JP2003132823A - 平面表示装置およびその製造方法 - Google Patents

平面表示装置およびその製造方法

Info

Publication number
JP2003132823A
JP2003132823A JP2001331234A JP2001331234A JP2003132823A JP 2003132823 A JP2003132823 A JP 2003132823A JP 2001331234 A JP2001331234 A JP 2001331234A JP 2001331234 A JP2001331234 A JP 2001331234A JP 2003132823 A JP2003132823 A JP 2003132823A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
melting point
substrate
conductive member
front substrate
display device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001331234A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3940583B2 (ja
Inventor
Masahiro Yokota
昌広 横田
Takashi Enomoto
貴志 榎本
Akiyoshi Yamada
晃義 山田
Koji Nishimura
孝司 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2001331234A priority Critical patent/JP3940583B2/ja
Priority to KR10-2003-7013784A priority patent/KR20040015114A/ko
Priority to PCT/JP2002/003994 priority patent/WO2002089169A1/ja
Priority to EP02720557A priority patent/EP1389792A1/en
Priority to CNB028103106A priority patent/CN1306538C/zh
Publication of JP2003132823A publication Critical patent/JP2003132823A/ja
Priority to US10/690,744 priority patent/US7247072B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3940583B2 publication Critical patent/JP3940583B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】真空雰囲気中で容易に、かつ高い位置精度で封
着を行うことが可能な平面表示装置、およびその製造方
法を提供することにある。 【解決手段】平面表示装置の真空外囲器10は、対向配
置された前面基板11および背面基板12と、前面基板
および背面基板の周辺部を互いに封着した封着部30
と、を備えている。封着部は、枠状の高融点導電性部材
18と封着材32、34とを含んでいる。高融点導電性
部材は、前面基板および背面基板に対して垂直な方向の
ばね性を有している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、平坦な形状の平
面表示装置に係り、特に、多数の電子放出素子を用いた
平面表示装置、およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、陰極線管(以下、CRTと称す
る)に代わる次世代の軽量、薄型の表示装置として様々
な平面表示装置が開発されている。このような平面表示
装置には、液晶の配向を利用して光の強弱を制御する液
晶ディスプレイ(以下、LCDと称する)、プラズマ放
電の紫外線により蛍光体を発光させるプラズマディスプ
レイパネル(以下、PDPと称する)、電界放出型電子
放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させるフィー
ルドエミッションディスプレイ(以下、FEDと称す
る)などがある。
【0003】例えばFEDでは、一般に、所定の隙間を
置いて対向配置された前面基板および背面基板を有し、
これらの基板は、矩形枠状の側壁を介して周辺部同士を
互いに接合することにより真空の外囲器を構成してい
る。前面基板の内面には蛍光体スクリーンが形成され、
背面基板の内面には蛍光体を励起して発光させる電子放
出源として多数の電子放出素子が設けられている。
【0004】また、背面基板および前面基板に加わる大
気圧荷重を支えるために、これら基板の間には複数の支
持部材が配設されている。背面基板側の電位はほぼアー
ス電位であり、蛍光面にはアノード電圧が印加される。
そして、蛍光体スクリーンを構成する赤、緑、青の蛍光
体に多数の電子放出素子から放出された電子ビームを照
射し、蛍光体を発光させることによって画像を表示す
る。
【0005】このような表示装置では、表示装置の厚さ
を数mm程度にまで薄くすることができ、現在のテレビ
やコンピュータのディスプレイとして使用されているC
RTと比較し、軽量化、薄型化を達成することができ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなFEDで
は、外囲器の内部を真空にすることが必要となる。ま
た、PDPにおいても一度真空にしてから放電ガスを充
填する必要がある。外囲器を真空にする手段として、例
えば、特開2001−229825号には、外囲器を構
成する前面基板と背面基板との最終組み立てを真空槽内
にて行う方法が示されている。
【0007】ここでは、最初に真空槽内に配置された前
面基板および背面基板を十分に加熱しておく。これは、
外囲器真空度を劣化させる主因となっている外囲器内壁
からのガス放出を軽減するためである。次に、前面基板
と背面基板が冷えて真空槽内の真空度が十分に向上した
ところで、外囲器真空度を改善、維持させるためのゲッ
タ膜を蛍光面スクリーン上に形成する。その後、封着材
が溶解する温度まで前面基板と背面基板とを再び加熱
し、前面基板および背面基板を所定の位置に組み合わせ
た状態で封着材が固化するまで冷却する。
【0008】このような方法で作成された真空外囲器
は、封着工程および真空封止工程を兼ねるうえ、排気管
を用いて外囲器内を排気する場合のような時間を必要と
せず、かつ、極めて良好な真空度を得ることができる。
【0009】しかしながら、上記の方法では、真空中で
行う封着工程が、加熱、位置合わせ、冷却と多岐に渡
り、かつ、封着材が溶解固化する間、長時間に亘って前
面基板と背面基板とを所定の位置に維持し続けなければ
ならない。また、封着時の加熱、冷却に伴い前面基板お
よび背面基板が熱膨張し、位置合わせ精度が劣化し易
い。更に、封着時の加熱によりゲッタ膜が劣化すること
など、封着に伴なう生産性、特性面での問題があった。
【0010】この発明は以上の点に鑑みなされたもの
で、その目的は、真空雰囲気中で容易に、かつ高い位置
精度で封着を行うことが可能な平面表示装置、およびそ
の製造方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、この発明の態様に係る平面表示装置は、対向配置さ
れた前面基板および背面基板と、上記前面基板および上
記背面基板の周辺部を互いに封着した封着部と、を有し
た外囲器を備え、上記封着部は、枠状の高融点導電性部
材と封着材とを含み、上記高融点導電性部材は、上記封
着材よりも高い融点あるいは軟化点を有しているととも
に、上記前面基板および背面基板の表面に対して垂直方
向にばね性を有していることを特徴としている。
【0012】また、この発明の態様に係る平面表示装置
の製造方法は、対向配置された前面基板および背面基板
を有し、高融点導電性部材と封着材とを含む封着部によ
り前面基板および背面基板の周辺部が互いに封着された
外囲器を備えた平面表示装置の製造方法において、上記
封着材よりも高い融点あるいは軟化点を有しているとと
もに、上記前面基板および背面基板の表面に対して垂直
方向にばね性を有した枠状の高融点導電性部材を用意
し、上記前面基板および背面基板を対向配置するととも
に、上記前面基板および背面基板の周辺部間に上記高融
点導電性部材および封着材を配置し、上記封着材が固化
した状態で、上記対向配置された前面基板および背面基
板を重ね合わせ、上記高融点導電性部材を上記前面基板
および背面基板の表面と垂直な方向へ弾性変形させ、上
記前面基板および背面基板を重ね合わせた状態で、上記
高融点導電性部材に通電して上記封着材を溶融あるいは
軟化させ、上記前面基板および背面基板の周辺部を互い
封着すること特徴としている。
【0013】上記構成の平面表示装置および製造方法に
よれば、前面基板と背面基板とを重ね合わせた時の基板
たわみを高融点導電性部材のばね性により改善し、前面
基板および背面基板の位置合わせ精度を向上して封着す
ることができる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照ながら、この発
明に係る平面表示装置をFEDに適用した実施の形態に
ついて詳細に説明する。
【0015】図1ないし図3に示すように、このFED
は、絶縁基板としてそれぞれ厚さ2.8mmの矩形状の
ガラスからなる前面基板11および背面基板12を備
え、これらの基板は例えば約2.0mmの隙間を置いて
対向配置されている。背面基板12の大きさは前面基板
11よりも僅かに大きく、その外周部には映像信号を入
力するための引き出し線(図示しない)が形成されてい
る。そして、前面基板11および背面基板12は、ほぼ
矩形枠状の封着部30を介して周縁部同士が接合され、
内部が真空状態に維持された偏平な矩形状の真空外囲器
10を構成している。
【0016】封着部30は、導電性を有した矩形枠状の
高融点導電性部材18と第1および第2封着材32、3
4を含んでいる。そして、側壁としても機能する高融点
導電性部材18は、第1封着材32を介して前面基板1
1の周辺部に接着され、また、第2封着材34を介して
背面基板12の周辺部に接着されている。
【0017】高融点導電性部材18は、第1および第2
封着材32、34よりも高い融点または軟化点(すなわ
ち封着に適した温度)を有し、例えば、鉄−ニッケル合
金が用いられている。その他、導電性を有する高融点導
電性部材としては、少なくともFe、Cr、Ni、Al
のいずれかを含有した材料が用いられる。第1および第
2封着材32としては、例えば、インジウムあるいはイ
ンジウム合金を用いている。なお、高融点導電性部材1
8の融点あるいは軟化点は、500℃以上、第1および
第2封着材の融点または軟化点は300℃未満であるこ
とが望ましい。
【0018】また、高融点導電性部材18、第1および
第2封着材32、34は、前面基板および背面基板の熱
膨張係数に対し、±20%の数値範囲で最大値と最小値
との間となる熱膨張係数を有していることが望ましい。
【0019】更に、高融点導電性部材18は、前面基板
11および背面基板12の表面に対して垂直な方向の復
元性、つまり、ばね性を有している。本実施の形態にお
いて、高融点導電性部材18は、ほぼV字状の断面形状
に形成されている。そして、高融点導電性部材18は、
V字の角度が減少する方向に僅かに弾性変形した状態で
前面基板11および背面基板12間に配置され、そのば
ね性により、前面基板および背面基板の内面に所望の押
圧力を付加している。なお、高融点導電性部材18は、
ばね定数0.1kgf/mm〜1.0kgf/mm程度
に設定されていることが望ましい。
【0020】図2および図3に示すように、真空外囲器
10の内部には、前面基板11および背面基板12に加
わる大気圧荷重を支えるため、複数の板状の支持部材1
4が設けられている。これらの支持部材14は、真空外
囲器10の短辺と平行な方向に配置されているととも
に、長辺と平行な方向に沿って所定の間隔を置いて配置
されている。なお、支持部材14の形状については、板
状に限定されるものではなく、例えば、柱状の支持部材
等を用いることもできる。
【0021】前面基板11の内面上には、図3および図
4に示す蛍光体スクリーン16が形成されている。この
蛍光体スクリーン16は、赤、緑、青のストライプ状の
蛍光体層、および蛍光体層の間および周囲に位置した非
発光部としての黒色光吸収層20を並べて構成されてい
る。蛍光体層は、真空外囲器の短辺と平行な方向に延在
しているとともに、長辺と平行な方向に沿って所定の間
隔を置いて配置されている。なお、蛍光体スクリーン1
6上には、たとえばアルミニウム層からなるメタルバッ
ク層17が蒸着されている。
【0022】また、図3に示すように、背面基板12の
内面上には、蛍光体スクリーン16の蛍光体層を励起す
る電子放出源として、それぞれ電子ビームを放出する多
数の電子放出素子22、および電子放出素子を駆動する
ための図示しない多数の配線が設けられている。電子放
出素子22は、画素毎に対応して複数列および複数行に
配列されている。
【0023】詳細に述べると、背面基板12の内面上に
は、導電性カソード層24が形成され、この導電性カソ
ード層上には多数のキャビティ25を有した二酸化シリ
コン膜26が形成されている。二酸化シリコン膜26上
には、モリブデンやニオブ等からなるゲート電極28が
形成されている。そして、背面基板12の内面上におい
て各キャビティ25内にはモリブデンなどからなるコー
ン状の電子放出素子22が設けられている。
【0024】上記のように構成されたFEDにおいて、
映像信号は、マトリクス状に形成された電子放出素子2
2とゲート電極28に入力される。電子放出素子22を
基準とした場合、最も輝度の高い状態の時、+100V
のゲート電圧が印加される。また、蛍光体スクリーン1
6には+10kVが印加される。これにより、電子放出
素子22から電子ビームが放出される。そして、電子放
出素子22から放出される電子ビームの大きさは、ゲー
ト電極28の電圧によって変調され、この電子ビームが
蛍光体スクリーン16の蛍光体層を励起して発光させる
ことにより画像を表示する。
【0025】次に、上記のように構成されたFEDの製
造方法について詳細に説明する。まず、背面基板用の板
ガラスに電子放出素子22および種々の配線を形成す
る。続いて、大気中において、背面基板12上に板状の
支持部材14を例えば、フリットガラスにより固定す
る。
【0026】また、前面基板11となる板ガラスに蛍光
体スクリーン16を形成する。これは、前面基板11と
同じ大きさの板ガラスを準備し、この板ガラスにプロッ
ターマシンで蛍光体層のストライプパターンを形成す
る。この蛍光体ストライプパターンが形成された板ガラ
スと前面基板用の板ガラスとを位置決め治具に載せて露
光台にセットすることにより、露光、現像して蛍光体ス
クリーン16を形成する。次に、蛍光体スクリーン16
に重ねて、アルミニウム膜からなるメタルバック層17
を形成する。
【0027】続いて、封着面となる前面基板11の内面
周辺部および背面基板12の内面周辺部に、それぞれ第
1および第2封着材としてインジウムを枠状に充填す
る。この際、形成されたインジウム層の厚さは約0.3
mmとし、最終的に外囲器が組み立てられた後のインジ
ウム層厚よりも厚く形成する。
【0028】一方、高融点導電性部材18は、厚さ0.
2mmのNi−Fe合金により矩形枠状に形成され、ま
た、その断面形状は、1辺の幅が約15mmのほぼV字
状を有している。ここで、Ni−Fe合金の線熱膨張係
数は基板を構成するガラス材の線熱膨張係数とほぼ等し
い。
【0029】次に、上記のように蛍光体スクリーン16
の形成された前面基板11、および支持部材14が固定
された背面基板12を、所定の隙間を置いて対向配置
し、かつ、高融点導電性部材18を基板間に配置した状
態で、真空処理装置100内に投入する。
【0030】図5に示すように、この真空処理装置10
0は、順に並んで設けられたロード室101、ベーキン
グ、電子線洗浄室102、冷却室103、ゲッタ膜の蒸
着室104、組立室105、冷却室106、およびアン
ロード室107を有している。これら各室は真空処理が
可能な処理室として構成され、FEDの製造時には全室
が真空排気されている。隣合う処理室間はゲートバルブ
等により接続されている。
【0031】上述した背面基板12および前面基板11
は、ロード室101に投入され、ロード室101内を真
空雰囲気とした後、ベーキング、電子線洗浄室102へ
送られる。べーキング、電子線洗浄室102では、上記
背面基板12および前面基板11を350℃の温度に加
熱し、各部材の表面吸着ガスを放出させる。
【0032】また、加熱と同時に、ベーキング、電子線
洗浄室102に取り付けられた図示しない電子線発生装
置から、前面基板11の蛍光体スクリーン面、および背
面基板12の電子放出素子面に電子線を照射する。この
電子線は、電子線発生装置外部に装着された偏向装置に
よって偏向走査されるため、蛍光体スクリーン面、およ
び電子放出素子面の全面を電子線洗浄することが可能と
なる。
【0033】加熱、電子線洗浄後、上記背面基板12お
よび前面基板11は冷却室103に送られ、例えば約1
00℃の温度まで冷却される。続いて、上記背面基板1
2および前面基板11はゲッタ膜形成用の蒸着室104
へと送られ、ここで蛍光体スクリーンの外側にゲッタ膜
としてBa膜が蒸着形成される。
【0034】続いて、背面基板12および前面基板11
は組立室105に送られる。この組立室105では、図
6(a)に示すように、これらの基板を例えば約100
℃に加熱した状態で、すなわち、第1および第2封着材
32、34の融点または軟化点よりも低い温度に維持し
た状態で、前面基板11、背面基板12、および高融点
導電性部材18を相対的に位置合わせする。この際、第
1および第2封着材32、34であるインジウム層は固
化した状態にある。
【0035】なお、後述する通電加熱工程の直前まで、
前面基板11および背面基板12の温度を第1および第
2封着材32、34の融点または軟化点よりも低い温度
に維持し、望ましくは、封着材の融点との温度差が20
℃〜150℃の範囲内となるように維持する。
【0036】位置合わせが終了した後、図6(b)に示
すように、高融点導電性部材18を間に挟んで前面基板
11および背面基板12を重ね合わせ、両側から約50
kgfの加圧力を前面基板および背面基板に印加する。
この際、V字型の高融点導電性部材18は、固化状態の
第1および第2封着材32、34により両側から押圧さ
れ、基板に対して垂直な方向に弾性変形し、V字の角度
が減少する。
【0037】これにより、厚めに充填された第1および
第2封着材32、34の厚さを吸収し、前面基板および
背面基板の中央部と封着部とにおける基板間の隙間の差
を無くすことができる。従って、封着部30において
も、前面基板11および背面基板12に反りを生じるこ
とがなく、前面基板11と背面基板12との間隔は、全
域に亘って支持部材14の高さと等しい約2mmに保持
される。
【0038】この状態で、高融点導電性部材18に電極
を接触させ、直流電流140Aを40秒通電する。する
と、この電流は第1および第2封着材32、34、つま
り、インジウムにも同時に流れ、高融点導電性部材18
およびインジウムが発熱する。これにより、インジウム
は約200℃程度に加熱されて溶融あるいは軟化する。
そして、第1封着材32が溶融または軟化した時点で通
電を停止し、速やかに高融点導電性部材18およびイン
ジウムの熱を周りの前面基板11および背面基板12に
伝熱拡散させてインジウムを固化させる。
【0039】なお、図6(c)に示すように、通電加熱
時、高融点導電性部材18は、自身の復元性あるいはば
ね性により、溶融または軟化したインジウムを適切なバ
ネ力で基板内面側へ押圧する。それにより、各インジウ
ム層は、僅かに押し潰された状態で固化する。この際、
インジウム層の厚さは、平均0.15mm程度となって
いる。
【0040】このようにして、高融点導電性部材18、
第1および第2封着材32、34を介して前面基板11
および背面基板12を封着し、真空外囲器10を形成す
る。通電停止後、約60秒で封着された真空外囲器10
を組立室105から搬出する。そして、このようにして
形成された真空外囲器10は、冷却室106で常温まで
冷却されて、アンロード室107から取り出される。
【0041】以上のように構成されたFEDおよびその
製造方法によれば、背面基板および前面基板を真空雰囲
気中で封着することができ、同時に、封着を量産性に優
れた通電加熱封着とすることができる。また、高融点導
電性部材は基板に対して垂直な方向のばね性を有してい
ることから、封着時、基板中央部と封着部とにおける基
板間の隙間の差を無くし、封着部における基板に反り防
止することができる。これにより、前面基板および背面
基板を高い精度で位置合わせし封着することが可能とな
る。
【0042】更に、通電加熱時、高融点導電性部材によ
って、溶融または軟化した封着材を適切なばね力で基板
方向へ押圧することができ、封着材の不足などによるリ
ークパス発生を抑制することが可能となる。
【0043】なお、上述した実施の形態では、高融点導
電性部材として断面V字形状のものを用いたが、前面基
板および背面基板の表面に対して垂直な方向のばね性を
有していれば、他の形状としても良い。
【0044】図7に示す第2の実施の形態に係るFED
によれば、封着部30を構成する高融点導電性部材18
としてNi−Fe合金からなる厚さ0.12mm、直径
3mmのパイプ状部材を用いている。この高融点導電性
部材18は、それぞれ第1および第2封着材32、34
としてのインジウムを介して前面基板11および背面基
板12に接着されている。そして、この高融点導電性部
材18は、前面基板11および背面基板12の表面に対
して垂直な方向のばね性を有している。
【0045】封着状態において、高融点導電性部材18
は押し潰された状態に弾性変形し、前面基板11および
背面基板12の表面に対し垂直な方向の適切なばね力を
印加している。他の構成は上述した第1の実施の形態と
同一であり、その詳細な説明は省略する。
【0046】上記構成のFEDは、前述した第1の実施
の形態と同様の方法で製造される。そして、製造条件を
第1の実施の形態と同一とした場合、通電加熱時、高融
点導電性部材18に直流電流40Aを40秒間通電する
ことによりインジウムを溶融させ、溶融後、40秒間冷
却することによりインジウムを固化させ封着を行うこと
ができる。従って、第2の実施の形態においても、上述
した第1の実施の形態と同様の作用効果を得ることがで
きるとともに、通電、冷却時間を短縮し、製造効率の向
上を図ることが可能となる。
【0047】上述した第2の実施の形態において、図8
に示すように、インジウム等の封着材35を高融点導電
性部材18の外周面全体に充填してもよい。この場合、
高融点導電性部材18をインジウムはんだ槽に漬け込む
だけでインジウムの充填が完了し、製造にかかる手間を
省くことができる。同時に、前面基板11と背面基板1
2とを封着材そのもので直に封着することができ、真空
外囲器の気密性が向上する。
【0048】なお、この発明は上述した実施の形態に限
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。例えば、上述した実施の形態では、封着材料であ
るインジウムを基板側に充填したが、高融点導電性部材
側に充填してもよい。また、高融点導電性部材に通電す
る電流は直流に限らず、商用周波数あるいは高周波の交
流を用いてもよい。
【0049】また、上述した実施の形態では、高融点導
電性部材は、組み立て時に真空槽内で所定の位置に配置
する構成としたが、予め、インジウム等の封着材を用い
て、大気中で前面基板あるいは背面基板に接着しておく
構成としても良い。
【0050】この発明は、FEDやSEDなどの真空外
囲器を必要とする表示装置に限るものではなく、PDP
のように一度真空にしてから放電ガスを注入するような
他の表示装置にも有効である。
【0051】
【発明の効果】以上に述べたように、この発明によれ
ば、真空雰囲気中で容易に、かつ高い位置精度で封着を
行うことが可能な平面表示装置、およびその製造方法を
提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態に係るFEDを示
す斜視図。
【図2】上記FEDの前面基板を取り外した状態を示す
斜視図。
【図3】図1の線A−Aに沿った断面図。
【図4】上記FEDの蛍光体スクリーンを示す平面図。
【図5】上記FEDの製造に用いる真空処理装置を概略
的に示す図。
【図6】上記FEDの製造工程をそれぞれ概略的に示す
断面図。
【図7】この発明の第2の実施の形態に係るFEDの封
着部、および高融点導電性部材を示す断面図。
【図8】この発明の他の実施の形態に係るFEDの封着
部、および高融点導電性部材を示す断面図。
【符号の説明】
10…真空外囲器 11…前面基板 12…背面基板 14…支持部材 16…蛍光体スクリーン 17…メタルバック層 18…高融点導電性部材 22…電子放出素子 30…封着部 32…第1封着材 34…第2封着材 35…封着材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 晃義 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2 株式 会社東芝深谷工場内 (72)発明者 西村 孝司 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2 株式 会社東芝深谷工場内 Fターム(参考) 5C012 AA05 BC03 5C032 AA01 BB01 5C036 EE14 EE15 EE19 EF01 EF06 EF09 EG02 EG06

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】対向配置された前面基板および背面基板
    と、上記前面基板および上記背面基板の周辺部を互いに
    封着した封着部と、を有した外囲器を備え、 上記封着部は、枠状の高融点導電性部材と封着材とを含
    み、上記高融点導電性部材は、上記封着材よりも高い融
    点あるいは軟化点を有しているとともに、上記前面基板
    および背面基板の表面に対して垂直方向にばね性を有し
    ていることを特徴とする平面表示装置。
  2. 【請求項2】上記封着材は、上記高融点導電性部材と上
    記前面基板との間、および上記高融点導電性部材と背面
    基板との間の少なくとも一方に介在していることを特徴
    とする請求項1に記載の平面表示装置。
  3. 【請求項3】上記高融点導電性部材は、外面全体が上記
    封着材で覆われていることを特徴とする請求項1に記載
    の平面表示装置。
  4. 【請求項4】上記高融点導電性材は、上記外囲器の側壁
    を構成していることを特徴とする請求項1に記載の平面
    表示装置。
  5. 【請求項5】上記封着材は導電性を有していることを特
    徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の平面
    表示装置。
  6. 【請求項6】上記封着材は、インジウムあるいはインジ
    ウムを含む合金であることを特徴とする請求項1ないし
    5のいずれか1項に記載の平面表示装置。
  7. 【請求項7】上記高融点導電性部材は、少なくともF
    e、Cr、Ni、Alのいずれかを含有されていること
    を特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の
    平面表示装置。
  8. 【請求項8】上記封着材は、300℃以下の融点あるい
    は軟化点を有していることを特徴とする請求項1ないし
    7のいずれか1項に記載の平面表示装置。
  9. 【請求項9】上記高融点導電性部材は500℃以上の融
    点を有していることを特徴とする請求項1ないし8のい
    ずれか1項に記載の平面表示装置。
  10. 【請求項10】上記高融点導電性部材の熱膨張係数は、
    上記前面基板および背面基板のそれぞれの熱膨張係数の
    ±20%の数値範囲で最大値と最小値との間にあること
    を特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の
    平面表示装置。
  11. 【請求項11】上記外囲器の内部に設けられた蛍光体お
    よび上記蛍光体を励起する電子源とを備え、上記外囲器
    の内部は真空に維持されていることを特徴とする請求項
    1ないし10のいずれか1項に記載の平面表示装置。
  12. 【請求項12】対向配置された前面基板および背面基板
    を有し、高融点導電性部材と封着材とを含む封着部によ
    り前面基板および背面基板の周辺部が互いに封着された
    外囲器を備えた平面表示装置の製造方法において、 上記封着材よりも高い融点あるいは軟化点を有している
    とともに、上記前面基板および背面基板の表面に対して
    垂直方向にばね性を有した枠状の高融点導電性部材を用
    意し、 上記前面基板および背面基板を対向配置するとともに、
    上記前面基板および背面基板の周辺部間に上記高融点導
    電性部材および封着材を配置し、 上記封着材が固化した状態で、上記対向配置された前面
    基板および背面基板を重ね合わせ、上記高融点導電性部
    材を上記前面基板および背面基板の表面と垂直な方向へ
    弾性変形させ、 上記前面基板および背面基板を重ね合わせた状態で、上
    記高融点導電性部材に通電して上記封着材を溶融あるい
    は軟化させ、上記前面基板および背面基板の周辺部を互
    い封着すること特徴とする平面表示装置の製造方法。
  13. 【請求項13】上記高融点導電性部材に通電する直前の
    上記前面基板および背面基板の温度を、上記封着材の融
    点あるいは軟化点よりも低い温度に設定することを特徴
    とする請求項12に記載の平面表示装置の製造方法。
  14. 【請求項14】上記高融点導電性部材に通電する直前の
    上記前面基板および背面基板の温度を、上記封着材の融
    点との差が20℃〜150℃の範囲内となるように設定
    することをことを特徴とする請求項13記載の平面表示
    装置の製造方法。
JP2001331234A 2001-04-23 2001-10-29 平面表示装置およびその製造方法 Expired - Fee Related JP3940583B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001331234A JP3940583B2 (ja) 2001-10-29 2001-10-29 平面表示装置およびその製造方法
KR10-2003-7013784A KR20040015114A (ko) 2001-04-23 2002-04-22 화상 표시 장치, 화상 표시 장치의 제조 방법 및 제조 장치
PCT/JP2002/003994 WO2002089169A1 (fr) 2001-04-23 2002-04-22 Afficheur d'images, procede et dispositif de production de l'afficheur d'images
EP02720557A EP1389792A1 (en) 2001-04-23 2002-04-22 IMAGE DISPLAY DEVICE, AND METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING IMAGE DISPLAY DEVICE
CNB028103106A CN1306538C (zh) 2001-04-23 2002-04-22 图像显示器件及其制造方法和制造装置
US10/690,744 US7247072B2 (en) 2001-04-23 2003-10-23 Method of manufacturing an image display apparatus by supplying current to seal the image display apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001331234A JP3940583B2 (ja) 2001-10-29 2001-10-29 平面表示装置およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003132823A true JP2003132823A (ja) 2003-05-09
JP3940583B2 JP3940583B2 (ja) 2007-07-04

Family

ID=19146845

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001331234A Expired - Fee Related JP3940583B2 (ja) 2001-04-23 2001-10-29 平面表示装置およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3940583B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004109740A1 (ja) * 2003-06-04 2004-12-16 Kabushiki Kaisha Toshiba 画像表示装置およびその製造方法
WO2005122207A1 (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Kabushiki Kaisha Toshiba 画像表示装置
JP2008171602A (ja) * 2007-01-09 2008-07-24 Futaba Corp フラットデイスプレイ、フラットデイスプレイの製造方法及びフラットデイスプレイに用いる位置ずれ防止部材

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004109740A1 (ja) * 2003-06-04 2004-12-16 Kabushiki Kaisha Toshiba 画像表示装置およびその製造方法
WO2005122207A1 (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Kabushiki Kaisha Toshiba 画像表示装置
JP2008171602A (ja) * 2007-01-09 2008-07-24 Futaba Corp フラットデイスプレイ、フラットデイスプレイの製造方法及びフラットデイスプレイに用いる位置ずれ防止部材

Also Published As

Publication number Publication date
JP3940583B2 (ja) 2007-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6129603A (en) Low temperature glass frit sealing for thin computer displays
WO2002089169A1 (fr) Afficheur d'images, procede et dispositif de production de l'afficheur d'images
JPWO2004008471A1 (ja) 画像表示装置、画像表示装置の製造方法、および製造装置
US7264529B2 (en) Method of manufacturing an image display device having a sealing portion which seals peripheral edges of front and back substrates
KR100759136B1 (ko) 화상 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20060120266A (ko) 화상 형성 장치
JP3940583B2 (ja) 平面表示装置およびその製造方法
JP3940577B2 (ja) 平面表示装置およびその製造方法
JP2002319346A (ja) 表示装置およびその製造方法
JP3782347B2 (ja) 平面型表示装置およびその製造方法
JP2003132822A (ja) 平面表示装置およびその製造方法
JP2005197050A (ja) 画像表示装置およびその製造方法
JP2003068238A (ja) 表示装置、および表示装置の製造方法
JP2005235452A (ja) 表示装置
JP2002184329A (ja) 画像表示装置およびその製造方法
KR100769383B1 (ko) 화상 표시 장치 및 그 제조 방법
JP2003242913A (ja) 平面型表示装置およびその製造方法
US20070103051A1 (en) Image display apparatus
JP2004265630A (ja) 画像表示装置およびその製造方法
JP2002358915A (ja) 画像表示装置
JP2005044529A (ja) 画像表示装置およびその製造方法
JP2004247260A (ja) 画像表示装置の製造方法および画像表示装置
JP2004273134A (ja) 画像表示装置の製造方法
JP2008269998A (ja) 気密容器、気密容器を備えた画像表示装置
JP2005302579A (ja) 画像表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040908

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061121

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070320

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070402

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees