JP2003121594A - 放射線像変換パネルの製造方法、及び多層放射線像変換パネル - Google Patents
放射線像変換パネルの製造方法、及び多層放射線像変換パネルInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 別々に蛍光体層を作製したり、圧縮させなく
ても多層の輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネル
を容易かつ安定に作製でき、故障ロスが起き難い放射線
像変換パネルの製造方法を提供する。 【解決手段】 輝尽性蛍光体、結着剤、有機溶剤及び着
色剤を含む粘度２〜８Ｐａ・ｓの非ニュートン性の塗布
液における輝尽性蛍光体平均粒径比率もしくは結着剤比
率もしくは着色剤比率、又は前記複数の比率の異なる複
数の塗布液を用い、少なくとも２層以上の層を支持体に
形成する際、二つ以上のスリットを有する塗布装置を用
い支持体上に同時に２層以上を塗布し層形成を行うこと
を特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
ても多層の輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネル
を容易かつ安定に作製でき、故障ロスが起き難い放射線
像変換パネルの製造方法を提供する。 【解決手段】 輝尽性蛍光体、結着剤、有機溶剤及び着
色剤を含む粘度２〜８Ｐａ・ｓの非ニュートン性の塗布
液における輝尽性蛍光体平均粒径比率もしくは結着剤比
率もしくは着色剤比率、又は前記複数の比率の異なる複
数の塗布液を用い、少なくとも２層以上の層を支持体に
形成する際、二つ以上のスリットを有する塗布装置を用
い支持体上に同時に２層以上を塗布し層形成を行うこと
を特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は輝尽性蛍光体の多層
構成の放射線像変換パネルの製造方法、及びその製造方
法により得られた多層放射線像変換パネルに関する。
構成の放射線像変換パネルの製造方法、及びその製造方
法により得られた多層放射線像変換パネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】特開２０００−３１０６９９には、蛍光
体層が２層以上からなる放射線像変換パネルが開示され
るが、その製造方法は以下に示すようである。即ち、別
々の仮支持体上に、蛍光体層形成用塗布液（蛍光体、結
着剤、溶剤から成る粘度３０Ｐａ・ｓの液）１及び２
を、それぞれ塗布・乾燥した後、仮支持体から剥がして
放射線像変換パネルの蛍光体層となる蛍光体シート１及
び２を作製する。この時、仮支持体の表面には予め離型
剤（シリコン系）を塗布して置き、形成された蛍光体シ
ートが仮支持体から剥がし易くなるようにして置くこと
が望ましい。
体層が２層以上からなる放射線像変換パネルが開示され
るが、その製造方法は以下に示すようである。即ち、別
々の仮支持体上に、蛍光体層形成用塗布液（蛍光体、結
着剤、溶剤から成る粘度３０Ｐａ・ｓの液）１及び２
を、それぞれ塗布・乾燥した後、仮支持体から剥がして
放射線像変換パネルの蛍光体層となる蛍光体シート１及
び２を作製する。この時、仮支持体の表面には予め離型
剤（シリコン系）を塗布して置き、形成された蛍光体シ
ートが仮支持体から剥がし易くなるようにして置くこと
が望ましい。
【０００３】支持体上に、先に得られた蛍光体シート１
及び２を、支持体、蛍光体シート２、蛍光体シート１の
順序で載せ、好ましくは結合剤の軟化温度又は融点以上
の温度で圧縮（熱圧着）しながら支持体上に接着して、
２層構成の蛍光体層を形成する。
及び２を、支持体、蛍光体シート２、蛍光体シート１の
順序で載せ、好ましくは結合剤の軟化温度又は融点以上
の温度で圧縮（熱圧着）しながら支持体上に接着して、
２層構成の蛍光体層を形成する。
【０００４】上記製造方法では、２層を得る為に、層毎
に予め離型剤を塗った仮支持体毎に蛍光体塗布を行うと
いう煩雑な作業を伴い、又、２層のシートを圧縮（熱圧
着）させる工程と装置が必要となる。このような煩雑な
作業、工数の増大は、各工程でのゴミ付着等による故障
ロスが大きくなり、同時に生産性の低下、コストの増大
という問題を有する。
に予め離型剤を塗った仮支持体毎に蛍光体塗布を行うと
いう煩雑な作業を伴い、又、２層のシートを圧縮（熱圧
着）させる工程と装置が必要となる。このような煩雑な
作業、工数の増大は、各工程でのゴミ付着等による故障
ロスが大きくなり、同時に生産性の低下、コストの増大
という問題を有する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術の問題点を解決し、別々に蛍光体層を作製したり、
圧縮させなくても多層の輝尽性蛍光体層を有する放射線
像変換パネルを容易かつ安定に作製でき、故障ロスが起
き難い放射線像変換パネルの製造方法を提供することに
ある。
技術の問題点を解決し、別々に蛍光体層を作製したり、
圧縮させなくても多層の輝尽性蛍光体層を有する放射線
像変換パネルを容易かつ安定に作製でき、故障ロスが起
き難い放射線像変換パネルの製造方法を提供することに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成された。
下の構成によって達成された。
【０００７】１）輝尽性蛍光体、結着剤、有機溶剤及び
着色剤を含む粘度２〜８Ｐａ・ｓの非ニュートン性の塗
布液における輝尽性蛍光体平均粒径比率もしくは結着剤
比率もしくは着色剤比率、又は前記複数の比率の異なる
複数の塗布液を用い、少なくとも２層以上の層を支持体
に形成する際、二つ以上のスリットを有するコーターを
用いて支持体上に同時に２層以上を塗布し、層形成を行
う放射線像変換パネルの製造方法。
着色剤を含む粘度２〜８Ｐａ・ｓの非ニュートン性の塗
布液における輝尽性蛍光体平均粒径比率もしくは結着剤
比率もしくは着色剤比率、又は前記複数の比率の異なる
複数の塗布液を用い、少なくとも２層以上の層を支持体
に形成する際、二つ以上のスリットを有するコーターを
用いて支持体上に同時に２層以上を塗布し、層形成を行
う放射線像変換パネルの製造方法。
【０００８】２）輝尽性蛍光体、結着剤、有機溶剤及び
着色剤を含む粘度２〜８Ｐａ・ｓの非ニュートン性の塗
布液における輝尽性蛍光体もしくは結着剤もしくは有機
溶剤もしくは着色剤の組成、又は前記複数の組成が異な
る塗布液を用い、少なくとも２層以上の層を支持体に形
成する際、二つ以上のスリットを有するコーターを用い
て支持体上に同時に２層以上を塗布し、層形成を行う放
射線像変換パネルの製造方法。
着色剤を含む粘度２〜８Ｐａ・ｓの非ニュートン性の塗
布液における輝尽性蛍光体もしくは結着剤もしくは有機
溶剤もしくは着色剤の組成、又は前記複数の組成が異な
る塗布液を用い、少なくとも２層以上の層を支持体に形
成する際、二つ以上のスリットを有するコーターを用い
て支持体上に同時に２層以上を塗布し、層形成を行う放
射線像変換パネルの製造方法。
【０００９】３）二つ以上のスリットを有するコーター
として多層エクストルージョンを用いる１）又は２）記
載の放射線像変換パネルの製造方法。
として多層エクストルージョンを用いる１）又は２）記
載の放射線像変換パネルの製造方法。
【００１０】４）多層を形成するコーターが、最下層を
１層目とした場合、１層目のスリットを構成する部材を
部材１と部材２とし、２層目を構成する部材を部材２と
部材３とし、同様にｎ層目を構成する部材を部材ｎと部
材ｎ＋１とし、バックロールと部材２の先端部との距離
をＨ1とし、バックロールと部材ｎ＋１の先端部との距
離をＨnと定義した時、Ｈ1≦Ｈ2≦・・・・≦Ｈnの関係
を有する３）記載の放射線像変換パネルの製造方法。
１層目とした場合、１層目のスリットを構成する部材を
部材１と部材２とし、２層目を構成する部材を部材２と
部材３とし、同様にｎ層目を構成する部材を部材ｎと部
材ｎ＋１とし、バックロールと部材２の先端部との距離
をＨ1とし、バックロールと部材ｎ＋１の先端部との距
離をＨnと定義した時、Ｈ1≦Ｈ2≦・・・・≦Ｈnの関係
を有する３）記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【００１１】５）多層を形成するコーターの塗布位置
が、バックロール中心位置の水平を０度とした場合、０
〜８５度である３）記載の放射線像変換パネルの製造方
法。
が、バックロール中心位置の水平を０度とした場合、０
〜８５度である３）記載の放射線像変換パネルの製造方
法。
【００１２】６）コーターに送られる輝尽性蛍光体塗布
液の液温が１０〜４０℃である１）〜５）のいずれか１
項記載の放射線像変換パネルの製造方法。
液の液温が１０〜４０℃である１）〜５）のいずれか１
項記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【００１３】７）１）〜６）のいずれか１項記載の放射
線像変換パネルの製造方法により製造された多層放射線
像変換パネル。
線像変換パネルの製造方法により製造された多層放射線
像変換パネル。
【００１４】以下、より詳細に本発明を説明する。本発
明の請求項１における比率の相違とは、例えばＡ液、Ｂ
液に添加される同種類の着色剤の添加量（比率）を異に
することを言い、請求項２における組成の相違とは、例
えばＡ液、Ｂ液に添加される着色剤の種類を異にするこ
とを言う。
明の請求項１における比率の相違とは、例えばＡ液、Ｂ
液に添加される同種類の着色剤の添加量（比率）を異に
することを言い、請求項２における組成の相違とは、例
えばＡ液、Ｂ液に添加される着色剤の種類を異にするこ
とを言う。
【００１５】本発明においては、塗布時に２層以上を同
時・積層させ塗布を行うことに特徴があり、塗布方式は
エクストルージョン方式が好ましい。同時に多層を積層
するにはスライドホッパー方式も使用できるが、高粘
度、厚膜塗布が必要である放射線像変換パネルの製造に
は以下の理由で適さない。 高粘度である為スライド面上での流下速度が遅く、ス
ライド面で厚膜となる。 スライド面流速も遅くなる為、スライド面表面の溶剤
が飛び乾燥し易く、経時で筋の発生など故障の要因とな
る。
時・積層させ塗布を行うことに特徴があり、塗布方式は
エクストルージョン方式が好ましい。同時に多層を積層
するにはスライドホッパー方式も使用できるが、高粘
度、厚膜塗布が必要である放射線像変換パネルの製造に
は以下の理由で適さない。 高粘度である為スライド面上での流下速度が遅く、ス
ライド面で厚膜となる。 スライド面流速も遅くなる為、スライド面表面の溶剤
が飛び乾燥し易く、経時で筋の発生など故障の要因とな
る。
【００１６】塗布液の粘度は、東京精密社製：Ｂ型粘度
計にて測定した剪断域における粘度範囲を示している
（Ｎｏ４ロータにて回転数６０ｒｐｍ）。
計にて測定した剪断域における粘度範囲を示している
（Ｎｏ４ロータにて回転数６０ｒｐｍ）。
【００１７】本発明に用いるエクストルージョンコータ
ーの特徴を図１で説明する。部材Ｐ１と部材Ｐ２でスリ
ットｓ１を、部材Ｐ２と部材Ｐ３でスリットｓ２を、同
様にして部材Ｐｎと部材Ｐｎ＋１でスリットｓｎを構成
するが、部材Ｐ２の先端部とバックロールとの距離（ギ
ャップ）をＨ1、部材Ｐ３の先端部とバックロールとの
ギャップをＨ2、同様に部材Ｐｎ＋１の先端部とバック
ロールとのギャップをＨnとした時、Ｈ1≦Ｈ2≦・・・
・≦Ｈnの関係を満足することが必須である。又、コー
ターの塗布位置が、バックロール中心位置の水平を０度
とした場合、θ＝０〜８５度であることが好ましい。
ーの特徴を図１で説明する。部材Ｐ１と部材Ｐ２でスリ
ットｓ１を、部材Ｐ２と部材Ｐ３でスリットｓ２を、同
様にして部材Ｐｎと部材Ｐｎ＋１でスリットｓｎを構成
するが、部材Ｐ２の先端部とバックロールとの距離（ギ
ャップ）をＨ1、部材Ｐ３の先端部とバックロールとの
ギャップをＨ2、同様に部材Ｐｎ＋１の先端部とバック
ロールとのギャップをＨnとした時、Ｈ1≦Ｈ2≦・・・
・≦Ｈnの関係を満足することが必須である。又、コー
ターの塗布位置が、バックロール中心位置の水平を０度
とした場合、θ＝０〜８５度であることが好ましい。
【００１８】この効果については、実施例で実証され
る。コーターに送られる輝尽性蛍光体塗布液の液温は１
０〜４０℃の範囲にあることが好ましい。これは、輝尽
性蛍光体粒子を含有する有機溶剤分散液は、温度に対し
て指数関数的に粘度が変化することに因る。４０度より
高い場合、粘性低下と揮発性が高くなり、バックロール
上の支持体でのタレや塗布直後の乾燥皮膜が発生し易
く、筋故障が経時で発生する。又、温度が１０度より低
い場合は、粘性上昇による送液圧上昇で送液負荷が掛か
ることと、結露が発生し易くなり、水分に弱い蛍光体に
性能異常を来たす。
る。コーターに送られる輝尽性蛍光体塗布液の液温は１
０〜４０℃の範囲にあることが好ましい。これは、輝尽
性蛍光体粒子を含有する有機溶剤分散液は、温度に対し
て指数関数的に粘度が変化することに因る。４０度より
高い場合、粘性低下と揮発性が高くなり、バックロール
上の支持体でのタレや塗布直後の乾燥皮膜が発生し易
く、筋故障が経時で発生する。又、温度が１０度より低
い場合は、粘性上昇による送液圧上昇で送液負荷が掛か
ることと、結露が発生し易くなり、水分に弱い蛍光体に
性能異常を来たす。
【００１９】本発明で示す非ニュートン流体の特性とし
ては、剪断速度範囲０．１〜５０（１／ｓ）の時の流動
方程式による近似式η＝ｍＤn-1において０＜ｎ＜１の
ものを示す。ここで、η：見掛け粘度 ｍ：粘性係数
Ｄ：剪断速度 ｎ：粘性指数である。更に具体的には、
剪断速度範囲０．１〜５０（１／ｓ）の時の粘度差（最
大値−最小値）が２Ｐａ・ｓ以上である塗布液を示し、
ニュートンの粘性の法則に従わない溶液（剪断速度によ
り粘度が変化する溶液）である。
ては、剪断速度範囲０．１〜５０（１／ｓ）の時の流動
方程式による近似式η＝ｍＤn-1において０＜ｎ＜１の
ものを示す。ここで、η：見掛け粘度 ｍ：粘性係数
Ｄ：剪断速度 ｎ：粘性指数である。更に具体的には、
剪断速度範囲０．１〜５０（１／ｓ）の時の粘度差（最
大値−最小値）が２Ｐａ・ｓ以上である塗布液を示し、
ニュートンの粘性の法則に従わない溶液（剪断速度によ
り粘度が変化する溶液）である。
【００２０】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を例証する。
尚、ここでは蛍光体層２層についての実施であるが、こ
れに限定されるものではない。尚、特に断りない限り、
実施例中の「％」は「質量％」を示す。
尚、ここでは蛍光体層２層についての実施であるが、こ
れに限定されるものではない。尚、特に断りない限り、
実施例中の「％」は「質量％」を示す。
【００２１】実施例１
本発明の製造方法により、放射線像変換パネルを作製し
た。
た。
【００２２】（蛍光体の合成）ユーロピウム付活弗化沃
化バリウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、Ｂ
ａＩ2水溶液（３．６ｍｏｌ／Ｌ）２７８０ｍｌとＥｕ
Ｉ3水溶液（０．２ｍｏｌ／Ｌ）２７ｍｌを反応器に入
れた。反応器中の反応母液を撹拌しながら８３℃で保温
した。ここに、弗化アンモニウム水溶液（８ｍｏｌ／
Ｌ）３２２ｍｌをローラーポンプを用いて注入し、沈澱
物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌を２時間続け
て沈澱物の熟成を行った。次に沈澱物を濾別し、エタノ
ールにより洗浄した後、真空乾燥させてユーロピウム付
活弗化沃化バリウムの結晶を得た。焼成時の焼結により
粒子形状の変化、粒子間融着による粒子サイズ分布の変
化を防止するために、アルミナの超微粒子粉体を０．２
％添加し、ミキサーで充分撹拌して結晶表面にアルミナ
の超微粒子粉体を均一に付着させた。これを石英ボート
に充填して、チューブ炉を用いて水素ガス雰囲気中、８
５０℃で２時間焼成してユーロピウム付活弗化沃化バリ
ウム蛍光体粒子を得た。
化バリウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、Ｂ
ａＩ2水溶液（３．６ｍｏｌ／Ｌ）２７８０ｍｌとＥｕ
Ｉ3水溶液（０．２ｍｏｌ／Ｌ）２７ｍｌを反応器に入
れた。反応器中の反応母液を撹拌しながら８３℃で保温
した。ここに、弗化アンモニウム水溶液（８ｍｏｌ／
Ｌ）３２２ｍｌをローラーポンプを用いて注入し、沈澱
物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌を２時間続け
て沈澱物の熟成を行った。次に沈澱物を濾別し、エタノ
ールにより洗浄した後、真空乾燥させてユーロピウム付
活弗化沃化バリウムの結晶を得た。焼成時の焼結により
粒子形状の変化、粒子間融着による粒子サイズ分布の変
化を防止するために、アルミナの超微粒子粉体を０．２
％添加し、ミキサーで充分撹拌して結晶表面にアルミナ
の超微粒子粉体を均一に付着させた。これを石英ボート
に充填して、チューブ炉を用いて水素ガス雰囲気中、８
５０℃で２時間焼成してユーロピウム付活弗化沃化バリ
ウム蛍光体粒子を得た。
【００２３】次に上記蛍光体粒子を分級処理することに
より、平均粒径３μｍの粒子Ａ及び平均粒径７μｍの粒
子Ｂを得た。
より、平均粒径３μｍの粒子Ａ及び平均粒径７μｍの粒
子Ｂを得た。
【００２４】（塗布液の調製）蛍光体層形成材料とし
て、上記で得た粒子Ａ及び粒子Ｂのユーロピウム付活弗
化沃化バリウム蛍光体それぞれ４２７ｇを、ポリウレタ
ン樹脂（住友バイエルウレタン社製：デスモラック４１
２５）１５．８ｇ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
２．０ｇをメチルエチルケトン−トルエン（１：１）混
合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、そ
れぞれ粒子Ａを含む塗布液は粘度２．５〜３．０Ｐａ・
ｓ、粒子Ｂを含む塗布液は粘度２．０〜２．５Ｐａ・ｓ
の２種の塗布液を調製した。
て、上記で得た粒子Ａ及び粒子Ｂのユーロピウム付活弗
化沃化バリウム蛍光体それぞれ４２７ｇを、ポリウレタ
ン樹脂（住友バイエルウレタン社製：デスモラック４１
２５）１５．８ｇ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
２．０ｇをメチルエチルケトン−トルエン（１：１）混
合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、そ
れぞれ粒子Ａを含む塗布液は粘度２．５〜３．０Ｐａ・
ｓ、粒子Ｂを含む塗布液は粘度２．０〜２．５Ｐａ・ｓ
の２種の塗布液を調製した。
【００２５】（塗布工程）上記２種の塗布液を脱気・脱
泡後、釜に充填しポンプ等の送液装置にて規定量を濾過
フィルターを介してエクストルージョンコーターへ供給
する。供給時の塗布液温度は２５℃に設定し、塗布液が
通過する部分の温度も同様の温度に設定した。濾過は脱
気・脱泡前に行ってもよいし、釜充填時に脱気・脱泡を
行ってもよい。粒子Ａを含む塗布液を下層側のコーター
供給口へ接続し、粒子Ｂを含む塗布液を上層側のコータ
ー供給口へ接続し送液を行う。塗布流量は塗布速度や所
望膜厚に合わせ、塗布幅１ｃｍ当たり１〜５ｍｌ／ｍｉ
ｎの範囲で行い、乾燥後の塗膜厚みが下層１５０μｍ、
上層２００μｍになるように設定した。支持体として２
００μｍのカーボン含有のポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）を使用した。
泡後、釜に充填しポンプ等の送液装置にて規定量を濾過
フィルターを介してエクストルージョンコーターへ供給
する。供給時の塗布液温度は２５℃に設定し、塗布液が
通過する部分の温度も同様の温度に設定した。濾過は脱
気・脱泡前に行ってもよいし、釜充填時に脱気・脱泡を
行ってもよい。粒子Ａを含む塗布液を下層側のコーター
供給口へ接続し、粒子Ｂを含む塗布液を上層側のコータ
ー供給口へ接続し送液を行う。塗布流量は塗布速度や所
望膜厚に合わせ、塗布幅１ｃｍ当たり１〜５ｍｌ／ｍｉ
ｎの範囲で行い、乾燥後の塗膜厚みが下層１５０μｍ、
上層２００μｍになるように設定した。支持体として２
００μｍのカーボン含有のポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）を使用した。
【００２６】塗布時のＨ1：８００μｍ、Ｈ2：９００μ
ｍ、Ｈ3：１０００μｍに設定した。尚、Ｈ0＝Ｈ1と
し、コーター塗布位置は４５度とした。
ｍ、Ｈ3：１０００μｍに設定した。尚、Ｈ0＝Ｈ1と
し、コーター塗布位置は４５度とした。
【００２７】送液された液は、それぞれエクストルージ
ョンコーターのポケット内を広がり、幅手での圧力の均
一化が図られた状態でスリットを通過し、支持体上で同
時に２層が形成され、蛍光体層が作製される。
ョンコーターのポケット内を広がり、幅手での圧力の均
一化が図られた状態でスリットを通過し、支持体上で同
時に２層が形成され、蛍光体層が作製される。
【００２８】（乾燥工程）供給された液は、塗布装置を
介し連続して走行している支持体へ一定厚みでＰＥＴ支
持体上に塗布される。塗布物は、乾燥炉中で有機溶剤を
蒸発させ、シート状の蛍光体シートサンプルが作製され
た。
介し連続して走行している支持体へ一定厚みでＰＥＴ支
持体上に塗布される。塗布物は、乾燥炉中で有機溶剤を
蒸発させ、シート状の蛍光体シートサンプルが作製され
た。
【００２９】（蛍光体シートの封止）塗布シート試料を
２０ｃｍ×２０ｃｍの正方形に断裁し、上記の各種励起
光吸収層を有する積層保護フイルムを使用し、減圧下で
周縁部をインパルスシーラを用いて融着することで封止
した。尚、融着部から蛍光体シート周縁部までの距離は
１ｍｍとなるように融着した。融着に使用したインパル
スシーラーのヒーターは８ｍｍ幅のものを使用した。
２０ｃｍ×２０ｃｍの正方形に断裁し、上記の各種励起
光吸収層を有する積層保護フイルムを使用し、減圧下で
周縁部をインパルスシーラを用いて融着することで封止
した。尚、融着部から蛍光体シート周縁部までの距離は
１ｍｍとなるように融着した。融着に使用したインパル
スシーラーのヒーターは８ｍｍ幅のものを使用した。
【００３０】上記工程中、エクストルージョンコーター
による２回塗布（蛍光体粒子Ａを含む塗布液を塗布・乾
燥した後、蛍光体粒子Ｂを含む塗布液を塗布）で行った
以外は全く同様にして放射線像変換パネルを作製した。
による２回塗布（蛍光体粒子Ａを含む塗布液を塗布・乾
燥した後、蛍光体粒子Ｂを含む塗布液を塗布）で行った
以外は全く同様にして放射線像変換パネルを作製した。
【００３１】２回塗布は、塗布ラインを２度通過させる
ため、巻出し時に表面擦れや端部塗膜剥がれ等により、
２度目の塗布時に筋や突き状の故障が多く発生した。
ため、巻出し時に表面擦れや端部塗膜剥がれ等により、
２度目の塗布時に筋や突き状の故障が多く発生した。
【００３２】実施例２
本実施例では、本発明の請求項４及び５の効果を確認し
た。即ち、エクストルージョンコーターのスリット１，
２，３を構成する部材２，３，４の先端部とバックロー
ルの距離（ギャップ）Ｈ1，Ｈ2，Ｈ3と、コーターの位
置（バックロール中心位置の水平位置０度からの角度
θ）を表１に示すように変化させて実施例１を行い、各
条件での塗布できる上限膜厚Ａと下限膜厚Ｂ、及び膜厚
幅（Ａ−Ｂ）を求めた。ここで言う膜厚は、ウエット時
の重層トータルの膜厚を言う。
た。即ち、エクストルージョンコーターのスリット１，
２，３を構成する部材２，３，４の先端部とバックロー
ルの距離（ギャップ）Ｈ1，Ｈ2，Ｈ3と、コーターの位
置（バックロール中心位置の水平位置０度からの角度
θ）を表１に示すように変化させて実施例１を行い、各
条件での塗布できる上限膜厚Ａと下限膜厚Ｂ、及び膜厚
幅（Ａ−Ｂ）を求めた。ここで言う膜厚は、ウエット時
の重層トータルの膜厚を言う。
【００３３】塗布上限より厚い膜厚の場合、リップ上に
液タレを生ずる。重力による液のタレで、塗布速度一定
の場合、塗布位置が低いと発生し易い。リップ上の液の
タレは送液量に対し規定付量を得られないばかりか、液
離れ線の乱れによる塗布ムラを生ずる。一方、塗布下限
より薄い膜厚は、エアの巻き込みで塗布面が乱れたり、
塗膜形成そのものが不可能になる場合がある。（Ａ−
Ｂ）が大きいほど塗布領域に余裕がある。
液タレを生ずる。重力による液のタレで、塗布速度一定
の場合、塗布位置が低いと発生し易い。リップ上の液の
タレは送液量に対し規定付量を得られないばかりか、液
離れ線の乱れによる塗布ムラを生ずる。一方、塗布下限
より薄い膜厚は、エアの巻き込みで塗布面が乱れたり、
塗膜形成そのものが不可能になる場合がある。（Ａ−
Ｂ）が大きいほど塗布領域に余裕がある。
【００３４】尚、塗布スピードは１ｍ／ｍｉｎと０．５
ｍ／ｍｉｎの２水準で行った。結果を表１に示す。
ｍ／ｍｉｎの２水準で行った。結果を表１に示す。
【００３５】
【表１】
【００３６】本発明によれば、塗布領域の拡大が図れ
る。尚、比較例１では、塗膜形成範囲にも拘わらず、１
層目と２層目に界面乱れを生じた。
る。尚、比較例１では、塗膜形成範囲にも拘わらず、１
層目と２層目に界面乱れを生じた。
【００３７】
【発明の効果】本発明により、圧縮が必要なく輝尽性蛍
光体の多層構成の放射線像変換パネルが製作可能にな
り、又、煩雑な中間工程がない分、故障の低減や工数の
削減による製造コストの低減が図れる。
光体の多層構成の放射線像変換パネルが製作可能にな
り、又、煩雑な中間工程がない分、故障の低減や工数の
削減による製造コストの低減が図れる。
【図１】本発明のエクストルージョンコーターの概略を
示す断面図。
示す断面図。
Ｈ1 バックロールと部材２の先端部との距離
Ｈ2 バックロールと部材３の先端部との距離
Ｈ3 バックロールと部材４の先端部との距離
Ｈn バックロールと部材ｎ＋１の先端部との距離
Ｌ１ 第１塗布層（１層目）
Ｌ２ 第２塗布層（２層目）
Ｌ３ 第３塗布層（３層目）
Ｌｎ 第ｎ塗布層（ｎ層目）
Ｐ１ 部材１
Ｐ２ 部材２
Ｐ３ 部材３
Ｐｎ 部材ｎ
ｓ１ スリット１
ｓ２ スリット２
ｓ３ スリット３
ｓｎ スリットｎ
ＢＲ バックロール
Ｓ 支持体
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０９Ｋ 11/08 Ｃ０９Ｋ 11/08 Ｅ
Ｊ
Ｇ０１Ｔ 1/00 Ｇ０１Ｔ 1/00 Ｂ
Ｇ０３Ｂ 42/02 Ｇ０３Ｂ 42/02 Ｂ
// Ｃ０９Ｋ 11/61 ＣＰＦ Ｃ０９Ｋ 11/61 ＣＰＦ
Ｆターム(参考） 2G083 AA03 BB01 CC02 CC07 CC10
DD11 DD12 DD14 EE10
2H013 AC01
4D075 AC05 AC09 AC96 AE23 BB22X
BB93X CA47 CB09 DA06
DA23 DB13 DC24 EA07 EA10
EA19 EA45 EB01 EB38 EC11
EC53 EC54
4H001 CA01 CA02 CA08 XA09 XA53
XA56 YA63
Claims (7)
- 【請求項１】 輝尽性蛍光体、結着剤、有機溶剤及び着
色剤を含む粘度２〜８Ｐａ・ｓの非ニュートン性の塗布
液における輝尽性蛍光体平均粒径比率もしくは結着剤比
率もしくは着色剤比率、又は前記複数の比率の異なる複
数の塗布液を用い、少なくとも２層以上の層を支持体に
形成する際、二つ以上のスリットを有するコーターを用
いて支持体上に同時に２層以上を塗布し、層形成を行う
ことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。 - 【請求項２】 輝尽性蛍光体、結着剤、有機溶剤及び着
色剤を含む粘度２〜８Ｐａ・ｓの非ニュートン性の塗布
液における輝尽性蛍光体もしくは結着剤もしくは有機溶
剤もしくは着色剤の組成、又は前記複数の組成が異なる
塗布液を用い、少なくとも２層以上の層を支持体に形成
する際、二つ以上のスリットを有するコーターを用いて
支持体上に同時に２層以上を塗布し、層形成を行うこと
を特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。 - 【請求項３】 二つ以上のスリットを有するコーターと
して多層エクストルージョンを用いることを特徴とする
請求項１又は２記載の放射線像変換パネルの製造方法。 - 【請求項４】 多層を形成するコーターが、最下層を１
層目とした場合、１層目のスリットを構成する部材を部
材１と部材２とし、２層目を構成する部材を部材２と部
材３とし、同様にｎ層目を構成する部材を部材ｎと部材
ｎ＋１とし、バックロールと部材２の先端部との距離を
Ｈ1とし、バックロールと部材ｎ＋１の先端部との距離
をＨnと定義した時、Ｈ1≦Ｈ2≦・・・・≦Ｈnの関係を
有することを特徴とする請求項３記載の放射線像変換パ
ネルの製造方法。 - 【請求項５】 多層を形成するコーターの塗布位置が、
バックロール中心位置の水平を０度とした場合、０〜８
５度であることを特徴とする請求項３記載の放射線像変
換パネルの製造方法。 - 【請求項６】 コーターに送られる輝尽性蛍光体塗布液
の液温が１０〜４０℃であることを特徴とする請求項１
〜５のいずれか１項記載の放射線像変換パネルの製造方
法。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれか１項記載の放射
線像変換パネルの製造方法により製造されることを特徴
とする多層放射像線変換パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001311110A JP2003121594A (ja) | 2001-10-09 | 2001-10-09 | 放射線像変換パネルの製造方法、及び多層放射線像変換パネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001311110A JP2003121594A (ja) | 2001-10-09 | 2001-10-09 | 放射線像変換パネルの製造方法、及び多層放射線像変換パネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003121594A true JP2003121594A (ja) | 2003-04-23 |
Family
ID=19129992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001311110A Pending JP2003121594A (ja) | 2001-10-09 | 2001-10-09 | 放射線像変換パネルの製造方法、及び多層放射線像変換パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003121594A (ja) |
-
2001
- 2001-10-09 JP JP2001311110A patent/JP2003121594A/ja active Pending
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