing a method for manufacturing an electro-optical device. FIGS. 6A and 6B are a cross-sectional view showing a position for cutting a large panel, and a cross-sectional view showing a state where an excessive portion of the substrate is removed after the strip-like panel is cut into a single panel. is there.

本形態の電気光学装置1を製造するにあたって、第1の透明基板10および第2の透明基板20はいずれも、図4および図5に示す工程(A)において、これらの基板10、20を各々、多数枚取りできる大型基板100、200の状態で電極パターン40、50などの形成工程が行われる。   In manufacturing the electro-optical device 1 of the present embodiment, both the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 are used as the substrates 10 and 20 in the step (A) shown in FIGS. The formation process of the electrode patterns 40, 50, etc. is performed in the state of the large substrates 100, 200 that can be obtained in large numbers.

そして、各大型基板100、200の各々に対して、図4および図5に示す工程(B)において、配向膜12、22の形成およびラビング工程を行った後、例えば、図4および図5に示す工程(C)において、第1の大型基板100にシール材30を塗布する一方、第2の大型基板200にギャップ材28を散布する。   Then, after the alignment films 12 and 22 are formed and rubbed in the step (B) shown in FIGS. 4 and 5 for each of the large substrates 100 and 200, for example, in FIGS. In the step (C) shown, the sealing material 30 is applied to the first large substrate 100, while the gap material 28 is dispersed on the second large substrate 200.

次に、図4および図5に示す工程(D)において、大型基板100、200を所定の位置関係をもって貼り合わせて大型パネル300を形成する。   Next, in step (D) shown in FIGS. 4 and 5, the large substrates 100 and 200 are bonded together with a predetermined positional relationship to form the large panel 300.

次に、図4および図5に示す工程(E)において、大型パネル300に対する切断工程(1次ブレイク工程)として、大型パネル300を短冊状パネルに切断するためのスクライブライン301を大型パネル300の表面および裏面のそれぞれに形成した後、大型パネル300の表面および裏面に対して、スクライブライン301に沿ってレーザ光L1、L2を照射し、大型パネル300を短冊状パネル400に切断する。   Next, in the step (E) shown in FIGS. 4 and 5, as a cutting step (primary breaking step) for the large panel 300, a scribe line 301 for cutting the large panel 300 into a strip-shaped panel is formed on the large panel 300. After forming on each of the front surface and the back surface, the large panel 300 is cut into strip-shaped panels 400 by irradiating the front and back surfaces of the large panel 300 with laser beams L1 and L2 along the scribe line 301.

この際には、図6(A)に示すように、シール材30の塗布領域に沿って大型パネル300を切断する。すなわち、本形態によれば、シール材30の塗布領域で切断することも可能であるため、例えば、シール材30の塗布領域と重なる位置で大型パネル300を切断すれば、短冊状パネル400の切断面では、液晶注入口31を除いて基板間がシール材30で塞がれた状態となる。従って、後工程において、切断したパネルを洗浄した際、シール30の塗布領域の外側で基板間に洗浄液が溜まるなどといった事象が発生しない。   At this time, as shown in FIG. 6A, the large panel 300 is cut along the application region of the sealing material 30. That is, according to the present embodiment, since it is possible to cut at the application region of the sealing material 30, for example, if the large panel 300 is cut at a position overlapping the application region of the sealing material 30, the strip-shaped panel 400 is cut. On the surface, the substrate is closed with the sealing material 30 except for the liquid crystal injection port 31. Accordingly, when the cut panel is cleaned in a subsequent process, an event such as the cleaning liquid collecting between the substrates outside the application region of the seal 30 does not occur.

この状態で短冊状パネル400の切断部分には、液晶注入口31(図2を参照)が開口しているので、図4および図5に示す工程(F)において、液晶注入口31から液晶を注入した後、液晶注入口31を封止材32(図2を参照)で封止する。   In this state, since the liquid crystal injection port 31 (see FIG. 2) is opened in the cut portion of the strip-shaped panel 400, the liquid crystal is supplied from the liquid crystal injection port 31 in the step (F) shown in FIGS. After the injection, the liquid crystal injection port 31 is sealed with a sealing material 32 (see FIG. 2).

次に、図4および図5に示す工程(G)において、短冊状パネル400に対する切断工程(2次ブレイク工程)として、短冊状パネル400を各電気光学毎の単品のパネルに切断するためのスクライブライン401を短冊状パネル400の表面および裏面のそれぞれに形成した後、短冊状パネル400の両面に対して、スクライブライン401に沿ってレーザ光L1、L2を照射し、短冊状パネル100を単品のパネル1'に切断する。   Next, in the step (G) shown in FIGS. 4 and 5, as a cutting step (secondary breaking step) for the strip-shaped panel 400, a scribe for cutting the strip-shaped panel 400 into a single panel for each electro-optic. After the line 401 is formed on each of the front and back surfaces of the strip-shaped panel 400, both sides of the strip-shaped panel 400 are irradiated with the laser beams L1 and L2 along the scribe line 401, so that the strip-shaped panel 100 is made as a single item. Cut into panel 1 '.

なお、単品のパネル1'については、図1および図2に示すように、第1の透明基板10を第2の透明基板20よりも小さ目に仕上げて、各端子領域を露出させる必要があるが、この場合には、単品のパネルに対して、スクライブライン403を形成し、それにレーザ光Lを照射して、第2の透明基板20から端子領域を露出させればよい(短冊からの除材工程)。この際にも、図6(B)に示すように、シール材30の塗布領域に沿って大型パネル300を切断する。   For the single panel 1 ′, as shown in FIGS. 1 and 2, it is necessary to finish the first transparent substrate 10 smaller than the second transparent substrate 20 to expose each terminal region. In this case, a scribe line 403 is formed on a single panel, and a laser beam L is applied to the scribe line 403 to expose the terminal region from the second transparent substrate 20 (material removal from the strip). Process). Also at this time, as shown in FIG. 6B, the large panel 300 is cut along the application region of the sealing material 30.

しかる後には、図4および図5に示す工程(G)において、フレキシブル基板90などの実装を行う。   Thereafter, the flexible substrate 90 and the like are mounted in the step (G) shown in FIGS. 4 and 5.

(レーザ切断装置の構成)
このように、電気光学装置1を製造するには、2枚の基板を重ねて貼り合わせた大型パネル300、あるいは短冊状パネル400を切断する必要があり、このような切断を行うにあたって、本形態では、以下に説明する切断装置を用いる。
(Configuration of laser cutting device)
As described above, in order to manufacture the electro-optical device 1, it is necessary to cut the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 in which two substrates are stacked and bonded together. Then, the cutting device described below is used.

図7は、本発明を適用したレーザ切断装置のレーザ照射装置の要部の構成を示す説明図である。図8は、本発明を適用したレーザ切断装置に用いたパネル支持具、およびその駆動機構の説明図である。   FIG. 7 is an explanatory diagram showing a configuration of a main part of a laser irradiation apparatus of a laser cutting apparatus to which the present invention is applied. FIG. 8 is an explanatory diagram of a panel support used in the laser cutting apparatus to which the present invention is applied and its drive mechanism.

図7に示すように、本形態の切断装置500は、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に向けて表面側および裏面側の双方にレーザ光L1、L2を照射するレーザ照射装置501と、大型パネル300あるいは短冊状パネル400を移動させることにより、レーザ照射装置501から出射されたレーザ光L1、L2の大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する照射位置を調整するとともに、その照射位置を移動させるロボット部550(駆動手段)と、このロボット部550およびレーザ照射装置501を制御するとともに、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断開始位置から切断終了位置までの間でレーザ光L1、L2による切断条件を変更するコントローラ541(制御手段)とを有している。また、切断終了後の短冊状パネル400あるいは単品のパネルを撮像、検査し、その撮像、検査結果をコントローラに出力して、それ以降に行う大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断条件にフィードバックするための検査用撮像装置560(検査手段)を有している。   As shown in FIG. 7, the cutting apparatus 500 of this embodiment includes a laser irradiation apparatus 501 that irradiates laser light L <b> 1 and L <b> 2 on both the front side and the rear side toward the large panel 300 or the strip-shaped panel 400, and the large panel. The robot unit moves the irradiation position while adjusting the irradiation position of the laser beams L1 and L2 emitted from the laser irradiation apparatus 501 to the large panel 300 or the strip panel 400 by moving the 300 or the strip panel 400. 550 (driving means), the robot unit 550, and the laser irradiation apparatus 501 are controlled, and the cutting conditions by the laser beams L1 and L2 are set between the cutting start position and the cutting end position with respect to the large panel 300 or the strip-shaped panel 400. It has a controller 541 (control means) to changeFurther, the strip-shaped panel 400 or a single panel after cutting is imaged and inspected, and the imaged and inspected results are output to the controller and fed back to the subsequent cutting conditions for the large-sized panel 300 or the strip-shaped panel 400. Therefore, an inspection imaging device 560 (inspection means) is provided.

コントローラ541は、まず、レーザ照射装置501において、炭酸ガスレーザ541、542を制御し、炭酸ガスレーザ542、543は、それぞれレーザ光L1、L2を出射する。炭酸ガスレーザ542からのレーザ光L1は、全反射ミラー544により反射されて、集光レンズ546を介して、前記した大型パネル300あるいは短冊状パネル400の表面に照射される。また、炭酸ガスレーザ543からのレーザ光L2も、レーザ光L1と同様、全反射ミラー545で反射された後、集光レンズ547を介して、大型パネル300あるいは短冊状パネル400の裏面に照射される。   First, the controller 541 controls the carbon dioxide lasers 541 and 542 in the laser irradiation apparatus 501, and the carbon dioxide lasers 542 and 543 emit laser beams L1 and L2, respectively. The laser beam L 1 from the carbon dioxide laser 542 is reflected by the total reflection mirror 544 and is irradiated on the surface of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 through the condenser lens 546. Similarly to the laser beam L1, the laser beam L2 from the carbon dioxide laser 543 is reflected by the total reflection mirror 545 and then irradiated to the back surface of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 via the condenser lens 547. .

その結果、レーザ光L1、L2が照射された領域が温度上昇し、その温度勾配に起因して発生する熱応力が増大し、大型パネル300および短冊状パネル400を構成する2枚の基板の各々に亀裂が厚さ方向に発生して、2枚の基板が各々割れる。このため、切断精度が高く、かつ、再現性に優れている。また、非接触で切断を行うので、大型パネル300および短冊状パネル400に傷を付けるおそれがない。   As a result, the regions irradiated with the laser beams L1 and L2 rise in temperature, the thermal stress generated due to the temperature gradient increases, and each of the two substrates constituting the large panel 300 and the strip-shaped panel 400 Cracks occur in the thickness direction, and the two substrates are each broken. For this reason, cutting accuracy is high and reproducibility is excellent. Further, since the cutting is performed in a non-contact manner, there is no possibility that the large panel 300 and the strip-shaped panel 400 are damaged.

なお、全反射ミラー544、545は、その反射角度および取り付け位置が任意に調整できるように支持されており、レーザ光L1が炭酸ガスレーザ543に到達しないよう、かつ、レーザ光L2が炭酸ガスレーザ542に到達しないよう、レーザ光L1、L2が大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対して所定の傾きをもって斜めに入射するようになっている。   The total reflection mirrors 544 and 545 are supported so that the reflection angle and the mounting position thereof can be adjusted arbitrarily, so that the laser light L1 does not reach the carbon dioxide laser 543 and the laser light L2 is directed to the carbon dioxide laser 542. The laser beams L 1 and L 2 are incident on the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 obliquely with a predetermined inclination so as not to reach.

ここで、大型パネル300および短冊状パネル400は、パネル支持具600により支持され、このパネル支持具600は、コントローラ541の制御の下で動作するロボット部550によりその位置が制御される。ロボット部550は、X方向スライド機構551およびY方向スライド機構552から構成されている。   Here, the large panel 300 and the strip-shaped panel 400 are supported by a panel support 600, and the position of the panel support 600 is controlled by a robot unit 550 that operates under the control of the controller 541. The robot unit 550 includes an X-direction slide mechanism 551 and a Y-direction slide mechanism 552.

図8において、X方向スライド機構551には、Xステージ553と、パルスモータ554と、このパルスモータ554により駆動されるシャフト(図示せず)とが装備されている。このシャフトの外表面にはネジが切られており、パネル支持具600に連結されている連結部材549と螺合して、シャフトを回転させることにより、連結部材549を移動させて、パネル支持具600をX方向に移動させる。また、Y方向スライド機構552には、Yステージ556と、パルスモータ557と、このパルスモータにより駆動されるシャフト(図示せず)とが装備されている。このシャフトの外表面にもネジが切られており、Xステージ553の裏側に形成されている連結部材(図示せず)と螺合して、シャフトをさせることにより、連結部材を移動させる。その結果、Xステージ553がY方向に移動し、パネル支持具600がY方向に移動する。   In FIG. 8, the X-direction slide mechanism 551 is equipped with an X stage 553, a pulse motor 554, and a shaft (not shown) driven by the pulse motor 554. The outer surface of the shaft is threaded, and is screwed with the connecting member 549 connected to the panel support 600, and the shaft is rotated to move the connecting member 549, so that the panel support 600 is moved in the X direction. The Y-direction slide mechanism 552 is equipped with a Y stage 556, a pulse motor 557, and a shaft (not shown) driven by this pulse motor. The outer surface of the shaft is also threaded, and is screwed with a connecting member (not shown) formed on the back side of the X stage 553 to move the connecting member. As a result, the X stage 553 moves in the Y direction, and the panel support 600 moves in the Y direction.

このように構成したレーザ切断装置500では、まず、せん断予定箇所にスクライブラインが形成された大型パネル300あるいは短冊状パネル400をパネル支持具600に保持させる。   In the laser cutting device 500 configured as described above, first, the panel support 600 holds the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 in which the scribe line is formed at the planned shearing portion.

そして、コントローラ541により、炭酸ガスレーザ542、543を制御して、レーザ光L1、L2を出射する。炭酸ガスレーザ542、543からのレーザ光L1、L2は、全反射ミラー544、545により反射され、集光レンズ546、547を介して、大型パネル300あるいは短冊状パネル400の表面側および裏面側の各々に照射される。   Then, the controller 541 controls the carbon dioxide lasers 542 and 543 to emit the laser beams L1 and L2. The laser beams L1 and L2 from the carbon dioxide lasers 542 and 543 are reflected by total reflection mirrors 544 and 545, and are respectively provided on the front side and the back side of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 via the condenser lenses 546 and 547. Is irradiated.

このようにしてレーザ光L1、L2を照射するとともに、ロボット部550は、コントローラ541の制御の下、パネル支持具600をX方向およびY方向に移動させることにより、レーザ光L1、L2を大型パネル300あるいは短冊状パネル400上の所定位置に照射させるとともに、その照射位置を切断予定線に沿って移動させる。その結果、レーザ光L1、L2の照射位置の移動にともって亀裂が伝播していくので、切断箇所の直線性などといった精度が高い。   In this manner, the laser beams L1 and L2 are irradiated, and the robot unit 550 moves the panel support 600 in the X direction and the Y direction under the control of the controller 541, thereby causing the laser beams L1 and L2 to be emitted from the large panel. While irradiating a predetermined position on 300 or the strip-shaped panel 400, the irradiation position is moved along the planned cutting line. As a result, since the crack propagates with the movement of the irradiation position of the laser beams L1 and L2, the accuracy such as the linearity of the cut portion is high.

なお、パネル300、400については固定しておき、レーザ光L1、L2の方を移動させてもよい。   The panels 300 and 400 may be fixed and the laser beams L1 and L2 may be moved.

ここで、パネル支持具600は、大型パネル300、および複数枚の短冊状パネル400を保持する矩形の開口601を有するとともに、この矩形の開口601の内側には、大型パネル300および短冊状パネル400を載せる段差部分602が形成されている。従って、開口601の内側に大型パネル300あるいは短冊状パネル400を載せた状態において、大型パネル300あるいは短冊状パネル400の表面側および裏面側のいずれもが、完全に開放状態にある。それ故、大型パネル300あるいは短冊状パネル400の表面側および裏面側にレーザ光L1、L2を同時に照射するのに支障がない。それ故、複雑な機構を採用しなても簡単な構成でレーザ切断装置500を構成でき、このレーザ切断装置500によれば、大型パネル300あるいは短冊状パネル400を効率よく切断することができる。   Here, the panel support 600 has a rectangular opening 601 that holds the large panel 300 and a plurality of strip-shaped panels 400, and the large-sized panel 300 and the strip-shaped panel 400 are disposed inside the rectangular opening 601. A stepped portion 602 is formed on which the film is placed. Accordingly, in a state where the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 is placed inside the opening 601, both the front surface side and the back surface side of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 are completely open. Therefore, there is no problem in simultaneously irradiating the front and back sides of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 with the laser beams L1 and L2. Therefore, the laser cutting device 500 can be configured with a simple configuration without adopting a complicated mechanism. According to the laser cutting device 500, the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 can be efficiently cut.

[別のパネル支持具の構成]
図9(A)、(B)、(C)はそれぞれ、本発明を適用した別のレーザ切断装置において大型パネルを支持するためのパネル支持具の平面図、そのII−II'断面図、およびIII−III'断面図である。図10(A)、(B)、(C)はそれぞれ、本発明を適用した別のレーザ切断装置において短冊状パネルを支持するためのパネル支持具の平面図、そのIV−IV'断面図、およびV−V'断面図である。
[Configuration of another panel support]
FIGS. 9A, 9B, and 9C are respectively a plan view of a panel support for supporting a large panel in another laser cutting apparatus to which the present invention is applied, a sectional view taken along line II-II ′, and FIGS. It is III-III 'sectional drawing. FIGS. 10A, 10B, and 10C are respectively a plan view of a panel support for supporting a strip-shaped panel in another laser cutting apparatus to which the present invention is applied, a IV-IV ′ cross-sectional view thereof, And VV ′ sectional view.

パネル300、400の表面側および裏面側にレーザ光L1、L2を照射してパネル300、400を切断するにあたって、図9(A)、(B)、(C)、および図10(A)、(B)、(C)に示すような吸着ヘッドからなるパネル支持具650を用いてもよい。図9(A)、(B)、(C)、および図10(A)、(B)、(C)に示すパネル支持具650は、いずれも中空のブロック651の上面に多数の孔652が形成されており、このブロック651の表面にパネル300、400を載置した状態で、ブロック651内を真空引きすると、上面で開口する多数の孔652からパネル300、400が真空吸着される。また、ブロック651の表面には、パネル300、400の縁に当接して、これらのパネル300、400をブロック651上の所定の位置に位置決めするためのノックピン653が所定位置に形成されている。さらに、ブロック651の側面には、ブロック内を真空引きするための管を接続するためのジョイント654が形成されている。   When cutting the panels 300 and 400 by irradiating the front and back surfaces of the panels 300 and 400 with the laser beams L1 and L2, FIGS. 9A, 9B, and 10A are performed. You may use the panel support 650 which consists of a suction head as shown to (B) and (C). The panel support 650 shown in FIGS. 9A, 9B, and 10A, 10B, 10C has a large number of holes 652 on the upper surface of the hollow block 651. When the inside of the block 651 is evacuated in a state where the panels 300 and 400 are placed on the surface of the block 651, the panels 300 and 400 are vacuum-adsorbed from the numerous holes 652 opened on the upper surface. Further, knock pins 653 for abutting the edges of the panels 300 and 400 and positioning the panels 300 and 400 at predetermined positions on the block 651 are formed at predetermined positions on the surface of the block 651. Further, a joint 654 for connecting a pipe for evacuating the inside of the block is formed on the side surface of the block 651.

ここで、ブロック651には、吸着、保持したパネル300、400の切断予定線301、401に相当する位置に長孔からなる開口655が形成されている。   Here, the block 651 is formed with an opening 655 made of a long hole at a position corresponding to the planned cutting lines 301 and 401 of the panels 300 and 400 that are sucked and held.

すなわち、図9(A)、(B)、(C)に示すパネル支持具650のブロック651では、大型パネル300を短冊状パネル400に切断するための切断予定線301に沿って8列の開口655が形成され、これらの開口655の間に吸着用の孔652が並んでいる。このため、ブロック651上に大型パネル300を載せ、この状態で大型パネル300をブロック651が吸着すると、大型パネル300は、ブロック651上に保持されるが、パネル表面側は完全開放状態にある一方、その裏面側は、少なくとも切断予定線301に相当する部分が開口655を介して開放状態にある。従って、大型パネル300をパネル支持具650のブロック651上に保持した状態のまま、大型パネル300の表面側および裏面側の双方にレーザ光L1、L2を同時に照射することができる。   That is, in the block 651 of the panel support 650 shown in FIGS. 9A, 9 </ b> B, and 8 </ b> C, eight rows of openings are formed along the planned cutting line 301 for cutting the large panel 300 into the strip-shaped panel 400. 655 is formed, and suction holes 652 are arranged between these openings 655. Therefore, when the large panel 300 is placed on the block 651 and the large panel 300 is sucked by the block 651 in this state, the large panel 300 is held on the block 651, but the panel surface side is in a fully open state. In the back side, at least a portion corresponding to the planned cutting line 301 is in an open state through the opening 655. Therefore, both the front surface side and the back surface side of the large panel 300 can be simultaneously irradiated with the laser beams L1 and L2 while the large panel 300 is held on the block 651 of the panel support 650.

また、図10(A)、(B)、(C)に示すパネル支持具650のブロック651では、短冊状パネル400を単品のパネル1'に切断するための切断予定線401に沿って4列の開口655が形成され、これらの開口655の間に吸着用の孔652が並んでいる。このため、ブロック651上に短冊状パネル400を載せ、この状態で短冊状パネル400をブロック651が吸着すると、短冊状パネル400は、ブロック651上に保持されるが、パネル表面側は完全開放状態にある一方、その裏面側は、少なくとも切断予定線401に相当する部分が開口655を介して開放状態にある。従って、短冊状パネル400をパネル支持具650のブロック651上に保持した状態のまま、短冊状パネル400の表面側および裏面側の双方にレーザ光L1、L2を同時に照射することができる。   Further, in the block 651 of the panel support 650 shown in FIGS. 10A, 10B, and 10C, there are four rows along the planned cutting line 401 for cutting the strip-shaped panel 400 into a single panel 1 ′. The openings 655 are formed, and suction holes 652 are arranged between the openings 655. For this reason, when the strip-shaped panel 400 is placed on the block 651 and the strip-shaped panel 400 is attracted to the block 651 in this state, the strip-shaped panel 400 is held on the block 651, but the panel surface side is in a fully open state. On the other hand, at least the portion corresponding to the planned cutting line 401 is open through the opening 655 on the rear surface side. Therefore, both the front surface side and the back surface side of the strip-shaped panel 400 can be irradiated simultaneously with the strip-shaped panel 400 held on the block 651 of the panel support 650.

(レーザ切断条件の詳細)
図11(A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用したレーザ切断方法におけるレーザ光L1、L2のパワー、およびレーザ光L1、L2の照射位置の移動速度を示す説明図である。
(Details of laser cutting conditions)
11A and 11B are explanatory diagrams showing the power of the laser beams L1 and L2 and the moving speed of the irradiation positions of the laser beams L1 and L2 in the laser cutting method to which the present invention is applied.

図7から図10を参照して説明したレーザ切断装置500において、本形態では、コントローラ541は、2枚の基板を重ねて貼り合わせた大型パネル300、あるいは短冊状パネル400に対する切断開始位置から切断終了位置までの間でレーザ光による切断条件(レーザ光のパワー、大型パネル300あるいは短冊状パネル400におけるレーザ光の照射位置の移動速度)を、図11(A)、(B)に示すように変更する。   In the laser cutting device 500 described with reference to FIGS. 7 to 10, in this embodiment, the controller 541 cuts from the cutting start position with respect to the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 in which two substrates are stacked and bonded. As shown in FIGS. 11A and 11B, the cutting conditions by the laser beam up to the end position (the laser beam power, the moving speed of the irradiation position of the laser beam in the large panel 300 or the strip-shaped panel 400) are as shown in FIGS. change.

すなわち、図11(A)に示すように、コントローラ541は、レーザ照射装置501を制御して、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断開始位置付近(期間T1)ではレーザ光L1、L2のパワーを逓増させた後、定常状態になっている期間T2では、レーザ光L1、L2のパワーをハイ状態に維持し、しかる後、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断終了位置付近(期間T3)ではレーザ光L1、L2のパワーを逓減させていく。   That is, as shown in FIG. 11A, the controller 541 controls the laser irradiation device 501 so that the power of the laser beams L1 and L2 is near the cutting start position (period T1) with respect to the large panel 300 or the strip-shaped panel 400. In the period T2 in which the steady state is reached after increasing the power, the powers of the laser beams L1 and L2 are maintained in the high state, and thereafter, near the cutting end position for the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 (period T3). Then, the powers of the laser beams L1 and L2 are gradually decreased.

また、図11(B)に示すように、コントローラ541は、ロボット部550を制御して、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断開始位置付近(期間T1)では大型パネル300あるいは短冊状パネル400の移動速度(大型パネル300あるいは短冊状パネル400上におけるレーザ光L1、L2の照射位置の移動速度)を逓増させた後、定常状態になっている期間T2では、大型パネル300あるいは短冊状パネル400の移動速度をハイ状態に維持し、しかる後、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断終了位置付近(期間T3)では大型パネル300あるいは短冊状パネル400の移動速度を逓減させていく。   As shown in FIG. 11B, the controller 541 controls the robot unit 550 so that the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 is near the cutting start position (period T1) with respect to the large panel 300 or the strip-shaped panel 400. In the period T2 in which the moving speed (moving speed of the irradiation positions of the laser beams L1 and L2 on the large panel 300 or the strip panel 400) is gradually increased, the large panel 300 or the strip panel 400 is increased. The moving speed of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 is then gradually decreased in the vicinity of the cutting end position (period T3) with respect to the large panel 300 or the strip-shaped panel 400.

また、本形態では、切断終了後の短冊状パネル400や単品のパネルを検査用撮像装置560によって撮像、検査し、その撮像、検査結果をコントローラに出力して、それ以降に行う大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断条件にフィードバックする。   Further, in this embodiment, the strip-shaped panel 400 or a single panel after cutting is imaged and inspected by the imaging device for inspection 560, and the imaging and inspection results are output to the controller. Feedback is made to the cutting conditions for the strip-shaped panel 400.

このように、本形態では、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断開始位置付近(期間T1)ではレーザ光L1、L2のパワーを逓増させるため、大型パネル300あるいは短冊状パネル400において、各ガラス基板は冷えた状態から徐々に加熱されるので、クラックが発生しない。また、切断が進むにつれてパワーを上げていくため、後は、大型パネル300あるいは短冊状パネル400上におけるレーザ光L1、L2の照射位置の移動速度を高めることができるので、大型パネル300あるいは短冊状パネル400を効率よく切断することができる。   As described above, in this embodiment, the power of the laser beams L1 and L2 is increased in the vicinity of the cutting start position (period T1) with respect to the large panel 300 or the strip-shaped panel 400. Since the substrate is gradually heated from the cold state, no cracks are generated. Further, since the power is increased as the cutting progresses, the moving speed of the irradiation position of the laser beams L1 and L2 on the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 can be increased thereafter. Panel 400 can be cut efficiently.

また、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断開始位置付近(期間T1)では大型パネル300あるいは短冊状パネル400の移動速度を逓増させるため、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断開始位置付近において、レーザ光のパワーを下げた場合に熱量が不足する場合でも、この部分を切断している間、大型パネル300あるいは短冊状パネル400上におけるレーザ光L1、L2の照射位置の移動速度が遅いので、熱量が不足することがない。また、切断開始位置付近を過ぎた後は、大型パネル300あるいは短冊状パネル400の移動速度を早めるので、大型パネル300あるいは短冊状パネル400を効率よく切断することができる。   Further, in the vicinity of the cutting start position for the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 (period T1), the moving speed of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 is gradually increased. Even when the amount of heat is insufficient when the power of the laser beam is lowered, the moving speed of the irradiation position of the laser beams L1 and L2 on the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 is slow while this portion is cut. , There is no shortage of heat. Further, since the moving speed of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 is increased after the vicinity of the cutting start position, the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 can be efficiently cut.

さらに、本形態では、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断終了位置付近(期間T3)ではレーザ光L1、L2のパワーを逓減させていくため、それまでのレーザ照射によって発生した熱が伝わってきても熱の逃げる場所がない切断終了位置付近で大型パネル300あるいは短冊状パネル400のガラス基板の温度がすでに上昇していたとしても、ガラス基板が過熱状態とならないので、クラックが発生しない。   Further, in this embodiment, the power of the laser beams L1 and L2 is gradually reduced in the vicinity of the cutting end position (period T3) with respect to the large panel 300 or the strip-shaped panel 400, so that the heat generated by the laser irradiation so far is transmitted. However, even if the temperature of the glass substrate of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 has already risen in the vicinity of the cutting end position where there is no place for heat to escape, the glass substrate is not overheated, so that cracks do not occur.

さらにまた、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断終了位置付近(期間T3)では大型パネル300あるいは短冊状パネル400の移動速度を逓減させているので、大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断終了位置付近において、レーザ光L1、L2のパワーを下げた場合に熱量が不足する場合でも、この部分を切断している間、大型パネル300あるいは短冊状パネル400の移動速度が遅いので、熱量が不足することがない。また、切断終了位置付近までは、大型パネル300あるいは短冊状パネル400の移動速度を早めるので、大型パネル300あるいは短冊状パネル400を効率よく切断することができる。   Furthermore, since the moving speed of the large panel 300 or the strip panel 400 is gradually reduced near the cutting end position (period T3) with respect to the large panel 300 or the strip panel 400, the cutting of the large panel 300 or the strip panel 400 is completed. Even if the amount of heat is insufficient when the power of the laser beams L1 and L2 is reduced near the position, the moving speed of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 is slow while this portion is cut, so the amount of heat is insufficient. There is nothing to do. Further, since the moving speed of the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 is increased up to the vicinity of the cutting end position, the large panel 300 or the strip-shaped panel 400 can be efficiently cut.

さらにまた、本形態では、切断終了後の短冊状パネル400や単品のパネルを検査用撮像装置560によって撮像、検査し、その撮像、検査結果をコントローラに出力して、それ以降に行う大型パネル300あるいは短冊状パネル400に対する切断条件にフィードバックするため、歩留まりを向上することができる。   Furthermore, in this embodiment, the strip-shaped panel 400 after cutting and a single panel are imaged and inspected by the inspection imaging device 560, the imaging and inspection results are output to the controller, and then the large panel 300 is performed. Alternatively, since the feedback is made to the cutting conditions for the strip-shaped panel 400, the yield can be improved.

(その他の実施の形態)
上記形態では、工程(G)において、短冊状パネ400から単品の液晶パネル1'を切り出し、その後、第2の透明基板20から端子領域を露出させたが、図12に示す構造の場合において、前記の工程(G)では、短冊状パネル400の状態で第2の透明基板20の端子領域に相当する部分を露出させるようにして単品の液晶パネル1'を切り出すとともに、端材を除去するのに本発明を適用しても良い。すなわち、図12に示すように、図4に示した工程(G)では、短冊状パネル400において、第1の透明基板10の切断予定線403、および第2の透明基板20の切断予定線402に沿ってレーザ光を照射する。これにより、短冊状パネル400は張り出し領域25が露出した状態で個々の液晶パネルに分割される。この場合、個々の液晶パネルには端材60が残るので、切断予定線401に沿ってレーザ光を照射することにより、分割と端材60の除去を同時に行ってもよい。
(Other embodiments)
In the above embodiment, in the step (G), the single liquid crystal panel 1 ′ is cut out from the strip-shaped panel 400, and then the terminal region is exposed from the second transparent substrate 20, but in the case of the structure shown in FIG. In the step (G), the liquid crystal panel 1 ′ is cut out so that the portion corresponding to the terminal region of the second transparent substrate 20 is exposed in the state of the strip-shaped panel 400, and the end material is removed. The present invention may be applied to. That is, as shown in FIG. 12, in the step (G) shown in FIG. 4, in the strip-like panel 400, the planned cutting line 403 of the first transparent substrate 10 and the planned cutting line 402 of the second transparent substrate 20. A laser beam is irradiated along the line. As a result, the strip-shaped panel 400 is divided into individual liquid crystal panels with the overhanging region 25 exposed. In this case, since the end material 60 remains in each liquid crystal panel, the division and the removal of the end material 60 may be performed simultaneously by irradiating laser light along the planned cutting line 401.

また、上記形態では、2枚のガラス基板を貼り合わせたパネルをレーザ光によって切断する際に本発明を適用したが、1枚のガラス基板をレーザ光によって切断する際に本発明を適用してもよい。   Further, in the above embodiment, the present invention is applied when cutting a panel on which two glass substrates are bonded with laser light. However, the present invention is applied when cutting one glass substrate with laser light. Also good.

さらに、上記実施形態では、パッシブマトリクス型の電気光学装置1の製造に本発明を適用した例を説明したが、能動素子としてTFD素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置1、あるいは能動素子として薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置等々、各種の電気光学装置の製造に本発明を適用してもよい。   Further, in the above-described embodiment, the example in which the present invention is applied to the manufacture of the passive matrix type electro-optical device 1 has been described. However, the active matrix type liquid crystal device 1 using a TFD element as an active element, or the thin film transistor as an active element The present invention may be applied to the manufacture of various electro-optical devices such as an active matrix type liquid crystal device using the above.

(電子機器の実施形態)
図13は、本発明に係る電気光学装置(液晶装置)を各種の電子機器の表示装置として用いる場合の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源70、表示情報処理回路71、電源回路72、タイミングジェネレータ73、そして液晶装置74を有する。また、液晶装置74は、液晶表示パネル75及び駆動回路76を有する。液晶装置74および液晶パネル75としては、前述した電気光学装置1、および単品のパネル1'を用いることができる。
(Embodiment of electronic device)
FIG. 13 shows an embodiment in which the electro-optical device (liquid crystal device) according to the present invention is used as a display device of various electronic apparatuses. The electronic device shown here includes a display information output source 70, a display information processing circuit 71, a power supply circuit 72, a timing generator 73, and a liquid crystal device 74. The liquid crystal device 74 includes a liquid crystal display panel 75 and a drive circuit 76. As the liquid crystal device 74 and the liquid crystal panel 75, the above-described electro-optical device 1 and the single panel 1 ′ can be used.

表示情報出力源70は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ73によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路71に供給する。   The display information output source 70 includes a storage unit such as a ROM (Read Only Memory) and a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as various disks, a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal, and the like, and is generated by a timing generator 73. Display information such as an image signal in a predetermined format is supplied to the display information processing circuit 71 based on the various clock signals.

表示情報処理回路71は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路76へ供給する。駆動回路76は、図1における走査線駆動回路57やデータ線駆動回路58、検査回路等を総称したものである。また、電源回路72は、各構成要素に所定の電圧を供給する。   The display information processing circuit 71 includes various known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, a clamp circuit, and the like, executes processing of input display information, The signal is supplied to the drive circuit 76 together with the clock signal CLK. The drive circuit 76 is a general term for the scanning line drive circuit 57, the data line drive circuit 58, the inspection circuit, and the like in FIG. The power supply circuit 72 supplies a predetermined voltage to each component.

図14は、本発明に係る電子機器の一実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示している。ここに示すパーソナルコンピュータ80は、キーボード86を備えた本体部87と、液晶表示ユニット88とを有する。液晶表示ユニット88は、前述した電気光学装置1を含んで構成される。   FIG. 14 shows a mobile personal computer which is an embodiment of an electronic apparatus according to the present invention. The personal computer 80 shown here has a main body 87 having a keyboard 86 and a liquid crystal display unit 88. The liquid crystal display unit 88 includes the electro-optical device 1 described above.

図15は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機90は、複数の操作ボタン91と、液晶装置からなる電気光学装置1を有している。   FIG. 15 shows a mobile phone which is another embodiment of the electronic apparatus according to the invention. A cellular phone 90 shown here includes a plurality of operation buttons 91 and the electro-optical device 1 including a liquid crystal device.

以上説明したように、本発明では、ガラス基板にレーザ光を照射すると、レーザ光が照射された領域が温度上昇し、その温度勾配に起因して発生する熱応力が増大する結果、ガラス基板の厚さ方向に亀裂が発生するとともに、レーザ光の照射位置の移動にともなって亀裂が伝播していくので、ガラス基板は、切断予定線に沿って高い精度で割れる。このため、切断精度が高く、かつ、再現性に優れている。また、非接触で切断を行うので、基板に傷を付けるおそれがない。また、ガラス基板の切断開始時には、ガラス基板は冷えた状態から急激に加熱される一方、ガラス基板の切断終了時には、すでに熱が切断終了位置に伝わって加熱された状態にあるなど、ガラス基板では、切断開始箇所から切断終了箇所までの間で温度状態が異なる。従って、切断開始から切断終了まで一定の条件で切断すると、ガラス基板が急速に加熱されすぎてクラックが入ってしまうなどの不具合が発生するが、本発明では、ガラス基板に対する切断開始から切断終了までの間、ガラス基板の温度状態に合わせて切断条件を変更するため、クラックなどの不具合を発生させることなく、一枚のガラス基板、あるいはパネル状に重ねて貼り合わされたガラス基板を貼り合わせたパネルを効率よく切断することができる。   As described above, in the present invention, when a glass substrate is irradiated with laser light, the temperature of the region irradiated with the laser light rises and the thermal stress generated due to the temperature gradient increases. A crack occurs in the thickness direction, and the crack propagates with the movement of the irradiation position of the laser beam, so that the glass substrate is cracked with high accuracy along the planned cutting line. For this reason, cutting accuracy is high and reproducibility is excellent. Further, since the cutting is performed in a non-contact manner, there is no possibility of scratching the substrate. In addition, at the start of cutting the glass substrate, the glass substrate is heated rapidly from the cold state, while at the end of cutting the glass substrate, the heat has already been transferred to the cutting end position and heated, etc. The temperature state is different between the cutting start point and the cutting end point. Therefore, if the glass substrate is cut under certain conditions from the start of cutting to the end of cutting, the glass substrate is heated too quickly and cracks occur, but in the present invention, from the start of cutting to the end of cutting to the glass substrate. In order to change the cutting conditions according to the temperature state of the glass substrate, a single glass substrate or a panel laminated with a glass substrate laminated in a panel form without causing defects such as cracks Can be cut efficiently.

本発明を適用した電気光学装置の斜視図である。1 is a perspective view of an electro-optical device to which the present invention is applied. 図1に示す電気光学装置の分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of the electro-optical device shown in FIG. 1. 図1に示す電気光学装置を図1のI−I'線で切断したときのI側の端部の断面図である。2 is a cross-sectional view of an end portion on the I side when the electro-optical device shown in FIG. 1 is cut along the line II ′ of FIG. 図1に示す電気光学装置の製造方法を示す工程図である。FIG. 3 is a process diagram illustrating a method for manufacturing the electro-optical device illustrated in FIG. 1. 図1に示す電気光学装置の製造方法を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a manufacturing method of the electro-optical device illustrated in FIG. 1. (A)、(B)はそれぞれ、大型パネルを切断する位置を示す断面図、および短冊状パネルを単品のパネルに切断した後、基板の余剰な部分を除去した様子を示す断面図である。(A), (B) is sectional drawing which shows the position which cuts | disconnects a large sized panel, respectively, and sectional drawing which shows a mode that the excess part of the board | substrate was removed after cut | disconnecting a strip-shaped panel into the panel of a single item. 本発明を適用したレーザ切断装置のレーザ照射装置の要部の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the principal part of the laser irradiation apparatus of the laser cutting apparatus to which this invention is applied. 本発明を適用したレーザ切断装置のパネル支持具およびその駆動機構の説明図である。It is explanatory drawing of the panel support tool and its drive mechanism of the laser cutting device to which this invention is applied. (A)、(B)、(C)はそれぞれ、本発明を適用した別のレーザ切断装置において大型パネルを支持するためのパネル支持具の平面図、そのII−II'断面図、およびIII−III'断面図である。(A), (B), (C) is a plan view of a panel support for supporting a large panel in another laser cutting apparatus to which the present invention is applied, its II-II ′ sectional view, and III- It is III 'sectional drawing. (A)、(B)、(C)はそれぞれ、本発明を適用した別のレーザ切断装置において短冊状パネルを支持するためのパネル支持具の平面図、そのIV−IV'断面図、およびV−V'断面図である。(A), (B), (C) is a plan view of a panel support for supporting a strip-shaped panel in another laser cutting apparatus to which the present invention is applied, its IV-IV ′ sectional view, and V It is -V 'sectional drawing. (A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用したレーザ切断方法におけるレーザ光のパワー、およびレーザ光の照射位置の移動速度を示す説明図である。(A), (B) is explanatory drawing which respectively shows the power of the laser beam in the laser cutting method to which this invention is applied, and the moving speed of the irradiation position of a laser beam. 本発明において、別構造の短冊状パネルを単品のパネルに切断する様子を示す説明図である。In this invention, it is explanatory drawing which shows a mode that the strip-shaped panel of another structure is cut | disconnected to a single panel. 本発明に係る液晶装置を用いた各種電子機器の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the various electronic devices using the liquid crystal device which concerns on this invention. 本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一実施形態としてのモバイル型のパーソナルコンピュータを示す説明図である。1 is an explanatory diagram showing a mobile personal computer as an embodiment of an electronic apparatus using a liquid crystal device according to the present invention. 本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一実施形態としての携帯電話機の説明図である。It is explanatory drawing of the mobile telephone as one Embodiment of the electronic device using the liquid crystal device which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…電気光学装置、10…第1の透明基板、20…第2の透明基板、30…シール材、35…液晶封入領域(画像表示領域)、40…第1の電極パターン、50…第2の電極パターン、100,200…大型基板、300…大型パネル、301,401…スクライブライン、400…短冊状パネル、500…レーザ切断装置、501…レーザ照射装置(レーザ照射手段)、541…コントローラ(制御手段)、550…ロボット部(駆動手段)、560…検査用撮像装置(検査手段)、600,650…パネル支持具、L1,L2…レーザ光。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electro-optical apparatus, 10 ... 1st transparent substrate, 20 ... 2nd transparent substrate, 30 ... Sealing material, 35 ... Liquid crystal enclosure area | region (image display area), 40 ... 1st electrode pattern, 50 ... 2nd Electrode patterns, 100, 200 ... large substrate, 300 ... large panel, 301, 401 ... scribe line, 400 ... strip panel, 500 ... laser cutting device, 501 ... laser irradiation device (laser irradiation means), 541 ... controller ( Control means), 550... Robot part (drive means), 560... Inspection imaging device (inspection means), 600, 650... Panel support, L1, L2.

Claims (4)

第1ガラス基板と、第2ガラス基板とを貼り合わせた大型パネルに対して、前記第1ガラス基板側から、および前記第2ガラス基板側からそれぞれレーザ光を照射するとともに、前記大型パネルと2つの前記レーザ光との位置を相対移動させることによって、前記大型パネルを切断するためのレーザ切断方法であって、
(a)2つの前記レーザ光が前記相対移動する速度をあらかじめ定められた開始速度から前記開始速度より高速な切断速度になるまで逓増させながら、2つの前記レーザ光を前記大型パネルの切断開始位置から切断終了位置に向かって前記相対移動させる工程と、
(b)2つの前記レーザ光が前記切断終了位置付近に達するまで、前記切断速度を維持したまま2つの前記レーザ光を前記相対移動させる工程と、
(c)前記相対移動の速度を前記切断速度から前記開始速度よりも大きい速度まで逓減させながら、前記レーザ光を前記切断終了位置まで前記相対移動させる工程と、を含み、
前記工程(a)においては前記相対移動における速度の増加にともない、2つの前記レーザ光の照射強度を所定の照射強度である第1照射強度から前記第1照射強度より高い第2照射強度にまで逓増させ、
前記工程(b)においては前記第2照射強度を維持し、
前記工程(c)においては前記相対移動の速度の減少にともない、前記照射強度を前記第2照射強度から前記第1照射強度よりも大きい第3照射強度まで逓減させ、
前記第1照射強度は、2つの前記レーザ光が前記開始速度により前記切断開始位置から前記相対移動しながら照射されたときに、クラックを生じさせない照射強度で、かつ、前記ガラス基板を切断するのに必要な熱量が得られる照射強度となるように設定され、
前記第3照射強度は、それまでのレーザ照射によって発生した熱が伝わってきても前記切断終了位置でクラックを生じさせない照射強度で、かつ、前記ガラス基板を切断するのに必要な熱量が得られる照射強度となるように設定されることを特徴とするレーザ切断方法。
A large panel obtained by bonding the first glass substrate and the second glass substrate is irradiated with laser light from the first glass substrate side and from the second glass substrate side, and the large panel and 2 A laser cutting method for cutting the large panel by relatively moving the position of the two laser beams,
(A) While increasing the relative moving speed of the two laser beams from a predetermined start speed to a cutting speed higher than the start speed, the two laser beams are cut to the cutting start position of the large panel. From the relative movement toward the cutting end position,
(B) moving the two laser beams relative to each other while maintaining the cutting speed until the two laser beams reach the vicinity of the cutting end position;
(C) moving the laser beam relative to the cutting end position while gradually decreasing the relative moving speed from the cutting speed to a speed larger than the starting speed,
In the step (a), as the speed of the relative movement increases, the irradiation intensity of the two laser beams is changed from a first irradiation intensity that is a predetermined irradiation intensity to a second irradiation intensity that is higher than the first irradiation intensity. Increase
In the step (b), the second irradiation intensity is maintained,
In the step (c), the irradiation intensity is gradually decreased from the second irradiation intensity to a third irradiation intensity larger than the first irradiation intensity with a decrease in the speed of the relative movement,
The first irradiation intensity is an irradiation intensity that does not cause a crack when the two laser beams are irradiated while being relatively moved from the cutting start position at the start speed, and the glass substrate is cut. Is set so that the intensity of heat required for
The third irradiation intensity is an irradiation intensity that does not cause a crack at the cutting end position even if heat generated by the previous laser irradiation is transmitted, and the amount of heat necessary for cutting the glass substrate can be obtained. A laser cutting method, characterized in that the laser cutting method is set so as to obtain an irradiation intensity.
前記工程(a)の前に、前記第1ガラス基板と前記第2ガラス基板とにおける前記切断開始位置から切断終了位置までにスクライブラインを形成する工程をさらに有することを特徴とする請求項1に記載のレーザ切断方法。 2. The method according to claim 1, further comprising a step of forming a scribe line from the cutting start position to the cutting end position in the first glass substrate and the second glass substrate before the step (a). The laser cutting method as described. 前記工程(c)の後に、
(d)前記ガラス基板の切断状態を撮像し、検査する工程と、
(e)前記検査結果を、次に切断する切断予定ラインにおける2つの前記レーザ光の照射強度、および/または、2つの前記レーザ光の前記相対移動速度を含む切断条件にフィードバックする工程とを、をさらに含むことを特徴とする請求項1または2に記載のレーザ切断方法。
After step (c)
(D) imaging and inspecting the cutting state of the glass substrate;
(E) feeding back the inspection result to cutting conditions including the irradiation intensity of the two laser beams and / or the relative moving speed of the two laser beams in a cutting scheduled line to be cut next; The laser cutting method according to claim 1, further comprising:
前記大型パネルには、複数の電気光学パネルが面付けされており、
前記第1ガラス基板と、前記第2ガラス基板は、前記電気光学パネルごとに電気光学物質を封入するための領域を規定するシール材によって貼り合わされ、
切断予定ラインは、平面的に前記シール材と重なるように設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のレーザ切断方法。
A plurality of electro-optic panels are imposed on the large panel,
The first glass substrate and the second glass substrate are bonded together by a sealing material that defines an area for encapsulating an electro-optic material for each electro-optic panel,
The laser cutting method according to claim 1, wherein the scheduled cutting line is provided so as to overlap the sealing material in a planar manner.
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