JP2003131365A - Photocurable composition and plasma display panel having electrode formed by using the same - Google Patents

Photocurable composition and plasma display panel having electrode formed by using the same

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JP2003131365A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocurable composition having excellent long-term storage stability and satisfying the requirements for sufficient conductivity and black color after calcining without losing excellent adhesion property with the substrate, resolution and calcination property in each step of drying, exposure, development and calcination and to provide a plasma display panel (PDP) having a black layer (lower layer) electrode circuit in the electrode having a black and white double-layer structure by using the above composition. SOLUTION: A first basic embodiment of the photocurable composition contains (A) black inorganic fine particles of ruthenium oxide, ruthenium compound, copper - chromium black double oxide, copper - iron black double oxide or cobalt oxide coated with an inorganic binder, (B) an organic binder, (C) a photopolymerizable monomer and (D) a photopolymerizable initiator. The photocurable composition is applied on the transparent electrode of a front glass substrate, exposed according to a specified pattern, developed and calcined to form the black layer (lower layer) electrode circuit of the electrode having a black and white double-layer structure of the PDP.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(以下、PDPと略称する)の前面基板に精
細な電極回路を形成するのに有用なアルカリ現像型でか
つ光硬化型の組成物及びそれを用いて電極、特に白黒二
層構造のバス電極における黒層(下層)を形成したPD
Pに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an alkali-developable and photocurable composition useful for forming a fine electrode circuit on a front substrate of a plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP) and a composition thereof. PD in which an electrode, particularly a black layer (lower layer) in a black and white double-layer bus electrode, is formed
It is related to P.

【0002】[0002]

【従来の技術】PDPはプラズマ放電による発光を利用
して映像や情報の表示を行う平面ディスプレイであり、
パネル構造、駆動方法によってDC型とAC型に分類さ
れる。PDPによるカラー表示の原理は、リブ(隔壁)
によって離間された前面ガラス基板と背面ガラス基板に
形成された対向する両電極間のセル空間(放電空間)内
でプラズマ放電を生じさせ、各セル空間内に封入されて
いるHe、Xe等のガスの放電により発生する紫外線で
背面ガラス基板内面に形成された蛍光体を励起し、3原
色の可視光を発生させるものである。各セル空間は、D
C型PDPにおいては格子状のリブにより区画され、一
方、AC型PDPにおいては基板面に平行に列設された
リブにより区画されるが、いずれにおいてもセル空間の
区画は、リブによりなされている。以下、添付図面を参
照しながら簡単に説明する。
2. Description of the Related Art A PDP is a flat panel display for displaying images and information by utilizing light emission by plasma discharge.
They are classified into DC type and AC type depending on the panel structure and driving method. The principle of color display by PDP is rib (partition)
A gas such as He or Xe enclosed in each cell space is caused to generate plasma discharge in the cell space (discharge space) between the opposing electrodes formed on the front glass substrate and the back glass substrate separated by The fluorescent substance formed on the inner surface of the rear glass substrate is excited by the ultraviolet rays generated by the discharge of 1 to generate visible light of the three primary colors. Each cell space is D
In the C-type PDP, the cells are partitioned by grid-like ribs, while in the AC-type PDP, the cells are partitioned by ribs arranged in parallel to the substrate surface. In each case, the cell space is partitioned by the ribs. . Hereinafter, a brief description will be given with reference to the accompanying drawings.

【0003】図1は、フルカラー表示の3電極構造の面
放電方式PDPの構造例を部分的に示している。前面ガ
ラス基板1の下面には、放電のための透明電極3a又は
3bと該透明電極のライン抵抗を下げるためのバス電極
4a又は4bとから成る一対の表示電極2a、2bが所
定のピッチで多数列設されている。これらの表示電極2
a、2bの上には、電荷を蓄積するための透明誘電体層
5(低融点ガラス)が印刷、焼成によって形成され、そ
の上に保護層(MgO)6が蒸着されている。保護層6
は、表示電極の保護、放電状態の維持等の役割を有して
いる。一方、背面ガラス基板11の上には、放電空間を
区画するストライプ状のリブ(隔壁)12と各放電空間
内に配されたアドレス電極(データ電極)13が所定の
ピッチで多数列設されている。また、各放電空間の内面
には、赤(14a)、青(14b)、緑(14c)の3
色の蛍光体膜が規則的に配されている。フルカラー表示
においては、前記のように赤、青、緑の3原色の蛍光体
膜14a、14b、14cで1つの画素が構成される。
さらに、放電空間を形成する一対の表示電極2a、2b
の両側部には、画像のコントラストをさらに高めるため
に、同様にストライプ状のブラックマトリックス10が
形成されている。なお、上記構造のPDPでは、一対の
表示電極2aと2bの間に交流のパルス電圧を印加し、
同一基板上の電極間で放電させるので、「面放電方式」
と呼ばれている。また、上記構造のPDPでは、放電に
より発生した紫外線は背面基板11の蛍光体膜14a、
14b、14cを励起し、発生した可視光を前面基板1
の透明電極3a、3bを透して見る構造となっている。
FIG. 1 partially shows a structural example of a surface discharge PDP having a three-electrode structure for full color display. On the lower surface of the front glass substrate 1, there are a large number of a pair of display electrodes 2a, 2b, which are composed of a transparent electrode 3a or 3b for discharging and a bus electrode 4a or 4b for reducing the line resistance of the transparent electrode, at a predetermined pitch. It is lined up. These display electrodes 2
A transparent dielectric layer 5 (low melting point glass) for accumulating charges is formed on a and 2b by printing and firing, and a protective layer (MgO) 6 is vapor-deposited thereon. Protective layer 6
Has a role of protecting the display electrode and maintaining a discharge state. On the other hand, on the rear glass substrate 11, a large number of stripe-shaped ribs (partition walls) 12 for partitioning the discharge space and address electrodes (data electrodes) 13 arranged in each discharge space are arranged at a predetermined pitch. There is. In addition, on the inner surface of each discharge space, 3 of red (14a), blue (14b) and green (14c) are provided.
Colored phosphor films are regularly arranged. In full-color display, one pixel is composed of the phosphor films 14a, 14b, and 14c of the three primary colors of red, blue, and green as described above.
Further, a pair of display electrodes 2a and 2b forming a discharge space.
Stripe-shaped black matrixes 10 are similarly formed on both sides of the same in order to further enhance the contrast of the image. In the PDP having the above structure, an AC pulse voltage is applied between the pair of display electrodes 2a and 2b,
"Surface discharge method" because it discharges between electrodes on the same substrate
It is called. Further, in the PDP having the above structure, the ultraviolet rays generated by the discharge are generated by the phosphor film 14a of the rear substrate 11,
The visible light generated by exciting 14 b and 14 c is generated by the front substrate 1.
The transparent electrodes 3a and 3b are seen through.

【0004】このような構造のPDPにおいて、前記バ
ス電極4a、4bの形成では、従来、Cr−Cu−Cr
の3層を蒸着やスパッタリングにより成膜した後、フォ
トリソグラフィー法でパターニングする方法が行われて
きた。しかし、工程数が多く高コストとなるため、最近
では、銀ペースト等の導電性ペーストをスクリーン印刷
した後、焼成する方法、あるいは150μm以下の線幅
とするためには、感光性導電ペーストを塗布し、パター
ンマスクを通して露光した後、現像し、次いで焼成する
方法が行われている。
In the PDP having such a structure, the formation of the bus electrodes 4a and 4b is conventionally performed by using Cr--Cu--Cr.
A method of patterning by photolithography method after forming the three layers by vapor deposition or sputtering. However, since the number of steps is large and the cost is high, recently, a method in which a conductive paste such as a silver paste is screen-printed and then baked or a photosensitive conductive paste is applied in order to obtain a line width of 150 μm or less. Then, after exposing through a pattern mask, developing, and then baking.

【0005】このようにしてバス電極4a、4bが形成
されるPDPの前面基板においては、近年、画面のコン
トラストを向上させるために、バス電極を形成する際
に、表示側となる下層(透明電極3a、3bと接触する
層)側に黒色ペーストの黒層を印刷し、その上に導電性
の銀ペーストの白層を印刷して、白黒二層構造の電極を
形成することが行われている。この場合、黒色ペースト
としては、銅―鉄系、銅―クロム系等の耐熱性黒色顔料
を配合した樹脂組成物が用いられている。
In the front substrate of the PDP in which the bus electrodes 4a and 4b are formed in this way, in recent years, in order to improve the contrast of the screen, a lower layer (transparent electrode) on the display side is formed when the bus electrodes are formed. It is practiced to print a black layer of black paste on the side of 3a, 3b in contact with) and a white layer of conductive silver paste on the black layer to form an electrode having a black and white two-layer structure. . In this case, as the black paste, a resin composition containing a heat-resistant black pigment such as a copper-iron type or a copper-chromium type is used.

【0006】しかしながら、銅―鉄系、銅―クロム系等
の耐熱性黒色顔料を配合した樹脂組成物を用いて上記二
層構造のバス電極における黒層(下層)を形成すると、
焼成の際に赤っぽく変色し、画面のコントラスト向上の
ための充分な黒さを得ることができない。また、銅―鉄
系、銅―クロム系等の耐熱性黒色顔料を配合した樹脂組
成物は、光重合性モノマー及び光重合開始剤と共に配合
して光硬化性組成物に構成した場合、光重合性モノマー
の重合が開始してゲル化してしまう。そのため、ペース
トとしての保存安定性が悪く低温で保管する必要があ
り、またゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪く
量産性に対応できないという問題があった。さらに、黒
色度を上げるために耐熱性黒色顔料の配合量を増大すれ
ば、光の透過を妨げ、充分な光硬化性が得られないとい
う問題が発生する。しかも、焼成後の基材との密着性が
悪化するといった問題が発生する。そしてさらに、焼成
後の密着性と黒さのバランスを図りながら耐熱性黒色顔
料を配合しても、依然として、ペーストの長期保存安定
性が得られないという問題が残る。
However, when the black layer (lower layer) in the above-mentioned two-layer structure bus electrode is formed using a resin composition containing a heat-resistant black pigment such as a copper-iron system or a copper-chromium system,
When fired, it turns reddish and it is not possible to obtain sufficient blackness for improving the contrast of the screen. Further, the resin composition containing a heat-resistant black pigment such as copper-iron-based, copper-chromium-based, when the photocurable composition is compounded with a photopolymerizable monomer and a photopolymerization initiator, Polymerization of the reactive monomer starts and gels. Therefore, there is a problem that storage stability as a paste is poor and it is necessary to store at a low temperature, and coating workability is poor due to gelation and deterioration of fluidity, and mass productivity cannot be supported. Furthermore, if the blending amount of the heat resistant black pigment is increased in order to increase the blackness, there is a problem in that light transmission is impeded and sufficient photocurability cannot be obtained. Moreover, there arises a problem that the adhesion to the base material after firing is deteriorated. Furthermore, even if the heat-resistant black pigment is blended while balancing the adhesion and the blackness after firing, the problem remains that the long-term storage stability of the paste cannot be obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、この
ような従来技術が抱える課題を解決するためになされた
ものであり、その主たる目的は、光硬化性組成物がペー
スト状態において長期の保存安定性に優れると共に、乾
燥、露光、現像、焼成の各工程において基板に対する優
れた密着性、解像性、焼成性、を損なうことなく、焼成
後において充分な密着性と黒さを同時に満足し得る、光
硬化性組成物を提供することにある。本発明の他の目的
は、このような光硬化性組成物から高精細の電極回路、
特に前面基板に形成される白黒二層構造のバス電極にお
いて充分な密着性と黒さを同時に満足し得る黒層(下
層)電極回路を形成したPDPを提供することにある。
Therefore, the present invention has been made in order to solve the problems of the prior art, and its main purpose is to preserve the photocurable composition in a paste state for a long period of time. In addition to being excellent in stability, satisfactory adhesion and blackness are simultaneously satisfied after baking without impairing excellent adhesion, resolution and baking properties to the substrate in each process of drying, exposure, development and baking. To provide a photocurable composition. Another object of the present invention is to obtain a high-definition electrode circuit from such a photocurable composition,
Particularly, it is to provide a PDP in which a black layer (lower layer) electrode circuit capable of simultaneously satisfying sufficient adhesion and blackness is formed in a black and white two-layer structure bus electrode formed on a front substrate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の光硬化性組成物の基本的な第一の態様は、
(A)無機バインダーで被覆された黒色無機微粒子、
(B)有機バインダー、(C)光重合性モノマー、及び
(D)光重合開始剤を含有することを特徴としており、
また第二の態様は、上記各成分に加えて、(E)導電性
粉末および/または(F)シリカ粉末を含有することを
特徴としている。ここで、無機バインダーで被覆された
黒色無機微粒子(A)としては、黒色無機微粒子と無機
バインダーとの溶融物を粉砕したものであることが好ま
しく、この無機バインダーで被覆した黒色無機微粒子
(A)における黒色無機微粒子/無機バインダーの配合
比率は、黒色無機微粒子100質量部に対して無機バイ
ンダー30〜400質量部であることが好ましい。ま
た、前記黒色無機微粒子は、ルテニウム酸化物、ルテニ
ウム化合物、銅−クロム系黒色複合酸化物、銅−鉄系黒
色複合酸化物及びコバルト系酸化物のいずれか少なくと
も1種類であることが好ましく、前記黒色無機微粒子の
平均粒径は0.1μmより小さいことが好ましい。この
ような本発明の光硬化性組成物は、ペースト状形態であ
ってもよく、また予めフィルム状に製膜したドライフィ
ルムの形態であってもよい。さらに本発明によれば、こ
のような光硬化性組成物の焼成物から前面基板の電極回
路が形成されてなるPDPが提供される。
In order to achieve the above object, the first basic aspect of the photocurable composition of the present invention is
(A) Black inorganic fine particles coated with an inorganic binder,
It is characterized by containing (B) an organic binder, (C) a photopolymerizable monomer, and (D) a photopolymerization initiator,
The second aspect is characterized by containing (E) conductive powder and / or (F) silica powder in addition to the above components. Here, the black inorganic fine particles (A) coated with the inorganic binder are preferably those obtained by pulverizing a melt of the black inorganic fine particles and the inorganic binder, and the black inorganic fine particles (A) coated with the inorganic binder. The blending ratio of the black inorganic fine particles / inorganic binder in is preferably 30 to 400 parts by mass of the inorganic binder with respect to 100 parts by mass of the black inorganic fine particles. The black inorganic fine particles are preferably at least one of ruthenium oxide, ruthenium compound, copper-chromium black composite oxide, copper-iron black composite oxide, and cobalt oxide. The average particle size of the black inorganic fine particles is preferably smaller than 0.1 μm. Such a photocurable composition of the present invention may be in a paste form or a dry film formed in advance into a film form. Further, according to the present invention, there is provided a PDP in which an electrode circuit of a front substrate is formed from a fired product of such a photocurable composition.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】発明者は、上記目的の実現に向け
鋭意研究した結果、比表面積が大きく、触媒活性が高い
黒色無機微粒子をガラスなどの無機バインダーにて被覆
することにより、黒色無機微粒子の活性が抑制されてペ
ーストのゲル化や流動性の低下を防止し、塗布作業性を
劣化させることなくペーストの長期保存安定性が図れる
ことを見出した。また、焼成時には、ガラスなどの無機
バインダーが黒色無機微粒子を被覆した状態で溶融する
ため、充分な密着性と黒さを同時に満足し得る黒色皮膜
が形成し得ることを見出した。さらに、黒色無機微粒子
(A)の平均粒径が0.1μmより小さい場合には、形
成塗膜が緻密なものとなり、薄膜でも充分な黒さと密着
性を呈することができ、特に黒色無機微粒子として導電
性粒子を用いた場合には、緻密であるが故に、薄膜化し
ても導電性に優れることを見出した。このような構成に
よれば、乾燥、露光、現像、焼成の各工程において基板
に対する優れた密着性、解像性、焼成性を損なうことな
く、焼成後において充分な黒さ及び密着性を同時に満足
し得る焼成皮膜が得られることを見出し、本発明を完成
するに至った。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As a result of intensive research aimed at realizing the above-mentioned object, the inventor of the present invention coated black inorganic fine particles having a large specific surface area and high catalytic activity with an inorganic binder such as glass to obtain black inorganic fine particles. It has been found that the activity of the paste is suppressed, gelation of the paste and deterioration of fluidity are prevented, and long-term storage stability of the paste can be achieved without deteriorating coating workability. Further, it was found that an inorganic binder such as glass is melted in a state of covering the black inorganic fine particles during firing, so that a black film capable of simultaneously satisfying sufficient adhesion and blackness can be formed. Furthermore, when the average particle size of the black inorganic fine particles (A) is smaller than 0.1 μm, the formed coating film becomes dense, and even a thin film can exhibit sufficient blackness and adhesiveness. It has been found that when conductive particles are used, they are dense and therefore have excellent conductivity even when they are made thin. With such a configuration, sufficient blackness and adhesion can be satisfied at the same time after firing without impairing the excellent adhesion, resolution, and firing properties to the substrate in each process of drying, exposure, development, and firing. It was found that a fired film capable of being obtained was obtained, and the present invention was completed.

【0010】従って、本発明の光硬化性組成物は、前記
したように保存安定性に優れ、かつ、薄い膜厚で充分な
コントラストが得られることから、PDPの量産性、低
コスト化にとって極めて有用なものである。しかも、本
発明の光硬化性組成物をPDP前面基板に形成される白
黒二層構造のバス電極における黒層(下層)の材料とし
て用いれば、バス電極は、黒層がITOやネサなどの透
明電極と白層の間に挟持されたサンドイッチ構造を有す
るため、導電性の低い黒色無機微粒子を用いる場合でも
黒層を緻密化、薄膜化することで透明電極と白層との層
間導通を確保でき、画面側から見たときの黒さも同時に
充分満足させることができるようになる。
Therefore, the photocurable composition of the present invention is excellent in storage stability as described above and sufficient contrast can be obtained with a thin film thickness, which is extremely useful for mass production and cost reduction of PDPs. It is useful. Moreover, when the photocurable composition of the present invention is used as the material of the black layer (lower layer) in the black and white two-layer structure bus electrode formed on the PDP front substrate, the black black layer of the bus electrode is transparent such as ITO or Nesa. Since it has a sandwich structure sandwiched between the electrode and the white layer, it is possible to ensure interlayer conduction between the transparent electrode and the white layer by densifying and thinning the black layer even when using black inorganic particles having low conductivity. , The blackness when viewed from the screen side can be fully satisfied at the same time.

【0011】このような本発明の光硬化性組成物は、無
機バインダーで被覆された黒色無機微粒子(A)を含む
点に最大の特徴がある。これにより、黒色無機微粒子が
ガラス皮膜に被覆されているため、活性が抑制されペー
ストの保存安定性に優れるからである。この無機バイン
ダーで被覆した黒色無機微粒子(A)は、黒色無機微粒
子と無機バインダーとの溶融物を粉砕したもの、具体的
には黒色無機微粒子とガラス粉などの無機バインダーと
の混合物を400℃〜1200℃で溶融し、その溶融物
を冷却したのち粉砕したものであることが好ましい。こ
のような被覆処理を行う場合、無機バインダーと黒色無
機微粒子の組み合わせによっては、得られる粉砕粉の黒
色度が低下し、光特性に有利に作用する場合がある。し
かも、低下した黒色度は、白黒二層構造の電極において
以外にも焼結後には回復し、充分に満足し得る黒色皮膜
が形成できることがわかった。かかる効果は、特に低融
点ガラスと四三酸化コバルトの組み合わせにおいて顕著
であり、その溶融物は青色系に変色した。このような黒
色無機微粒子と無機バインダーとの溶融物の粉砕紛を用
いる理由は、黒色無機微粒子が無機バインダーに被覆さ
れているため、黒色無機微粒子の活性が抑制されペース
トの保存安定性が向上するからである。これに対し、黒
色無機微粒子をそのまま用いる従来の方法では、後述す
る実施例から明らかなように、黒色無機微粒子の触媒活
性が高くペーストの保存安定性に悪影響を及ぼし、長期
間の保存安定性が得られない。特に、平均粒径が0.1
μmより小さな黒色無機微粒子を用いる場合には、黒色
無機微粒子の活性がより高く、その影響は顕著である。
この粉砕紛の配合量は、有機バインダー(B)100質
量部当り0.1〜300質量部であることが好ましい。
この理由は、前記粉砕紛の配合量が0.1質量部よりも
少ないと、焼成後に充分な導電性や黒さが得られず、一
方、上記範囲を超える配合量では、光の透過性が劣化す
る他に、コスト高となり好ましくないからである。この
粉砕紛の粒径は、解像度の点から平均粒径で20μm以
下、好ましくは5μm以下に粉砕して用いることが好ま
しい。
The above-mentioned photocurable composition of the present invention is most characterized in that it contains black inorganic fine particles (A) coated with an inorganic binder. Thereby, since the black inorganic fine particles are coated on the glass film, the activity is suppressed and the storage stability of the paste is excellent. The black inorganic fine particles (A) coated with this inorganic binder are obtained by pulverizing a melt of the black inorganic fine particles and the inorganic binder, and specifically, a mixture of the black inorganic fine particles and an inorganic binder such as glass powder at 400 ° C. It is preferable that the material is melted at 1200 ° C., the melt is cooled and then crushed. When such a coating treatment is performed, the blackness of the obtained pulverized powder may be lowered depending on the combination of the inorganic binder and the black inorganic fine particles, which may have an advantageous effect on the optical characteristics. Moreover, it has been found that the lowered blackness is recovered after sintering in addition to the black and white bilayer structure electrode, and a sufficiently satisfactory black film can be formed. This effect is particularly remarkable in the combination of low melting point glass and cobalt trioxide, and the melt turned blue. The reason for using the pulverized powder of the melt of the black inorganic fine particles and the inorganic binder is that the black inorganic fine particles are coated with the inorganic binder, the activity of the black inorganic fine particles is suppressed, and the storage stability of the paste is improved. Because. On the other hand, in the conventional method using the black inorganic fine particles as they are, as will be apparent from the examples described later, the catalytic activity of the black inorganic fine particles is high, which adversely affects the storage stability of the paste, resulting in long-term storage stability. I can't get it. In particular, the average particle size is 0.1
When black inorganic fine particles smaller than μm are used, the activity of the black inorganic fine particles is higher and the effect is remarkable.
The blending amount of the pulverized powder is preferably 0.1 to 300 parts by mass per 100 parts by mass of the organic binder (B).
The reason for this is that if the blending amount of the pulverized powder is less than 0.1 parts by mass, sufficient conductivity and blackness cannot be obtained after firing. This is because it is not preferable because the cost is high in addition to the deterioration. From the viewpoint of resolution, it is preferable that the pulverized powder has an average particle size of 20 μm or less, preferably 5 μm or less.

【0012】この無機バインダーで被覆した黒色無機微
粒子(A)における黒色無機微粒子/無機バインダーの
配合比率は、黒色無機微粒子100質量部に対して無機
バインダー30〜400質量部であることが好ましい。
この理由は、無機バインダーの配合量が30質量部より
も少ないと、黒色無機微粒子が無機バインダーによって
充分被覆されず、ペーストの保存安定性が得られず、一
方、400質量部を超える配合量では、ペースト焼成時
に充分な導電性や黒さが得られないからである。
In the black inorganic fine particles (A) coated with this inorganic binder, the mixing ratio of black inorganic fine particles / inorganic binder is preferably 30 to 400 parts by mass of inorganic binder with respect to 100 parts by mass of black inorganic fine particles.
The reason for this is that if the amount of the inorganic binder blended is less than 30 parts by mass, the black inorganic fine particles are not sufficiently covered with the inorganic binder and the storage stability of the paste cannot be obtained. On the other hand, if the blending amount exceeds 400 parts by mass. This is because sufficient electrical conductivity and blackness cannot be obtained when the paste is fired.

【0013】また本発明では、平均粒径が0.1μmよ
り小さな、より好ましくは0.01〜0.1μmの黒色
無機微粒子を無機バインダーと混合して溶融してなる溶
融物の粉砕紛を用いることが好ましい。平均粒径が0.
1μmより小さい黒色無機微粒子を用いる理由は、無機
バインダーで被覆された黒色無機微粒子は、焼成時に無
機皮膜が溶融して黒色無機微粒子が露出し、黒色無機微
粒子本来の粒径の影響を大きく受けるためである。つま
り、その黒色無機微粒子の平均粒径が0.1μmより小
さいと、少量の添加でも、密着性等を損なうことなく緻
密な焼成皮膜を形成でき、充分な層間導電性と黒さを同
時に満足し得る黒層(下層)電極用の組成物を提供する
ことができるからである。これに対し、平均粒径が0.
1μm以上の黒色無機微粒子を用いると、焼成皮膜の緻
密性が悪くなり、後述する実施例からも明らかなよう
に、形成される黒層(下層)電極膜の密着性の低下や黒
色度の劣化、さらには抵抗値も大きくなり易い。しか
も、黒色度を上げるために黒色無機微粒子の配合量を増
大すれば、光の透過を妨げ、充分な光硬化性が得られな
いという問題が発生する。従って、平均粒径が0.1μ
mより小さい黒色無機微粒子を用いることが好ましい。
In the present invention, a pulverized powder of a melt obtained by mixing black inorganic fine particles having an average particle size of less than 0.1 μm, more preferably 0.01 to 0.1 μm with an inorganic binder and melting the mixture is used. It is preferable. The average particle size is 0.
The reason for using the black inorganic fine particles smaller than 1 μm is that the black inorganic fine particles coated with the inorganic binder are exposed to the black inorganic fine particles because the inorganic coating is melted during firing and the black inorganic fine particles are greatly affected by the original particle size of the black inorganic fine particles. Is. That is, if the average particle size of the black inorganic fine particles is smaller than 0.1 μm, a dense baked film can be formed without impairing the adhesiveness even if added in a small amount, and sufficient interlayer conductivity and blackness can be satisfied at the same time. This is because the composition for the obtained black layer (lower layer) electrode can be provided. On the other hand, the average particle size is 0.
When the black inorganic fine particles having a size of 1 μm or more are used, the denseness of the fired film deteriorates, and as is clear from the examples described later, the adhesion of the black layer (lower layer) electrode film formed is deteriorated and the blackness is deteriorated. Moreover, the resistance value is likely to increase. Moreover, if the blending amount of the black inorganic fine particles is increased in order to increase the degree of blackness, the transmission of light is hindered and sufficient photocurability cannot be obtained. Therefore, the average particle size is 0.1μ
It is preferable to use black inorganic fine particles smaller than m.

【0014】このような黒色無機微粒子としては、例え
ばルテニウム酸化物やルテニウム化合物、銅−クロム系
黒色複合酸化物、銅−鉄系黒色複合酸化物、コバルト系
酸化物等が好適に用いられる。特に、コバルト系酸化物
は、ペーストの安定性、コスト面に極めて優れることか
ら最適である。
As such black inorganic fine particles, ruthenium oxides, ruthenium compounds, copper-chromium black composite oxides, copper-iron black composite oxides, cobalt oxides and the like are preferably used. In particular, cobalt-based oxides are most suitable because they are extremely excellent in paste stability and cost.

【0015】具体的には、上記ルテニウム酸化物として
は、RuO2が好ましい。ルテニウム化合物としては、
Ru4+、Ir4+又はそれらの混合物(M2)の多成分化
合物である下記一般式で表わされるパイロクロア酸化物
の一種であるルテニウム多酸化物が挙げられる: (MXBi2-X)(M1 y2 2-y)O7-Z 式中、Mはイットリウム、タリウム、インジウム、カド
ミウム、鉛、銅及び希土類金属よりなる群から選ばれ、
1は白金、チタン、クロム、ロジウム及びアンチモン
よりなる群から選ばれ、M2はルテニウム、イリジウム
又はその混合物であり、xは0〜2であるが、1価の銅
に対してはxは≦1であり、yは0〜0.5であるが、
1がロジウムであるか、又は白金、チタン、クロム、
ロジウム及びアンチモンのうちから複数選ばれる場合に
はyは0〜1であり、そしてzは0〜1であるが、Mが
2価の鉛又はカドミウムの場合にはこれは少なくとも約
x/2に等しい値である。これらルテニウム系パイロク
ロア酸化物は、米国特許第3583931号明細書に詳
細に記載されている。上記のようなルテニウム酸化物及
びルテニウム化合物は、単独で又は2種以上を組み合わ
せて用いることができる。
Specifically, RuO 2 is preferable as the ruthenium oxide. As a ruthenium compound,
Ru 4+ , Ir 4+, or a mixture thereof (M 2 ), which is a multi-component compound, is a ruthenium polyoxide which is one of the pyrochlore oxides represented by the following general formula: (M X Bi 2-X ) In the formula (M 1 y M 2 2-y ) O 7-Z , M is selected from the group consisting of yttrium, thallium, indium, cadmium, lead, copper and rare earth metals,
M 1 is selected from the group consisting of platinum, titanium, chromium, rhodium and antimony, M 2 is ruthenium, iridium or a mixture thereof, x is 0 to 2, but for monovalent copper x is ≦ 1 and y is 0 to 0.5,
M 1 is rhodium, or platinum, titanium, chromium,
When a plurality of rhodium and antimony are selected, y is 0 to 1 and z is 0 to 1, but when M is divalent lead or cadmium, this is at least about x / 2. Are equal. These ruthenium-based pyrochlore oxides are described in detail in US Pat. No. 3,583,931. The above ruthenium oxides and ruthenium compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0016】上記銅−クロム系黒色複合酸化物として
は、CuO−Cr23やCuO−Cr23−Mn23
どがあり、上記銅−鉄系黒色複合酸化物としては、Cu
O−Fe23やCuO−Fe23−Mn23、CuO−
Fe23−Mn23−Al23などがある。また、上記
コバルト系酸化物としては、酸化コバルトや四三酸化コ
バルトなどがある。
The copper-chromium black composite oxide includes CuO-Cr 2 O 3 and CuO-Cr 2 O 3 -Mn 2 O 3 , and the copper-iron black composite oxide includes Cu.
O-Fe 2 O 3 and CuO-Fe 2 O 3 -Mn 2 O 3, CuO-
And the like Fe 2 O 3 -Mn 2 O 3 -Al 2 O 3. Further, examples of the cobalt-based oxides include cobalt oxide and cobalt trioxide.

【0017】このような黒色無機微粒子の形状は、球
状、フレーク状、デンドライト状など種々のものを用い
ることができるが、光特性、分散性を考慮すると、球状
のものを用いることが好ましい。
Various shapes such as a spherical shape, a flake shape, and a dendrite shape can be used as the shape of such black inorganic fine particles, but in view of optical characteristics and dispersibility, it is preferable to use a spherical shape.

【0018】このような黒色無機微粒子を被覆する無機
バインダーとしては、低融点セラミックなどが挙げられ
るが、ガラス転移点(Tg)300〜500℃、ガラス
軟化点(Ts)400〜600℃の低融点ガラス粉末が
好ましい。この理由は、本発明の組成物では、燃焼性の
良好な有機バインダーを用い、無機バインダーが溶融す
る前に脱有機バインダーが完了するように組成されてい
る。しかし、ガラス粉末の軟化点が400℃より低い
と、脱バインダーが完了する前にガラスの溶融が生じて
有機バインダーを包み込み易くなり、残存する有機バイ
ンダーが分解することによって組成物中にブリスターが
生じ易くなるので好ましくない。このように無機バイン
ダーとして低融点ガラス粉末を用いた黒色導電性微粒子
/低融点ガラスからなる溶融物の粉砕粉によれば、露光
・現像後の皮膜は600℃以下で容易に焼成が可能とな
り、特にPDPの電極形成に有用である。
Examples of the inorganic binder for coating such black inorganic fine particles include low melting point ceramics and the like, which have a low melting point of glass transition point (Tg) of 300 to 500 ° C. and glass softening point (Ts) of 400 to 600 ° C. Glass powder is preferred. The reason for this is that in the composition of the present invention, an organic binder having good flammability is used and the organic binder is completed before the inorganic binder is melted. However, when the softening point of the glass powder is lower than 400 ° C., the glass is melted before the debinding is completed and the organic binder is easily wrapped, and the remaining organic binder is decomposed to cause blisters in the composition. It is not preferable because it becomes easy. As described above, according to the crushed powder of the black conductive fine particles / low melting point glass melt using the low melting point glass powder as the inorganic binder, the film after exposure and development can be easily baked at 600 ° C. or lower, Particularly, it is useful for forming electrodes of PDP.

【0019】かかる低融点ガラス粉末としては、酸化
鉛、酸化ビスマス、又は酸化亜鉛を主成分とするガラス
粉末が好適に使用できる。酸化鉛を主成分とするガラス
粉末の好ましい例としては、酸化物基準の質量%で、P
bOが48〜82%、B23が0.5〜22%、SiO
2が3〜32%、Al23が0〜12%、BaOが0〜
10%、ZnOが0〜15%、TiO2が0〜2.5
%、Bi23が0〜25%の組成を有し、軟化点が42
0〜590℃である非結晶性フリットが挙げられる。
As the low melting point glass powder, glass powder containing lead oxide, bismuth oxide or zinc oxide as a main component can be preferably used. Preferable examples of the glass powder containing lead oxide as a main component include P in mass% based on oxide.
bO is 48 to 82%, B 2 O 3 is 0.5 to 22%, SiO
2 is 3 to 32%, Al 2 O 3 is 0 to 12%, BaO is 0 to
10%, ZnO 0-15%, TiO 2 0-2.5
%, Bi 2 O 3 has a composition of 0 to 25%, and has a softening point of 42.
The amorphous frit which is 0-590 degreeC is mentioned.

【0020】酸化ビスマスを主成分とするガラス粉末の
好ましい例としては、酸化物基準の質量%で、Bi23
が35〜88%、B23が5〜30%、SiO2が0〜
20%、Al23が0〜5%、BaOが1〜25%、Z
nOが1〜20%の組成を有し、軟化点が420〜59
0℃である非結晶性フリットが挙げられる。
A preferred example of the glass powder containing bismuth oxide as a main component is Bi 2 O 3 in mass% based on oxide.
Of 35 to 88%, B 2 O 3 of 5 to 30%, and SiO 2 of 0
20%, Al 2 O 3 0-5%, BaO 1-25%, Z
nO has a composition of 1 to 20% and has a softening point of 420 to 59.
An amorphous frit that is 0 ° C. may be mentioned.

【0021】酸化亜鉛を主成分とするガラス粉末の好ま
しい例としては、酸化物基準の質量%で、ZnOが25
〜60%、K2Oが2〜15%、B23が25〜45
%、SiO2が1〜7%、Al23が0〜10%、Ba
Oが0〜20%、MgOが0〜10%の組成を有し、軟
化点が420〜590℃である非結晶性フリットが挙げ
られる。
As a preferred example of the glass powder containing zinc oxide as a main component, ZnO is 25% by mass based on the oxide.
〜60%, K 2 O 2 ~ 15%, B 2 O 3 25 ~ 45
%, SiO 2 is 1 to 7%, Al 2 O 3 is 0 to 10%, Ba
An amorphous frit having a composition of O of 0 to 20% and MgO of 0 to 10% and a softening point of 420 to 590 ° C can be mentioned.

【0022】前記有機バインダー(B)としては、カル
ボキシル基を有する樹脂、具体的にはそれ自体がエチレ
ン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有感光性
樹脂及びエチレン性不飽和二重結合を有さないカルボキ
シル基含有樹脂のいずれも使用可能である。好適に使用
できる樹脂(オリゴマー及びポリマーのいずれでもよ
い)としては、以下のようなものが挙げられる。 (1)(a)不飽和カルボン酸と(b)不飽和二重結合
を有する化合物を共重合させることによって得られるカ
ルボキシル基含有樹脂 (2)(a)不飽和カルボン酸と(b)不飽和二重結合
を有する化合物の共重合体にエチレン性不飽和基をペン
ダントとして付加させることによって得られるカルボキ
シル基含有感光性樹脂 (3)(c)エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合
物と(b)不飽和二重結合を有する化合物の共重合体
に、(a)不飽和カルボン酸を反応させ、生成した2級
の水酸基に(d)多塩基酸無水物を反応させて得られる
カルボキシル基含有感光性樹脂 (4)(e)不飽和二重結合を有する酸無水物と(b)
不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、(f)水
酸基を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル
基含有樹脂 (5)(e)不飽和二重結合を有する酸無水物と(b)
不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、(f)水
酸基と不飽和二重結合を有する化合物を反応させて得ら
れるカルボキシル基含有感光性樹脂 (6)(g)エポキシ化合物と(h)不飽和モノカルボ
ン酸を反応させ、生成した2級の水酸基に(d)多塩基
酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光
性樹脂 (7)(b)不飽和二重結合を有する化合物とグリシジ
ル(メタ)アクリレートの共重合体のエポキシ基に、
(i)1分子中に1つのカルボキシル基を有し、エチレ
ン性不飽和結合を持たない有機酸を反応させ、生成した
2級の水酸基に(d)多塩基酸無水物を反応させて得ら
れるカルボキシル基含有樹脂 (8)(j)水酸基含有ポリマーに(d)多塩基酸無水
物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂 (9)(j)水酸基含有ポリマーに(d)多塩基酸無水
物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂に、
(c)エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物をさ
らに反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
As the organic binder (B), a resin having a carboxyl group, specifically, a carboxyl group-containing photosensitive resin which itself has an ethylenically unsaturated double bond, and an ethylenically unsaturated double bond are used. Any carboxyl group-containing resin that does not exist can be used. Examples of the resin (which may be either an oligomer or a polymer) which can be suitably used include the following. (1) Carboxyl group-containing resin obtained by copolymerizing (a) unsaturated carboxylic acid and (b) compound having unsaturated double bond (2) (a) unsaturated carboxylic acid and (b) unsaturated A carboxyl group-containing photosensitive resin (3) (c) obtained by adding an ethylenically unsaturated group as a pendant to a copolymer of a compound having a double bond and a compound having an unsaturated double bond ( b) a carboxyl group obtained by reacting (a) an unsaturated carboxylic acid with a copolymer of a compound having an unsaturated double bond, and (d) a polybasic acid anhydride with the generated secondary hydroxyl group. Containing photosensitive resin (4) (e) an acid anhydride having an unsaturated double bond, and (b)
A carboxyl group-containing resin (5) obtained by reacting a compound having an unsaturated double bond with a compound having a hydroxyl group (f) (e) an acid anhydride having an unsaturated double bond and (b) )
A carboxyl group-containing photosensitive resin (6) (g) epoxy compound (h) obtained by reacting a copolymer of a compound having an unsaturated double bond with (f) a compound having a hydroxyl group and an unsaturated double bond, and (h) ) A carboxyl group-containing photosensitive resin (7) (b) having an unsaturated double bond, which is obtained by reacting an unsaturated monocarboxylic acid and reacting a secondary hydroxyl group formed with (d) a polybasic acid anhydride In the epoxy group of the copolymer of the compound and glycidyl (meth) acrylate,
(I) Obtained by reacting an organic acid having one carboxyl group in one molecule and not having an ethylenically unsaturated bond, and reacting the generated secondary hydroxyl group with (d) a polybasic acid anhydride. Carboxyl group-containing resin (8) (j) Hydroxyl group-containing polymer (d) Polycarboxylic acid anhydride obtained by reacting (d) Polybasic acid anhydride (9) (j) Hydroxyl group-containing polymer (d) Polybasic acid anhydride To the carboxyl group-containing resin obtained by reacting
(C) Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by further reacting a compound having an epoxy group with an unsaturated double bond

【0023】前記したようなカルボキシル基含有感光性
樹脂及びカルボキシル基含有樹脂は、単独で又は混合し
て用いてもよいが、いずれの場合でもこれらは合計で組
成物全量の10〜80質量%の割合で配合することが好
ましい。これらの樹脂の配合量が上記範囲よりも少な過
ぎる場合、形成する皮膜中の上記樹脂の分布が不均一に
なり易く、充分な光硬化性及び光硬化深度が得られ難
く、選択的露光、現像によるパターニングが困難とな
る。一方、上記範囲よりも多過ぎると、焼成時のパター
ンのよれや線幅収縮を生じ易くなるので好ましくない。
The above-mentioned carboxyl group-containing photosensitive resin and carboxyl group-containing resin may be used alone or as a mixture, but in any case, they are 10 to 80% by mass of the total amount of the composition. It is preferable to mix them in a ratio. If the blending amount of these resins is less than the above range, the distribution of the resin in the film to be formed tends to be non-uniform, and it is difficult to obtain sufficient photocurability and photocuring depth, selective exposure and development. Patterning becomes difficult. On the other hand, if the amount is more than the above range, it is not preferable because the pattern is apt to be warped during firing and the line width is easily contracted.

【0024】また、上記カルボキシル基含有感光性樹脂
及びカルボキシル基含有樹脂としては、それぞれ重量平
均分子量1,000〜100,000、好ましくは5,
000〜50,000、及び酸価20〜150mgKO
H/g、好ましくは40〜120mgKOH/gを有
し、かつ、カルボキシル基含有感光性樹脂の場合、その
二重結合当量が350〜2,000、好ましくは400
〜1,500のものを好適に用いることができる。上記
樹脂の分子量が1,000より低い場合、現像時の導電
性皮膜の密着性に悪影響を与え、一方、100,000
よりも高い場合、現像不良を生じ易いので好ましくな
い。また、酸価が20mgKOH/gより低い場合、ア
ルカリ水溶液に対する溶解性が不充分で現像不良を生じ
易く、一方、150mgKOH/gより高い場合、現像
時に導電性皮膜の密着性の劣化や光硬化部(露光部)の
溶解が生じるので好ましくない。さらに、カルボキシル
基含有感光性樹脂の場合、感光性樹脂の二重結合当量が
350よりも小さいと、焼成時に残渣が残り易くなり、
一方、2,000よりも大きいと、現像時の作業余裕度
が狭く、また光硬化時に高露光量を必要とするので好ま
しくない。
The above-mentioned carboxyl group-containing photosensitive resin and carboxyl group-containing resin each have a weight average molecular weight of 1,000 to 100,000, preferably 5,
000 to 50,000, and acid value 20 to 150 mg KO
H / g, preferably 40 to 120 mgKOH / g, and in the case of a carboxyl group-containing photosensitive resin, its double bond equivalent is 350 to 2,000, preferably 400.
-1,500 can be preferably used. When the molecular weight of the above resin is lower than 1,000, it adversely affects the adhesion of the conductive film during development, while
If it is higher than the above range, defective development tends to occur, which is not preferable. Further, when the acid value is lower than 20 mgKOH / g, the solubility in an alkaline aqueous solution is insufficient and the development failure is liable to occur. This is not preferable because dissolution of (exposed portion) occurs. Furthermore, in the case of a carboxyl group-containing photosensitive resin, if the double bond equivalent of the photosensitive resin is less than 350, a residue tends to remain during firing,
On the other hand, if it is larger than 2,000, the work margin at the time of development is narrow and a high exposure amount is required at the time of photocuring, which is not preferable.

【0025】本発明において光重合性モノマー(C)
は、組成物の光硬化性の促進及び現像性を向上させるた
めに用いる。光重合性モノマー(C)としては、例え
ば、2−ヒドロキシエチルアクリレート,2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタンジ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロ
パンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメ
チロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及び上記ア
クリレートに対応する各メタクリレート類;フタル酸、
アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、こはく酸、トリ
メリット酸、テレフタル酸等の多塩基酸とヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−
又はそれ以上のポリエステルなどが挙げられるが、特定
のものに限定されるものではなく、またこれらを単独で
又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これ
らの光重合性モノマーの中でも、1分子中に2個以上の
アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する多官能モ
ノマーが好ましい。
In the present invention, the photopolymerizable monomer (C)
Is used to accelerate the photocurability and improve the developability of the composition. Examples of the photopolymerizable monomer (C) include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyurethane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, penta. Erythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate,
Dipentaerythritol hexaacrylate and each methacrylate corresponding to the above acrylates; phthalic acid,
Mono-, di-, tri- of polybasic acids such as adipic acid, maleic acid, itaconic acid, succinic acid, trimellitic acid, terephthalic acid and hydroxyalkyl (meth) acrylate
Examples thereof include polyesters and the like, but the polyesters are not limited to specific ones, and these may be used alone or in combination of two or more kinds. Among these photopolymerizable monomers, a polyfunctional monomer having two or more acryloyl groups or methacryloyl groups in one molecule is preferable.

【0026】このような光重合性モノマー(C)の配合
量は、前記有機バインダー(カルボキシル基含有感光性
樹脂及び/又はカルボキシル基含有樹脂)(B)100
重量部当り20〜100重量部が適当である。光重合性
モノマー(C)の配合量が上記範囲よりも少ない場合、
組成物の充分な光硬化性が得られ難くなり、一方、上記
範囲を超えて多量になると、皮膜の深部に比べて表面部
の光硬化が早くなるため硬化むらを生じ易くなる。
The amount of the photopolymerizable monomer (C) blended is 100% of the organic binder (carboxyl group-containing photosensitive resin and / or carboxyl group-containing resin) (B) 100.
20 to 100 parts by weight per part by weight is suitable. When the compounding amount of the photopolymerizable monomer (C) is less than the above range,
It becomes difficult to obtain sufficient photocurability of the composition. On the other hand, when the amount exceeds the above range, the photocuring of the surface portion becomes faster than the deep portion of the film, and thus uneven curing is likely to occur.

【0027】前記光重合開始剤(D)の具体例として
は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等
のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセト
フェノン、2,2−ジメトキシー2−フェニルアセトフ
ェノン、2,2−ジエトキシー2−フェニルアセトフェ
ノン、1,1−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェ
ノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベン
ジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフ
ェニル)−ブタノン−1等のアミノアセトフェノン類;
2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノ
ン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアント
ラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオ
キサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−ク
ロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサ
ントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチル
ケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;
ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;又はキサントン
類;(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−
ペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−ト
リメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイ
ド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォ
スフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチル
ベンゾイルフェニルフォスフィネイト等のフォスフィン
オキサイド類;各種パーオキサイド類などが挙げられ、
これら公知慣用の光重合開始剤を単独で又は2種以上を
組み合わせて用いることができる。これらの光重合開始
剤(D)の配合割合は、前記有機バインダー(カルボキ
シル基含有感光性樹脂及び/又はカルボキシル基含有樹
脂)(B)100重量部当り1〜30重量部が適当であ
り、好ましくは、5〜20重量部である。
Specific examples of the photopolymerization initiator (D) include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone. , 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone and other acetophenones; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl 2-Aminoacetophenones such as 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1;
Anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone and 1-chloroanthraquinone; 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropyl Thioxanthones such as thioxanthone; Ketals such as acetophenone dimethyl ketal, benzyl dimethyl ketal;
Benzophenones such as benzophenone; or xanthones; (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-
Pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, ethyl-2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphineate, etc. Phosphine oxides; various peroxides and the like,
These known and commonly used photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more kinds. The mixing ratio of these photopolymerization initiators (D) is appropriately 1 to 30 parts by weight, preferably 100 parts by weight of the organic binder (carboxyl group-containing photosensitive resin and / or carboxyl group-containing resin) (B). Is 5 to 20 parts by weight.

【0028】また、上記のような光重合開始剤(D)
は、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、
ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチ
ルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のよ
うな光増感剤の1種あるいは2種以上と組み合わせて用
いることができる。さらに、より深い光硬化深度を要求
される場合、必要に応じて、可視領域でラジカル重合を
開始するチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製イル
ガキュア784等のチタノセン系光重合開始剤、ロイコ
染料等を硬化助剤として組み合わせて用いることができ
る。
Further, the photopolymerization initiator (D) as described above
Is N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester,
N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester,
It can be used in combination with one or more photosensitizers such as tertiary amines such as pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine and triethanolamine. Further, when a deeper photocuring depth is required, a titanocene-based photopolymerization initiator such as Irgacure 784 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, which initiates radical polymerization in the visible region, and a leuco dye are cured, if necessary. It can be used in combination as an auxiliary agent.

【0029】さらに、より深い光硬化深度を要求される
場合、必要に応じて、熱重合触媒を前記光重合開始剤
(D)と併用して用いることができる。この熱重合触媒
は、数分から1時間程度にわたって高温におけるエージ
ングにより未硬化の光重合性モノマーを反応させうるも
のであり、具体的には、過酸化ベンゾイル等の過酸化
物、アゾイソブチロニトリル等のアゾ化合物等があり、
好ましくは、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル、
2,2´−アゾビス−2−メチルブチロニトリル、2,
2´−アゾビス−2,4−ジバレロニトリル、1´−ア
ゾビス−1−シクロヘキサンカルボニトリル、ジメチル
−2,2´−アゾビスイソブチレイト、4,4´−アゾ
ビス−4−シアノバレリックアシッド、2−メチル−
2,2´−アゾビスプロパンニトリル、2,4−ジメチ
ル−2,2,2´,2´―アゾビスペンタンニトリル、
1,1´−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエ
タン)、2,2,2´,2´−アゾビス(2−メチルブ
タナミドオキシム)ジヒドロクロライド等が挙げられ、
より好ましいものとしては環境にやさしいノンシアン、
ノンハロゲンタイプの1,1´−アゾビス(1−アセト
キシ−1−フェニルエタン)が挙げられる。
Further, when a deeper photocuring depth is required, a thermal polymerization catalyst can be used in combination with the photopolymerization initiator (D), if necessary. This thermal polymerization catalyst is capable of reacting an uncured photopolymerizable monomer by aging at a high temperature for several minutes to about 1 hour, and specifically, a peroxide such as benzoyl peroxide or azoisobutyronitrile. There are azo compounds such as
Preferably 2,2'-azobisisobutyronitrile,
2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, 2,
2'-azobis-2,4-divaleronitrile, 1'-azobis-1-cyclohexanecarbonitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid , 2-methyl-
2,2′-azobispropane nitrile, 2,4-dimethyl-2,2,2 ′, 2′-azobispentanenitrile,
1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane), 2,2,2 ′, 2′-azobis (2-methylbutanamide oxime) dihydrochloride and the like,
More preferable environment friendly non-cyan,
Non-halogen type 1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane) may be mentioned.

【0030】本発明の組成物は、導電性と黒さを損なわ
ない範囲内で必要に応じ、低融点ガラス粉末などの無機
バインダー、導電性粉末(E)、シリカ粉末(F)等を
配合することができる。
In the composition of the present invention, an inorganic binder such as a low-melting glass powder, a conductive powder (E), a silica powder (F) and the like are blended, if necessary, within a range that does not impair the conductivity and blackness. be able to.

【0031】導電性粉末(E)としては、比抵抗値が1
×103Ω・cm以下の導電性粉末であれば幅広く用い
ることができ、銀(Ag)、金(Au)、ニッケル(N
i)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、錫(S
n)、鉛(Pb)、亜鉛(Zn)、鉄(Fe)、白金
(Pt)、イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)、
パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム
(Ru)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)な
どの単体とその合金の他、酸化錫(SnO2)、酸化イ
ンジウム(In23)、ITO(Indium Tin Oxide)な
どを用いることができる。これらは単独で又は2種類以
上の混合粉として用いることができる。
The conductive powder (E) has a specific resistance value of 1
It can be widely used as long as it is a conductive powder of 10 3 Ω · cm or less, and silver (Ag), gold (Au), nickel (N
i), copper (Cu), aluminum (Al), tin (S
n), lead (Pb), zinc (Zn), iron (Fe), platinum (Pt), iridium (Ir), osmium (Os),
In addition to simple substances such as palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), tungsten (W), and molybdenum (Mo) and their alloys, tin oxide (SnO 2 ), indium oxide (In 2 O 3 ), ITO (Indium Tin Oxide) or the like can be used. These can be used alone or as a mixed powder of two or more kinds.

【0032】この導電性粉末(E)の形状は、球状、フ
レーク状、デンドライト状など種々のものを用いること
ができるが、光特性、分散性を考慮すると球状のものを
用いることが好ましい。また、平均粒径としては、解像
度の点から20μm以下のもの、好ましくは5μm以下
のものを用いることが好ましい。また、導電性粉末の酸
化防止、組成物内での分散性向上、現像性の安定化のた
め、特にAg、Ni、Alについては脂肪酸による処理
を行うことが好ましい。脂肪酸としては、オレイン酸、
リノール酸、リノレン酸、ステアリン酸等が挙げられ
る。
The conductive powder (E) may have various shapes such as spherical shape, flake shape and dendrite shape, but it is preferable to use spherical shape in consideration of optical characteristics and dispersibility. From the viewpoint of resolution, the average particle size is preferably 20 μm or less, more preferably 5 μm or less. Further, in order to prevent the oxidation of the conductive powder, improve the dispersibility in the composition, and stabilize the developability, it is preferable to treat Ag, Ni, and Al with a fatty acid. As fatty acids, oleic acid,
Examples thereof include linoleic acid, linolenic acid and stearic acid.

【0033】前記導電性粉末(E)の配合量は、前記有
機バインダー(B)100重量部当り100重量部以下
となる割合が適当である。100重量部を超えて多量に
配合すると、光の透過を損ない、組成物の充分な光硬化
性が得られ難くなる。また、黒色を呈さない導電性粉末
を添加した場合には、充分な黒さを満足し得る黒層電極
用の導電性組成物を得ることができなくなるからであ
る。
The amount of the conductive powder (E) to be blended is appropriately 100 parts by weight or less per 100 parts by weight of the organic binder (B). When it is blended in a large amount in excess of 100 parts by weight, light transmission is impaired, and it becomes difficult to obtain sufficient photocurability of the composition. In addition, when a conductive powder that does not exhibit black color is added, it becomes impossible to obtain a conductive composition for a black layer electrode that can satisfy sufficient blackness.

【0034】シリカ粉末(F)としては、特に合成アモ
ルファスシリカ微粉末が望ましく、その具体例として
は、日本アエロジル(株)製のAEROSIL(登録商
標)50、130、200、200V、200CF、2
00FAD、300、300CF、380、OX50、
TT600、MOX80、MOX170、COK84、
日本シリカ工業(株)製のNipsil(登録商標)A
Q、AQ−S、VN3、LP、L300、N−300
A、ER−R、ER、RS−150、ES、NS、NS
−T、NS−P、NS−KR、NS−K、NA、KQ、
KM、DS等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上
を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、
一次粒子径が5〜50nm、比表面積が50〜500m
2/gのものが好ましい。
As the silica powder (F), synthetic amorphous silica fine powder is particularly preferable, and specific examples thereof include AEROSIL (registered trademark) 50, 130, 200, 200V, 200CF manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., 2
00FAD, 300, 300CF, 380, OX50,
TT600, MOX80, MOX170, COK84,
Nisil (registered trademark) A manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd.
Q, AQ-S, VN3, LP, L300, N-300
A, ER-R, ER, RS-150, ES, NS, NS
-T, NS-P, NS-KR, NS-K, NA, KQ,
Examples thereof include KM and DS, and these can be used alone or in combination of two or more kinds. Among these,
Primary particle size is 5 to 50 nm, specific surface area is 50 to 500 m
2 / g is preferable.

【0035】上記のようなシラノール基を有する合成ア
モルファスシリカ微粉末を、前記したようなカルボキシ
ル基を有する樹脂と黒色無機微粒子を組み合わせて含有
する光硬化性組成物に添加すると、乾燥、露光、現像、
焼成の各工程において基板に対して安定した密着性を示
すと共に、バス電極作製の焼成工程において、基板と黒
層との間及び黒層と白層との間の剥離やカールの発生を
抑制できる。このような作用を奏する理由は未だ充分に
解明されてはいないが、焼成前においては、合成アモル
ファスシリカ表面のシラノール基の水素原子と基板とし
て用いられるガラス基板や樹脂のカルボキシル基の酸素
原子との水素結合や、シラノール基の電気的に陰性の酸
素原子と導電性粉末の電気的に陽性の金属との間のクー
ロン力により、基板との密着性に優れた緻密な塗膜が形
成され、焼成後においては、合成アモルファスシリカ微
粒子がガラス基板と導電性粒子との間の隙間及び導電性
粒子間の隙間に入り込んでそれらの接着強度を増大させ
ているものと推測される。
When the synthetic amorphous silica fine powder having a silanol group as described above is added to a photocurable composition containing a combination of a resin having a carboxyl group and black inorganic fine particles as described above, drying, exposure and development are carried out. ,
It shows stable adhesion to the substrate in each firing process, and can suppress the occurrence of peeling and curling between the substrate and the black layer and between the black layer and the white layer in the firing process for manufacturing the bus electrode. . The reason why such an effect is exerted has not been sufficiently clarified yet, but before firing, the hydrogen atom of the silanol group on the surface of the synthetic amorphous silica and the oxygen atom of the carboxyl group of the glass substrate or resin used as the substrate Due to hydrogen bonding and the Coulomb force between the electrically negative oxygen atom of the silanol group and the electrically positive metal of the conductive powder, a dense coating film with excellent adhesion to the substrate is formed and baked. It is speculated that the synthetic amorphous silica fine particles later enter the gaps between the glass substrate and the conductive particles and the gaps between the conductive particles to increase their adhesive strength.

【0036】本発明においては、塗布工程におけるペー
ストの粘度調整、ならびに乾燥による造膜と接触露光を
可能とさせるために、希釈剤として有機溶剤を配合する
ことができる。具体的には、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テ
トラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;セロソル
ブ、メチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビト
ール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、
トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリ
コールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソル
ブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビト
ールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなど
の酢酸エステル類;エタノール、プロパノール、エチレ
ングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール
類;オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素;石油エー
テル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ
などの石油系溶剤が挙げられ、これらを単独で又は2種
以上を組み合わせて用いることができる。
In the present invention, an organic solvent can be added as a diluent in order to adjust the viscosity of the paste in the coating step and to enable film formation by drying and contact exposure. Specifically, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; cellosolve, methyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, diether. Propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether,
Glycol ethers such as triethylene glycol monoethyl ether; acetic acid esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate Alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, solvent naphtha, etc. Or two or more kinds can be used in combination.

【0037】なお、光硬化性組成物に多量の黒色無機微
粒子と低融点ガラス粉末を配合した場合、得られる組成
物は保存安定性が悪く、ゲル化や流動性の低下により塗
布作業性が悪くなる傾向がある。そのため、組成物の保
存安定性向上を目的に、黒色無機微粒子やガラスの成分
である金属あるいは酸化物粉末との錯体化あるいは塩形
成などの効果のある化合物を、安定剤として添加するこ
とが知られている。しかしながら、黒色無機微粒子やガ
ラスの成分である金属あるいは酸化物粉末に有効な安定
剤は、それぞれ異なった成分であったため、その2成分
からなるペーストを安定化させることは非常に困難であ
った。この点、本発明の光硬化性組成物では、低融点ガ
ラスなどの無機バインダーで被覆した黒色無機微粒子を
用いているので、ガラス成分などの無機バインダーに効
果のある安定剤のみを考慮すればよくペーストの保存安
定化が容易になった。この安定剤としては、無機酸、有
機酸、リン酸化合物(無機リン酸、有機リン酸)などの
酸が挙げられる。このような安定剤は、前記のガラス粉
末や導電性粉末100重量部当り0.1〜10重量部の
割合で添加することが好ましい。
When a large amount of black inorganic fine particles and low melting point glass powder are blended in the photocurable composition, the resulting composition has poor storage stability and poor coating workability due to gelation and fluidity deterioration. Tends to become. Therefore, for the purpose of improving the storage stability of the composition, it is known to add, as a stabilizer, a compound having an effect of complexing with a metal or oxide powder which is a component of black inorganic fine particles or glass or forming a salt. Has been. However, since the stabilizers effective for the black inorganic fine particles and the metal or oxide powder as the component of the glass are different components, it is very difficult to stabilize the paste composed of the two components. In this respect, in the photocurable composition of the present invention, since the black inorganic fine particles coated with an inorganic binder such as low-melting glass are used, only a stabilizer effective for the inorganic binder such as a glass component may be considered. It became easier to stabilize the storage of the paste. Examples of the stabilizer include acids such as inorganic acids, organic acids, and phosphoric acid compounds (inorganic phosphoric acid, organic phosphoric acid). Such a stabilizer is preferably added in an amount of 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the glass powder or conductive powder.

【0038】また、光硬化性組成物に光重合性モノマー
を配合した場合、得られる組成物の保存安定性が悪く、
ゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪くなる傾向
がある。従って、本発明の組成物では、組成物の保存安
定性向上のために必要に応じて、光重合性モノマーの熱
重合禁止剤を添加することができる。この熱重合禁止剤
としては、フェノチアジン、2−エチルアントラキノ
ン、ヒドロキノン、N−フェニルナフチルアミン、クロ
ラニール、ピロガロール、ベンゾキノン、t−ブチルカ
テコールなどが挙げられ、単独で又は2種以上を組み合
わせて用いることができる。このような安定剤は、前記
の有機バインダー(B)100質量部当り0.01〜1
質量部の割合で添加することができる。
When the photocurable composition is blended with a photopolymerizable monomer, the resulting composition has poor storage stability,
The coating workability tends to deteriorate due to gelation and deterioration of fluidity. Therefore, in the composition of the present invention, a thermal polymerization inhibitor of a photopolymerizable monomer can be added as necessary to improve the storage stability of the composition. Examples of the thermal polymerization inhibitor include phenothiazine, 2-ethylanthraquinone, hydroquinone, N-phenylnaphthylamine, chloranil, pyrogallol, benzoquinone, and t-butylcatechol, which may be used alone or in combination of two or more. . Such a stabilizer may be added in an amount of 0.01 to 1 per 100 parts by mass of the organic binder (B).
It can be added in a proportion of parts by mass.

【0039】本発明の光硬化性組成物は、さらに必要に
応じて、シリコーン系、アクリル系等の消泡・レベリン
グ剤、皮膜の密着性向上のためのシランカップリング
剤、等の他の添加剤を配合することもできる。さらにま
た、必要に応じて、導電性金属粉の酸化を防止するため
の公知慣用の酸化防止剤や、保存時の熱的安定性を向上
させるための熱重合禁止剤、焼成時における基板との結
合成分としての金属酸化物、ケイ素酸化物、ホウ素酸化
物などの微粒子を添加することもできる。
The photocurable composition of the present invention may further contain other additives such as a silicone-based or acrylic-based defoaming / leveling agent and a silane coupling agent for improving the adhesion of the film, if necessary. Agents can also be included. Furthermore, if necessary, a known conventional antioxidant for preventing the oxidation of the conductive metal powder, a thermal polymerization inhibitor for improving the thermal stability during storage, and a substrate during baking. It is also possible to add fine particles such as metal oxides, silicon oxides, and boron oxides as a binding component.

【0040】本発明の光硬化性組成物は、予めフィルム
状に成膜されている場合には基板上にラミネートすれば
よいが、ペースト状組成物の場合、スクリーン印刷法、
バーコーター、ブレードコーターなど適宜の塗布方法で
基板、例えばPDPの前面基板となるガラス基板に塗布
し、次いで指触乾燥性を得るために熱風循環式乾燥炉、
遠赤外線乾燥炉等で例えば約60〜120℃で5〜40
分程度乾燥させて有機溶剤を蒸発させ、タックフリーの
塗膜を得る。その後、選択的露光、現像、焼成を行って
所定のパターンの電極回路を形成する。
The photocurable composition of the present invention may be laminated on a substrate when it is previously formed into a film, but in the case of a paste composition, a screen printing method,
A substrate, for example, a glass substrate to be a front substrate of a PDP, is coated by an appropriate coating method such as a bar coater or a blade coater, and then a hot air circulation type drying furnace is used to obtain touch dryness.
For example, in a far-infrared ray drying oven at about 60 to 120 ° C. for 5 to 40
After drying for about a minute, the organic solvent is evaporated to obtain a tack-free coating film. After that, selective exposure, development, and baking are performed to form an electrode circuit having a predetermined pattern.

【0041】露光工程としては、所定の露光パターンを
有するネガマスクを用いた接触露光及び非接触露光が可
能であるが、解像度の点からは接触露光が好ましい。露
光光源としては、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、レーザ
ー光、メタルハライドランプ、ブラックランプ、無電極
ランプなどが使用される。露光量としては50〜100
0mJ/cm2程度が好ましい。
As the exposure step, contact exposure and non-contact exposure using a negative mask having a predetermined exposure pattern are possible, but contact exposure is preferable from the viewpoint of resolution. As the exposure light source, a halogen lamp, a high pressure mercury lamp, a laser beam, a metal halide lamp, a black lamp, an electrodeless lamp or the like is used. The exposure amount is 50-100
About 0 mJ / cm 2 is preferable.

【0042】現像工程としてはスプレー法、浸漬法等が
用いられる。現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナト
リウムなどの金属アルカリ水溶液や、モノエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなど
のアミン水溶液、特に約1.5重量%以下の濃度の希ア
ルカリ水溶液が好適に用いられるが、組成物中のカルボ
キシル基含有樹脂のカルボキシル基がケン化され、未硬
化部(未露光部)が除去されればよく、上記のような現
像液に限定されるものではない。また、現像後に不要な
現像液の除去のため、水洗や酸中和を行うことが好まし
い。
As the developing process, a spray method, a dipping method or the like is used. As the developing solution, an aqueous solution of a metal alkali such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate or the like, an aqueous solution of an amine such as monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine or the like, particularly about 1.5% by weight or less A dilute alkaline aqueous solution having a concentration of is preferably used, but it is sufficient that the carboxyl group of the carboxyl group-containing resin in the composition is saponified and the uncured portion (unexposed portion) is removed. It is not limited to. Further, it is preferable to carry out washing with water or acid neutralization after the development in order to remove unnecessary developer.

【0043】焼成工程においては、現像後の基板を空気
中又は窒素雰囲気下で約400〜600℃の加熱処理を
行い、所望の導体パターンを形成する。なお、この時の
昇温速度は、15℃/分以下に設定することが好まし
い。
In the firing step, the substrate after development is subjected to a heat treatment at about 400 to 600 ° C. in air or a nitrogen atmosphere to form a desired conductor pattern. The rate of temperature increase at this time is preferably set to 15 ° C./minute or less.

【0044】さて、バス電極の形成においては、まず、
図2(A)に示すように、予めスパッタリング、イオン
プレーティング、化学蒸着、電着等の従来公知の適宜の
手段によりITO、SnO2等により透明電極3が形成
された前面ガラス基板1に、前記したような黒色無機微
粒子を含む光硬化性組成物を塗布し、乾燥してタックフ
リーの黒層(下層)20を形成する。次に、図2(B)
に示すように、前記組成物中の黒色無機微粒子がAg、
Au、Al、Pt、Pd等の前記した導電性粉末で置き
換えられている以外は前記光硬化性組成物と同様な組成
物を塗布し、乾燥してタックフリーの白色系導電層(上
層)21を形成する。その後、図2(C)に示すよう
に、これに所定の露光パターンを有するフォトマスク2
2を重ね合わせ、露光する。次いで、アルカリ水溶液に
より現像して非露光部分を除去し、図2(D)に示すよ
うな所定の電極パターンを形成する。そしてさらに、焼
成することにより、図2(E)に示すように、透明電極
3の上に黒層(下層)電極20aと白層(上層)電極2
1aとからなるバス電極4が形成される。なお、黒色系
の光硬化性組成物と白色系の光硬化性組成物が予めフィ
ルム状に成膜されたドライフィルムの場合、前面ガラス
基板上に熱圧着して順次ラミネートした後、露光、現像
及び焼成の各工程を行えばよい。また、前面ガラス基板
上に前記した光硬化性組成物を塗布し、乾燥、露光、現
像、焼成の各工程を行って黒層(下黒)電極を形成した
後、白色系の光硬化性組成物を塗布し、乾燥、露光、現
像、焼成の各工程を行って白層(上層)電極を形成する
方法を採用することもできる。
In forming the bus electrode, first,
As shown in FIG. 2 (A), the front glass substrate 1 on which the transparent electrode 3 is formed in advance by ITO, SnO 2 or the like by a conventionally known appropriate means such as sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, or electrodeposition, A photocurable composition containing the above-mentioned black inorganic fine particles is applied and dried to form a tack-free black layer (lower layer) 20. Next, FIG. 2 (B)
As shown in, the black inorganic fine particles in the composition are Ag,
A tack-free white conductive layer (upper layer) 21 is obtained by applying a composition similar to the photocurable composition except that it is replaced with the above-mentioned conductive powder such as Au, Al, Pt, or Pd, and drying. To form. Then, as shown in FIG. 2C, a photomask 2 having a predetermined exposure pattern is formed on the photomask 2.
2 are overlaid and exposed. Then, it is developed with an alkaline aqueous solution to remove the non-exposed portion, and a predetermined electrode pattern as shown in FIG. 2 (D) is formed. Then, by firing, a black layer (lower layer) electrode 20a and a white layer (upper layer) electrode 2 are formed on the transparent electrode 3 as shown in FIG.
A bus electrode 4 composed of 1a is formed. Incidentally, in the case of a dry film in which the black photocurable composition and the white photocurable composition are previously formed into a film shape, they are exposed to heat and pressure, and then sequentially laminated on the front glass substrate, and then exposed and developed. And each process of baking may be performed. Moreover, after coating the above-mentioned photocurable composition on the front glass substrate and performing the steps of drying, exposing, developing and baking to form a black layer (lower black) electrode, a white photocurable composition It is also possible to employ a method in which a white layer (upper layer) electrode is formed by applying a material and performing each step of drying, exposing, developing and baking.

【0045】[0045]

【実施例】以下に実施例及び比較例を示して本発明につ
いて具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定さ
れるものでないことはもとよりである。なお、「部」及
び「%」とあるのは、特に断りがない限り全て質量基準
である。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples, but it goes without saying that the present invention is not limited to the following Examples. The terms “part” and “%” are based on mass unless otherwise specified.

【0046】(合成例1)温度計、攪拌機、滴下ロー
ト、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルメタク
リレートとメタクリル酸を0.76:0.24のモル比
で仕込み、溶媒としてジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、触媒としてアゾビスイソブチロニトリルを
入れ、窒素雰囲気下、80℃で2〜6時間攪拌し、樹脂
溶液を得た。この樹脂溶液を冷却し、重合禁止剤として
メチルハイドロキノン、触媒としてテトラブチルホスホ
ニウムブロミドを用い、グリシジルメタクリレートを、
95〜105℃で16時間の条件で、上記樹脂のカルボ
キシル基1モルに対し0.12モルの割合の付加モル比
で付加反応させ、冷却後取り出し、有機バインダーAを
調製した。この有機バインダーAの樹脂は、重量平均分
子量が約10,000、酸価が59mgKOH/g、二
重結合当量が950であった。なお、得られた共重合樹
脂の重量平均分子量の測定は、(株)島津製作所製ポン
プLC−6ADと昭和電工(株)製カラムShodex
(登録商標)KF−804、KF−803、KF−80
2を三本つないだ高速液体クロマトグラフィーにより測
定した。
Synthesis Example 1 A flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser was charged with methyl methacrylate and methacrylic acid at a molar ratio of 0.76: 0.24, and dipropylene glycol was used as a solvent. Monomethyl ether and azobisisobutyronitrile as a catalyst were added, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere at 80 ° C. for 2 to 6 hours to obtain a resin solution. This resin solution was cooled, methyl hydroquinone as a polymerization inhibitor, tetrabutylphosphonium bromide as a catalyst, glycidyl methacrylate,
Under conditions of 95 to 105 ° C. for 16 hours, the addition reaction was carried out at an addition molar ratio of 0.12 mol to 1 mol of the carboxyl group of the resin, and after cooling, it was taken out to prepare an organic binder A. The resin of this organic binder A had a weight average molecular weight of about 10,000, an acid value of 59 mgKOH / g, and a double bond equivalent of 950. The weight average molecular weight of the obtained copolymer resin was measured by Shimadzu Corporation pump LC-6AD and Showa Denko column Shodex.
(Registered trademark) KF-804, KF-803, KF-80
The measurement was carried out by high performance liquid chromatography in which 2 of 3 were connected.

【0047】((A)成分例1)白金(Pt)るつぼ
に、平均粒径0.1μmの四三酸化コバルトを100
部、平均粒径10μm、ガラス転移点(Tg)400
℃、ガラス軟化点(Ts)500℃の低融点ガラス粉末
を200部仕込み、焼成炉にて900℃で溶融した。次
いで、得られた溶融物を冷却したのち粉砕機にて平均粒
径10μmに粉砕し、前記ガラスで被覆された四三酸化
コバルト粉末を調製した。
(Example 1 of component (A)) 100 parts of cobalt tetraoxide having an average particle size of 0.1 μm was added to a platinum (Pt) crucible.
Parts, average particle size 10 μm, glass transition point (Tg) 400
200 parts of low melting glass powder having a glass softening point (Ts) of 500 ° C. was charged and melted at 900 ° C. in a firing furnace. Next, the obtained melt was cooled and then pulverized with a pulverizer to an average particle size of 10 μm to prepare a glass trioxide cobalt oxide powder coated with the glass.

【0048】((A)成分例2)白金(Pt)るつぼ
に、平均粒径0.1μmの酸化ルテニウムを100部、
平均粒径10μm、ガラス転移点(Tg)400℃、ガ
ラス軟化点(Ts)500℃の低融点ガラス粉末を20
0部仕込み、焼成炉にて900℃で溶融した。次いで、
得られた溶融物を冷却したのち粉砕機にて平均粒径10
μmに粉砕し、前記ガラスで被覆された酸化ルテニウム
粉末を調製した。
(Example 2 of component (A)) 100 parts of ruthenium oxide having an average particle size of 0.1 μm was added to a platinum (Pt) crucible,
20 low melting point glass powders having an average particle size of 10 μm, a glass transition point (Tg) of 400 ° C. and a glass softening point (Ts) of 500 ° C.
0 part was charged and melted at 900 ° C. in a firing furnace. Then
After cooling the obtained melt, the average particle size is 10 with a pulverizer.
The ruthenium oxide powder coated with the glass was prepared by grinding to a particle size of μm.

【0049】このようにして調製した有機バインダー
A、(A)成分例1及び(A)成分例2を用い、以下に
示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、3本ロー
ルミルにより練肉してペースト化を行った。なお、本実
施例において、低融点ガラス粉末としては、PbO 6
0%、B2320%、SiO215%、Al23 5%を
粉砕し、熱膨張係数α300=70×10-7 /℃、ガラ
ス転移点445℃、平均粒径1.6μmとしたものを使
用した。
Using the organic binder A, the component example 1 of (A) and the component example 2 of (A) prepared as described above, the components were blended in the following composition ratios, stirred with a stirrer, and then kneaded with a three-roll mill. And made into a paste. In this example, as the low melting point glass powder, PbO 6 was used.
0%, B 2 O 3 20%, SiO 2 15%, and Al 2 O 3 5% were crushed, and the thermal expansion coefficient α 300 = 70 × 10 −7 / ° C., glass transition point 445 ° C., average particle size 1. The one having a size of 6 μm was used.

【0050】 白層電極(上層)用導電性ペースト; 有機バインダーA 100.0部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 50.0部 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1− (4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン 5.0部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 80.0部 銀粉 450.0部 低融点ガラス粉末 22.0部 リン酸エステル 1.0部[0050]  Conductive paste for white layer electrode (upper layer);     Organic binder A 100.0 parts     Pentaerythritol triacrylate 50.0 parts     2-benzyl-2-dimethylamino-1-           (4-morpholinophenyl) butan-1-one 5.0 parts     Dipropylene glycol monomethyl ether 80.0 parts     Silver powder 450.0 parts     Low melting point glass powder 22.0 parts     Phosphate ester 1.0 part

【0051】 黒層電極(下層)用ペースト: (組成物例1) 有機バインダーA 100.0部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 50.0部 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1− (4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン 5.0部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 80.0部 リン酸エステル 1.0部 (A)成分例1(ガラス被覆の四三酸化コバルト粉) 30.0部[0051]  Black layer electrode (lower layer) paste:  (Composition example 1)     Organic binder A 100.0 parts     Pentaerythritol triacrylate 50.0 parts     2-benzyl-2-dimethylamino-1-           (4-morpholinophenyl) butan-1-one 5.0 parts     Dipropylene glycol monomethyl ether 80.0 parts     Phosphate ester 1.0 part     (A) Component Example 1 (glass-coated trisodium cobalt oxide powder) 30.0 parts

【0052】 (組成物例2) 有機バインダーA 100.0部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 50.0部 2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]− 2−モルフォリノプロパン−1−オン 7.0部 2,4−ジエチルチオキサントン 1.0部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 80.0部 リン酸エステル 1.0部 (A)成分例2(ガラス被覆の酸化ルテニウム粉) 30.0部[0052]   (Composition example 2)     Organic binder A 100.0 parts     Pentaerythritol triacrylate 50.0 parts     2-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholinopropan-1-one 7.0 parts 2,4-diethylthioxanthone 1.0 part     Dipropylene glycol monomethyl ether 80.0 parts     Phosphate ester 1.0 part     (A) Component example 2 (glass-coated ruthenium oxide powder) 30.0 parts

【0053】 (比較組成物例1) 有機バインダーA 100.0部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 50.0部 2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]− 2−モルフォリノプロパン−1−オン 7.0部 2,4−ジエチルチオキサントン 1.0部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 80.0部 低融点ガラス(平均粒径10μm、ガラス転移点(Tg) 400℃、ガラス軟化点(Ts)500℃) 20.0部 四三酸化コバルト(平均粒径0.1μm) 10.0部 リン酸エステル 1.0部[0053] (Comparative composition example 1)     Organic binder A 100.0 parts     Pentaerythritol triacrylate 50.0 parts     2-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholinopropan-1-one 7.0 parts 2,4-diethylthioxanthone 1.0 part     Dipropylene glycol monomethyl ether 80.0 parts     Low melting point glass (average particle size 10 μm, glass transition point (Tg) 400 ° C, glass softening point (Ts) 500 ° C) 20.0 parts     Cobalt trioxide (average particle size 0.1 μm) 10.0 parts     Phosphate ester 1.0 part

【0054】 (比較組成物例2) 有機バインダーA 100.0部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 50.0部 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1− (4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン 5.0部 ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 80.0部 低融点ガラス(平均粒径10μm、ガラス転移点(Tg) 400℃、ガラス軟化点(Ts)500℃) 20.0部 酸化ルテニウム(平均粒径0.1μm) 10.0部 リン酸エステル 1.0部[0054] (Comparative composition example 2)     Organic binder A 100.0 parts     Pentaerythritol triacrylate 50.0 parts     2-benzyl-2-dimethylamino-1-           (4-morpholinophenyl) butan-1-one 5.0 parts     Dipropylene glycol monomethyl ether 80.0 parts     Low melting point glass (average particle size 10 μm, glass transition point (Tg) 400 ° C, glass softening point (Ts) 500 ° C) 20.0 parts     Ruthenium oxide (average particle size 0.1 μm) 10.0 parts     Phosphate ester 1.0 part

【0055】このようにして得られた組成物例1,2及
び比較組成物例1、2の各ペーストについて、密着性、
比抵抗値、層間導通、焼成後色調、L値、ペースト安定
性を評価した。その評価方法は以下のとおりである。 (ペースト安定性)組成物例1,2及び比較組成物例
1、2の各ペーストを300gづつ密閉容器に入れ40
℃で1ヶ月間放置したのち状態の確認を行った。 (密着性)ガラス基板上に形成した白黒二層の被膜を、
ライン/スペース=50/100μmとなるネガフィル
ムを用いてパターン露光し、次いで、液温が30℃の1
wt%Na2CO3水溶液にて現像を行い、水洗し、その
後、焼成してパターン焼成基板を作成してセロテープ
(登録商標)ピーリングを行い、パターンの剥離がない
かどうかで評価した。 (抵抗値)ガラス基板上に、評価用ペーストを300メ
ッシュのポリエステルスクリーンを用いて全面に塗布
し、次いで、熱風循環式乾燥炉にて90℃で20分間乾
燥して指触乾燥性の良好な被膜を形成した。次に、この
被膜上に、白色系導電性ペースト(白層電極用)を20
0メッシュのポリエステルスクリーンを用いて全面に塗
布し、次いで、熱風循環式乾燥炉にて90℃で20分間
乾燥して指触乾燥性の良好な白黒二層の被膜を形成し
た。その後、光源をメタルハライドランプとし、パター
ン寸法100μm×10cmのネガマスクをもちいて、
組成物上の積算光量が500mJ/cm2となるように
全面露光した後、液温30℃の0.5wt%Na2CO3
水溶液を用いて現像を行い、水洗した。最後に空気雰囲
気下にて5℃/分で昇温し、550℃で30分間焼成し
て基板を作製した。こうして得られた焼成被膜について
抵抗値を測定した。 (層間導通)ITO膜付きガラス基板上に上記と同様の
方法により100μm×3cmのパターン形成を行っ
た。これにより得られた焼成皮膜の白層(上層)とIT
Oにテスターをあて導通の確認を行った。 (焼成後色調)ITO膜付きガラス基板上に上記と同様
の方法により3cm×10cmのパターン形成を行っ
た。これにより得られた焼成皮膜をガラス側から目視に
より観察し、色調の確認を行った。 (L*値)上記焼成後色調を確認した試験片を用いて色
彩色差計(ミノルタカメラ(株)製、CR−221)を
用いてL*a*b*表色系の値をJIS−Z−8729に
従って測定し、明度を表す指数であるL*値を黒色度の
指標として評価した。このL*値が小さいほど黒色度に
優れる。
With respect to the pastes of the composition examples 1 and 2 and the comparative composition examples 1 and 2 thus obtained, the adhesiveness,
The specific resistance value, interlayer conduction, color tone after firing, L value, and paste stability were evaluated. The evaluation method is as follows. (Paste Stability) 300 g each of the pastes of Composition Examples 1 and 2 and Comparative Composition Examples 1 and 2 were placed in a closed container.
After leaving it for 1 month at ℃, the state was confirmed. (Adhesion) A black and white two-layer coating formed on a glass substrate
Pattern exposure is performed using a negative film with a line / space of 50/100 μm, and then the liquid temperature is 30 ° C.
It was developed with a wt% Na 2 CO 3 aqueous solution, washed with water, and then fired to form a patterned fired substrate, and then subjected to Sellotape (registered trademark) peeling, and it was evaluated whether or not the pattern was peeled. (Resistance value) A paste for evaluation was applied on the entire surface of a glass substrate using a 300-mesh polyester screen, and then dried at 90 ° C. for 20 minutes in a hot air circulation type drying oven to obtain good touch dryness. A film was formed. Then, a white conductive paste (for the white layer electrode) is applied to the surface of the coating film in an amount of 20.
It was applied to the entire surface using a 0 mesh polyester screen, and then dried at 90 ° C. for 20 minutes in a hot air circulation type drying oven to form a black and white two-layer coating having good touch dryness. After that, a metal halide lamp was used as a light source, and a negative mask with a pattern size of 100 μm × 10 cm was used.
After exposing the entire surface so that the integrated light amount on the composition becomes 500 mJ / cm 2 , 0.5 wt% Na 2 CO 3 at a liquid temperature of 30 ° C.
It was developed using an aqueous solution and washed with water. Finally, the temperature was raised at 5 ° C./min in an air atmosphere, and the substrate was baked at 550 ° C. for 30 minutes. The resistance value of the fired film thus obtained was measured. (Interlayer conduction) A 100 μm × 3 cm pattern was formed on the glass substrate with the ITO film by the same method as described above. The white layer (upper layer) and IT of the fired film thus obtained
A tester was applied to O to confirm continuity. (Color tone after firing) A 3 cm × 10 cm pattern was formed on the glass substrate with the ITO film by the same method as described above. The fired film thus obtained was visually observed from the glass side to confirm the color tone. (L * value) Using the color difference meter (CR-221 manufactured by Minolta Camera Co., Ltd.) using the test piece whose color tone was confirmed after firing, the value of the L * a * b * color system was determined according to JIS-Z. The measurement was performed according to -8729, and the L * value, which is an index representing lightness, was evaluated as an index of blackness. The smaller the L * value, the better the blackness.

【0056】これらの評価結果を表1に示す。 (表1)表1に示す結果から明らかなように、本発明の
組成物に係るペーストは、比較組成物のペーストに比べ
て、密着性、抵抗値、層間導通、焼成後色調、L値が変
わらず、ペースト安定性が優れていることがわかる。
Table 1 shows the results of these evaluations. (Table 1) As is clear from the results shown in Table 1, the paste according to the composition of the present invention has an adhesiveness, a resistance value, interlayer conduction, a color tone after firing, and an L value, which are higher than those of the paste of the comparative composition. It can be seen that the paste stability remains excellent.

【0057】なお、上記評価用ペーストについて、現像
後のライン形状、焼成後のライン形状を評価したが、い
ずれも問題はなかった。これらの評価方法は、ガラス基
板上に形成した二層被膜を、ライン/スペース=50/
100μmとなるネガフィルムを用いてパターン露光
し、次いで、液温が30℃の1wt%Na2CO3水溶液
にて現像を行い、水洗し、その後、焼成してパターン焼
成基板を作成して評価すること以外は、上記抵抗値の評
価方法と同様である。その評価基準は、現像後のライン
形状については、現像まで終了したパターンを顕微鏡観
察し、ラインに不規則なばらつきがなく、よれ等がない
かどうかで評価し、焼成後のライン形状については、焼
成まで終了したパターンを顕微鏡観察し、ラインに不規
則なばらつきがなく、よれ等がないかどうかで評価し
た。
With respect to the above evaluation paste, the line shape after development and the line shape after firing were evaluated, but there was no problem in either case. According to these evaluation methods, the two-layer coating formed on the glass substrate was used as line / space = 50 /
Pattern exposure is performed using a negative film having a thickness of 100 μm, then development is performed with a 1 wt% Na 2 CO 3 aqueous solution having a liquid temperature of 30 ° C., washing is performed with water, and then firing is performed to form a patterned firing substrate for evaluation. Other than the above, the evaluation method for the resistance value is the same as the above. The evaluation criteria, for the line shape after development, microscopic observation of the pattern completed up to development, there is no irregular variation in the line, evaluated by whether there is no wrinkles, for the line shape after firing, The pattern after firing was observed under a microscope to evaluate whether there were irregular variations in the line and whether there was any deviation.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明したように本発明の光硬化性組
成物によれば、ペーストの長期保存安定性に優れ、乾
燥、露光、現像、焼成の各工程において基板に対する優
れた密着性、解像性、焼成性、黒さを有する白黒二層構
造のPDPバス電極における黒層(下層)を形成するこ
とができる。
As described above, according to the photocurable composition of the present invention, the paste has excellent long-term storage stability, and has excellent adhesion and solution to the substrate in each step of drying, exposure, development and baking. It is possible to form a black layer (lower layer) in a PDP bus electrode having a black-and-white two-layer structure having image quality, firing property, and blackness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】面放電方式のAC型PDPの部分分解斜視図で
ある。
FIG. 1 is a partially exploded perspective view of a surface discharge type AC PDP.

【図2】本発明の光硬化性組成物を用いてPDPのバス
電極を形成する工程例の概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a process example of forming a bus electrode of PDP using the photocurable composition of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 前面ガラス基板 2a,2b 表示電極 3,3a,3b 透明電極 4,4a,4b バス電極 5 透明誘電体層 6 保護層 11 背面ガラス基板 12 リブ 13 アドレス電極 14a,14b,14c 蛍光体膜 20 黒層(下層) 21 白色系導電層(上層) 20a 黒層(下黒)電極 21a 白層(上層)電極 1 Front glass substrate 2a, 2b display electrodes 3,3a, 3b Transparent electrode 4,4a, 4b Bus electrode 5 Transparent dielectric layer 6 protective layer 11 Rear glass substrate 12 ribs 13 address electrodes 14a, 14b, 14c Phosphor film 20 Black layer (lower layer) 21 White conductive layer (upper layer) 20a black layer (lower black) electrode 21a White layer (upper layer) electrode

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)無機バインダーで被覆された黒色
無機微粒子、(B)有機バインダー、(C)光重合性モ
ノマー、及び(D)光重合開始剤を含有することを特徴
とする光硬化性組成物。
1. A photocurable composition, comprising: (A) black inorganic fine particles coated with an inorganic binder, (B) an organic binder, (C) a photopolymerizable monomer, and (D) a photopolymerization initiator. Sex composition.
【請求項2】 さらに、(E)導電性粉末を含有するこ
とを特徴とする請求項1に記載の組成物。
2. The composition according to claim 1, further comprising (E) a conductive powder.
【請求項3】 さらに、(F)シリカ粉末を含有するこ
とを特徴とする請求項1または2に記載の組成物。
3. The composition according to claim 1, further comprising (F) silica powder.
【請求項4】 無機バインダーで被覆された黒色無機微
粒子(A)が、黒色無機微粒子と無機バインダーとの溶
融物を粉砕したものであることを特徴とする請求項1乃
至3のいずれか一項に記載の組成物。
4. The black inorganic fine particles (A) coated with an inorganic binder are obtained by crushing a melt of the black inorganic fine particles and the inorganic binder. The composition according to.
【請求項5】 無機バインダーで被覆した黒色無機微粒
子(A)における黒色無機微粒子/無機バインダーの配
合比率が黒色無機微粒子100質量部に対して無機バイ
ンダー30〜400質量部であることを特徴とする請求
項4に記載の組成物。
5. The black inorganic fine particles (A) coated with the inorganic binder have a blending ratio of black inorganic fine particles / inorganic binder of 30 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the black inorganic fine particles. The composition according to claim 4.
【請求項6】 前記黒色無機微粒子が、ルテニウム酸化
物、ルテニウム化合物、銅−クロム系黒色複合酸化物、
銅−鉄系黒色複合酸化物及びコバルト系酸化物のいずれ
か少なくとも1種類であることを特徴とする請求項1乃
至5のいずれか一項に記載の組成物。
6. The black inorganic fine particles are ruthenium oxide, ruthenium compound, copper-chromium black composite oxide,
6. The composition according to claim 1, wherein the composition is at least one of a copper-iron-based black composite oxide and a cobalt-based oxide.
【請求項7】 前記黒色無機微粒子の平均粒径が0.1
μmより小さいことを特徴とする請求項1乃至6のいず
れか一項に記載の組成物。
7. The average particle size of the black inorganic fine particles is 0.1.
7. The composition according to claim 1, wherein the composition is smaller than μm.
【請求項8】 無機バインダーで被覆した黒色無機微粒
子(A)の配合量が、有機バインダー(B)100質量
部当り0.1〜300質量部であることを特徴とする請
求項1乃至7のいずれか一項に記載の組成物。
8. The compounding amount of the black inorganic fine particles (A) coated with an inorganic binder is 0.1 to 300 parts by mass per 100 parts by mass of the organic binder (B). The composition according to any one of claims.
【請求項9】 前記無機バインダーは、軟化点400〜
600℃のガラス粉末であることを特徴とする請求項1
乃至8のいずれか一項に記載の組成物。
9. The softening point of the inorganic binder is 400 to 400.
It is glass powder of 600 degreeC, It is characterized by the above-mentioned.
9. The composition according to any one of items 8 to 8.
【請求項10】 フィルム状に成形されていることを特
徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の組成
物。
10. The composition according to claim 1, which is formed into a film.
【請求項11】 前記請求項1乃至10のいずれか一項
に記載の光硬化性組成物の焼成物から白黒二層構造の電
極回路における黒層が形成されてなるプラズマディスプ
レイパネル。
11. A plasma display panel in which a black layer in an electrode circuit having a black and white two-layer structure is formed from a fired product of the photocurable composition according to any one of claims 1 to 10.
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