JP2003126461A - 立体画像表示遊技機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ゴーストを減少し、遊技者が明るい環境におい
ても立体像を十分に見ることができる。 【解決手段】 弾球遊技機２０１の内部には、立体画像
２０８を遊技者２０７に表示する立体画像表示装置２０
２を備えている。この立体画像表示装置２０２の遊技者
側に窓２１４を位置させ、立体画像表示装置２０２で生
成した立体画像２０８を前記窓２１４の遊技者側で実像
として形成するように構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、立体画像表示遊技
機、更に詳しくは遊技機において行う種々の演出を立体
画像を通じて行うようにしたものであって、特にゴース
トを防止して立体画像を表示するようにした立体画像表
示遊技機に関し、パチンコ遊技機に代表される弾球遊技
機、スロットマシンに代表されるコイン遊技機、遊園地
等に設置されるアミューズメントマシン等に応用するの
に適した立体画像表示遊技機に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、遊技に関する立体画像を遊技
者に表示する立体画像表示装置を備える弾球遊技機等の
遊技機としては、例えば、特開平１１−１５１３５２号
公報にて、液晶表示器、ビームスプリッタおよび凹面鏡
を用いるものが提案されている。さらに、他の従来のシ
ステムにおいては、外部目的物からの光、例えば窓やガ
ラス戸のような光学的なシステムの外側からの光は観察
穴から入り、凹面鏡で反射し、そしてシステム内の焦点
へ到達する。外部目的物又は「窓」のゴーストは視野内
での装置の内側に浮かぶその目的物の「さかさま」の像
として見えるであろう。これは、映像システムの外側に
位置する明るい光源が存在しない領域内で独占的に装置
が使用されることを要求する実像映像システムにとって
の共通の問題である。商業的応用のための実像の映像化
は比較的新しい技術であり、操縦室領域が極度に暗かっ
たのでゴーストは些細なことであった飛行シミュレーシ
ョンにその基礎を有する。今日の発明はそのようなシス
テムの拡張された用途や完全に照明されている稼働中の
雰囲気（例えばオフィス、商業的ショー及びプロムナー
ド風商店街あるいはゲーム場、パチンコ店）への導入を
考慮している。ゴーストの減少に対する各アプローチは
その適用に基づく利点を持つ。ＣＰウインドー又は円偏
光の窓は他のアプローチに比べて著しく減少した実像の
明るさを持つ。しかしながら、ゴーストの強さは実像の
強さに比べて著しく減少している。５０／５０ビームス
プリッタと８５％反射用凹面鏡を備えた同一のシステム
においては、提案された傾斜システムはゴーストの０％
伝播を伴う３Ｄ映像光の２１．３％又はゴースト対３Ｄ
映像光の明るさ比１：０を伝播するであろう。着色され
たビームスプリッタは１．４３：１の比率を持つのに対
し、円偏光の窓は次の第１表に示すように４７：１の比
率を持つ。明るさの低い出力を持つＬＣＤモニターの利
用を伴えば、可能な最も高い映像伝播の達成が必要であ
る。

【０００３】

【表１】

【０００４】表１に示すように、提案された「傾斜」シ
ステムはターゲットの明るさの２１．３％を伝播させる
であろう。このことは現存システムのデザインを超えた
実質的な増加を表す。円偏光の窓は４７：１の比率を持
ち、オン軸システムで使用することができる。各方法は
特別の応用に基づく利点を持ち、多くの場合、方法の組
合せを使用することができる。

【０００５】図２６は従来技術であり、従来の「ＷＡ
Ｃ」窓システムとそのシステムの外側からの迷い光線の
ゴースト効果を示す。そのシステムは主に、ゴーストが
重要な問題ではない、制御された照明条件の下での無限
大表示システムとして使用される。ＷＡＣ無限大システ
ムと従来の実像システムの構成はターゲットがどこに位
置するかでのみ異なる。もしシステムが３０”半径球面
ミラー（１２）と結合しているなら、焦点（半径／２）
に、又はターゲット光線路に沿う前記ミラーの頂点から
１５”にターゲットを設けると、視準された光線又は近
無限大像を作るであろう。ターゲットを前記ミラーから
１６”移動させると、前記ミラーから２４０”離れて実
像を作るであろう。前記ミラーから１４”にターゲット
を移動させると、前記ミラーの後方に虚像を作るであろ
う。ＷＡＣ窓の場合、外側の光源（ＧＳ）はシステム
（２０）に入り、遊技者に見えるゴースト（ＧＲ）を形
成する。飛行シミュレーションにおけるゴーストは重要
な問題ではない。何故ならそのシステムは低光雰囲気又
は操縦室内で使用されるからである。ゴーストは、例え
ば明るく照明された公共のエリア内の宣伝のような用途
のために、明るいエリア内でシステムを使用する時にの
み、問題となる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の従来例
は、ゴーストを減少しても、遊技者は、明るい環境にお
いて立体像が十分に見えないという問題点があった。そ
こで、本発明は、ゴーストを減少し、ゲーム場あるいは
パチンコ店等で遊技を行う遊技者が明るい環境において
も立体像を十分に見ることができる弾球遊技機、スロッ
トマシン等の立体画像表示遊技機を提供することを目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１の本発明は、遊
技機の内部に立体画像表示装置を位置させると共に、こ
の立体画像表示装置の遊技者側に窓を位置させ、立体画
像表示装置で生成した立体画像を前記窓の遊技者側で実
像として形成するように構成したことを特徴とする立体
画像表示遊技機である。ここで、窓とは、透光性を有す
れば足り、透明プラスチック、ガラス等の他に、偏光ガ
ラス等を含むものである。請求項２の発明は、遊技機の
内部に立体画像表示装置を位置させると共に、この立体
画像表示装置の遊技者側に窓を位置させ、その窓の遊技
者側に、遊技機と遊技機外部とを遮蔽する遮蔽板を位置
させ、立体画像表示装置で生成した立体画像を前記遮蔽
板の遊技者側で実像として形成するように構成したこと
を特徴とする立体画像表示遊技機である。ここで、遮蔽
板とは、遊技機と遊技者との間を遮蔽できるものであれ
ば足り、パチンコ遊技機にあっては遊技者側のガラス板
とすることができる。この場合には、パチンコ遊技機の
遊技者側で実像が形成されることとなる。請求項３の発
明は、遊技機の内部に立体画像表示装置を位置させると
共に、この立体画像表示装置の遊技者側に窓を位置さ
せ、その窓の遊技者側に、遊技機と遊技機外部とを遮蔽
する遮蔽板を位置させ、立体画像表示装置で生成した立
体画像を前記窓と遮蔽板との間で実像を形成するように
構成したことを特徴とする立体画像表示遊技機である。
この場合、遊技機がパチンコ遊技機であった場合には、
盤面とガラス板との間で実像が形成されることとなる。
請求項４の発明は、立体画像表示装置として、 ａ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含む、
そして光を放射し、伝播させ又は反射させるすべての目
的物とすることができる現実の目的物又はターゲット目
的物、 ｂ）前記ターゲット目的物と凹面鏡面の概略の光学中心
との間の一つの仮想線を表す第一の入力光線路又は「タ
ーゲット軸」、 ｃ）前記ターゲット軸に対して５度と２０度の間の角度
で傾斜し、そして前縁が後縁より視軸に対して低い、シ
ステムの観察穴に最も近い凹面鏡、 ｄ）前記凹面鏡の光学軸に対して限定されないが約４５
度の傾斜角で、前記ターゲット目的物と前記凹面鏡との
間に設けられたビームスプリッタ又は部分反射要素を備
えた立体画像表示遊技機である。請求項５の本発明は、
システムの軸又は光線路と一致しない凹面鏡の光学軸に
関して位置決めされた傾斜凹面鏡を使用するオフ軸構成
における立体画像表示遊技機において、 ａ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含む、
そして光を放射し、伝播させ又は反射させるすべての目
的物とすることができる現実の目的物又はターゲット目
的物、 ｂ）前記ターゲット目的物と凹面鏡面の概略の光学中心
との間の一つの仮想線を表す第一の入力光線路又は「タ
ーゲット軸」、 ｃ）前記ターゲット軸に対して５度と２０度の間の角度
で傾斜し、そして前縁が後縁より視軸に対して低い、シ
ステムの観察穴に最も近い凹面鏡、 ｄ）前記凹面鏡の光学軸に対して限定されないが約４５
度の傾斜角で、前記ターゲット目的物と前記凹面鏡との
間に設けられたビームスプリッタ又は部分反射要素であ
って、前記凹面鏡に最も近い前記ビームスプリッタの頂
部は前記ターゲット目的物に最も近い位置にあるその底
部端よりシステムの観察穴からの距離が大きい位置にあ
ること、前記ビームスプリッタの部分反射被覆又は前記
ビームスプリッタの前面又は前記凹面鏡と観察穴に向い
た側に位置すること、そして、前記ターゲット目的物か
ら前記凹面鏡へのターゲット軸又は光線路は前記ビーム
スプリッタの伝播に関しての明るさのレベルで前記ビー
ムスプリッタを貫いて伝播することを特徴とするビーム
スプリッタ又は部分反射要素、 ｅ）前記ビームスプリッタを通過し、５度と２０度の間
で前記凹面鏡の光学軸と一致しない角度で前記凹面鏡と
突き当たるターゲット目的物からのターゲット軸又は分
散映像光線路であって、反射光線路又は映像軸は前記凹
面鏡の光学軸に関して前記ターゲット軸と余角をなして
前記凹面鏡の表面で反射すること、そして前記映像軸は
前記ターゲット軸に関して前記凹面鏡の傾斜角の２倍に
等しい角度で前記観察穴から離れる方向に反射すること
を特徴とするターゲット軸又は分散映像光線路、 ｆ）前記ビームスプリッタの反射面に突き当たり、前記
ビームスプリッタで余角をなして反射して前記観察穴に
向かう映像軸又は収束光線路であって、前記映像軸の一
部分は、前記ビームスプリッタが前記凹面鏡の光学軸に
対して４５度の位置にあると仮定して、前記ターゲット
軸に対して９０度であり、システムの視軸に平行である
こと、そして前記ターゲット目的物の位置を移動させる
と実像の位置を移動させるであろうことを特徴とする映
像軸又は収束光線路、 ｇ）片側又は両側に非反射被覆を施してもよい、システ
ムへの光学前面窓、 ｈ）システムの焦点において、又は放物面としての凹面
鏡の焦点距離の２倍に等しい距離において、又は１Ｘ倍
率を仮定して球面の半径に等しい距離において視軸に沿
って位置決めされた実像であって、ターゲット目的物は
前記凹面鏡からの前記凹面鏡の半径に等しい距離に設け
られること、そしてその位置は拡大された、又は縮小さ
れた実像を作るためにその焦点と違えてもよいことを特
徴とする実像、 ｉ）視軸に沿って実像の後方に設けられたビームスプリ
ッタを介して見られ、そして光を放射し、伝播させ、又
は反射するすべての物であってもよい光学背景目的物又
はモニター又は投射スクリーン、 ｊ）前記モニター又はターゲット目的物が違った位置に
置き換えられることを可能にするように光線路を向け直
すための前記ターゲット軸に沿った折重ねミラー、 ｋ）システムの外側の外部目的物からの光線路であっ
て、前記観察穴から入り、前記ビームスプリッタで反射
し、それから傾斜凹面鏡で反射して収束光線路となって
前記ビームスプリッタの低端に向かい、次に余角をなし
て前記ビームスプリッタで反射し、次に前面窓又は観察
窓の下の一点に向かい、そのため遊技者には見えないこ
とを特徴とする光線路、 ｌ）装置の外側から視軸に沿って見える光学的ハウジン
グの内側に面する観察穴の下に設けられ、そして視軸に
沿って光線漏れ防止部の黒面の実像を形成してシステム
のコントラストを高める光線漏れ防止部又は平らな黒面
と、により構成されることを特徴とする立体画像表示遊
技機である。

【０００８】請求項６の本発明は、システムの軸又は光
線路と一致しない光学軸に関して位置決めされた傾斜凹
面鏡を使用したオフ軸構成における立体画像表示遊技機
において、 ａ）システムの方向が、システムを回転させ、ターゲッ
トと実像を入れ替えることにより、逆になることを除い
て、請求項５に類似するオフ軸システムであって、前記
凹面鏡は、システムの視軸に沿って設けられ、その頂端
が観察穴に向かって傾いていていること、前記ビームス
プリッタは、前記凹面鏡に面して、観察穴の反対側にあ
る裏面に半透明の反射被覆を施されて設けられているこ
と、この構成における分散光線路は、前記ターゲット目
的物から前記ビームスプリッタへ移動し、前記ビームス
プリッタで反射して視軸と一致しない角度で前記凹面鏡
の方へ向かい、そして前記傾斜した凹面鏡に突き当たる
こと、次に光線路は前記反射ミラーの光学軸と前記ビー
ムスプリッタで反射して前記凹面鏡へ向かう光線の角度
との間の角度の２倍に等しい余角で前記凹面鏡から反射
すること、そして収束光線となって前記ビームスプリッ
タを通過して視軸に沿って実像を形成することを特徴と
するオフ軸システム、 ｂ）装置の外側の外部目的物からの光線路であって、観
察穴から入り、前記ビームスプリッタを通過し、前記傾
斜凹面鏡で反射し、収束光線路となって前記凹面鏡の光
学軸に対し余角をなして下向きに導かれ、それから前記
ビームスプリッタに戻ってそれを貫通し、前記前面窓又
は観察穴の下の一点に導かれてそのため遊技者に見えな
くなることを特徴とする光線路、 ｃ）システム上方のターゲット軸に沿って設けられ、そ
して前記ビームスプリッタで反射し、視軸に沿って前記
ビームスプリッタの後方に虚像を形成する第二の背景目
的物又はモニター、 ｄ）システムの外側から視軸に沿って見える、光学ハウ
ジングの内側に面した観察穴の下に設けられた光線漏れ
防止部又は黒面であって、その光線漏れ防止部は前記視
軸に沿ってその光線漏れ防止部の黒面に実像を形成し、
前記観察穴を介してシステムを見る時スクリーンが黒く
見えるようにシステムのコントラストを高めることを特
徴とする光線漏れ防止部又は平らな黒面と、により構成
されることを特徴とする立体画像表示遊技機である。

【０００９】請求項７の本発明は、中性密度のビームス
プリッタを使用するオン軸又はオフ軸構成における立体
画像表示遊技機において、 ａ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含んで
おり、光を放射し、伝播させ、又は反射させるすべての
目的物とすることができる現実の目的物又はターゲット
目的物、 ｂ）前記ターゲット目的物と凹面鏡表面の概略の光学中
心との間の仮想線を表す第一の入力光線路又は「ターゲ
ット軸」、 ｃ）ターゲット軸又は請求の範囲第５項に記載された傾
斜したオフ軸と一致した光学軸を有する凹面鏡、 ｄ）前記凹面鏡の光学軸に対して限定されないが約４５
度の傾斜角度で位置決めされた、ターゲット目的物と凹
面鏡との間の第一の光線路に沿って設けられたビームス
プリッタ又は部分反射要素であって、部分反射被覆が施
されたガラス基板は中性密度の材料で作られているこ
と、中性密度は可視光線スペクトルに対する各光線の相
応に均等な量を吸収する材料に当てはまること、吸収さ
れた青い光の量は吸収された赤い光の量に相応に近似し
ていること、中性密度の吸収は現実の又はターゲット目
的物と比較して実像の色の完全性を保証することを特徴
とするビームスプリッタ又は部分反射要素、 ｅ）中性密度の基質を通過することなく前記ビームスプ
リッタの被覆で反射し、前記凹面鏡に突き当たるターゲ
ット目的物からのターゲット軸又は分散映像光線路であ
って、光はその時前記凹面鏡の表面で反射して収束光線
路となり、次に前記ビームスプリッタの被覆、それから
中性密度の基質を貫いて伝播すること、そして、中性密
度の材料はその中性密度の材料の吸収率に等しい量だけ
光の強度を減少させることを特徴とするターゲット軸又
は分散映像光線路、 ｆ）片側又は両側に非反射性被覆を含んでもよい、シス
テムの光学前面窓、 ｇ）システムの焦点において、又は放物面としての凹面
鏡の焦点距離の２倍に等しい距離において、又は１Ｘ倍
を仮定して、曲面球体の半径に等しい距離において視軸
に沿って設けられた実像であって、前記ターゲット目的
物は前記凹面鏡の半径に等しい前記凹面鏡からの距離に
設けられていること、そしてその位置は拡大された、又
は縮小された実像を作るためにその焦点と違えてもよい
ことを特徴とする実像、 ｈ）視軸に沿って実像の後方に設けられた前記ビームス
プリッタを介して見られ、そして光を放散し、伝播さ
せ、又は反射させるすべてのものとすることができる光
学的背景目的物又はモニター又は投射スクリーン、 ｉ）前記モニター又はターゲット目的物が違った位置に
置き直されることができるように光線路を向け直すため
のターゲット軸に沿う光学的折重ねミラー、 ｊ）観察穴から入り、そして中性密度のビームスプリッ
タ基質を介して伝播し、かくして中性密度の材料の吸収
率に等しい量だけ光の強さを減らす、システムの外側の
外部目的物からの光線路であって、光はその時前記ビー
ムスプリッタの被覆を貫いて伝播して次に前記凹面鏡で
反射すること、それから収束光線路となって前記ビーム
スプリッタの被覆を貫いて伝播して次に中性密度の基質
を貫いて伝播し、そして光の強さは再び中性密度の材料
の吸収率に等しい割合だけ減少すること、そして、ゴー
ストはただ一回だけ中性密度の材料を通過する前記ター
ゲット目的物からの実像映像光に比べて２回中性密度の
吸収材料を通過することにより減少することを特徴とす
る光線路、 ｋ）オン軸ミラーシステム又は請求の範囲第５項に記載
されたオフ軸傾斜ミラーシステムにおいて中性密度のビ
ームスプリッタを使用する構成と、により構成されるこ
とを特徴とする立体画像表示遊技機である。

【００１０】請求項８の本発明は、中性密度の窓を使用
するオン軸又はオン軸構成における立体画像表示遊技機
において、 ａ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含む、
光を放射し、伝播させ又は反射させるすべての目的物と
することができる現実の目的物又はターゲット目的物、 ｂ）吸収値が１０％乃至５０％の中性密度の材料から成
り、そして片側又は両側に非反射性の被覆を含んでもよ
い窓、 ｃ）前記ターゲット軸と一致する光学軸又は請求の範囲
第５項又は第６項に記載された傾斜オフ軸を有する凹面
鏡、 ｄ）前記凹面鏡の光学軸に対し、限定されないが、約４
５度の傾斜角度に位置決めされ、前記ターゲット目的物
と前記凹面鏡との間の第一の光線路に沿って設けられた
ビームスプリッタ又は部分反射要素、 ｅ）システムの焦点において、又は放物面としての凹面
鏡の焦点距離の２倍に等しい距離において、又は１Ｘ倍
率を仮定して曲面球体の半径に等しい距離において視軸
に沿って設けられた実像であって、前記ターゲット目的
物は前記凹面鏡の半径に等しい前記凹面鏡からの距離に
設けられていること、そしてその位置は拡大された、又
は縮小された実像を作るためにその焦点と違えてもよい
ことを特徴とする実像、 ｆ）視軸に沿って実像の後方に設けられたビームスプリ
ッタを介して見られ、そして光を放射し、伝播させ又は
反射させるすべてのものとすることができる光学背景目
的物又はモニター又は投射スクリーン、 ｇ）モニター又はターゲット目的物が違う位置に置き直
されることを可能にするように光線路を向け直すための
前記ターゲット軸に沿う光学折重ねミラー、 ｈ）前記ターゲット目的物からの分散光線が前記ビーム
スプリッタを貫いて伝播し、前記凹面鏡に突き当たる光
線路であって、前記凹面鏡から反射して収束した光線路
は前記ビームスプリッタで反射し、前記中性密度の窓を
通過し、そして自由空間においてシステムの外側で実像
を形成すること、代替の構成において前記ターゲット目
的物からの光は前記ビームスプリッタで反射して前記凹
面鏡の表面に向かい、そして分散光線となって前記中性
密度の窓を貫いて伝播し、実像を形成すること、そして
いずれか一方の構成において前記中性密度の窓を通過す
る光は中性密度の吸収材料の吸収率だけ減少することを
特徴とする光線路、 ｉ）前記観察穴から入り、前記中性密度の窓を貫いて伝
播し、かくして前記中性密度の材料の吸収率に等しい量
だけ光の強度を減少する、システムの外側の外部目的物
からの光線路であって、光はその時前記ビームスプリッ
タの被覆を貫いて伝播して次に前記凹面鏡で反射するこ
と、次に収束光線路となって前記ビームスプリッタを貫
いて伝播して次に再び前記中性密度の窓を貫いて伝播す
ること、光の強度は前記中性密度の材料の吸収率に等し
い割合だけ再び減少すること、そしてゴーストは一回だ
け前記中性密度の材料を通過する前記ターゲット目的物
からの実像映像光に比べて２回前記中性密度の吸収材料
を通過することにより減少することを特徴とする光線
路、 ｊ）オン軸ミラーシステム又は請求の範囲第５項及び第
６項に記載されたオフ軸傾斜ミラー装置において前記中
性密度の窓を使用する構成により構成されることを特徴
とする立体画像表示遊技機である。

【００１１】請求項９の本発明は、円偏光の窓を使用す
るオン軸又はオフ軸構成における立体画像表示遊技機に
おいて、 ａ）オン軸ミラーシステム又は請求の範囲第５項及び第
６項に記載されたオフ軸傾斜ミラーシステムにおいて前
記円偏光の窓を使用する構成、 ｂ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含む、
光を放射し、伝播させ、又は反射させるすべての目的物
とすることができる現実の目的物又はターゲット目的
物、 ｃ）円偏光基質により構成され、また、遊技者に面し
て、そして、装置の外側に設けられた線偏光フィルム及
び線偏光材の軸に対して４５度の固定軸で方向を定めら
れた１／４波長遅延フィルムにより構成された窓であっ
て、１／４波長遅延フィルムは線偏光フィルムとシステ
ムの内側との間に設けられなければならないこと、それ
ら二つの材料はその技術分野で通常知られた技術を使用
してはり合わされてもよいこと、それら二つの材料は窓
を形成するため二つの明確な基質の間でサンドウィッチ
にしてもよく、片側又は両側に非反射性被覆を含んでも
よいこと、そしてその二つの材料はまた非反射性被覆を
適用して分割したサンドウィッチとしてはり合わせても
よいことを特徴とする窓、 ｄ）前記ターゲット軸と一致する光学軸又は請求の範囲
第５項又は第６項に記載された傾斜オフ軸を有する凹面
鏡、 ｅ）前記凹面鏡の光学軸に対して、限定されないが、約
４５度の傾斜角度で位置決めされた、前記ターゲット目
的物と前記凹面鏡との間の第一の光線路に沿って設けら
れたビームスプリッタ又は部分反射要素、 ｆ）システムの焦点において、又は放物面としての凹面
鏡の焦点距離の２倍に等しい距離において、又は１Ｘ倍
率を仮定して前記曲面球体の半径に等しい距離において
視軸に沿って設けられた実像であって、前記ターゲット
目的物は前記凹面鏡の半径に等しい前記凹面鏡からの距
離に設けられていること、そしてその位置は拡大され
た、又は縮小された実像を作るためにその焦点と違えて
もよいことを特徴とする実像、 ｇ）視軸に沿って実像の後方に設けられたビームスプリ
ッタを介して見られ、そして光を放射し、伝播させ、又
は反射させるすべてのものとすることのできる光学背景
目的物又はモニター又は投射スクリーン、 ｈ）前記モニター又はターゲット目的物が違う位置にお
き直されることを可能にするように光線路を向け直すた
めの、前記ターゲット軸に沿う光学折重ねミラー、 ｉ）前記ターゲット目的物からの分散光線が前記ビーム
スプリッタを貫いて伝播し、前記凹面鏡に突き当たる光
線路であって、前記凹面鏡から反射して収束した光線路
は前記ビームスプリッタで反射し、円偏光の窓を通過
し、そして自由空間においてシステムの外側で実像を形
成すること、代替の構成において、前記ターゲット目的
物からの光は前記ビームスプリッタで反射して前記凹面
鏡の表面に向かい、そして分散光線となって前記円偏光
の窓を貫いて伝播し、実像を形成すること、いずれか一
方の構成において、前記円偏光の窓を通過する光は、そ
の光がその窓に突き当たる時偏光していないので、その
窓によって阻止されないこと、そして１／４波長遅延フ
ィルムは偏光していない光には相対的な効果を及ぼさ
ず、線偏光フィルムを通過してそのフィルム自身の吸収
率に基づいてのみ強度を減少させることを特徴とする光
線路、 ｊ）観察窓から入り、前記観察窓における線偏光フィル
ムを貫いて伝播し、かくして偏光材料の吸収率に等しい
量だけ光の強度が減る、システムの外側の外部目的物か
らの光線路であって、光はその時線偏光する（例えば垂
直方向に偏光する）こと、その垂直方向に偏光した光は
次に１／４波長遅延フィルムを貫いて伝播するため右円
偏光に変形されること、その光は次に前記ビームスプリ
ッタの被覆を貫いて伝播し、それから前記凹面鏡で反射
すること、前記右円偏光の光はミラーで反射する時左円
偏光に反転すること、その左円偏光の光の収束した光線
路は次に前記ビームスプリッタを貫いて伝播し、それか
らシステムを出る時再び１／４波長遅延フィルムを貫い
て伝播すること、その左円偏光した光は第一の通路上の
線偏光材を通過する時に形成される物から９０度（水平
方向）の位置での線形軸回りに回転すること、そしてそ
の水平方向に偏光した光は次に垂直方向偏光フィルムを
貫いて伝播することを阻止されることを特徴とする光線
路と、により構成されることを特徴とする立体画像表示
遊技機である。

【００１２】請求項１０の本発明は、 ａ）請求項５から９のいずれかに記載された構成、 ｂ）線偏光フィルム要素又は円偏光材により構成される
前面窓であって、前記円偏光材の場合、前記線偏光要素
は１／４波長遅延要素に比べて表示装置の外部に向けら
れなければならないことを特徴とする前面窓、 ｃ）表示装置を含む室内の外部光源の前方に設けられた
線偏光フィルムであって、線偏光材は偏光軸が前記シス
テムの窓の線偏光要素の軸に対して９０度となるように
方向を決めなければならないことを特徴とする線偏光フ
ィルム、 ｄ）室内の光源からの偏光した光は表示中前面窓の偏光
軸により阻止され、かくして光が装置に入ってゴースト
を形成するのを防ぐための構成と、により構成されるこ
とを特徴とする立体画像表示遊技機である。

【００１３】請求項１１の本発明は、用途がなお一層の
ゴースト減少を必要とするために請求項５から１０のい
ずれかに記載されたゴースト減少方法のすべての組合せ
により構成してもよいことを特徴とする立体画像表示遊
技機である。

【００１４】ゴースト効果の減少方法は、光を放出し、
伝播させ、又は反射させるすべての目的物があてはめら
れるターゲット目的物を含む虚像又は実像表示システム
に関している。目的物からの光は現実の目的物が存在し
ない自由空間においてその目的物の実像を形成する光学
構造体を介して導かれる。「傾斜オフ軸ミラー」の構成
と呼ばれる構成においては、このシステムはターゲット
目的物又は現実の目的物、そのターゲット目的物と凹面
鏡との間の光線路に置かれたビームスプリッタにより構
成され、その凹面鏡は通常の光線路軸に対してオフ軸に
置かれている。ビームスプリッタは、実質的に、限定的
ではないが、凹面鏡の光学軸に対して４５度の位置に設
けられる。一実施例においては、ターゲット目的物から
の光は、ビームスプリッタを通過して凹面鏡の方へ伝播
し、分散光線として導かれる。ビームスプリッタから凹
面鏡までの第一の光線路軸は凹面鏡の光学軸と一致しな
い角度にある。凹面鏡から反射した光は凹面鏡の光学軸
に対して第一の光線路の角度と余角をなして収束光線と
なる。それからその収束光線路はビームスプリッタで反
射し、視軸上の一点で交差し又は焦点に到達して、光学
構造体の前方の空間に実像を形成する。システムの窓穴
から入った光は、下方へ導かれ、そしてその観察用窓穴
の内側で外へ抜け出ることを阻止される。したがって、
遊技者にゴーストは観察されない。凹面鏡が傾斜したオ
フ軸となる角度は、垂直方向の視野とシステムの焦点距
離に依存して、５度と２０度の間とすることができる。
傾斜の最適角度は１０〜１５度で決定されてきた。こう
すれば、大部分のゴーストを排除し、可視映像システム
として許容可能なレベル内に光学収差や映像劣化を抑え
るであろう。

【００１５】第二の構成においては、中性密度のビーム
スプリッタがゴーストの光線を吸収するために使用され
る。ターゲット目的物又は現実の目的物からの光はその
ビームスプリッタで反射し、凹面鏡で反射し、それから
収束光線となってあらかじめ決定された量の光の強度
（例えば３０％）を吸収しながら中性密度の前記ビーム
スプリッタを通過する。ビームスプリッタは中性密度の
物質である。この物質は全可視色スペクトルにわたって
等しい割合で光を吸収し、かくして映像光の色の完全性
を維持する。それからその光は自由空間に像を結ぶ。外
側の光源からの光は観察用窓穴を通って入り、光の強度
を３０％だけ減らしながら中性密度のビームスプリッタ
を通過し、凹面鏡で反射し、そして再び中性密度のビー
ムスプリッタを通過して光の強度をさらに３０％だけ減
らす。この結果、実像の強度に比べて形成されるゴース
トの強度は著しく減少する。中性密度のビームスプリッ
タはオフ軸傾斜のミラーシステムと組み合わせて、又は
オン軸システムの中で使用することができる。

【００１６】第三の構成においては、中性密度の窓が使
用される。ターゲット目的物からの映像光は（例えば）
３０％だけ減少する。つまり、システムの外側の光源か
らの光は中性密度の窓を通過して、強度を３０％だけ減
らし、凹面鏡で反射し、そして中性密度の窓を通って出
て行きながら強度をさらに３０％だけ減らす。かくして
強度を著しく減少したゴーストが形成される。中性密度
の窓はオフ軸傾斜ミラー装置と組み合わせて、又はオン
軸システムの中で使用することができる。

【００１７】今一つの構成においては、窓は線偏光材と
１／４波長遅延フィルムを使用して製造される。これら
二つの要素は、１／４波長遅延フィルムが光学システム
の内側に向き、線偏光材が遊技者の方を向くように、は
り合わされる。ターゲット目的物又は現実の目的物から
の光はビームスプリッタを通って伝播し、凹面鏡で反射
する。それから分散光線となってビームスプリッタで反
射し、次に上記のはり合わせ窓を通過する。光は偏光し
ないので、その時光は窓を通過する。システムの外側か
らの光は窓を通過し、まず線形に偏光し（例えば垂直方
向に）、次に１／４波長遅延フィルムを通過しながら右
円形に偏光する。右円偏光の光はビームスプリッタで反
射して左円形に偏光し、凹面鏡で右円偏光として反射
し、それから再びビームスプリッタで左円偏光として反
射する。次に左円偏光した光は１／４波長遅延フィルム
を通過して、水平方向の偏光となる。それから水平方向
に偏光した光は前記はり合わせ窓の垂直方向偏光フィル
ムにより完全に阻止され、ゴースト光は遊技者の目には
見えない。円偏光用窓は傾斜したオフ軸システム又はオ
ン軸システムのいずれにおいても使用され得る。円偏光
材は左円形であっても右円形であってもよく、線偏光フ
ィルムは、１／４波長遅延フィルムの固定軸が線偏光フ
ィルムの軸に対して理論的な４５度の角度に維持される
限り、システムに対してどんな角度になってもよい。実
際の４５度の角度は選択されたフィルムの軸の誤差や精
度に依存して変化させてもよい。

【００１８】最後の構成においては、システムは線形又
は円形の偏光材を組み込んでおり、線偏光材は室内の照
明の前方に取り付けられている。その照明を覆う偏光フ
ィルムの軸はシステムの窓における線偏光材の軸に対し
て９０度の方向に向いている。照明からの偏光した光
（例えば垂直方向に偏光した光）はシステムの窓の線偏
光材（例えば水平方向に偏光する）に突き当たり、阻止
される。その光はシステムを貫通することができないの
で、像を結ぶことができず、したがって外側の照明のゴ
ーストは形成されず、何も見えない。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を、図面を参照し
て、その実施の形態に基づいて説明する。本発明は、立
体画像表示遊技機である図２２、図２３に示される弾球
遊技機２０１および図２４、図２５に示される回胴部２
２１を有するスロットマシン２２０に適用され、これら
の遊技に関する立体画像２０８を遊技者２０７に表示す
る立体画像表示装置２０２を備える。弾球遊技機２０１
は窓あるいは遮蔽板としてのフロントガラス２１４，２
１５を有し、スロットマシン２２０は、回胴部２２１お
よび表面パネル２２２を備える。立体画像２０８を遊技
者２０７に表示する立体画像表示装置２０２に関して、
以下説明する。

【００２０】図１はゴースト減少方法としての傾斜オフ
軸ミラーシステムの一つの構成を示す。光を放射し、伝
播させ、又は反射させる現実の目的物又はターゲット目
的（１６）はターゲット光線路又はターゲット軸（２
５）に沿って設けられている。ターゲット光線路又は
「ターゲット軸」（２５）は前記ターゲット目的物（１
６）と凹面鏡表面（３０）の概略の物理的中心との間の
仮想線を表している。凹面鏡（１２）はその凹面鏡の光
学軸（３１）が前記ターゲット軸（２５）の垂線に対す
る５度から２０度（Ｅ）の角度（Ａ）となるように傾斜
している。システムの観察穴又は窓（１１）に最も近い
前記凹面鏡（１２）の前端は視軸（２８）との関係で前
記凹面鏡（１２）の後端より低い位置に設けられてい
る。ビームスプリッタ又は部分反射要素（１３）は前記
ターゲット目的物（１６）と前記凹面鏡（１２）との間
で、前記凹面鏡（１２）の光学軸（３１）に対して限定
されないが約４５度の傾斜角度で設けられている。前記
凹面鏡（１２）に最も近い前記ビームスプリッタ（１
３）の頂端は前記ターゲット目的物（１６）に最も近い
その低端よりシステムの観察穴（１１）から離れた位置
に設けられている。前記ビームスプリッタ（１３）の部
分反射被覆又は半透明ミラー被覆は前記ビームスプリッ
タ（１３）の前面又は前記凹面鏡（１２）と前記観察穴
（１１）に面する側に位置決めされている。前記ターゲ
ット目的物（１６）から前記凹面鏡（１２）へのターゲ
ット軸又はターゲット光線（２５）は前記ビームスプリ
ッタ（１３）の伝播に関して明るさのレベルで前記ビー
ムスプリッタ（１３）を貫いて伝播する。前記ターゲッ
ト目的物（１６）からの分散した光線路（２５）は５度
と２０度との間で前記凹面鏡（１２）の光学軸（３１）
と一致しない角度（Ａ）で前記凹面鏡（１２）に突き当
たる。一つの最適の構成においては、「Ｅ」と「Ａ」と
「Ｂ」の角度は等しくすべきであると決められてきた。
反射光線路（２７）又は第一の映像軸は前記ターゲット
軸（２５）に関する前記凹面鏡（１２）の傾斜角度の２
倍（Ａ＋Ｂ）に等しい角度で前記観察穴（１１）から離
れる方向に、前記凹面鏡（１２）の光学軸（３１）に関
して前記ターゲット軸（２５）と余角（Ｂ）をなして反
射する。収束した光線路（２７）は前記ビームスプリッ
タ（１３）の反射面に突き当たり、それから前記ビーム
スプリッタ（１３）から前記観察穴（１１）の方へ余角
をなして反射する。映像軸の第二の部分又は視軸（２
８）は、前記ビームスプリッタ（１３）が前記凹面鏡
（１２）の光学軸（３１）に対して４５度の角度で設け
られていると仮定して、通常前記ターゲット軸（２５）
に対して９０度の角度であるべきであり、システムの視
軸（２８）に平行であろう。システムへの光学前面窓
（１１）は片側又は両側に非反射被覆を施してもよい。
実像（１７）は、収束した光線が交差する視軸（２８）
に沿って、又はＩＸ倍率を仮定して、放物面としての前
記凹面鏡（１２）の焦点距離の２倍に等しい距離に、も
しくは曲面球体の半径に等しい距離に、形成される。光
学背景目的物（１８）又はモニターは装置の後方に設け
てもよく、前記視軸（２８）に沿って前記実像（１７）
の後方に前記ビームスプリッタ（１３）を介して見ても
よい。前記ターゲット軸（２５）に沿っての光学重ねミ
ラー（１８）は前記モニター又はターゲット目的物（１
６）が違う位置（１６Ａ）に置き直すことが可能になる
ように光線路を向け直すために使用してもよい。システ
ムの外側に設けられた外部目的物（ＧＳ）からの光線
（Ｇ１）は前記観察穴（１１）から入り、前記ビームス
プリッタ（１３）で反射（Ｇ２）し、それから前記傾斜
した凹面鏡（１２）で反射（Ｇ３）して収束光線路とな
り、前記ビームスプリッタ（１３）の低い方の縁に向か
う。この光線路は次に前記ビームスプリッタ（１３）で
余角をなして反射（Ｇ４）し、前記前面窓又は観察穴
（１１）の下方の一点（ＧＲ）に向かい、光線漏れ防止
部に阻止されて、そのため遊技者に見えない。前記観察
穴（１１）の下方に設けられ、光学ハウジングの内側に
向けられている光線漏れ防止部（１４）又は平らな黒色
吸収面はシステムの外側から視軸（２８）に沿って見え
る。前記光線漏れ防止部（１４）は視軸（２８）に沿っ
て前記光線漏れ防止部の黒面の実像を形成し、システム
のコントラストを高め、そのため前記観察穴（１１）か
ら装置をのぞく時スクリーンは黒く見える。この図１は
光線路を反射用のミラー（１８）で折り重ねることによ
り第一のターゲット目的物（１６）を置き換え、又は代
用する光学ターゲット目的物の位置（１６Ａ）を示して
いる。もし二つのターゲット目的物（１６，１６Ａ）が
一緒に使用されるなら、前記折重ねミラー（１８）は部
分的に反射するビームスプリッタとなるはずである。そ
の光線路を折り重ねる時、光線漏れ防止部（３３）が前
記光学ターゲット目的物（１６Ａ）からの迷行する光が
前記凹面鏡（１２）に突き当たるのを防ぐために使用さ
れるべきである。前記ターゲット光線路（２５）に沿っ
て前記凹面鏡（１２）からの距離が異なる第一のターゲ
ット目的物（１６）と第二のターゲット目的物（１６
Ａ）を設けることにより、システムは前記視軸（２８）
に沿ってそれぞれ異なる点に二つの像（１７，１７Ａ）
を作るであろう。

【００２１】図２は図１に示すシステムの代替構成を示
す。この構成は、システムの方向が、システムを回転
し、前記ターゲット目的物（１６）と像の位置（１７）
とを入れ替え、そして傾斜角（Ｅ）を逆にすることによ
り、逆になることを除いて、図１と類似したオフ軸のシ
ステムを使用している。前記凹面鏡（１２）はシステム
の視軸（２８）に沿って設けられ、前記凹面鏡の頂端は
前方の前記観察穴（１１）の方に向かって角度（Ａ）だ
け傾斜している。前記ビームスプリッタ（１３）は、そ
の裏面が反射用被覆を施され、前記凹面鏡（１２）と向
かい合わせに、そして前記観察穴（１１）に対立させて
設けられている。この構成において分散した光線路（２
５）は前記ターゲット目的物（１６）から前記ビームス
プリッタ（１３）の方へ進み、前記ビームスプリッタ
（１３）で反射（１７）して前記視軸（３１）と一致し
ない角度（Ｂ）で前記凹面鏡（１２）の方へ向かい、そ
して前記凹面鏡（１２）と突き当たる。次にその光線路
は前記視軸（２８）に実質的に一致する余角（Ａ）で前
記凹面鏡（１２）から反射（２８）する。それから収束
光線路（２８）となって前記ビームスプリッタ（１３）
を貫いて伝播し、前記視軸（２８）に沿って実像（１
７）を形成する。システムの外側に設けられた外部目的
物（ＧＳ）からの光線（Ｇ１）は前記観察穴（１１）か
ら入り、前記ビームスプリッタ（１３）を貫いて伝播す
る。それからその光線は前記凹面鏡（１２）の光学軸
（３１）に関して入口角（Ｃ）と余角（Ｄ）をなして傾
斜した前記凹面鏡（１２）で反射（Ｇ２）し、そこで収
束した光線路（Ｇ２）は下方へ向かう。次にその光線路
は前記ビームスプリッタ（１３）を今度は逆方向に貫い
て伝播（Ｇ３）し、前記前面窓又は観察穴（１１）の下
方の一点（ＧＲ）に導かれ、そのため遊技者には見えな
い。第二の背景目的物（１８）又はモニターが前方のビ
ームスプリッタ（１３）の上方のターゲット光線軸（２
５）に沿って設けられている。前記第二の背景目的物
（１８）は前記ビームスプリッタ（１３）で反射し、前
記視軸（２８）に沿って前記ビームスプリッタの後方に
虚像（３２）を形成する。虚像を作るこの方法は１８６
３年に発明された「ペッパーのゴースト」法として参照
され、そして最初に発明されたような現実の目的物又は
写真をモニター又はＣＲＴで置換することはこの分野の
技術に通じていない人達に対しても明白である。光線漏
れ防止部（１４）又は平らな黒色吸収面は光学ハウジン
グの内側に面する観察穴（１１）の下方に設けられ、シ
ステムの外側から前記視軸（２８）に沿って見える。そ
の光線漏れ防止部（１４）は視軸（２８）に沿ってその
光線漏れ防止部の黒面の実像を形成し、システムのコン
トラストを高め、そのため前記観察穴を通してシステム
をのぞく時スクリーンは黒く見える。

【００２２】図３はコントラスト向上光線漏れ防止部
（１４）を示す。その光線漏れ防止部は光学システム
（Ｂ１）を介して映像を送り、凹面鏡（１２）で反射し
て構造物の外側で像を形成する。窓からシステムをのぞ
く時、平らな黒い光線漏れ防止部（１４）が見え、かく
して実像（１７）のコントラストを増大させる。

【００２３】図４は本発明で述べたようなオフ軸ミラー
（１２）の方向を示す。光は凹面鏡の光学軸（２６）に
対して角度（Ａ）で前記凹面鏡に突き当たる。その光は
次に余角の方向に反射（２７）する。

【００２４】図５はゴースト減少のために使用される円
偏光用窓の一例を示す。その窓は１／４波長遅延フィル
ムと、二つの明確な基質（１００，１０３）の間に挟ま
れ、サンドウィッチを形成するために互いにはり合わさ
れ、そしてそのサンドウィッチの外面に反射被覆を施す
ことができる線偏光フィルム（１０２）により構成され
る。１／４波長遅延フィルムはその固定軸が線偏光材の
軸に対して４５度の方向を向いている。これらの偏光板
としてのアセンブリ（１０）の軸は円偏光用窓（１０）
の機能に影響をもたらさないが、しかしながらこれらの
アセンブリ（１０）はビームスプリッタ（１３）に面し
て配置された１／４波長遅延フィルム（１０１）と遊技
者又は実像位置（１７）に面して配置された線偏光フィ
ルム（１０２）を持たなければならない。ターゲット目
的物（１６）からの非偏光分散光線（２５）は前記ビー
ムスプリッタ（１３）を貫いて伝播し、凹面鏡に突き当
たる。前記凹面鏡（１２）から反射した収束光線路は前
記ビームスプリッタ（１３）で反射して前記円偏光用窓
（１０）を通過し、自由空間においてシステムの外側で
実像（１７）を形成する。前記円偏光用窓（１０）は、
その光が前記円偏光用（１０）に突き当たる時偏光して
いないので、前記円偏光用窓（１０）により阻止される
ことはない。前記円偏光用窓（１０）の１／４波長遅延
フィルム（１０１）は偏光していない光に相対的効果を
持たないが、前記線偏光フィルム（１０２）を通過し
て、その線偏光フィルム（１０２）自身の吸収のみに基
づいて強度を減少させる。観察穴（１０）から入り、そ
の円偏光用窓（１０）の前記線偏光フィルム（１０２）
を貫いて伝播する、システムの外側の外部目的物（Ｇ
Ｓ）からの光線路（Ｇ１）は前記線偏光フィルム（１０
２）の吸収率に等しい量だけその光の強度を減少する。
それから前記線偏光フィルム（１０２）を通過する光は
線偏光する。説明の目的のため、その線偏光を「垂直」
と仮定する。次に、その偏光した光は前記１／４波長遅
延フィルム（１０１）を貫いて伝播するので、右円の偏
光に変形される。次にその右円偏光（Ｇ１）は前記ビー
ムスプリッタ（１３）の被覆で反射して左円偏光とな
る。右円偏光の光が前記凹面鏡（１２）の表面で反射す
る時、円偏光は右円偏光から左円偏光に反転する。それ
から左円偏光（Ｇ２）は前記凹面鏡（１２）で反射して
「右円」偏光の光（Ｇ３）となる。それからその右円偏
光（Ｇ３）の収束光線路は前記ビームスプリッタ（１
３）の被覆で反射し、再び左円偏光の光（Ｇ４）に反転
する。それからその左円偏光の光は、システムを出なが
ら、再び前記１／４波長遅延フィルム（１０１）を通過
する。その左円偏光の光は第一パスの軸に対して９０度
だけ線形（水平）に軸を回転させる。次にその水平方向
に偏光した光は垂直偏光フィルム（１０２）を貫いて伝
播するのを阻止され、そのためゴーストは遊技者により
前記円偏光用窓（１０）から見られない（ＧＲ）。

【００２５】図６は図５に示すシステムの第二の構成を
示す。外側のソース（ＧＳ）からの光は円偏光用窓（１
０）を通過し、まず線偏光フィルム（１０２）により線
偏光する。その「垂直」（例えばであるが）偏光した光
は、１／４波長遅延フィルム（１０１）を通過しなが
ら、右円偏光の光に変形される。それからその右円偏光
の光（Ｇ１）は、その右円偏光性を維持しつつ、ビーム
スプリッタ（１３）を通過して、次に凹面鏡（１２）で
反射する。その右円偏光の光が反射する時、その極性が
反転し、そこで右円偏光は左円偏光（Ｇ３）となる。そ
の左円偏光の光は、その極性を維持しつつ（Ｇ３）、前
記ビームスプリッタ（１３）を通過する。それからその
左円偏光の光（Ｇ３）は前記１／４波長遅延フィルム
（１０１）を通過し、回転して水平偏光となる。水平線
偏光の光は次に、前記の垂直偏光した線偏光フィルム
（１０２）に突き当たるため、阻止される。そのためゴ
ーストは遊技者により観察窓から見られない（ＧＲ）。

【００２６】図７及び図８はゴースト減少のために使用
されるオフ軸傾斜ミラー装置と円偏光部材の組合せを示
す。ゴースト減少用円偏光部材の詳細は図１０から図１
２までに詳細に示されている。円偏光部材は約９５％の
みが有効に作用し、そのことはゴーストのブリードスル
ーがあることを意味する。例えば大人達と同時に小さい
子供達によって見られるような、通常の視軸に沿って
の、そして視軸の意味ある下方の位置からの両方のゴー
スト全滅をシステムが要求する用途において、両者の組
合せが望ましい。図７において、傾斜したシステムから
のゴーストの視野は角度「Ｇ」で示され、実像が見える
視角の通常の視野は角度「」で示されている。二つの視
野が「Ｈ」だけ重なる視角「Ｆ」の低部で実像（１７）
を見ている小さい子供達はゴーストを見るであろう。円
偏光用窓と傾斜したオフ軸ミラーシステムの両方を組み
合わせることにより、ゴーストは個々の各方法に比べて
全視角に対して有意義に減少する。

【００２７】図９は、円偏光部材（７，８）を備えた、
図５に示すような、虚像又は実像のオン軸表示システム
の実像伝播特性を示す。初期の強度が１００％のターゲ
ット目的物（１６）からの光はビームスプリッタ（１
３）を貫いて伝播し、前記ビームスプリッタ（１３）の
反射率を５０％、そして伝播率を５０％と仮定して、明
るさは５０％に減少する。次に光線は反射率８５％の凹
面鏡（１２）で反射し、その結果４２．５％の強度（５
０％×８５％）となる。それから光線路は前記ビームス
プリッタ（１３）で５０％反射し、その結果２１．２５
％の強度（５０％×４２％）となる。さらに光線は４２
％の伝播値を持つ円形偏光部材（７，８）を通過し、そ
の結果光の強度が１０．５％（２１．２５％×４２％）
の実像（１７）となる。

【００２８】図１０は、円偏光部材（７，８）を備え
た、図５に示すような、虚像又は実像のオン軸表示シス
テムのゴースト伝播特性を示す。システムの外側のソー
ス（４）からの強度１００％の光は円偏光部材の窓
（７，８）を通過する。前記円偏光部材（７，８）は４
２％の伝播値を持ち、初期の光は４２％の強度に減少す
る。次にその光はビームスプリッタ（１３）で５％反射
し、その結果２１％の強度（４２％×５０％）となる。
それから光は反射率８５％の凹面鏡（１２）で反射し、
その結果１７．８５％の強度（２１％×８５％）とな
る。さらに光は前記ビームスプリッタ（１３）で再び反
射し、その結果８．９２５％の強度（１７．８５％×５
０％）となる。次に光は円偏光部材（７，８）に突き当
たり、阻止される（ＧＲ）。実際の円偏光部材は９５％
の効率であり、又は５％のブリードスルーを持つ。その
ため、ゴースト（ＧＲ）の強度は０．４５％（８．９２
５％×５．０％）である。５％のブリードスルーは最初
４５度の入射角を持つビームスプリッタ（１３）により
導かれる楕円偏光の結果物である。

【００２９】図１１は円偏光はシステム内のゴーストを
如何に減少するかを示す。システムの外側のソース
（４）からの不偏光の光は円偏光部材（７，８）のアン
センブリの偏光要素（８）を通過する。この例では、光
は、前記偏光要素（８）を通過しながら、水平に偏光す
る。次に光は前記円偏光部材（７，８）の１／４波長要
素（７）を通過し、右円偏光となる。それからその右円
偏光の光はビームスプリッタ（１３）で反射し、偏光は
左円偏光に反転する。次にその左円偏光の光は凹面鏡
（１２）で反射し、右円偏光の光として反射する。次に
その右円偏光の光は左円偏光の光として前記ビームスプ
リッタ（１３）で反射する。その左円偏光の光は前記１
／４波長要素（７）を通過し、極性は垂直偏光に移行す
る。そして、その垂直偏光の光は水平偏光部材（８）に
より阻止される。

【００３０】図１２は、円偏光部材（７，８）を備え
た、図６に示すような、虚像又は実像のオン軸表示シス
テムの実像伝播特性を示す。初期強度１００％の、ター
ゲット目的物（１６）からの光はビームスプリッタ（１
３）で反射し、そのビームスプリッタは５０％反射率で
５０％伝播率と仮定して、その明るさは５０％に減少す
る。それから光線は８５％反射率の凹面鏡（１２）で反
射し、その結果４２．５％強度（５０％×８５％）とな
る。次に光線は前記ビームスプリッタ（１３）を貫いて
５０％伝播し、その結果２１．２５％強度（５０％×４
２％）となる。さらに光線は４２％の伝播値を持つ円偏
光部材（７，８）を通過し、その結果実像（１７）の光
の強度は１０．５％（２１．２５％×４２％）となる。

【００３１】図１３は円偏光部材（７，８）を備えた、
図６に示すような、虚像又は実像のオン軸表示システム
のゴースト伝播特性を示す。強度１００％のシステムの
外側のソース（４）からの光は円偏光部材（７，８）の
窓を通過する。円偏光部材（７，８）は４２％（例えば
であるが）の伝播率を持ち、初期の光は４２％強度とな
る。それから光はビームスプリッタを貫いて５０％伝播
し、その結果２１％強度（４２％×５０％）となる。次
に光は８５％反射率の凹面鏡（１２）で反射し、その結
果１７．８５％強度（２１％×８５％）となる。次に光
は再び前記ビームスプリッタ（１３）を貫いて伝播し、
その結果８．９２５％（１７．８５％×５０％）強度と
なる。さらに光は前記円偏光部材（７，８）に突き当た
り、阻止される（ＧＲ）。実際の円偏光部材は９５％効
率であり、又は５％のブリードスルーを持つ。そのた
め、ゴースト（ＧＲ）の強度は０．４５％（８．９２５
％×５．０％）である。５％のブリードスルーは主に、
４５％の入射角を持つ、前記ビームスプリッタ（１３）
により導かれた楕円偏光の結果物である。

【００３２】図１４は円偏光が如何にシステム内のゴー
ストを減少させるのかを示す。システムの外側のソース
（４）からの無偏光の光は円偏光部材（７，８）のアセ
ンブリの偏光要素（８）を通過する。 その光は、その
偏光要素（８）を通過するので、水平に偏光する。それ
から光は円偏光部材（７，８）の１／４波長要素（７）
を通過し、右円偏光となる。次にその右円偏光の光は偏
光作用なくビームスプリッタ（１３）を貫いて伝播す
る。次にその右円偏光の光は凹面鏡（１２）で反射し、
その結果左円偏光となる。その左円偏光の光はさらに左
円偏光のままビームスプリッタ（１３）を貫いて伝播す
る。そしてその左円偏光の光は１／４波長要素（７）を
通過し、極性は垂直偏光に移行する。その垂直偏光の光
は次に水平偏光部材（８）により阻止される。

【００３３】図１５は実像又は虚像映像システムにおけ
るゴースト減少の方法としての中性密度のフィルター窓
（１０）を示す。中性密度のフィルターは可視光スペク
トルの波長の全幅から均等の割合の光を吸収するようデ
ザインされている。図１５におけるオン軸システムにお
いて、ターゲット目的物（１６）からの光の分散光線
（２５）はビームスプリッタ（１３）を６０％強度（例
えば４０％反射率で６０％伝播率）で通過して、例えば
８５％の反射率を持つ凹面鏡（１２）に突き当たる。そ
の光は反射して５１％強度（６０％×８５％）の収束光
線となり、次に前記ビームスプリッタ（１３）で反射し
て２０．４％強度（５１％×４０％）となる。それから
その光線（２８）は中性密度（ＮＤ）のフィルター窓
（１０）を通過する。そのＮＤフィルターの吸収率を３
０％と仮定すると、実像（１７）における光の最終強度
はターゲット目的物の明るさの１４．２８％換言すれば
７０％×２１．４％＝１４．２８％強度である。システ
ムの外側のソース（ＧＳ）からシステムに入る光（Ｇ
１）は中性密度「ＮＤ」のフィルター窓（１０）を通過
し、その強度は３０％だけ減少してその結果７０％とな
る。その光は４０％反射率／６０％伝播率のビームスプ
リッタ（１３）で反射し、４０％反射するのでその結果
２８％強度となる。その光（Ｇ２）は８５％の反射率を
持つ凹面鏡（１２）で反射するので、その凹面鏡（１
２）で反射した光（Ｇ３）は強度２３．８％（８５％×
２８％）となる。次にその光は再び前記ビームスプリッ
タ（１３）で反射率４０％で反射するので、その結果
９．５２％（２３．８％×４０％）強度となる。次にそ
の光は光の３０％を吸収する中性密度の窓（１０）を貫
いて伝播するので、その結果ゴーストの強度は６．７％
（９．５２％×７０％）となる。実像を形成するために
伝播する光の割合はゴーストに対する９．５２％と比べ
れば１４．２８％である。このタイプの光学的構成にお
いては、ゴーストの光が一回反射して一回伝播する実像
に比べて二回ビームスプリッタで反射するので、ビーム
スプリッタは反射率よりも高い伝播率を持つことが重要
である。

【００３４】図１６は中性密度「ＮＤ」のフィルター窓
を使用する光学システムに対する別の配置を示す。この
タイプの配置においては、最適のビームスプリッタは、
ゴーストの光が一回反射して一回伝播する実像の光に比
べて二回ビームスプリッタを貫いて伝播するので、反射
率よりも高い伝播率を備えたものである。これはゴース
トの強度と実像の強度との間でより大きな差異をもたら
す。

【００３５】図１７はオフ軸傾斜ミラーシステムにおい
て使用される中性密度のフィルター窓（１０）を備えた
システムを示す。この「ＮＤ」フィルター窓（１０）
は、光学配置が図１に述べたものに類似するオフ軸傾斜
ミラーシステムであることを除き、図１５に述べたもの
と同じように作動する。

【００３６】図１８はオフ軸傾斜ミラーシステムで使用
される中性密度のフィルター窓（１０）を備えたシステ
ムを示す。この「ＮＤ」フィルター窓（１０）は、光学
配置が図２で述べたものに類似のオフ軸傾斜ミラーシス
テムであることを除き、図１６で述べたものと同じよう
に作動する。

【００３７】図１９は３０％吸収率の中性密度のきれい
な基質の上に６０％反射率／４０％伝播率のビームスプ
リッタ被覆（１３）を使用するオン軸装置を示す。これ
らの比率はただ例示のために使用した。この用途におい
て、ビームスプリッタ被覆は中性密度のきれいな基質の
裏側又は凹面鏡（１２）に面する表側に適用される。外
部ソース（ＧＳ）からの光は窓の穴（１０）から入り、
３０％の吸収率又は７０％の伝播率を持つビームスプリ
ッタの中性密度の基質（１３）を貫いて伝播する。次に
その光は４０％伝播率のビームスプリッタ被覆を通過
し、その結果２８％の強度（７０％×４０％）となる。
次にその光は前記凹面鏡で８５％反射し、その結果２
３．８％の強度（２８％×８５％）となる。それからそ
の光は３０％の吸収率又は７０％伝播率を持つビームス
プリッタの中性密度の基質（１３）を貫いて伝播し、そ
の結果１６．６７％の強度（２３．８％×７０％）とな
る。その光は続いて４０％伝播率のビームスプリッタ被
覆を貫いて伝播し、その結果６．６７％の強度（１６．
６７％×４０％）となる。ゴーストの最終強度６．６７
％は実像の１４．２８％強度より十分小さい。

【００３８】図２０は、図１９に示すものと近似的に等
しいシステムを示すが、ただし、そのシステムはゴース
ト減少の第二の方法としてオフ軸傾斜ミラー装置（１
２）と結合する。これまでに述べられたゴースト減少の
種々の方法は特殊化された実像表示システムの用途と結
び付いた困難なゴースト減少の問題に解決を与えるため
に組み合わせて使用してもよい。

【００３９】図２１は本発明で述べたような典型的な実
像映像システムを示す。前面の窓（１０）は線偏光部材
により構成される。この窓はまた円偏光部材にしてもよ
い。表示室又は観察エリア内の光源（ＧＳ）は線偏光の
カバー（５０）で遮蔽されている。水平軸で線偏光部材
に突き当たる時の無偏光の光は水平に偏光した光として
伝播するであろう。水平軸で線偏光部材に突き当たる時
の水平偏光の光はその光のまま伝播するであろう。垂直
線偏光部材に突き当たるその水平偏光の光はその光が通
過するのを阻止するであろう。表示システムの窓（１
０）の線偏光要素が垂直軸で位置決めされたと仮定する
と、ランプの偏光カバー（１０）は前記窓（１０）の垂
直軸に対して水平軸に向くであろう。室内燈（ＧＳ）か
らの光は水平に偏光し（Ｇ１）、システムの前記窓に突
き当たり、その窓の線偏光部材の垂直偏光により阻止さ
れる。ランプカバーの偏光フィルム（５０）の軸は前記
窓（１０）の線偏光部材の軸に対して９０度でなければ
ならない。示されたシステムにおいては、ランプ（Ｇ
Ｓ）からの光は水平軸線偏光部材（５０）を通過し、水
平偏光の光（Ｇ１）になる。その水平偏光の光は前記窓
（１０）の垂直偏光部材のフィルムに突き当たり、シス
テムに入ることを阻止される。その水平偏光の光は前記
窓（１０）からシステムに入ることができないので、ゴ
ーストは形成されることができない。そのため光源（Ｇ
Ｓ）のゴーストは見えない。ターゲット（１６）からの
無偏光の光（２５，２８）は前記窓（１０）を通過し、
空間（１７）に実像を形成する。

【００４０】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように、ゴース
トを減少し、遊技者が明るい環境においても立体像を十
分に見ることができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を構成する実像投射器におけるオフ軸傾
斜ミラーでのゴースト減少をする構成図である。

【図２】本発明を構成する実像投射器におけるオフ軸傾
斜ミラーでのゴースト減少する構成図である。

【図３】本発明を構成するオフ軸システム用コントラス
ト高揚光線漏れ防止部の構成図である。

【図４】本発明を構成するオフ軸反射器の構成図であ
る。

【図５】本発明を構成するオン軸実像投射器における円
偏光用窓を使用するゴースト減少する構成図である。

【図６】本発明を構成するオン軸実像投射器における円
偏光用窓を使用するゴースト減少する構成図である。

【図７】本発明を構成するオン軸実像投射器における円
偏光用窓を使用するゴースト減少する構成図である。

【図８】本発明を構成するオフ軸実像投射器における円
偏光用窓を使用するゴースト減少する構成図である。

【図９】本発明を構成する映像システム内の映像光の伝
播図である。

【図１０】本発明を構成する映像システム内の外部光の
伝播図である。

【図１１】本発明を構成する映像システム内の外部光の
偏光図である。

【図１２】本発明を構成する映像システム内の映像光の
伝播図である。

【図１３】本発明を構成する映像システム内の外部光の
伝播図である。

【図１４】本発明を構成する映像システム内の外部光の
偏光図である。

【図１５】本発明を構成するオン軸実像投射器における
中性密度の窓を使用するゴースト減少する構成図であ
る。

【図１６】本発明を構成するオン軸実像投射器における
中性密度の窓を使用するゴースト減少する構成図であ
る。

【図１７】本発明を構成するオフ軸実像投射器における
中性密度の窓を使用するゴースト減少する構成図ある。

【図１８】本発明を構成するオフ軸実像投射器における
中性密度の窓を使用するゴースト減少する構成図であ
る。

【図１９】本発明を構成するオン軸実像投射器における
中性密度のビームスプリッタを使用するゴースト減少す
る構成図である。

【図２０】本発明を構成するオフ軸実像投射器における
中性密度のビームスプリッタを使用するゴースト減少す
る構成図である。

【図２１】本発明を構成するオン軸実像投射器における
偏光用窓と室内偏光照明カバーを使用するゴースト減少
する構成図である。

【図２２】本発明の弾球遊技機の実施の形態の断面図で
ある。

【図２３】本発明の弾球遊技機の実施の形態の全体正面
図である。

【図２４】本発明のスロットマシンの実施の形態の断面
図である。

【図２５】本発明のスロットマシンの実施の形態の全体
正面図である。

【図２６】従来技術のＷＡＣ窓の構成図である。

【符号の説明】

２０１ 弾球遊技機 ２０２ 立体画像表示装置 ２０７ 遊技者 ２０８ 立体画像 ２１４，２１５ フロントガラス ２２０ スロットマシン ２２１ 回胴部 ２２２
表面パネル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ケネス エス．ウェストート アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14901、 エルマイラ、イースト センター ストリ ート 301 Ｆターム(参考） 2C088 AA35 AA36 BC25 DA23 5C058 AA01 AB06 BA17 BA31 BA33 EA02 EA13 5C061 AA06 AA21 AA23 AB17

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 遊技機の内部に立体画像表示装置を位置
   させると共に、この立体画像表示装置の遊技者側に窓を
   位置させ、立体画像表示装置で生成した立体画像を前記
   窓の遊技者側で実像として形成するように構成したこと
   を特徴とする立体画像表示遊技機。
2. 【請求項２】 遊技機の内部に立体画像表示装置を位置
   させると共に、この立体画像表示装置の遊技者側に窓を
   位置させ、その窓の遊技者側に、遊技機と遊技機外部と
   を遮蔽する遮蔽板を位置させ、立体画像表示装置で生成
   した立体画像を前記遮蔽板の遊技者側で実像として形成
   するように構成したことを特徴とする立体画像表示遊技
   機。
3. 【請求項３】 遊技機の内部に立体画像表示装置を位置
   させると共に、この立体画像表示装置の遊技者側に窓を
   位置させ、その窓の遊技者側に、遊技機と遊技機外部と
   を遮蔽する遮蔽板を位置させ、立体画像表示装置で生成
   した立体画像を前記窓と遮蔽板との間で実像を形成する
   ように構成したことを特徴とする立体画像表示遊技機。
4. 【請求項４】 立体画像表示装置として、 ａ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含む、
   そして光を放射し、伝播させ又は反射させるすべての目
   的物とすることができる現実の目的物又はターゲット目
   的物、 ｂ）前記ターゲット目的物と凹面鏡面の概略の光学中心
   との間の一つの仮想線を表す第一の入力光線路又は「タ
   ーゲット軸」、 ｃ）前記ターゲット軸に対して５度と２０度の間の角度
   で傾斜し、そして前縁が後縁より視軸に対して低い、シ
   ステムの観察穴に最も近い凹面鏡、 ｄ）前記凹面鏡の光学軸に対して限定されないが約４５
   度の傾斜角で、前記ターゲット目的物と前記凹面鏡との
   間に設けられたビームスプリッタ又は部分反射要素を備
   えた請求項１，２または３記載の立体画像表示遊技機。
5. 【請求項５】 立体画像表示装置を、システムの軸又は
   光線路と一致しない凹面鏡の光学軸に関して位置決めさ
   れた傾斜凹面鏡を使用するオフ軸構成に形成すると共
   に、 ａ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含む、
   そして光を放射し、伝播させ又は反射させるすべての目
   的物とすることができる現実の目的物又はターゲット目
   的物、 ｂ）前記ターゲット目的物と凹面鏡面の概略の光学中心
   との間の一つの仮想線を表す第一の入力光線路又は「タ
   ーゲット軸」、 ｃ）前記ターゲット軸に対して５度と２０度の間の角度
   で傾斜し、そして前縁が後縁より視軸に対して低い、シ
   ステムの観察穴に最も近い凹面鏡、 ｄ）前記凹面鏡の光学軸に対して限定されないが約４５
   度の傾斜角で、前記ターゲット目的物と前記凹面鏡との
   間に設けられたビームスプリッタ又は部分反射要素であ
   って、前記凹面鏡に最も近い前記ビームスプリッタの頂
   部は前記ターゲット目的物に最も近い位置にあるその底
   部端よりシステムの観察穴からの距離が大きい位置にあ
   ること、前記ビームスプリッタの部分反射被覆又は前記
   ビームスプリッタの前面又は前記凹面鏡と観察穴に向い
   た側に位置すること、そして、前記ターゲット目的物か
   ら前記凹面鏡へのターゲット軸又は光線路は前記ビーム
   スプリッタの伝播に関しての明るさのレベルで前記ビー
   ムスプリッタを貫いて伝播することを特徴とするビーム
   スプリッタ又は部分反射要素、 ｅ）前記ビームスプリッタを通過し、５度と２０度の間
   で前記凹面鏡の光学軸と一致しない角度で前記凹面鏡と
   突き当たるターゲット目的物からのターゲット軸又は分
   散映像光線路であって、反射光線路又は映像軸は前記凹
   面鏡の光学軸に関して前記ターゲット軸と余角をなして
   前記凹面鏡の表面で反射すること、そして前記映像軸は
   前記ターゲット軸に関して前記凹面鏡の傾斜角の２倍に
   等しい角度で前記観察穴から離れる方向に反射すること
   を特徴とするターゲット軸又は分散映像光線路、 ｆ）前記ビームスプリッタの反射面に突き当たり、前記
   ビームスプリッタで余角をなして反射して前記観察穴に
   向かう映像軸又は収束光線路であって、前記映像軸の一
   部分は、前記ビームスプリッタが前記凹面鏡の光学軸に
   対して４５度の位置にあると仮定して、前記ターゲット
   軸に対して９０度であり、システムの視軸に平行である
   こと、そして前記ターゲット目的物の位置を移動させる
   と実像の位置を移動させるであろうことを特徴とする映
   像軸又は収束光線路、 ｇ）片側又は両側に非反射被覆を施してもよい、システ
   ムへの光学前面窓、 ｈ）システムの焦点において、又は放物面としての凹面
   鏡の焦点距離の２倍に等しい距離において、又は１Ｘ倍
   率を仮定して球面の半径に等しい距離において視軸に沿
   って位置決めされた実像であって、ターゲット目的物は
   前記凹面鏡からの前記凹面鏡の半径に等しい距離に設け
   られること、そしてその位置は拡大された、又は縮小さ
   れた実像を作るためにその焦点と違えてもよいことを特
   徴とする実像、 ｉ）視軸に沿って実像の後方に設けられたビームスプリ
   ッタを介して見られ、そして光を放射し、伝播させ、又
   は反射するすべての物であってもよい光学背景目的物又
   はモニター又は投射スクリーン、 ｊ）前記モニター又はターゲット目的物が違った位置に
   置き換えられることを可能にするように光線路を向け直
   すための前記ターゲット軸に沿った折重ねミラー、 ｋ）システムの外側の外部目的物からの光線路であっ
   て、前記観察穴から入り、前記ビームスプリッタで反射
   し、それから傾斜凹面鏡で反射して収束光線路となって
   前記ビームスプリッタの低端に向かい、次に余角をなし
   て前記ビームスプリッタで反射し、次に前面窓又は観察
   窓の下の一点に向かい、そのため遊技者には見えないこ
   とを特徴とする光線路、 ｌ）装置の外側から視軸に沿って見える光学的ハウジン
   グの内側に面する観察穴の下に設けられ、そして視軸に
   沿って光線漏れ防止部の黒面の実像を形成してシステム
   のコントラストを高める光線漏れ防止部又は平らな黒面
   と、により構成されることを特徴とする請求項１、２又
   は３記載の立体画像表示遊技機。
6. 【請求項６】立体画像表示装置を、システムの軸又は光
   線路と一致しない光学軸に関して位置決めされた傾斜凹
   面鏡を使用したオフ軸構成に形成すると共に、 ａ）システムの方向が、システムを回転させ、ターゲッ
   トと実像を入れ替えることにより、逆になることを除い
   て、請求項５に類似するオフ軸システムであって、前記
   凹面鏡は、システムの視軸に沿って設けられ、その頂端
   が観察穴に向かって傾いていていること、前記ビームス
   プリッタは、前記凹面鏡に面して、観察穴の反対側にあ
   る裏面に半透明の反射被覆を施されて設けられているこ
   と、この構成における分散光線路は、前記ターゲット目
   的物から前記ビームスプリッタへ移動し、前記ビームス
   プリッタで反射して視軸と一致しない角度で前記凹面鏡
   の方へ向かい、そして前記傾斜した凹面鏡に突き当たる
   こと、次に光線路は前記反射ミラーの光学軸と前記ビー
   ムスプリッタで反射して前記凹面鏡へ向かう光線の角度
   との間の角度の２倍に等しい余角で前記凹面鏡から反射
   すること、そして収束光線となって前記ビームスプリッ
   タを通過して視軸に沿って実像を形成することを特徴と
   するオフ軸システム、 ｂ）装置の外側の外部目的物からの光線路であって、観
   察穴から入り、前記ビームスプリッタを通過し、前記傾
   斜凹面鏡で反射し、収束光線路となって前記凹面鏡の光
   学軸に対し余角をなして下向きに導かれ、それから前記
   ビームスプリッタに戻ってそれを貫通し、前記前面窓又
   は観察穴の下の一点に導かれてそのため遊技者に見えな
   くなることを特徴とする光線路、 ｃ）システム上方のターゲット軸に沿って設けられ、そ
   して前記ビームスプリッタで反射し、視軸に沿って前記
   ビームスプリッタの後方に虚像を形成する第二の背景目
   的物又はモニター、 ｄ）システムの外側から視軸に沿って見える、光学ハウ
   ジングの内側に面した観察穴の下に設けられた光線漏れ
   防止部又は黒面であって、その光線漏れ防止部は前記視
   軸に沿ってその光線漏れ防止部の黒面に実像を形成し、
   前記観察穴を介してシステムを見る時スクリーンが黒く
   見えるようにシステムのコントラストを高めることを特
   徴とする光線漏れ防止部又は平らな黒面と、により構成
   されることを特徴とする請求項１，２又は３記載の立体
   画像表示遊技機。
7. 【請求項７】立体画像表示装置を、中性密度のビームス
   プリッタを使用するオン軸又はオフ軸構成に形成すると
   共に、 ａ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含んで
   おり、光を放射し、伝播させ、又は反射させるすべての
   目的物とすることができる現実の目的物又はターゲット
   目的物、 ｂ）前記ターゲット目的物と凹面鏡表面の概略の光学中
   心との間の仮想線を表す第一の入力光線路又は「ターゲ
   ット軸」、 ｃ）ターゲット軸又は請求の範囲第５項に記載された傾
   斜したオフ軸と一致した光学軸を有する凹面鏡、 ｄ）前記凹面鏡の光学軸に対して限定されないが約４５
   度の傾斜角度で位置決めされた、ターゲット目的物と凹
   面鏡との間の第一の光線路に沿って設けられたビームス
   プリッタ又は部分反射要素であって、部分反射被覆が施
   されたガラス基板は中性密度の材料で作られているこ
   と、中性密度は可視光線スペクトルに対する各光線の相
   応に均等な量を吸収する材料に当てはまること、吸収さ
   れた青い光の量は吸収された赤い光の量に相応に近似し
   ていること、中性密度の吸収は現実の又はターゲット目
   的物と比較して実像の色の完全性を保証することを特徴
   とするビームスプリッタ又は部分反射要素、 ｅ）中性密度の基質を通過することなく前記ビームスプ
   リッタの被覆で反射し、前記凹面鏡に突き当たるターゲ
   ット目的物からのターゲット軸又は分散映像光線路であ
   って、光はその時前記凹面鏡の表面で反射して収束光線
   路となり、次に前記ビームスプリッタの被覆、それから
   中性密度の基質を貫いて伝播すること、そして、中性密
   度の材料はその中性密度の材料の吸収率に等しい量だけ
   光の強度を減少させることを特徴とするターゲット軸又
   は分散映像光線路、 ｆ）片側又は両側に非反射性被覆を含んでもよい、シス
   テムの光学前面窓、 ｇ）システムの焦点において、又は放物面としての凹面
   鏡の焦点距離の２倍に等しい距離において、又は１Ｘ倍
   を仮定して、曲面球体の半径に等しい距離において視軸
   に沿って設けられた実像であって、前記ターゲット目的
   物は前記凹面鏡の半径に等しい前記凹面鏡からの距離に
   設けられていること、そしてその位置は拡大された、又
   は縮小された実像を作るためにその焦点と違えてもよい
   ことを特徴とする実像、 ｈ）視軸に沿って実像の後方に設けられた前記ビームス
   プリッタを介して見られ、そして光を放散し、伝播さ
   せ、又は反射させるすべてのものとすることができる光
   学的背景目的物又はモニター又は投射スクリーン、 ｉ）前記モニター又はターゲット目的物が違った位置に
   置き直されることができるように光線路を向け直すため
   のターゲット軸に沿う光学的折重ねミラー、 ｊ）観察穴から入り、そして中性密度のビームスプリッ
   タ基質を介して伝播し、かくして中性密度の材料の吸収
   率に等しい量だけ光の強さを減らす、システムの外側の
   外部目的物からの光線路であって、光はその時前記ビー
   ムスプリッタの被覆を貫いて伝播して次に前記凹面鏡で
   反射すること、それから収束光線路となって前記ビーム
   スプリッタの被覆を貫いて伝播して次に中性密度の基質
   を貫いて伝播し、そして光の強さは再び中性密度の材料
   の吸収率に等しい割合だけ減少すること、そして、ゴー
   ストはただ一回だけ中性密度の材料を通過する前記ター
   ゲット目的物からの実像映像光に比べて２回中性密度の
   吸収材料を通過することにより減少することを特徴とす
   る光線路、 ｋ）オン軸ミラーシステム又は請求の範囲第５項に記載
   されたオフ軸傾斜ミラーシステムにおいて中性密度のビ
   ームスプリッタを使用する構成と、により構成されるこ
   とを特徴とする請求項１，２又は３記載の立体画像表示
   遊技機。
8. 【請求項８】立体画像表示装置を、中性密度の窓を使用
   するオン軸又はオン軸構成に形成すると共に、 ａ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含む、
   光を放射し、伝播させ又は反射させるすべての目的物と
   することができる現実の目的物又はターゲット目的物、 ｂ）吸収値が１０％乃至５０％の中性密度の材料から成
   り、そして片側又は両側に非反射性の被覆を含んでもよ
   い窓、 ｃ）前記ターゲット軸と一致する光学軸又は請求の範囲
   第５項又は第６項に記載された傾斜オフ軸を有する凹面
   鏡、 ｄ）前記凹面鏡の光学軸に対し、限定されないが、約４
   ５度の傾斜角度に位置決めされ、前記ターゲット目的物
   と前記凹面鏡との間の第一の光線路に沿って設けられた
   ビームスプリッタ又は部分反射要素、 ｅ）システムの焦点において、又は放物面としての凹面
   鏡の焦点距離の２倍に等しい距離において、又は１Ｘ倍
   率を仮定して曲面球体の半径に等しい距離において視軸
   に沿って設けられた実像であって、前記ターゲット目的
   物は前記凹面鏡の半径に等しい前記凹面鏡からの距離に
   設けられていること、そしてその位置は拡大された、又
   は縮小された実像を作るためにその焦点と違えてもよい
   ことを特徴とする実像、 ｆ）視軸に沿って実像の後方に設けられたビームスプリ
   ッタを介して見られ、そして光を放射し、伝播させ又は
   反射させるすべてのものとすることができる光学背景目
   的物又はモニター又は投射スクリーン、 ｇ）モニター又はターゲット目的物が違う位置に置き直
   されることを可能にするように光線路を向け直すための
   前記ターゲット軸に沿う光学折重ねミラー、 ｈ）前記ターゲット目的物からの分散光線が前記ビーム
   スプリッタを貫いて伝播し、前記凹面鏡に突き当たる光
   線路であって、前記凹面鏡から反射して収束した光線路
   は前記ビームスプリッタで反射し、前記中性密度の窓を
   通過し、そして自由空間においてシステムの外側で実像
   を形成すること、代替の構成において前記ターゲット目
   的物からの光は前記ビームスプリッタで反射して前記凹
   面鏡の表面に向かい、そして分散光線となって前記中性
   密度の窓を貫いて伝播し、実像を形成すること、そして
   いずれか一方の構成において前記中性密度の窓を通過す
   る光は中性密度の吸収材料の吸収率だけ減少することを
   特徴とする光線路、 ｉ）前記観察穴から入り、前記中性密度の窓を貫いて伝
   播し、かくして前記中性密度の材料の吸収率に等しい量
   だけ光の強度を減少する、システムの外側の外部目的物
   からの光線路であって、光はその時前記ビームスプリッ
   タの被覆を貫いて伝播して次に前記凹面鏡で反射するこ
   と、次に収束光線路となって前記ビームスプリッタを貫
   いて伝播して次に再び前記中性密度の窓を貫いて伝播す
   ること、光の強度は前記中性密度の材料の吸収率に等し
   い割合だけ再び減少すること、そしてゴーストは一回だ
   け前記中性密度の材料を通過する前記ターゲット目的物
   からの実像映像光に比べて２回前記中性密度の吸収材料
   を通過することにより減少することを特徴とする光線
   路、 ｊ）オン軸ミラーシステム又は請求の範囲第５項及び第
   ６項に記載されたオフ軸傾斜ミラー装置において前記中
   性密度の窓を使用する構成により構成されることを特徴
   とする請求項１，２又は３記載の立体画像表示遊技機。
9. 【請求項９】立体画像表示装置を、円偏光の窓を使用す
   るオン軸又はオフ軸構成に形成すると共に、 ａ）オン軸ミラーシステム又は請求の範囲第５項及び第
   ６項に記載されたオフ軸傾斜ミラーシステムにおいて前
   記円偏光の窓を使用する構成、 ｂ）モニター及び投射スクリーン又は他の実像を含む、
   光を放射し、伝播させ、又は反射させるすべての目的物
   とすることができる現実の目的物又はターゲット目的
   物、 ｃ）円偏光基質により構成され、また、遊技者に面し
   て、そして、装置の外側に設けられた線偏光フィルム及
   び線偏光材の軸に対して４５度の固定軸で方向を定めら
   れた１／４波長遅延フィルムにより構成された窓であっ
   て、１／４波長遅延フィルムは線偏光フィルムとシステ
   ムの内側との間に設けられなければならないこと、それ
   ら二つの材料はその技術分野で通常知られた技術を使用
   してはり合わされてもよいこと、それら二つの材料は窓
   を形成するため二つの明確な基質の間でサンドウィッチ
   にしてもよく、片側又は両側に非反射性被覆を含んでも
   よいこと、そしてその二つの材料はまた非反射性被覆を
   適用して分割したサンドウィッチとしてはり合わせても
   よいことを特徴とする窓、 ｄ）前記ターゲット軸と一致する光学軸又は請求の範囲
   第５項又は第６項に記載された傾斜オフ軸を有する凹面
   鏡、 ｅ）前記凹面鏡の光学軸に対して、限定されないが、約
   ４５度の傾斜角度で位置決めされた、前記ターゲット目
   的物と前記凹面鏡との間の第一の光線路に沿って設けら
   れたビームスプリッタ又は部分反射要素、 ｆ）システムの焦点において、又は放物面としての凹面
   鏡の焦点距離の２倍に等しい距離において、又は１Ｘ倍
   率を仮定して前記曲面球体の半径に等しい距離において
   視軸に沿って設けられた実像であって、前記ターゲット
   目的物は前記凹面鏡の半径に等しい前記凹面鏡からの距
   離に設けられていること、そしてその位置は拡大され
   た、又は縮小された実像を作るためにその焦点と違えて
   もよいことを特徴とする実像、 ｇ）視軸に沿って実像の後方に設けられたビームスプリ
   ッタを介して見られ、そして光を放射し、伝播させ、又
   は反射させるすべてのものとすることのできる光学背景
   目的物又はモニター又は投射スクリーン、 ｈ）前記モニター又はターゲット目的物が違う位置にお
   き直されることを可能にするように光線路を向け直すた
   めの、前記ターゲット軸に沿う光学折重ねミラー、 ｉ）前記ターゲット目的物からの分散光線が前記ビーム
   スプリッタを貫いて伝播し、前記凹面鏡に突き当たる光
   線路であって、前記凹面鏡から反射して収束した光線路
   は前記ビームスプリッタで反射し、円偏光の窓を通過
   し、そして自由空間においてシステムの外側で実像を形
   成すること、代替の構成において、前記ターゲット目的
   物からの光は前記ビームスプリッタで反射して前記凹面
   鏡の表面に向かい、そして分散光線となって前記円偏光
   の窓を貫いて伝播し、実像を形成すること、いずれか一
   方の構成において、前記円偏光の窓を通過する光は、そ
   の光がその窓に突き当たる時偏光していないので、その
   窓によって阻止されないこと、そして１／４波長遅延フ
   ィルムは偏光していない光には相対的な効果を及ぼさ
   ず、線偏光フィルムを通過してそのフィルム自身の吸収
   率に基づいてのみ強度を減少させることを特徴とする光
   線路、 ｊ）観察窓から入り、前記観察窓における線偏光フィル
   ムを貫いて伝播し、かくして偏光材料の吸収率に等しい
   量だけ光の強度が減る、システムの外側の外部目的物か
   らの光線路であって、光はその時線偏光する（例えば垂
   直方向に偏光する）こと、その垂直方向に偏光した光は
   次に１／４波長遅延フィルムを貫いて伝播するため右円
   偏光に変形されること、その光は次に前記ビームスプリ
   ッタの被覆を貫いて伝播し、それから前記凹面鏡で反射
   すること、前記右円偏光の光はミラーで反射する時左円
   偏光に反転すること、その左円偏光の光の収束した光線
   路は次に前記ビームスプリッタを貫いて伝播し、それか
   らシステムを出る時再び１／４波長遅延フィルムを貫い
   て伝播すること、その左円偏光した光は第一の通路上の
   線偏光材を通過する時に形成される物から９０度（水平
   方向）の位置での線形軸回りに回転すること、そしてそ
   の水平方向に偏光した光は次に垂直方向偏光フィルムを
   貫いて伝播することを阻止されることを特徴とする光線
   路と、により構成されることを特徴とする請求項１，２
   又は３記載の立体画像表示遊技機。
10. 【請求項１０】 ａ）請求項５から９のいずれかに記載
    された構成、 ｂ）線偏光フィルム要素又は円偏光材により構成される
    前面窓であって、前記円偏光材の場合、前記線偏光要素
    は１／４波長遅延要素に比べて表示装置の外部に向けら
    れなければならないことを特徴とする前面窓、 ｃ）表示装置を含む室内の外部光源の前方に設けられた
    線偏光フィルムであって、線偏光材は偏光軸が前記シス
    テムの窓の線偏光要素の軸に対して９０度となるように
    方向を決めなければならないことを特徴とする線偏光フ
    ィルム、 ｄ）室内の光源からの偏光した光は表示中前面窓の偏光
    軸により阻止され、かくして光が装置に入ってゴースト
    を形成するのを防ぐための構成と、により構成されるこ
    とを特徴とする請求項１，２又は３記載の立体画像表示
    遊技機。
11. 【請求項１１】用途がなお一層のゴースト減少を必要と
    するために請求項５から１０のいずれかに記載されたゴ
    ースト減少方法のすべての組合せにより構成してもよい
    ことを特徴とする立体画像表示遊技機。