JP2003115130A - 光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 多数の信号面を有し且つ厚さの薄い多層型光
情報記録媒体及びその製造方法を提供すること。 【解決手段】 表面に記録ピットとしての凹凸を有し、
さらにその凹凸表面に形成された反射層１４を有する光
情報記録基板１５を、３枚以上、支持基板１６上に、反
射層１４が支持体と対向するように接着剤層１７を介し
て順次積層して、貼り合わせてなる光情報記録媒体１８
であって、前記全ての光情報記録基板１５，１５，１５
の、凹凸表面と少なくともその近傍層が、ガラス転移温
度が２０℃以下である光重合性官能基を有する反応性ポ
リマーを含む光硬化性組成物からなる光硬化性層の硬化
被膜により形成されていることを特徴とする光情報記録
媒体、及びその製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＤＶＤ（Digital
Versatile Disc）等の大容量の文字、音声、動画像等の
情報をデジタル信号として記録された、複数の信号ピッ
ト形成面を有する光情報記録媒体及びその製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】ディジタル信号として表面にピット形成
された記録済み光情報記録媒体として、オーディオ用Ｃ
Ｄ、ＣＤ−ＲＯＭが広く使用されているが、最近、動画
像との記録も可能な両面にピット記録がなされたＤＶＤ
が、ＣＤの次世代記録媒体として注目され、徐々に使用
されるようになってきている。

【０００３】両面に記録層を持つＤＶＤには、図４に示
すようにそれぞれ片面に信号ビットを形成した２枚の透
明樹脂基板１，２の該信号ビット形成面にそれぞれ反射
層１ａ，２ａを形成し、これら反射層１ａ，２ａを互い
に対面させた状態で基板１，２を接着剤層３を介して貼
り合わせ、接合した両面読み出し方式のもの、及び、図
５に示すように、それぞれ片面に信号ビットを形成した
基板１，２において、一方の基板１の信号ビット面に半
透明層１ｂを形成すると共に、他方の基板２の信号ビッ
ト面に反射層２ａを形成し、これら半透明層１ｂと反射
層２ａとを対向させた状態で基板１，２を接着剤層３を
介して貼り合わせ、接合した片面読み出し方式のものと
が知られている。

【０００４】両面読み出しＤＶＤの製造は、従来前記信
号ピットの凹凸が雄雌反対の凹凸を有するスタンパを用
いて、ポリカーボネート樹脂を溶融し、射出成形するこ
とにより表面に凹凸を有する透明樹脂基板を作製し、こ
の凹凸表面にアルミニウム等の金属をスパッタリング等
により蒸着することによって反射層を形成し、この反射
層が形成された透明樹脂基板２枚を反射層を対向させて
接着剤で貼り合わせることにより行われていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、ＤＶＤ
の透明樹脂基板（光情報記録基板）は、スタンパを用い
たポリカーボネートの射出成形により得られるが、この
ような射出成形によるピット形成は、特に厚さが３００
μｍ以下の薄い基板の場合には、スタンパからポリカー
ボネート樹脂へのピット形状の転写の精度が低下すると
の問題があることを、本発明者は見出した。

【０００６】ＤＶＤ（ＤＶＤ−ＲＯＭ等）は、一方の側
から読める信号面は２面までである。今後記録すべき情
報量の増大が予測される。しかしながら、上記射出成形
による製法では、薄い基板での精度の高いピット形状の
転写が困難なため、多層化することにより光情報記録媒
体の厚さが大きくなりすぎる。従って、従来の方法に
は、多層型光情報記録媒体の製造は困難との問題が潜在
している。

【０００７】従って、かかる点に鑑みなされた本発明の
目的は、多数の信号面を有し且つ厚さの薄い多層型光情
報記録媒体を提供することをその目的とする。

【０００８】特に片面再生方式で３面以上の信号面を有
する多層型光情報記録媒体を提供することをその目的と
する。

【０００９】また、上記光情報記録媒体の製造方法を提
供することをその目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記目的は、表面に記録
ピットとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成
された反射層を有する光情報記録基板３枚以上を、支持
基板上に、反射層が支持体と対向するように接着剤層を
介して順次積層して、貼り合わせてなる光情報記録媒体
であって、前記全ての光情報記録基板の、少なくとも凹
凸表面を含む層（即ち凹凸表面とこれに接する近傍層）
が、ガラス転移温度が２０℃以下である光重合性官能基
を有する反応性ポリマーを含む光硬化性組成物からなる
光硬化性層の硬化被膜により形成されていることを特徴
とする光情報記録媒体により達成することができる。

【００１１】上記反射層は、支持体側に近い方から遠い
方にかけて、透過性が増大するように設定されている。
即ちレーザにより全ての記録面が読めるように設定され
る。また光硬化性層は３８０〜８００ｎｍの波長領域の
光透過率が７０％以上であることが好ましい。これによ
りレーザによる信号の読み取りを行った場合に、エラー
の無い操作が保証される。

【００１２】上記光硬化性層の硬化収縮率が８％以下で
あることが好ましい。これによりピット形状の変動を最
小限に抑えることができる。反応性ポリマーが、光重合
性官能基を１〜５０モル％含むことが、適当な硬化性、
硬化被膜強度を得る上で好ましい。光重合性官能基が、
（メタ）アクリロイル基であることが、硬化性の点で好
ましい。光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１
０質量％含むことが適当な硬化性を得る上で好ましい。
光硬化性層の厚さが５〜５００μｍであることが、作業
性の点から好ましい。接着剤層側の支持体の表面に、記
録ピットとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形
成された反射層を有することもできる。

【００１３】前記目的は、記録ピットとして表面に凹凸
を有するスタンパの該凹凸表面に、前記のいずれかの光
硬化性層を有する光硬化性転写シートを、該光硬化性転
写層が該凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押
圧して該光硬化性転写層が該凹凸表面に沿って密着され
てなる積層体を形成し、次いで該光硬化性転写層に光照
射して硬化させ、その後スタンパを除去することにより
表面に記録ピットの凹凸面を有する光情報記録基板を製
造し、前記のようにして製造することにより、記録ピッ
トの異なる光情報記録基板を３枚以上用意し、各基板の
凹凸表面に反射層を形成した後、全ての光情報記録基板
を支持体上に、反射層が支持体と対向するように順次重
ね合わせ、接着剤によりこれら貼り合わせることからな
る光情報記録媒体の製造方法により解決することができ
る。

【００１４】光情報記録媒体で述べた好ましい態様を、
上記光情報記録媒体の製造方法にも適用することができ
る。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。

【００１６】本発明の光情報記録媒体に用いられる光情
報記録基板は、例えば図１に示すように製造することが
できる。

【００１７】本発明の光硬化性層に当たる光硬化性転写
シート１１と、表面に記録ピットとしての凹凸を有する
スタンパ１２とを、光硬化性転写シート１１と凹凸面と
が対向するようにして配置し、重ね合わせ、光硬化性転
写シート１１と凹凸面が完全に密着するように押圧して
光硬化性転写シート１１とスタンパ１２とからなるの積
層体を形成する。その後、シート上からＵＶ（紫外線）
を照射して、光硬化性転写シート１１を硬化させる。次
いでスタンパ１２を除去して光情報記録基板１３を得
る。

【００１８】本発明で使用される光硬化性転写シート
は、光硬化性層のみからなるか、或いは、支持体とその
上に設けられた光硬化性層とからなるものでもよい。従
って、光硬化性転写シートは、本発明の光情報記録媒体
においては光硬化性層又は支持体と光硬化性層に相当す
る。光硬化性層は、スタンパの凹凸表面を押圧により精
確に転写できるように、ガラス転移温度が２０℃以下で
ある反応性ポリマーを含む光硬化性組成物からなり、さ
らに好ましくは再生レーザにより読み取りが可能なよう
に３８０〜８００ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以
上である層である。特に、３８０〜８００ｎｍの波長領
域の光透過率が８０％以上である層が好ましい。従っ
て、この転写シート用いて作製される本発明の光情報記
録媒体は３８０〜４２０ｎｍの波長のレーザを用いてピ
ット信号を再生する方法に有利に使用することができ
る。

【００１９】本発明では、記録ピットである凹凸形状
を、光硬化性転写シート１１とスタンパ１２を１００℃
以下の低温で押圧することにより精確に転写されるよう
に光硬化性転写シートが設計されている。スタンパ１２
と、光硬化性転写シート１１との重ね合わせは、一般に
圧着ロールや簡易プレスで行われる。また、光硬化性転
写シート１１の硬化後の層は、スタンパに用いられるニ
ッケルなどの金属との接着力が極めて弱く、光硬化性転
写シートをスタンパから容易に剥離することができる。

【００２０】このような光情報記録基板として、情報
（記録ピット）が異なるものを３枚以上用意する。好ま
しくは４枚以上用意する。

【００２１】光情報記録基板を用いて、光情報記録媒体
を、例えば下記の図２に示すように製造することができ
る。

【００２２】上記で得られた複数の光情報記録基板１３
の凹凸面に銀合金、金或いはアルミニウムをスパッタリ
ングにより蒸着して銀合金等の反射層１４を形成して、
反射層付き光情報記録媒体１５を得る。例えば、図２に
おいては、銀合金の反射層（低反射率）を有する光情報
記録基板を支持基板に最も近い位置となる記録基板とし
て用い、支持基板から遠ざかるに従い透過率の高いアル
ミニウム等の金属反射層を有する記録基板を用いる。こ
うして用意した４枚の光情報記録基板を、厚さの大きい
支持基板１６上に、これらの反射層付き光情報記録基板
１５を、反射層と支持体が対向するように、順次接着剤
を介して重ね合わせ、接着剤を硬化させて接着剤層１７
を形成して光情報記録媒体１８を得る。

【００２３】上記反射層は、一般に基板毎に金属材料、
或いは膜厚等を適宜変更して、全ての信号面がレーザで
読み取り可能なように設けられる。

【００２４】支持基板は、通常、凹凸面を有さないが、
有するものであっても良い。凹凸面を有する支持基板、
即ち光情報記録基板の場合、一般に厚板であるので、従
来の射出成形法で作製しても良いし、本発明の前記光情
報記録基板の製造方法により作成しても良い。本発明の
光情報記録基板は３００μｍ以下の薄い基板とすること
ができるので、支持基板上に多数の光情報記録基板を積
層することができ、多数層の凹凸面を有することができ
ることから、情報量が飛躍的に向上する。支持基板の厚
さは、一般に３００〜１０００μｍであり、好ましくは
４００〜８００μｍである。

【００２５】こうして得られた光情報記録媒体１８を２
枚、支持基板同士対向させて接着剤を用いて貼り合わ
せ、両面読み取り可能な信号面を８層有する光情報記録
媒体を得ることができる。

【００２６】図３に、この両面読み取り可能な信号面を
８層有する光情報記録媒体の一例を示す。１９が接着剤
層である。

【００２７】接着剤層を形成するための接着剤は、従来
のホットメルト系接着剤及び紫外線硬化性樹脂接着剤の
いずれも使用することができる。

【００２８】本発明の光硬化性層は、ガラス転移温度が
２０℃以下である光重合性官能基を有する反応性ポリマ
ーを含む光硬化性組成物からなるものである。光硬化性
組成物は、一般に、上記光重合性官能基を有する反応性
ポリマー、光重合性官能基（好ましくは（メタ）アクリ
ロイル基）を有する化合物（モノマー及びオリゴマ
ー）、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から
構成される。

【００２９】光重合性官能基を有する反応性ポリマーと
しては、例えばアルキルアクリレート（例、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート）及び／又はアルキル
メタクリレート（例、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキ
シルメタクリレート）から得られる単独重合体又は共重
合体（即ちアクリル樹脂）で、且つ、主鎖又は側鎖に光
重合性官能基を有するものを挙げることができる。この
ような重合体は、例えば１種以上の（メタ）アクリレー
トと、ヒドロキシル基等の官能基を有する（メタ）アク
リレート（例、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート）とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナト
アルキル（メタ）アクリレートなどの、重合体の官能基
と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させるこ
とにより得ることができる。

【００３０】本発明の上記反応性ポリマーは、光重合性
官能基を一般に１〜５０モル％、特に５〜３０モル％含
むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アク
リロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、
特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。

【００３１】またこの反応性ポリマーのガラス転移温度
は、２０℃以下であり、ガラス転移温度を２０℃以下と
することにより、得られる光硬化性転写層がスタンパの
凹凸面に圧着されたとき、その凹凸面に緊密に追随でき
る可撓性を示すことができる。特に、ガラス転移温度が
１５℃〜−５０℃の範囲にすることにより追随性が優れ
ている。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高
圧力が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎ
ると、硬化後の十分な高度が得られなくなる。

【００３２】さらに、本発明の反応性ポリマーは、一般
に数平均分子量が５０００〜１０００００、好ましくは
１００００〜８００００であり、また重量平均分子量が
一般に５０００〜１０００００、好ましくは１００００
〜８００００であることが好ましい。

【００３３】光重合性官能基を有する化合物の具体例と
しては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−
エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベ
ンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）ア
クリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレー
ト、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシ
クロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テ
トラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロ
イルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒド
ロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アク
リレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）
アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジ
オールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イ
ソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メ
タ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー
類、ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、
プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，
６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタン
ジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−
ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプ
ロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロール
シクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオー
ル、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、
前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン
酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物
類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポ
リオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリ
カプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前
記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラク
トンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマ
ーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、
トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−
４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，
４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、２，２'−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例え
ば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロ
キシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３
−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シク
ロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物で
あるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂
等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル
酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）ア
クリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を
挙げることができる。これら光重合性官能基を有する化
合物は１種又は２種以上、混合して使用することができ
る。

【００３４】光重合開始剤としては、公知のどのような
光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯
蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始
剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メ
チルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１な
どのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタ−ルなど
のベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾ
フェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェ
ノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチ
ルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊
なものとしては、メチルフェニルグリオキシレ−トなど
が使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−
（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロ
パン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重
合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香
酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知
慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合
で混合して使用することができる。また、光重合開始剤
のみの１種または２種以上の混合で使用することができ
る。光硬化性組成物中に、光重合開始剤を一般に０〜２
０重量％、特に１〜１０重量％含むことが好ましい。

【００３５】光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重
合開始剤としては、例えば、４−フェノキシジクロロア
セトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノ
ン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエ
トキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロ
ピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン
−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒ
ドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−
プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フ
ェニル）−２−モルホリノプロパン−１など、ベンゾフ
ェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾ
イル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニ
ルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベ
ンッゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、
３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノンなど
が使用できる。

【００３６】アセトフェノン系重合開始剤としては、特
に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニ
ル）−２−モルホリノプロパン−１が好ましい。ベンゾ
フェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベン
ゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好まし
い。また、第３級アミン系の光重合促進剤としては、ト
リエタノ−ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリ
イソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノ
ン、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチル
アミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸
（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸
イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘ
キシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進
剤としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−
ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミ
ノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。以上
のように、光重合開始剤の成分としては、上記の３成分
を組み合わせることにより使用する。

【００３７】本発明の光硬化性転写層はガラス転移温度
が２０℃以下で、透過率７０％以上を満たすように光硬
化性組成物を設計することが好ましい。このため、上記
光重合性官能基を有する化合物及び光重合開始剤に加え
て、所望により下記の熱可塑性樹脂及び他の添加剤を添
加することが好ましい。

【００３８】上記反応性ポリマー：光重合可能な官能基
を有する化合物：光重合開始剤の質量比は、一般に、３
０〜１００：０〜７０：０．１〜１０、特に５０〜８
０：２０〜５０：１〜１０から好ましい。

【００３９】他の添加剤として、シランカップリング剤
（接着促進剤）を添加することができる。このシランカ
ップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピル
トリメトキシシランなどがあり、これらの１種を単独で
又は２種以上を混合して用いることができる。これらシ
ランカップリング剤の添加量は、上記反応性ポリマー１
００重量部に対し通常０．０１〜５重量部で十分であ
る。

【００４０】また同様に接着性を向上させる目的でエポ
キシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基
含有化合物としては、トリグリシジルトリス（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート；ネオペンチルグリコ
ールジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオール
ジグリシジルエーテル；アクリルグリシジルエーテル；
２−エチルヘキシルグリシジルエーテル；フェニルグリ
シジルエーテル；フェノールグリシジルエーテル；ｐ−
ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル；アジピン酸ジ
グリシジルエステル；ｏ−フタル酸ジグリシジルエステ
ル；グリシジルメタクリレート；ブチルグリシジルエー
テル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子
量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千
から数十万のポリマーを添加することによっても同様の
効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量
は上記反応性ポリマー１００重量部に対し０．１〜２０
重量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくと
も１種を単独で又は混合して添加することができる。

【００４１】さらに他の添加剤として、加工性や貼り合
わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加するこ
とができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然
樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂
系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に
用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、
ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体とし
てはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステ
ル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペ
ン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系
樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることがで
きる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバ
ル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂
系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂
が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹
脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石
油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマ
ロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系
樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂
を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹
脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。

【００４２】アクリル樹脂も添加することができる。例
えば、アルキルアクリレート（例、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、ブチルアクリレート）及び／
又はアルキルメタクリレート（例、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート）か
ら得られる単独重合体又は共重合体を挙げることができ
る。またこれらのモノマーと、他の共重合可能なモノマ
ーとの共重合体も挙げることができる。特に、光硬化時
の反応性や硬化後の耐久性、透明性の点からポリメチル
メタクリレート（ＰＭＭＡ）が好ましい。

【００４３】上記炭化水素樹脂等のポリマーの添加量は
適宜選択されるが、上記反応性ポリマー１００重量部に
対して１〜２０重量部が好ましく、より好ましくは５〜
１５重量部である。

【００４４】以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成
物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少
量含んでいてもよい。また、場合によってはシリカゲ
ル、炭酸カルシウム、シリコン共重合体の微粒子等の添
加剤を少量含んでもよい。

【００４５】本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性
層は、上記反応性ポリマー、光重合性官能基を有する化
合物（モノマー及びオリゴマー）及び、所望により他の
添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練した
後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーショ
ン等の製膜法により所定の形状に製膜して用いることが
できる。支持体を用いる場合は、支持体上に製膜する必
要がある。より好ましい本発明の光硬化性接着剤の製膜
方法は、各構成成分を良溶媒に均一に混合溶解し、この
溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコートしたセパ
レーターにフローコート法、ロールコート法、グラビア
ロール法、マイヤバー法、リップダイコート法等により
支持体上に塗工し、溶媒を乾燥することにより製膜する
方法である。

【００４６】なお、製膜に際してはブロッキング防止、
支持体或いはスタンパとの圧着時の脱気を容易にするた
め、エンボス加工を施してもよい。エンボス加工の方法
としては公知の手法が採用でき、例えばエンボスロール
での型付け等がある。また、溶液塗工法の場合、離型性
を有するエンボスフィルム（紙）上に塗工することによ
り、そのエンボスを転写することができる。このエンボ
スの平均粗さ（Ｒａ）は５０μｍ以下、より好ましくは
０．０１〜５０μｍ、更に好ましくは０．１〜２０μｍ
の凸凹を形成することが好ましく、これによりデバイス
との接着面において空気が抜け易く、デバイス表面の複
雑な凸凹を埋めることが可能である。０．０１μｍより
小さいと脱気不良を起こし易く、また５０μｍより大き
いと仮圧着時に凸凹が残ってしまうこともある。

【００４７】また、光硬化性層の厚さは１〜１０００μ
ｍ、特に５〜５００μｍとすることが好ましい。１μｍ
より薄いと封止性が劣り、透明樹脂基板の凸凹を埋め切
れない場合が生じる。一方、１０００μｍより厚いと記
録媒体の厚みが増し、記録媒体の収納、アッセンブリー
等に問題が生じるおそれがあり、更に光線透過に影響を
与えるおそれもある。

【００４８】上記光硬化性層は支持体上に設けられても
良い。

【００４９】上記支持体としては、ガラス転移温度が５
０℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このような支持
体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロ
ヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン
６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリア
ミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエー
テルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポ
リエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポ
リエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイ
ミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチ
レン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とす
る透明樹脂基板を用いることができる。これら中で、ポ
リカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビ
ニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタ
レートが転写性、複屈折の点で優れており、好適に用い
ることができる。

【００５０】こうして得られる本発明に光硬化性転写シ
ートは、ガラス転移温度が２０℃以下である光硬化性組
成物からなり、且つ３８０〜８００ｎｍの波長領域の光
透過率が７０％以上である光硬化性転写層を有する。即
ち、ガラス転移温度が２０℃以下とすることにより、光
硬化性転写層がスタンパの凹凸面に圧着されたとき、そ
の凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができ
る。特に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃の範囲に
することにより追随性が優れている。ガラス転移温度が
高すぎると、貼り付け時に高圧力が必要となり作業性の
低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な高度
が得られなくなる。

【００５１】光硬化性転写層は３８０〜８００ｎｍの波
長領域の光透過率が７０％以上であり、これはレーザに
よる読み取り信号の強度低下を防止するためである。さ
らに３９０〜４１０ｎｍの波長領域の光透過率が８０％
以上であることが好ましい。

【００５２】光硬化性組成物中のオリゴマーには重合性
官能基を１〜５０モル％有することが好ましい。これに
より、得られる光硬化性転写層が、硬化後に形状保持可
能な強度得ることができる。光重合開始剤は前記のよう
に０．１〜１０質量％の範囲が好ましく、これより少な
いと硬化速度が遅すぎて、作業性が悪く、多すぎると転
写精度が低下する。

【００５３】光硬化性転写シートは、膜厚精度を精密に
制御したフィルム状で提供することができるため、スタ
ンパとの貼り合わせを容易にかつ精度良く、貼り合わせ
が可能である。また、この貼り合わせは、圧着ロールや
簡易プレスなどの簡便な方法で２０〜１００℃で仮圧着
した後、光により常温、０．１〜数十秒で硬化できる
上、本接着剤特有の自着力によりその積層体にズレや剥
離が起き難いため、光硬化まで自由にハンドリングがで
きるという特徴を有している。

【００５４】本発明の光硬化性層を硬化する場合は、光
源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用で
き、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルラン
プ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハ
ロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光
等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強
さによって一概には決められないが、数十秒〜数十分程
度である。

【００５５】また、硬化促進のために、予め積層体を３
０〜８０℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。

【００５６】得られた本発明の光情報記録基板の凹凸表
面に金属の反射層をスパッタリング等により形成する。
金属としては、アルミニウム、銀、金、これらの合金等
を挙げることができる。２枚の光情報記録基板を使用す
る場合は、相互に異なる反射層にする必要があり、成
分、膜厚等変更される。

【００５７】支持基板１６は、一般に従来の射出成形基
板が用いられる。

【００５８】支持基板の材料としては、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリ
ル、ポリ塩化ビニルを挙げることができる。

【００５９】反射層が設けられた２枚の光情報記録基板
の反射層を対向させ、一方に接着剤を塗布し、その上に
他方を重ね、硬化させる。接着剤がＵＶ硬化性樹脂の場
合はＵＶ照射により、ホットメルト接着剤の場合は、加
熱下に塗布し、冷却することにより得られる。

【００６０】

【実施例】 ［実施例１］ ＜光硬化性転写シートの作製＞ （反応性ポリマーの作製） 配合Ｉ ２−エチルヘキシルメタクリレート ７０質量部 メチルメタクリレート ２０質量部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １０質量部 ベンゾフェノン ５質量部 トルエン ３０質量部 酢酸エチル ３０質量部 上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、６０℃
に加熱して重合を開始させ、この温度で１０時間撹拌
し、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂を得
た。その後、カレンズ ＭＯＩ（２−イソシアナトエチ
ルメタクリレート；昭和電工（株）製）５質量部を添加
し、穏やかに撹拌しながら５０℃で反応させ、光重合性
基を有する反応性ポリマーの溶液１を得た。

【００６１】得られた反応性ポリマーは、Ｔｇが０℃で
あり、側鎖にメタクリロイル基を５モル％有していた。

【００６２】 配合II 反応性ポリマー溶液１ １００質量部 トリシクロデカンジアクリレート ３０質量部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン １質量部 上記配合の混合物を均一に溶解させ、ピュアエースＣ１
１０−７０（厚さ７０μｍ；帝人（株）製）上に、塗布
し、乾燥厚さ３０±２μｍの光硬化性層を形成した。こ
れにより、厚さ１００±２μｍの光硬化性転写シートを
得た。

【００６３】＜反射層付き光情報記録基板Ｉ〜IVの作製
＞光硬化性転写シートを、ピットとしての凹凸面を有す
るニッケル製のスタンパのその凹凸面に、シリコーンゴ
ム製のローラを用いて２ｋｇの荷重で光硬化性転写シー
トを押圧し、積層体を形成し、スタンパの凹凸形状を転
写シート表面に転写した。

【００６４】次に、光硬化性転写シート側から、メタル
ハライドランプを用いて、積算光量２０００ｍＪ／ｃｍ
^２の条件でＵＶ照射し、転写層を硬化させた。

【００６５】積層体からスタンパを剥離、除去し、硬化
した光硬化性転写シート（光情報記録基板）の凹凸面上
に銀合金をスパッタリングすることにより、金の半透過
反射層（層厚１０ｎｍ）を形成した。反射層付き光情報
記録基板Ｉを得た。

【００６６】反射層付き光情報記録基板II〜IVについて
は、異なる凹凸面を有するスタンパを用い、それぞれ反
射層を、IIでは銀合金の半透過反射層（層厚１２ｎ
ｍ）、IIIでは銀合金の半透過反射層（層厚１４ｎ
ｍ）、IVではアルミニウムの反射層（層厚１８ｎｍ）と
した以外、前記と同様に光情報記録基板を作製した。

【００６７】光情報記録基板IVが支持基板側で、光情報
記録基板Ｉが支持基板から最も遠い位置におかれる。

【００６８】＜光情報記録媒体の作製＞溶融ポリカーボ
ネートを金型に射出して厚さ８００μｍの支持基板を
得、市販の光硬化性液状接着剤（ＳＤ−６６１、大日本
インキ化学工業（株）製 ）をスピンコート法で塗布
し、反射層付き光情報記録基板IVを貼り合わせ、接着剤
を光硬化した。この光情報記録基板野反射層のない表面
に、順次光情報記録基板III、II、Ｉを同様にして貼り
付けて硬化させ、これによりＤＶＤを得た。

【００６９】 ［実施例２］ ＜光硬化性転写シートの作製＞ （反応性ポリマーの作製） 配合Ｉ’ ｎ−ヘキシルメタクリレート ５０質量部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート ５０質量部 ベンゾフェノン ５質量部 トルエン ３０質量部 酢酸エチル ３０質量部 上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、６０℃
に加熱して重合を開始させ、この温度で１０時間撹拌
し、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂を得
た。その後、カレンズ ＭＯＩ（２−イソシアナトエチ
ルメタクリレート；昭和電工（株）製）５０質量部を添
加し、穏やかに撹拌しながら５０℃で反応させ、光重合
性基を有する反応性ポリマーの溶液２を得た。

【００７０】得られた反応し高分子は、Ｔｇが５℃であ
り、側鎖にメタクリロイル基を５０モル％有していた。

【００７１】 配合II’ 反応性ポリマー溶液２ １００質量部 １，６−ヘキサンジオールジメタクリレート １０質量部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン １質量部 上記配合の混合物を均一に溶解させ、ピュアエースＣ１
１０−７０（厚さ７０μｍ；帝人（株）製）上に、塗布
し、乾燥厚さ３０±２μｍの光硬化性転写層を形成し
た。これにより、厚さ１００±２μｍの光硬化性転写シ
ートを得た。

【００７２】以下のＤＶＤの作製は実施例１と同様にし
て行い、これによりＤＶＤを得た。 ＜光情報記録基板及びＤＶＤの評価＞ （１）光線透過率（３８０〜８００ｎｍの波長領域） 一方の光情報記録基板を、ＪＩＳ−Ｋ６７１７に従い３
８０〜８００ｎｍの波長領域の光線透過率を測定した。
７０％以上を○、７０％未満を×とした。

【００７３】（２）光線透過率（３８０〜４２０ｎｍの
波長領域） 一方の光硬化性転写シートを、ＪＩＳ−Ｋ６７１７に従
い３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光線透過率を測定し
た。８０％以上を○、８０％未満を×とした。

【００７４】（３）ランド部粗さ ピットが形成された表面のランド部表面の平滑性を、Ａ
ＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて評価した。十分に平滑
なものを○、著しく平滑性に欠けるものを×とした。

【００７５】得られた試験結果を表１に示す。

【００７６】 表１ 実施例１ 実施例２ 光線透過率(380-800nm) ○ ○ 光線透過率(380-420nm) ○ ○ ランド部粗さ ○ ○

【００７７】

【発明の効果】以上から明らかなように、本発明で使用
される光硬化性転写シートは、光情報記録媒体の基板作
成用スタンパの凹凸面を押圧により簡易に且つ精確に転
写することができる。このため、得られる光情報記録基
板は、基板の厚さが薄くても、スタンパの凹凸面が精確
に転写された信号面を有する。従って、このような基板
を多数使用して作製される本発明の多層型光情報記録媒
体は、基板の厚さが抑えられ、且つ各層とも精確に転写
された信号面を有するものであり、どの層の信号を再生
してもエラーの発生がほとんどないとものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光情報記録媒体を製造する過程を示す
断面図である。

【図２】本発明の光情報記録媒体及びその製造方法を示
す断面図である。

【図３】本発明の光情報記録媒体の別の態様を示す断面
図である。

【図４】従来の光情報記録媒体を示す断面図である。

【図５】従来の光情報記録媒体を示す断面図である。

【符号の説明】

１１ 光硬化性転写シート １２ スタンパ １３ 光情報記録基板 １４ 反射層 １５ 反射層付き光情報記録基板 １６ 支持基板 １７、１９ 接着剤層 １８ 光情報記録媒体 １，２ 透明樹脂基板 １ａ，２ａ 反射層 ３ 接着剤層 １ｂ 半透明層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 稲宮 隆人 東京都小平市小川東町３−１−１ 株式会 社ブリヂストン内 Ｆターム(参考） 5D029 JB13 MA18 RA01 RA07 RA08 RA09 RA50 5D121 AA02 AA05 AA07 DD06 FF01

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に記録ピットとしての凹凸を有し、
   さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報
   記録基板３枚以上を、支持基板上に、反射層が支持基板
   と対向するように接着剤層を介して順次積層して、貼り
   合わせてなる光情報記録媒体であって、 前記全ての光情報記録基板の、少なくとも凹凸表面を含
   む層が、ガラス転移温度が２０℃以下である光重合性官
   能基を有する反応性ポリマーを含む光硬化性組成物から
   なる光硬化性層の硬化被膜により形成されていることを
   特徴とする光情報記録媒体。
2. 【請求項２】 光硬化性層の３８０〜８００ｎｍの波長
   領域の光透過率が７０％以上である請求項１に記載の光
   情報記録媒体。
3. 【請求項３】 光硬化性層の硬化収縮率が８％以下であ
   る請求項１に記載の光情報記録媒体。
4. 【請求項４】 反応性ポリマーが、光重合性官能基を１
   〜５０モル％含む請求項１に記載の光情報記録媒体。
5. 【請求項５】 光重合可能な官能基が、（メタ）アクリ
   ロイル基である請求項１又は４に記載の光情報記録媒
   体。
6. 【請求項６】 光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．
   １〜１０質量％含む請求項１に記載の光情報記録媒体。
7. 【請求項７】 光硬化性層の厚さが５〜５００μｍであ
   る請求項１に記載の光情報記録媒体。
8. 【請求項８】 接着剤層側の支持基板の表面に、記録ピ
   ットとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成さ
   れた反射層を有する請求項１に記載の光情報記録媒体。
9. 【請求項９】 表面に記録ピット形成用凹凸を有するス
   タンパの該凹凸表面に、請求項１〜８のいずれかに記載
   の光硬化性層を有する光硬化性転写シートを、該光硬化
   性転写層が該凹凸表面に接触するように裁置し、これら
   を押圧して該光硬化性転写層が該凹凸表面に沿って密着
   されてなる積層体を形成し、次いで該光硬化性転写層に
   光照射して硬化させ、その後スタンパを除去することに
   より表面に記録ピットの凹凸面を有する光情報記録基板
   を製造し、 前記のようにして製造することにより、記録ピットの異
   なる光情報記録基板を３枚以上用意し、各基板の凹凸表
   面に反射層を形成した後、全ての光情報記録基板を支持
   体上に、反射層が支持体と対向するように順次重ね合わ
   せ、接着剤によりこれら貼り合わせることからなる光情
   報記録媒体の製造方法。
10. 【請求項１０】 光硬化性転写シートは光硬化性転写層
    を支持体上に設けた構成を有する請求項９に記載の光情
    報記録媒体の製造方法。
11. 【請求項１１】 接着剤層側の支持基板の表面に、記録
    ピットとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成
    された反射層を有する請求項９に記載の光情報記録媒体
    の製造方法。