JP2003115614A - Method of fabricating light emitting device - Google Patents

Method of fabricating light emitting device

Info

Publication number
JP2003115614A
JP2003115614A JP2001307476A JP2001307476A JP2003115614A JP 2003115614 A JP2003115614 A JP 2003115614A JP 2001307476 A JP2001307476 A JP 2001307476A JP 2001307476 A JP2001307476 A JP 2001307476A JP 2003115614 A JP2003115614 A JP 2003115614A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
phosphor
light
emitting element
emitting device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001307476A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3925137B2 (en
Inventor
Kunihiro Izuno
訓宏 泉野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nichia Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Nichia Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nichia Chemical Industries Ltd filed Critical Nichia Chemical Industries Ltd
Priority to JP2001307476A priority Critical patent/JP3925137B2/en
Publication of JP2003115614A publication Critical patent/JP2003115614A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3925137B2 publication Critical patent/JP3925137B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45015Cross-sectional shape being circular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/49105Connecting at different heights
    • H01L2224/49107Connecting at different heights on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/0132Binary Alloys
    • H01L2924/01322Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/07802Adhesive characteristics other than chemical not being an ohmic electrical conductor

Landscapes

  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of fabricating light emitting device in which chromaticity deviation in each orientation and uneveness of tint from the light emission observing plane are extremely lowered and wavelength conversion efficiency is improved. SOLUTION: There is provided the method of fabricating light emitting device comprising a light emitting element allocated on a support, a phosphor which emits the light by absorbing at least a part of the light emitted from a light emitting element and then converts the wavelength of the light, and a coating layer including the phosphor for covering the entire surface of the light emitting element from the surface of support. In the method of fabricating this light emitting device, under the condition that the light emitting element allocated on the support is heated, this element is sprayed with the coating solution including the phosphor from the upper side, while the coating direction is spirally rotated. Moreover, diameter of spiral coating is increased as the coating position comes closer to the surface of the light emitting element from the position where the spraying is started at the upper side of the light emitting element.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、照明用光源、LE
Dディスプレイ、バックライト光源、信号機、照光式ス
イッチ、各種センサー及び各種インジケータなどに利用
される発光装置の形成方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an illumination light source, LE.
The present invention relates to a method for forming a light emitting device used for a D display, a backlight light source, a traffic light, an illuminated switch, various sensors, various indicators, and the like.

【0002】[0002]

【従来技術】近年、窒化ガリウム系化合物半導体を用い
て構成された発光素子と蛍光体とを組み合わせた、白色
光の発光が可能な発光装置(白色発光装置)が開発さ
れ、使用されるようになってきている。この発光装置
は、発光素子から出力される青色の光の一部を蛍光体に
より波長変換して、その波長変換された光と発光素子か
らの青色光との混色により、白色の光を発光させるもの
であり、従来は、例えば、発光素子がマウントされたパ
ッケージ等を、蛍光体を含む樹脂でモールドすることに
より作製されていた。
2. Description of the Related Art In recent years, a light emitting device (white light emitting device) capable of emitting white light has been developed and used by combining a light emitting element composed of a gallium nitride compound semiconductor and a phosphor. It has become to. In this light emitting device, a part of blue light output from a light emitting element is wavelength-converted by a phosphor, and white light is emitted by mixing the wavelength-converted light and the blue light from the light emitting element. In the past, for example, it was produced by molding a package or the like on which a light emitting element was mounted with a resin containing a phosphor.

【0003】図1に従来のLEDパッケージに発光素子
のLEDを実装した状態の構造を表す模式断面図を示
す。2はパッケージ、3はLEDチップ、4は外部電
極、5は導電性ワイヤー、6はモールド部材、11はL
EDチップ上のコーティング層、12は支持体上のコー
ティング層である。LEDチップはパッケージ内に納め
られ、一方の外部電極上に絶縁性接着剤を介して接着さ
れている。LEDチップの正負一対の電極は、導電性ワ
イヤーによってそれぞれ外部電極とワイヤーボンディン
グされている。LEDチップの上および支持体上のコー
ティング層には、発光素子から出力された光を波長変換
するための蛍光体が含まれている。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing the structure of a conventional LED package in which LEDs of light emitting elements are mounted. 2 is a package, 3 is an LED chip, 4 is an external electrode, 5 is a conductive wire, 6 is a molding member, and 11 is L.
The coating layer on the ED chip and 12 are the coating layers on the support. The LED chip is housed in a package and adhered to one of the external electrodes via an insulating adhesive. The pair of positive and negative electrodes of the LED chip are wire-bonded to the external electrodes by conductive wires. The coating layer on the LED chip and on the support contains a phosphor for wavelength conversion of the light output from the light emitting element.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
LEDパッケージにおいてはコーティング層の厚み(蛍
光体の量)が発光素子表面の各部分で異なり、発光素子
からの光量、蛍光体からの光量が部分的に異なってい
た。特に、発光素子の角の部分にはコーティング層が形
成されておらず、発光素子の角の部分では蛍光体による
波長変換が行われず、発光素子全体における波長変換の
効率の低下を招いていた。
However, in the conventional LED package, the thickness of the coating layer (amount of phosphor) is different in each part of the surface of the light emitting device, and the light amount from the light emitting device and the light amount from the phosphor are partly different. Were different. In particular, the coating layer is not formed in the corner portion of the light emitting element, and the wavelength conversion by the phosphor is not performed in the corner portion of the light emitting element, resulting in a decrease in the wavelength conversion efficiency of the entire light emitting element.

【0005】そこで、本発明は、各方位における色度の
ずれや、発光観測面から見ての色調むらを極めて小さく
し、波長変換の効率を向上した発光装置を提供すること
を目的とする。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a light emitting device in which the deviation of chromaticity in each direction and the unevenness of color tone as seen from the emission observation surface are extremely reduced, and the efficiency of wavelength conversion is improved.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の本発明
は、支持体上に配置された発光素子と、該発光素子から
の発光の少なくとも一部を吸収し波長変換して発光する
蛍光体と、該蛍光体を有し前記支持体表面から前記発光
素子表面全体を被覆するコーティング層とを有する発光
装置の製造方法であって、前記支持体上に配置された発
光素子を加温した状態で、前記発光素子の上方から前記
蛍光体を含有した塗布液を霧状で且つ螺旋状に回転させ
ながら吹き付けることを特徴とする発光装置の製造方法
である。
The present invention according to claim 1 provides a light emitting device arranged on a support, and a fluorescent light which absorbs at least a part of light emitted from the light emitting device and converts the wavelength to emit light. A method for manufacturing a light-emitting device comprising a body and a coating layer having the phosphor and covering the entire surface of the light-emitting element from the surface of the support, wherein the light-emitting element arranged on the support is heated. In this state, the coating liquid containing the phosphor is sprayed from above the light emitting element while being atomized and spirally rotated, and is a method for manufacturing a light emitting device.

【0007】これにより、各方位における色度のずれ
や、発光観測面から見ての色調むらを極めて小さくし、
波長変換の効率を向上した発光装置を提供することがで
きる。
As a result, the deviation of the chromaticity in each direction and the unevenness of the color tone seen from the emission observation surface can be made extremely small,
A light emitting device with improved wavelength conversion efficiency can be provided.

【0008】また、請求項2に記載の本発明は、前記螺
旋状の径が、前記発光素子上方の噴射開始点から前記発
光素子の表面に近づくにつれて大きいことを特徴とする
請求項1記載の発光装置の製造方法である。
The present invention according to claim 2 is characterized in that the diameter of the spiral shape increases as it approaches the surface of the light emitting element from an injection start point above the light emitting element. It is a manufacturing method of a light emitting device.

【0009】これにより、作業性を向上させ、かつ各方
位における色度のずれや、発光観測面から見ての色調む
らを極めて小さくし、波長変換の効率を向上した発光装
置を提供することができる。
As a result, it is possible to provide a light emitting device with improved workability, with extremely small deviation in chromaticity in each direction and unevenness in color tone as seen from the emission observation surface, and with improved wavelength conversion efficiency. it can.

【0010】さらに、請求項3に記載の本発明は、前記
発光素子上方の噴射開始点から前記発光素子の表面に近
づくにつれて前記塗布液の回転速度は減少していること
を特徴とする請求項1乃至2に記載の発光装置の製造方
法である。
Furthermore, the present invention according to claim 3 is characterized in that the rotation speed of the coating liquid decreases as the injection starting point above the light emitting element approaches the surface of the light emitting element. 1 is a method for manufacturing a light emitting device.

【0011】これにより、塗布液に含まれる蛍光体粒子
によって発光素子表面が衝撃を受けることがなく、かつ
各方位における色度のずれや、発光観測面から見ての色
調むらを極めて小さくし、波長変換の効率を向上した発
光装置を提供することができる。
As a result, the surface of the light emitting device is not impacted by the phosphor particles contained in the coating liquid, and the deviation of the chromaticity in each direction and the unevenness of the color tone when viewed from the emission observation surface are made extremely small. A light emitting device with improved wavelength conversion efficiency can be provided.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明者は種々の実験の結果、発
光素子の上面、側面、および角の上に配置された蛍光体
と、それ以外の支持体上に配置された蛍光体とを略均等
に配分させることによって発光観測面における色調むら
や発光装置ごとのバラツキを改善できることを見出し本
発明を成すに到った。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As a result of various experiments, the present inventor has found that a phosphor placed on the upper surface, side face and corner of a light emitting device and a phosphor placed on a support other than the above. It has been found that the unevenness in color tone on the light emission observation surface and the variation among the light emitting devices can be improved by distributing the light emission substantially evenly, and the present invention has been accomplished.

【0013】発光観測面における色調むらや発光装置ご
とのバラツキは、コーティング層形成時にコーティング
層中に含まれる蛍光体の平面分布における傾きが生ずる
ことにより生ずると考えられる。即ち、コーティング層
は蛍光体を含有させた樹脂を先の細いノズルの如き管か
ら吐出させることによって所望のカップ上に配置させる
ことができる。
It is considered that the unevenness of color tone on the light emission observation surface and the variation among the light emitting devices are caused by the inclination in the planar distribution of the phosphor contained in the coating layer when the coating layer is formed. That is, the coating layer can be placed on a desired cup by discharging the resin containing the phosphor from a tube such as a thin nozzle.

【0014】しかし、バインダ中に含有された蛍光体を
発光素子の上に等量均一且つ、高速に塗布させることは
極めて難しい。また、バインダの粘度やコーティング層
と接するパッケージ表面などとの表面張力により、最終
的に形成されるコーティング層の形状が一定しない。コ
ーティング層の厚み(蛍光体の量)が部分的に異なり、
発光素子からの光量、蛍光体からの光量が部分的に異な
る。
However, it is extremely difficult to apply the phosphor contained in the binder onto the light emitting element in an equal amount uniformly and at high speed. Further, the shape of the coating layer to be finally formed is not constant due to the viscosity of the binder and the surface tension of the package surface in contact with the coating layer. The thickness of the coating layer (amount of phosphor) is partially different,
The light amount from the light emitting element and the light amount from the phosphor are partially different.

【0015】そのため発光観測面上において部分的に発
光素子からの発光色が強くなったり、蛍光体からの発光
色が強くなり色調むらが生ずる。また、各発光装置ごと
のバラツキが生ずると考えられる。本発明では、発光素
子の上とそれ以外に形成される蛍光体が均一に配置させ
ることにより、色調むらや指向性などを改善させること
ができるものである。
As a result, the emission color from the light emitting element is partially increased on the emission observation surface, or the emission color from the phosphor is increased to cause uneven color tone. In addition, it is considered that variations occur among the light emitting devices. In the present invention, the unevenness of color tone and the directivity can be improved by uniformly disposing the phosphors formed on the light emitting element and the other portions.

【0016】図2に本発明の方法によって製造した発光
装置の一例、LEDパッケージに発光素子のLEDを実
装した状態の構造を表す模式断面図を示す。102はパ
ッケージ、103はLEDチップ、104は外部電極、
105は導電性ワイヤー、106はモールド部材、11
1はLEDチップ上のコーティング層、112は支持体
上のコーティング層である。LEDチップはパッケージ
内に納められ、一方の外部電極上に絶縁性接着剤を介し
て接着されている。LEDチップの正負一対の電極は、
導電性ワイヤーによってそれぞれ外部電極とワイヤーボ
ンディングされている。LEDチップの上面、側面、お
よび角の上および支持体上のコーティング層には、発光
素子から出力された光を波長変換するための蛍光体が含
まれている。さらに、発光素子およびコーティング層は
モールド部材によって封止されている。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a light emitting device manufactured by the method of the present invention, showing a structure in which an LED of a light emitting element is mounted on an LED package. 102 is a package, 103 is an LED chip, 104 is an external electrode,
105 is a conductive wire, 106 is a mold member, 11
1 is a coating layer on the LED chip, and 112 is a coating layer on the support. The LED chip is housed in a package and adhered to one of the external electrodes via an insulating adhesive. The pair of positive and negative electrodes of the LED chip is
Each is wire-bonded to an external electrode by a conductive wire. The coating layer on the upper surface, the side surface, and the corners of the LED chip and on the support includes a phosphor for wavelength conversion of the light output from the light emitting element. Further, the light emitting element and the coating layer are sealed by the mold member.

【0017】以下、図2を参照しながら本発明の構成部
材について詳述する。 [コーティング層111、112]本発明に用いられる
コーティング層111、112とは、モールド部材とは
別にマウント・リードのカップ内やパッケージの開口部
内などに設けられるものでありLEDチップ103の発
光を変換する蛍光体及び蛍光体を結着する樹脂や硝子な
どである。本発明のコーティング層111、112は、
LEDチップ103の上面、側面および角の上に設けら
れたコーティング層111の厚みとLEDチップ以外の
支持体上に設けられたコーティング層112の厚みとが
略等しい。また、コーティング層はLEDチップ103
の角の部分でも途切れることがなく、コーティング層は
連続した層である。
The constituent members of the present invention will be described in detail below with reference to FIG. [Coating layers 111, 112] The coating layers 111, 112 used in the present invention are provided in a cup of a mount lead or in an opening of a package separately from the molding member, and convert the light emission of the LED chip 103. And a resin or glass that binds the phosphor. The coating layers 111 and 112 of the present invention are
The thickness of the coating layer 111 provided on the upper surface, the side surface and the corner of the LED chip 103 is substantially equal to the thickness of the coating layer 112 provided on the support other than the LED chip. The coating layer is the LED chip 103.
The coating layer is a continuous layer without any break even at the corners.

【0018】コーティング層では、カップなどによりL
EDチップから放出される高エネルギー光などが反射も
されるため高密度になる。さらに、蛍光体によっても反
射散乱されコーティング層が高密度の高エネルギー光に
曝される場合がある。そのため、発光強度が強く高エネ
ルギー光が発光可能な窒化物系半導体をLEDチップと
して利用した場合は、それらの高エネルギー光に対して
耐光性のあるSi、Al、Ga、Ti、Ge、P、B及
びアルカリ土類金属の1種又は2種以上有する酸化物を
結着剤あるいはバインダとして利用することが好まし
い。
In the coating layer, L
High-energy light emitted from the ED chip is also reflected, resulting in high density. Further, the phosphor may be reflected and scattered by the phosphor to expose the coating layer to high-density and high-energy light. Therefore, when a nitride-based semiconductor having high emission intensity and capable of emitting high-energy light is used as an LED chip, Si, Al, Ga, Ti, Ge, P, which has light resistance to the high-energy light, is used. It is preferable to use an oxide having one or more of B and alkaline earth metals as a binder or a binder.

【0019】コーティング層の具体的主材料の一つとし
ては、SiO2、Al23、MSiO3(なお、Mとして
は、Zn、Ca、Mg、Ba、Srなどが挙げられ
る。)などの透光性無機部材に蛍光体を含有させたもの
が好適に用いられる。これらの透光性無機部材により蛍
光体が結着され層状にLEDチップや支持体上に堆積さ
れる。
One of the specific main materials of the coating layer is SiO 2 , Al 2 O 3 , MSiO 3 (M, Zn, Ca, Mg, Ba, Sr, etc.). A translucent inorganic member containing a phosphor is preferably used. A phosphor is bound by these translucent inorganic members and deposited in layers on the LED chip and the support.

【0020】以下、コーティング層の具体的主材料とし
て、SiO2、Al23を例にとり説明する。 (SiOにより蛍光体がバインドされてなるコーティ
ング層)SiOにより蛍光体がバインドされてなるコ
ーティング層は、アルキルシリケートと高沸点有機溶剤
とを所定の割合で混合してなるシリカゾル中に蛍光体
(粉体)を均一に分散させた塗布液を調整して、その蛍
光体が分散されたシリカゾルを発光素子の全面を覆うよ
うにスプレーコーティングあるいはディスペンスした
後、SiO2成分を固着させることにより形成すること
ができる。
Hereinafter, SiO 2 and Al 2 O 3 will be described as an example of the specific main material of the coating layer. (Coating layer fluorescent substance is bound by SiO 2) coating layer phosphor by SiO 2 becomes bound, the phosphor alkyl silicate and high boiling organic solvent to the silica sol during obtained by mixing at a predetermined ratio Formed by preparing a coating solution in which (powder) is uniformly dispersed, spray coating or dispensing silica sol in which the phosphor is dispersed so as to cover the entire surface of the light emitting device, and then fixing the SiO 2 component. can do.

【0021】コンクリートの補強剤、プラスチックの顔
料、あるいは表面コーティング剤等に使用されるアルキ
ルシリケートは、以下のような構造式を有する。ここ
で、Rはアルキル基であり、メチル基の場合メチルシリ
ケート、エチル基の場合エチルシリケート、n−プロピ
ル基の場合N−プロピルシリケート、n−ブチル基の場
合N−ブチルシリケートとなる。
Alkyl silicates used as concrete reinforcing agents, plastic pigments, surface coating agents, etc. have the following structural formulas. Here, R is an alkyl group, which is methyl silicate for a methyl group, ethyl silicate for an ethyl group, N-propyl silicate for an n-propyl group, and N-butyl silicate for an n-butyl group.

【0022】[0022]

【化1】 [Chemical 1]

【0023】アルキルシリケートの一種であるエチルシ
リケートは、次の図のような構造をもち、主に四塩化ケ
イ素とエタノールとの反応、あるいは金属ケイ素とエタ
ノールとの反応から合成される無色透明の液体である。
Ethyl silicate, which is a kind of alkyl silicate, has a structure as shown in the following figure, and is a colorless and transparent liquid mainly synthesized from the reaction between silicon tetrachloride and ethanol or the reaction between metallic silicon and ethanol. Is.

【0024】[0024]

【化2】 [Chemical 2]

【0025】エチルシリケートを触媒の存在下で水と反
応させると以下のように加水分解反応する。
When ethyl silicate is reacted with water in the presence of a catalyst, a hydrolysis reaction occurs as follows.

【0026】[0026]

【化3】 [Chemical 3]

【0027】従って、エチルシリケートを加水分解させ
て生成するSiOにて蛍光体をバインドし、SiO
により蛍光体がバインドされてなるコーティング層を発
光素子の表面上、および発光素子の表面上以外の支持体
上に形成することができる。 (Alにより蛍光体がバインドされてなるコーテ
ィング層)Alにより蛍光体がバインドされてな
るコーティング層は、アルミニウムアルコレート、ある
いはアルミニウムアルコキサイドと高沸点有機溶剤とを
所定の割合で混合してなるシリカゾル中に蛍光体(粉
体)を均一に分散させた塗布液を調整して、その蛍光体
が分散されたシリカゾルを発光素子の全面を覆うように
スプレーコーティングあるいはディスペンスした後、A
23成分を固着させることにより形成することができ
る。
Therefore, the phosphor is bound with SiO 2 produced by hydrolyzing ethyl silicate, and SiO 2 is bound.
Thus, the coating layer to which the phosphor is bound can be formed on the surface of the light emitting element and on the support other than the surface of the light emitting element. (Al 2 O 3 by the coating layer fluorescent substance is bound) Al 2 O 3 with a coating layer where the fluorescent substance is bound, aluminum alcoholate or aluminum alkoxide and a high boiling organic solvent and a predetermined, A coating solution in which a phosphor (powder) was uniformly dispersed in silica sol mixed in a ratio was prepared, and the silica sol in which the phosphor was dispersed was spray-coated or dispensed so as to cover the entire surface of the light emitting device. Later, A
It can be formed by fixing the l 2 O 3 component.

【0028】アルミニウムアルコレート、あるいはアル
ミニウムアルコキサイドは、塗料の増粘剤、ゲル化剤、
硬貨剤、重合触媒、および顔料の分散剤として使用され
る有機アルミ化合物である。
Aluminum alcoholate or aluminum alkoxide is a thickening agent for coating materials, a gelling agent,
It is an organic aluminum compound used as a dispersant for coins, polymerization catalysts, and pigments.

【0029】アルミニウムアルコレート、あるいはアル
ミニウムアルコキサイドの一種であるアルミニウムイソ
プロポキサイド、アルミニウムエトキサイド、およびア
ルミニウムブトキサイドは、常温で無色透明の液体であ
り、非常に反応性に富み空気中の水分によって水酸化ア
ルミニウムを生成し、その後熱を加えると酸化アルミニ
ウムを生成する。例えば、アルミニウムイソプロポキサ
イドは以下のように、水と容易に反応し最終的には、水
酸化アルミニウムあるいはアルミナとなる。
Aluminum alcoholate, or aluminum isopropoxide, aluminum ethoxide, and aluminum butoxide, which are one of the aluminum alkoxides, are colorless and transparent liquids at room temperature and are highly reactive, and are highly reactive in the air. Moisture produces aluminum hydroxide, which is then heated to produce aluminum oxide. For example, aluminum isopropoxide easily reacts with water as described below, and finally becomes aluminum hydroxide or alumina.

【0030】[0030]

【化4】 [Chemical 4]

【0031】従って、アルミニウムイソプロポキサイド
を空気中の水分と反応させた後、加熱により生成するA
23にて蛍光体をバインドし、蛍光体を含むAl
により蛍光体がバインドされてなるコーティング層を
発光素子の表面上、および発光素子の表面上以外の支持
体上に、コーティング層として形成することができる。
Therefore, after the aluminum isopropoxide is reacted with the water in the air, A is produced by heating.
Al 2 O containing a phosphor by binding the phosphor with l 2 O 3
The coating layer formed by binding the phosphor by 3 can be formed as a coating layer on the surface of the light emitting element and on the support other than the surface of the light emitting element.

【0032】以上のSiOにより蛍光体がバインドさ
れてなるコーティング層およびAl により蛍光体
がバインドされてなるコーティング層は、同一の発光素
子上にSiOにより蛍光体がバインドされてなるコー
ティング層のみ、あるいはAlにより蛍光体がバ
インドされてなるコーティング層のみ形成させてもよい
し、SiOにより蛍光体がバインドされてなるコーテ
ィング層と、Al により蛍光体がバインドされて
なるコーティング層とを組み合わせて同一の発光素子上
に二つ以上の層を形成させてもよい。本発明におけるス
プレーによるコーティング層の形成方法によれば、二層
の膜厚を制御することも可能であるから、同じ形状のコ
ーティング層を容易に形成させることができる。例え
ば、同一の発光素子の上に、まずAlによるコー
ティング層を形成し、その上にSiOによるコーティ
ング層を形成する。ここで、蛍光体は二つの層両方に含
まれてもよいし、一つの層のみに含まれてもよいし、二
つの層両方に含まれなくても構わない。このように構成
すると、SiOにより蛍光体がバインドされてなるコ
ーティング層の屈折率は、Alにより蛍光体がバ
インドされてなるコーティング層の屈折率より小さく、
Alにより蛍光体がバインドされてなるコーティ
ング層の屈折率は窒化ガリウム系化合物半導体層の屈折
率より小さいため、光の取り出し効率が高まるなどの効
果がある。
SiO aboveTwoBound the phosphor by
Coating layer and Al TwoOThreeBy phosphor
The coating layer formed by binding the same
SiO on the childTwoThe fluorescent material is bound by
Coating layer only, or AlTwoOThreeCauses the phosphor to
You may form only the coating layer which is made in India.
And SiOTwoCoated with a phosphor bound by
Swing layer and AlTwoO ThreeBound the phosphor by
On the same light emitting device by combining
Two or more layers may be formed in each. In the present invention
According to the method of forming the coating layer by play, two layers
It is also possible to control the film thickness of
The coating layer can be easily formed. example
For example, first place Al on the same light emitting device.TwoOThreeBy co
Forming a coating layer on which SiO 2 is formed.TwoBy coaty
Forming a coating layer. Here, the phosphor is included in both two layers.
May be included, contained in only one layer, or
It does not have to be included in both layers. Configured like this
Then SiOTwoThe fluorescent substance is bound by
The refractive index of the coating layer is AlTwoOThreeCauses the phosphor to
Smaller than the refractive index of the coating layer made in India,
AlTwoOThreeCoated with a fluorescent substance
The refractive index of the cladding layer is the refractive index of the gallium nitride-based compound semiconductor layer.
The efficiency is higher than that of the light extraction efficiency.
There is a fruit.

【0033】このようにして形成された、SiOによ
り蛍光体がバインドされてなるコーティング層あるいは
Alにより蛍光体がバインドされてなるコーティ
ング層は、従来の樹脂とは異なり無機物であるため、紫
外線による劣化が樹脂に比べて極めて小さく、紫外光を
発光する発光装置(紫外域発光装置)と組み合わせて用
いることもできる。また、スプレーコーティングによ
り、波長変換機能を有する蛍光体がバインドされてなる
コーティング層を発光素子の全面、即ち上面、側面、お
よび角の部分に同じ膜厚で形成することができるので、
発光素子の全面に蛍光体が均一に分散して配置される。
それにより、窒化物半導体発光素子の全面、即ち上面、
側面、および角の部分からの発光を極めて高い効率で波
長変換し、外部に取り出すことが可能である。
The coating layer formed by binding the phosphor with SiO 2 or the coating layer formed by binding the phosphor with Al 2 O 3 is an inorganic substance unlike conventional resins. Also, it can be used in combination with a light-emitting device (ultraviolet light-emitting device) that emits ultraviolet light because its deterioration by ultraviolet rays is extremely smaller than that of resin. Further, by spray coating, a coating layer in which a phosphor having a wavelength conversion function is bound can be formed with the same film thickness on the entire surface of the light emitting element, that is, the upper surface, the side surface, and the corner portion.
Phosphors are uniformly dispersed and arranged on the entire surface of the light emitting device.
Thereby, the entire surface of the nitride semiconductor light emitting device, that is, the upper surface,
It is possible to convert the light emitted from the side surface and the corner portion into a wavelength with extremely high efficiency and take it out to the outside.

【0034】これに対して、従来例のように樹脂の中に
蛍光体を分散させた構成では、ほとんどの樹脂が青色光
に含まれる紫外線により劣化するために長時間の使用に
耐え得る素子を構成することができないので、紫外域で
発光する発光素子を用いた白色発光装置の実用化はさら
に困難であった。また、従来の方法では波長変換機能を
有する蛍光体を含有するSiOにより蛍光体がバイン
ドされてなるコーティング層あるいは樹脂を発光素子の
全面、即ち上面、側面、角の部分に同じ膜厚で形成する
ことができなかったので、発光素子の全面に蛍光体が均
一に分散して配置されなかった。したがって、窒化物半
導体発光素子の全面からの発光を極めて高い効率で波長
変換し、外部に取り出すことが困難であった。 [蛍光体]本発明に用いられる蛍光体としては、少なく
ともLEDチップ103の半導体発光層から発光された
光で励起されて発光する蛍光体をいう。本実施の形態に
おいて、蛍光体として紫外光により励起されて所定の色
の光を発生する蛍光体も用いることができ、具体例とし
て、例えば、(1)Ca10(POFCl:S
b,Mn(白色)、(2)Re(POCl:E
u(但し、ReはSr、Ca、Ba、Mgから選択され
る少なくとも一種)(青色)、(3)BaMgAl
1627:Eu(青色)、(4)BaMgAl16
27:Eu,Mn(緑色)、(5)(SrEu)O・
Al(緑色)、(6)3.5MgO・0.5Mg
・GeO:Mn(赤色)、(7)YS:E
u(赤色)、(8)MgAs11:Mn(赤
色)、(9)SrAl14O25:Eu(青緑)(1
0)(Zn、Cd)S:Cu(黄色)(11)SrAl
:Eu(黄色)(12)Ca10(PO
lBr:Mn、Eu(青)(13)Gd:Eu
(赤色)及び(14)LaS:Eu(赤色)等が
挙げられる。
On the other hand, in the structure in which the phosphor is dispersed in the resin as in the conventional example, most of the resin is deteriorated by the ultraviolet rays contained in the blue light, so that an element that can withstand long-term use is used. Since it cannot be constructed, it has been more difficult to put a white light emitting device using a light emitting element that emits light in the ultraviolet region into practical use. Further, according to the conventional method, a coating layer or a resin in which a phosphor is bound by SiO 2 containing a phosphor having a wavelength conversion function is formed on the entire surface of the light emitting element, that is, the upper surface, the side surface, and the corner portion with the same film thickness. Therefore, the phosphors were not uniformly dispersed and arranged on the entire surface of the light emitting device. Therefore, it is difficult to convert the wavelength of the light emitted from the entire surface of the nitride semiconductor light emitting device with extremely high efficiency and take it out to the outside. [Fluorescent substance] The fluorescent substance used in the present invention means a fluorescent substance which is excited by light emitted from at least the semiconductor light emitting layer of the LED chip 103 to emit light. In the present embodiment, a phosphor that is excited by ultraviolet light to generate light of a predetermined color can be used as the phosphor, and as a specific example, for example, (1) Ca 10 (PO 4 ) 6 FCl: S is used.
b, Mn (white), (2) Re 5 (PO 4 ) 3 Cl: E
u (however, Re is at least one selected from Sr, Ca, Ba, and Mg) (blue), (3) BaMg 2 Al
16 O 27 : Eu (blue), (4) BaMg 2 Al 16
O 27 : Eu, Mn (green), (5) (SrEu) O.
Al 2 O 3 (green), (6) 3.5MgO · 0.5Mg
F 2 · GeO 2 : Mn (red), (7) Y 2 O 2 S: E
u (red), (8) Mg 6 As 2 O 11 : Mn (red), (9) Sr 4 Al 14 O 25 : Eu (blue-green) (1
0) (Zn, Cd) S: Cu (yellow) (11) SrAl
2 O 4 : Eu (yellow) (12) Ca 10 (PO 4 ) 6 C
lBr: Mn, Eu (blue) (13) Gd 2 O 2 : Eu
(Red) and (14) La 2 O 2 S: Eu (red).

【0035】また、これらの蛍光体は、一層からなるコ
ーティング層中に単独で用いても良いし、混合して用い
てもよい。さらに、二層以上からなるコーティング層中
にそれぞれ単独で用いても良いし、混合して用いてもよ
い。
These phosphors may be used alone or in a mixture in a coating layer consisting of one layer. Further, they may be used alone or as a mixture in a coating layer composed of two or more layers.

【0036】LEDチップ103が発光した光と、蛍光
体が発光した光が補色関係などにある場合、それぞれの
光を混色させることで白色を発光することができる。具
体的には、LEDチップ103からの光と、それによっ
て励起され発光する蛍光体の光がそれぞれ光の3原色
(赤色系、緑色系、青色系)に相当する場合やLEDチ
ップ103が発光した青色の光と、それによって励起さ
れ発光する蛍光体の黄色の光が挙げられる。
When the light emitted by the LED chip 103 and the light emitted by the phosphor have a complementary color relationship, white light can be emitted by mixing the respective lights. Specifically, when the light from the LED chip 103 and the light of the phosphor excited and emitted by the LED chip 103 respectively correspond to the three primary colors of light (red, green, and blue), or the LED chip 103 emits light. Examples include blue light and yellow light of a phosphor that is excited by the light and emits light.

【0037】発光装置の発光色は、蛍光体と蛍光体の結
着剤として働く各種樹脂やガラスなどの無機部材などと
の比率、蛍光体の沈降時間、蛍光体の形状などを種々調
整すること及びLEDチップの発光波長を選択すること
により電球色など任意の白色系の色調を提供させること
ができる。発光装置の外部には、LEDチップからの光
と蛍光体からの光がモールド部材を効率よく透過するこ
とが好ましい。
The emission color of the light emitting device can be adjusted by variously adjusting the ratio of the phosphor to various resins that act as a binder for the phosphor, inorganic members such as glass, the sedimentation time of the phosphor, and the shape of the phosphor. Also, by selecting the emission wavelength of the LED chip, it is possible to provide an arbitrary white color tone such as a light bulb color. It is preferable that the light from the LED chip and the light from the phosphor are efficiently transmitted through the mold member to the outside of the light emitting device.

【0038】具体的な蛍光体としては、銅で付活された
硫化カドミ亜鉛やセリウムで付活されたイットリウム・
アルミニウム・ガーネット系蛍光体が挙げられる。特
に、高輝度且つ長時間の使用時においては(Re1-x
x3(Al1-yGay512:Ce(0≦x<1、0
≦y≦1、但し、Reは、Y,Gd,Laからなる群よ
り選択される少なくとも一種の元素である。)などが好
ましい。蛍光体として特に(Re1-xSmx3(Al1-y
Gay)512:Ceを用いた場合には、LEDチップと
接する或いは近接して配置され放射照度として(Ee)
=3W・cm-2以上10W・cm-2以下においても高効
率に十分な耐光性を有する発光装置とすることができ
る。
As a concrete phosphor, cadmium zinc sulfide activated with copper or yttrium activated with cerium
Aluminum / garnet-based phosphors can be mentioned. In particular, when using for a long time at high brightness (Re 1-x S
m x) 3 (Al 1- y Ga y) 5 O 12: Ce (0 ≦ x <1,0
≦ y ≦ 1, where Re is at least one element selected from the group consisting of Y, Gd, and La. ) And the like are preferable. Especially as a phosphor (Re 1-x Sm x ) 3 (Al 1-y
When Gay) 5 O 12 : Ce is used, it is placed in contact with or in close proximity to the LED chip to obtain irradiance (Ee)
= 3 W · cm −2 or more and 10 W · cm −2 or less, a light emitting device having high efficiency and sufficient light resistance can be obtained.

【0039】(Re1-xSmx3(Al1-yGay
512:Ce蛍光体は、ガーネット構造のため、熱、光
及び水分に強く、励起スペクトルのピークが470nm
付近などにさせることができる。また、発光ピークも5
30nm付近にあり720nmまで裾を引くブロードな
発光スペクトルを持たせることができる。しかも、組成
のAlの一部をGaで置換することで発光波長が短波長
にシフトし、また組成のYの一部をGdで置換すること
で、発光波長が長波長へシフトする。このように組成を
変化することで発光色を連続的に調節することが可能で
ある。したがって、長波長側の強度がGdの組成比で連
続的に変えられるなど窒化物半導体の青色系発光を利用
して白色系発光に変換するための理想条件を備えてい
る。
[0039] (Re 1-x Sm x) 3 (Al 1-y Ga y)
Since the 5 O 12 : Ce phosphor has a garnet structure, it is resistant to heat, light and moisture, and has an excitation spectrum peak of 470 nm.
It can be made nearby. Also, the emission peak is 5
It can have a broad emission spectrum in the vicinity of 30 nm and tailing to 720 nm. Moreover, the emission wavelength is shifted to a short wavelength by substituting a part of Al in the composition with Ga, and the emission wavelength is shifted to a long wavelength by substituting a part of Y in the composition with Gd. By changing the composition in this way, it is possible to continuously adjust the emission color. Therefore, the ideal condition for converting the blue-based light emission of the nitride semiconductor into the white-based light emission is provided such that the intensity on the long wavelength side is continuously changed by the composition ratio of Gd.

【0040】このような蛍光体は、Y、Gd、Ce、S
m、Al、La及びGaの原料として酸化物、又は高温
で容易に酸化物になる化合物を使用し、それらを化学量
論比で十分に混合して原料を得る。又は、Y、Gd、C
e、Smの希土類元素を化学量論比で酸に溶解した溶解
液を蓚酸で共沈したものを焼成して得られる共沈酸化物
と、酸化アルミニウム、酸化ガリウムとを混合して混合
原料を得る。これにフラックスとしてフッ化アンモニウ
ム等のフッ化物を適量混合して坩堝に詰め、空気中13
50〜1450℃の温度範囲で2〜5時間焼成して焼成
品を得る。次に焼成品を水中でボールミルして、洗浄、
分離、乾燥、最後に篩を通すことで所望の蛍光体を得る
ことができる。
Such phosphors include Y, Gd, Ce and S.
An oxide or a compound that easily becomes an oxide at high temperature is used as a raw material for m, Al, La and Ga, and they are sufficiently mixed in a stoichiometric ratio to obtain a raw material. Or Y, Gd, C
e, a coprecipitated oxide obtained by firing a solution obtained by coprecipitating a solution of rare earth elements of Sm in an acid at a stoichiometric ratio with oxalic acid, aluminum oxide, and gallium oxide to prepare a mixed raw material. obtain. An appropriate amount of a fluoride such as ammonium fluoride is mixed as a flux into the crucible and packed in a crucible.
A fired product is obtained by firing in the temperature range of 50 to 1450 ° C. for 2 to 5 hours. Next, ball-mill the baked product in water and wash it.
The desired phosphor can be obtained by separating, drying, and finally passing through a sieve.

【0041】本発明の発光装置において、蛍光体は、2
種類以上の蛍光体を混合させてもよい。即ち、Al、G
a、Y、La及びGdやSmの含有量が異なる2種類以
上の(Re1-xSmx3(Al1-yGay512:Ce蛍
光体を混合させてRGBの波長成分を増やすことができ
る。また、現在のところ半導体発光素子の発光波長に
は、バラツキが生ずるものがあるため2種類以上の蛍光
体を混合調整させて所望の白色光などを得ることができ
る。具体的には、発光素子の発光波長に合わせて色度点
の異なる蛍光体の量を調整し含有させることでその蛍光
体間と発光素子で結ばれる色度図上の任意の点を発光さ
せることができる。
In the light emitting device of the present invention, the phosphor is 2
You may mix the fluorescent substance of a kind or more. That is, Al, G
a, Y, the content of La and Gd and Sm are two or more kinds of (Re 1-x Sm x) 3 (Al 1-y Ga y) 5 O 12: RGB wavelength components by mixing Ce phosphor Can be increased. In addition, at present, there are variations in the emission wavelength of the semiconductor light emitting device, so that it is possible to obtain a desired white light by mixing and adjusting two or more kinds of phosphors. Specifically, by adjusting and containing the amount of phosphors having different chromaticity points according to the emission wavelength of the light emitting element, light is emitted at any point on the chromaticity diagram connected between the phosphors and the light emitting element. be able to.

【0042】このような蛍光体は、気相や液相中に分散
させ均一に放出させることができる。気相や液相中での
蛍光体は、自重によって沈降する。特に液相中において
は懸濁液を静置させることで、より均一性の高い蛍光体
を持つ層を形成させることができる。所望に応じて複数
回繰り返すことにより所望の蛍光体量を形成することが
できる。
Such a phosphor can be dispersed in a gas phase or a liquid phase and uniformly emitted. The fluorescent substance in the gas phase or the liquid phase settles due to its own weight. In particular, by allowing the suspension to stand in the liquid phase, a layer having a more uniform phosphor can be formed. It is possible to form a desired amount of phosphor by repeating a plurality of times as desired.

【0043】以上のようにして形成される蛍光体は、発
光装置の表面上において一層からなるコーティング層中
に二種類以上存在してもよいし、二層からなるコーティ
ング層中にそれぞれ一種類あるいは二種類以上存在して
もよい。このようにすると、異なる蛍光体からの光の混
色による白色光が得られる。この場合、各蛍光物質から
発光される光をより良く混色しかつ色ムラを減少させる
ために、各蛍光体の平均粒径及び形状は類似しているこ
とが好ましい。 [LEDチップ103]本実施の形態において発光素子
として用いられるLEDチップ103とは、蛍光体を励
起可能なものである。発光素子であるLEDチップ10
3は、MOCVD法等により基板上にGaAs、In
P、GaAlAs、InGaAlP、InN、AlN、
GaN、InGaN、AlGaN、InGaAlN等の
半導体を発光層として形成させる。半導体の構造として
は、MIS接合、PIN接合やPN接合などを有するホ
モ構造、ヘテロ構造あるいはダブルへテロ構成のものが
挙げられる。半導体層の材料やその混晶度によって発光
波長を種々選択することができる。また、半導体活性層
を量子効果が生ずる薄膜に形成させた単一量子井戸構造
や多重量子井戸構造とすることもできる。好ましくは、
蛍光体を効率良く励起できる比較的短波長を効率よく発
光可能な窒化物系化合物半導体(一般式IniGajAl
kN、ただし、0≦i、0≦j、0≦k、i+j+k=
1)である。
Two or more kinds of the phosphors formed as described above may be present in the coating layer consisting of one layer on the surface of the light emitting device, or one kind or two kinds respectively in the coating layer consisting of two layers. There may be two or more types. By doing so, white light is obtained by mixing the colors of light from different phosphors. In this case, it is preferable that the average particle diameter and the shape of the respective phosphors are similar in order to mix the light emitted from the respective phosphors better and reduce the color unevenness. [LED Chip 103] The LED chip 103 used as the light emitting element in the present embodiment is capable of exciting a phosphor. LED chip 10 which is a light emitting element
3 is GaAs, In on the substrate by MOCVD method or the like.
P, GaAlAs, InGaAlP, InN, AlN,
A semiconductor such as GaN, InGaN, AlGaN, InGaAlN is formed as a light emitting layer. Examples of the structure of the semiconductor include a homo structure having a MIS junction, a PIN junction and a PN junction, a hetero structure, or a double hetero structure. Various emission wavelengths can be selected depending on the material of the semiconductor layer and the degree of mixed crystal thereof. Further, the semiconductor active layer may be formed as a thin film in which a quantum effect is generated, and may have a single quantum well structure or a multiple quantum well structure. Preferably,
A nitride-based compound semiconductor (general formula In i Ga j Al that can efficiently excite phosphors and can efficiently emit light having a relatively short wavelength)
k N, where 0 ≦ i, 0 ≦ j, 0 ≦ k, i + j + k =
1).

【0044】窒化ガリウム系化合物半導体を使用した場
合、半導体基板にはサファイヤ、スピネル、SiC、S
i、ZnO、GaN等の材料が好適に用いられる。結晶
性の良い窒化ガリウムを形成させるためにはサファイヤ
基板を用いることがより好ましい。サファイヤ基板上に
半導体膜を成長させる場合、GaN、AlN等のバッフ
ァー層を形成しその上にPN接合を有する窒化ガリウム
半導体を形成させることが好ましい。また、サファイア
基板上にSiO2をマスクとして選択成長させたGaN
単結晶自体を基板として利用することもできる。この場
合、各半導体層の形成後SiO2をエッチング除去させ
ることによって発光素子とサファイア基板とを分離させ
ることもできる。窒化ガリウム系化合物半導体は、不純
物をドープしない状態でN型導電性を示す。発光効率を
向上させるなど所望のN型窒化ガリウム半導体を形成さ
せる場合は、N型ドーパントとしてSi、Ge、Se、
Te、C等を適宜導入することが好ましい。一方、P型
窒化ガリウム半導体を形成させる場合は、P型ドーパン
ドであるZn、Mg、Be、Ca、Sr、Ba等をドー
プさせる。
When a gallium nitride compound semiconductor is used, sapphire, spinel, SiC, S are used as the semiconductor substrate.
Materials such as i, ZnO and GaN are preferably used. It is more preferable to use a sapphire substrate in order to form gallium nitride having good crystallinity. When growing a semiconductor film on a sapphire substrate, it is preferable to form a buffer layer of GaN, AlN or the like, and to form a gallium nitride semiconductor having a PN junction thereon. In addition, GaN selectively grown on a sapphire substrate using SiO 2 as a mask.
The single crystal itself can also be used as the substrate. In this case, the light emitting element and the sapphire substrate can be separated by etching away SiO 2 after forming each semiconductor layer. The gallium nitride-based compound semiconductor exhibits N-type conductivity in a state where it is not doped with impurities. In the case of forming a desired N-type gallium nitride semiconductor such as improving the luminous efficiency, Si, Ge, Se, N
It is preferable to introduce Te, C and the like as appropriate. On the other hand, when forming a P-type gallium nitride semiconductor, P-type dopants such as Zn, Mg, Be, Ca, Sr, and Ba are doped.

【0045】窒化ガリウム系化合物半導体は、P型ドー
パントをドープしただけではP型化しにくいためP型ド
ーパント導入後に、炉による加熱、低速電子線照射やプ
ラズマ照射等によりアニールすることでP型化させるこ
とが好ましい。具体的な発光素子の層構成としては、窒
化ガリウム、窒化アルミニウムなどを低温で形成させた
バッファ層を有するサファイア基板や炭化珪素上に、窒
化ガリウム半導体であるN型コンタクト層、窒化アルミ
ニウム・ガリウム半導体であるN型クラッド層、Zn及
びSiをドープさせた窒化インジュウムガリウム半導体
である活性層、窒化アルミニウム・ガリウム半導体であ
るP型クラッド層、窒化ガリウム半導体であるP型コン
タクト層が積層されたものが好適に挙げられる。LED
チップ103を形成させるためにはサファイア基板を有
するLEDチップ103の場合、エッチングなどにより
P型半導体及びN型半導体の露出面を形成させた後、半
導体層上にスパッタリング法や真空蒸着法などを用いて
所望の形状の各電極を形成させる。SiC基板の場合、
基板自体の導電性を利用して一対の電極を形成させるこ
ともできる。
The gallium nitride-based compound semiconductor is difficult to be P-type by only doping it with a P-type dopant, so that after the P-type dopant is introduced, it is annealed by heating in a furnace, low-speed electron beam irradiation, plasma irradiation or the like to make it a P-type. It is preferable. As a specific layer structure of the light emitting element, an N-type contact layer which is a gallium nitride semiconductor, an aluminum nitride / gallium semiconductor is provided on a sapphire substrate having a buffer layer formed of gallium nitride, aluminum nitride, or the like at low temperature or silicon carbide. A laminated N-type clad layer, an active layer that is an indium gallium nitride semiconductor doped with Zn and Si, a P-type clad layer that is an aluminum nitride / gallium semiconductor, and a P-type contact layer that is a gallium nitride semiconductor. Are preferred. LED
In order to form the chip 103, in the case of the LED chip 103 having a sapphire substrate, after forming exposed surfaces of the P-type semiconductor and the N-type semiconductor by etching or the like, a sputtering method or a vacuum deposition method is used on the semiconductor layer. Then, each electrode having a desired shape is formed. In the case of SiC substrate,
The pair of electrodes can be formed by utilizing the conductivity of the substrate itself.

【0046】次に、形成された半導体ウエハー等をダイ
ヤモンド製の刃先を有するブレードが回転するダイシン
グソーにより直接フルカットするか、又は刃先幅よりも
広い幅の溝を切り込んだ後(ハーフカット)、外力によ
って半導体ウエハーを割る。あるいは、先端のダイヤモ
ンド針が往復直線運動するスクライバーにより半導体ウ
エハーに極めて細いスクライブライン(経線)を例えば
碁盤目状に引いた後、外力によってウエハーを割り半導
体ウエハーからチップ状にカットする。このようにして
窒化物系化合物半導体であるLEDチップ103を形成
させることができる。
Next, the formed semiconductor wafer or the like is directly full-cut with a dicing saw in which a blade having a diamond edge is rotated, or after a groove having a width wider than the edge width is cut (half-cut), The semiconductor wafer is broken by an external force. Alternatively, an extremely thin scribe line (meridian line) is drawn in a semiconductor wafer, for example, in a grid pattern by a scriber in which a diamond needle at the tip moves reciprocally in a straight line, and then the wafer is split by external force to be cut into chips. In this way, the LED chip 103, which is a nitride-based compound semiconductor, can be formed.

【0047】本発明の発光装置において発光させる場合
は、蛍光体との補色等を考慮してLEDチップ103の
主発光波長は350nm以上530nm以下が好まし
い。 [パッケージ102]パッケージ102は、LEDチッ
プ103を凹部内に固定保護する支持体として働く。ま
た、外部との電気的接続が可能な外部電極104を有す
る。LEDチップ103の数や大きさに合わせて複数の
開口部を持ったパッケージ102とすることもできる。
また、好適には遮光機能を持たせるために黒や灰色など
の暗色系に着色させる、或いはパッケージ102の発光
観測表面側が暗色系に着色されている。パッケージ10
2は、LEDチップ103をさらに外部環境から保護す
るためにコーティング層111、112に加えて透光性
保護体であるモールド部材106を設けることもでき
る。パッケージ102は、コーティング層111、11
2やモールド部材106との接着性がよく剛性の高いも
のが好ましい。LEDチップ103と外部とを電気的に
遮断させるために絶縁性を有することが望まれる。さら
に、パッケージ102は、LEDチップ103などから
の熱の影響をうけた場合、モールド部材106との密着
性を考慮して熱膨張率の小さい物が好ましい。
When light is emitted from the light emitting device of the present invention, the main emission wavelength of the LED chip 103 is preferably 350 nm or more and 530 nm or less in consideration of the complementary color with the phosphor. [Package 102] The package 102 serves as a support body that fixes and protects the LED chip 103 in the recess. Further, it has an external electrode 104 that can be electrically connected to the outside. It is also possible to form the package 102 having a plurality of openings according to the number and size of the LED chips 103.
Further, it is preferable that the light emitting observation surface side of the package 102 is colored in a dark color system such that it is colored in a dark color system such as black or gray in order to have a light shielding function. Package 10
In addition, in order to further protect the LED chip 103 from the external environment, in addition to the coating layers 111 and 112, a mold member 106 which is a translucent protector can be provided. The package 102 includes the coating layers 111 and 11
It is preferable that the adhesiveness is good and the rigidity with respect to 2 and the molding member 106 is high. It is desired to have an insulating property in order to electrically shut off the LED chip 103 and the outside. Further, when the package 102 is affected by heat from the LED chip 103 or the like, it is preferable that the package 102 has a small coefficient of thermal expansion in consideration of the adhesiveness with the mold member 106.

【0048】パッケージ102の凹部内表面は、エンボ
ス加工させて接着面積を増やしたり、プラズマ処理して
モールド部材との密着性を向上させることもできる。パ
ッケージ102は、外部電極104と一体的に形成させ
てもよく、パッケージ102が複数に分かれ、はめ込み
などにより組み合わせて構成させてもよい。このような
パッケージ102は、インサート成形などにより比較的
簡単に形成することができる。パッケージ材料としてポ
リカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド(P
PS)、液晶ポリマー(LCP)、ABS樹脂、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、PBT樹脂等
の樹脂やセラミック、金属などを用いることができる。
紫外線を含む光を発光するLEDチップを用いた発光装
置を高出力で使用する場合、樹脂が紫外線によって劣化
し、樹脂の黄変などによる発光効率低下や、機械的強度
の低下による発光装置の寿命の低下などが生じることが
考えられる。そこで、パッケージ材料として金属を使用
することは、紫外線を含む光を発光するLEDチップを
高出力で使用した場合でも樹脂のようにパッケージが劣
化することがないためより好ましい。
The inner surface of the recess of the package 102 can be embossed to increase the adhesion area, or plasma treated to improve the adhesion to the mold member. The package 102 may be formed integrally with the external electrode 104, or the package 102 may be divided into a plurality of pieces and combined by fitting or the like. Such a package 102 can be formed relatively easily by insert molding or the like. Polycarbonate resin, polyphenylene sulfide (P
Resins such as PS), liquid crystal polymer (LCP), ABS resin, epoxy resin, phenol resin, acrylic resin and PBT resin, ceramics, metals and the like can be used.
When a light emitting device that uses an LED chip that emits light including ultraviolet rays is used at high output, the resin deteriorates due to ultraviolet rays, and the light emitting efficiency decreases due to yellowing of the resin and the life of the light emitting device decreases due to the decrease in mechanical strength. It is possible that the Therefore, it is more preferable to use a metal as a package material because the package does not deteriorate like a resin even when an LED chip that emits light including ultraviolet rays is used at high output.

【0049】また、パッケージ102を暗色系に着色さ
せる着色剤としては種々の染料や顔料が好適に用いられ
る。具体的には、Cr23、MnO2、Fe23やカー
ボンブラックなどが好適に挙げられる。
Various dyes and pigments are preferably used as the coloring agent for coloring the package 102 in a dark color system. Specific examples include Cr 2 O 3, MnO 2, Fe 2 O 3 or carbon black are preferably exemplified.

【0050】LEDチップ103とパッケージ102と
の接着は熱硬化性樹脂などによって行うことができる。
具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂やイミド樹脂
などが挙げられる。紫外線を含む光を発光するLEDチ
ップを用いた発光装置を高出力で使用する場合、LED
チップ103とパッケージ102との接着部分は、LE
Dチップから放出された紫外線などが封止部材の樹脂や
あるいはそれに含まれる蛍光体などによっても反射さ
れ、パッケージ内においても特に高密度になる。そのた
め、接着部分の樹脂が紫外線によって劣化し、樹脂の黄
変などによる発光効率低下や、接着強度の低下による発
光装置の寿命の低下などが生じることが考えられる。こ
のような紫外線による接着部分の劣化防止のために、ガ
ラスや紫外線吸収剤を含有させた樹脂などを使用して接
着することがより好ましい。特に、パッケージに金属材
料を使用した場合は、LEDチップ103とパッケージ
102との接着はAu−Snなどの共晶はんだ等を使用
して行われる。そのため、接着に樹脂を使用した場合と
異なり、紫外線を含む光を発光するLEDチップを用い
た発光装置を高出力で使用した場合でも接着部分は劣化
しない。
The LED chip 103 and the package 102 can be adhered to each other with a thermosetting resin or the like.
Specifically, an epoxy resin, an acrylic resin, an imide resin, or the like can be given. When a light emitting device using an LED chip that emits light including ultraviolet rays is used at high output, the LED
The bonding portion between the chip 103 and the package 102 is LE
Ultraviolet rays and the like emitted from the D chip are also reflected by the resin of the sealing member, the phosphor contained therein, etc., and the density becomes particularly high in the package. Therefore, it is conceivable that the resin of the adhesive portion is deteriorated by the ultraviolet rays, and the luminous efficiency is reduced due to the yellowing of the resin and the life of the light emitting device is reduced due to the reduction of the adhesive strength. In order to prevent the deterioration of the bonded portion due to such ultraviolet rays, it is more preferable to use glass or a resin containing an ultraviolet absorber to perform the bonding. In particular, when a metal material is used for the package, the LED chip 103 and the package 102 are bonded by using eutectic solder such as Au-Sn. Therefore, unlike a case where a resin is used for adhesion, the adhesion part does not deteriorate even when a light emitting device using an LED chip that emits light including ultraviolet rays is used at high output.

【0051】また、LEDチップ103を配置固定させ
ると共にパッケージ102内の外部電極104と電気的
に接続させるためにはAgペースト、カーボンペース
ト、ITOペースト、金属バンプ等が好適に用いられ
る。 [外部電極104]外部電極104は、パッケージ10
2外部からの電力を内部に配置されたLEDチップ10
3に供給させるために用いられるためのものである。そ
のためパッケージ102上に設けられた導電性を有する
パターンやリードフレームを利用したものなど種々のも
のが挙げられる。また、外部電極104は放熱性、電気
伝導性、LEDチップ103の特性などを考慮して種々
の大きさに形成させることができる。外部電極104
は、各LEDチップ103を配置すると共にLEDチッ
プ103から放出された熱を外部に放熱させるため熱伝
導性がよいことが好ましい。外部電極104の具体的な
電気抵抗としては300μΩ・cm以下が好ましく、よ
り好ましくは、3μΩ・cm以下である。また、具体的
な熱伝導度は、0.01cal/(s)(cm2)(℃/c
m)以上が好ましく、より好ましくは 0.5cal/
(s)(cm2)(℃/cm)以上である。
Further, Ag paste, carbon paste, ITO paste, metal bumps and the like are preferably used for arranging and fixing the LED chip 103 and electrically connecting to the external electrodes 104 in the package 102. [External Electrode 104] The external electrode 104 is the package 10
2 LED chip 10 in which electric power from the outside is arranged inside
It is intended to be used to supply the No. 3 supply. Therefore, various types such as those using a conductive pattern provided on the package 102 or a lead frame can be used. Also, the external electrode 104 can be formed in various sizes in consideration of heat dissipation, electrical conductivity, characteristics of the LED chip 103, and the like. External electrode 104
It is preferable that the LED chips 103 are arranged and the heat emitted from the LED chips 103 is radiated to the outside, so that the LED chips 103 have good thermal conductivity. The specific electric resistance of the external electrode 104 is preferably 300 μΩ · cm or less, and more preferably 3 μΩ · cm or less. Moreover, the specific thermal conductivity is 0.01 cal / (s) (cm 2 ) (° C / c
m) or higher, more preferably 0.5 cal /
(s) (cm 2 ) (° C / cm) or more.

【0052】このような外部電極104としては、銅や
りん青銅板表面に銀、パラジュウム或いは金などの金属
メッキや半田メッキなどを施したものが好適に用いられ
る。外部電極104としてリードフレームを利用した場
合は、電気伝導度、熱伝導度によって種々利用できるが
加工性の観点から、板厚は0.1mmから2mmである
ことが好ましい。ガラスエポキシ樹脂やセラミックなど
の支持体上などに設けられた外部電極104としては、
銅箔やタングステン層を形成させることができる。プリ
ント基板上に金属箔を用いる場合は、銅箔などの厚みと
して18〜70μmとすることが好ましい。また、銅箔
等の上に金、半田メッキなどを施しても良い。 [導電性ワイヤー105]導電性ワイヤー105として
は、LEDチップ103の電極とのオーミック性、機械
的接続性、電気伝導性及び熱伝導性がよいものが求めら
れる。熱伝導度としては0.01cal/(s)(cm2)
(℃/cm)以上が好ましく、より好ましくは0.5c
al/(s)(cm2)(℃/cm)以上である。また、作業
性、および高出力の発光装置を形成する場合などを考慮
して導電性ワイヤー105の直径は、好ましくは、Φ1
0μm以上、Φ70μm以下である。このような導電性
ワイヤー105として具体的には、金、銅、白金、アル
ミニウム等の金属及びそれらの合金を用いた導電性ワイ
ヤーが挙げられる。このような導電性ワイヤー105
は、各LEDチップ103の電極と、インナー・リード
及びマウント・リードなどと、をワイヤーボンディング
機器によって容易に接続させることができる。 [モールド部材106]モールド部材106は、発光装
置の使用用途に応じてLEDチップ103、導電性ワイ
ヤー105、蛍光体が含有されたコーティング層11
1、112などを外部から保護するため、あるいは光取
り出し効率を向上させるために設けることができる。モ
ールド部材106は、各種樹脂や硝子などを用いて形成
させることができる。モールド部材106の具体的材料
としては、主としてエポキシ樹脂、ユリア樹脂、シリコ
ーン樹脂、フッ素樹脂などの耐候性に優れた透明樹脂や
硝子などが好適に用いられる。また、モールド部材に拡
散剤を含有させることによってLEDチップ103から
の指向性を緩和させ視野角を増やすこともできる。この
ような、モールド部材106は、コーティング層の結着
剤と同じ材料を用いても良いし異なる材料としても良
い。また、モールド部材106には、蛍光体と共に紫外
線吸収剤を含有させても良い。これにより、コーティン
グ層に含まれる蛍光体によって変換されずに透過する紫
外線をモールド部材106において完全に吸収するため
外部に紫外線を漏らさない、安全な発光装置が形成でき
る。
As such an external electrode 104, a copper or phosphor bronze plate whose surface is plated with a metal such as silver, palladium or gold or a solder plating is preferably used. When a lead frame is used as the external electrode 104, it can be used in various ways depending on electrical conductivity and thermal conductivity, but from the viewpoint of workability, the plate thickness is preferably 0.1 mm to 2 mm. As the external electrode 104 provided on a support such as glass epoxy resin or ceramic,
A copper foil or a tungsten layer can be formed. When a metal foil is used on the printed board, the thickness of the copper foil or the like is preferably 18 to 70 μm. Further, gold, solder plating or the like may be applied on the copper foil or the like. [Conductive Wire 105] The conductive wire 105 is required to have good ohmic contact with the electrode of the LED chip 103, mechanical connectivity, electrical conductivity, and thermal conductivity. The thermal conductivity is 0.01 cal / (s) (cm 2 ).
(° C / cm) or more, more preferably 0.5c
Al / (s) (cm 2 ) (° C / cm) or more. The diameter of the conductive wire 105 is preferably Φ1 in consideration of workability and the case of forming a high-power light emitting device.
It is 0 μm or more and Φ70 μm or less. Specific examples of such a conductive wire 105 include a conductive wire using a metal such as gold, copper, platinum, aluminum, or an alloy thereof. Such a conductive wire 105
Can easily connect the electrodes of each LED chip 103 to the inner leads, mount leads and the like by a wire bonding device. [Molding Member 106] The molding member 106 includes the LED chip 103, the conductive wire 105, and the coating layer 11 containing a fluorescent substance depending on the intended use of the light emitting device.
1, 112 and the like can be provided to protect them from the outside or to improve the light extraction efficiency. The mold member 106 can be formed using various resins, glass, or the like. As a specific material for the molding member 106, a transparent resin having excellent weather resistance such as an epoxy resin, a urea resin, a silicone resin, or a fluororesin, or glass is preferably used. Further, by including a diffusing agent in the mold member, it is possible to reduce the directivity from the LED chip 103 and increase the viewing angle. Such a mold member 106 may use the same material as the binder of the coating layer, or may use a different material. Further, the mold member 106 may contain an ultraviolet absorber together with the phosphor. As a result, ultraviolet rays that are transmitted without being converted by the phosphor contained in the coating layer are completely absorbed by the mold member 106, and thus a safe light emitting device that does not leak ultraviolet rays to the outside can be formed.

【0053】なお、金属パッケージを使用して、窒素ガ
スなどと共にLEDチップ103を気密封止する場合
は、モールド部材106は本発明に必須の構成部材では
ない。また、紫外線を発光するLEDチップを使用して
発光装置を形成する場合であっても、フッ素樹脂等のよ
うに紫外線に強い樹脂をモールド部材として使用するこ
とができる。 [スプレー装置300]本実施の形態では、図2および
図4に示されるように、塗布液を収納する容器301、
塗布液の流量を調節するバルブ302、塗布液をノズル
201に搬送した後ノズル201から容器301に搬送
する循環ポンプ303、及び螺旋状に塗布液を噴出する
ノズル201が、それぞれ搬送管307、308、30
9で結ばれたスプレー装置300を用いる。 (容器301)塗布液を収納する容器301には撹拌機
304が取り付けてあり、塗布作業中は塗布液を常に撹
拌している。容器301に収納されている塗布液は、撹
拌機304によって常に撹拌されており、塗布液に含ま
れる蛍光体は溶液中で常に均一に分散している。 (バルブ302)バルブ302は、容器301から搬送
管309を通して搬送されてくる塗布液の流量をバルブ
の開け閉めによって調節する。 (循環ポンプ303)循環ポンプ303は、塗布液を容
器301からバルブ302およびコンプレッサー305
を経由させてノズル201の先端部まで搬送管309を
通して搬送し、その後、ノズル201から噴出されずに
残った塗布液を、搬送管308を通して容器301まで
搬送する。塗布液は、循環ポンプ303によって容器3
01からバルブ302を経由してノズル201の先端部
まで搬送管309を通して搬送され、その後搬送管30
8を通して容器301まで搬送されているため、常にス
プレー装置内を循環している状態にある。従って、塗布
液はスプレー装置全体にわたって撹拌、または循環状態
にあるため、塗布液に含まれる蛍光体は、塗布作業中常
に均一な分散状態にある。 (コンプレッサー305)コンプレッサー305は、搬
送管307あるいは309を介して装置内に設置されて
おり、搬送管307を通して搬送される空気を圧縮し、
搬送管309を通して搬送される塗布液の圧力を調節す
る。コンプレッサー305により、圧縮空気および圧力
調節された塗布液がそれぞれノズル201に搬送され
る。ここで圧縮空気の圧力は圧力計306によって監視
される。
When a metal package is used to hermetically seal the LED chip 103 together with nitrogen gas or the like, the mold member 106 is not an essential component of the present invention. Further, even when a light emitting device is formed using an LED chip that emits ultraviolet rays, a resin that is resistant to ultraviolet rays such as a fluororesin can be used as the molding member. [Spray Device 300] In the present embodiment, as shown in FIGS. 2 and 4, a container 301 for containing the coating liquid,
A valve 302 for adjusting the flow rate of the coating liquid, a circulation pump 303 for transporting the coating liquid to the nozzle 201 and then to the container 301, and a nozzle 201 for ejecting the coating liquid in a spiral shape are transport pipes 307 and 308, respectively. , 30
The spray device 300 tied at 9 is used. (Container 301) A stirrer 304 is attached to the container 301 that stores the coating liquid, and the coating liquid is constantly stirred during the coating operation. The coating liquid stored in the container 301 is constantly stirred by the stirrer 304, and the phosphor contained in the coating liquid is always uniformly dispersed in the solution. (Valve 302) The valve 302 adjusts the flow rate of the coating liquid transported from the container 301 through the transport pipe 309 by opening and closing the valve. (Circulation Pump 303) The circulation pump 303 transfers the coating liquid from the container 301 to the valve 302 and the compressor 305.
Via the carrier pipe 309 to the tip portion of the nozzle 201, and then the coating liquid remaining without being ejected from the nozzle 201 is carried to the container 301 via the carrier pipe 308. The coating liquid is supplied to the container 3 by the circulation pump 303.
01 through the valve 302 to the tip of the nozzle 201 through the transfer pipe 309, and then the transfer pipe 30.
Since it is conveyed to the container 301 through 8, it is always circulating in the spray device. Therefore, since the coating liquid is agitated or circulated over the entire spray device, the phosphor contained in the coating liquid is always in a uniform dispersed state during the coating operation. (Compressor 305) The compressor 305 is installed in the apparatus via the carrier pipe 307 or 309, and compresses the air carried through the carrier pipe 307,
The pressure of the coating liquid transported through the transport pipe 309 is adjusted. The compressed air and the pressure-adjusted coating liquid are respectively conveyed to the nozzle 201 by the compressor 305. Here, the pressure of the compressed air is monitored by the pressure gauge 306.

【0054】また、ノズルの手前には操作ハンドルが取
り付けてあり、ハンドルの握り具合を調節することで、
ノズルの先端から噴出する塗布液の量を調節することが
可能な構造となっている。
An operation handle is attached in front of the nozzle, and by adjusting the grip of the handle,
The structure is such that the amount of the coating liquid ejected from the tip of the nozzle can be adjusted.

【0055】以上のようなスプレー装置300を使用し
て、塗布液を高圧のガスと共に高速で噴出させて、発光
素子の上面、側面および角の上に塗布する。 (ノズル201)発光素子上面に垂直に向かうガスの流
れに乗せて霧状の塗布液を噴出させるノズルを搭載した
従来のスプレー装置では、発光素子側面が塗布液の噴出
方向に平行であり、塗布開始直後、霧状の塗布液からな
る噴霧は発光素子側面を素通りする。また、導電性ワイ
ヤーの陰になる発光素子表面上には塗布されにくく、導
電性ワイヤーの陰にならない発光素子表面上とコーティ
ング層の厚みが異なっていた。そのため、発光素子の全
面を被覆しようとすれば、発光素子あるいはノズルを回
転させて塗布液の噴出方向に発光素子の全面を向ける
か、発光素子を搭載している支持体表面への塗布を繰り
返して形成される厚いコーティング層で発光素子の側面
を被覆しなければならなかった。従って、発光素子の角
から側面を作業性良く塗布することができす、発光素子
表面全体を被覆するコーティング層の厚さが発光素子の
上面および側面で異なっていた。さらに、高速で霧状の
塗布液が吹き付けることにより、発光素子の正負一対の
電極と外部電極とを結ぶ導電性ワイヤーが変形したり、
断線するなどの問題があった。
Using the spray device 300 as described above, the coating liquid is jetted at high speed together with the high-pressure gas, and is applied on the upper surface, side surface and corner of the light emitting element. (Nozzle 201) In a conventional spray device equipped with a nozzle for ejecting a mist-like coating liquid on a gas flow directed vertically to the upper surface of the light-emitting element, the side surface of the light-emitting element is parallel to the ejection direction of the coating liquid, and Immediately after the start, the spray composed of the atomized coating solution passes through the side surface of the light emitting element. In addition, the coating was difficult to be applied on the surface of the light emitting device which is shaded by the conductive wire, and the thickness of the coating layer was different from that on the surface of the light emitting device which was not shaded by the conductive wire. Therefore, if you want to cover the entire surface of the light-emitting element, rotate the light-emitting element or the nozzle to direct the entire surface of the light-emitting element in the ejection direction of the coating liquid, or repeat the coating on the surface of the support on which the light-emitting element is mounted. The side surface of the light emitting device has to be covered with a thick coating layer formed as a result. Therefore, the side surface of the light emitting element can be coated with good workability, and the thickness of the coating layer covering the entire surface of the light emitting element is different between the upper surface and the side surface of the light emitting element. Further, by spraying the atomized coating liquid at high speed, the conductive wire connecting the positive and negative electrodes of the light emitting element and the external electrode is deformed,
There was a problem such as disconnection.

【0056】本実施の形態では、塗布液とガス(本実施
の形態では空気)がノズル201を通して螺旋状に噴出
されることを特徴とする装置を使用する。この装置のノ
ズルの周囲にはガスの噴出口が数カ所設けられており、
それらの噴出口から噴出するガスの噴出方向は、塗布さ
れる面に対してそれぞれある一定の角度を付けられてい
る。したがって、塗布液の噴出口を中心に回転している
それらのガス噴出口に同時にガスが送り込まれると、そ
れぞれの噴出口から噴出するガスを集めた全体のガスの
流れは、渦巻き状の流れ、螺旋状の流れ、あるいは竜巻
における空気の流れを逆さまにしたような流れとなる。
また、この装置のノズルの中心には塗布液の噴出口が設
けられており、ガスの噴出と同時に塗布液を噴出する
と、霧状となった塗布液が、螺旋状の流れ、あるいは竜
巻における空気の流れを逆さまにしたようなガスの流れ
に乗って拡散していく。
In this embodiment, an apparatus is used in which the coating liquid and gas (air in this embodiment) are ejected in a spiral shape through the nozzle 201. There are several gas outlets around the nozzle of this device.
The ejection direction of the gas ejected from these ejection ports is set at a certain angle with respect to the surface to be coated. Therefore, when gas is simultaneously sent to those gas jets rotating around the jet of the coating liquid, the flow of the entire gas collected from the jets is a spiral flow, It will be a spiral flow, or an upside-down flow of air in a tornado.
In addition, a spray port for the coating liquid is provided at the center of the nozzle of this device, and when the coating liquid is jetted at the same time as the gas is jetted, the atomized coating liquid causes a spiral flow or air in a tornado. The gas flows as if it had been turned upside down and diffuses.

【0057】螺旋状に拡散した噴霧全体の径は、発光素
子上方の噴射開始点から発光素子の表面に近づくにつれ
て大きい。また、発光素子上方の噴射開始点から発光素
子の表面に近づくにつれて塗布液からなる噴霧の回転速
度が減少している。即ち、霧状の塗布液がノズルから噴
出されて空気中で拡散すると、噴射開始点であるノズル
の付近では円錐状に噴霧が広がるが、ノズルから離れた
所では、円柱状に噴霧が広がる。そこで、本実施例で
は、発光素子の上面からノズル下端までの距離を調節し
て円柱状に噴霧が広がった状態の所に発光素子の表面が
くるように設置することが好ましい。このとき噴霧は、
螺旋状に回転し、かつ速度が弱まっているため、導電性
ワイヤーの陰になる発光素子表面上にも回り込み、発光
素子上面全体だけでなく側面全体にも十分吹き付けられ
る。これにより、発光素子あるいはノズルを固定した状
態で作業を行うことができる。また、円柱状に噴霧が広
がった状態の所では噴霧の速度が弱まっているため、噴
霧が発光素子の表面に吹き付けられたとき、含まれる蛍
光体粒子によって発光素子の表面が衝撃を受けることが
ない。また、導電性ワイヤーの変形や断線がなく歩留ま
りが向上する。
The diameter of the entire spray diffused in a spiral shape increases as it approaches the surface of the light emitting element from the injection start point above the light emitting element. Further, the rotation speed of the spray made of the coating liquid decreases as it approaches the surface of the light emitting element from the injection start point above the light emitting element. That is, when the atomized coating liquid is ejected from the nozzle and diffused in the air, the spray spreads in a conical shape in the vicinity of the nozzle, which is the injection start point, but the spray spreads in a columnar shape away from the nozzle. Therefore, in this embodiment, it is preferable to adjust the distance from the upper surface of the light emitting element to the lower end of the nozzle so that the surface of the light emitting element comes to the place where the spray spreads in a cylindrical shape. At this time, the spray is
Since it is spirally rotated and the speed is weakened, it wraps around the surface of the light emitting element behind the conductive wire and is sufficiently sprayed not only on the entire upper surface of the light emitting element but also on the entire side surface. Thereby, the work can be performed with the light emitting element or the nozzle fixed. In addition, since the spray speed is weakened in a state where the spray spreads in a columnar shape, when the spray is sprayed on the surface of the light emitting element, the phosphor particles contained in the spray may impact the surface of the light emitting element. Absent. Further, the yield is improved without the conductive wire being deformed or broken.

【0058】これにより、作業性を向上させ、かつSi
により蛍光体がバインドされてなるコーティング層
で発光素子表面全体、即ち発光素子の上面、側面および
角の部分を同じ膜厚で被覆することができる。 [ヒーター205]本実施の形態では、図4に示される
ように、塗布液が吹き付けられた瞬間にエタノールおよ
び溶剤を飛ばすため、発光素子はヒーター205上にお
いて温度50℃以上300℃以下の加温状態のもとで塗
布されることが望ましい。これにより、塗布液が発光素
子の上面、側面および角、さらに支持体表面に吹き付け
られた後に吹き付けられた場所から流れ出すことはな
く、塗布液を発光素子の上面、側面および角、さらに支
持体表面に付着させることができる。従って、SiO
により蛍光体がバインドされてなるコーティング層で発
光素子の上面、側面および角の部分を覆うことができ
る。
This improves workability and si
The entire surface of the light emitting device, that is, the upper surface, side faces and corners of the light emitting device can be covered with the same film thickness by the coating layer in which the phosphor is bound by O 2 . [Heater 205] In the present embodiment, as shown in FIG. 4, the light emitting element is heated at a temperature of 50 ° C. or higher and 300 ° C. or lower on the heater 205 in order to blow off the ethanol and the solvent at the moment when the coating liquid is sprayed. It is desirable to be applied under conditions. As a result, the coating liquid does not flow out from the top surface, side surfaces and corners of the light emitting element, and further from where it is sprayed onto the surface of the support, and the coating liquid does not flow out from the top surface, side surfaces and corners of the light emitting element, and the surface of the support Can be attached to. Therefore, SiO 2
The coating layer formed by binding the phosphor can cover the upper surface, the side surface, and the corners of the light emitting device.

【0059】[0059]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明は具体的実施例のみに限定されるものではないこ
とは言うまでもない。 (実施例1)LEDチップは、洗浄させたサファイヤ基
板上にTMG(トリメチルガリウム)ガス、TMI(ト
リメチルインジュウム)ガス、窒素ガス及びドーパント
ガスをキャリアガスと共に流し、MOCVD法で窒化ガ
リウム系化合物半導体を成膜させることにより形成させ
た。ドーパントガスとしてSiH4とCp2Mgと、を切
り替えることによってN型導電性を有する窒化ガリウム
系半導体とP型導電性を有する窒化ガリウム系半導体を
形成しPN接合を形成させる。半導体発光素子として、
N型導電性を有する窒化ガリウム半導体であるコンタク
ト層と、P型導電性を有する窒化ガリウムアルミニウム
半導体であるクラッド層、P型導電性を有する窒化ガリ
ウム半導体であるコンタクト層を形成させた。N型導電
性を有するコンタクト層とP型導電性を有するクラッド
層との間に厚さ約3nmであり、単一量子井戸構造とさ
れるノンドープInGaNの活性層を形成させた。(な
お、サファイア基板上には低温で窒化ガリウム半導体を
形成させバッファ層とさせてある。また、P型導電性を
有する半導体は、成膜後400℃以上でアニールさせて
ある。) エッチングによりサファイア基板上のPN各半導体表面
を露出させた後、スパッタリングにより各電極をそれぞ
れ形成させた。こうして出来上がった半導体ウエハー
を、スクライブラインを引いた後、外力により分割させ
発光素子として350μm角のLEDチップを形成させ
た。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.
Needless to say, the present invention is not limited to the specific examples. (Example 1) In an LED chip, TMG (trimethylgallium) gas, TMI (trimethylindium) gas, nitrogen gas and dopant gas were made to flow together with a carrier gas on a cleaned sapphire substrate, and a gallium nitride-based compound semiconductor was formed by MOCVD. Was formed by forming a film. By switching between SiH 4 and Cp 2 Mg as a dopant gas, a gallium nitride semiconductor having N-type conductivity and a gallium nitride semiconductor having P-type conductivity are formed to form a PN junction. As a semiconductor light emitting device,
A contact layer which is a gallium nitride semiconductor having N-type conductivity, a clad layer which is a gallium aluminum nitride semiconductor having P-type conductivity, and a contact layer which is a gallium nitride semiconductor having P-type conductivity are formed. An active layer of non-doped InGaN having a single quantum well structure and having a thickness of about 3 nm was formed between the contact layer having N-type conductivity and the clad layer having P-type conductivity. (Note that a gallium nitride semiconductor is formed as a buffer layer on a sapphire substrate at a low temperature. Further, a semiconductor having P-type conductivity is annealed at 400 ° C. or higher after film formation.) Sapphire by etching After exposing the surface of each PN semiconductor on the substrate, each electrode was formed by sputtering. After the scribe line was drawn on the semiconductor wafer thus formed, it was divided by an external force to form a 350 μm square LED chip as a light emitting element.

【0060】一方、インサート成形によりポリカーボネ
ート樹脂を用いてチップタイプLEDのパッケージを形
成させた。チップタイプLEDのパッケージ内は、LE
Dチップが配される開口部を備えている。パッケージ中
には、銀メッキした銅板を外部電極として配置させてあ
る。パッケージ内部でLEDチップをエポキシ樹脂など
を用いて固定させる。導電性ワイヤーである金線をLE
Dチップの各電極とパッケージに設けられた各外部電極
とにそれぞれワイヤーボンディングさせ電気的に接続さ
せてある。こうしてLEDチップが配置されたパッケー
ジを8280個形成させた。各パッケージの開口部を除
く表面には、レジスト膜が形成されている。8280個
のLEDチップが配置されたパッケージを純粋電解質が
入った容器中に配置させる。
On the other hand, a chip type LED package was formed by insert molding using a polycarbonate resin. The inside of the chip type LED package is LE
It has an opening in which the D chip is arranged. A silver-plated copper plate is arranged as an external electrode in the package. The LED chip is fixed inside the package using epoxy resin or the like. LE is a conductive wire
Each electrode of the D chip and each external electrode provided on the package are wire-bonded and electrically connected. In this way, 8280 packages in which the LED chips were arranged were formed. A resist film is formed on the surface of each package except the opening. A package with 8280 LED chips is placed in a container with pure electrolyte.

【0061】他方、蛍光体は、Y、Gd、Ceの希土類
元素を化学量論比で酸に溶解した溶解液を蓚酸で共沈さ
せた。これを焼成して得られる共沈酸化物と、酸化アル
ミニウムと混合して混合原料を得る。これにフラックス
としてフッ化アンモニウムを混合して坩堝に詰め、空気
中1400°Cの温度で3時間焼成して焼成品を得た。
焼成品を水中でボールミルして、洗浄、分離、乾燥、最
後に篩を通して(Y0. 8Gd0.23Al512:Ce蛍光
体を形成させた。
On the other hand, as the phosphor, a solution obtained by dissolving rare earth elements of Y, Gd and Ce in an acid at a stoichiometric ratio was coprecipitated with oxalic acid. The coprecipitated oxide obtained by firing this is mixed with aluminum oxide to obtain a mixed raw material. Ammonium fluoride was mixed with this as a flux, packed in a crucible, and baked in air at a temperature of 1400 ° C for 3 hours to obtain a baked product.
The fired product is ball in water, washed, separated, dried, and finally through a sieve (Y 0. 8 Gd 0.2) 3 Al 5 O 12: to form a Ce phosphor.

【0062】次に、Si、Al、Ga、Ti、Ge、
P、B及びアルカリ土類元素の1種又は2種以上を有す
る酸化物である無機物で蛍光体をバインドする。本実施
例では、一般的に使用されるSiOにて蛍光体をバイ
ンドし、SiOにより蛍光体がバインドされてなるコ
ーティング層を発光素子の表面上、および発光素子の表
面上以外の支持体上に、コーティング層として形成す
る。
Next, Si, Al, Ga, Ti, Ge,
The phosphor is bound with an inorganic substance which is an oxide containing one or more of P, B and alkaline earth elements. In the present embodiment, a commonly used SiO 2 is used to bind a phosphor, and a coating layer formed by binding the phosphor with SiO 2 is provided on the surface of the light emitting device and a support other than the surface of the light emitting device. Formed as a coating layer on top.

【0063】SiOにより蛍光体がバインドされてな
るコーティング層は、アルキルシリケートと高沸点有機
溶剤とを所定の割合で混合してなるシリカゾル中に蛍光
体(粉体)を均一に分散させた塗布液を調整して、その
蛍光体が分散されたシリカゾルを、パッケージ内に実装
されてワイヤーボンディングされた発光素子の全面を覆
うようにスプレーコーティングした後、SiO2成分を
固着させることにより形成する。
The coating layer in which the phosphor is bound by SiO 2 is a coating in which the phosphor (powder) is uniformly dispersed in silica sol which is a mixture of an alkyl silicate and a high boiling point organic solvent in a predetermined ratio. The solution is prepared, and the silica sol in which the phosphor is dispersed is spray-coated so as to cover the entire surface of the light emitting element mounted in the package and wire-bonded, and then the SiO 2 component is fixed.

【0064】以下、図2および図4を参照して本発明に
おける、SiOにより蛍光体がバインドされてなるコ
ーティング層のスプレーコーティングによる形成方法に
ついて、エチルシリケートを使用する場合を例にとり順
を追って説明する。
2 and 4, the method of forming the coating layer in which the phosphor is bound by SiO 2 by spray coating according to the present invention will be described step by step using ethyl silicate as an example. explain.

【0065】工程1.アルキルシリケートとしてメチル
シリケート、エチルシリケート、N−プロピルシリケー
ト、N−ブチルシリケート、が使用できるが、本実施例
では、SiO を40wt%含むエチルシリケートを縮
合させた無色透明のオリゴマー液体を使用する。また、
エチルシリケートは、予め触媒存在下において水と反応
させて加水分解反応を起こしたものを使用する。
Step 1. Methyl as an alkyl silicate
Silicate, ethyl silicate, N-propyl silicate
, N-butyl silicate, can be used, but this example
Then SiO TwoShrink ethyl silicate containing 40 wt%
A combined colorless and transparent oligomer liquid is used. Also,
Ethyl silicate reacts with water in the presence of catalyst beforehand
The one that has undergone hydrolysis reaction is used.

【0066】まず、エチルシリケートの加水分解溶液と
エチレングリコールと蛍光体が重量比で1:1:1とな
る混合溶液を調整し、蛍光体が塗布液中で均一に分散す
るように撹拌して塗布液を調整した。ここで、エチルシ
リケートは乾燥してゲル化しやすいため、ブタノール、
エチレングリコールのような高沸点(100℃〜200
℃)の有機溶剤と混合することが好ましい。このように
高沸点の有機溶剤と混合すると、乾燥したエチルシリケ
ートのゲルがノズルの先端部などに付着し塗布液の噴出
に対して障害物となることによる塗布液の噴出量の低下
を防ぐことができ、作業性をよくすることができる。
First, a mixed solution of a hydrolyzed solution of ethyl silicate, ethylene glycol and a phosphor in a weight ratio of 1: 1: 1 was prepared and stirred so that the phosphor was uniformly dispersed in the coating liquid. The coating liquid was adjusted. Here, since ethyl silicate is easy to dry and gel, butanol,
High boiling point such as ethylene glycol (100 ℃ ~ 200
It is preferable to mix it with an organic solvent (° C.). When mixed with a high-boiling point organic solvent in this way, the dried ethyl silicate gel is prevented from adhering to the tip of the nozzle, etc., and obstructing the jetting of the coating liquid, thereby preventing a decrease in the amount of the coating liquid jetted. The workability can be improved.

【0067】工程2.上記塗布液を容器301に入れ、
循環ポンプ303によって塗布液を容器からノズル20
1に搬送する。塗布液の流量はバルブ302によって調
節する。
Step 2. Put the coating solution in the container 301,
The coating liquid is discharged from the container to the nozzle 20 by the circulation pump 303.
Transport to 1. The flow rate of the coating liquid is adjusted by the valve 302.

【0068】ここで、霧状の塗布液がノズル201から
噴出されると、ノズルの付近では円錐状に噴霧が広がる
が、ノズルから離れた所では、円柱状に噴霧が広がる。
そこで、本実施例では、発光素子の上面からノズル下端
までの距離を40〜50mmとして円柱状に噴霧が広が
った状態の所に発光素子の表面がくるように設置する。
Here, when the atomized coating liquid is ejected from the nozzle 201, the spray spreads in a conical shape in the vicinity of the nozzle, but the spray spreads in a cylindrical shape at a position away from the nozzle.
Therefore, in this embodiment, the distance from the upper surface of the light emitting element to the lower end of the nozzle is 40 to 50 mm, and the surface of the light emitting element is installed so that the spray is spread in a cylindrical shape.

【0069】図2に示されるように、塗布液とガスを発
光素子の上面、側面および角、さらに支持体表面に所望
の膜厚になるまで繰り返し吹き付けて塗布液を付着させ
る。ここで、所望の膜厚とは、コーティング層内に含ま
れる蛍光体によってLEDからの光が十分に波長変換さ
れ、蛍光体粒子によって光の透過率の低下を招かない程
度のコーティング層の厚さをいう。
As shown in FIG. 2, the coating liquid and the gas are repeatedly sprayed onto the upper surface, side faces and corners of the light emitting element, and further onto the surface of the support until the desired film thickness is reached, thereby depositing the coating liquid. Here, the desired film thickness means the thickness of the coating layer to such an extent that the light contained in the coating layer converts the wavelength of the light emitted from the LED and the phosphor particles do not reduce the light transmittance. Say.

【0070】また、エチルシリケートの加水分解によっ
て生成したエタノールおよび溶剤を塗布液が吹き付けら
れた瞬間に飛ばすため、発光素子はヒーター上において
50℃以上300℃以下の温度で加温状態にあることが
望ましい。これにより、塗布液が発光素子の上面、側面
および角、さらに支持体表面に吹き付けられた後に流れ
出すことはなく、SiOにより蛍光体がバインドされ
てなるコーティング層を発光素子の上面、側面および
角、さらに支持体表面に形成させることができる。
Further, since the ethanol and the solvent generated by the hydrolysis of ethyl silicate are blown off at the moment when the coating liquid is sprayed, the light emitting element may be heated on the heater at a temperature of 50 ° C. or higher and 300 ° C. or lower. desirable. As a result, the coating liquid does not flow out after being sprayed on the upper surface, side surfaces and corners of the light emitting element and further on the surface of the support, and the coating layer formed by binding the phosphor by SiO 2 is formed on the upper surface, side surfaces and corners of the light emitting element. Further, it can be formed on the surface of the support.

【0071】このスプレーによるコーティングを行うこ
とにより、均一に蛍光体が分散した状態で、SiO
より蛍光体をバインドしたコーティング層で発光素子の
上面、側面および角の部分を覆うことができる。
By performing this spray coating, the upper surface, side surfaces and corners of the light emitting element can be covered with the coating layer in which the phosphor is bound by SiO 2 in a state where the phosphor is uniformly dispersed.

【0072】工程3.手順2を行った後、室温で放置す
る。このとき、エチルシリケートは、空気中の水分と反
応してSiOとエタノールに分解する。したがって、
発光素子の表面にはSiOにより蛍光体がバインドさ
れてなるコーティング層が形成される。
Step 3. After performing step 2, leave at room temperature. At this time, ethyl silicate reacts with moisture in the air to decompose into SiO 2 and ethanol. Therefore,
On the surface of the light emitting device, a coating layer formed by binding a phosphor with SiO 2 is formed.

【0073】工程4.表面にSiOにより蛍光体がバ
インドされてなるコーティング層が形成された発光素子
を、300℃の温度で2時間乾燥させることにより、エ
チルシリケートの加水分解の際に生成するエタノール、
および溶剤を完全に蒸発させ、SiO により蛍光体が
バインドされてなるコーティング層を発光素子表面に固
着させる。ここで、窒化物系発光素子は350℃以上の
温度下に置かれると、発光素子としての性能が低下する
ため、300℃の温度下で発光素子表面への固着が可能
なアルキルシリケートは、蛍光体のバインダとしての使
用に適している。
Step 4. SiO on the surfaceTwoCauses the phosphor to
A light emitting device having a coating layer formed in India
By drying at a temperature of 300 ° C. for 2 hours.
Ethanol produced during hydrolysis of tilsilicate,
And the solvent is completely evaporated, TwoDue to the phosphor
The bound coating layer is fixed on the surface of the light emitting device.
To wear. Here, the nitride-based light emitting device has a temperature of 350 ° C. or higher.
The performance as a light emitting device deteriorates when it is exposed to temperature.
Therefore, it is possible to adhere to the surface of the light emitting element at a temperature of 300 ° C.
Useful alkyl silicates as phosphor binders
Suitable for

【0074】以上の工程により、均一に分散した状態の
蛍光体を含み、層厚が約20μmのコーティング層が発
光素子の上面、側面および角の上に形成される。
Through the above steps, a coating layer containing a phosphor in a uniformly dispersed state and having a layer thickness of about 20 μm is formed on the upper surface, side surfaces and corners of the light emitting device.

【0075】ここで、本実施の形態では、SiOによ
り蛍光体がバインドされてなるコーティング層に含まれ
る蛍光体の含有量は、SiOにより蛍光体がバインド
されてなるコーティング層を介して出力される光が実質
的に蛍光体71によって波長変換された白色光のみにな
るように、すなわち、発光素子により発光された青色光
のほとんどが蛍光体に吸収されて該蛍光体を励起するよ
うに比較的大きく設定することが好ましい。このように
すると発光効率(発光素子に入力された電力に対する出
力される光の比)を高くすることができる。
[0075] Here, in the present embodiment, the content of the phosphor contained in the coating layer in which the phosphor by SiO 2 is bound through the coating layer phosphor by SiO 2 is bound output So that the emitted light is substantially only white light whose wavelength is converted by the phosphor 71, that is, most of the blue light emitted by the light emitting element is absorbed by the phosphor and excites the phosphor. It is preferable to set it relatively large. By doing so, the luminous efficiency (the ratio of the light output to the electric power input to the light emitting element) can be increased.

【0076】また、SiOにより蛍光体がバインドさ
れてなるコーティング層に含有させる蛍光体の量は、所
望の色調に対応させて種々の値に設定されるものであ
り、本発明は蛍光体の含有量により限定されるものでは
ないが、本発明者らの検討によると、SiOにより蛍
光体がバインドされてなるコーティング層は、蛍光体を
少しでも含むと、発光素子表面上への付着強度が強くな
り、また割れにくくなることも確認されている。
Further, the amount of the phosphor contained in the coating layer in which the phosphor is bound by SiO 2 is set to various values in accordance with the desired color tone. Although not limited by the content, according to the study by the present inventors, the coating layer formed by binding the phosphor with SiO 2 contains a small amount of the phosphor, and thus the coating strength on the surface of the light emitting device. It has been confirmed that the strength becomes stronger and it becomes harder to crack.

【0077】以上のように構成された実施の形態1の発
光装置は、無機物であり、かつ紫外線による劣化がほと
んどないSiOによって蛍光体がバインドされてなる
コーティング層が発光素子の全面に形成されているの
で、LEDチップとして紫外域で発光する発光素子を用
いることも可能となる。
In the light emitting device of the first embodiment configured as described above, the coating layer formed by binding the phosphor with SiO 2 which is an inorganic material and hardly deteriorated by ultraviolet rays is formed on the entire surface of the light emitting element. Therefore, it is possible to use a light emitting element that emits light in the ultraviolet region as the LED chip.

【0078】得られた発光装置に電力を供給させること
によって白色系を発光させることができる。本発明によ
る発光装置の発光光率は24.0lm/wであった。 (実施例2)エチルシリケートの代わりに、フッ素樹脂
(PTFE=ポリテトラフルオロエチレン)を用いて塗
布液を調整して蛍光体をバインドする以外は、実施例1
と同様の方法により発光装置を形成した。
White light can be emitted by supplying power to the obtained light emitting device. The light emission rate of the light emitting device according to the present invention was 24.0 lm / w. (Example 2) Example 1 was repeated except that a fluororesin (PTFE = polytetrafluoroethylene) was used instead of ethyl silicate to prepare a coating solution to bind the phosphor.
A light emitting device was formed by the same method as in.

【0079】以上の実施例2の発光装置は、実施例1と
同等の性能が得られ、かつ実施例1に比較して製造歩留
まりが向上した。 (実施例3)図3に本実施例にかかる発光装置を示す。
The light emitting device of the second embodiment described above has the same performance as that of the first embodiment, and the manufacturing yield is improved as compared with the first embodiment. Example 3 FIG. 3 shows a light emitting device according to this example.

【0080】パッケージ405は金属からなり、中央部
に凹部aを有する。また、前記凹部の周囲であるベース
部bは、厚さ方向に貫通された貫通孔を2つ有し、それ
ぞれの貫通孔は前記凹部を挟んで対向している。該貫通
孔内には、絶縁部材403である硬質ガラスを介して正
及び負のリード電極402がそれぞれ挿入されている。
また、金属パッケージの主面側に透光性窓部407と金
属部からなるリッド406を有し、金属部と金属パッケ
ージ405との接触面を溶接することによって、窒素ガ
スとともにパッケージ内の発光素子等が気密封止されて
いる。凹部a内に収納されるLEDチップ401は、紫
外線を発光する発光素子であり、LEDチップ401と
金属パッケージ405との接着はAu−Snなどの共晶
はんだ等を使用して行われている。
The package 405 is made of metal and has a recess a at the center. Further, the base portion b around the recess has two through holes penetrating in the thickness direction, and the respective through holes are opposed to each other with the recess interposed therebetween. Positive and negative lead electrodes 402 are inserted in the through holes via hard glass as an insulating member 403, respectively.
Further, a light transmissive window portion 407 and a lid 406 made of a metal portion are provided on the main surface side of the metal package, and a contact surface between the metal portion and the metal package 405 is welded, so that the light emitting element in the package is introduced together with nitrogen gas. Etc. are hermetically sealed. The LED chip 401 housed in the recess a is a light emitting element that emits ultraviolet light, and the LED chip 401 and the metal package 405 are adhered using eutectic solder such as Au—Sn.

【0081】図3に示されるように、まず、発光素子の
上にを含むAlによりCCA−Blue(化学
式、Ca10(POClBr、付活材Mn、E
u)蛍光体409がバインドされてなるコーティング層
を形成し、その上にSiOによりイットリウム・アル
ミニウム・ガーネット系蛍光体408がバインドされて
なるコーティング層を実施例1と同様の方法により形成
した。
As shown in FIG. 3, CCA-Blue (chemical formula, Ca 10 (PO 4 ) 6 ClBr, activators Mn, E) was first prepared by using Al 2 O 3 containing on the light emitting device.
u) A coating layer formed by binding the phosphor 409 was formed, and a coating layer formed by binding the yttrium-aluminum-garnet-based phosphor 408 by SiO 2 was formed by the same method as in Example 1.

【0082】このように構成すると、SiOにより蛍
光体がバインドされてなるコーティング層の屈折率はA
により蛍光体がバインドされてなるコーティン
グ層の屈折率より小さく、Alにより蛍光体がバ
インドされてなるコーティング層の屈折率は窒化ガリウ
ム系化合物半導体層の屈折率より小さいため、発光素子
からの光の取り出し効率が高まり出力を向上させること
ができるなどの効果がある。
With this structure, the refractive index of the coating layer formed by binding the phosphor with SiO 2 is A.
Since the refractive index of the coating layer in which the phosphor is bound by l 2 O 3 is smaller than that of the coating layer in which the phosphor is bound by Al 2 O 3 is smaller than that of the gallium nitride-based compound semiconductor layer. Further, there is an effect that the light extraction efficiency from the light emitting element is increased and the output can be improved.

【0083】[0083]

【発明の効果】本発明によれば、コーティングの厚みが
発光素子の上面、側面および角の部分でほぼ均一な本発
明の発光装置とすることにより各方位による色度のずれ
が極めて少なく、発光観測面から見て色調ずれがない発
光装置とさせることができる。また、歩留まりの高い発
光装置とすることができる。
According to the present invention, the light emitting device of the present invention has a coating whose thickness is substantially uniform on the top surface, side surface and corners of the light emitting element. The light emitting device can be made to have no color tone shift when viewed from the observation surface. In addition, a light-emitting device with high yield can be obtained.

【0084】[0084]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 図1は本発明による方法によって製造された
発光装置との比較のために示す、従来の発光装置の模式
的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a conventional light emitting device shown for comparison with a light emitting device manufactured by a method according to the present invention.

【図2】 図2は本発明による方法によって製造された
発光装置の模式的な断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device manufactured by the method according to the present invention.

【図3】 図3は本発明による方法によって製造された
発光装置の模式的な断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device manufactured by the method according to the present invention.

【図4】 図4は、本発明の発光装置を形成させる工程
を示した模式図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a step of forming a light emitting device of the present invention.

【図5】 図5は、本発明の発光装置を形成させる装置
を示した模式図である。
FIG. 5 is a schematic view showing an apparatus for forming the light emitting device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2、102・・・パッケージ 3、103、401・・・LEDチップ 4、104、402・・・外部電極 5、105、404・・・導電性ワイヤー 6、106・・・モールド部材 11、111・・・LEDチップ上のコーティング層 12、112・・・支持体上のコーティング層 201・・・ノズル 202、408、409・・・蛍光体 203・・・エチルシリケート 204・・・支持体 205・・・ヒーター 300・・・スプレー装置 301・・・容器 302・・・バルブ 303・・・循環ポンプ 304・・・撹拌機 305・・・コンプレッサー 306・・・圧力計 307、308、309・・・搬送管 403・・・絶縁性部材 405・・・金属パッケージ 406・・・リッド 407・・・窓部 a・・・凹部 b・・・ベース部 2, 102 ... Package 3, 103, 401 ... LED chip 4, 104, 402 ... External electrodes 5, 105, 404 ... Conductive wire 6, 106 ... Mold member 11, 111 ... Coating layer on LED chip 12, 112 ... Coating layer on support 201 ... Nozzle 202, 408, 409 ... Phosphor 203 ... Ethyl silicate 204 ... Support 205 ... Heater 300 ... Spray device 301 ... container 302 ... Valve 303 ... Circulation pump 304 ... Stirrer 305 ... Compressor 306 ... Pressure gauge 307, 308, 309 ... Transport pipe 403 ... Insulating member 405 ... Metal package 406 ... Lid 407 ... Window a ... recess b ... Base

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に配置された発光素子と、該発
光素子からの発光の少なくとも一部を吸収し波長変換し
て発光する蛍光体と、該蛍光体を有し前記支持体表面か
ら前記発光素子表面全体を被覆するコーティング層とを
有する発光装置の製造方法であって、 前記支持体上に配置された発光素子を加温した状態で、
前記発光素子の上方から前記蛍光体を含有した塗布液を
霧状で且つ螺旋状に回転させながら吹き付けることを特
徴とする発光装置の製造方法。
1. A light-emitting element disposed on a support, a phosphor that absorbs at least a part of light emitted from the light-emitting element and converts the wavelength to emit light, and a phosphor having the phosphor and from the surface of the support. A method for manufacturing a light emitting device having a coating layer covering the entire surface of the light emitting element, wherein the light emitting element arranged on the support is heated,
A method for manufacturing a light-emitting device, comprising spraying the coating liquid containing the phosphor from above the light-emitting element while rotating the coating solution in a mist and spiral shape.
【請求項2】 前記螺旋状の径は、前記発光素子上方の
噴射開始点から前記発光素子の表面に近づくにつれて大
きいことを特徴とする請求項1記載の発光装置の製造方
法。
2. The method for manufacturing a light emitting device according to claim 1, wherein the diameter of the spiral shape increases from an injection start point above the light emitting element toward a surface of the light emitting element.
【請求項3】 前記発光素子上方の噴射開始点から前記
発光素子の表面に近づくにつれて前記塗布液の回転速度
は減少していることを特徴とする請求項1乃至2に記載
の発光装置の製造方法。
3. The manufacturing of the light emitting device according to claim 1, wherein the rotation speed of the coating liquid decreases from the injection start point above the light emitting element toward the surface of the light emitting element. Method.
JP2001307476A 2001-10-03 2001-10-03 Method for manufacturing light emitting device Expired - Lifetime JP3925137B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001307476A JP3925137B2 (en) 2001-10-03 2001-10-03 Method for manufacturing light emitting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001307476A JP3925137B2 (en) 2001-10-03 2001-10-03 Method for manufacturing light emitting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003115614A true JP2003115614A (en) 2003-04-18
JP3925137B2 JP3925137B2 (en) 2007-06-06

Family

ID=19126930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001307476A Expired - Lifetime JP3925137B2 (en) 2001-10-03 2001-10-03 Method for manufacturing light emitting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3925137B2 (en)

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004327863A (en) * 2003-04-24 2004-11-18 Graphic Techno Japan Co Ltd Semiconductor light emitting device having reflection plate with heat dissipation function
JP2005032965A (en) * 2003-07-11 2005-02-03 Iwasaki Electric Co Ltd Reflection light emitting apparatus
JP2005333069A (en) * 2004-05-21 2005-12-02 Stanley Electric Co Ltd Manufacturing method of light emitting diode
JP2006013426A (en) * 2004-01-28 2006-01-12 Kyocera Corp Light emitting device and lighting apparatus
WO2006067885A1 (en) * 2004-12-24 2006-06-29 Kyocera Corporation Light-emitting device and illuminating device
JP2006295230A (en) * 2004-01-28 2006-10-26 Kyocera Corp Light emitting device and lighting apparatus
JP2007188976A (en) * 2006-01-11 2007-07-26 Shinko Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing light emitting device
KR100862532B1 (en) 2007-03-13 2008-10-09 삼성전기주식회사 Method of manufacturing light emitting diode package
EP2028697A1 (en) * 2006-05-31 2009-02-25 Fujikura, Ltd. Light-emitting device mounting substrate, light-emitting device package body, display and illuminating device
KR101121732B1 (en) * 2004-12-22 2012-03-23 서울반도체 주식회사 Light emitting diode and method of manufacturing the same
US8164254B2 (en) 2006-11-28 2012-04-24 Dowa Electronics Materials Co., Ltd. Light-emitting device and manufacturing method thereof
US8167674B2 (en) 2007-12-14 2012-05-01 Cree, Inc. Phosphor distribution in LED lamps using centrifugal force
US8232564B2 (en) 2007-01-22 2012-07-31 Cree, Inc. Wafer level phosphor coating technique for warm light emitting diodes
US8288787B2 (en) 2002-06-26 2012-10-16 Lg Electronics, Inc. Thin film light emitting diode
WO2013046651A1 (en) 2011-09-26 2013-04-04 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Phosphor dispersion liquid and method for manufacturing led device
WO2013051280A1 (en) 2011-10-07 2013-04-11 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Phosphor dispersion liquid, and production method for led device using same
JP2014072309A (en) * 2012-09-28 2014-04-21 Stanley Electric Co Ltd Light-emitting device for automobile headlamp and process of manufacturing the same
US8878219B2 (en) 2008-01-11 2014-11-04 Cree, Inc. Flip-chip phosphor coating method and devices fabricated utilizing method
US9024349B2 (en) 2007-01-22 2015-05-05 Cree, Inc. Wafer level phosphor coating method and devices fabricated utilizing method
US9041285B2 (en) 2007-12-14 2015-05-26 Cree, Inc. Phosphor distribution in LED lamps using centrifugal force
US9093616B2 (en) 2003-09-18 2015-07-28 Cree, Inc. Molded chip fabrication method and apparatus
US9159888B2 (en) 2007-01-22 2015-10-13 Cree, Inc. Wafer level phosphor coating method and devices fabricated utilizing method
US9166126B2 (en) 2011-01-31 2015-10-20 Cree, Inc. Conformally coated light emitting devices and methods for providing the same
US9461214B2 (en) 2013-11-29 2016-10-04 Nichia Corporation Light emitting device with phosphor layer
US10546846B2 (en) 2010-07-23 2020-01-28 Cree, Inc. Light transmission control for masking appearance of solid state light sources

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10233533A (en) * 1997-02-21 1998-09-02 Nichia Chem Ind Ltd Method and device for forming light emitting device
JPH1140858A (en) * 1997-07-17 1999-02-12 Nichia Chem Ind Ltd Light-emitting diode and its forming method
JPH1187778A (en) * 1997-09-02 1999-03-30 Toshiba Corp Semiconductor light emitting element, semiconductor light emitting device and manufacture thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10233533A (en) * 1997-02-21 1998-09-02 Nichia Chem Ind Ltd Method and device for forming light emitting device
JPH1140858A (en) * 1997-07-17 1999-02-12 Nichia Chem Ind Ltd Light-emitting diode and its forming method
JPH1187778A (en) * 1997-09-02 1999-03-30 Toshiba Corp Semiconductor light emitting element, semiconductor light emitting device and manufacture thereof

Cited By (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10825962B2 (en) 2002-06-26 2020-11-03 Lg Innotek Co., Ltd. Thin film light emitting diode
US10326059B2 (en) 2002-06-26 2019-06-18 Lg Innotek Co., Ltd. Thin film light emitting diode
US9716213B2 (en) 2002-06-26 2017-07-25 Lg Innotek Co., Ltd. Thin film light emitting diode
US9281454B2 (en) 2002-06-26 2016-03-08 Lg Innotek Co., Ltd. Thin film light emitting diode
US8445921B2 (en) 2002-06-26 2013-05-21 Lg Electronics, Inc. Thin film light emitting diode
US8384091B2 (en) 2002-06-26 2013-02-26 Lg Electronics Inc. Thin film light emitting diode
US8288787B2 (en) 2002-06-26 2012-10-16 Lg Electronics, Inc. Thin film light emitting diode
JP2004327863A (en) * 2003-04-24 2004-11-18 Graphic Techno Japan Co Ltd Semiconductor light emitting device having reflection plate with heat dissipation function
JP4632168B2 (en) * 2003-07-11 2011-02-16 岩崎電気株式会社 Reflective light emitting device
JP2005032965A (en) * 2003-07-11 2005-02-03 Iwasaki Electric Co Ltd Reflection light emitting apparatus
US10546978B2 (en) 2003-09-18 2020-01-28 Cree, Inc. Molded chip fabrication method and apparatus
US9105817B2 (en) 2003-09-18 2015-08-11 Cree, Inc. Molded chip fabrication method and apparatus
US10164158B2 (en) 2003-09-18 2018-12-25 Cree, Inc. Molded chip fabrication method and apparatus
US9093616B2 (en) 2003-09-18 2015-07-28 Cree, Inc. Molded chip fabrication method and apparatus
JP2006295230A (en) * 2004-01-28 2006-10-26 Kyocera Corp Light emitting device and lighting apparatus
JP2006013426A (en) * 2004-01-28 2006-01-12 Kyocera Corp Light emitting device and lighting apparatus
JP2005333069A (en) * 2004-05-21 2005-12-02 Stanley Electric Co Ltd Manufacturing method of light emitting diode
JP4529544B2 (en) * 2004-05-21 2010-08-25 スタンレー電気株式会社 LED manufacturing method
KR101121732B1 (en) * 2004-12-22 2012-03-23 서울반도체 주식회사 Light emitting diode and method of manufacturing the same
US8106584B2 (en) 2004-12-24 2012-01-31 Kyocera Corporation Light emitting device and illumination apparatus
WO2006067885A1 (en) * 2004-12-24 2006-06-29 Kyocera Corporation Light-emitting device and illuminating device
JP2007188976A (en) * 2006-01-11 2007-07-26 Shinko Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing light emitting device
US7977696B2 (en) 2006-05-31 2011-07-12 Fujikura Ltd. Light-emitting element mounting substrate, light-emitting element package, display device, and illumination device
EP2028697A1 (en) * 2006-05-31 2009-02-25 Fujikura, Ltd. Light-emitting device mounting substrate, light-emitting device package body, display and illuminating device
EP2028697A4 (en) * 2006-05-31 2011-01-12 Fujikura Ltd Light-emitting device mounting substrate, light-emitting device package body, display and illuminating device
US8253326B2 (en) 2006-11-28 2012-08-28 Dowa Electronics Materials Co., Ltd. Light-emitting device and manufacturing method thereof
US8164254B2 (en) 2006-11-28 2012-04-24 Dowa Electronics Materials Co., Ltd. Light-emitting device and manufacturing method thereof
US9159888B2 (en) 2007-01-22 2015-10-13 Cree, Inc. Wafer level phosphor coating method and devices fabricated utilizing method
US9024349B2 (en) 2007-01-22 2015-05-05 Cree, Inc. Wafer level phosphor coating method and devices fabricated utilizing method
US8232564B2 (en) 2007-01-22 2012-07-31 Cree, Inc. Wafer level phosphor coating technique for warm light emitting diodes
KR100862532B1 (en) 2007-03-13 2008-10-09 삼성전기주식회사 Method of manufacturing light emitting diode package
US9041285B2 (en) 2007-12-14 2015-05-26 Cree, Inc. Phosphor distribution in LED lamps using centrifugal force
US8167674B2 (en) 2007-12-14 2012-05-01 Cree, Inc. Phosphor distribution in LED lamps using centrifugal force
US8878219B2 (en) 2008-01-11 2014-11-04 Cree, Inc. Flip-chip phosphor coating method and devices fabricated utilizing method
US10546846B2 (en) 2010-07-23 2020-01-28 Cree, Inc. Light transmission control for masking appearance of solid state light sources
US9166126B2 (en) 2011-01-31 2015-10-20 Cree, Inc. Conformally coated light emitting devices and methods for providing the same
US9309461B2 (en) 2011-09-26 2016-04-12 Konica Minolta, Inc. Phosphor dispersion liquid and method for manufacturing LED device
WO2013046651A1 (en) 2011-09-26 2013-04-04 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Phosphor dispersion liquid and method for manufacturing led device
WO2013051280A1 (en) 2011-10-07 2013-04-11 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Phosphor dispersion liquid, and production method for led device using same
US9184352B2 (en) 2011-10-07 2015-11-10 Konica Minolta, Inc. Phosphor dispersion liquid, and production method for LED device using same
JP2014072309A (en) * 2012-09-28 2014-04-21 Stanley Electric Co Ltd Light-emitting device for automobile headlamp and process of manufacturing the same
US9978914B2 (en) 2013-11-29 2018-05-22 Nichia Corporation Light emitting device with phosphor layer
US10128416B2 (en) 2013-11-29 2018-11-13 Nichia Corporation Method for manufacturing light emitting device with phosphor layer
US9461214B2 (en) 2013-11-29 2016-10-04 Nichia Corporation Light emitting device with phosphor layer
US10381525B2 (en) 2013-11-29 2019-08-13 Nichia Corporation Method for manufacturing light emitting device with phosphor layer

Also Published As

Publication number Publication date
JP3925137B2 (en) 2007-06-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3925137B2 (en) Method for manufacturing light emitting device
JP4924536B2 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
JP4450547B2 (en) Method for manufacturing light emitting device
JP4667803B2 (en) Light emitting device
US6924514B2 (en) Light-emitting device and process for producing thereof
JP4374913B2 (en) Light emitting device
US7256468B2 (en) Light emitting device
JP4193471B2 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
JP3617587B2 (en) Light emitting diode and method for forming the same
JP4792751B2 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
JP4591071B2 (en) Semiconductor device
JP3282176B2 (en) Method of forming light emitting diode
JP3367096B2 (en) Method of forming light emitting diode
JP3858829B2 (en) Method for forming light emitting diode
JP2002050800A (en) Light-emitting device and forming method therefor
JP2006303548A (en) Light-emitting device
JP2003224307A5 (en)
JPH10233533A (en) Method and device for forming light emitting device
JP3835276B2 (en) Light emitting diode and method for forming the same
JP4165592B2 (en) Light emitting device
JP2003008082A (en) Light emitting diode and method for forming the same
JP4120443B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040729

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070131

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070206

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070219

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3925137

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100309

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100309

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110309

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110309

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120309

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120309

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120309

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130309

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130309

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140309

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250