JP2003115416A - Conductive paste, method of manufacturing laminated ceramic electronic component, and laminated ceramic electronic component - Google Patents

Conductive paste, method of manufacturing laminated ceramic electronic component, and laminated ceramic electronic component

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JP2003115416A
JP2003115416A JP2001310384A JP2001310384A JP2003115416A JP 2003115416 A JP2003115416 A JP 2003115416A JP 2001310384 A JP2001310384 A JP 2001310384A JP 2001310384 A JP2001310384 A JP 2001310384A JP 2003115416 A JP2003115416 A JP 2003115416A
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ceramic
conductive paste
powder
conductor film
electronic component
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Motohiro Shimizu
基尋 清水
Hisashi Wada
久志 和田
Tomoyuki Nakamura
友幸 中村
Harunobu Sano
晴信 佐野
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide conductive paste that is improved in surface smoothness so that the paste may satisfactorily cope with the thinning of a dielectric ceramic layer performed for reducing the size of a laminated ceramic capacitor and increasing the capacitance of the capacitor and, in addition, is suitable for the formation of a high-coverage internal conductor film. SOLUTION: Ceramic powder having a mean particle diameter which is equal to or smaller than that of conductive metallic powder, such as nickel powder, etc., contained in the paste is added to the conductive paste in an amount of 1.5-12.5 wt.% while a mean particle diameter of the metallic powder is adjusted to <=0.2 μm.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、導電性ペース
ト、この導電性ペーストを内部導体膜の形成のために用
いて実施される積層セラミック電子部品の製造方法、お
よび導電性ペーストを用いて構成された積層セラミック
電子部品に関するもので、特に、積層セラミック電子部
品において薄層化および多層化を有利に図り得るように
するための改良に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention comprises a conductive paste, a method for manufacturing a laminated ceramic electronic component which is carried out by using the conductive paste for forming an internal conductor film, and a conductive paste. The present invention also relates to a monolithic ceramic electronic component, and more particularly, to an improvement for advantageously achieving thinning and multi-layering in a monolithic ceramic electronic component.

【0002】[0002]

【従来の技術】積層セラミック電子部品の一例としての
積層セラミックコンデンサは、以下のようにして製造さ
れるのが一般的である。
2. Description of the Related Art A monolithic ceramic capacitor as an example of a monolithic ceramic electronic component is generally manufactured as follows.

【0003】まず、その表面に、所望のパターンを有す
る内部導体膜が導電性金属粉末および有機バインダと溶
剤とからなる有機ビヒクルを含む導電性ペーストからな
る膜によって形成された、誘電体セラミック原料を含む
セラミックグリーンシートが用意される。
First, a dielectric ceramic raw material having an inner conductor film having a desired pattern formed on its surface by a film made of a conductive metal powder and a conductive paste containing an organic vehicle composed of an organic binder and a solvent is prepared. A ceramic green sheet containing is prepared.

【0004】次に、上述した導電性ペースト膜が形成さ
れたセラミックグリーンシートを含む複数のセラミック
グリーンシートが積層され、熱圧着され、それによって
一体化された生の積層体が作製される。
Next, a plurality of ceramic green sheets including the above-mentioned ceramic green sheet having the conductive paste film formed thereon are laminated and thermocompression-bonded to each other, thereby producing an integrated raw laminate.

【0005】次に、この生の積層体は焼成され、それに
よって、焼結後の積層体が得られる。この積層体は、上
述したセラミックグリーンシートによって与えられる複
数のセラミック層を備える積層構造を有し、積層体の内
部には、前述した導電性ペースト膜の焼結体によって与
えられた内部導体膜が、セラミック層を介して静電容量
を生じさせるように配置されている。
Next, the green laminate is fired, thereby obtaining a sintered laminate. This laminated body has a laminated structure including a plurality of ceramic layers provided by the above-mentioned ceramic green sheet, and the internal conductor film provided by the above-mentioned sintered body of the conductive paste film is provided inside the laminated body. , Are arranged to generate capacitance through the ceramic layer.

【0006】次いで、積層体の外表面上には、静電容量
を取り出すため内部導体膜の特定のものに電気的に接続
される外部電極が形成される。
Next, an external electrode electrically connected to a specific one of the internal conductor films is formed on the outer surface of the laminated body in order to extract the electrostatic capacitance.

【0007】このようにして、積層セラミックコンデン
サが完成される。
In this way, the monolithic ceramic capacitor is completed.

【0008】このような積層セラミックコンデンサにお
いて、その小型化かつ大容量化を目的として、近年、セ
ラミック層の薄層化および多層化が進んでいる。
[0008] In such a monolithic ceramic capacitor, in recent years, for the purpose of downsizing and increasing the capacity, ceramic layers have been made thinner and multilayered.

【0009】しかしながら、セラミック層の薄層化およ
び多層化を図るためには、セラミック層と内部導体膜と
の間での焼成時の収縮挙動を可能な限り合わせることが
重要な課題となる。
However, in order to make the ceramic layer thin and multi-layered, it is an important issue to match the shrinkage behavior during firing between the ceramic layer and the internal conductor film as much as possible.

【0010】通常、焼成時の昇温過程において、内部導
体膜に含まれる導電性金属粉末の収縮開始温度は、セラ
ミック層の収縮開始温度よりも大幅に低い。このよう
に、両者の間で収縮挙動に差がある場合、積層セラミッ
クコンデンサの内部に比較的大きな応力が生じ、耐熱衝
撃性などが低下するとともに、深刻な場合には、クラッ
クやセラミック層と内部導体膜との間での剥離が生じ
る。
Usually, in the temperature rising process during firing, the contraction start temperature of the conductive metal powder contained in the internal conductor film is significantly lower than the contraction start temperature of the ceramic layer. In this way, if there is a difference in shrinkage behavior between the two, a relatively large stress is generated inside the monolithic ceramic capacitor, and the thermal shock resistance is reduced. Peeling occurs with the conductor film.

【0011】これらの問題を解決するため、セラミック
粉末を、内部導体膜を形成するために用いられる導電性
ペーストに添加し、それによって、内部導体膜の収縮挙
動を、セラミック層の収縮挙動に近づける方法が、たと
えば特開平6−290985号公報等において提案され
ている。
In order to solve these problems, ceramic powder is added to the conductive paste used to form the inner conductor film, whereby the shrinkage behavior of the inner conductor film approximates that of the ceramic layer. A method is proposed, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 6-290985.

【0012】上述の方法によれば、セラミック粉末が、
導電性ペーストに含まれる導電性金属粉末の焼結を抑制
し、その収縮挙動をセラミック層における収縮挙動に近
づけることができ、これによって、クラックやセラミッ
ク層と内部導体膜との間での剥離を生じにくくすること
ができる。
According to the above method, the ceramic powder is
It is possible to suppress the sintering of the conductive metal powder contained in the conductive paste and bring the shrinkage behavior closer to the shrinkage behavior in the ceramic layer, which causes cracks and peeling between the ceramic layer and the internal conductor film. It can be made difficult to occur.

【0013】なお、セラミック粉末による上述の焼結抑
制効果は、導電性金属粉末よりも融点の高いセラミック
粉末が、導電性ペースト中に均一に分散されることによ
って、いわゆるピン止め効果を発現させることによるの
ではないかと推測される。
The above-described effect of suppressing sintering by the ceramic powder is that the ceramic powder having a melting point higher than that of the conductive metal powder is uniformly dispersed in the conductive paste so that a so-called pinning effect is exhibited. It is supposed that

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】近年のエレクトロニク
ス技術の発展に伴い、電子部品の小型化が急速に進行
し、積層セラミックコンデンサにあっても、その小型化
かつ大容量化の要望が益々高まっている。たとえば、積
層セラミックコンデンサにおいて、そのセラミック層の
厚みは2μm程度のものが実用化されようとしている。
With the recent development of electronics technology, miniaturization of electronic parts is rapidly progressing, and even in the case of a monolithic ceramic capacitor, there is an increasing demand for miniaturization and large capacity. There is. For example, in a monolithic ceramic capacitor, a ceramic layer having a thickness of about 2 μm is about to be put into practical use.

【0015】上述のように、セラミック層の厚みが2μ
m以下となるような薄層化を行なうためには、焼結後の
誘電体セラミックの平滑性および焼結密度を考慮する
と、たとえば、平均粒径0.2μm以下というように微
細化されたセラミック原料粉末を用いてセラミックグリ
ーンシートを作製することが必要となる。このような微
細化されたセラミック原料粉末を含むセラミックグリー
ンシートは、粒径の比較的大きいセラミック原料粉末を
含むセラミックグリーンシートと比較して、表面の平滑
性が向上する、すなわち、表面粗さRaが小さくなる。
As described above, the thickness of the ceramic layer is 2 μm.
In order to reduce the layer thickness to m or less, considering the smoothness and the sintered density of the dielectric ceramic after sintering, for example, a finely divided ceramic having an average particle size of 0.2 μm or less is used. It is necessary to produce a ceramic green sheet using the raw material powder. The ceramic green sheet containing such a finely divided ceramic raw material powder has improved surface smoothness as compared with the ceramic green sheet containing the ceramic raw material powder having a relatively large particle diameter, that is, the surface roughness Ra. Becomes smaller.

【0016】他方、従来、積層セラミックコンデンサに
備える内部導体膜を形成するために用いられる導電性ペ
ーストにおいては、そこに含まれる導電性金属粉末とし
て、気相法または液相法によって合成された平均粒径
0.4μmを超えるニッケル粉末が多く用いられてい
る。
On the other hand, in a conductive paste conventionally used to form an internal conductor film provided in a monolithic ceramic capacitor, the conductive metal powder contained therein is an average of those synthesized by a vapor phase method or a liquid phase method. Nickel powder having a particle size of more than 0.4 μm is often used.

【0017】しかしながら、上述のように、平均粒径
0.4μmを超えるニッケル粉末を含む導電性ペースト
を用いると、上述したようなセラミックグリーンシート
に比べ、内部導体膜となるべき乾燥後の導電性ペースト
膜の表面の平滑性が悪くなる、すなわち表面粗さRaが
大きくなってしまう。そのため、導電性ペースト膜が形
成された複数のセラミックグリーンシートを積層し、圧
着することによって得られた生の積層体において、導電
性ペースト膜の表面の凹凸がセラミックグリーンシート
を圧迫することによって、セラミックグリーンシートの
厚みの変動が大きくなり、場合によっては、導電性ペー
スト膜の凸部がセラミックグリーンシートを貫通してし
まうなどの不良をもたらすことがある。
However, as described above, when the conductive paste containing nickel powder having an average particle size of more than 0.4 μm is used, the conductivity after drying to be an internal conductor film is higher than that of the ceramic green sheet as described above. The smoothness of the surface of the paste film deteriorates, that is, the surface roughness Ra increases. Therefore, a plurality of ceramic green sheets on which a conductive paste film is formed are stacked, and in a raw laminate obtained by pressure bonding, the unevenness of the surface of the conductive paste film presses the ceramic green sheets, The variation of the thickness of the ceramic green sheet becomes large, and in some cases, a defect such as a protrusion of the conductive paste film penetrating the ceramic green sheet may occur.

【0018】また、平均粒径が、たとえば0.4μm以
上といった大きいニッケル粉末を含む導電性ペーストを
用いて、内部導体膜の薄層化を目的として、導電性ペー
ストの塗布厚みを薄くすると、焼成後の内部導体膜のカ
バレッジ(被覆率)が低くなってしまい、得られた積層
セラミックコンデンサにおいて、十分な静電容量を得る
ことができなくなる。
Further, if the conductive paste containing nickel powder having a large average particle size of, for example, 0.4 μm or more is used and the coating thickness of the conductive paste is thinned for the purpose of thinning the internal conductor film, the firing is performed. The subsequent coverage (coverage) of the internal conductor film becomes low, and it becomes impossible to obtain a sufficient capacitance in the obtained multilayer ceramic capacitor.

【0019】また、単に表面での平滑性を向上させるた
めに、導電性ペーストに含まれるニッケル粉末を微細化
した場合には、ニッケルの1次粒子の比表面積の増加に
伴い、ニッケル粉末の焼結収縮開始温度が低温化され、
ニッケル粉末の過焼結による内部導体膜のカバレッジの
低下を招く。
Further, when the nickel powder contained in the conductive paste is made fine in order to simply improve the smoothness of the surface, the nickel powder is burned as the specific surface area of the nickel primary particles increases. The contraction start temperature is lowered,
This leads to a decrease in the coverage of the internal conductor film due to oversintering of the nickel powder.

【0020】上述したようなニッケル粉末の過焼結を防
止するためには、前述したように、導電性ペーストにセ
ラミック粉末を添加しておくことが有効であるが、この
場合には、このセラミック粉末の粒径も問題になってく
る。すなわち、セラミック粉末の粒径が大きいと、前述
したニッケル粉末の粒径が大きい場合と同様、内部導体
膜のための導電性ペースト膜の乾燥後の平滑性を悪くす
るという問題を引き起こす。
In order to prevent over-sintering of the nickel powder as described above, it is effective to add the ceramic powder to the conductive paste as described above. In this case, this ceramic is added. The particle size of the powder also becomes a problem. That is, if the particle size of the ceramic powder is large, as in the case where the particle size of the nickel powder is large, the problem that the smoothness of the conductive paste film for the internal conductor film after drying is deteriorated occurs.

【0021】このような背景の下、積層セラミックコン
デンサの小型化かつ大容量化によるセラミック層の薄層
化が進んでも、セラミック層となるべきセラミックグリ
ーンシートにおいて、厚み変動や貫通などの問題を引き
起こさず、また、内部導体膜のカバレッジの低下を招か
ない、内部導体膜形成のための導電性ペーストの実現が
望まれる。
[0021] Against this background, even if the ceramic layer is made thinner by downsizing and increasing the capacity of the monolithic ceramic capacitor, the ceramic green sheet to be the ceramic layer causes problems such as thickness variation and penetration. Therefore, it is desired to realize a conductive paste for forming the internal conductor film, which does not reduce the coverage of the internal conductor film.

【0022】同様のことが、上述した積層セラミックコ
ンデンサに限らず、他の積層セラミック電子部品につい
ても言える。
The same applies not only to the above-mentioned monolithic ceramic capacitor but also to other monolithic ceramic electronic parts.

【0023】そこで、この発明の目的は、上述したよう
な要望を満たし得る導電性ペースト、この導電性ペース
トを内部導体膜の形成のために用いて実施される積層セ
ラミック電子部品の製造方法、および導電性ペーストを
用いて構成された積層セラミック電子部品を提供しよう
とすることである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a conductive paste capable of satisfying the above-mentioned demand, a method for manufacturing a laminated ceramic electronic component which is carried out by using this conductive paste for forming an internal conductor film, and An object of the present invention is to provide a monolithic ceramic electronic component configured by using a conductive paste.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】この発明に係る導電性ペ
ーストは、上述した技術的課題を解決するため、平均粒
径が0.2μm以下の導電性金属粉末と、導電性金属粉
末の平均粒径以下の平均粒径を有し、かつ1.5〜1
2.5重量%の含有量をもって含有する、セラミック粉
末と、有機ビヒクルとを含むことを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned technical problems, a conductive paste according to the present invention has a conductive metal powder having an average particle size of 0.2 μm or less, and an average particle of the conductive metal powder. Has an average particle size not larger than the diameter and is 1.5 to 1
It is characterized by containing a ceramic powder and an organic vehicle, which are contained at a content of 2.5% by weight.

【0025】上述の導電性金属粉末としては、好ましく
は、ニッケル粉末が用いられる。
As the above-mentioned conductive metal powder, nickel powder is preferably used.

【0026】また、セラミック粉末は、ABO3 (A
は、Ba、SrおよびCaのうちの少なくとも1種であ
り、Bは、Ti、ZrおよびHfのうちの少なくとも1
種である。)を主成分とするものであることが好まし
い。
The ceramic powder is ABO 3 (A
Is at least one of Ba, Sr, and Ca, and B is at least one of Ti, Zr, and Hf.
It is a seed. ) Is a main component.

【0027】この発明は、また、複数のセラミック層お
よび前記セラミック層間の特定の界面に沿って延びる内
部導体膜を備える、積層セラミック電子部品を製造する
方法にも向けられる。
The present invention is also directed to a method of manufacturing a monolithic ceramic electronic component comprising a plurality of ceramic layers and an inner conductor film extending along a specific interface between said ceramic layers.

【0028】この発明に係る積層セラミック電子部品の
製造方法は、基体用セラミック原料粉末を含む、セラミ
ックグリーンシートを用意する工程と、セラミック層を
与えるように、複数のセラミックグリーンシートが積層
されるとともに、内部導体膜を与えるように、上述した
この発明に係る導電性ペーストからなる膜がセラミック
グリーンシート間の特定の界面に沿って形成された、生
の積層体を作製する工程と、生の積層体を焼成する工程
とを備えることを特徴としている。
The method for manufacturing a laminated ceramic electronic component according to the present invention comprises the steps of preparing a ceramic green sheet containing a ceramic raw material powder for a substrate, and laminating a plurality of ceramic green sheets so as to provide a ceramic layer. A step of producing a raw laminate in which a film made of the above-described conductive paste according to the present invention is formed along a specific interface between the ceramic green sheets so as to provide an internal conductor film; And a step of firing the body.

【0029】この発明は、さらに、複数のセラミック層
およびセラミック層間の特定の界面に沿って延びる内部
導体膜を備える、積層セラミック電子部品にも向けられ
る。この発明に係る積層セラミック電子部品は、上述の
内部導体膜が、この発明に係る導電性ペーストを焼成し
て得られた焼結体からなることを特徴としている。
The present invention is also directed to a monolithic ceramic electronic component that includes a plurality of ceramic layers and an internal conductor film extending along a particular interface between the ceramic layers. The monolithic ceramic electronic component according to the present invention is characterized in that the above-mentioned internal conductor film is made of a sintered body obtained by firing the conductive paste according to the present invention.

【0030】この積層セラミック電子部品は、好ましく
は、積層セラミックコンデンサに適用される。この場
合、内部導体膜は、セラミック層を介して静電容量が得
られるように配置され、さらに、積層セラミック電子部
品は、複数のセラミック層をもって構成される積層体の
外表面上に形成され、かつ静電容量を取り出すため内部
導体膜の特定のものに電気的に接続される外部電極を備
えている。
The monolithic ceramic electronic component is preferably applied to a monolithic ceramic capacitor. In this case, the inner conductor film is arranged so that capacitance can be obtained through the ceramic layer, and further, the multilayer ceramic electronic component is formed on the outer surface of the multilayer body including a plurality of ceramic layers, In addition, an external electrode electrically connected to a specific one of the inner conductor films is provided for extracting the capacitance.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】図1は、この発明の一実施形態に
よる導電性ペーストを用いて構成される積層セラミック
電子部品の一例としての積層セラミックコンデンサ1を
図解的に示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing a monolithic ceramic capacitor 1 as an example of a monolithic ceramic electronic component constructed by using a conductive paste according to an embodiment of the present invention.

【0032】積層セラミックコンデンサ1は、積層体2
を備えている。積層体2は、積層される複数の誘電体セ
ラミック層3と、複数の誘電体セラミック層3の間の特
定の複数の界面に沿ってそれぞれ形成される複数の内部
導体膜4および5とを備えている。
The laminated ceramic capacitor 1 has a laminated body 2
Is equipped with. The laminated body 2 includes a plurality of laminated dielectric ceramic layers 3 and a plurality of internal conductor films 4 and 5 respectively formed along a plurality of specific interfaces between the plurality of dielectric ceramic layers 3. ing.

【0033】内部導体膜4および5は、積層体2の外表
面にまで到達するように形成されるが、積層体2の一方
の端面6にまで引き出される内部導体膜4と他方の端面
7にまで引き出される内部導体膜5とが、積層体2の内
部において、誘電体セラミック層3を介して静電容量が
得られるように交互に配置されている。
The inner conductor films 4 and 5 are formed so as to reach the outer surface of the laminate 2, but the inner conductor films 4 and the other end face 7 that are drawn to one end face 6 of the laminate 2 are formed. The internal conductor films 5 that are drawn up to are alternately arranged inside the laminated body 2 so that capacitance can be obtained via the dielectric ceramic layers 3.

【0034】上述の静電容量を取り出すため、積層体2
の外表面上であって、端面6および7上には、内部導体
膜4および5の特定のものに電気的に接続されるよう
に、外部電極8および9がそれぞれ形成されている。ま
た、外部電極8および9上には、ニッケル、銅などから
なる第1のめっき層10および11がそれそれ形成さ
れ、さらにその上には、半田、錫などからなる第2のめ
っき層12および13がそれぞれ形成されている。
In order to take out the above-mentioned capacitance, the laminated body 2
External electrodes 8 and 9 are formed on the outer surfaces of and on the end surfaces 6 and 7 so as to be electrically connected to specific ones of the internal conductor films 4 and 5. Further, first plating layers 10 and 11 made of nickel, copper or the like are formed on the external electrodes 8 and 9, respectively, and a second plating layer 12 made of solder, tin or the like is further formed thereon. 13 are formed respectively.

【0035】このような積層セラミックコンデンサ1に
おいて、誘電体セラミック層3を構成する基体用セラミ
ックとしては、ABO3 (Aは、Ba、SrおよびCa
のうちの少なくとも1種であり、Bは、Ti、Zrおよ
びHfのうちの少なくとも1種である。)を主成分とす
る、ペロブスカイト型セラミックを用いることが多い。
In such a monolithic ceramic capacitor 1, as the base ceramics constituting the dielectric ceramic layer 3, ABO 3 (A is Ba, Sr and Ca) is used.
B is at least one of Ti, Zr, and Hf. ) Is the main component, and a perovskite-type ceramic is often used.

【0036】他方、内部導体膜4は、次のような組成を
有する導電性ペーストを焼成して得られた焼結体から構
成される。
On the other hand, the internal conductor film 4 is composed of a sintered body obtained by firing a conductive paste having the following composition.

【0037】すなわち、導電性ペーストは、導電性金属
粉末とセラミック粉末と有機ビヒクルとを含んでいる。
That is, the conductive paste contains conductive metal powder, ceramic powder, and organic vehicle.

【0038】上述の導電性金属粉末としては、平均粒径
が0.2μm以下のものが用いられる。また、セラミッ
ク粉末は、導電性金属粉末の平均粒径以下の平均粒径を
有している。また、セラミック粉末は、当該導電性ペー
ストにおいて、1.5〜12.5重量%の含有量をもっ
て含有される。
As the above-mentioned conductive metal powder, one having an average particle diameter of 0.2 μm or less is used. Further, the ceramic powder has an average particle size equal to or smaller than the average particle size of the conductive metal powder. Further, the ceramic powder is contained in the conductive paste with a content of 1.5 to 12.5% by weight.

【0039】上述のように、導電性金属粉末が、平均粒
径0.2μm以下というように微細化されても、セラミ
ック粉末をさらに含んでいるので、導電性金属粉末の1
次粒子の比表面積の増大に伴う、焼結収縮開始温度の低
温化を阻止することができ、その結果、導電性金属粉末
の過焼結による内部導体膜4および5のカバレッジの低
下を防止することができる。そのため、積層セラミック
コンデンサ1において、十分な静電容量を得ることがで
きる。
As described above, even if the conductive metal powder is refined to have an average particle size of 0.2 μm or less, the conductive metal powder further contains the ceramic powder.
It is possible to prevent the sintering shrinkage starting temperature from being lowered due to the increase in the specific surface area of the secondary particles, and as a result, it is possible to prevent the coverage of the internal conductor films 4 and 5 from being lowered due to oversintering of the conductive metal powder. be able to. Therefore, sufficient capacitance can be obtained in the monolithic ceramic capacitor 1.

【0040】また、導電性ペーストにおいて添加される
セラミック粉末は、導電性金属粉末の平均粒径以下の平
均粒径を有しているので、導電性ペースト膜の乾燥後の
表面の平滑性を悪化させることがないばかりでなく、セ
ラミック粉末を、導電性金属粉末間に均一に分散させる
ことができ、セラミック粉末による焼結抑制効果を良好
に働かせることができる。
Further, since the ceramic powder added to the conductive paste has an average particle size equal to or smaller than the average particle size of the conductive metal powder, the smoothness of the surface of the conductive paste film after drying is deteriorated. Not only does it not occur, but the ceramic powder can be evenly dispersed between the conductive metal powders, and the effect of suppressing the sintering by the ceramic powder can be satisfactorily exerted.

【0041】前述したように、セラミック粉末は、導電
性ペーストにおいて、1.5〜12.5重量%の含有量
をもって含有される。この含有量が1.5重量%未満の
場合には、十分な焼結抑制効果が得られないことがあ
る。他方、含有量が12.5重量%を超えると、逆に、
内部導体膜4および5のカバレッジの低下を招いたり、
焼成工程において、内部導体膜4および5となるべき導
電性ペースト膜から誘電体セラミック層3へのセラミッ
ク成分の拡散によって、誘電体セラミック層3が肥大化
し、それによって、積層セラミックコンデンサ1の電気
的特性に悪影響を及ぼしたりすることがある。
As described above, the ceramic powder is contained in the conductive paste at a content of 1.5 to 12.5% by weight. If this content is less than 1.5% by weight, a sufficient sintering suppressing effect may not be obtained. On the other hand, if the content exceeds 12.5% by weight, conversely,
This may lead to a decrease in the coverage of the internal conductor films 4 and 5,
In the firing process, the dielectric ceramic layer 3 is enlarged due to the diffusion of the ceramic component from the conductive paste film to be the internal conductor films 4 and 5 into the dielectric ceramic layer 3, whereby the electrical conductivity of the monolithic ceramic capacitor 1 is increased. The characteristics may be adversely affected.

【0042】導電性ペーストに含まれる導電性金属粉末
としては、ニッケル粉末を用いることが好ましい。この
ように、ニッケルを用いると、たとえば、パラジウムや
白金などの貴金属またはこれらの合金を用いる場合に比
べて、材料コストの低減が可能であり、さらに、比較的
安価なコバルトや銅などを用いる場合に比べて、より良
好な耐酸化性を与えることができる。
As the conductive metal powder contained in the conductive paste, nickel powder is preferably used. As described above, when nickel is used, the material cost can be reduced as compared with the case where a precious metal such as palladium or platinum or an alloy thereof is used, and when relatively inexpensive cobalt or copper is used. Can provide better oxidation resistance than

【0043】なお、導電性ペーストに含まれる導電性金
属粉末として、ニッケル粉末を用いると、焼結後の積層
体2を得るための焼成工程において、中性または還元性
雰囲気を適用しなければならないが、耐還元性に優れた
誘電体セラミック材料が種々開発されているので、中性
または還元性雰囲気での焼成に限定されても、何ら問題
となることはない。
When nickel powder is used as the conductive metal powder contained in the conductive paste, a neutral or reducing atmosphere must be applied in the firing step for obtaining the laminated body 2 after sintering. However, since various dielectric ceramic materials having excellent reduction resistance have been developed, there is no problem even if firing is limited to a neutral or reducing atmosphere.

【0044】導電性ペーストに含まれるセラミック粉末
は、ABO3 (Aは、Ba、SrおよびCaのうちの少
なくとも1種であり、Bは、Ti、ZrおよびHfのう
ちの少なくとも1種である。)を主成分とするもの、す
なわち、ペロブスカイト型セラミックからなるものであ
ることが好ましい。
The ceramic powder contained in the conductive paste is ABO 3 (A is at least one of Ba, Sr and Ca, and B is at least one of Ti, Zr and Hf). 2) as a main component, that is, a perovskite type ceramic.

【0045】現在、小型化かつ大容量化が進められてい
る積層セラミックコンデンサの誘電体セラミック層を構
成するための誘電体セラミック材料は、上述のABO3
を主成分とするものが主流である。焼成工程において、
内部導体膜となる導電性ペースト中に添加したセラミッ
ク粉末の成分が、内部導体膜から誘電体セラミック層に
拡散する可能性が高いため、誘電体セラミック層を構成
する誘電体セラミック材料と結晶構造の全く異なるセラ
ミック材料や、イオン半径の異なる成分からなるセラミ
ック材料を導電性ペーストに添加した場合には、誘電体
セラミック層を構成する誘電体セラミックの焼結挙動に
影響を及ぼし、その結果、誘電体セラミック層の誘電特
性や温度特性に影響を及ぼす可能性が高い。このような
理由から、内部導体膜を形成するために用いる導電性ペ
ーストに添加されるセラミック粉末については、誘電体
セラミック層を構成する誘電体セラミックと同様のペロ
ブスカイト型セラミックからなるものであることが好ま
しい。
At present, the dielectric ceramic material for forming the dielectric ceramic layer of the monolithic ceramic capacitor, which is being miniaturized and has a large capacity, is the above-mentioned ABO 3
The main component is. In the firing process,
It is highly possible that the components of the ceramic powder added to the conductive paste forming the internal conductor film will diffuse from the internal conductor film to the dielectric ceramic layer. When a completely different ceramic material or a ceramic material composed of components having different ionic radii is added to the conductive paste, it affects the sintering behavior of the dielectric ceramics constituting the dielectric ceramic layer, and as a result, the dielectric It is likely to affect the dielectric and temperature characteristics of the ceramic layer. For these reasons, the ceramic powder added to the conductive paste used to form the internal conductor film may be the same perovskite-type ceramic as the dielectric ceramic forming the dielectric ceramic layer. preferable.

【0046】次に、図1に示すような積層セラミックコ
ンデンサ1の製造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the monolithic ceramic capacitor 1 as shown in FIG. 1 will be described.

【0047】まず、たとえばペロブスカイト型セラミッ
クのようなセラミックを与える基体用セラミック原料粉
末を含むスラリーが用意され、このスラリーをシート状
に成形することによって、セラミックグリーンシートが
用意される。
First, a slurry containing a ceramic raw material powder for a substrate that provides a ceramic such as a perovskite type ceramic is prepared, and this slurry is formed into a sheet to prepare a ceramic green sheet.

【0048】次に、セラミックグリーンシート上に、前
述した特定的な組成を有する導電性ペーストを用いて、
所望のパターンを有する内部導体膜4および5のための
導電性ペースト膜が印刷等によって形成される。
Next, using a conductive paste having the above-mentioned specific composition on the ceramic green sheet,
A conductive paste film for the internal conductor films 4 and 5 having a desired pattern is formed by printing or the like.

【0049】次に、上述のように、導電性ペースト膜が
それぞれ形成されたセラミックグリーンシートが、必要
枚数積層されるとともに、その上下に、導電性ペースト
膜が形成されないセラミックグリーンシートが積層さ
れ、熱圧着されることによって、一体化された積層体2
の生の状態のものが得られる。
Next, as described above, the required number of the ceramic green sheets each having the conductive paste film formed thereon are stacked, and the ceramic green sheets having no conductive paste film formed thereon are stacked above and below the ceramic green sheets. The laminated body 2 integrated by thermocompression bonding
The raw state of is obtained.

【0050】次に、この生の積層体2は、たとえば還元
性雰囲気中において焼成され、それによって、積層体2
が焼結される。この焼結後の積層体2において、前述し
たセラミックグリーンシートは、焼結されて、誘電体セ
ラミック層3を与え、導電性ペースト膜は、焼結され
て、内部導体膜4および5を与えている。
The green laminate 2 is then fired, for example in a reducing atmosphere, whereby the laminate 2 is
Is sintered. In this laminated body 2 after sintering, the above-mentioned ceramic green sheet is sintered to give the dielectric ceramic layer 3, and the conductive paste film is sintered to give the internal conductor films 4 and 5. There is.

【0051】次に、積層体2の端面6および7上に、そ
れぞれ、外部電極8および9が内部導体膜4および5の
特定のものに電気的に接続されるように形成される。外
部電極8および9は、たとえば、銀、銅、ニッケルもし
くはパラジウムまたはこれらを含む合金を導電成分とし
て含む導電性ペーストを付与し、これを焼き付けること
によって形成される。
Next, external electrodes 8 and 9 are formed on the end faces 6 and 7 of the laminated body 2 so as to be electrically connected to specific ones of the internal conductor films 4 and 5, respectively. The external electrodes 8 and 9 are formed, for example, by applying a conductive paste containing silver, copper, nickel or palladium, or an alloy containing these as a conductive component, and baking this.

【0052】次いで、外部電極8および9上に、ニッケ
ル、銅などのめっきを施し、第1のめっき層10および
11を形成し、さらにその上に、半田、錫などのめっき
を施し、第2のめっき層12および13を形成すること
によって、積層セラミックコンデンサ1が完成される。
Next, the external electrodes 8 and 9 are plated with nickel, copper or the like to form the first plated layers 10 and 11, and further plated with solder, tin or the like, and secondly. The monolithic ceramic capacitor 1 is completed by forming the plating layers 12 and 13 of.

【0053】以上、この発明を、積層セラミックコンデ
ンサについて説明したが、この発明に係る導電性ペース
トは、基体用セラミックからなる複数のセラミック層お
よびセラミック層間の特定の界面に沿って延びる内部導
体膜を備える積層セラミック電子部品であれば、積層セ
ラミックコンデンサ以外の積層セラミック電子部品にお
いても、内部導体膜を形成するために有利に用いること
ができる。
Although the present invention has been described above with respect to a laminated ceramic capacitor, the conductive paste according to the present invention has a plurality of ceramic layers made of ceramics for a substrate and an internal conductor film extending along a specific interface between the ceramic layers. The provided monolithic ceramic electronic component can be advantageously used for forming the internal conductor film in a monolithic ceramic electronic component other than the monolithic ceramic capacitor.

【0054】次に、この発明に係る導電性ペーストの組
成ならびにそこに含まれる導電性金属粉末およびセラミ
ック粉末の平均粒径等についての好ましい範囲を明らか
にするとともに、この発明による効果を確認するために
実施した実験例について説明する。
Next, in order to clarify the preferable range of the composition of the conductive paste according to the present invention and the average particle diameter of the conductive metal powder and the ceramic powder contained therein, and to confirm the effect of the present invention. An example of the experiment carried out will be described.

【0055】[0055]

【実験例】まず、誘電体セラミック層を与えるセラミッ
クグリーンシートを作製するため、基体用セラミック原
料粉末として、平均粒径0.2μmのチタン酸バリウム
を主成分とする耐還元性誘電体セラミック材料粉末を用
意した。
[Experimental Example] First, in order to prepare a ceramic green sheet for providing a dielectric ceramic layer, as a ceramic raw material powder for a substrate, a reduction-resistant dielectric ceramic material powder containing barium titanate having an average particle diameter of 0.2 μm as a main component is used. Prepared.

【0056】次に、この基体用セラミック原料粉末に、
ポリビニルブチラール系バインダおよびエタノール等の
有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、セラ
ミックスラリーを作製した。
Next, the ceramic raw material powder for the substrate is
A polyvinyl butyral binder and an organic solvent such as ethanol were added and wet-mixed with a ball mill to prepare a ceramic slurry.

【0057】次に、このセラミックスラリーを、ドクタ
ーブレード法にによってシート状に成形し、焼成後の誘
電体セラミック層の厚みが2μmとなる矩形のセラミッ
クグリーンシートを得た。なお、このセラミックグリー
ンシートの、原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定し
た表面粗さRa(JIS B0601で定める算術平均
粗さ)は、90nmであった。
Next, this ceramic slurry was formed into a sheet by the doctor blade method to obtain a rectangular ceramic green sheet in which the thickness of the dielectric ceramic layer after firing was 2 μm. The surface roughness Ra (arithmetic mean roughness defined by JIS B0601) of this ceramic green sheet measured with an atomic force microscope (AFM) was 90 nm.

【0058】他方、内部導体膜を形成するために用いる
導電性ペーストを、次のようにして作製した。
On the other hand, a conductive paste used for forming the internal conductor film was prepared as follows.

【0059】まず、導電性ペーストに含まれる導電性金
属粉末として、表1に示すような種々の平均粒径をそれ
ぞれ有するニッケル粉末を用意した。
First, as the conductive metal powder contained in the conductive paste, nickel powders having various average particle diameters as shown in Table 1 were prepared.

【0060】また、導電性ペーストに含まれるセラミッ
ク粉末として、チタン酸バリウム粉末に、Dy2 3
およびMgOの各粉末を添加し、ボールミルにより湿式
混合して得られたものを用いた。ここで、セラミック粉
末として、表1に示すような種々の平均粒径をそれぞれ
有するものを用意した。
As the ceramic powder contained in the conductive paste, barium titanate powder, Dy 2 O 3 ,
Powders of MgO and MgO were added and those obtained by wet mixing with a ball mill were used. Here, ceramic powders having various average particle diameters as shown in Table 1 were prepared.

【0061】次に、上述したニッケル粉末を47.5重
量%と、セラミック粉末を2.5重量%と、エチルセル
ロースをテルピネオールに前者が10重量%でありかつ
後者が90重量%となるように溶解して作製した有機ビ
ヒクルを35重量%と、テルピネオールを15重量%と
を、3本ロールミルにより分散混合処理を行なうことに
よって、良好に分散したニッケル粉末とセラミック粉末
とを含有する導電性ペーストを作製した。
Next, the above-mentioned nickel powder was dissolved in 47.5% by weight, ceramic powder in 2.5% by weight, and ethyl cellulose in terpineol so that the former was 10% by weight and the latter was 90% by weight. 35 wt% of the organic vehicle and 15 wt% of terpineol produced by the above are subjected to dispersion mixing treatment by a three-roll mill to produce a conductive paste containing well-dispersed nickel powder and ceramic powder. did.

【0062】なお、表1において、「セラミック粉末平
均粒径」の欄に「なし」と記載されている試料について
は、セラミック粉末を添加しなかったことを意味してい
る。これらの試料については、上述したセラミック粉末
の含有量である2.5重量%は、テルピネオールに置き
換えた。
Incidentally, in Table 1, for the samples described as "none" in the column of "average particle size of ceramic powder", it means that the ceramic powder was not added. For these samples, the ceramic powder content of 2.5% by weight was replaced by terpineol.

【0063】次に、前述したセラミックグリーンシート
上に、表1に示すような種々の導電性ペースト、すなわ
ち、実施例1〜5および比較例1〜8の各々に係る導電
性ペーストをそれぞれスクリーン印刷し、内部導体膜と
なるべき導電性ペースト膜を、0.6μmの厚みとなる
ように形成した。この導電性ペースト膜の厚みは、蛍光
X線装置を用いて計測した値である。
Next, various conductive pastes shown in Table 1, that is, the conductive pastes of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 8 were screen-printed on the above-mentioned ceramic green sheets. Then, a conductive paste film to be an internal conductor film was formed to have a thickness of 0.6 μm. The thickness of this conductive paste film is a value measured using a fluorescent X-ray device.

【0064】次に、上述の導電性ペースト膜を乾燥させ
た後、原子間力顕微鏡を用いて、この導電性ペースト膜
の表面粗さRa(JIS B0601で定める算術平均
粗さ)を、測定視野20μm×20μmおよび走査速度
32μm/秒の条件にて測定した。このようにして測定
された表面粗さが表1に示されている。
Next, after drying the above-mentioned conductive paste film, the surface roughness Ra (arithmetic mean roughness defined by JIS B0601) of this conductive paste film was measured using an atomic force microscope. The measurement was performed under the conditions of 20 μm × 20 μm and scanning speed of 32 μm / sec. The surface roughness thus measured is shown in Table 1.

【0065】次に、導電性ペースト膜が形成されたセラ
ミックグリーンシートを含む複数のセラミックグリーン
シートを積層し、熱圧着することによって、生の積層体
を得た。この生の積層体において、一方の端面に引き出
された導電性ペースト膜と他方の端面に引き出された導
電性ペースト膜とが積層方向に交互に配列されるように
した。
Next, a plurality of ceramic green sheets including a ceramic green sheet having a conductive paste film formed thereon were laminated and thermocompression bonded to obtain a green laminate. In this raw laminate, the conductive paste film drawn out to one end face and the conductive paste film drawn out to the other end face were arranged alternately in the stacking direction.

【0066】次に、生の積層体を窒素雰囲気中において
350℃の温度に加熱し、バインダを燃焼させた後、酸
素分圧10-9〜10-12 MPaのH2 −N2 −H2 Oガ
スからなる還元性雰囲気中において、1200℃の温度
にて2時間焼成し、焼結した積層体を得た。この積層体
は、誘電体セラミック層と内部導体膜とを備えるもので
あるが、誘電体セラミック層は、セラミックグリーンシ
ートの焼結体によって与えられ、内部導体膜は、導電性
ペースト膜の焼結体によって与えられたものである。
Next, the raw laminate was heated to a temperature of 350 ° C. in a nitrogen atmosphere to burn the binder, and then H 2 —N 2 —H 2 with an oxygen partial pressure of 10 −9 to 10 −12 MPa was used. In a reducing atmosphere of O 2 gas, firing was performed at a temperature of 1200 ° C. for 2 hours to obtain a sintered laminated body. This laminated body includes a dielectric ceramic layer and an internal conductor film, the dielectric ceramic layer being provided by a sintered body of a ceramic green sheet, and the internal conductor film being a sintered body of a conductive paste film. It is given by the body.

【0067】次いで、積層体の両端面上に、B2 3
Li2 O−SiO2 −BaO系のガラスフリットを含有
するとともに銀を導電成分とする導電性ペーストを塗布
し、窒素雰囲気中において600℃の温度で焼き付け、
内部導体膜と電気的に接続された外部電極を形成した。
Then, on both end faces of the laminate, B 2 O 3
A conductive paste containing a Li 2 O—SiO 2 —BaO-based glass frit and containing silver as a conductive component is applied, and baked at a temperature of 600 ° C. in a nitrogen atmosphere,
An outer electrode electrically connected to the inner conductor film was formed.

【0068】このようにして得られた積層セラミックコ
ンデンサの外形寸法は、幅1.2mm、長さ2.0mm
および厚さ1.0mmであり、内部導体膜間に介在する
誘電体セラミック層の厚みは、2μmであった。また、
有効誘電体セラミック層の数は100であり、1層あた
りの内部導体膜の有効対向面積は1.7mm2 であっ
た。
The external dimensions of the monolithic ceramic capacitor thus obtained are 1.2 mm in width and 2.0 mm in length.
And the thickness was 1.0 mm, and the thickness of the dielectric ceramic layer interposed between the internal conductor films was 2 μm. Also,
The number of effective dielectric ceramic layers was 100, and the effective facing area of the internal conductor film per layer was 1.7 mm 2 .

【0069】次に、このようにして得られた各試料に係
る積層セラミックコンデンサまたは焼結後の積層体につ
いて、表1にその結果が示されているように、「内部導
体膜カバレッジ」、「構造欠陥発生数」、「静電容量」
および「短絡不良数」をそれぞれ評価した。
Next, with respect to the laminated ceramic capacitors or the laminated bodies obtained by sintering of the respective samples thus obtained, as shown in Table 1, the results are shown in "Inner conductor film coverage", ""Number of structural defects", "Capacitance"
And "the number of short circuit failures" were evaluated.

【0070】より詳細には、「内部導体膜カバレッジ」
は、焼結後の積層体を、内部導体膜に沿って剥離し、内
部導体膜に穴が空いている様子を顕微鏡写真に撮り、こ
れを画像解析処理することによって定量化したものであ
る。
More specifically, "inner conductor film coverage"
Is quantified by peeling the sintered laminated body along the inner conductor film, taking a micrograph of a state in which holes are formed in the inner conductor film, and subjecting this to image analysis processing.

【0071】また、積層セラミックコンデンサの断面を
顕微鏡観察することによって、クラックまたはデラミネ
ーションのような構造欠陥の発生の有無を目視判定し、
試料数200個について、構造欠陥が発生している試料
の数をカウントし、「構造欠陥発生数」を求めた。
Further, by observing the cross section of the monolithic ceramic capacitor with a microscope, it is visually judged whether or not structural defects such as cracks or delaminations occur.
With respect to 200 samples, the number of samples having structural defects was counted, and the “number of structural defects generated” was obtained.

【0072】また、得られた試料となる積層セラミック
コンデンサの中から無作為に200個の試料を抜き取
り、温度25℃、1kHzおよび1Vrmsの条件下
で、「静電容量」を測定するとともに、短絡不良が生じ
ている試料数をカウントし、「短絡不良数」として求め
た。
Further, 200 samples were randomly sampled from the obtained monolithic ceramic capacitors, the "capacitance" was measured under the conditions of a temperature of 25 ° C., 1 kHz and 1 Vrms, and a short circuit was made. The number of defective samples was counted and calculated as the “number of short circuit defects”.

【0073】[0073]

【表1】 [Table 1]

【0074】表1から、ニッケル粉末の平均粒径が0.
2μm以下であり、セラミック粉末の平均粒径が、ニッ
ケル粉末の平均粒径以下である、導電性ペーストを用い
た実施例1〜5によれば、乾燥後の導電性ペースト膜の
「表面粗さRa」が、前述したセラミックグリーンシー
トの表面粗さRaである90nmと比較して、それほど
大きくないか、あるいはそれ以下であり、また、「内部
導体膜カバレッジ」が70%以上と高く、「構造欠陥発
生数」が0個であり、さらに、「短絡不良数」も極めて
少ないことがわかる。
From Table 1, the average particle diameter of the nickel powder is 0.
According to Examples 1 to 5 in which the average particle diameter of the ceramic powder is 2 μm or less and the average particle diameter of the ceramic powder is equal to or less than the average particle diameter of the nickel powder, the “surface roughness of the conductive paste film after drying” is Ra ”is not so large or smaller than the surface roughness Ra of the ceramic green sheet described above of 90 nm, and the“ inner conductor film coverage ”is as high as 70% or more. It can be seen that the "number of defects generated" is 0 and the "number of short-circuit defects" is extremely small.

【0075】これに対して、比較例1〜4のように、ニ
ッケル粉末の平均粒径が0.2μmを超える導電性ペー
ストを用いた場合には、乾燥後の導電性ペースト膜の
「表面粗さRa」が、セラミックグリーンシートの表面
粗さRaである90nmと比較して、極めて大きくなっ
ており、「内部導体膜カバレッジ」も70%未満と小さ
く、そのため、「静電容量」も低く、また、「構造欠陥
発生数」も比較的多く、かつ「短絡不良数」もかなり多
くなっている。
On the other hand, when a conductive paste having an average particle diameter of nickel powder of more than 0.2 μm is used as in Comparative Examples 1 to 4, “surface roughness of the dried conductive paste film” is used. "Ra" is much larger than the surface roughness Ra of the ceramic green sheet, which is 90 nm, and the "inner conductor film coverage" is as small as less than 70%. Therefore, the "capacitance" is also low. Moreover, the “number of structural defects generated” is relatively large, and the “number of short-circuit defects” is also considerably large.

【0076】また、比較例5および6のように、ニッケ
ル粉末の平均粒径が0.2μm以下であっても、セラミ
ック粉末の平均粒径がニッケル粉末の平均粒径より大き
い場合には、実施例1〜5におけるニッケル粉末の平均
粒径が同等のものと比べて、乾燥後の導電性ペースト膜
の「表面粗さRa」が大きくなっている。これは、平均
粒径の大きいセラミック粉末を添加したことにより、導
電性ペースト膜中のニッケル粉末およびセラミック粉末
といった粒子の充填性が低下したことによると推測され
る。また、実施例1〜5の場合と比較して、比較例5お
よび6では、「内部導体膜カバレッジ」が低く、「構造
欠陥発生数」が多く、「静電容量」が低く、また、「短
絡不良数」が多くなっている。
As in Comparative Examples 5 and 6, even if the average particle diameter of the nickel powder is 0.2 μm or less, if the average particle diameter of the ceramic powder is larger than the average particle diameter of the nickel powder, The “surface roughness Ra” of the conductive paste film after drying is larger than that of the nickel powders of Examples 1 to 5 having the same average particle diameter. It is speculated that this is because the addition of the ceramic powder having a large average particle size reduced the filling property of the particles such as the nickel powder and the ceramic powder in the conductive paste film. In addition, in Comparative Examples 5 and 6, the “inner conductor film coverage” is low, the “number of structural defects generated” is large, the “capacitance” is low, and The number of short circuit failures is increasing.

【0077】また、比較例7および8によれば、ニッケ
ル粉末の平均粒径が0.2μm以下と小さいため、乾燥
後の導電性ペースト膜の「表面粗さRa」が、比較的小
さい値を示しているが、セラミック粉末を含有していな
いため、ニッケル粉末に対する焼結抑制効果が働いてお
らず、その結果、デラミネーションやクラックといった
「構造欠陥発生数」が高い値となっている。
Further, according to Comparative Examples 7 and 8, since the average particle size of the nickel powder is as small as 0.2 μm or less, the “surface roughness Ra” of the conductive paste film after drying has a relatively small value. As shown, since the ceramic powder is not contained, the effect of suppressing sintering on the nickel powder does not work, and as a result, the “number of structural defects generated” such as delamination and cracks has a high value.

【0078】次に、表1に示した実施例2において採用
された各平均粒径のニッケル粉末およびセラミック粉末
を用いながら、セラミック粉末の含有量を種々に変更し
て作製された導電性ペーストについて、乾燥後の導電性
ペースト膜の「表面粗さRa」、「内部導体膜カバレッ
ジ」、「構造欠陥発生数」および「静電容量」を、前述
の場合と同様の方法によって評価した。これらの結果
が、表2に示されている。
Next, the conductive paste prepared by changing the content of the ceramic powder variously while using the nickel powder and the ceramic powder having the respective average particle diameters adopted in Example 2 shown in Table 1 The “surface roughness Ra”, “inner conductor film coverage”, “number of structural defects generated” and “capacitance” of the dried conductive paste film were evaluated by the same method as described above. The results are shown in Table 2.

【0079】[0079]

【表2】 [Table 2]

【0080】表2において、実施例7は、表1に示した
実施例2に相当している。
In Table 2, Example 7 corresponds to Example 2 shown in Table 1.

【0081】表2から、実施例6〜9のように、セラミ
ック粉末を、1.5〜12.5重量%の範囲内で含有さ
せた導電性ペーストによれば、「内部導体膜カバレッ
ジ」が70%以上の値を示し、「静電容量」についても
十分に高い値を示していることがわかる。
From Table 2, as in Examples 6 to 9, according to the conductive paste containing the ceramic powder within the range of 1.5 to 12.5% by weight, "inner conductor film coverage" was obtained. It can be seen that the value is 70% or more, and the "electrostatic capacity" is also a sufficiently high value.

【0082】これに対して、比較例9および10のよう
に、セラミック粉末の含有量が1.5〜12.5重量%
の範囲を外れるものでは、「内部導体膜カバレッジ」が
低く、そのことに起因して、「静電容量」が低下してい
る。また、特に比較例9のように、セラミック粉末の含
有量が1.5重量%を下回るものでは、ニッケル粉末に
対する焼結抑制効果が低く、その結果、「構造欠陥発生
数」において1個の値を示している。
On the other hand, as in Comparative Examples 9 and 10, the content of the ceramic powder was 1.5 to 12.5% by weight.
If the value is out of the range, the “inner conductor film coverage” is low, and as a result, the “capacitance” is lowered. In addition, particularly, as in Comparative Example 9, when the content of the ceramic powder is less than 1.5% by weight, the effect of suppressing the sintering of the nickel powder is low, and as a result, one value in the "number of structural defects generated" Is shown.

【0083】[0083]

【発明の効果】以上のように、この発明に係る導電性ペ
ーストによれば、そこに含まれる導電性金属粉末の平均
粒径が0.2μm以下とされ、また、セラミック粉末が
さらに含まれ、このセラミック粉末の平均粒径が導電性
金属粉末の平均粒径以下とされ、セラミック粉末の含有
量が1.5〜12.5重量%とされるので、この導電性
ペーストを用いて形成された内部導体膜となる乾燥後の
導電性ペースト膜の表面に良好な平滑性を与えることが
でき、また、焼成時において、導電性金属粉末の過焼結
をセラミック粉末によって確実に抑制することができ
る。
As described above, according to the conductive paste of the present invention, the conductive metal powder contained therein has an average particle size of 0.2 μm or less, and further contains ceramic powder. Since the average particle size of the ceramic powder is set to be equal to or smaller than the average particle size of the conductive metal powder and the content of the ceramic powder is set to 1.5 to 12.5% by weight, the conductive paste was formed. Good smoothness can be given to the surface of the conductive paste film after drying, which becomes the internal conductor film, and the over sintering of the conductive metal powder can be surely suppressed by the ceramic powder during firing. .

【0084】したがって、内部導体膜のカバレッジを高
く維持することができるとともに、積層セラミック電子
部品において、セラミック層および内部導体膜の薄層化
が進んでも、デラミネーションやクラックといった構造
欠陥を生じにくくすることができる。そのため、この発
明が積層セラミックコンデンサに適用されたときには、
誘電体セラミック層および内部導体膜の薄層化によっ
て、小型化かつ大容量化を有利に進めることができる。
Therefore, the coverage of the internal conductor film can be kept high, and structural defects such as delamination and cracks are less likely to occur even when the ceramic layer and the internal conductor film are made thinner in the multilayer ceramic electronic component. be able to. Therefore, when the present invention is applied to a laminated ceramic capacitor,
By making the dielectric ceramic layer and the inner conductor film thinner, it is possible to advantageously reduce the size and increase the capacity.

【0085】この発明に係る導電性ペーストに含まれる
導電性金属粉末がニッケル粉末であるとき、積層セラミ
ック電子部品に備える内部導体膜の材料コストを比較的
低くすることができるとともに、内部導体膜に対して十
分な耐酸化性を与えることができる。
When the conductive metal powder contained in the conductive paste according to the present invention is nickel powder, the material cost of the internal conductor film provided in the laminated ceramic electronic component can be made relatively low, and the internal conductor film can be formed. On the other hand, sufficient oxidation resistance can be provided.

【0086】また、この発明に係る導電性ペーストに含
まれるセラミック粉末が、ABO3(Aは、Ba、Sr
およびCaのうちの少なくとも1種であり、Bは、T
i、ZrおよびHfのうちの少なくとも1種である。)
を主成分とするものであるとき、たとえば積層セラミッ
クコンデンサに備える誘電体セラミック層のための誘電
体セラミックと同様のペロブスカイト型セラミックを与
えることができるので、焼成時において、導電性ペース
トに含まれるセラミック粉末の成分がセラミック層へ拡
散しても、それによる影響を最小限に留めることができ
る。
The ceramic powder contained in the conductive paste according to the present invention is ABO 3 (A is Ba, Sr).
And Ca, and B is T
It is at least one of i, Zr, and Hf. )
When it is mainly composed of, for example, a perovskite-type ceramic similar to the dielectric ceramic for the dielectric ceramic layer provided in the multilayer ceramic capacitor can be provided, the ceramic contained in the conductive paste during firing can be provided. Even if the components of the powder diffuse into the ceramic layer, the influence thereof can be minimized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施形態による導電性ペーストを
用いて構成される積層セラミック電子部品の一例として
の積層セラミックコンデンサ1を図解的に示す断面図で
ある。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing a monolithic ceramic capacitor 1 as an example of a monolithic ceramic electronic component configured by using a conductive paste according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 積層セラミックコンデンサ 2 積層体 3 誘電体セラミック層 4,5 内部導体膜 8,9 外部電極 1 Multilayer ceramic capacitors 2 laminate 3 Dielectric ceramic layer 4,5 Internal conductor film 8,9 External electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 友幸 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 佐野 晴信 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 5E001 AB03 AC09 AF06 AH01 AH09 AJ01 AJ02 5E082 AB03 BC39 EE04 EE19 EE22 EE23 EE35 FG06 FG26 FG54 LL01 LL02 MM24 PP03    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Tomoyuki Nakamura             2-10-10 Tenjin, Nagaokakyo, Kyoto Stock             Murata Manufacturing Co., Ltd. (72) Inventor Harunobu Sano             2-10-10 Tenjin, Nagaokakyo, Kyoto Stock             Murata Manufacturing Co., Ltd. F-term (reference) 5E001 AB03 AC09 AF06 AH01 AH09                       AJ01 AJ02                 5E082 AB03 BC39 EE04 EE19 EE22                       EE23 EE35 FG06 FG26 FG54                       LL01 LL02 MM24 PP03

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平均粒径が0.2μm以下の導電性金属
粉末と、 前記導電性金属粉末の平均粒径以下の平均粒径を有し、
かつ1.5〜12.5重量%の含有量をもって含有す
る、セラミック粉末と、 有機ビヒクルとを含む、導電性ペースト。
1. A conductive metal powder having an average particle size of 0.2 μm or less, and an average particle size not more than the average particle size of the conductive metal powder,
An electrically conductive paste containing a ceramic powder and an organic vehicle, the content of which is 1.5 to 12.5% by weight.
【請求項2】 前記導電性金属粉末は、ニッケル粉末で
ある、請求項1に記載の導電性ペースト。
2. The conductive paste according to claim 1, wherein the conductive metal powder is nickel powder.
【請求項3】 前記セラミック粉末は、ABO3 (A
は、Ba、SrおよびCaのうちの少なくとも1種であ
り、Bは、Ti、ZrおよびHfのうちの少なくとも1
種である。)を主成分とするものである、請求項1また
は2に記載の導電性ペースト。
3. The ceramic powder is ABO 3 (A
Is at least one of Ba, Sr, and Ca, and B is at least one of Ti, Zr, and Hf.
It is a seed. 3. The conductive paste according to claim 1 or 2, which contains) as a main component.
【請求項4】 複数のセラミック層および前記セラミッ
ク層間の特定の界面に沿って延びる内部導体膜を備え
る、積層セラミック電子部品を製造する方法であって、 基体用セラミック原料粉末を含む、セラミックグリーン
シートを用意する工程と、 前記セラミック層を与えるように、複数の前記セラミッ
クグリーンシートが積層されるとともに、前記内部導体
膜を与えるように、請求項1ないし3のいずれかに記載
の導電性ペーストからなる膜が前記セラミックグリーン
シート間の特定の界面に沿って形成された、生の積層体
を作製する工程と、 前記生の積層体を焼成する工程とを備える、積層セラミ
ック電子部品の製造方法。
4. A method of manufacturing a laminated ceramic electronic component, comprising a plurality of ceramic layers and an internal conductor film extending along a specific interface between the ceramic layers, the ceramic green sheet containing a ceramic raw material powder for a substrate. And a step of preparing a plurality of the ceramic green sheets so as to provide the ceramic layer, and to provide the internal conductor film, the conductive paste according to claim 1. A method of manufacturing a laminated ceramic electronic component, comprising: a step of producing a raw laminate in which a film formed is formed along a specific interface between the ceramic green sheets; and a step of firing the raw laminate.
【請求項5】 複数のセラミック層および前記セラミッ
ク層間の特定の界面に沿って延びる内部導体膜を備え
る、積層セラミック電子部品であって、 前記内部導体膜は、請求項1ないし3のいずれかに記載
の導電性ペーストを焼成して得られた焼結体からなる、
積層セラミック電子部品。
5. A multilayer ceramic electronic component comprising a plurality of ceramic layers and an internal conductor film extending along a specific interface between the ceramic layers, wherein the internal conductor film is defined in any one of claims 1 to 3. Consisting of a sintered body obtained by firing the conductive paste described,
Multilayer ceramic electronic components.
【請求項6】 前記内部導体膜は、前記セラミック層を
介して静電容量が得られるように配置され、さらに、前
記複数のセラミック層をもって構成される積層体の外表
面上に形成され、かつ前記静電容量を取り出すため前記
内部導体膜の特定のものに電気的に接続される外部電極
を備え、それによって、積層セラミックコンデンサを構
成する、請求項6に記載の積層セラミック電子部品。
6. The inner conductor film is arranged so that capacitance can be obtained through the ceramic layer, and is formed on an outer surface of a laminate constituted by the plurality of ceramic layers, and The monolithic ceramic electronic component according to claim 6, further comprising an external electrode electrically connected to a specific one of the inner conductor films for extracting the capacitance, thereby forming a monolithic ceramic capacitor.
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