JP2003123315A - 光記録媒体 - Google Patents
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/21—Circular sheet or circular blank
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高記録密度化に対応した場合であっても、
媒体の機械的強度を充分に保ち、繰り返し記録時の記録
層の熱による機械的歪みを防止し、特にマークエッジ記
録における記録マークの安定性に優れた繰り返し記録へ
の耐性の良好な光記録媒体を提供する。 【解決手段】媒体の基体となる光入射側基板６および光
反射側基板１との間に、レーザー光の照射により非晶相
と結晶相との間を相変化する相変化記録層４と、相変化
記録層４の保護的機能および光学的調整機能を有する第
１誘電体層５および第２誘電体層３と、相変化記録層４
を透過したレーザー光を反射させる反射膜層２と、媒体
の機械的強度を補強する硬度補強層７と、基板への熱的
ダメージの低減と光学的調整機能を有する保護層８とが
それぞれスパッタリングにより形成され、これらの層が
積層構造をした構成となっている。
媒体の機械的強度を充分に保ち、繰り返し記録時の記録
層の熱による機械的歪みを防止し、特にマークエッジ記
録における記録マークの安定性に優れた繰り返し記録へ
の耐性の良好な光記録媒体を提供する。 【解決手段】媒体の基体となる光入射側基板６および光
反射側基板１との間に、レーザー光の照射により非晶相
と結晶相との間を相変化する相変化記録層４と、相変化
記録層４の保護的機能および光学的調整機能を有する第
１誘電体層５および第２誘電体層３と、相変化記録層４
を透過したレーザー光を反射させる反射膜層２と、媒体
の機械的強度を補強する硬度補強層７と、基板への熱的
ダメージの低減と光学的調整機能を有する保護層８とが
それぞれスパッタリングにより形成され、これらの層が
積層構造をした構成となっている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光の照射
による相変化を利用した光記録媒体に関し、特に高記録
密度化に対応する光記録媒体に関する。
による相変化を利用した光記録媒体に関し、特に高記録
密度化に対応する光記録媒体に関する。
【０００２】
【背景技術】情報を記録するための記録メディアとして
現在多くのデバイスが使用されているが、音声、映像、
および情報記録媒体であるＤＶＤ（Digital Versatile
Disc）の実用化を支える主力記録媒体として相変化型光
記録媒体が知られている。この相変化型光記録媒体は、
カルコゲンを主成分とする記録層が形成されており、こ
の記録層にレーザー光を局所的に照射することにより、
結晶相と非晶相との間で相変化が生じ、各相状態におけ
る光学特性の違いを利用して記録を行うものである。
現在多くのデバイスが使用されているが、音声、映像、
および情報記録媒体であるＤＶＤ（Digital Versatile
Disc）の実用化を支える主力記録媒体として相変化型光
記録媒体が知られている。この相変化型光記録媒体は、
カルコゲンを主成分とする記録層が形成されており、こ
の記録層にレーザー光を局所的に照射することにより、
結晶相と非晶相との間で相変化が生じ、各相状態におけ
る光学特性の違いを利用して記録を行うものである。
【０００３】通常の相変化型光記録媒体の膜構成が図４
に示されている。図４において、相変化型光記録媒体
は、光反射側基板１１上に、反射膜層１２、第２誘電体
層１３、相変化記録層１４、第１誘電体層１５が順次、
積層されているが、いずれも抵抗加熱真空蒸着法、電子
ビーム真空蒸着法、スパッタリング法などの成膜法で成
膜され、この上に、接着または塗布硬化による光入射側
基板１６が設けられた構成となっている。光反射側基板
１１および光入射側基板１６は、一般的に可視光領域で
透明であり、ガラス製、ポリカーボネイト等のプラスチ
ック樹脂製、および紫外線硬化性樹脂製のものが採用で
きる。一般的に光反射側基板１１上には、光ビームの走
行を正確に導くレールの役割を果たすトラッキング用案
内溝が設けられている。反射膜層１２は、相変化記録層
１４を透過したレーザー光と相変化記録層１４上面で反
射したレーザー光とを干渉させるために、透過したレー
ザー光を反射させるものであり、高反射性を有するＡ
ｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｃｒ等の単一金属材料、これら
複数種類の金属を含む合金、およびその混合物が用いら
れている。
に示されている。図４において、相変化型光記録媒体
は、光反射側基板１１上に、反射膜層１２、第２誘電体
層１３、相変化記録層１４、第１誘電体層１５が順次、
積層されているが、いずれも抵抗加熱真空蒸着法、電子
ビーム真空蒸着法、スパッタリング法などの成膜法で成
膜され、この上に、接着または塗布硬化による光入射側
基板１６が設けられた構成となっている。光反射側基板
１１および光入射側基板１６は、一般的に可視光領域で
透明であり、ガラス製、ポリカーボネイト等のプラスチ
ック樹脂製、および紫外線硬化性樹脂製のものが採用で
きる。一般的に光反射側基板１１上には、光ビームの走
行を正確に導くレールの役割を果たすトラッキング用案
内溝が設けられている。反射膜層１２は、相変化記録層
１４を透過したレーザー光と相変化記録層１４上面で反
射したレーザー光とを干渉させるために、透過したレー
ザー光を反射させるものであり、高反射性を有するＡ
ｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｃｒ等の単一金属材料、これら
複数種類の金属を含む合金、およびその混合物が用いら
れている。
【０００４】相変化記録層１４は、レーザー光の照射に
より可逆的に相変化を生じて反射率が変化する材料であ
り、具体的には、Ｓｂ−Ｔｅ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ａｇ
−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，およびＧｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ等
のＴｅを主体とした合金が採用されている。これらＴｅ
合金を相変化記録層とした光記録媒体では、結晶化速度
が速く、消去時間が短いため、レーザー光の照射パワー
を変調するだけで、円形の１ビームによる高速のオーバ
ーライトが可能である。成膜直後の相変化記録層の状態
は非晶相の状態であり、この相変化記録層に記録を行っ
て非晶相の記録部を形成するために、相変化記録相全体
を結晶相にしておく初期化処理が行われる。記録はこの
結晶化された状態の中に非晶相部分を形成することによ
り達成される。
より可逆的に相変化を生じて反射率が変化する材料であ
り、具体的には、Ｓｂ−Ｔｅ，Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ａｇ
−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，およびＧｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ等
のＴｅを主体とした合金が採用されている。これらＴｅ
合金を相変化記録層とした光記録媒体では、結晶化速度
が速く、消去時間が短いため、レーザー光の照射パワー
を変調するだけで、円形の１ビームによる高速のオーバ
ーライトが可能である。成膜直後の相変化記録層の状態
は非晶相の状態であり、この相変化記録層に記録を行っ
て非晶相の記録部を形成するために、相変化記録相全体
を結晶相にしておく初期化処理が行われる。記録はこの
結晶化された状態の中に非晶相部分を形成することによ
り達成される。
【０００５】第１誘電体層１５および第２誘電体層１３
は、相変化記録層１４の両側に配置することで酸化等の
化学的変化による相変化記録層１４の光学特性の変化を
防止する保護的機能を有するとともに、その膜厚、屈折
率、および光学吸収率により相変化記録層１４における
記録部分と消去部分の反射率を調整する光学的調整機能
を有し、相変化記録層１４および反射膜層１２との接着
性が良く、長期保存によりクラックが生じない耐久性を
持つ材料が採用されている。従来特に、膜応力が小さく
隣接する各層との接着性が優れているので、ＺｎＳとＳ
ｉＯ２の混合物が採用されている。
は、相変化記録層１４の両側に配置することで酸化等の
化学的変化による相変化記録層１４の光学特性の変化を
防止する保護的機能を有するとともに、その膜厚、屈折
率、および光学吸収率により相変化記録層１４における
記録部分と消去部分の反射率を調整する光学的調整機能
を有し、相変化記録層１４および反射膜層１２との接着
性が良く、長期保存によりクラックが生じない耐久性を
持つ材料が採用されている。従来特に、膜応力が小さく
隣接する各層との接着性が優れているので、ＺｎＳとＳ
ｉＯ２の混合物が採用されている。
【０００６】また、上述のような通常の相変化型光記録
媒体では、図４に示す膜構成において、多数回にわたる
書き換えの結果、第１誘電体層１５および第２誘電体層
１３の構成原子が相変化記録層１４に拡散すると、相変
化記録層１４の組成が変化するので、書き換えを何度も
繰り返すと記録特性や消去特性の変動が発生するおそれ
がある。この繰り返し特性の低下を防止するために、拡
散防止層を有する相変化型光記録媒体が提案されている
（特開平１０―２７５３６０、特開平１１―１１５３１
５等参照）。拡散防止層を有する相変化型光記録媒体
は、相変化記録層１４と第１誘電体層１５または第２誘
電体層１３との間に、相変化記録層１４を挟むように酸
化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ゲルマニウム等の拡
散防止層を設けることにより、相変化記録層１４と第１
誘電体層１５または第２誘電体層１３との間での構成原
子の相互拡散および記録層組成の経時変化を防止するも
のとなっている。一方、特開平１０−３２６４３４に
は、媒体の機械的強度を高め、書換の繰り返しにおける
セクターの書き初め部分および書き終わり部分の劣化を
低減し、ジッタ特性を良好にするために、第１誘電体層
１５のレーザー光入射側に接するように、第１誘電体層
１５よりも硬度が高く、充分膜厚の大きい高硬度層を設
けた厚膜式の相変化型光記録媒体が開示されている。
媒体では、図４に示す膜構成において、多数回にわたる
書き換えの結果、第１誘電体層１５および第２誘電体層
１３の構成原子が相変化記録層１４に拡散すると、相変
化記録層１４の組成が変化するので、書き換えを何度も
繰り返すと記録特性や消去特性の変動が発生するおそれ
がある。この繰り返し特性の低下を防止するために、拡
散防止層を有する相変化型光記録媒体が提案されている
（特開平１０―２７５３６０、特開平１１―１１５３１
５等参照）。拡散防止層を有する相変化型光記録媒体
は、相変化記録層１４と第１誘電体層１５または第２誘
電体層１３との間に、相変化記録層１４を挟むように酸
化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ゲルマニウム等の拡
散防止層を設けることにより、相変化記録層１４と第１
誘電体層１５または第２誘電体層１３との間での構成原
子の相互拡散および記録層組成の経時変化を防止するも
のとなっている。一方、特開平１０−３２６４３４に
は、媒体の機械的強度を高め、書換の繰り返しにおける
セクターの書き初め部分および書き終わり部分の劣化を
低減し、ジッタ特性を良好にするために、第１誘電体層
１５のレーザー光入射側に接するように、第１誘電体層
１５よりも硬度が高く、充分膜厚の大きい高硬度層を設
けた厚膜式の相変化型光記録媒体が開示されている。
【０００７】近年、光記録媒体において高記録密度化の
要請はより一層厳しくなっており、高記録密度のため
に、レーザー光におけるビーム径の縮小化が進んでい
る。その一つの方法としてレーザー光の短波長化が挙げ
られる。すなわち、光学レンズを用いてレーザービーム
を絞る場合、その最小ビーム径はレーザーの波長に依存
しており、波長が短くなるほどビーム径は小さくでき
る。このため、光記録媒体の記録密度はレーザー波長に
反比例して高密度化できるので、現在の赤色領域のレー
ザーから、波長４００ｎｍ付近の紫色領域のレーザーへ
と光源の交換が図られようとしている。
要請はより一層厳しくなっており、高記録密度のため
に、レーザー光におけるビーム径の縮小化が進んでい
る。その一つの方法としてレーザー光の短波長化が挙げ
られる。すなわち、光学レンズを用いてレーザービーム
を絞る場合、その最小ビーム径はレーザーの波長に依存
しており、波長が短くなるほどビーム径は小さくでき
る。このため、光記録媒体の記録密度はレーザー波長に
反比例して高密度化できるので、現在の赤色領域のレー
ザーから、波長４００ｎｍ付近の紫色領域のレーザーへ
と光源の交換が図られようとしている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】前述した通常の相変化
型光記録媒体では、記録時に高エネルギー密度のレーザ
ー光が局所的に記録層に照射されるので、記録層におけ
る機械的歪みが著しくなる。そのため、多数回にわたる
書換の繰り返しの結果、記録層は融解・凝固が繰り返さ
れ、溶融した記録層の流動が発生しやすくなり、ジッタ
特性の悪化、再生信号の振幅低下が生じて書換回数が充
分に確保できないという問題がある。特に、マークエッ
ジ記録を採用する場合は、ピットポジション記録の場合
に比べ、記録、消去による記録層の流動が生じやすく、
記録マークのエッジ部の歪みは著しくなる。この原因と
しては、高エネルギー密度のレーザー光照射による過熱
により、記録層を構成する元素または化合物が記録マー
クの形に偏析してしまうことによるものと、記録時に記
録層が融点を超える高温となる結果、記録層と接する第
１誘電体層または第２誘電体層が熱膨張し、これによ
り、媒体の機械的強度が劣化し、これらの層が記録層側
に湾曲するために、融解した記録層が記録トラック方向
に温度の低い場所に向かって押し出され、記録領域の記
録層材料の量が減少することにより起こるものとが考え
られる。また、このような記録層膜厚の変化や、熱膨張
による第１誘電体層、第２誘電体層、および基板の物理
的な変形は、トラッキングの安定性を低下させるという
問題がある。
型光記録媒体では、記録時に高エネルギー密度のレーザ
ー光が局所的に記録層に照射されるので、記録層におけ
る機械的歪みが著しくなる。そのため、多数回にわたる
書換の繰り返しの結果、記録層は融解・凝固が繰り返さ
れ、溶融した記録層の流動が発生しやすくなり、ジッタ
特性の悪化、再生信号の振幅低下が生じて書換回数が充
分に確保できないという問題がある。特に、マークエッ
ジ記録を採用する場合は、ピットポジション記録の場合
に比べ、記録、消去による記録層の流動が生じやすく、
記録マークのエッジ部の歪みは著しくなる。この原因と
しては、高エネルギー密度のレーザー光照射による過熱
により、記録層を構成する元素または化合物が記録マー
クの形に偏析してしまうことによるものと、記録時に記
録層が融点を超える高温となる結果、記録層と接する第
１誘電体層または第２誘電体層が熱膨張し、これによ
り、媒体の機械的強度が劣化し、これらの層が記録層側
に湾曲するために、融解した記録層が記録トラック方向
に温度の低い場所に向かって押し出され、記録領域の記
録層材料の量が減少することにより起こるものとが考え
られる。また、このような記録層膜厚の変化や、熱膨張
による第１誘電体層、第２誘電体層、および基板の物理
的な変形は、トラッキングの安定性を低下させるという
問題がある。
【０００９】前述した拡散防止層を有する相変化型光記
録媒体では、酸化ケイ素、窒化アルミニウム、および窒
化ゲルマニウム等の拡散防止層の熱伝導率が、第１誘電
体層および第２誘電体層の熱伝導率よりも大きいため
に、記録層から隣接する層への熱伝達特性が大きく変化
し、すなわち、レーザー光照射による記録層における熱
が拡散防止層を介して逃げやすく、レーザー光照射によ
って熱せられた記録層の温度低下が速くなり過ぎて、記
録時において記録領域内に記録マークが正しく形成され
ないでジッタ特性が悪くなるという問題がある。
録媒体では、酸化ケイ素、窒化アルミニウム、および窒
化ゲルマニウム等の拡散防止層の熱伝導率が、第１誘電
体層および第２誘電体層の熱伝導率よりも大きいため
に、記録層から隣接する層への熱伝達特性が大きく変化
し、すなわち、レーザー光照射による記録層における熱
が拡散防止層を介して逃げやすく、レーザー光照射によ
って熱せられた記録層の温度低下が速くなり過ぎて、記
録時において記録領域内に記録マークが正しく形成され
ないでジッタ特性が悪くなるという問題がある。
【００１０】上記厚膜式の相変化型光記録媒体では、高
エネルギー密度のレーザー光を照射した場合に、高硬度
層には大きな熱応力が発生し、多数回にわたって書換を
繰り返すと、第１誘電体層との界面において剥離が生じ
たり、高硬度層に微小なクラックが生じることがあるの
で、書き換え可能回数が制限されるという問題がある。
さらに、光記録媒体の製造にあたって、硬度が高く、か
つ厚い高硬度層を成膜する場合には、一般的に成膜速度
が遅くなり、また、厚い膜を生成するために成膜に時間
がかかり、生産性が低下するという問題がある。
エネルギー密度のレーザー光を照射した場合に、高硬度
層には大きな熱応力が発生し、多数回にわたって書換を
繰り返すと、第１誘電体層との界面において剥離が生じ
たり、高硬度層に微小なクラックが生じることがあるの
で、書き換え可能回数が制限されるという問題がある。
さらに、光記録媒体の製造にあたって、硬度が高く、か
つ厚い高硬度層を成膜する場合には、一般的に成膜速度
が遅くなり、また、厚い膜を生成するために成膜に時間
がかかり、生産性が低下するという問題がある。
【００１１】本発明の目的は、高記録密度化に対応した
場合であっても、媒体の機械的強度を充分に保ち、繰り
返し記録を行った時の記録層の熱による機械的歪みを防
止し、特にマークエッジ記録における記録マークの安定
性に優れた繰り返し記録への耐性の良好な光記録媒体を
提供することである。
場合であっても、媒体の機械的強度を充分に保ち、繰り
返し記録を行った時の記録層の熱による機械的歪みを防
止し、特にマークエッジ記録における記録マークの安定
性に優れた繰り返し記録への耐性の良好な光記録媒体を
提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、情報の記録・消去を行うために、記録層に光を照射
して非晶相と結晶相との間の相変化を行い、この相変化
による光学特性の変化により情報の書き換えを可能にす
る光記録媒体であって、基板上に少なくとも硬度補強
層、第１誘電体層、および記録層がこの順に積層され、
前記硬度補強層は、前記第１誘電体層よりも硬度が高
く、前記硬度補強層の膜厚Ｔh は、前記第１誘電体層の
膜厚Ｔ1 に応じた値が設定され、前記膜厚Ｔh と前記膜
厚Ｔ1 とが０．４＜Ｔh ／Ｔ1 の関係にあり、前記膜厚
Ｔh は、１５ｎｍ未満であることを特徴とする。
は、情報の記録・消去を行うために、記録層に光を照射
して非晶相と結晶相との間の相変化を行い、この相変化
による光学特性の変化により情報の書き換えを可能にす
る光記録媒体であって、基板上に少なくとも硬度補強
層、第１誘電体層、および記録層がこの順に積層され、
前記硬度補強層は、前記第１誘電体層よりも硬度が高
く、前記硬度補強層の膜厚Ｔh は、前記第１誘電体層の
膜厚Ｔ1 に応じた値が設定され、前記膜厚Ｔh と前記膜
厚Ｔ1 とが０．４＜Ｔh ／Ｔ1 の関係にあり、前記膜厚
Ｔh は、１５ｎｍ未満であることを特徴とする。
【００１３】本発明では、図１に示すように、第１誘電
体層５よりも硬度の高い硬度補強層７を設けるととも
に、硬度補強層７を構成する物質を適宜選択することに
より、膜厚の小さい硬度補強層７であっても、媒体全体
を充分補強でき、媒体の機械的強度の増加が図れる。特
に、記録時において、高記録密度化に対応した短波長の
レーザー光の高エネルギービームが照射され、相変化記
録層４が高温になっても、相変化記録層４の熱による著
しい機械的歪みが硬度補強層７により防止されるので、
相変化記録層４の流動とその後生ずる層全体の変形を防
止することができる。特に、マークエッジ記録での記録
マークを安定にし、記録信号に対して忠実な再生信号を
得ることができ、書換回数を確保できる。さらに、硬度
補強層７は、相変化記録層４に接することなく積層され
ているので、相変化記録層４の熱特性を変化させること
はなく、すなわち、相変化記録層４に隣接する層の熱伝
導率を変化させることがないので、安定した記録感度を
得ることができる。
体層５よりも硬度の高い硬度補強層７を設けるととも
に、硬度補強層７を構成する物質を適宜選択することに
より、膜厚の小さい硬度補強層７であっても、媒体全体
を充分補強でき、媒体の機械的強度の増加が図れる。特
に、記録時において、高記録密度化に対応した短波長の
レーザー光の高エネルギービームが照射され、相変化記
録層４が高温になっても、相変化記録層４の熱による著
しい機械的歪みが硬度補強層７により防止されるので、
相変化記録層４の流動とその後生ずる層全体の変形を防
止することができる。特に、マークエッジ記録での記録
マークを安定にし、記録信号に対して忠実な再生信号を
得ることができ、書換回数を確保できる。さらに、硬度
補強層７は、相変化記録層４に接することなく積層され
ているので、相変化記録層４の熱特性を変化させること
はなく、すなわち、相変化記録層４に隣接する層の熱伝
導率を変化させることがないので、安定した記録感度を
得ることができる。
【００１４】ところで、硬度補強層７の膜厚Ｔh と第１
誘電体層５の膜厚Ｔ1 との関係が、Ｔh ／Ｔ1 ≦０．４
以下となる場合には、第１誘電体層５の膜厚Ｔ1 に対し
て硬度補強層７の膜厚Ｔh が小さくなり、媒体の機械的
強度の補強、および相変化記録層４の熱による機械的歪
みを防止する効果が抑制され、記録時において、高エネ
ルギー密度のレーザー光が照射されて相変化記録層４が
高温になると、相変化記録層４は流動し、またそれに伴
って層全体の変形が起こり、記録マークの安定性および
トラッキングの安定性が悪化する。
誘電体層５の膜厚Ｔ1 との関係が、Ｔh ／Ｔ1 ≦０．４
以下となる場合には、第１誘電体層５の膜厚Ｔ1 に対し
て硬度補強層７の膜厚Ｔh が小さくなり、媒体の機械的
強度の補強、および相変化記録層４の熱による機械的歪
みを防止する効果が抑制され、記録時において、高エネ
ルギー密度のレーザー光が照射されて相変化記録層４が
高温になると、相変化記録層４は流動し、またそれに伴
って層全体の変形が起こり、記録マークの安定性および
トラッキングの安定性が悪化する。
【００１５】したがって、硬度補強層７の膜厚Ｔh と第
１誘電体層５の膜厚Ｔ1 とは０．４＜Ｔh ／Ｔ1 となる
関係が好ましく、この膜厚比を満足する範囲内で硬度補
強層７および第１誘電体層５の膜厚を薄く形成すること
ができるため、媒体の機械的強度を維持し、相変化記録
層４の熱による機械的歪みを防止しつつ、膜中に発生す
る応力を低減させ、各層の界面における剥離や微小なク
ラックの発生を防止し、繰り返し記録への耐性を向上す
ることができる。さらに、硬度補強層７および第１誘電
体層５の膜厚を薄く成膜できるので、生産時の成膜時間
は低減し、生産性が向上する。また、硬度補強層７の膜
厚Ｔh が１５ｎｍ未満である場合に、ジッタ特性は良好
となる。
１誘電体層５の膜厚Ｔ1 とは０．４＜Ｔh ／Ｔ1 となる
関係が好ましく、この膜厚比を満足する範囲内で硬度補
強層７および第１誘電体層５の膜厚を薄く形成すること
ができるため、媒体の機械的強度を維持し、相変化記録
層４の熱による機械的歪みを防止しつつ、膜中に発生す
る応力を低減させ、各層の界面における剥離や微小なク
ラックの発生を防止し、繰り返し記録への耐性を向上す
ることができる。さらに、硬度補強層７および第１誘電
体層５の膜厚を薄く成膜できるので、生産時の成膜時間
は低減し、生産性が向上する。また、硬度補強層７の膜
厚Ｔh が１５ｎｍ未満である場合に、ジッタ特性は良好
となる。
【００１６】また、請求項２に記載の発明は、前記硬度
補強層の膜厚は、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが
好ましい。本発明では、硬度補強層７の膜厚が１ｎｍ以
上１０ｎｍ以下程度であっても、媒体の機械的強度を充
分保持し、相変化記録層４の熱による機械的歪みを防止
することができるが、前述のように硬度補強層７の膜厚
を限定すれば、第１誘電体層５の膜厚は、０．４＜Ｔh
／Ｔ1 の条件を満たす範囲で自由に設定することがで
き、要求に応じた寸法にすることが可能となるので、光
記録媒体を設計するにあたり、用途や要求性能等に応じ
て光記録媒体の最適化が図れる。また、硬度の高い膜を
薄く形成することにより、膜中には大きな応力は発生せ
ず、各層の界面における剥離や微小なクラックが発生す
ることはない。ジッタ特性は、このような硬度補強層７
の膜厚が薄い範囲内で特に良好である。
補強層の膜厚は、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが
好ましい。本発明では、硬度補強層７の膜厚が１ｎｍ以
上１０ｎｍ以下程度であっても、媒体の機械的強度を充
分保持し、相変化記録層４の熱による機械的歪みを防止
することができるが、前述のように硬度補強層７の膜厚
を限定すれば、第１誘電体層５の膜厚は、０．４＜Ｔh
／Ｔ1 の条件を満たす範囲で自由に設定することがで
き、要求に応じた寸法にすることが可能となるので、光
記録媒体を設計するにあたり、用途や要求性能等に応じ
て光記録媒体の最適化が図れる。また、硬度の高い膜を
薄く形成することにより、膜中には大きな応力は発生せ
ず、各層の界面における剥離や微小なクラックが発生す
ることはない。ジッタ特性は、このような硬度補強層７
の膜厚が薄い範囲内で特に良好である。
【００１７】また、請求項３に記載の発明は、前記第１
誘電体層の膜厚は、１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが
好ましい。本発明では、第１誘電体層５の膜厚が１ｎｍ
以上５ｎｍ以下であっても、相変化記録層４の保護的機
能および光学的調整機能が確保されるので、記録再生特
性を損なわない。さらに、第１誘電体層５の膜厚を薄く
形成することにより、硬度補強層７によって行われる、
高エネルギー密度のレーザー光照射による相変化記録層
４の高温化に伴った流動の抑制効果を促進することがで
きる。また、光記録媒体の製造にあたって、膜厚を充分
薄く形成することにより、成膜時間は短縮され、生産性
の向上に繋がる。
誘電体層の膜厚は、１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが
好ましい。本発明では、第１誘電体層５の膜厚が１ｎｍ
以上５ｎｍ以下であっても、相変化記録層４の保護的機
能および光学的調整機能が確保されるので、記録再生特
性を損なわない。さらに、第１誘電体層５の膜厚を薄く
形成することにより、硬度補強層７によって行われる、
高エネルギー密度のレーザー光照射による相変化記録層
４の高温化に伴った流動の抑制効果を促進することがで
きる。また、光記録媒体の製造にあたって、膜厚を充分
薄く形成することにより、成膜時間は短縮され、生産性
の向上に繋がる。
【００１８】また、請求項４に記載の発明は、前記硬度
補強層のビッカース硬度は、４ＧＰａ以上であることが
好ましい。本発明では、媒体の機械的強度および第１誘
電体層５のビッカース硬度の点から硬度補強層７のビッ
カース硬度が、４ＧＰａ以上であれば、硬度補強層７が
薄くても、媒体の機械的強度を補強でき、相変化記録層
４の流動を抑制し、書換回数を確保することができる。
このような、硬度補強層７の材料としては、例えば、金
属窒化物、金属酸化物、金属炭化物、金属硫化物、金属
セレン化物等の金属化合物およびその混合物である。
補強層のビッカース硬度は、４ＧＰａ以上であることが
好ましい。本発明では、媒体の機械的強度および第１誘
電体層５のビッカース硬度の点から硬度補強層７のビッ
カース硬度が、４ＧＰａ以上であれば、硬度補強層７が
薄くても、媒体の機械的強度を補強でき、相変化記録層
４の流動を抑制し、書換回数を確保することができる。
このような、硬度補強層７の材料としては、例えば、金
属窒化物、金属酸化物、金属炭化物、金属硫化物、金属
セレン化物等の金属化合物およびその混合物である。
【００１９】また、請求項５に記載の発明は、前記硬度
補強層のヌープ硬度は、４ＧＰａ以上であることが好ま
しい。本発明では、媒体の機械的強度を充分保持し、請
求項４に記載の発明と同様の作用効果を奏する。
補強層のヌープ硬度は、４ＧＰａ以上であることが好ま
しい。本発明では、媒体の機械的強度を充分保持し、請
求項４に記載の発明と同様の作用効果を奏する。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施形態を図面
に基づいて説明する。 ［第１実施形態］本発明の光記録媒体における膜構成
は、図２に示すように、媒体の基体となる光入射側基板
６および光反射側基板１との間に、レーザー光の照射に
より非晶相と結晶相との間を相変化する相変化記録層４
と、相変化記録層４の保護的機能および光学的調整機能
を有する第１誘電体層５および第２誘電体層３と、相変
化記録層４を透過したレーザー光を反射させる反射膜層
２と、媒体の機械的強度を補強する硬度補強層７と、必
要に応じて、硬度補強層７を付与することによる光学的
特性の変化を補正する機能を有する保護層８とがそれぞ
れスパッタリングにより形成され、これらの層が積層構
造をした構成となっている。
に基づいて説明する。 ［第１実施形態］本発明の光記録媒体における膜構成
は、図２に示すように、媒体の基体となる光入射側基板
６および光反射側基板１との間に、レーザー光の照射に
より非晶相と結晶相との間を相変化する相変化記録層４
と、相変化記録層４の保護的機能および光学的調整機能
を有する第１誘電体層５および第２誘電体層３と、相変
化記録層４を透過したレーザー光を反射させる反射膜層
２と、媒体の機械的強度を補強する硬度補強層７と、必
要に応じて、硬度補強層７を付与することによる光学的
特性の変化を補正する機能を有する保護層８とがそれぞ
れスパッタリングにより形成され、これらの層が積層構
造をした構成となっている。
【００２１】光反射側基板１は、一般的に可視光領域で
透明であって、均一でありかつ吸水性および吸湿性を有
する材料が用いられている。通常、この光反射側基板１
は、レーザーカッティングによりサブミクロン精度でト
ラッキング用溝が形成されたスタンパーと称する金型を
用いて射出成形により作成されている。ここで、材料と
しては上記のような特性を有しているものが採用でき
る。例えば、ガラス製、およびポリカーボネート等のプ
ラスチック樹脂製の基板が採用できる。この基板上に下
記に示す層を順次、スパッタリングにより積層してい
る。反射膜層２は、高反射性を有することで、反射光量
を上げ、信号コントラストを大きくすることができる。
また、反射層２は放熱層の役割もあり、一般に熱伝導率
の高い材料が望ましい。特に、耐腐食性、レーザー光照
射による熱の安定性を有する材料として、例えば、Ａ
ｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｃｒ等の単一金属材料、これら
複数種類の金属を含む合金、およびその混合物が採用で
きる。
透明であって、均一でありかつ吸水性および吸湿性を有
する材料が用いられている。通常、この光反射側基板１
は、レーザーカッティングによりサブミクロン精度でト
ラッキング用溝が形成されたスタンパーと称する金型を
用いて射出成形により作成されている。ここで、材料と
しては上記のような特性を有しているものが採用でき
る。例えば、ガラス製、およびポリカーボネート等のプ
ラスチック樹脂製の基板が採用できる。この基板上に下
記に示す層を順次、スパッタリングにより積層してい
る。反射膜層２は、高反射性を有することで、反射光量
を上げ、信号コントラストを大きくすることができる。
また、反射層２は放熱層の役割もあり、一般に熱伝導率
の高い材料が望ましい。特に、耐腐食性、レーザー光照
射による熱の安定性を有する材料として、例えば、Ａ
ｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｃｒ等の単一金属材料、これら
複数種類の金属を含む合金、およびその混合物が採用で
きる。
【００２２】第１誘電体層５および第２誘電体層３は、
相変化記録層４の酸化等による化学的変化による光学特
性の変化を防止するように相変化記録層４に接してかつ
挟むように形成されており、相変化記録層４との密着性
および記録時における相変化記録層４の融解による熱に
対する安定性の高い材料が必要とされる。例えば、Ｚｎ
Ｓの薄膜、ＳｉＯ２等の金属酸化物、金属窒化物、金属
硫化物、金属セレン化物等の金属化合物およびその混合
物が採用できる。ここで、第１誘電体層５の膜厚は、後
述の実験結果（表３）に基づいて、硬度補強層７による
機械的強度を補強する効果が充分に得られるために、１
ｎｍ以上５ｎｍ以下が好ましい。相変化記録層４は、レ
ーザー光照射により非晶相と結晶相との間を相変化し、
結晶相と非晶相では複素屈折率が異なるために、媒体の
反射率若しくは位相が異なり、情報が読み出せるように
したものである。本発明における相変化記録層４として
は、特に限定するものではないが、Ｓｂ−Ｔｅ，Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｔｅ，Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，およびＧｅ−Ｉ
ｎ−Ｓｂ−Ｔｅ等が挙げられる。この中でもＧｅ、Ｉ
ｎ、Ｓｂ、Ｔｅを主成分とするものが、結晶化速度が速
く、消去時間が短く、かつ多数回の記録に優れている。
相変化記録層４の酸化等による化学的変化による光学特
性の変化を防止するように相変化記録層４に接してかつ
挟むように形成されており、相変化記録層４との密着性
および記録時における相変化記録層４の融解による熱に
対する安定性の高い材料が必要とされる。例えば、Ｚｎ
Ｓの薄膜、ＳｉＯ２等の金属酸化物、金属窒化物、金属
硫化物、金属セレン化物等の金属化合物およびその混合
物が採用できる。ここで、第１誘電体層５の膜厚は、後
述の実験結果（表３）に基づいて、硬度補強層７による
機械的強度を補強する効果が充分に得られるために、１
ｎｍ以上５ｎｍ以下が好ましい。相変化記録層４は、レ
ーザー光照射により非晶相と結晶相との間を相変化し、
結晶相と非晶相では複素屈折率が異なるために、媒体の
反射率若しくは位相が異なり、情報が読み出せるように
したものである。本発明における相変化記録層４として
は、特に限定するものではないが、Ｓｂ−Ｔｅ，Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｔｅ，Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，およびＧｅ−Ｉ
ｎ−Ｓｂ−Ｔｅ等が挙げられる。この中でもＧｅ、Ｉ
ｎ、Ｓｂ、Ｔｅを主成分とするものが、結晶化速度が速
く、消去時間が短く、かつ多数回の記録に優れている。
【００２３】硬度補強層７は、第１誘電体層５よりも高
い硬度を有することにより、媒体の機械的強度を補強
し、記録時におけるレーザー光等の高エネルギービーム
照射による記録層の高温化に伴った熱流動とその後生ず
る層全体の変形を防止するものである。ここで、硬度補
強層７のビッカース硬度またはヌープ硬度は、第１誘電
体層５に特によく使われるＺｎＳ−ＳｉＯ２のビッカー
ス硬度およびヌープ硬度である４ＧＰａ（４００ｋｇｆ
／ｍｍ２）以上が好ましく、例えば、表１に示すような
金属窒化物、金属酸化物、金属炭化物、金属硫化物、金
属セレン化物等の金属化合物およびその化合物が採用で
きる。また、硬度補強層７の膜厚は、媒体の機械的強度
を維持する範囲内で、また、多数回にわたる書き換えの
繰り返しの結果、後述の実験結果（表３）に基づいて、
隣接する各層との界面における剥離および微小なクラッ
クが発生しないことから１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の範囲
内で形成することが好ましく、かつ硬度補強層７の膜厚
Ｔh と第１誘電体層５の膜厚Ｔ1 との間に０．４＜Ｔh
／Ｔ1 の関係があることが好ましい。
い硬度を有することにより、媒体の機械的強度を補強
し、記録時におけるレーザー光等の高エネルギービーム
照射による記録層の高温化に伴った熱流動とその後生ず
る層全体の変形を防止するものである。ここで、硬度補
強層７のビッカース硬度またはヌープ硬度は、第１誘電
体層５に特によく使われるＺｎＳ−ＳｉＯ２のビッカー
ス硬度およびヌープ硬度である４ＧＰａ（４００ｋｇｆ
／ｍｍ２）以上が好ましく、例えば、表１に示すような
金属窒化物、金属酸化物、金属炭化物、金属硫化物、金
属セレン化物等の金属化合物およびその化合物が採用で
きる。また、硬度補強層７の膜厚は、媒体の機械的強度
を維持する範囲内で、また、多数回にわたる書き換えの
繰り返しの結果、後述の実験結果（表３）に基づいて、
隣接する各層との界面における剥離および微小なクラッ
クが発生しないことから１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の範囲
内で形成することが好ましく、かつ硬度補強層７の膜厚
Ｔh と第１誘電体層５の膜厚Ｔ1 との間に０．４＜Ｔh
／Ｔ1 の関係があることが好ましい。
【００２４】
【表１】
【００２５】保護層８は、硬度補強層７を付与すること
によって生じた光学的特性の変化を必要に応じて補正す
るものであり、同時に副次的効果として、相変化記録層
４を外部からの機械的なダメージから保護し、かつ光入
射側基板６への熱的ダメージを低減するものであり、光
入射側基板６との密着性が高い材料が採用される。材料
としては特に限定はしないが、第１誘電体層５または第
２誘電体層３と同じでも構わない。光入射側基板６は、
上記光反射側基板１と同様に均一でありかつ吸水性およ
び吸湿性を有する材料が採用できる。ここで、材料とし
ては、ガラス製およびポリカーボネート等のプラスチッ
ク樹脂製のシート６Ｂが用いられ、シート６Ｂは保護層
８上面に接着剤６Ａを用いて貼り付けられている。
によって生じた光学的特性の変化を必要に応じて補正す
るものであり、同時に副次的効果として、相変化記録層
４を外部からの機械的なダメージから保護し、かつ光入
射側基板６への熱的ダメージを低減するものであり、光
入射側基板６との密着性が高い材料が採用される。材料
としては特に限定はしないが、第１誘電体層５または第
２誘電体層３と同じでも構わない。光入射側基板６は、
上記光反射側基板１と同様に均一でありかつ吸水性およ
び吸湿性を有する材料が採用できる。ここで、材料とし
ては、ガラス製およびポリカーボネート等のプラスチッ
ク樹脂製のシート６Ｂが用いられ、シート６Ｂは保護層
８上面に接着剤６Ａを用いて貼り付けられている。
【００２６】前述のような第１実施形態によれば、次の
ような効果が得られる。 （１） 第１誘電体層５よりも高硬度である硬度補強層
７を設けるとともに、硬度補強層７を構成する物質を適
宜選択することにより、膜厚の小さい硬度補強層７であ
っても、光記録媒体全体を充分補強でき、光記録媒体の
機械的強度の増加が図れる。特に、記録時において、高
記録密度化に対応した短波長の高エネルギービームが照
射され、相変化記録層４が高温になっても、相変化記録
層４の熱による著しい機械的歪みが硬度補強層７により
防止されるので、相変化記録層４の流動とその後生ずる
層全体の変形を防止することができ、繰り返し記録への
耐性を向上することができる。 （２） 硬度補強層７を導入することにより、媒体の機
械的強度を増加することができ、高エネルギー密度のレ
ーザー光照射による相変化記録層４の膜厚変化や、熱膨
張による第１誘電体層５、第２誘電体層３等の物理的な
変形を防止することができるので、トラッキングを安定
にし、記録・消去時において隣接トラックの非晶相記録
部を消してしまうクロスイレーズの発生、および再生時
において隣接トラックからの再生信号のもれ込みが生ず
るクロストークの発生を防止することができる。 （３） 硬度補強層７は、相変化記録層４に接すること
なく第１誘電体層５を介して積層されているので、硬度
補強層７により相変化記録層４の熱伝達特性を変化させ
ることはなく、すなわち、レーザー光照射による熱が相
変化記録層４内で適度に拡散を行うことができ、安定し
た記録感度を得ることができる。 （４） 硬度補強層７の膜厚を１ｎｍ以上１０ｎｍ以下
程度にしても、光記録媒体の機械的強度を充分保持し、
相変化記録層４の熱による機械的歪みを防止することが
でき、さらに、硬度補強層７の膜厚が薄い領域で形成さ
れることにより、硬度補強層７の膜中に発生する応力を
低減することができるため、隣接する各層との界面にお
ける剥離や微小なクラックの発生を防止し、繰り返し記
録への耐性を向上することができる。 （５） 第１誘電体層５の膜厚を１ｎｍ以上５ｎｍ以下
程度にしても、相変化記録層４の保護的機能および光学
的調整機能が確保されるので、記録再生特性を損なわな
い。さらに、このような薄い範囲内で第１誘電体層５を
形成することにより、硬度補強層７によって行われる、
高エネルギー密度のレーザー光照射による相変化記録層
４の高温化に伴った熱流動の抑制効果を促進することが
できる。 （６） 硬度補強層の膜厚Ｔh と第１誘電体層の膜厚Ｔ
1 とにおいて０．４＜Ｔh ／Ｔ1 の範囲内で、硬度補強
層７および第１誘電体層５の膜厚を充分薄く形成するこ
とにより、光記録媒体の製造にあたって、成膜時間は短
縮され、生産性の向上に繋がる。 （７） 硬度補強層７の硬度は、第１誘電体層５の硬度
よりも高く、かつそのビッカース硬度またはヌープ硬度
が４ＧＰａ以上であれば、硬度補強層７の膜厚が薄くて
も、相変化記録層４のレーザー光照射による熱流動を抑
制し、繰り返し記録への耐性を向上することができる。
このような材料としては、表１に示すような種々の材料
を使用することができ、光記録媒体の設計における最適
化が可能となる。
ような効果が得られる。 （１） 第１誘電体層５よりも高硬度である硬度補強層
７を設けるとともに、硬度補強層７を構成する物質を適
宜選択することにより、膜厚の小さい硬度補強層７であ
っても、光記録媒体全体を充分補強でき、光記録媒体の
機械的強度の増加が図れる。特に、記録時において、高
記録密度化に対応した短波長の高エネルギービームが照
射され、相変化記録層４が高温になっても、相変化記録
層４の熱による著しい機械的歪みが硬度補強層７により
防止されるので、相変化記録層４の流動とその後生ずる
層全体の変形を防止することができ、繰り返し記録への
耐性を向上することができる。 （２） 硬度補強層７を導入することにより、媒体の機
械的強度を増加することができ、高エネルギー密度のレ
ーザー光照射による相変化記録層４の膜厚変化や、熱膨
張による第１誘電体層５、第２誘電体層３等の物理的な
変形を防止することができるので、トラッキングを安定
にし、記録・消去時において隣接トラックの非晶相記録
部を消してしまうクロスイレーズの発生、および再生時
において隣接トラックからの再生信号のもれ込みが生ず
るクロストークの発生を防止することができる。 （３） 硬度補強層７は、相変化記録層４に接すること
なく第１誘電体層５を介して積層されているので、硬度
補強層７により相変化記録層４の熱伝達特性を変化させ
ることはなく、すなわち、レーザー光照射による熱が相
変化記録層４内で適度に拡散を行うことができ、安定し
た記録感度を得ることができる。 （４） 硬度補強層７の膜厚を１ｎｍ以上１０ｎｍ以下
程度にしても、光記録媒体の機械的強度を充分保持し、
相変化記録層４の熱による機械的歪みを防止することが
でき、さらに、硬度補強層７の膜厚が薄い領域で形成さ
れることにより、硬度補強層７の膜中に発生する応力を
低減することができるため、隣接する各層との界面にお
ける剥離や微小なクラックの発生を防止し、繰り返し記
録への耐性を向上することができる。 （５） 第１誘電体層５の膜厚を１ｎｍ以上５ｎｍ以下
程度にしても、相変化記録層４の保護的機能および光学
的調整機能が確保されるので、記録再生特性を損なわな
い。さらに、このような薄い範囲内で第１誘電体層５を
形成することにより、硬度補強層７によって行われる、
高エネルギー密度のレーザー光照射による相変化記録層
４の高温化に伴った熱流動の抑制効果を促進することが
できる。 （６） 硬度補強層の膜厚Ｔh と第１誘電体層の膜厚Ｔ
1 とにおいて０．４＜Ｔh ／Ｔ1 の範囲内で、硬度補強
層７および第１誘電体層５の膜厚を充分薄く形成するこ
とにより、光記録媒体の製造にあたって、成膜時間は短
縮され、生産性の向上に繋がる。 （７） 硬度補強層７の硬度は、第１誘電体層５の硬度
よりも高く、かつそのビッカース硬度またはヌープ硬度
が４ＧＰａ以上であれば、硬度補強層７の膜厚が薄くて
も、相変化記録層４のレーザー光照射による熱流動を抑
制し、繰り返し記録への耐性を向上することができる。
このような材料としては、表１に示すような種々の材料
を使用することができ、光記録媒体の設計における最適
化が可能となる。
【００２７】［第２実施形態］以下の説明では、前記第
１実施形態と同様の構造および同一部材には同一符号を
付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。前記
第１実施形態における光記録媒体では、光反射側基板１
上に反射膜層２、第２誘電体層３、相変化記録層４、第
１誘電体層５、硬度補強層７、保護層８が順次、スパッ
タリングにより積層され、その上に光入射側基板６が形
成された構成になっていた。これに対して、第２実施形
態における光記録媒体では、図３に示すように反射膜層
２と第２誘電体層３との間に第３誘電体層９が介在して
いる点が相違する。具体的に、第３誘電体層９は、熱伝
導率が第２誘電体層３と異なる層を積層することによ
り、相変化記録層４に加えられた熱の冷却特性を改善
し、記録・消去時において隣接トラックまで熱が拡がっ
て、隣接トラックの非晶相記録部を消してしまうクロス
イレーズの発生を防止するものであり、材料としては、
特に限定しないが、第２誘電体層３とは異なる構成と
し、例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金
属硫化物、金属セレン化物の金属化合物およびその混合
物が採用できる。
１実施形態と同様の構造および同一部材には同一符号を
付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。前記
第１実施形態における光記録媒体では、光反射側基板１
上に反射膜層２、第２誘電体層３、相変化記録層４、第
１誘電体層５、硬度補強層７、保護層８が順次、スパッ
タリングにより積層され、その上に光入射側基板６が形
成された構成になっていた。これに対して、第２実施形
態における光記録媒体では、図３に示すように反射膜層
２と第２誘電体層３との間に第３誘電体層９が介在して
いる点が相違する。具体的に、第３誘電体層９は、熱伝
導率が第２誘電体層３と異なる層を積層することによ
り、相変化記録層４に加えられた熱の冷却特性を改善
し、記録・消去時において隣接トラックまで熱が拡がっ
て、隣接トラックの非晶相記録部を消してしまうクロス
イレーズの発生を防止するものであり、材料としては、
特に限定しないが、第２誘電体層３とは異なる構成と
し、例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金
属硫化物、金属セレン化物の金属化合物およびその混合
物が採用できる。
【００２８】前述のような第２実施形態によれば、前記
（１）から（７）と同様の効果の他、次のような効果が
得られる。 （８） 相変化記録層４の冷却特性の調整機能を有する
第３誘電体層９という熱伝導率の異なる層を導入するこ
とにより、記録・消去時において隣接トラックの非晶相
記録部を消してしまうクロスイレーズの発生を防止する
ことができる。 （９） 反射膜層２と第２誘電体層３の構成物質が互い
に拡散すると反応して変質しやすいような材料の場合に
は、第３誘電体層９によってバリア層としての効果を得
ることができ、記録媒体の保存性を向上することができ
る。 （１０） 第３誘電体層９の構成を、硬度補強層７と同
様の構成にすれば、相変化記録層４を両側から挟む形に
なり、高エネルギー密度のレーザー光照射による相変化
記録層４の熱流動をさらに抑制し、かつその後生ずる層
全体の変形を防止することができる。
（１）から（７）と同様の効果の他、次のような効果が
得られる。 （８） 相変化記録層４の冷却特性の調整機能を有する
第３誘電体層９という熱伝導率の異なる層を導入するこ
とにより、記録・消去時において隣接トラックの非晶相
記録部を消してしまうクロスイレーズの発生を防止する
ことができる。 （９） 反射膜層２と第２誘電体層３の構成物質が互い
に拡散すると反応して変質しやすいような材料の場合に
は、第３誘電体層９によってバリア層としての効果を得
ることができ、記録媒体の保存性を向上することができ
る。 （１０） 第３誘電体層９の構成を、硬度補強層７と同
様の構成にすれば、相変化記録層４を両側から挟む形に
なり、高エネルギー密度のレーザー光照射による相変化
記録層４の熱流動をさらに抑制し、かつその後生ずる層
全体の変形を防止することができる。
【００２９】
【実施例】以下、本発明の効果を具体的な実施例に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００３０】［実施例１］本実施例１は、前記第１実施
形態に基づいて以下のように光記録媒体を構成し、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。すなわち、
表２ａに示すように、厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｃｍ、
０．３１５μｍピッチのスパイラルグルーブ付きポリカ
ーボネート樹脂の光反射側基板１上にスパッタリングに
より、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金を成膜し、膜厚１００ｎｍ
の反射膜層２を形成した。次に、ＺｎＳ−ＳｉＯ２を成
膜し、膜厚６ｎｍの第２誘電体層３を形成した。続い
て、Ｇｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅの四元系合金を成膜し、膜
厚１６ｎｍの相変化記録層４を得た。さらに、第２誘電
体層３と同じＺｎＳ−ＳｉＯ２を成膜し、膜厚５ｎｍの
第１誘電体層５を形成した。さらにまた、ＡｌＮを成膜
し、膜厚５ｎｍの硬度補強層７を形成した後に、第１誘
電体層５および第２誘電体層３と同じＺｎＳ−ＳｉＯ２
を成膜し、膜厚２５ｎｍの保護層８を形成した。この上
に、接着剤６Ｂを用いて膜厚０．０９ｍｍのポリカーボ
ネート樹脂シート６Ａを貼り付けて総厚が０．１ｍｍの
光入射側基板６を形成し、本発明の光記録媒体を得た。
形態に基づいて以下のように光記録媒体を構成し、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。すなわち、
表２ａに示すように、厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｃｍ、
０．３１５μｍピッチのスパイラルグルーブ付きポリカ
ーボネート樹脂の光反射側基板１上にスパッタリングに
より、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金を成膜し、膜厚１００ｎｍ
の反射膜層２を形成した。次に、ＺｎＳ−ＳｉＯ２を成
膜し、膜厚６ｎｍの第２誘電体層３を形成した。続い
て、Ｇｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅの四元系合金を成膜し、膜
厚１６ｎｍの相変化記録層４を得た。さらに、第２誘電
体層３と同じＺｎＳ−ＳｉＯ２を成膜し、膜厚５ｎｍの
第１誘電体層５を形成した。さらにまた、ＡｌＮを成膜
し、膜厚５ｎｍの硬度補強層７を形成した後に、第１誘
電体層５および第２誘電体層３と同じＺｎＳ−ＳｉＯ２
を成膜し、膜厚２５ｎｍの保護層８を形成した。この上
に、接着剤６Ｂを用いて膜厚０．０９ｍｍのポリカーボ
ネート樹脂シート６Ａを貼り付けて総厚が０．１ｍｍの
光入射側基板６を形成し、本発明の光記録媒体を得た。
【００３１】［実施例２］本実施例２は、前記実施例１
における成膜条件を以下のように変更したうえで、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ５ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； １０ｎｍ 保護層の膜厚 ； ２０ｎｍ
における成膜条件を以下のように変更したうえで、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ５ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； １０ｎｍ 保護層の膜厚 ； ２０ｎｍ
【００３２】［実施例３］本実施例３は、前記第２実施
形態に基づいて以下のように光記録媒体を構成し、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。すなわち、
表２ｂに示すように、厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｃｍ、
０．６００μｍピッチ（ランド幅０．３００μｍ、グル
ーブ幅０．３００μｍ）のスパイラルグルーブ付きポリ
カーボネート樹脂の光反射側基板１上にスパッタリング
により、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金を成膜し、膜厚２００ｎ
ｍの反射膜層２を形成した。次に、ＡｌＮを成膜し、膜
厚５ｎｍの第３誘電体層９を形成した。次に、ＺｎＳ−
ＳｉＯ２を成膜し、膜厚５ｎｍの第２誘電体層３を形成
した。続いて、Ｇｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅの四元系合金を
成膜し、膜厚１０ｎｍの相変化記録層４を得た。さら
に、第２誘電体層と同じＺｎＳ−ＳｉＯ２を成膜し、膜
厚２ｎｍの第１誘電体層５を形成した。さらにまた、第
３誘電体層９と同じＡｌＮを成膜し、膜厚１ｎｍの硬度
補強層７を形成した後に、第１誘電体層５および第２誘
電体層３と同じＺｎＳ−ＳｉＯ２を成膜し、膜厚１２１
ｎｍの保護層８を形成した。この上に、紫外線硬化性樹
脂をスピンコート法により塗布硬化して厚さ０．１ｍｍ
の光入射側基板６を形成し、本発明の光記録媒体を得
た。
形態に基づいて以下のように光記録媒体を構成し、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。すなわち、
表２ｂに示すように、厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｃｍ、
０．６００μｍピッチ（ランド幅０．３００μｍ、グル
ーブ幅０．３００μｍ）のスパイラルグルーブ付きポリ
カーボネート樹脂の光反射側基板１上にスパッタリング
により、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金を成膜し、膜厚２００ｎ
ｍの反射膜層２を形成した。次に、ＡｌＮを成膜し、膜
厚５ｎｍの第３誘電体層９を形成した。次に、ＺｎＳ−
ＳｉＯ２を成膜し、膜厚５ｎｍの第２誘電体層３を形成
した。続いて、Ｇｅ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅの四元系合金を
成膜し、膜厚１０ｎｍの相変化記録層４を得た。さら
に、第２誘電体層と同じＺｎＳ−ＳｉＯ２を成膜し、膜
厚２ｎｍの第１誘電体層５を形成した。さらにまた、第
３誘電体層９と同じＡｌＮを成膜し、膜厚１ｎｍの硬度
補強層７を形成した後に、第１誘電体層５および第２誘
電体層３と同じＺｎＳ−ＳｉＯ２を成膜し、膜厚１２１
ｎｍの保護層８を形成した。この上に、紫外線硬化性樹
脂をスピンコート法により塗布硬化して厚さ０．１ｍｍ
の光入射側基板６を形成し、本発明の光記録媒体を得
た。
【００３３】［実施例４］本実施例４は、前記実施例３
における成膜条件を以下のように変更して光記録媒体を
構成し、多数回の書き換えによるジッタ特性を評価す
る。 第１誘電体層の膜厚 ； １ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； １ｎｍ 保護層の膜厚 ； １２２ｎｍ ［実施例５］本実施例５は、前記実施例３における成膜
条件を以下のように変更して光記録媒体を構成し、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ２ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； ２ｎｍ 保護層の膜厚 ； １２０ｎｍ
における成膜条件を以下のように変更して光記録媒体を
構成し、多数回の書き換えによるジッタ特性を評価す
る。 第１誘電体層の膜厚 ； １ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； １ｎｍ 保護層の膜厚 ； １２２ｎｍ ［実施例５］本実施例５は、前記実施例３における成膜
条件を以下のように変更して光記録媒体を構成し、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ２ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； ２ｎｍ 保護層の膜厚 ； １２０ｎｍ
【００３４】［実施例６］本実施例６は、前記実施例３
における成膜条件を以下のように変更して光記録媒体を
構成し、多数回の書き換えによるジッタ特性を評価す
る。 第１誘電体層の膜厚 ； ３ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； ２ｎｍ 保護層の膜厚 ； １１９ｎｍ ［比較例１］本比較例１は、前記実施例１における成膜
条件を以下のように変更したうえで、多数回の書き換え
によるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ３５ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； 成膜せず 保護層の膜厚 ； 成膜せず
における成膜条件を以下のように変更して光記録媒体を
構成し、多数回の書き換えによるジッタ特性を評価す
る。 第１誘電体層の膜厚 ； ３ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； ２ｎｍ 保護層の膜厚 ； １１９ｎｍ ［比較例１］本比較例１は、前記実施例１における成膜
条件を以下のように変更したうえで、多数回の書き換え
によるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ３５ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； 成膜せず 保護層の膜厚 ； 成膜せず
【００３５】［比較例２］本比較例２は、前記実施例１
における成膜条件を以下のように変更したうえで、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ３０ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； ５ｎｍ 保護層の膜厚 ； 成膜せず ［比較例３］本比較例３は、前記実施例１における成膜
条件を以下のように変更したうえで、多数回の書き換え
によるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ２５ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； １０ｎｍ 保護層の膜厚 ； 成膜せず
における成膜条件を以下のように変更したうえで、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ３０ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； ５ｎｍ 保護層の膜厚 ； 成膜せず ［比較例３］本比較例３は、前記実施例１における成膜
条件を以下のように変更したうえで、多数回の書き換え
によるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ２５ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； １０ｎｍ 保護層の膜厚 ； 成膜せず
【００３６】［比較例４］本比較例４は、前記実施例１
における成膜条件を以下のように変更したうえで、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ５ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； １５ｎｍ 保護層の膜厚 ； １５ｎｍ
における成膜条件を以下のように変更したうえで、多数
回の書き換えによるジッタ特性を評価する。 第１誘電体層の膜厚 ； ５ｎｍ 硬度補強層の膜厚 ； １５ｎｍ 保護層の膜厚 ； １５ｎｍ
【００３７】
【表２】
【００３８】［実験結果］スパッタリングにより成膜し
た光記録媒体は、予め、波長８１０ｎｍの半導体レーザ
ーのビームをあてて、光記録媒体の記録層全面を結晶相
とすることで初期化している。実施例１、２および比較
例１から比較例４においては、下記条件１によってジッ
タ特性を評価し、実施例３から実施例６においては、下
記条件２によってジッタ特性を評価する。その結果は、
表２に示されている。
た光記録媒体は、予め、波長８１０ｎｍの半導体レーザ
ーのビームをあてて、光記録媒体の記録層全面を結晶相
とすることで初期化している。実施例１、２および比較
例１から比較例４においては、下記条件１によってジッ
タ特性を評価し、実施例３から実施例６においては、下
記条件２によってジッタ特性を評価する。その結果は、
表２に示されている。
【００３９】（条件１） 線速度５ｍ／ｓの条件で、対
物レンズ開口数０．８５、半導体レーザー波長４０３ｎ
ｍの光ヘッドを用いて、１−７変調のランダムパターン
をマークエッジ記録方式で１万回の繰り返しオーバーラ
イトを行った。ここで、記録には一般的な３値のマルチ
パルスを用いて、記録パワーは４．０ｍＷ、消去パワー
は２．２ｍＷ、ウインドウ幅は１５．１３ｎｓとした。 （条件２） 線速度５．７ｍ／ｓの条件で、対物レンズ
開口数０．８５、半導体レーザー波長４０３ｎｍの光ヘ
ッドを用いて、１−７変調のランダムパターンをマーク
エッジ記録方式で１万回の繰り返しオーバーライトを行
った。ここで、記録には一般的な３値のマルチパルスを
用いて、記録パワーは４．５ｍＷ、消去パワーは２．５
ｍＷ、ウインドウ幅は１５．１５ｎｓとした。
物レンズ開口数０．８５、半導体レーザー波長４０３ｎ
ｍの光ヘッドを用いて、１−７変調のランダムパターン
をマークエッジ記録方式で１万回の繰り返しオーバーラ
イトを行った。ここで、記録には一般的な３値のマルチ
パルスを用いて、記録パワーは４．０ｍＷ、消去パワー
は２．２ｍＷ、ウインドウ幅は１５．１３ｎｓとした。 （条件２） 線速度５．７ｍ／ｓの条件で、対物レンズ
開口数０．８５、半導体レーザー波長４０３ｎｍの光ヘ
ッドを用いて、１−７変調のランダムパターンをマーク
エッジ記録方式で１万回の繰り返しオーバーライトを行
った。ここで、記録には一般的な３値のマルチパルスを
用いて、記録パワーは４．５ｍＷ、消去パワーは２．５
ｍＷ、ウインドウ幅は１５．１５ｎｓとした。
【００４０】実施例１によれば、１万回の繰り返しオー
バーライト後でも、ジッタはウインドウ幅１５．１３ｎ
ｓの１０％以下という実用上良好な結果を得ることがで
きた。硬度補強層７を導入したことにより、光記録媒体
の機械的強度を高め、相変化記録層４の熱流動を抑制
し、記録マークを安定に維持していることが考えられ
る。また、硬度補強層７の膜厚が５ｎｍという薄い領域
であるために、硬度補強層７内部において発生する応力
が抑制され、１万回の繰り返しオーバーライトでも剥離
欠陥や微小なクラックが発生せず、かつ第１誘電体層５
が５ｎｍと薄い領域であるために、硬度補強層７による
相変化記録層４の熱流動抑制効果を促進させていると考
えられる。実施例２によれば、ジッタ特性は、実施例１
とほぼ同様な結果であり、１万回の繰り返しオーバーラ
イト後でも、ジッタはウインドウ幅１５．１３ｎｓの１
０％以下という実用上良好な結果を得ることができた。
硬度補強層７の膜厚が１０ｎｍでも熱応力の発生が抑制
されていると考えられる。
バーライト後でも、ジッタはウインドウ幅１５．１３ｎ
ｓの１０％以下という実用上良好な結果を得ることがで
きた。硬度補強層７を導入したことにより、光記録媒体
の機械的強度を高め、相変化記録層４の熱流動を抑制
し、記録マークを安定に維持していることが考えられ
る。また、硬度補強層７の膜厚が５ｎｍという薄い領域
であるために、硬度補強層７内部において発生する応力
が抑制され、１万回の繰り返しオーバーライトでも剥離
欠陥や微小なクラックが発生せず、かつ第１誘電体層５
が５ｎｍと薄い領域であるために、硬度補強層７による
相変化記録層４の熱流動抑制効果を促進させていると考
えられる。実施例２によれば、ジッタ特性は、実施例１
とほぼ同様な結果であり、１万回の繰り返しオーバーラ
イト後でも、ジッタはウインドウ幅１５．１３ｎｓの１
０％以下という実用上良好な結果を得ることができた。
硬度補強層７の膜厚が１０ｎｍでも熱応力の発生が抑制
されていると考えられる。
【００４１】実施例３によれば、１万回の繰り返しオー
バーライト後でも、ジッタはウインドウ幅１５．１５ｎ
ｓの１０％以下という実用上良好な結果を得ることがで
きた。硬度補強層７と同様の構成である第３誘電体層９
を導入することにより、硬度補強層７の膜厚を１ｎｍと
いう前記実施例１よりも薄い領域でも前記実施例１と同
様の効果を奏すると考えられる。実施例４から実施例６
によれば、ジッタ特性は、実施例３とほぼ同様な結果で
あり、１万回の繰り返しオーバーライト後のジッタは、
ウインドウ幅１５．１５ｎｓの１０％以下という実用上
良好な結果を得ることができた。
バーライト後でも、ジッタはウインドウ幅１５．１５ｎ
ｓの１０％以下という実用上良好な結果を得ることがで
きた。硬度補強層７と同様の構成である第３誘電体層９
を導入することにより、硬度補強層７の膜厚を１ｎｍと
いう前記実施例１よりも薄い領域でも前記実施例１と同
様の効果を奏すると考えられる。実施例４から実施例６
によれば、ジッタ特性は、実施例３とほぼ同様な結果で
あり、１万回の繰り返しオーバーライト後のジッタは、
ウインドウ幅１５．１５ｎｓの１０％以下という実用上
良好な結果を得ることができた。
【００４２】比較例１によれば、千回の繰り返しオーバ
ーライト後に、ジッタはウインドウ幅１５．１３ｎｓの
１２％よりも大きくなり実用上好ましくない結果となっ
た。第１誘電体層５だけでは、波長４０３ｎｍの高エネ
ルギー密度を有するレーザー光の照射による相変化記録
層４の熱流動およびその後生ずる層全体の変形を回避す
ることができないと考えられる。比較例２および比較例
３によれば、千回の繰り返しオーバーライト後から、ジ
ッタはウインドウ幅１５．１３ｎｓの１０％以上と増加
が始まり、さらに、１万回の繰り返しオーバーライト後
には、ウインドウ幅１５．１３ｎｓの１２％よりも大き
くなり実用上好ましくない結果となった。硬度補強層７
を導入しても第１誘電体層５の膜厚が３０ｎｍ、２５ｎ
ｍと大きい領域にあるために、硬度補強層７による光記
録媒体の機械的強度の補強および相変化記録層４の熱に
よる機械的歪みを防止する効果を抑制してしまい、相変
化記録層４の記録マークの歪みが起こったと考えられ
る。
ーライト後に、ジッタはウインドウ幅１５．１３ｎｓの
１２％よりも大きくなり実用上好ましくない結果となっ
た。第１誘電体層５だけでは、波長４０３ｎｍの高エネ
ルギー密度を有するレーザー光の照射による相変化記録
層４の熱流動およびその後生ずる層全体の変形を回避す
ることができないと考えられる。比較例２および比較例
３によれば、千回の繰り返しオーバーライト後から、ジ
ッタはウインドウ幅１５．１３ｎｓの１０％以上と増加
が始まり、さらに、１万回の繰り返しオーバーライト後
には、ウインドウ幅１５．１３ｎｓの１２％よりも大き
くなり実用上好ましくない結果となった。硬度補強層７
を導入しても第１誘電体層５の膜厚が３０ｎｍ、２５ｎ
ｍと大きい領域にあるために、硬度補強層７による光記
録媒体の機械的強度の補強および相変化記録層４の熱に
よる機械的歪みを防止する効果を抑制してしまい、相変
化記録層４の記録マークの歪みが起こったと考えられ
る。
【００４３】比較例４によれば、千回の繰り返しオーバ
ーライト後から、ジッタはウインドウ幅１５．１３ｎｓ
の１０％以上になって増加が始まり、さらに、１万回の
繰り返しオーバーライト後には、ウインドウ幅１５．１
３ｎｓの１２％よりも大きくなり実用上好ましくない結
果となった。第１誘電体層５の膜厚は５ｎｍと薄い領域
であるが、硬度補強層７の膜厚が１５ｎｍまで厚い領域
にあるために、波長４０３ｎｍの高エネルギー密度のレ
ーザー光照射によって硬度補強層７内部に大きい熱応力
が発生し、多数回にわたるオーバーライトの結果、剥離
欠陥やクラックが生じてしまったと考えられる。
ーライト後から、ジッタはウインドウ幅１５．１３ｎｓ
の１０％以上になって増加が始まり、さらに、１万回の
繰り返しオーバーライト後には、ウインドウ幅１５．１
３ｎｓの１２％よりも大きくなり実用上好ましくない結
果となった。第１誘電体層５の膜厚は５ｎｍと薄い領域
であるが、硬度補強層７の膜厚が１５ｎｍまで厚い領域
にあるために、波長４０３ｎｍの高エネルギー密度のレ
ーザー光照射によって硬度補強層７内部に大きい熱応力
が発生し、多数回にわたるオーバーライトの結果、剥離
欠陥やクラックが生じてしまったと考えられる。
【００４４】
【表３】
【００４５】以上、本発明について好適な実施形態およ
び実施例を挙げて説明したが、本発明は、これらの実施
形態および実施例に限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲において種々の改良並びに設計の
変更が可能である。例えば、本発明の層構成に限らず、
以下に示すような構成であってもよい。 （１）光入射側基板または光反射側基板が無い構成。 （２）第１誘電体層と光入射側基板との間に、さらに他
の材料の層を追加した構成。 （３）記録層が２層である構成。 （４）反射膜層が無い構成。 （５）光入射側基板または光反射側基板の位置に、さら
に記録媒体構成が１つ以上追加されていて、多層記録を
可能にしている構成。 その他、様々な構成を適用してもよい。また、前記実施
形態では、光反射側基板上に各層を成膜していたが、光
入射側基板上に各層を積層するように成膜してもよい。
び実施例を挙げて説明したが、本発明は、これらの実施
形態および実施例に限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲において種々の改良並びに設計の
変更が可能である。例えば、本発明の層構成に限らず、
以下に示すような構成であってもよい。 （１）光入射側基板または光反射側基板が無い構成。 （２）第１誘電体層と光入射側基板との間に、さらに他
の材料の層を追加した構成。 （３）記録層が２層である構成。 （４）反射膜層が無い構成。 （５）光入射側基板または光反射側基板の位置に、さら
に記録媒体構成が１つ以上追加されていて、多層記録を
可能にしている構成。 その他、様々な構成を適用してもよい。また、前記実施
形態では、光反射側基板上に各層を成膜していたが、光
入射側基板上に各層を積層するように成膜してもよい。
【発明の効果】上述のように本発明によれば、高記録密
度化に対応して短波長のレーザー光を使用しても、レー
ザ光照射による記録層の熱流動およびその後生ずる層全
体の変形を抑制し、特にマークエッジ記録における記録
マークを安定に維持することができ、多数回にわたる繰
り返し記録への耐性を良好にすることができる。
度化に対応して短波長のレーザー光を使用しても、レー
ザ光照射による記録層の熱流動およびその後生ずる層全
体の変形を抑制し、特にマークエッジ記録における記録
マークを安定に維持することができ、多数回にわたる繰
り返し記録への耐性を良好にすることができる。
【図１】本発明における光記録媒体の層構造を表した図
である。
である。
【図２】本発明の第１実施形態における光記録媒体の層
構造を表した図である。
構造を表した図である。
【図３】本発明の第２実施形態における光記録媒体の層
構造を表した図である。
構造を表した図である。
【図４】従来の光記録媒体の層構造を表した図である。
１、６ 基板
４ 相変化記録層（記録層）
５ 第１誘電体層
７ 硬度補強層
Ｔh 硬度補強層の膜厚
Ｔ1 第１誘電体層の膜厚
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 工藤 秀雄
埼玉県鶴ヶ島市富士見６丁目１番１号 パ
イオニア株式会社総合研究所内
Ｆターム(参考） 5D029 LB11 NA13 NA14
Claims (5)
- 【請求項１】情報の記録・消去を行うために、記録層に
光を照射して非晶相と結晶相との間の相変化を行い、こ
の相変化による光学特性の変化により情報の書き換えを
可能にする光記録媒体であって、 基板上に少なくとも硬度補強層、第１誘電体層、および
記録層がこの順に積層され、 前記硬度補強層は、前記第１誘電体層よりも硬度が高
く、 前記硬度補強層の膜厚Ｔh は、前記第１誘電体層の膜厚
Ｔ1 に応じた値が設定され、前記膜厚Ｔh と前記膜厚Ｔ
1 とが０．４＜Ｔh ／Ｔ1 の関係にあり、前記膜厚Ｔh
は、１５ｎｍ未満であることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】請求項１に記載の光記録媒体において、 前記硬度補強層の膜厚Ｔh は、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下
であることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項３】請求項１に記載の光記録媒体において、 前記第１誘電体層の膜厚Ｔ1 は、１ｎｍ以上５ｎｍ以下
であることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項４】請求項１から請求項３のいずれかに記載の
光記録媒体において、 前記硬度補強層のビッカース硬度は、４ＧＰａ以上であ
ることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項５】請求項１から請求項３のいずれかに記載の
光記録媒体において、 前記硬度補強層のヌープ硬度は、４ＧＰａ以上であるこ
とを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001311937A JP4004264B2 (ja) | 2001-10-09 | 2001-10-09 | 光記録媒体 |
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