JP2003110208A - Substrate, mechanism for overlaying substrate, and method of overlaying substrate - Google Patents

Substrate, mechanism for overlaying substrate, and method of overlaying substrate

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JP2003110208A
JP2003110208A JP2001303988A JP2001303988A JP2003110208A JP 2003110208 A JP2003110208 A JP 2003110208A JP 2001303988 A JP2001303988 A JP 2001303988A JP 2001303988 A JP2001303988 A JP 2001303988A JP 2003110208 A JP2003110208 A JP 2003110208A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently conduct position alignment for bonding two substrates in manufacturing a liquid-crystal display panel or the like. SOLUTION: On glass substrates 8U, 8D to be overlaid, two pairs of marks on each (8U1, 8U2, and 8D1, 8D2) are formed, wherein marks (8U1, 8U2) on one of the substrates are colored red. When the image patterns of marks (8U2, 8D2) consisting of one for each substrate are overlapped, the lamp is changed over to a red lamp 94b so that the colored (red) background display is obtained. Consequently, only the image patterns of the uncolored marks (8D1, 8D2) are exclusively recognized. By computing difference between the image patterns exclusively recognized and the image patterns in which the marks consisting of one for each substrate are overlapped, the image patterns of the colored side (8U1, 8U2) only are exclusively extracted. Since the mark positions of each substrate are separately extracted in this way, enhancement of the substrate bonding-work efficiency is realized.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、対向するように重
ね合わせて高精度に位置合わせを行うのに好適な基板、
及びその基板の重ね合わせ機構、並びに重ね合わせ方法
の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate suitable for superposition and alignment with high accuracy so as to face each other,
The invention also relates to an improvement of a superposition mechanism of the substrates and a superposition method.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルは、ガラス製の2枚の基
板が対向配置されて貼り合わされ、その貼り合わされた
2枚の基板間に液晶が封入されて製造される。このよう
な液晶表示パネル等の製造工程では、ガラス製の2枚の
基板に形成されたアライメント(位置決め用)マークに
基づく高精度な位置合わせないしは位置決め操作を経
て、2枚の基板の重ね合わせが行われる。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display panel is manufactured in such a manner that two glass substrates are opposed to each other and bonded to each other, and liquid crystal is sealed between the bonded two substrates. In the manufacturing process of such a liquid crystal display panel or the like, the two substrates are superposed on each other through highly accurate alignment or positioning operation based on the alignment (positioning) marks formed on the two glass substrates. Done.

【0003】図7は、従来の基板、及びその基板の重ね
合わせ機構を採用した液晶基板の貼合わせ装置の平面図
で、図8(a)及び図8(b)はそれぞれ、図7に示す
装置で貼り合わされるガラス製の基板、すなわち上基板
1U、及び下基板1Dの拡大平面図である。
FIG. 7 is a plan view of a conventional substrate and a liquid crystal substrate laminating apparatus which employs a mechanism for superposing the substrates. FIGS. 8A and 8B are respectively shown in FIG. FIG. 3 is an enlarged plan view of a glass substrate, that is, an upper substrate 1U and a lower substrate 1D, which are attached to each other by the device.

【0004】図7に示すように、液晶基板の貼合わせ装
置では、まず、上基板1U及び下基板1Dは、対向配置
された一対の供給機構2U、2Dに順次供給される。
As shown in FIG. 7, in the liquid crystal substrate laminating apparatus, first, the upper substrate 1U and the lower substrate 1D are sequentially supplied to a pair of supply mechanisms 2U and 2D which are arranged to face each other.

【0005】一対の供給機構2U、2D間には、旋回し
つつ図示矢印Y方向に伸縮自在なアーム3aを有して矢
印X方向に移動自在な搬送ロボット3が配置されてい
て、上基板1U及び下基板1Dは、その搬送ロボット3
により、隣接して配置された2台の貼合わせ装置4,4
に交互に搬送供給される。
Between the pair of supply mechanisms 2U and 2D, there is arranged a transfer robot 3 having an arm 3a capable of expanding and contracting in the arrow Y direction shown in the drawing and being movable in the arrow X direction. And the lower substrate 1D is the transfer robot 3
The two laminating devices 4 and 4 arranged adjacent to each other by
Are alternately conveyed and supplied.

【0006】貼合わせ装置4,4で重ね合わされるガラ
ス製の上基板1U及び下基板1Dは、図8に示したよう
に、例えば4枚の液晶パネルを取り出し製造できるよう
にパターン形成されていて、各基板(上基板1U及び下
基板1D)の中央左右両端部の2か所に、それぞれ十字
状の位置決め用のマーク1U1,1U2、及び1D1,
1D2が対をなすように印刷形成されている。
The upper substrate 1U and the lower substrate 1D made of glass, which are laminated by the laminating devices 4 and 4, are patterned so that, for example, four liquid crystal panels can be taken out and manufactured, as shown in FIG. , The cross-shaped positioning marks 1U1, 1U2, and 1D1, respectively at two positions on the left and right sides of the center of each substrate (upper substrate 1U and lower substrate 1D).
1D2 is printed so as to form a pair.

【0007】また、下基板1D面には、そのパターンに
沿い接着剤5が予め塗布描画されており、マーク1U
1,1U2、及び1D1,1D2に基づく基板の位置決
め調整後に、接着剤5を介した上基板1Uと下基板1D
との貼り合わせが行われる。
On the surface of the lower substrate 1D, the adhesive 5 is applied and drawn in advance along the pattern, and the mark 1U is formed.
1, 1U2, and 1D1, 1D2 after positioning adjustment of the substrate, the upper substrate 1U and the lower substrate 1D via the adhesive 5
Is pasted with.

【0008】貼り合わされた上基板1Uと下基板1D
は、搬送ロボット3に受け渡され、次の液晶注入工程へ
と搬送されるべく、図7に示す搬出台6に供給される。
The upper substrate 1U and the lower substrate 1D which are bonded together
Is transferred to the transfer robot 3 and supplied to the unloading table 6 shown in FIG. 7 so as to be transferred to the next liquid crystal injection step.

【0009】貼合わせ装置4,4は、図9の正面図に示
したように構成され、まず上下(Z軸)方向に移動可能
な上方の吸着ヘッド41が、搬送ロボット3から上基板
1Uを先に受取り吸着保持し、次に下方の吸着ステージ
42が下基板1Dを搬送ロボット3から受取り吸着保持
する。
The laminating devices 4 and 4 are constructed as shown in the front view of FIG. 9, and first, the upper suction head 41 movable in the vertical (Z-axis) direction moves the upper substrate 1U from the transfer robot 3. First, it receives and holds it by suction, and then the lower suction stage 42 receives and holds the lower substrate 1D from the transfer robot 3 by suction.

【0010】吸着ステージ42内には、CCDカメラ等
の撮像機器431,432が装着されていて、吸着ヘッ
ド41に吸着保持された上基板1Uが図示Z方向に降下
し、下基板1Dに軽く重ね合わされた状態で、ガラス製
の各基板に形成されたマーク1U1,1U2、及び1D
1,1D2を撮影するように構成されている。
Imaging devices 431 and 432 such as CCD cameras are mounted in the suction stage 42, and the upper substrate 1U sucked and held by the suction head 41 descends in the Z direction in the drawing, and is lightly superposed on the lower substrate 1D. Marks 1U1, 1U2, and 1D formed on each glass substrate in the as-deposited state
It is configured to photograph 1, 1D2.

【0011】上方の吸着ヘッド41は、X−Y−θ移動
テーブル44に組込まれていて、吸着ヘッド41を組み
込んだX−Y−θ移動テーブル44は、制御器7により
駆動制御される。
The upper suction head 41 is incorporated in the XY-θ moving table 44, and the XY-θ moving table 44 incorporating the suction head 41 is driven and controlled by the controller 7.

【0012】制御器7は、撮像機器431,432か
ら、各マーク1U1,1U2、及び1D1,1D2の撮
像パターンの供給を受け、それに基づき、上基板1U、
下基板1D間の位置ずれ量が許容範囲内に収まるよう
に、X−Y−θ移動テーブル44を駆動制御する。
The controller 7 receives the supply of the image pickup patterns of the marks 1U1, 1U2 and 1D1, 1D2 from the image pickup devices 431, 432, and based on this, the upper substrate 1U,
The XY-θ movement table 44 is drive-controlled so that the amount of positional deviation between the lower substrates 1D falls within the allowable range.

【0013】図10(a)は、適正位置に重ね合わされ
た状態での撮像機器431により取り込まれた撮像パタ
ーン図である。
FIG. 10A is an image pickup pattern diagram taken in by the image pickup device 431 in a state of being superposed on the proper position.

【0014】2枚の基板(上基板1U及び下基板1D)
が適正に重ね合わされた状態では、図10(a)に示す
ように、対をなす十字状のマーク1U1,1U2,及び
1D1,1D2間にそれぞれ結ばれた直線Lu,Ldが
直交するように交差し、かつマーク1U1,1U2、及
び1D1,1D2の各中間位置Pu,Pdが一致する。
従って、たとえば上基板1Uが吸着ヘッド41に傾い
て保持され、図10(b)に示すように各中間位置P
u,Pd間がX−Y方向にΔx,Δy分ずれたとき、制
御器7に内蔵されたマイコンは、各撮像機器431,4
32からの撮像パターンから、公知のパターンマッチン
グ手法を用いた画像処理により、中間位置Pu,Pdの
座標位置を算出し、各中間位置Pu,Pdが一致するよ
うX−Y−θ移動テーブル44を駆動制御する。
Two substrates (upper substrate 1U and lower substrate 1D)
In a state in which the marks are properly overlapped, as shown in FIG. 10A, the straight lines Lu and Ld respectively connected between the pair of cross-shaped marks 1U1, 1U2, and 1D1, 1D2 intersect so as to be orthogonal to each other. In addition, the respective intermediate positions Pu and Pd of the marks 1U1 and 1U2 and 1D1 and 1D2 match.
Therefore, for example, the upper substrate 1U is tilted and held by the suction head 41, and as shown in FIG.
When u and Pd are deviated in the XY direction by Δx and Δy, the microcomputer incorporated in the controller 7 causes the imaging devices 431, 4
From the image pickup pattern from 32, the coordinate position of the intermediate position Pu, Pd is calculated by image processing using a known pattern matching method, and the XY-θ movement table 44 is set so that the intermediate position Pu, Pd match. Drive control.

【0015】このように、吸着ヘッド41及び吸着テー
ブル42に吸着保持されつつ重ね合わされた上下2枚の
基板(1U,1D)は、撮像機器431,432と制御
器7とによる位置ずれ検出操作と、制御器7及びX−Y
−θ移動テーブル44による位置ずれ補正操作とを経
て、適正な貼合わせに向けた位置合われが行われる。
In this way, the upper and lower two substrates (1U, 1D) which are sucked and held by the suction head 41 and the suction table 42 and overlapped with each other are subjected to the positional deviation detection operation by the image pickup devices 431, 432 and the controller 7. , Controller 7 and XY
The position adjustment for proper bonding is performed through the position shift correction operation using the −θ movement table 44.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】上記説明のように、従
来の基板の重ね合わせ機構及び重ね合わせ方法では、制
御器7はマーク1U1,1U2、1D1,1D2の撮像
パターンから、中間位置Pu,Pdを算出して制御する
ので、各撮像機器431,432は、その撮像視野内に
おいて、各マーク1U1,1U2、1D1,1D2の位
置を個々に認識できることが条件とされる。
As described above, in the conventional substrate superposing mechanism and superposing method, the controller 7 determines the intermediate positions Pu, Pd from the image pickup patterns of the marks 1U1, 1U2, 1D1, 1D2. Is calculated and controlled, each imaging device 431, 432 is required to be able to individually recognize the position of each mark 1U1, 1U2, 1D1, 1D2 within its imaging field of view.

【0017】ところで、最近の液晶表示パネルでは、表
示画面の一層の高精細化が進展し、基板の重ね合わせに
際して、ミクロン単位のより高精度な位置決めが要求さ
れ、そのため、顕微鏡型で倍率の高い撮像機器431,
432が採用されるようになってきている。
By the way, in recent liquid crystal display panels, the display screen has been further refined, and more precise positioning in micron units is required at the time of superposing the substrates. Therefore, the microscope type has a high magnification. Imaging device 431,
432 is being adopted.

【0018】高精度な位置決めでは、上基板1Uと下基
板1Dとの間の位置ずれ量がわずかでも大きくなると、
図11(a)に示すように、2個一対のマークのうちい
ずれか一方が、他の基板のマークと重なってしまうこと
がある。なお、図11は図10と同様に、撮像機器43
1により取り込まれた撮像パターンを示している。
In high-accuracy positioning, even if the amount of positional deviation between the upper substrate 1U and the lower substrate 1D becomes large,
As shown in FIG. 11A, one of the two pairs of marks may overlap with the mark of the other substrate. Note that FIG. 11 is similar to FIG.
The imaging pattern taken in by No. 1 is shown.

【0019】図10及び図11(a)では、説明の便宜
上、平行斜線の有無により、上基板1Uのマーク1U
1,1U2と下基板1Dのマーク1D1,1D2を区別
して示しているが、実際には背景となる透明なガラス基
板と識別できれば良いので、十字状のマークはいずれ
も、たとえば黒く塗られて表示されている。
In FIG. 10 and FIG. 11 (a), for convenience of explanation, the mark 1U on the upper substrate 1U is shown depending on the presence or absence of parallel diagonal lines.
1, 1U2 and the marks 1D1 and 1D2 on the lower substrate 1D are shown separately, but since it is actually sufficient to distinguish them from the transparent glass substrate that is the background, all the cross-shaped marks are displayed in black, for example. Has been done.

【0020】従って、図11(a)に示したように、2
個一対のマークのうち例えばマーク1U2とマーク1D
2とが部分的に重なってしまうと、撮像パターンは図1
1(b)に示したようになり、重なったマークはいずれ
も十字状のマークとして認識されないので、認識エラー
となり、制御器7は位置ずれ補正ができなくなるという
問題があった。
Therefore, as shown in FIG.
Of the pair of marks, for example, mark 1U2 and mark 1D
When 2 and 2 partially overlap, the imaging pattern is as shown in FIG.
As shown in FIG. 1 (b), since no overlapping mark is recognized as a cross mark, a recognition error occurs and the controller 7 cannot correct the positional deviation.

【0021】このように、いずれか一方のマークが互い
に重なり合い、認識エラーの状態となり装置が停止する
と、作業員は、X−Y−θ移動テーブル44を移動操作
し、重なったマークが引き離れるように、基板1Uの位
置をずらし、改めて撮像機器431,432及び制御器
7による位置補正操作を再開させことになるので作業効
率は著しく低下した。
As described above, when either one of the marks overlaps with each other and a recognition error occurs, and the apparatus stops, the operator moves the XY-θ moving table 44 to pull out the overlapped marks. In addition, the position of the board 1U is displaced and the position correction operation by the image pickup devices 431 and 432 and the controller 7 is restarted, so that the work efficiency is significantly reduced.

【0022】もちろん、はじめから2つのマークが重な
らないように、貼合わせ装置4,4に供給保持されれば
良いが、基板の搬送移動、並びに受け渡しの各過程にお
いては多少の位置ずれが避けられない以上、マークの重
なりを解消することは現実的には容易ではなく対応改善
が要望されていた。
Needless to say, the marks may be supplied and held by the laminating devices 4 and 4 so that the two marks do not overlap from the beginning, but some misalignment can be avoided in each process of transferring and transferring the substrate. As long as there is no mark, it is not easy in reality to eliminate the overlapping of marks, and improvement in handling has been demanded.

【0023】そこで本発明は、基板の貼合わせ装置が、
上下2枚の基板における2個一対のマークのうちいずれ
かが互いに部分的に重なるように重なり合ったとして
も、マークによる2枚の基板の位置合わせ操作が円滑か
つ適正に行うことができる基板、及びその基板の重ね合
わせ機構、並びに重ね合わせ方法を提供することを目的
とする。
Therefore, according to the present invention, a substrate bonding apparatus is
Even if one of the two pairs of marks on the two upper and lower substrates overlaps each other so as to partially overlap with each other, the alignment of the two substrates by the marks can be performed smoothly and appropriately, and An object of the present invention is to provide a superposition mechanism of the substrates and a superposition method.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】第1の発明は、透光性を
有し、位置決め用のマークをそれぞれ形成した2枚一組
の基板において、前記2枚一組のうち、いずれか一方の
基板に形成された前記マークが他の基板のマークとは、
明度あるいは色相を異にして着色されていることを特徴
とする。
According to a first aspect of the present invention, in a set of two substrates each having a light-transmitting property and formed with positioning marks, one of the two substrates is set. The mark formed on the substrate is a mark of another substrate,
It is characterized by being colored with different lightness or hue.

【0025】このように、この発明の基板は、いずれか
一方の基板に形成されたマークが他の基板のマークとは
異なる色に着色されて構成されたものである。
As described above, the substrate according to the present invention is configured such that the mark formed on one of the substrates is colored differently from the mark on the other substrate.

【0026】従って、着色されたマークの色と同じ色の
光をガラス製の基板に照射し、その照射された基板を撮
像機器が撮影したとき、着色されたマークは背景に溶け
込み、着色されない側の一対のマークのみが背景から浮
かび上がるので、撮像画面上において、着色されない側
の一対のマーク形状を的確に捕えることができる。
Therefore, when the glass substrate is irradiated with light of the same color as the colored mark and the irradiated substrate is photographed by the imaging device, the colored mark melts into the background and is not colored. Since only the pair of marks of (1) above emerge from the background, the pair of marks on the non-colored side can be accurately captured on the imaging screen.

【0027】従って、例えば白色光と着色されたマーク
の色と同じ色の光とを切替え照射して撮影し、一部重な
った2組のマークパターンと、着色されない側の一対の
マークのみのマークパターンの2種類の撮像パターンを
得ることができる。
Therefore, for example, white light and light of the same color as the color of the colored mark are switched and radiated and photographed, and two sets of mark patterns partially overlapped and a mark of only a pair of marks on the non-colored side are formed. It is possible to obtain two types of imaging patterns.

【0028】従ってまた、その2種類の各撮像パターン
を対比し、そのパターン差の認識処理演算により、着色
された側のマークのパターンのみを算出することができ
る。
Therefore, it is also possible to calculate the pattern of the mark on the colored side by comparing the two types of image pickup patterns and recognizing the pattern difference.

【0029】このように、この発明の基板によれば、た
とえ一部マークに重なりがあっても、撮像パターン及び
そのパターンの認識処理演算により、各マークパターン
を正確に得ることができるので、従来と同様に、一対の
マークの中間位置を演算により求めつつ位置ずれ補正を
行い、適正かつ高精度な重ね合わせを行うことができ
る。
As described above, according to the substrate of the present invention, even if some marks are overlapped, each mark pattern can be accurately obtained by the image pickup pattern and the recognition processing calculation of the pattern. Similarly to the above, it is possible to correct the positional deviation while obtaining the intermediate position of the pair of marks by calculation, and perform proper and highly accurate overlay.

【0030】第2の発明は、基板の重ね合わせ機構にお
いて、透光性を有し、位置決め用のマークがそれぞれ形
成され、いずれか一方の基板に形成されたマークが他の
基板のマークとは、明度あるいは色相を異にして着色さ
れた2枚一組の基板と、この2枚一組の基板をそれぞれ
の基板に設けられた前記マークが対向するように重ね合
わせる重ね合わせ手段と、この重ね合わせ手段により重
ね合わされた前記2枚一組の基板の少なくとも一方のマ
ークの色またはそれと同系統の色の光を照射自在に構成
された光源と、この光源からの照射光の透過光により、
前記2枚一組の基板のマークを撮影する撮像機器と、こ
の撮像機器で撮影された前記各マークの撮像パターンに
基づき、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれを
検出する検出手段と、この検出手段で検出された前記2
枚の基板間の位置ずれを補正する補正手段とを具備する
ことを特徴とする。
According to a second aspect of the invention, in a substrate superposing mechanism, translucent marks for positioning are respectively formed, and a mark formed on one of the substrates is different from a mark on the other substrate. A pair of substrates colored with different lightness or hue, a stacking means for stacking the pair of substrates so that the marks provided on the respective substrates face each other, and the stacking means. By a light source configured to irradiate light of the color of at least one of the marks of the pair of substrates superposed by the matching means or the color of the same system, and the transmitted light of the irradiation light from this light source,
An image pickup device for picking up images of the marks on the pair of substrates, and a detection unit for detecting a positional deviation between the two superposed substrates based on an image pickup pattern of each mark taken by the image pickup device. , 2 detected by this detection means
And a correction unit that corrects the positional deviation between the substrates.

【0031】また、第3の発明は、基板の重ね合わせ方
法において、透光性を有し、位置決め用のマークがそれ
ぞれ形成され、いずれか一方の基板に形成されたマーク
が他の基板のマークとは、明度あるいは色相を異にして
着色されてなる2枚一組の基板を、それぞれの基板に設
けられた前記マークが対向するように重ね合わせる重ね
合わせ工程と、この重ね合わせ工程により、重ね合わさ
れた前記2枚一組の基板の少なくとも一方のマークの色
またはそれと同系統の色の光を切替え照射する照射工程
と、この照射工程により照射された光のもとで、前記2
枚一組の基板のマークを撮影する撮影工程と、この撮影
工程で撮影された前記各マークの撮像パターンに基づ
き、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれを検出
する検出工程と、この検出工程で検出された前記2枚の
基板間の位置ずれを補正する補正工程とからなることを
特徴とする。
A third aspect of the present invention is a method of stacking substrates, in which translucent marks for positioning are respectively formed, and the mark formed on one of the substrates is the mark of the other substrate. Means a superposing step of superposing two sets of substrates colored with different lightness or hue so that the marks provided on the respective boards face each other, and superposing by the superposing step. The irradiation step of switching and irradiating the light of the color of at least one of the marks of the set of the two substrates or the color of the same system as that of the marks, and the light radiated by the irradiation step,
A photographing step of photographing the marks of a set of substrates; a detecting step of detecting a positional deviation between the two superposed substrates based on the photographing pattern of the marks photographed in the photographing step; And a correction step of correcting the positional deviation between the two substrates detected in the detection step.

【0032】上記第2の発明の基板の重ね合わせ機構、
及び第3の発明の基板の重ね合わせ方法は、いずれも上
記第1の発明の基板を採用した基板の重ね合せ機構及び
重ね合せ方法に関する。
The substrate superposing mechanism of the second invention,
Also, the substrate superposing method of the third invention relates to a substrate superposing mechanism and a superposing method which employ the substrate of the first invention.

【0033】すなわち、第2の発明の基板の重ね合わせ
機構は、着色光の光源やその光源からの光により基板の
マークを撮像する撮像機器、並びに位置ずれを検出する
検出手段等を有し、また第3の発明の基板の重ね合わせ
方法は、着色光を照射する照明工程や照射された基板の
マークを撮影する撮影工程、並びに位置ずれを検出する
検出工程等を有するので、一部重なったマークをそれぞ
れ分離して捕えることができ、2枚の基板間の位置ずれ
を検出して補正を行い、適正かつ円滑に重ね合わせるこ
とができる。
That is, the substrate superposing mechanism of the second invention has a light source of the colored light, an image pickup device for picking up an image of the mark on the substrate by the light from the light source, a detecting means for detecting the positional deviation, and the like. Further, the substrate superposing method of the third invention has an illumination step of irradiating with colored light, a photographing step of photographing the mark of the irradiated substrate, and a detecting step of detecting the positional deviation, so that they partially overlap. The marks can be captured separately, and the misalignment between the two substrates can be detected and corrected to properly and smoothly superpose them.

【0034】なお、上記第2及び第3の発明に関連し、
一部重なったマークをそれぞれ分離して捕えるために、
着色されたマークが撮像画面の背景に溶け込むように構
成されれば良いので、上記のようにマークの色と同じ色
の光(着色光)を照射して撮影する方法のほかにも、透
光性の色フィルタを介して撮影したり、あるいは着色光
を反射する反射板を背後にマークを撮影するように構成
しても、上記第2及び第3の発明と同様な機能及び効果
を得ることができる。
Incidentally, in relation to the above-mentioned second and third inventions,
In order to separate and capture marks that partially overlap,
It is sufficient if the colored mark is configured to blend into the background of the image pickup screen. Therefore, in addition to the method of irradiating with the light of the same color as the mark (colored light) as described above, it is also possible to transmit light. The same functions and effects as those of the second and third inventions can be obtained even if the mark is photographed through a reflective color filter or a reflecting plate that reflects colored light behind the mark. You can

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明による基板、及びそ
の基板の重ね合わせ機構、並びに重ね合わせ方法の一実
施の形態を図1ないし図6を参照して詳細に説明する。
なお、図7ないし図11に示した従来の基板、及びその
基板の重ね合わせ機構と同一構成には同一符号を付して
詳細な説明は省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of a substrate, a substrate stacking mechanism, and a stacking method according to the present invention will be described in detail below with reference to FIGS.
The same components as those of the conventional substrate and the substrate superposing mechanism shown in FIGS. 7 to 11 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0036】すなわち、図1(a)及び(b)は、本発
明による基板の一実施の形態を示したもので、図1
(a)は上基板8Uの平面図、図1(b)は下基板8D
の平面図である。また、図2は、本発明による基板の重
ね合わせ機構の一実施の形態を採用した液晶基板の貼合
わせ装置の平面図で、その装置構成の中で、貼合わせ装
置9,9及び制御器10は、図3に示すように構成され
ている。
That is, FIGS. 1A and 1B show an embodiment of a substrate according to the present invention.
1A is a plan view of the upper substrate 8U, and FIG. 1B is a lower substrate 8D.
FIG. FIG. 2 is a plan view of a liquid crystal substrate laminating apparatus that employs an embodiment of the substrate superposing mechanism according to the present invention, and the laminating apparatuses 9 and 9 and the controller 10 are included in the apparatus configuration. Are configured as shown in FIG.

【0037】まず、図1に示した本発明の一実施の形態
の上基板8U及び下基板8Dは、いずれも従来と同様
に、透明なガラス製からなり、透光性を有して4枚の液
晶パネルを取り出し製造できるようにパターン形成され
ているとともに、各基板(上基板1U及び下基板1D)
の中央左右両端部の2か所に、それぞれ一対の十字状の
位置決め用の(アライメント)マーク8U1,8U2、
及び8D1,8D2が形成されている。
First, the upper substrate 8U and the lower substrate 8D shown in FIG. 1 according to the embodiment of the present invention are made of transparent glass as in the conventional case. Each of the substrates (upper substrate 1U and lower substrate 1D) is patterned so that the LCD panel can be taken out and manufactured.
A pair of cross-shaped (alignment) marks 8U1 and 8U2 for positioning, respectively, at two locations on the left and right ends of the center of
And 8D1 and 8D2 are formed.

【0038】そして、この実施の形態では、上基板8U
のマーク8U1,8U2は赤色に着色され、下基板8D
のマーク8D1,8D2は黒色に塗られて表示されてい
る。
In this embodiment, the upper substrate 8U
Marks 8U1 and 8U2 are colored red, and the lower substrate 8D
Marks 8D1 and 8D2 are displayed in black.

【0039】図2に示した液晶基板の貼合わせ装置にお
いて、対向配置された一対の供給機構2U、2Dに順次
供給された上基板8U及び下基板8Dは、搬送ロボット
3により、2台の貼合わせ装置9,9に交互に搬送供給
される。
In the liquid crystal substrate laminating apparatus shown in FIG. 2, the upper substrate 8U and the lower substrate 8D sequentially supplied to the pair of supply mechanisms 2U and 2D arranged opposite to each other are transferred by the transfer robot 3 to the two substrates. They are alternately conveyed and supplied to the aligning devices 9, 9.

【0040】貼合わせ装置9,9で重ね合わされる上基
板8U及び下基板8Dは、図3に示したように、上基板
8Uは吸着ヘッド91に、また下基板8Dは吸着ステー
ジ92にそれぞれ吸着保持され、吸着ヘッド91が降下
して、わずかな間隔を隔ててあるいは軽く接触した状態
で対向するように重ね合わされる。
As shown in FIG. 3, the upper substrate 8U and the lower substrate 8D which are laminated by the laminating devices 9 and 9 are sucked onto the suction head 91 and the lower substrate 8D onto the suction stage 92, respectively. The suction heads 91 are held and lowered, and the suction heads 91 are superposed so as to face each other with a slight gap or in a state of being in slight contact.

【0041】吸着ステージ92に取付け固定されたCC
Dカメラ等の撮像機器931,932は、それぞれ対応
するマーク8U1,8U2、及び8D1,8D2を撮影
し、その撮像パターンは撮像機器931,932ととも
に位置ずれ検出手段を担う制御器10に供給される。
CC fixed to the suction stage 92
Imaging devices 931 and 932 such as a D camera capture the corresponding marks 8U1 and 8U2 and 8D1 and 8D2, respectively, and the imaging pattern thereof is supplied to the controller 10 that serves as a positional deviation detecting means together with the imaging devices 931 and 932. .

【0042】また、吸着ヘッド91には、撮像機器93
1,932に対応して、光源941,942が設けら
れ、光源941,942からの光が、ガラス製の上基板
8U及び下基板8Dをそれぞれ介して撮像機器931,
932に向け照射されるように構成されている。
The suction head 91 has an image pickup device 93.
1, 932 are provided with light sources 941 and 942, and light from the light sources 941 and 942 is transmitted through the glass upper substrate 8U and the lower substrate 8D, respectively, and the imaging device 931 is provided.
It is configured to irradiate toward 932.

【0043】各光源941,942には、それぞれ白色
ランプ94a及び赤色ランプ94bが選択的に切替え点
灯可能に並設されていて、制御器10の制御により切替
え点灯される。
A white lamp 94a and a red lamp 94b are arranged side by side on each of the light sources 941 and 942 so that they can be selectively switched on, and are switched on by the control of the controller 10.

【0044】そこでまず、白色ランプ94aが点灯さ
れ、その白色ランプ94aからの光は、マークが付され
た透光性の上基板8U及び下基板8Dをそれぞれ通過し
て撮像機器931,932に照射されるので、マーク8
U1,8U2、及び8D1,8D2を撮影して得られた
撮像機器931,932からのデジタル撮像パターン
は、制御器10のCPU101に順次供給されるととも
に、CPU101からRAM等で構成された第1のフレ
ームメモリ102に供給され個別に記憶される。具体的
には例えば、撮像機器931,932にて取り込まれた
撮像パターンを、マーク8U1,8U2及び8D1,8
D2に対応する明るさと背景部分に対応する明るさの間
に設定された二値化しきい値(マーク8U1,8U2及
び8D1,8D2を背景画像から分離する二値化しきい
値)で二値化処理して二値化画像パターンを生成し、こ
の二値化画像が第1のフレームメモリ102に記憶され
る。
Therefore, first, the white lamp 94a is turned on, and the light from the white lamp 94a passes through the transparent upper substrate 8U and the lower substrate 8D with the marks, respectively, and illuminates the image pickup devices 931 and 932. So mark 8
Digital image pickup patterns from the image pickup devices 931 and 932 obtained by photographing U1, 8U2, and 8D1 and 8D2 are sequentially supplied to the CPU 101 of the controller 10, and the first image pickup pattern including the RAM is provided from the CPU 101. It is supplied to the frame memory 102 and stored individually. Specifically, for example, the image pickup patterns captured by the image pickup devices 931 and 932 are displayed as marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8
Binarization processing with a binarization threshold value (a binarization threshold value that separates the marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 from the background image) set between the brightness corresponding to D2 and the brightness corresponding to the background portion. Then, a binarized image pattern is generated, and this binarized image is stored in the first frame memory 102.

【0045】以下、撮像機器931により取り込まれた
撮像パターンを例に説明する。
An image pickup pattern captured by the image pickup device 931 will be described below as an example.

【0046】まず、CPU101は、第1のフレームメ
モリ102に記憶された二値化画像パターンから、各対
応する一対のマーク8U1,8U2及び8D1,8D2
の認識を行なう。このとき、各マーク8U1,8U2及
び8D1,8D2を正常に認識できた場合、従来技術と
同様な手順で各基板8U、8Dの位置合せを行ない、各
マーク8U1,8U2及び8D1,8D2を正常に認識
することができなかった場合には、後述する手順によ
り、各マーク8U1,8U2及び8D1,8D2の認識
を行なう。
First, the CPU 101 uses the binarized image pattern stored in the first frame memory 102 to output a pair of corresponding marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2.
Recognize. At this time, when the marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 can be normally recognized, the substrates 8U, 8D are aligned by the same procedure as in the conventional technique, and the marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 are normally processed. If it cannot be recognized, the marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 are recognized by the procedure described later.

【0047】すなわち、撮像機器931からの白色ラン
プ94aの点灯照射による撮像パターンが、図10
(a)あるいは図10(b)に示されたのと同様に、各
マーク8U1,8U2、及び8D1,8D2がいずれも
他と重なることなく個々に独立分離した状態であるとき
は、CPU101は各マーク8U1,8U2及び8D
1,8D2を正常に認識することが可能である。従っ
て、CPU101は、第1のフレームメモリ102に記
憶された二値化画像パターンから各対応する一対のマー
ク8U1,8U2及び8D1,8D2の各中間位置P
u,Pdを演算により算出する。そして他方の撮像機器
932により取り込まれた撮像パターンから得た各中間
点位置に基づいて、各中間位置Pu,Pdが一致するよ
うにX−Y−θ移動テーブル95を制御して位置合せを
行う。
That is, the image pickup pattern obtained by lighting and illuminating the white lamp 94a from the image pickup device 931 is shown in FIG.
As shown in FIG. 10A or FIG. 10B, when the marks 8U1 and 8U2 and 8D1 and 8D2 are individually and independently separated from each other without overlapping with each other, the CPU 101 is Marks 8U1, 8U2 and 8D
It is possible to recognize 1,8D2 normally. Therefore, the CPU 101 determines the intermediate position P of each of the corresponding pair of marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 from the binarized image pattern stored in the first frame memory 102.
u and Pd are calculated. Then, based on the respective intermediate point positions obtained from the image pickup pattern captured by the other image pickup device 932, the XY-θ movement table 95 is controlled so that the intermediate positions Pu and Pd coincide with each other, and the position adjustment is performed. .

【0048】他方、撮像機器931からの白色ランプ9
4aの点灯照射による撮影パターンが、図4に示したよ
うに、マーク8U1,8U2、及び8D1,8D2のい
ずれか、たとえば図示にように8U2,8D2が互いに
部分的に重なった状態である場合、CPU101は各マ
ーク8U1,8U2及び8D1,8D2を正常に認識す
ることができない。この場合、CPU101は、照明ラ
ンプを白色ランプ94aから赤色ランプ94bに切替え
点灯するよう光源941,942を制御する。
On the other hand, the white lamp 9 from the image pickup device 931
When the photographing pattern by the lighting irradiation of 4a is one of the marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 as shown in FIG. 4, for example, 8U2, 8D2 as shown in the figure is partially overlapped with each other, The CPU 101 cannot normally recognize the marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2. In this case, the CPU 101 controls the light sources 941 and 942 so that the illumination lamp is switched from the white lamp 94a to the red lamp 94b and turned on.

【0049】切替え点灯された赤色ランプ94bの光の
色は、同じ色相の赤色で着色された2個一対のマーク8
U1,8U2と同系色であるので、マーク8U1,8U
2は、図5(a)に平行斜線で表したように、同系色か
らなる赤色ランプ94bの光の色(背景色)に溶け込ん
でしまい、黒色に着色された他方の基板のマーク8D
1,8D2のみが背景から浮かび上がったように撮像さ
れる。その撮像パターンは制御器10のCPU101を
経て、RAMで構成された第2のフレームメモリ103
に供給記憶される。具体的には例えば、CPU101
は、撮像機器931にて取り込まれた撮像パターンを、
マーク8U1,8U2の赤色に対応する明るさとマーク
8D1,8D2の黒色に対応する明るさとの間に設定さ
れた二値化しきい値(マーク8D1,8D2をマーク8
U1,8U2および背景画像から分離する二値化しきい
値)で二値化処理して二値化画像パターン(図5
(b))を生成し、この二値化画像パターンを第2のフ
レームメモリ103に記憶させる。このとき、赤色ラン
プ94bの光の色(背景色)は、マーク8U1,8U2
の赤色と同色或いはそれに近い赤色であるので、上記二
値化しきい値にて二値化された画像パターンは、背景部
分とマーク8U1,8U2とが同色(白色)となり、二
値化画像中にマーク8U1,8U2は表示されず、マー
ク8D1,8D2のみが切り出される。
The color of the light of the red lamp 94b which is switched on and turned on is a pair of two marks 8 which are colored red with the same hue.
Since the colors are similar to U1 and 8U2, marks 8U1 and 8U
As indicated by the parallel hatching in FIG. 5A, 2 is dissolved in the color (background color) of the light of the red lamp 94b of a similar color, and the mark 8D on the other substrate colored black.
Only 1 and 8D2 are imaged as if they were projected from the background. The imaging pattern passes through the CPU 101 of the controller 10 and the second frame memory 103 composed of RAM.
It is supplied and stored in. Specifically, for example, the CPU 101
Is an imaging pattern captured by the imaging device 931
A binarization threshold value set between the brightness of the marks 8U1 and 8U2 corresponding to red and the brightness of the marks 8D1 and 8D2 corresponding to black (marks 8D1 and 8D2 are marked
U1, 8U2 and the binarized image pattern (FIG.
(B)) is generated and the binarized image pattern is stored in the second frame memory 103. At this time, the color of the light (background color) of the red lamp 94b is the marks 8U1 and 8U2.
Since the color is the same as or close to the red color of, the background image and the marks 8U1 and 8U2 have the same color (white) in the image pattern binarized by the binarization threshold value. The marks 8U1 and 8U2 are not displayed, and only the marks 8D1 and 8D2 are cut out.

【0050】CPU101は、その二値化画像からマー
ク8D1,8D2の中間位置Pdを演算により算出し、
その算出された位置情報(中間位置Pd)をRAMで構
成されたメモリ104に一旦供給されて記憶させる。
The CPU 101 calculates the intermediate position Pd of the marks 8D1 and 8D2 from the binarized image,
The calculated position information (intermediate position Pd) is once supplied and stored in the memory 104 configured by the RAM.

【0051】次に、制御器10のCPU101は、第1
のフレームメモリ102の図4(b)に示した二値化画
像パターンと、第2のフレームメモリ103の図5
(b)に示した二値化画像パターンをそれぞれ読み出
し、2種類の両撮像パターンを対比し、その差の認識処
理演算によって、図6に示すように赤色に着色された側
の2個一対のマーク8U1,8U2のパターンを算出
し、その算出したパターンから中間位置Puを求め、R
AMで構成されたメモリ104に供給記憶する。
Next, the CPU 101 of the controller 10 makes the first
4B of the frame memory 102 of FIG. 4B and FIG. 5 of the second frame memory 103 of FIG.
The binarized image pattern shown in (b) is read out respectively, and the two types of imaging patterns are compared with each other, and by the recognition processing operation of the difference, two pairs of two on the side colored in red as shown in FIG. The patterns of the marks 8U1 and 8U2 are calculated, the intermediate position Pu is calculated from the calculated pattern, and R
It is supplied and stored in the memory 104 configured by AM.

【0052】差の認識処理演算によって得られた一対の
マーク8U1,8U2は赤色に着色されたマークである
が、差の演算処理により、図6に示したように、黒色が
付された他方のマーク8D2と重なった部分のみが欠け
たに過ぎないパターン形状であり、中間位置Puは支障
なく算出される。
The pair of marks 8U1 and 8U2 obtained by the difference recognition processing operation are marks colored in red, but by the difference operation processing, as shown in FIG. The pattern shape is such that only the portion overlapping the mark 8D2 is chipped, and the intermediate position Pu can be calculated without any trouble.

【0053】この後、CPU101は、メモリ104に
記憶された各中間点位置Pu,Pdと、他方の撮像93
2により取り込まれた撮像パターンから得た中間点位置
Pu,Pdとに基づいて、各中間点位置Pu,Pdが一
致するようにX−Y−θ移動ステージ95を制御して位
置合わせを行なう。
Thereafter, the CPU 101 causes the intermediate point positions Pu and Pd stored in the memory 104 and the other image pickup 93 to be performed.
Position adjustment is performed by controlling the XY-θ moving stage 95 so that the respective intermediate point positions Pu and Pd coincide with each other based on the intermediate point positions Pu and Pd obtained from the image pickup pattern captured in 2.

【0054】以上説明のように、この実施の形態の基板
の重ね合せ機構及び重ね合せ方法によれば、いずれか一
方の基板の位置決め用のマークが他の基板の位置決め用
のマークとは異なる色、すなわち異なる明度あるいは色
相の色に着色されて構成されたので、その着色の色と同
系色の色の背景が得られるように切替えて撮像パターン
を得るので、たとえマークの一部が重なり合ったとして
も、演算処理により、個々の一対のマーク位置を分離し
て抽出することができる。
As described above, according to the substrate stacking mechanism and the substrate stacking method of this embodiment, the positioning mark of one of the substrates is different in color from the positioning mark of the other substrate. That is, since it is configured by being colored with different lightness or hue, it is possible to obtain an imaging pattern by switching to obtain a background of a color of a similar color to that of the coloring, so even if some of the marks overlap. Also, a pair of individual mark positions can be separated and extracted by arithmetic processing.

【0055】このように、本発明によれば、たとえマー
クの一部が2枚の基板間で重なったとしても、位置補正
操作を効率良く行い、適切かつ円滑な位置合わせを自動
的に実施することができる。
As described above, according to the present invention, even if a part of the marks overlaps between the two substrates, the position correction operation is efficiently performed, and proper and smooth alignment is automatically performed. be able to.

【0056】なお、上記説明の実施の形態による基板の
重ね合わせ機構及び方法では、光源に着色マークの色と
同系色のランプを切替え点灯させたが、要するに着色マ
ークの色と同系色の色の背景が得られるように光が照射
されればよいので、赤色ランプ94bを省き、赤色のみ
を透過させるいわゆる色フィルタを、基板8U,8Dの
上下いずれかに、選択的に切替え介挿されるように構成
しても同様な機能及び効果を得ることができる。
In the substrate superposing mechanism and method according to the above-described embodiment, the light source switches and lights the lamps of the same color as the color of the colored mark. Since it suffices to irradiate the light so that the background can be obtained, the so-called color filter which omits the red lamp 94b and transmits only the red color can be selectively switched to be inserted between the upper and lower sides of the substrates 8U and 8D. Even if configured, similar functions and effects can be obtained.

【0057】また、白色ランプ94aと赤色ランプ(一
方の基板の着色マークの色と同系色のランプ)94bと
から構成される光源941,942を撮像機器931,
932側に配置し、このランプ94a、94bを切替え
点灯させるように構成しても同様な機能及び効果を得る
ことができる。なお、この場合、基板8U、8Dを透過
して撮像機器931,932にて撮像される背景部(吸
着ヘッド91の上基板8Uの吸着面)は、白色或いは白
色に近い色彩であることが好ましい。
Further, light sources 941 and 942, each of which is composed of a white lamp 94a and a red lamp (a lamp having a color similar to the color of the colored mark on one substrate) 94b, are connected to the image pickup device 931.
The same function and effect can be obtained by arranging the lamps on the 932 side and switching the lamps 94a and 94b to light. In this case, it is preferable that the background portion (the suction surface of the upper substrate 8U of the suction head 91) that is transmitted through the substrates 8U and 8D and imaged by the imaging devices 931 and 932 is white or a color close to white. .

【0058】また、撮像機器931,932にて取り込
まれた撮像パターンから、上基板8Uのマーク8U1,
8U2と下基板8Dのマーク8D1,8D2を分離する
手段として、上基板8Uのマーク8U1,8U2の色と
同系色の光や背景を用いる例を説明したが、これに限ら
れるものではない。
The marks 8U1 on the upper substrate 8U are detected from the image pickup patterns captured by the image pickup devices 931 and 932.
As an example of the means for separating the 8U2 and the marks 8D1 and 8D2 of the lower substrate 8D, the light and the background of the colors similar to the colors of the marks 8U1 and 8U2 of the upper substrate 8U have been described, but the invention is not limited thereto.

【0059】具体的には例えば、まず、白色ランプを用
いた光源による照明のもとで、撮像機器931,932
によりマーク8U1,8U2及び8D1,8D2を撮像
する。CPU101は、撮像機器931,932にて取
り込まれた撮像パターンを、マーク8U1,8U2及び
8D1,8D2と背景画像とを分離する二値化しきい値
(第1の二値化しきい値)で二値化処理して二値化画像
パターンを生成するとともに、この二値化画像パターン
中のマーク8U1,8U2及び8D1,8D2の認識を
行なう。
Specifically, for example, first, image pickup devices 931 and 932 are illuminated under illumination by a light source using a white lamp.
The marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 are imaged. The CPU 101 binarizes the imaging pattern captured by the imaging devices 931 and 932 with a binarization threshold (first binarization threshold) that separates the marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 from the background image. The binarized image pattern is generated by the binarization process, and the marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 in the binarized image pattern are recognized.

【0060】この二値化画像パターンから全てのマーク
8U1,8U2及び8D1,8D2についての適正な認
識が行なえなかったときには、二値化しきい値を、赤色
のマーク8U1,8U2からの光量レベルと黒色のマー
ク8D1,8D2からの光量レベルとの間に設定された
二値化しきい値、すなわち、マーク8U1,8U2およ
び背景画像とマーク8D1,8D2とを分離する二値化
しきい値(第2の二値化しきい値)に切替える。そし
て、再度、白色ランプの照明のもとで撮像した撮像機器
931,932による撮像パターンを、切替えた第2の
二値化しきい値で二値化処理し、マーク8D1,8D2
のみを切り出した二値化画像を生成する。これにより、
撮像機器931,932による撮像パターン中から、マ
ーク8D1,8D2のみを切り出すことができる。
When proper recognition cannot be performed for all the marks 8U1, 8U2 and 8D1, 8D2 from this binarized image pattern, the binarization threshold is set to the light amount level from the red marks 8U1, 8U2 and the black level. Of the light amount level from the marks 8D1 and 8D2 of the marks 8D1 and 8D2, that is, the binarization threshold value that separates the marks 8U1 and 8U2 and the background image from the marks 8D1 and 8D2. Value threshold). Then, again, the image pickup patterns of the image pickup devices 931 and 932 picked up under the illumination of the white lamp are binarized by the switched second binarization threshold, and the marks 8D1 and 8D2.
Generate a binarized image in which only this is cut out. This allows
Only the marks 8D1 and 8D2 can be cut out from the imaging pattern by the imaging devices 931 and 932.

【0061】なお、マーク8U1,8U2の画像の切り
出しは、第1の実施形態と同様に、第1の二値化しきい
値による二値化画像パターンと第2の二値化しきい値に
よる二値化画像パターンとの差の認識処理演算により行
なうことができる。
The clipping of the images of the marks 8U1 and 8U2 is carried out in the same manner as in the first embodiment by the binarization image pattern by the first binarization threshold and the binarization by the second binarization threshold. This can be performed by a recognition processing calculation of a difference from the digitized image pattern.

【0062】このような手段によっても、マーク8U
1,8U2及び8D1,8D2の一部が重なり合ってい
たとしても、個々の一対のマーク8U1,8U2及び8
D1,8D2を分離して抽出することができるので、第
1の実施の形態と同様な機能及び効果を得ることができ
る。
Even by such means, the mark 8U
1, 8U2 and 8D1, 8D2, even if some of them overlap, each pair of marks 8U1, 8U2 and 8
Since D1 and 8D2 can be separated and extracted, it is possible to obtain the same function and effect as in the first embodiment.

【0063】また、本発明の基板の重ね合わせ機構及び
方法は、着色マークの色と同系色の色の背景を得るため
に、着色された色と同系色の色を反射させる反射板、す
なわち上記実施の形態では赤色の色反射板が選択的に背
景に挿入されるように構成し、撮像機器931,932
側からの照明により撮像するように構成してもまた同様
な機能及び効果を得ることができる。なおこの場合、赤
色に着色されたマークを非透光性とし、このマークと対
で用いられる他方のマークを反射率が高い色(例えば、
銀色)で形成するとともに、色反射板を背景に挿入して
撮像するときには、撮像機器側から光を照射し、色反射
板を背景に挿入せずに撮像するときには、基板を挟んで
撮像機器と対向する側から光を照射するようにするとよ
い。
Further, the substrate superposing mechanism and method of the present invention is a reflection plate for reflecting a color similar to the colored color, that is, the above-mentioned, in order to obtain a background of a color similar to the color of the colored mark. In the embodiment, the red color reflector is selectively inserted in the background, and the imaging devices 931 and 932 are provided.
The same function and effect can be obtained even when the image pickup is performed by the illumination from the side. In this case, the mark colored red is made non-translucent, and the other mark used as a pair with this mark has a color with high reflectance (for example,
(Silver), and when the color reflector is inserted in the background for image capture, light is emitted from the imager side, and when the color reflector is not inserted in the background for image capture, the board is sandwiched between the imager and the imager. Light may be emitted from opposite sides.

【0064】なお、上記各説明において、光源941,
942が吸着ヘッド91側に、また撮像機器931,9
32が吸着テーブル92側に設置されるものとして説明
したが、これに限らず、たとえば反対に、光源941,
942を吸着テーブル92側に、また撮像機器931,
932を吸着ヘッド91側に設置することもできる。ま
た、上基板8U,下基板8Dの位置合わせに、上基板8
U側を降下させるように説明したが、もちろん下基板8
U側を上昇させてもよく、さらにX−Y−θ移動テーブ
ル95を吸着ヘッド91側に構成したが、吸着テーブル
92側に構成しても良い。
In the above description, the light source 941,
942 is on the suction head 91 side, and imaging devices 931 and 9
Although it has been described that 32 is installed on the suction table 92 side, the invention is not limited to this.
942 to the suction table 92 side, the imaging device 931
932 can also be installed on the suction head 91 side. In addition, the upper substrate 8U and the lower substrate 8D are aligned with each other by using the upper substrate 8
Although it is explained that the U side is lowered, of course, the lower substrate 8
The U side may be raised, and the XY-θ moving table 95 is arranged on the suction head 91 side, but may be arranged on the suction table 92 side.

【0065】また、着色マークの色を赤色とし、他方の
マークの色を黒色とした例を用いたが、これに限られる
ものではなく、双方のマークが互いに異なる明度あるい
は異なる色相で着色されていれば良く、その色の組み合
わせは自由である。
Also, an example was used in which the color of the colored mark was red and the color of the other mark was black, but the present invention is not limited to this, and both marks are colored with different lightness or different hues. The color combination is free.

【0066】さらにまた、光源941,942の発光源
としてランプを使用する旨説明したが、LEDその他の
照明器具をも採用できることは言うまでもない。
Furthermore, although it has been described that a lamp is used as a light emitting source of the light sources 941 and 942, it goes without saying that an LED or other lighting fixture can also be adopted.

【0067】いずれにしても、本発明の基板、及びその
基板を用いた基板の重ね合わせ機構、並びに重ね合わせ
方法によれば、たとえ2個一対の位置決め用のマークの
いずれか一方が、他方の基板のマークと重なったとして
も、これを自動的に分離して捕え、2枚の基板の重ね合
わせ操作を適切かつ自動的に行うことができるので、液
晶表示パネルの製造等に適用し、その製造効率の効率化
を実現でき、実用に際し顕著な効果を得ることができ
る。
In any case, according to the board of the present invention, the board superposing mechanism using the board, and the superposing method, even if one of the two pairs of positioning marks is the other, Even if it overlaps with the mark on the board, it can be automatically separated and caught, and the operation of stacking the two boards can be appropriately and automatically performed. The manufacturing efficiency can be improved, and a remarkable effect can be obtained in practical use.

【0068】[0068]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
重ね合わせが行われる2枚の基板の位置決めが円滑かつ
適切に行われるものであり、液晶表示パネル等の製造に
採用して実用上得られる効果大である。
As described above, according to the present invention,
Positioning of the two substrates to be overlaid is performed smoothly and appropriately, which is a large effect practically obtained by being adopted in the manufacture of liquid crystal display panels and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による基板の一実施の形態を示した平面
図である。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a substrate according to the present invention.

【図2】図1に示す基板の貼合わせに採用される液晶基
板の貼合わせ装置の平面図である。
FIG. 2 is a plan view of a liquid crystal substrate bonding apparatus used for bonding the substrates shown in FIG.

【図3】図2に示す貼合わせ装置及び制御器の要部構成
図である。
3 is a main part configuration diagram of a laminating apparatus and a controller shown in FIG. 2. FIG.

【図4】図3に示す白色ランプに照射された基板の撮像
機器による撮像パターンの説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of an image pickup pattern of a substrate irradiated with the white lamp shown in FIG. 3 by an image pickup device.

【図5】図3に示す赤色ランプに照射された基板の撮像
機器による撮像パターンの説明図である。
5 is an explanatory diagram of an image pickup pattern of a substrate irradiated with the red lamp shown in FIG. 3 by an image pickup device.

【図6】図3に示す制御器における処理によって得られ
るパターン図である。
6 is a pattern diagram obtained by processing in the controller shown in FIG.

【図7】従来の基板の貼合わせ装置を示す平面図であ
る。
FIG. 7 is a plan view showing a conventional substrate laminating apparatus.

【図8】図7に示す装置に使用される基板の平面図であ
る。
FIG. 8 is a plan view of a substrate used in the device shown in FIG.

【図9】図7に示す貼合わせ装置及び制御器の要部構成
図である。
9 is a main part configuration diagram of the laminating apparatus and the controller shown in FIG. 7.

【図10】図9に示す撮像機器による撮像パターンの説
明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of an imaging pattern by the imaging device shown in FIG.

【図11】図9に示す撮像機器による撮像パターンの説
明図である。
11 is an explanatory diagram of an imaging pattern by the imaging device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1U 上基板 1D 下基板 2U,2D 供給機構 3 搬送ロボット 4 貼合わせ装置 41 吸着ヘッド 42 吸着ステージ 431,432 撮像機器(検出手段) 44 X−Y−θ移動テーブル(補正手段) 5 接着剤 6 搬出台 7 制御器 8U 上基板 8U1,8U2 (位置決め用)マーク 8D 下基板 8D1,8D2 (位置決め用)マーク 9 貼合わせ装置 91 吸着ヘッド 92 吸着ステージ 931,932 撮像機器(検出手段) 941,942 光源 94a 白色ランプ 94b 赤色ランプ 95 X−Y−θ移動テーブル(補正手段) 10 制御器(検出手段、補正手段) 101 CPU 102 第1のフレームメモリ 103 第2のフレームメモリ 104 メモリ Pu,Pd 中間位置 1U upper substrate 1D lower substrate 2U, 2D supply mechanism 3 Transfer robot 4 Laminating device 41 Suction head 42 adsorption stage 431, 432 Imaging device (detection means) 44 XY-θ movement table (correction means) 5 adhesive 6 unloading table 7 controller 8U upper substrate 8U1, 8U2 (for positioning) mark 8D lower substrate 8D1, 8D2 (for positioning) mark 9 Laminating device 91 Suction head 92 Adsorption stage 931, 932 imaging equipment (detection means) 941,942 light source 94a white lamp 94b red lamp 95 XY-θ movement table (correction means) 10 Controller (detection means, correction means) 101 CPU 102 first frame memory 103 Second frame memory 104 memory Pu, Pd intermediate position

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成14年7月10日(2002.7.1
0)
[Submission date] July 10, 2002 (2002.7.1)
0)

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Name of item to be amended] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0015[Name of item to be corrected] 0015

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0015】このように、吸着ヘッド41及び吸着テー
ブル42に吸着保持されつつ重ね合わされた上下2枚の
基板(1U,1D)は、撮像機器431,432と制御
器7とによる位置ずれ検出操作と、制御器7及びX−Y
−θ移動テーブル44による位置ずれ補正操作とを経
て、適正な貼合わせに向けた位置合わが行われる。
In this way, the upper and lower two substrates (1U, 1D) which are sucked and held by the suction head 41 and the suction table 42 and overlapped with each other are subjected to the positional deviation detection operation by the image pickup devices 431, 432 and the controller 7. , Controller 7 and XY
Through the misregistration correction operation by -θ moving table 44, move the position for the proper lamination is performed.

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0049[Correction target item name] 0049

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0049】切替え点灯された赤色ランプ94bの光の
色は、同じ色相の赤色で着色された2個一対のマーク8
U1,8U2の色とは同系統の色すなわち同系色である
ので、マーク8U1,8U2は、図5(a)に平行斜線
で表したように、同系色からなる赤色ランプ94bの光
の色(背景色)に溶け込んでしまい、黒色に着色された
他方の基板のマーク8D1,8D2のみが背景から浮か
び上がったように撮像される。その撮像パターンは制御
器10のCPU101を経て、RAMで構成された第2
のフレームメモリ103に供給記憶される。具体的には
例えば、CPU101は、撮像機器931にて取り込ま
れた撮像パターンを、マーク8U1,8U2の赤色に対
応する明るさとマーク8D1,8D2の黒色に対応する
明るさとの間に設定された二値化しきい値(マーク8D
1,8D2をマーク8U1,8U2および背景画像から
分離する二値化しきい値)で二値化処理して二値化画像
パターン(図5(b))を生成し、この二値化画像パタ
ーンを第2のフレームメモリ103に記憶させる。この
とき、赤色ランプ94bの光の色(背景色)は、マーク
8U1,8U2の赤色と同色或いはそれに近い赤色であ
るので、上記二値化しきい値にて二値化された画像パタ
ーンは、背景部分とマーク8U1,8U2とが同色(白
色)となり、二値化画像中にマーク8U1,8U2は表
示されず、マーク8D1,8D2のみが切り出される。
The color of the light of the red lamp 94b which is switched on and turned on is a pair of two marks 8 which are colored red with the same hue.
Since the colors of U1 and 8U2 are colors of the same system, that is, similar colors, the marks 8U1 and 8U2 have the colors of the light of the red lamp 94b (similar colors shown in FIG. 5A). Only the marks 8D1 and 8D2 on the other substrate, which are melted into the background color) and colored black, are imaged as if they were raised from the background. The image pickup pattern passes through the CPU 101 of the controller 10 and the second image formed by the RAM.
The frame memory 103 is supplied and stored. Specifically, for example, the CPU 101 sets the imaging pattern captured by the imaging device 931 between the brightness corresponding to the red color of the marks 8U1 and 8U2 and the brightness corresponding to the black color of the marks 8D1 and 8D2. Threshold value (Mark 8D
1 and 8D2 are binarized by the binarization threshold value for separating the marks 8U1 and 8U2 and the background image to generate a binarized image pattern (FIG. 5B), and the binarized image pattern is generated. It is stored in the second frame memory 103. At this time, the color of the light of the red lamp 94b (background color) is the same as or close to the red color of the marks 8U1 and 8U2. Therefore, the image pattern binarized by the binarization threshold is the background. The part and the marks 8U1 and 8U2 have the same color (white), the marks 8U1 and 8U2 are not displayed in the binarized image, and only the marks 8D1 and 8D2 are cut out.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0053[Correction target item name] 0053

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0053】この後、CPU101は、メモリ104に
記憶された各中間点位置Pu,Pdと、他方の撮像機器
932により取り込まれた撮像パターンから得た中間点
位置Pu,Pdとに基づいて、各中間点位置Pu,Pd
が一致するようにX−Y−θ移動テーブル95を制御し
て位置合わせを行なう。
Thereafter, the CPU 101 determines each of the intermediate point positions Pu and Pd stored in the memory 104 and the intermediate point positions Pu and Pd obtained from the image pickup pattern captured by the other image pickup device 932. Intermediate point positions Pu and Pd
The X-Y- [theta] moving table 95 is controlled so as to match with each other.

【手続補正5】[Procedure Amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0061[Correction target item name] 0061

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0061】なお、マーク8U1,8U2の画像の切り
出しは、第1の実施形態と同様に、第1の二値化しき
い値による二値化画像パターンと第2の二値化しきい値
による二値化画像パターンとの差の認識処理演算により
行なうことができる。
[0061] Incidentally, the cut-out image of the mark 8U1,8U2, as in the first embodiment, the two of the first of the two binary image pattern by binarization threshold and a second binarization threshold This can be performed by a recognition processing calculation of the difference from the binarized image pattern.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H088 FA03 FA04 FA09 FA16 FA17 FA19 FA20 FA21 FA24 FA30 HA01 MA16 5E338 AA13 AA18 BB80 CC01 DD18 DD32 DD36 EE32 EE41 EE43   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H088 FA03 FA04 FA09 FA16 FA17                       FA19 FA20 FA21 FA24 FA30                       HA01 MA16                 5E338 AA13 AA18 BB80 CC01 DD18                       DD32 DD36 EE32 EE41 EE43

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透光性を有し、位置決め用のマークをそ
れぞれ形成した2枚一組の基板において、 前記2枚一組のうち、いずれか一方の基板に形成された
前記マークが他の基板のマークとは、明度あるいは色相
を異にして着色されていることを特徴とする基板。
1. A pair of substrates each having a light-transmitting property and formed with positioning marks, wherein the mark formed on one of the two substrates is the other substrate. The mark on the substrate is a substrate that is colored with different lightness or hue.
【請求項2】 透光性を有し、位置決め用のマークがそ
れぞれ形成され、いずれか一方の基板に形成されたマー
クが他の基板のマークとは、明度あるいは色相を異にし
て着色された2枚一組の基板と、 この2枚一組の基板をそれぞれの基板に設けられた前記
マークが対向するように重ね合わせる重ね合わせ手段
と、 この重ね合わせ手段により重ね合わされた前記2枚一組
の基板の少なくとも一方のマークの色またはそれと同系
統の色の光を照射自在に構成された光源と、 この光源からの照射光の透過光により、前記2枚一組の
基板のマークを撮影する撮像機器と、 この撮像機器で撮影された前記各マークの撮像パターン
に基づき、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれ
を検出する検出手段と、 この検出手段で検出された前記2枚の基板間の位置ずれ
を補正する補正手段とを具備することを特徴とする基板
の重ね合わせ機構。
2. A light-transmitting, positioning mark is formed on each of the substrates, and the mark formed on one of the substrates is colored with a different brightness or hue from the mark on the other substrate. Two sets of substrates, a stacking unit that stacks the two sets of substrates so that the marks provided on the substrates face each other, and the two sets that are stacked by the stacking unit A light source configured to irradiate at least one of the marks of the substrate or light of a color similar to that of the mark, and the transmitted light of the irradiation light from the light source captures the marks of the pair of substrates. An image pickup device, a detection unit that detects a positional deviation between the two substrates that are superposed on the basis of an image pickup pattern of each of the marks shot by the image pickup device, and the two sheet members that are detected by the detection unit. Basis Mechanism superposition substrate, characterized by comprising a correction means for correcting the misalignment between.
【請求項3】 透光性を有し、位置決め用のマークがそ
れぞれ形成され、いずれか一方の基板に形成されたマー
クが他の基板のマークとは、明度あるいは色相を異にし
て着色された2枚一組の基板と、 この2枚一組の基板をそれぞれの基板に設けられた前記
マークが対向するように重ね合わせる重ね合わせ手段
と、 この重ね合わせ手段により重ね合わされた前記2枚一組
の基板のマーク位置に対向し、前記2枚一組の基板の前
または後に挿入自在に設けられ、前記2枚一組の基板の
少なくとも一方のマークの色またはそれと同系統の色の
光を透過する色フィルタと、 この色フィルタ及び前記2枚一組の基板を介した透過光
により、前記2個一対のマークを撮影する撮像機器と、 この撮像機器で撮影された前記各マークの撮像パターン
に基づき、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれ
を検出する検出手段と、 この検出手段で検出された前記2枚の基板間の位置ずれ
を補正する補正手段とを具備することを特徴とする基板
の重ね合わせ機構。
3. A light-transmitting, positioning mark is formed on each of the substrates, and the mark formed on one of the substrates is colored with a different brightness or hue from the mark on the other substrate. Two sets of substrates, a stacking unit that stacks the two sets of substrates so that the marks provided on the substrates face each other, and the two sets that are stacked by the stacking unit Of the pair of substrates, which is opposed to the mark position of the substrate and can be inserted before or after the pair of substrates, and transmits light of at least one of the marks of the pair of substrates or a color of the same system. A color filter, an imaging device that captures the pair of two marks by transmitted light through the color filter and the pair of substrates, and an imaging pattern of each mark captured by the imaging device. Based on A detecting means for detecting a positional deviation between the two substrates which are overlapped with each other, and a correcting means for correcting a positional deviation between the two substrates detected by the detecting means. Substrate stacking mechanism.
【請求項4】 透光性を有し、位置決め用にマークがそ
れぞれ形成され、いずれか一方の基板に形成されたマー
クが他の基板のマークとは、明度あるいは色相を異にし
て着色された2枚一組の基板と、 この2枚一組の基板をそれぞれの基板に設けられた前記
マークが対向するように重ね合わせる重ね合わせ手段
と、 この重ね合わせ手段により重ね合わされた前記2枚一組
の基板のマーク位置に対向し、前記2枚一組の基板の前
または後に挿入自在に設けられ、前記2枚一組の基板の
少なくとも一方のマークの色またはそれと同系統の色の
光を反射させる色反射板と、 この色反射板で反射し、前記2枚一組の基板を通過した
反射光によって前記2個一対のマークを撮影する撮像機
器と、 この撮像機器で撮影された前記マークの撮像パターンに
基づき、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれを
検出する検出手段と、 この検出手段で検出された前記2枚の基板間の位置ずれ
を補正する補正手段とを具備することを特徴とする基板
の重ね合わせ機構。
4. A translucent mark is formed for positioning, and the mark formed on one of the substrates is colored with a different brightness or hue from the mark on the other substrate. Two sets of substrates, a stacking unit that stacks the two sets of substrates so that the marks provided on the substrates face each other, and the two sets that are stacked by the stacking unit Is provided so as to be opposed to the mark position of the substrate and can be inserted before or after the pair of substrates, and reflects the color of at least one of the marks of the pair of substrates or a color of the same system as the mark. A color reflecting plate, an image pickup device that picks up the two pairs of marks by reflected light that is reflected by the color reflecting plate, and passes through the pair of substrates, and a mark of the mark that is picked up by the image pickup device. In the imaging pattern Firstly, there is provided a detection means for detecting a positional deviation between the two superposed substrates and a correction means for correcting a positional deviation between the two substrates detected by the detecting means. Substrate stacking mechanism.
【請求項5】 前記検出手段は、少なくとも一方のマー
クの色またはそれと同系統の色の光の照射または透過あ
るいは反射による撮像パターンと、前記色とは色相を異
にした他の光の照射による撮像パターンとの差に基づ
き、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれを検出
することを特徴とする請求項2ないし4のうちのいずれ
か1項に記載の基板の重ね合わせ機構。
5. The detecting means uses an image pickup pattern by irradiating or transmitting or reflecting light of at least one mark color or a color of a color similar to that of the mark, and by irradiating another light having a hue different from that of the color. 5. The substrate superposing mechanism according to claim 2, wherein a positional deviation between the two superposed substrates is detected based on a difference from an imaging pattern.
【請求項6】 透光性を有し、位置決め用のマークがそ
れぞれ形成され、いずれか一方の基板に形成されたマー
クが他の基板のマークとは、明度あるいは色相を異にし
て着色されてなる2枚一組の基板を、それぞれの基板に
設けられた前記マークが対向するように重ね合わせる重
ね合わせ工程と、 この重ね合わせ工程により、重ね合わされた前記2枚一
組の基板の少なくとも一方のマークの色またはそれと同
系統の色の光を切替え照射する照射工程と、 この照射工程により照射された光のもとで、前記2枚一
組の基板のマークを撮影する撮影工程と、 この撮影工程で撮影された前記各マークの撮像パターン
に基づき、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれ
を検出する検出工程と、 この検出工程で検出された前記2枚の基板間の位置ずれ
を補正する補正工程とからなることを特徴とする基板の
重ね合わせ方法。
6. A light-transmitting, positioning mark is formed on each of the substrates, and the mark formed on one of the substrates is colored with a different lightness or hue from the mark on the other substrate. And a superposing step of superposing two sets of the substrates so that the marks provided on the respective substrates face each other, and at least one of the superposing substrates is superposed by the superposing step. An irradiation step of switching and irradiating light of the color of the mark or a color of the same system as that of the mark, and an imaging step of imaging the marks of the pair of substrates under the light emitted by this irradiation step, and this imaging A detection step of detecting a positional deviation between the two substrates overlapped with each other based on an image pickup pattern of each mark photographed in the step, and a position difference between the two substrates detected in the detection step. How superposition substrate, characterized by comprising a correction step of correcting.
【請求項7】 透光性を有し、位置決め用のマークがそ
れぞれ形成され、いずれか一方の基板に形成されたマー
クが他の基板のマークとは、明度あるいは色相を異にし
て着色されてなる2枚一組の基板を、それぞれの基板に
設けられた前記マークが対向するように重ね合わせる重
ね合わせ工程と、 この重ね合わせ工程により重ね合わされた前記2枚一組
の基板のマーク位置に対向し、前記2枚一組の基板の前
または後に、前記2枚一組の基板の少なくとも一方のマ
ークの色またはそれと同系統の色の光を通過させる色フ
ィルタを挿入する挿入工程と、 この挿入工程により挿入された前記色フィルタの透過光
により、前記マークを撮影する撮影工程と、 この撮影工程で撮影されたマークの撮像パターンに基づ
き、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれを検出
する検出工程と、 この検出工程で検出された前記2枚の基板間の位置ずれ
を補正する補正工程とからなることを特徴とする基板の
重ね合わせ方法。
7. A light-transmitting, positioning mark is formed on each of the substrates, and the mark formed on one of the substrates is colored with a lightness or hue different from that of the mark on the other substrate. And a step of superposing the two sets of substrates described above so that the marks provided on the respective substrates face each other, and a mark position of the two sets of substrates superposed by the step of superposing And an insertion step of inserting a color filter that allows the light of the color of at least one of the marks of the pair of substrates or the color of the same system to pass through before or after the pair of substrates, The photographing step of photographing the mark by the transmitted light of the color filter inserted in the step, and the two substrates superposed on each other based on the photographing pattern of the mark photographed in the photographing step. A substrate superimposing method comprising: a detecting step of detecting a positional deviation between the two substrates; and a correcting step of correcting a positional deviation between the two substrates detected in the detecting step.
【請求項8】 透光性を有し、位置決め用のマークがそ
れぞれ形成され、いずれか一方の基板に形成されたマー
クが他の基板のマークとは、明度あるいは色相を異にし
て着色されてなる2枚一組の基板を、それぞれの基板に
設けられた前記マークが対向するように重ね合わせる重
ね合わせ工程と、 この重ね合わ工程により重ね合わされた前記2枚一組の
基板のマーク位置に対向し、かつ前記2枚一組の基板の
前または後に、前記2枚一組の基板の少なくとも一方の
マークの色またはそれと同系統の色の光を反射させる色
反射板を挿入する挿入工程と、 この挿入工程で挿入された色反射板で反射し、前記2枚
一組の基板を通過した反射光によって前記マークを撮影
する撮影工程と、 この撮影工程で撮影された前記マークの撮像パターンに
基づき、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれを
検出する検出工程と、 この検出工程で検出された前記2枚の基板間の位置ずれ
を補正する補正工程とからなることを特徴とする基板の
重ね合わせ方法。
8. A light-transmitting, positioning mark is formed on each of the substrates, and the mark formed on one of the substrates is colored with a lightness or hue different from that of the mark on the other substrate. And a step of superposing the two sets of substrates described above so that the marks provided on the respective substrates face each other, and a mark position of the two sets of substrates superposed by the step of superposing And an insertion step of inserting a color reflector that reflects the color of at least one of the marks of the pair of substrates or a color of the same system as the mark before or after the pair of substrates. Based on the photographing step of photographing the mark by the reflected light reflected by the color reflecting plate inserted in the inserting step and having passed through the pair of substrates, based on the image pickup pattern of the mark photographed in this photographing step A detection step of detecting a positional deviation between the two superposed substrates, and a correction step of correcting the positional deviation between the two substrates detected in the detection step. How to stack.
【請求項9】 前記検出工程は、少なくとも一方のマー
クの色またはそれと同系統の色の光の照射または透過あ
るいは反射による撮像パターンと、前記色とは明度ある
いは色相を異にした他の光による撮像パターンとの差に
基づき、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれを
検出することを特徴とする請求項6ないし8のうちのい
ずれか1項に記載の基板の重ね合わせ方法。
9. The detection step uses an image pickup pattern by irradiation, transmission or reflection of light of at least one mark color or a color of the same system as that of the mark, and another light having a lightness or a hue different from that of the color. 9. The substrate superimposing method according to claim 6, wherein a positional deviation between the two superposed substrates is detected based on a difference from an imaging pattern.
【請求項10】 透光性を有し、位置決め用のマークが
それぞれ形成され、いずれか一方の基板に形成されたマ
ークが他の基板のマークとは、明度あるいは色相を異に
して着色された2枚一組の基板と、 この2枚一組の基板をそれぞれの基板に設けられた前記
マークが対向するように重ね合わせる重ね合わせ手段
と、 前記2枚一組の基板の各マークを撮影する撮像機器と、 この撮像機器で撮影された前記マークの撮像パターンか
ら、前記各基板に設けられた各マークと背面画像とを分
離する第1の二値化しきい値と、一方の基板に設けられ
たマークと他方の基板に設けられたマークとを分離する
第2の二値化しきい値とを有し、前記撮像パターンを前
記第1の二値化しきい値で二値化処理した第1の二値化
画像パターンと、前記撮像パターンを前記第2の二値化
しきい値で二値化処理した第2の二値化画像パターンと
に基づき、重ね合わされた前記2枚の基板間の位置ずれ
を検出する検出手段と、 この検出手段で検出された前記2枚の基板間の位置ずれ
を補正する補正手段とを具備することを特徴とする基板
の重ね合わせ機構。
10. A light-transmitting, positioning mark is formed on each of the substrates, and the mark formed on one of the substrates is colored with a different brightness or hue from the mark on the other substrate. A set of two substrates, a stacking unit that stacks the two sets of substrates so that the marks provided on the respective substrates face each other, and photographs each mark of the two sets of substrates. An image pickup device, a first binarization threshold value for separating each mark provided on each substrate and a rear image from an image pickup pattern of the mark photographed by the image pickup device, and provided on one substrate. A second binarization threshold value for separating the mark formed on the other substrate and the second binarization threshold value, and the first binarization processing is performed on the imaging pattern with the first binarization threshold value. Binarized image pattern and the imaging pattern Detecting means for detecting a positional deviation between the two superposed substrates based on a second binarized image pattern binarized by the second binarization threshold value. And a correction unit that corrects the positional deviation between the two substrates detected by the above method.
【請求項11】 透光性を有し、位置決め用のマークが
それぞれ形成され、いずれか一方の基板に形成されたマ
ークが他の基板のマークとは、明度あるいは色相を異に
して着色されてなる2枚一組の基板を、それぞれの基板
に設けられた前記マークが対向するように重ね合わせる
重ね合わせ工程と、 この重ね合わせ工程により、重ね合わされた前記2枚一
組の基板の各マークを撮影する撮像機器と、 色またはそれと同系統の色の光を切替え照射する照射工
程と、 この照射工程により照射された光のもとで、前記2枚一
組の基板のマークを撮影する撮影工程と、 この撮像工程で撮影された撮像パターンを、前記各基板
に設けられた各マークと背面画像とを分離する第1の二
値化しきい値で二値化処理し、第1の二値化画像パター
ンを生成する第1の二値化処理工程と、 前記撮像工程で撮影された撮像パターンを、前記一方の
基板に設けられたマーク及び背景画像と他方の基板に設
けられたマークとを分離する第2の二値化しきい値で二
値化処理し、第2の二値化画像パターンを生成する第2
の二値化処理工程と、 前記第1,第2の二値化処理工程で得た前記第1の及び
第2の二値化画像パターンに基づき、重ね合わされた前
記2枚の基板間の位置ずれを検出する検出工程と、 この検出工程で検出された前記2枚の基板間の位置ずれ
を補正する補正工程とを有することを特徴とする基板の
重ね合わせ方法。
11. A light-transmitting, positioning mark is formed on each of the substrates, and the mark formed on one of the substrates is colored with a lightness or hue different from that of the mark on the other substrate. And a superposing step of superposing two sets of the substrates so that the marks provided on the respective substrates face each other, and by the superposing step, each mark of the superposed substrates of the two sets is formed. An imaging device for photographing, an irradiation step for switching and irradiating light of a color or a color of the same system, and an imaging step for photographing the marks on the pair of substrates under the light irradiated by this irradiation step. And binarizing the imaging pattern photographed in this imaging step with a first binarization threshold value for separating each mark provided on each substrate from the back surface image, and first binarization Generate an image pattern The binarization processing step of No. 1 and a second binary method for separating the image pickup pattern photographed in the image pickup step into a mark and a background image provided on the one substrate and a mark provided on the other substrate. A second binarization process using a binarization threshold value to generate a second binarized image pattern;
And the position between the two substrates superposed based on the first and second binarized image patterns obtained in the first and second binarization processes. A method of stacking substrates, comprising: a detecting step of detecting a shift; and a correcting step of correcting a positional shift between the two substrates detected in the detecting step.
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