JP2003109849A - Method for manufacturing chip type solid electrolytic capacitor - Google Patents

Method for manufacturing chip type solid electrolytic capacitor

Info

Publication number
JP2003109849A
JP2003109849A JP2001302597A JP2001302597A JP2003109849A JP 2003109849 A JP2003109849 A JP 2003109849A JP 2001302597 A JP2001302597 A JP 2001302597A JP 2001302597 A JP2001302597 A JP 2001302597A JP 2003109849 A JP2003109849 A JP 2003109849A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
anode
capacitor element
solid electrolytic
type solid
lead frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001302597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Takeda
嘉宏 竹田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Chemi Con Corp
Original Assignee
Nippon Chemi Con Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Chemi Con Corp filed Critical Nippon Chemi Con Corp
Priority to JP2001302597A priority Critical patent/JP2003109849A/en
Publication of JP2003109849A publication Critical patent/JP2003109849A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a manufacturing cost of a chip type solid electrolytic capacitor. SOLUTION: In a method for manufacturing the chip type solid electrolytic capacitor 1 the capacitor comprises a capacitor element 2 and an enclosure resin 3 covering the capacitor element 2, and is formed so that one part of each terminal of an anode terminal 5 and a cathode terminal 7 connected to an anode lead-out line 4 and a cathode layer of the capacitor element 2, respectively, is exposed at least at a mounting surface of the chip type solid electrolytic capacitor. A lead frame 11 is formed with an alloy 42, and a rising part 15 is formed to extend to the anode terminal 5. The rising part 15 is not given silver plating 12 and the cathode terminal 6 is given silver plating. A side of the anode lead-out line 4 is made to come in contact with the rising part 15 and by laser irradiation from the rising part 15 side one part of the anode terminal 6 is melted and welded to the anode lead-out line 4. Because the reflectivity of a laser beam is low at the rising part 15, the energy of the laser beam can be efficiently used for melting the rising part 15.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種電子機器に搭
載される高密度表面実装に使用可能なチップ型固体電解
コンデンサの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a chip type solid electrolytic capacitor which can be used for high density surface mounting mounted on various electronic devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より知られているチップ型固体電解
コンデンサとしては、例えば図6に示す実開昭48−8
8942号に記載されたようなものがある。このチップ
型固体電解コンデンサ51は、タンタルのような弁金属
粉末を成型して焼結することにより得た陽極体の表面に
陽極酸化により誘電体となる酸化皮膜を形成し、さらに
この陽極体上に二酸化マンガンなどの固体電解質層を形
成し、さらにカーボンや銀ペーストから成る陰極層とを
積層形成することにより得られるコンデンサ素子52を
陽極リード55並びに陰極リード56を有するリードフ
レームに取付けたものとされている。
2. Description of the Related Art As a conventionally known chip-type solid electrolytic capacitor, for example, a practical solid-state capacitor 48-8 shown in FIG.
There is one such as that described in 8942. This chip-type solid electrolytic capacitor 51 has an oxide film which becomes a dielectric by anodization formed on the surface of an anode body obtained by molding and sintering valve metal powder such as tantalum. A capacitor element 52 obtained by forming a solid electrolyte layer of manganese dioxide or the like on a cathode layer made of carbon or silver paste, and attaching the capacitor element 52 to a lead frame having an anode lead 55 and a cathode lead 56. Has been done.

【0003】これらチップ型固体電解コンデンサ51に
使用されるリードフレームは、例えば実開昭62−89
126号の第5図或いは第6図に示されるような構造の
もので、コンデンサ素子から導出した陽極導出線を陽極
のリードフレームに溶接するとともに、前記陰極層をそ
の外周に有するコンデンサ素子の本体部を陰極のリード
フレームに半田等により接着した後、エポキシ樹脂等に
よるトランスファーモールドによりコンデンサ素子を樹
脂封止し、さらにリードフレームを切断して形成した外
部リードを外装に沿って折り曲げてチップ型固体電解コ
ンデンサが構成されている。
The lead frame used in these chip-type solid electrolytic capacitors 51 is, for example, Shoukai 62-89.
No. 126 has a structure as shown in FIG. 5 or FIG. 6 and has a main body of a capacitor element in which an anode lead wire derived from the capacitor element is welded to an anode lead frame and the cathode layer is provided on the outer periphery thereof. Part is attached to the lead frame of the cathode by soldering, etc., the capacitor element is resin-sealed by transfer molding with epoxy resin, etc., and the external lead formed by cutting the lead frame is bent along the exterior to form a chip-type solid. An electrolytic capacitor is configured.

【0004】しかしながら、このようなチップ型固体電
解コンデンサ51は、陽極導出線54と陽極リード55
との溶接部分をも樹脂53にて被覆する構造となってい
るため、コンデンサ全体の大きさに対するコンデンサ素
子52の占める体積が小さく、小型で且つ大容量を有す
るコンデンサヘの要求に対して十分に対応できるもので
はなかった。
However, such a chip-type solid electrolytic capacitor 51 has an anode lead wire 54 and an anode lead 55.
Since the welded portion of and is also covered with the resin 53, the volume occupied by the capacitor element 52 with respect to the size of the entire capacitor is small, and it is sufficient for the demand for a capacitor having a small size and large capacity. It was not something I could handle.

【0005】このため、図7の特開昭55−86111
号に示すような構造のチップ型固体電解コンデンサ61
が知られている。このチップ型固体電解コンデンサ61
は、外部電極65、66をコンデンサの実装面に設ける
構造とし、外部電極65、66とコンデンサ素子62の
陽極導出線64とを、導電性の補助リード線69を介し
て接続したものである。
For this reason, Japanese Patent Laid-Open No. 55-86111 in FIG.
Chip type solid electrolytic capacitor 61 having a structure as shown in FIG.
It has been known. This chip type solid electrolytic capacitor 61
Is a structure in which the external electrodes 65 and 66 are provided on the mounting surface of the capacitor, and the external electrodes 65 and 66 and the anode lead wire 64 of the capacitor element 62 are connected via a conductive auxiliary lead wire 69.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】以上のような構造のチ
ップ型固体電解コンデンサにおいては、陽極導出線と陽
極端子との接合は、スポット溶接などの抵抗溶接法によ
って行われていた。ところで、抵抗溶接法によって接合
すると、陽極端子と陽極導出線の接触部分で溶接される
ことになるが、コンデンサ素子での陽極導出線の導出位
置のばらつきや、コンデンサ素子をリードフレームに載
置した際の搭載位置によって、陽極導出線と陽極端子の
接触位置が異なり、溶接位置がばらついてしまうことが
あった。そして、陽極端子と陽極導出線が接触していな
い場合には溶接されない等の問題が発生する場合もあっ
た。
In the chip type solid electrolytic capacitor having the above structure, the anode lead wire and the anode terminal are joined by resistance welding such as spot welding. By the way, when joining by the resistance welding method, welding is performed at the contact portion between the anode terminal and the anode lead wire. However, there are variations in the lead-out position of the anode lead wire in the capacitor element, and the capacitor element is placed on the lead frame. Depending on the mounting position, the contact position between the anode lead wire and the anode terminal may differ, and the welding position may fluctuate. If the anode terminal and the anode lead wire are not in contact with each other, problems such as welding may not occur.

【0007】そこで、出願人は上記した問題点に着目
し、前記陽極端子と前記陰極端子となるリードフレーム
の、陽極端子となる部分に起立部を設け、該リードフレ
ームにコンデンサ素子を搭載して前記起立部と陽極導出
線の側面を近接させた後、前記起立部の側からのレーザ
ー照射により、前記陽極端子の一部を融解して前記陽極
導出線に接合することにより解決できることを見い出
し、先に出願を行った(特願2000−34682
3)。
Therefore, the Applicant pays attention to the above-mentioned problems, and provides a standing portion at a portion which becomes an anode terminal of a lead frame which becomes the anode terminal and the cathode terminal, and mounts a capacitor element on the lead frame. After bringing the side surfaces of the standing portion and the anode lead wire close to each other, by laser irradiation from the side of the standing portion, it is found that a part of the anode terminal can be melted and joined to the anode lead wire to solve the problem. I filed an application earlier (Japanese Patent Application No. 2000-34682)
3).

【0008】しかしながら、チップ型固体電解コンデン
サでは、リードフレームにコンデンサ素子を搭載する
際、リードフレームとコンデンサ素子間の電気抵抗値を
低減させ、チップ型固体電解コンデンサの一層の低ES
R化を図るために、リードフレームにメッキを施し、リ
ードフレームと導電性接着材との接合性を向上させるこ
とによって、コンデンサ素子と陰極層との接触抵抗を低
減させることが行われる場合がある。
However, in the chip type solid electrolytic capacitor, when the capacitor element is mounted on the lead frame, the electric resistance value between the lead frame and the capacitor element is reduced, and the chip type solid electrolytic capacitor is further reduced in ES.
In order to achieve R, the lead frame may be plated to improve the bondability between the lead frame and the conductive adhesive material, thereby reducing the contact resistance between the capacitor element and the cathode layer. .

【0009】このようなメッキが施されたリードフレー
ムを用いると、コンデンサ素子の陰極層とリードフレー
ムとの接触抵抗の低減、そして、接合強度の増大が図れ
るため好適であるが、リードフレームとコンデンサ素子
の陽極導出線をレーザー溶接にて接合する場合には不都
合があることが判明した。
The use of such a plated lead frame is preferable because the contact resistance between the cathode layer of the capacitor element and the lead frame can be reduced and the joint strength can be increased, but the lead frame and the capacitor are preferable. It has been found that there is a problem in joining the anode lead wire of the element by laser welding.

【0010】すなわち、リードフレームにメッキを施し
た場合には、照射されたレーザーが反射する率が多くな
り、レーザーのエネルギーがリードフレームの溶解に寄
与せず、エネルギーの損失が大きくなるという問題があ
った。特にリードフレームの材質としては、鉄−ニッケ
ル合金である42アロイが安価で加工しやすい等の理由
で多用されており、このリードフレームへのメッキとし
ては、銀メッキ、スズメッキ、ニッケルメッキ等が行わ
れる場合が多いが、銀メッキ、スズメッキ、ニッケルメ
ッキ等は42アロイと比べて、レーザーの反射率が高
く、陽極導出線と陽極端子を溶接するのに、エネルギー
の損失が大きく、製造コストを引き上げてしまうという
問題があった。さらに、反射したレーザーが照射部に周
辺にあるコンデンサ素子等に悪影響を及ぼすおそれもあ
った。
That is, when the lead frame is plated, the rate of reflection of the irradiated laser increases, the energy of the laser does not contribute to melting of the lead frame, and the energy loss increases. there were. In particular, as a material for the lead frame, 42 alloy, which is an iron-nickel alloy, is widely used because it is cheap and easy to process. The lead frame is plated with silver, tin, nickel or the like. In many cases, silver plating, tin plating, nickel plating, etc. have higher laser reflectance than 42 alloy, and there is a large energy loss when welding the anode lead wire and anode terminal, increasing the manufacturing cost. There was a problem that it would end up. Further, there is a possibility that the reflected laser may adversely affect the capacitor element and the like around the irradiation part.

【0011】この発明は上記の課題を解決するためのも
ので、陽極導出線と陽極端子との接続が確実に、かつ効
率的に行われるチップ型固体電解コンデンサの製造方法
を提供することを目的としている。
The present invention is intended to solve the above problems, and an object thereof is to provide a method for manufacturing a chip-type solid electrolytic capacitor in which the anode lead wire and the anode terminal are securely and efficiently connected. I am trying.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】この発明は、棒状の陽極
導出線を埋設する陽極体の表面に誘電体酸化皮膜を形成
し、さらに固体電解質層と陰極層とを順次積層形成し
て、その外周が前記陰極層とされたコンデンサ素子と、
該コンデンサ素子を被覆する外装樹脂とを具備し、前記
コンデンサ素子の陽極導出線並びに陰極層にそれぞれ接
続された陽極端子と陰極端子を各端子の一部が少なくと
もチップ型固体電解コンデンサの実装面で露出するよう
に形成して成るチップ型固体電解コンデンサの製造方法
において、鉄−ニッケル合金で形成され、表面にメッキ
が施された前記陽極端子と前記陰極端子となるリードフ
レームの陽極端子に起立部を設けるとともに、少なくと
も該起立部は非メッキ部とし、前記リードフレームにコ
ンデンサ素子を搭載して前記起立部と陽極導出線の側面
を近接させた後、前記起立部の側からのレーザー照射に
より、前記陽極端子の一部を融解して前記陽極導出線に
接合したことを特徴としている。
According to the present invention, a dielectric oxide film is formed on the surface of an anode body in which a rod-shaped anode lead wire is embedded, and a solid electrolyte layer and a cathode layer are successively laminated to form a dielectric oxide film. A capacitor element whose outer periphery is the cathode layer,
An outer resin covering the capacitor element, and an anode terminal and a cathode terminal respectively connected to the anode lead wire and the cathode layer of the capacitor element, at least a part of each terminal being at least a mounting surface of the chip type solid electrolytic capacitor. In a method of manufacturing a chip-type solid electrolytic capacitor formed so as to be exposed, a standing portion is formed on an anode terminal of a lead frame which is an iron-nickel alloy and whose surface is plated and the cathode terminal. With the provision of at least the rising portion is a non-plated portion, the capacitor element is mounted on the lead frame to bring the side surfaces of the rising portion and the anode lead wire close to each other, and then by laser irradiation from the standing portion side, It is characterized in that a part of the anode terminal is melted and joined to the anode lead wire.

【0013】鉄−ニッケル合金をリードフレームの材質
として用い、リードフレームにメッキを施した場合で
も、本発明のように陽極端子の起立部を非メッキ部とし
たことにより、レーザーが照射される部分は鉄−ニッケ
ル合金が露出することになり、レーザーを照射した際の
レーザーの反射率が小さい。このため、起立部と陽極導
出線を溶接するのに、レーザーのエネルギーの損失が少
なくなる。
Even when the iron-nickel alloy is used as the material of the lead frame and the lead frame is plated, the portion where the laser beam is radiated by forming the anode terminal upright portion as the non-plated portion as in the present invention. Means that the iron-nickel alloy is exposed, and the reflectance of the laser when irradiated with the laser is small. Therefore, the energy loss of the laser is reduced in welding the standing portion and the anode lead wire.

【0014】前述のチップ型固体電解コンデンサの製造
方法においては、リードフレームにコンデンサ素子を搭
載した際に起立部と陽極導出線の側面を当接させると好
適である。
In the above-described method for manufacturing a chip type solid electrolytic capacitor, it is preferable that the standing portion and the side surface of the anode lead wire are brought into contact with each other when the capacitor element is mounted on the lead frame.

【0015】この発明の製造方法によれば、起立部を設
けたリードフレームにコンデンサ素子を搭載する際に、
起立部にコンデンサ素子の陽極導出線に当接させるた
め、起立部をコンデンサ素子の位置決め基準とすること
ができる。そのため、レーザー溶接する箇所を一定とす
ることができ、確実な接合が得られる。
According to the manufacturing method of the present invention, when the capacitor element is mounted on the lead frame provided with the rising portion,
Since the standing portion is brought into contact with the anode lead wire of the capacitor element, the standing portion can be used as a positioning reference for the capacitor element. Therefore, it is possible to keep the number of laser-welded portions constant and to obtain reliable joining.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施形態を説明する。 (実施例)図1は本実施例のチップ型固体電解コンデン
サの構造を示す斜視図であり、図2は、本実施例のチッ
プ型固体電解コンデンサを示す断面図であり、(a)は
正面図からみた図、(b)は側面からみた図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Embodiment) FIG. 1 is a perspective view showing a structure of a chip type solid electrolytic capacitor of the present embodiment, FIG. 2 is a sectional view showing a chip type solid electrolytic capacitor of the present embodiment, and FIG. The figure seen from the figure, (b) is the figure seen from the side.

【0017】本実施例のチップ型固体電解コンデンサ1
は、図1に示すように、コンデンサ素子2と、該コンデ
ンサ素子2の側面から導出された陽極導出線4が溶接に
て接続される陽極端子5と、該陽極端子5と前記コンデ
ンサ素子2を挟んで対向する側に、該コンデンサ素子2
の下方に配置されるとともに、該コンデンサ素子2の外
周部下面と導電性接着剤10にて電気的並びに機械的に
接合された陰極端子6と、これら陽極端子5並びに陰極
端子6の露出部を除く部分を、前記コンデンサ素子2を
被覆するように覆う外装樹脂3とから主に構成されてい
る。
Chip type solid electrolytic capacitor 1 of this embodiment
As shown in FIG. 1, a capacitor element 2, an anode terminal 5 to which an anode lead wire 4 led out from the side surface of the capacitor element 2 is connected by welding, and the anode terminal 5 and the capacitor element 2 are connected to each other. The capacitor element 2 is provided on the opposite sides of the capacitor element 2.
The cathode terminal 6 which is arranged below the outer peripheral portion of the capacitor element 2 and is electrically and mechanically joined to the lower surface of the outer peripheral portion of the capacitor element 2 by the conductive adhesive 10, and the exposed portions of the anode terminal 5 and the cathode terminal 6. The part to be removed is mainly composed of an exterior resin 3 covering the capacitor element 2 so as to cover it.

【0018】前記コンデンサ素子2としては、従来より
固体電解コンデンサ素子として使用されている素子、例
えばタンタルのような弁金属粉末を成型して焼結するこ
とにより得た陽極体とし、高純度のタンタルからなる棒
状の陽極導出線4を埋設したものである。そして陽極体
の表面に陽極酸化により誘電体となる酸化皮膜を形成
し、この陽極体上に二酸化マンガンなどの固体電解質層
と、カーボンや銀ペーストから成る陰極層とを積層形成
することにより得られるコンデンサ素子等を好適に使用
することができる。尚、前記固体電解質としてポリピロ
ール等の高分子電解質を用いたもの等も使用することが
できる。
The capacitor element 2 is an element conventionally used as a solid electrolytic capacitor element, for example, an anode body obtained by molding and sintering a valve metal powder such as tantalum. The rod-shaped anode lead wire 4 made of is embedded. Then, it is obtained by forming an oxide film which becomes a dielectric on the surface of the anode body by anodization and laminating a solid electrolyte layer such as manganese dioxide and a cathode layer made of carbon or silver paste on the anode body. A capacitor element or the like can be preferably used. It is also possible to use a polymer electrolyte such as polypyrrole as the solid electrolyte.

【0019】この本実施例に用いた前記陽極端子5は、
陽極端子5の露出部から連続するようにV字状に折り曲
げられた起立部15を有している。そして、起立部15
の一側面が陽極導出線4の側面と当接するようになる。
陽極端子5はコンデンサ素子2の下面に配置されている
ので、該コンデンサ素子2の下面と陽極端子5が当接す
ると、コンデンサ素子2の表面に形成されている陰極層
を介して該陽極端子5と陰極端子6とが短絡することか
ら、該コンデンサ素子2の下面との間に絶縁樹脂9が介
在するように、前記陽極端子5の上面に絶縁樹脂9が設
けられている。
The anode terminal 5 used in this embodiment is
The standing portion 15 is bent in a V shape so as to be continuous from the exposed portion of the anode terminal 5. And the standing portion 15
One side surface comes into contact with the side surface of the anode lead wire 4.
Since the anode terminal 5 is arranged on the lower surface of the capacitor element 2, when the lower surface of the capacitor element 2 and the anode terminal 5 come into contact with each other, the anode terminal 5 is interposed via the cathode layer formed on the surface of the capacitor element 2. And the cathode terminal 6 are short-circuited, the insulating resin 9 is provided on the upper surface of the anode terminal 5 so that the insulating resin 9 is interposed between the capacitor element 2 and the lower surface thereof.

【0020】以下、本実施例のチップ型固体電解コンデ
ンサ1をその製造工程に沿って説明する。まず、本実施
例において前記陽極端子5と陰極端子6とは、図2に示
すような形状であり、複数のコンデンサ素子2が実装可
能とされたリードフレーム11により形成されている。
このリードフレーム11は、図3に示すような形状のも
ので、板状の金属板をプレスないし折り曲げ加工等によ
り、陽極端子となる部分に起立部15が形成されてい
る。なお、この図3におけるリードフレームは、搭載さ
れるコンデンサ素子の周辺部分のみを表示したものであ
り、実際に使用されるリードフレームは図3に示したリ
ードフレームを一単位として、前後左右に連結させたも
のを用いている。この起立部15の高さは、後に説明す
るコンデンサ素子をリードフレームに搭載した際のコン
デンサ素子の陽極導出線の位置よりも高く形成されてい
る。起立部15の形成方法としては、リードフレーム1
1の一部を折り曲げるようにして形成すると、板状の金
属からリードフレームにプレス加工する工程と同時に起
立部を形成することができるので、作業工程が簡略なも
のとなり好ましい。
The chip type solid electrolytic capacitor 1 of this embodiment will be described below along with its manufacturing process. First, in this embodiment, the anode terminal 5 and the cathode terminal 6 have a shape as shown in FIG. 2, and are formed by a lead frame 11 on which a plurality of capacitor elements 2 can be mounted.
The lead frame 11 has a shape as shown in FIG. 3, and an upright portion 15 is formed in a portion to be an anode terminal by pressing or bending a plate-shaped metal plate. The lead frame in this FIG. 3 shows only the peripheral portion of the mounted capacitor element, and the lead frame actually used is connected to the front, rear, left and right with the lead frame shown in FIG. 3 as one unit. I am using what I made. The height of the standing portion 15 is higher than the position of the anode lead wire of the capacitor element when the capacitor element described later is mounted on the lead frame. As a method of forming the standing portion 15, the lead frame 1
It is preferable to form part of 1 by bending, since the standing portion can be formed at the same time as the step of pressing the lead frame from the plate-shaped metal, and the working process is simplified.

【0021】なお、このリードフレーム11の材質とし
てとしては、42%のニッケルを含有する鉄合金(鉄−
ニッケル合金)である42アロイを用いている。そし
て、リードフレーム11には、銀メッキ12が施されて
いる。この銀メッキは、リードフレーム11の陰極端子
6となる部分にのみ形成されている。このようにリード
フレーム11に部分的にメッキするには、部分メッキを
する方法や、全面メッキを施した後に、必要部分を除去
する等の方法によって形成することができる。また、こ
の銀メッキ12はリードフレーム11に起立部15を形
成する前に施しても良く、起立部15を形成した後に施
しても良い。
The material of the lead frame 11 is an iron alloy (iron-containing 42% nickel).
42 alloy which is a nickel alloy) is used. The lead frame 11 is plated with silver 12. The silver plating is formed only on the portion of the lead frame 11 that will be the cathode terminal 6. In order to partially plate the lead frame 11 as described above, it is possible to form it by a method of performing partial plating or a method of removing the necessary portion after performing the entire surface plating. Further, the silver plating 12 may be applied before forming the rising portions 15 on the lead frame 11, or may be applied after forming the rising portions 15.

【0022】また、銀メッキ12をする部位は、起立部
15に銀メッキ12が施されていなければ、他のどの部
位にメッキが施されていても良いが、銀メッキは高価な
ため、リードフレーム11の陰極端子6となる部分のみ
へのメッキとすることが好ましい。さらにメッキの種類
としては、銀メッキの他、スズメッキ、ニッケルメッキ
等の手段を選択することができる。
In addition, the silver plated portion 12 may be plated on any other portion as long as the upright portion 15 is not plated with silver, but since silver plating is expensive, the lead is used. It is preferable to plate only the portion of the frame 11 to be the cathode terminal 6. Further, as the type of plating, other than silver plating, tin plating, nickel plating, or the like can be selected.

【0023】そして、このリードフレーム11の陽極端
子5となる部分の上面に、図4(a)に示すように塗料
を塗布、乾燥させて絶縁樹脂9を形成する。本実施例に
おいては、これら塗料を塗布の方法として、図示しない
インクジェットノズルを用いてリードフレーム11の該
当部位に、絶縁樹脂9の厚みが十分な絶縁性が得られる
厚みとなるように塗料を塗布、乾操させて形成をしてい
るが、本発明はこれに限定されるものではなく、これら
絶縁樹脂9の形成方法としては任意の方法を用いること
ができる。
Then, as shown in FIG. 4A, a coating material is applied to the upper surface of the portion of the lead frame 11 to be the anode terminal 5 and dried to form the insulating resin 9. In the present embodiment, as a method of applying these paints, an ink jet nozzle (not shown) is used to apply the paint to the relevant portion of the lead frame 11 so that the thickness of the insulating resin 9 is a thickness that provides sufficient insulation. However, the present invention is not limited to this, and any method can be used as a method for forming these insulating resins 9.

【0024】なお、前記インクジェットノズルによる塗
布、乾燥においては、ピンホールのない良好な絶縁樹脂
層を形成できるように、塗布、乾燥を複数回に渡り繰返
し実施するようになっている。
In the coating and drying by the ink jet nozzle, the coating and drying are repeated a plurality of times so that a good insulating resin layer without pinholes can be formed.

【0025】また、これら絶縁樹脂9としては、乾燥工
程の効率化とともに、樹脂の固形分の高さから容易に比
較的厚みの大きな塗膜を得られることから、本実施例で
は紫外線硬化樹脂を使用しているが、本発明はこれに限
定されるものではない。
Further, as the insulating resin 9, a UV-curable resin is used in the present embodiment because a coating film having a relatively large thickness can be easily obtained from the height of the solid content of the resin as well as the efficiency of the drying process. Although used, the invention is not so limited.

【0026】これら絶縁樹脂9の形成後に、図4(b)
に示すように、陰極端子6となる部分の上面に、銀ペー
スト等の導電性接着材7を塗布形成し、該塗布後に図4
(c)に示すようにコンデンサ素子2を実装する。リー
ドフレーム11の陰極端子6となる部分の上面には、銀
メッキが施されており、導電性接着材7との密着性が良
い。このため、銀メッキ層と導電性接着材7層との界面
での接触抵抗が低減し、固体電解コンデンサの低ESR
化を図ることができる。
After the insulating resin 9 is formed, as shown in FIG.
As shown in FIG. 4, a conductive adhesive 7 such as a silver paste is applied and formed on the upper surface of the portion to be the cathode terminal 6, and after the application, the conductive adhesive 7 is formed as shown in FIG.
The capacitor element 2 is mounted as shown in (c). The upper surface of the portion of the lead frame 11 that becomes the cathode terminal 6 is plated with silver, and has good adhesion with the conductive adhesive 7. Therefore, the contact resistance at the interface between the silver plating layer and the conductive adhesive 7 layer is reduced, and the low ESR of the solid electrolytic capacitor is reduced.
Can be realized.

【0027】リードフレーム11へのコンデンサ素子2
の実装の際には、起立部15がリードフレーム11に対
するコンデンサ素子2の位置決めの基準となる。従っ
て、リードフレーム11での起立部15の形成形状を一
様なものとしておくことにより、コンデンサ素子2を常
に同じ位置に搭載することが容易となる。このように、
起立部15にコンデンサ素子2の陽極導出線4を当接さ
せるようにして、コンデンサ素子2をリードフレーム1
1に搭載すると、コンデンサ素子2のリードフレーム1
1に対しての位置決めが容易となるから好ましいが、後
に説明するレーザー溶接によって、陽極導出線4とリー
ドフレーム11が接合が可能な程度に起立部15と陽極
導出線4を近接させておくだけでも良い。
Capacitor element 2 for lead frame 11
When mounting, the upright portion 15 serves as a reference for positioning the capacitor element 2 with respect to the lead frame 11. Therefore, by making the formation shape of the rising portion 15 on the lead frame 11 uniform, it becomes easy to always mount the capacitor element 2 at the same position. in this way,
The capacitor element 2 is attached to the lead frame 1 so that the anode lead wire 4 of the capacitor element 2 is brought into contact with the upright portion 15.
1 mounted on the lead frame 1 of the capacitor element 2
It is preferable because it can be easily positioned with respect to No. 1. However, the upright portion 15 and the anode lead wire 4 need only be brought close to each other by the laser welding described later so that the anode lead wire 4 and the lead frame 11 can be joined. But good.

【0028】なお、起立部15を陽極導出線4の側面と
接触するような構成とすると、陽極導出線3と陽極端子
5の接合面積を大きなものとすることができると同時
に、完成したチップ型固体電解コンデンサ本体の長さ方
向を小さなものとすることができるようになる。
If the standing portion 15 is in contact with the side surface of the anode lead wire 4, the joint area between the anode lead wire 3 and the anode terminal 5 can be increased, and at the same time, the completed chip die can be formed. The length of the solid electrolytic capacitor body can be reduced.

【0029】導電性接着材7としては、接続する前記コ
ンデンサ素子2の下面が前述のようにカーボンや銀ペー
ストから成る陰極層が露出していることから、これら陰
極層との接着性等の観点から、通常においてIC等のマ
ウントに使用される銀系の導電性接着材7が好適に使用
されるが、本発明はこれに限定されるものではなく、こ
れら導電性接着材7に代えて半田ペースト等を塗布して
おき、コンデンサ素子2の搭載後において該半田ペース
トを溶融させてコンデンサ素子2を固定、実装するよう
にしても良い。この場合には、導電性接着材7との密着
性の良い金属を選択し、リードフレーム11の陰極端子
となる部分にメッキを施しておくと好適である。
As the conductive adhesive 7, since the cathode layer made of carbon or silver paste is exposed on the lower surface of the capacitor element 2 to be connected, as described above, the adhesiveness to these cathode layers is taken into consideration. Therefore, the silver-based conductive adhesive 7 that is usually used for mounting ICs and the like is preferably used, but the present invention is not limited to this, and the conductive adhesive 7 may be replaced by solder. Alternatively, a paste or the like may be applied, and after mounting the capacitor element 2, the solder paste may be melted to fix and mount the capacitor element 2. In this case, it is preferable to select a metal that has good adhesion to the conductive adhesive 7 and plate the portion of the lead frame 11 that will become the cathode terminal.

【0030】そして、図4(d)に示すように、前記陽
極導出線4と前記起立部15とをレーザー溶接にて接続
する。この際、レーザー10の照射は陽極端子6の起立
部15側より行う。起立部15には銀メッキが施されて
おらず、42アロイが露出しているため、レーザー10
の反射率が低い。そのため、照射したレーザー10のエ
ネルギーが効率よく起立部15の溶解に寄与し、エネル
ギー効率が高くなる。なお、発明者による測定による
と、42アロイでの反射率は約40%であるのに対し、
銀メッキした表面での反射率は96.4%と、同じく銅
メッキの場合には90.1%、スズメッキの場合には5
4.0%、ニッケルメッキの場合には72.0%であ
り、42アロイを露出した面のレーザーの反射率が極め
て低いことが判っている。
Then, as shown in FIG. 4D, the anode lead wire 4 and the rising portion 15 are connected by laser welding. At this time, the irradiation of the laser 10 is performed from the standing portion 15 side of the anode terminal 6. Since the standing portion 15 is not silver-plated and 42 alloy is exposed, the laser 10
Has a low reflectance. Therefore, the energy of the irradiated laser 10 efficiently contributes to the melting of the standing portion 15, and the energy efficiency is increased. According to the measurement by the inventor, the reflectance of 42 alloy is about 40%, while
The reflectance on the silver-plated surface is 96.4%, similarly 90.1% for copper plating and 5 for tin plating.
It is 4.0% and 72.0% in the case of nickel plating, and it is known that the reflectance of the laser on the surface where 42 alloy is exposed is extremely low.

【0031】さらに、このレーザー10の照射は、図8
に示すように、起立部15の側面(レーザー照射面)に
対し40度以上の角度となるように入射角を設定して照
射すると効果的である。
Further, the irradiation of the laser 10 is performed as shown in FIG.
It is effective to set the incident angle so as to form an angle of 40 degrees or more with respect to the side surface (laser irradiation surface) of the rising portion 15 as shown in FIG.

【0032】金属にレーザーを照射すると、レーザーが
金属表面で反射して、入射したエネルギーの損失が発生
するが、レーザー照射面に対するレーザーの入射角が4
0度以上の角度となるようにすると、金属表面で反射す
る率が低減し、レーザーのエネルギーを効率良く金属の
融解に用いることができる。
When a metal is irradiated with a laser, the laser reflects on the metal surface to cause a loss of incident energy, but the incident angle of the laser with respect to the laser irradiation surface is 4
When the angle is 0 ° or more, the rate of reflection on the metal surface is reduced, and the laser energy can be efficiently used for melting the metal.

【0033】起立部15側よりレーザー10を照射する
ことにより、起立部15を構成する金属が融解して、陽
極導出線4を取り囲むようになる。このレーザー溶接結
果、起立部15と陽極導出線4の接合面積が増加し、接
合強度も増すとともに接触抵抗の低減を図ることができ
る。また、この発明の実施の形態の中では、陽極導出線
4として高純度のタンタルを用い、リードフレーム11
として42アロイを用いている。タンタルの融点が29
96℃で、42アロイの融点が約1450℃であるた
め、リードフレーム11の側からレーザー照射をした場
合には、タンタルで形成された陽極導出線4が融解せ
ず、42アロイで形成されたリードフレーム11のみが
融解する。このように、リードフレーム11を陽極導出
線4よりも低融点の材質を用いていると陽極導出線の形
状が変形することが無く、溶接位置や接合強度の制御が
容易となるので好ましい。
By irradiating the laser 10 from the upright portion 15 side, the metal forming the upright portion 15 is melted to surround the anode lead wire 4. As a result of this laser welding, the joint area between the upright portion 15 and the anode lead wire 4 is increased, the joint strength is increased, and the contact resistance can be reduced. Further, in the embodiment of the present invention, high purity tantalum is used as the anode lead wire 4, and the lead frame 11
42 alloy is used. The melting point of tantalum is 29
At 96 ° C., the melting point of 42 alloy is about 1450 ° C. Therefore, when laser irradiation was performed from the side of the lead frame 11, the anode lead wire 4 made of tantalum did not melt but was formed of 42 alloy. Only the lead frame 11 melts. As described above, when the lead frame 11 is made of a material having a melting point lower than that of the anode lead wire 4, the shape of the anode lead wire is not deformed, and the welding position and the joint strength are easily controlled, which is preferable.

【0034】なお、レーザー照射を起立部15のレーザ
ー照射面に対して40度以上の角度で行えるようにする
ために、起立部15の高さをコンデンサ素子2の陽極導
出線4の位置よりも高いものとする。このような形状と
すると、レーザーの照射を上又は横から行うことがで
き、陽極端子等がレーザーの照射の障害となることがな
い。そのため、レーザー照射面に対するレーザーの入射
角を40度以上の任意の角度に設定してレーザー照射を
行うことができるようになる。
In order to perform laser irradiation at an angle of 40 degrees or more with respect to the laser irradiation surface of the standing portion 15, the height of the standing portion 15 is set to be higher than the position of the anode lead wire 4 of the capacitor element 2. It should be expensive. With such a shape, laser irradiation can be performed from above or from the side, and the anode terminal or the like does not interfere with laser irradiation. Therefore, the laser irradiation can be performed by setting the incident angle of the laser with respect to the laser irradiation surface to an arbitrary angle of 40 degrees or more.

【0035】さらに、前記導電性接着材7の乾燥或いは
硬化を行ってコンデンサ素子2を固定する。
Further, the conductive adhesive 7 is dried or cured to fix the capacitor element 2.

【0036】次いで、図4(e)に示すように、コンデ
ンサ素子及び前記リードフレーム11の全体に外装樹脂
3となる封止樹脂で被覆するとともに、該外装樹脂3を
硬化させる。
Next, as shown in FIG. 4 (e), the entire capacitor element and the lead frame 11 are covered with a sealing resin to be the exterior resin 3, and the exterior resin 3 is cured.

【0037】これら外装樹脂3としては、従来のトラン
スファーモールド成型に使用されるモールド樹脂である
エポキシアクリレート等のエポキシ系樹脂を好適に使用
することができるとともに、基板実装時の半田耐熱に耐
えられる耐熱性を有し、適宜な加熱状態或いは常温にお
いて液体状態を得ることができる樹脂であれば好適に使
用することができる。
As the exterior resin 3, an epoxy resin such as epoxy acrylate, which is a molding resin used in conventional transfer molding, can be preferably used, and at the same time, heat resistance that can withstand solder heat during mounting on a substrate. Any resin having properties and capable of obtaining a liquid state at an appropriate heating state or room temperature can be suitably used.

【0038】前記外装樹脂3が適宜な硬化状態となった
後に、所定位置でチップ型固体電解コンデンサの連続体
を切り出して、個々のチップ型固体電解コンデンサ1が
得られる。
After the exterior resin 3 has been appropriately cured, a continuous body of the chip type solid electrolytic capacitors is cut out at a predetermined position to obtain individual chip type solid electrolytic capacitors 1.

【0039】以上、本発明を図面に基づいて説明してき
たが、本発明はこれら前記実施例に限定されるものでは
なく、本発明の主旨を逸脱しない範囲での変更や追加が
あっても、本発明に含まれることは言うまでもない。例
えば、陽極端子の形状としては、図5(a)及び(b)
に示すような、陽極端子5に切り込みを入れ、起立部1
5を垂直に切り起こした形状のものでもよい。
The present invention has been described above with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and even if there are changes and additions without departing from the spirit of the present invention, Needless to say, it is included in the present invention. For example, as the shape of the anode terminal, as shown in FIGS.
Make a notch in the anode terminal 5 as shown in Fig.
A shape obtained by vertically cutting 5 may be used.

【0040】[0040]

【発明の効果】請求項1の発明によると、鉄−ニッケル
合金で形成され、表面にメッキが施された前記陽極端子
と前記陰極端子となるリードフレームの陽極端子に起立
部を設けるとともに、少なくとも該起立部は非メッキ部
とし、前記リードフレームにコンデンサ素子を搭載して
前記起立部と陽極導出線の側面を近接させた後、前記起
立部の側からのレーザー照射により、前記陽極端子の一
部を融解して前記陽極導出線に接合したため、起立部で
のレーザーの反射率が低く、レーザーのエネルギーが効
率的に起立部を融解し、陽極導出線との溶接が図られる
ようになる。また、反射したレーザーがコンデンサ素子
等の周囲の部位の悪影響を及ぼすことも防止できる。
According to the first aspect of the present invention, a standing portion is provided on at least the anode terminal of the lead frame which is made of an iron-nickel alloy and whose surface is plated, and the anode terminal of the lead frame which serves as the cathode terminal. The standing portion is a non-plated portion, a capacitor element is mounted on the lead frame to bring the side surfaces of the standing portion and the anode lead-out wire close to each other, and then laser irradiation from the side of the standing portion causes one of the anode terminals to move. Since the portion is melted and joined to the anode lead wire, the reflectance of the laser at the standing portion is low, the laser energy efficiently melts the standing portion, and welding with the anode lead wire can be achieved. Further, it is possible to prevent the reflected laser from adversely affecting surrounding parts such as the capacitor element.

【0041】請求項2の発明によると、起立部を設けた
リードフレームにコンデンサ素子を搭載するため、起立
部をコンデンサ素子の位置決め基準とすることができ
る。そのため、レーザー溶接する箇所を一定とすること
ができ、確実な接合が得られるようになる。
According to the second aspect of the present invention, since the capacitor element is mounted on the lead frame provided with the rising portion, the rising portion can be used as a positioning reference for the capacitor element. Therefore, it is possible to keep the number of laser-welded parts constant and to obtain reliable joining.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明のチップ型固体電解コンデンサを示す
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a chip type solid electrolytic capacitor of the present invention.

【図2】この発明のチップ型固体電解コンデンサの内部
構造を示す断面図であり、(a)は正面から見た図、
(b)は側面から見た図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the internal structure of the chip-type solid electrolytic capacitor of the present invention, FIG.
(B) is the figure seen from the side surface.

【図3】この発明で用いるリードフレームを示す斜視図
である。
FIG. 3 is a perspective view showing a lead frame used in the present invention.

【図4】この発明のチップ型固体電解コンデンサの製造
方法を示す説明図で、(a)〜(e)はそれぞれ製造工
程を表し、鎖線より左は正面から見た図、鎖線より右は
側面から図である。
FIG. 4 is an explanatory view showing a method for manufacturing a chip type solid electrolytic capacitor of the present invention, in which (a) to (e) respectively represent manufacturing steps, the left side of the chain line is a front view, and the right side of the chain line is a side surface. It is a figure from.

【図5】この発明の別の実施例を示す断面図であり、
(a)は正面から見た図、(b)は側面から見た図であ
る。
FIG. 5 is a sectional view showing another embodiment of the present invention,
(A) is the figure seen from the front, (b) is the figure seen from the side.

【図6】従来のチップ型固体電解コンデンサを示す断面
図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a conventional chip type solid electrolytic capacitor.

【図7】従来のチップ型固体電解コンデンサを示す断面
図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a conventional chip type solid electrolytic capacitor.

【図8】起立部に対するレーザーの照射角度を説明する
図面である。
FIG. 8 is a diagram illustrating an irradiation angle of a laser with respect to a standing portion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チップ型固体電解コンデンサ 2 コンデンサ素子 3 外装樹脂 4 陽極導出線 5 陽極端子 6 陰極端子 7 導電性接着材 9 絶縁樹脂 10 レーザー 12 銀メッキ 15 起立部 51 チップ型固体電解コンデンサ 53 外装樹脂 54 陽極導出線 55 陽極端子 56 陰極端子 57 導電性接着材 61 チップ型固体電解コンデンサ 63 外装樹脂 64 陽極導出線 65 陽極端子 66 陰極端子 67 導電性接着材 68 絶縁部材 69 補助リード線 1 chip type solid electrolytic capacitor 2 Capacitor element 3 Exterior resin 4 Anode lead wire 5 Anode terminal 6 cathode terminal 7 Conductive adhesive 9 Insulating resin 10 laser 12 silver plating 15 Standing part 51 Chip type solid electrolytic capacitor 53 Exterior resin 54 Anode lead wire 55 Anode terminal 56 cathode terminal 57 Conductive adhesive 61 Chip type solid electrolytic capacitor 63 Exterior resin 64 Anode lead wire 65 Anode terminal 66 cathode terminal 67 Conductive adhesive 68 Insulation member 69 Auxiliary lead wire

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 棒状の陽極導出線を埋設する陽極体の表
面に誘電体酸化皮膜を形成し、さらに固体電解質層と陰
極層とを順次積層形成して、その外周が前記陰極層とさ
れたコンデンサ素子と、該コンデンサ素子を被覆する外
装樹脂とを具備し、前記コンデンサ素子の陽極導出線並
びに陰極層にそれぞれ接続された陽極端子と陰極端子を
各端子の一部が少なくともチップ型固体電解コンデンサ
の実装面で露出するように形成して成るチップ型固体電
解コンデンサの製造方法において、 鉄−ニッケル合金で形成され、表面にメッキが施された
前記陽極端子と前記陰極端子となるリードフレームの陽
極端子に起立部を設けるとともに、少なくとも該起立部
は非メッキ部とし、前記リードフレームにコンデンサ素
子を搭載して前記起立部と陽極導出線の側面を近接させ
た後、前記起立部の側からのレーザー照射により、前記
陽極端子の一部を融解して前記陽極導出線に接合したチ
ップ型固体電解コンデンサの製造方法。
1. A dielectric oxide film is formed on a surface of an anode body in which a rod-shaped anode lead wire is embedded, and a solid electrolyte layer and a cathode layer are sequentially laminated to form an outer periphery of the cathode layer. A chip-type solid electrolytic capacitor comprising a capacitor element and an exterior resin covering the capacitor element, and at least a part of each of the anode terminal and the cathode terminal connected to the anode lead wire and the cathode layer of the capacitor element. In the method for manufacturing a chip-type solid electrolytic capacitor formed so as to be exposed on the mounting surface of, an anode of a lead frame that is an iron-nickel alloy and has a plated surface The terminal is provided with a standing portion, at least the standing portion is a non-plated portion, and a capacitor element is mounted on the lead frame to mount the standing portion and the anode lead wire. After close the sides, the by laser irradiation from the side of the standing portion, a manufacturing method of a chip type solid electrolytic capacitor joined to the anode lead-out wire to melt a portion of the anode terminal.
【請求項2】 リードフレームにコンデンサ素子を搭載
した際に起立部と陽極導出線の側面を当接させた請求項
1に記載のチップ型固体電解コンデンサの製造方法。
2. The method for manufacturing a chip-type solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein when the capacitor element is mounted on the lead frame, the standing portion and the side surface of the anode lead wire are brought into contact with each other.
JP2001302597A 2001-09-28 2001-09-28 Method for manufacturing chip type solid electrolytic capacitor Pending JP2003109849A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001302597A JP2003109849A (en) 2001-09-28 2001-09-28 Method for manufacturing chip type solid electrolytic capacitor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001302597A JP2003109849A (en) 2001-09-28 2001-09-28 Method for manufacturing chip type solid electrolytic capacitor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003109849A true JP2003109849A (en) 2003-04-11

Family

ID=19122811

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001302597A Pending JP2003109849A (en) 2001-09-28 2001-09-28 Method for manufacturing chip type solid electrolytic capacitor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003109849A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007013043A (en) * 2005-07-04 2007-01-18 Nichicon Corp Electrode assembly for mounting electric element, electric component employing the same, and solid electrolytic capacitor
JP2010067876A (en) * 2008-09-12 2010-03-25 Nec Tokin Corp Chip type solid electrolytic capacitor
JP2011249708A (en) * 2010-05-31 2011-12-08 Nichicon Corp Solid electrolytic capacitor
KR20160054811A (en) * 2014-11-07 2016-05-17 삼성전기주식회사 Tantalum capacitor and method of preparing the same
US11170939B2 (en) 2019-08-05 2021-11-09 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Tantalum capacitor including body and lead frame having bent portion forming inclination angle toward the body

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007013043A (en) * 2005-07-04 2007-01-18 Nichicon Corp Electrode assembly for mounting electric element, electric component employing the same, and solid electrolytic capacitor
JP2010067876A (en) * 2008-09-12 2010-03-25 Nec Tokin Corp Chip type solid electrolytic capacitor
JP2011249708A (en) * 2010-05-31 2011-12-08 Nichicon Corp Solid electrolytic capacitor
KR20160054811A (en) * 2014-11-07 2016-05-17 삼성전기주식회사 Tantalum capacitor and method of preparing the same
US10475589B2 (en) * 2014-11-07 2019-11-12 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Tantalum capacitor including an anode lead frame having a bent portion and method of manufacturing the same
KR102176281B1 (en) * 2014-11-07 2020-11-09 삼성전기주식회사 Tantalum capacitor and method of preparing the same
US11170939B2 (en) 2019-08-05 2021-11-09 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Tantalum capacitor including body and lead frame having bent portion forming inclination angle toward the body

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6519135B2 (en) Chip capacitor and method of manufacturing same
JP2004228424A (en) Chip electrolytic capacitor, and manufacturing method thereof
US8062385B2 (en) Solid electrolytic capacitor with improved volumetric efficiency method of making
CN111540597A (en) Coil component and method for manufacturing same
JP4392960B2 (en) Method for manufacturing tantalum electrolytic capacitor
JP2003109849A (en) Method for manufacturing chip type solid electrolytic capacitor
JP2001244145A (en) Solid electrolytic capacitor
JP3128831B2 (en) Method for manufacturing solid electrolytic capacitor
JP2002299165A (en) Chip-type solid electrolytic capacitor
JP4609042B2 (en) Solid electrolytic capacitor and method for producing solid electrolytic capacitor
JP2002203747A (en) Chip type solid-state electrolytic capacitor and method of manufacturing the same
JP2969692B2 (en) Manufacturing method of multilayer solid electrolytic capacitor
JP5170699B2 (en) Chip-type solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
JP4285346B2 (en) Manufacturing method of solid electrolytic capacitor
JP4683179B2 (en) Chip-type solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
JP5009122B2 (en) Chip-type solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
JP2645559B2 (en) Multilayer solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
JP5469960B2 (en) Bottom electrode type solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
JPS6160570B2 (en)
JP2002110461A (en) Solid-state electrolytic chip capacitor
JP4104803B2 (en) Manufacturing method for solid electrolytic capacitors
JP2003197485A (en) Chip solid electrolytic capacitor and manufacturing method therefor
JP2005051051A (en) Solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
JPH1041193A (en) Manufacture of solid electrolytic capacitor
JP2002170742A (en) Chip-type solid electrolytic capacitor