JP2010067876A - Chip type solid electrolytic capacitor - Google Patents

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Yuji Murayama
祐司 村山
Masaya Ishijima
正弥 石嶋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chip type solid electrolytic capacitor capable of reducing cost, and having high reliability in relation to connection of a negative electrode without causing deterioration of a lead frame terminal even by a reflow process. <P>SOLUTION: The chip type solid electrolytic capacitor includes a solid electrolytic capacitive element 1 comprising: a positive electrode body with a positive electrode lead 20 led out therefrom; an oxide film on a surface thereof; a solid electrolyte layer formed on top of it; and a negative electrode extraction layer located on top of it and comprising a graphite layer and a silver paste layer. In the chip type solid electrolytic capacitor, a plate-like lead frame terminal 34 is connected to the negative electrode extraction layer by a conductive adhesive 3, base plated layers are formed on both surfaces of the lead frame terminal 34, a second plated layer 5 formed of a noble metal is formed only on a surface in contact with the conductive adhesive 3 on top of it, and, on other parts identical to that surface and almost over the whole of the back surface thereof, a tin-plated layer 6 is formed on the base plated layer so as not to contact the second plated layer 5 across a region 10 therefrom. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明はタンタル、ニオブ等の弁作用金属を使用したチップ型固体電解コンデンサに関し、特にその電極端子に関する。   The present invention relates to a chip-type solid electrolytic capacitor using a valve action metal such as tantalum or niobium, and more particularly to an electrode terminal thereof.

チップ型固体電解コンデンサは、陽極リードが引き出された弁作用金属からなる陽極体の表面に酸化皮膜を形成し、その酸化皮膜上に固体電解質層を形成し、その固体電解質層上にグラファイト層及び銀ペースト層からなる陰極引き出し層を形成して固体電解コンデンサ素子を作製し、その陽極リードおよび陰極引出し層に板状のリードフレーム端子を接続し、全体を外装樹脂で成型して構成される。   In the chip type solid electrolytic capacitor, an oxide film is formed on the surface of an anode body made of a valve metal from which an anode lead is drawn, a solid electrolyte layer is formed on the oxide film, a graphite layer and a solid electrolyte layer are formed on the solid electrolyte layer. A cathode lead layer made of a silver paste layer is formed to produce a solid electrolytic capacitor element, plate-like lead frame terminals are connected to the anode lead and cathode lead layer, and the whole is molded with an exterior resin.

例えば、タンタルを用いた固体電解コンデンサにおいては、タンタル粉末を成型・焼結した多孔質体に陽極引き出しを目的としたタンタル線が埋設された陽極体を使用している。この陽極体の表面には、陽極酸化法(化成法)によりタンタルの酸化皮膜が形成され、この酸化皮膜が電解コンデンサの誘電体層となる。その上に、例えば二酸化マンガンや導電性高分子などからなる固体電解質層を形成し、更にその上にグラファイト層や銀ペースト層を形成することにより陰極層を形成し、固体電解コンデンサ素子を得る。   For example, in a solid electrolytic capacitor using tantalum, an anode body is used in which a tantalum wire is embedded in a porous body obtained by molding and sintering tantalum powder for the purpose of anode extraction. A tantalum oxide film is formed on the surface of the anode body by an anodic oxidation method (chemical conversion method), and this oxide film becomes a dielectric layer of the electrolytic capacitor. A solid electrolyte layer made of, for example, manganese dioxide or a conductive polymer is formed thereon, and a cathode layer is formed by further forming a graphite layer or a silver paste layer thereon to obtain a solid electrolytic capacitor element.

図7は、上記の従来のチップ型固体電解コンデンサの一例を示す断面図である。固体電解コンデンサ素子1は、外部との電気的接続を得るため、陽極リード20が陽極側のリードフレーム端子4と溶接により接続され、陰極引出し層は導電性接着剤3により陰極側のリードフレーム端子4に接続され、最後に外装樹脂2により成型される。   FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of the conventional chip-type solid electrolytic capacitor. In the solid electrolytic capacitor element 1, the anode lead 20 is connected to the anode side lead frame terminal 4 by welding in order to obtain electrical connection with the outside, and the cathode lead layer is connected to the cathode side lead frame terminal by the conductive adhesive 3. 4 and finally molded by the exterior resin 2.

図8は、従来のリードフレーム端子4の拡大断面図である。従来、図8に示すようにリードフレーム端子4には、母材41の両面に腐食の防止とスズめっき層の母材への拡散防止のための下地めっき層42としてニッケルめっき層を形成し、その上に、融点232℃の低融点金属であるスズめっき層6を形成したものが広く用いられている。しかし、260℃以上となる半田付け時のリフロー処理によりスズめっき層6が溶融するため、導電性接着剤3とリードフレーム端子4の界面に隙間が生じる場合がある。   FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of a conventional lead frame terminal 4. Conventionally, as shown in FIG. 8, in the lead frame terminal 4, a nickel plating layer is formed on both surfaces of the base material 41 as a base plating layer 42 for preventing corrosion and preventing diffusion of the tin plating layer into the base material. On top of that, a material having a tin plating layer 6 which is a low melting point metal having a melting point of 232 ° C. is widely used. However, since the tin plating layer 6 is melted by the reflow process at the time of soldering at 260 ° C. or higher, a gap may be formed at the interface between the conductive adhesive 3 and the lead frame terminal 4.

これを解決するために、近年ではスズめっき層の替わりに高融点金属である金めっき層(融点1064℃)や、パラジウム(融点1555℃)−金からなるめっき層を下地のめっき層の上に形成する技術が知られている。   In order to solve this problem, in recent years, instead of a tin plating layer, a gold plating layer (melting point 1064 ° C.) which is a high melting point metal or a plating layer made of palladium (melting point 1555 ° C.)-Gold is formed on the underlying plating layer. The forming technique is known.

また、特許文献1には、高融点金属によるめっき層形成の領域を少なくするためにリードフレーム端子の片面にのみ金めっき層を形成する技術が示されている。   Patent Document 1 discloses a technique for forming a gold plating layer only on one side of a lead frame terminal in order to reduce a plating layer formation region using a refractory metal.

特開2003−124074号公報JP 2003-124074 A

上述のように、リードフレーム端子にスズめっき層を使用した従来技術では導電性接着剤とリードフレーム界面に隙間が生じ、その隙間に水分が浸入した場合には、その界面において腐食を生じる場合があり、陰極電極の接続に関して高い信頼性を得ることが困難であるという問題があった。   As described above, in the conventional technology using a tin plating layer for the lead frame terminal, a gap is generated at the interface between the conductive adhesive and the lead frame, and if moisture enters the gap, corrosion may occur at the interface. There is a problem that it is difficult to obtain high reliability with respect to the connection of the cathode electrode.

また、スズめっき層の替わりに金やパラジウム−金からなるめっき層を形成した場合には上記の問題を解決することが可能となるが、接続部の信頼性に影響を与えない、導電性接着剤が接する領域以外にもこれらの金属からなるめっき層が形成されているため、リードフレーム端子が高価になっていた。また、特許文献1のようにリードフレーム端子の片面のみに金などのめっき層を形成する場合でもコスト低減効果は十分ではない。   In addition, when a plating layer made of gold or palladium-gold is formed in place of the tin plating layer, the above problem can be solved, but the conductive adhesive does not affect the reliability of the connection portion. Since a plating layer made of these metals is formed in a region other than the region in contact with the agent, the lead frame terminal is expensive. Further, even when a plating layer such as gold is formed only on one side of the lead frame terminal as in Patent Document 1, the cost reduction effect is not sufficient.

これを改善するために、導電性接着剤が接する領域にのみ金やパラジウム−金からなるめっき層を形成し、それ以外の領域にスズめっき層を形成することが考えられるが、この場合、リフロー処理によりスズが溶融すると、スズと金が合金化し、その部分が脆い金属になるという問題がある。   In order to improve this, it is conceivable to form a plating layer made of gold or palladium-gold only in the region where the conductive adhesive is in contact, and to form a tin plating layer in the other region. When tin is melted by the treatment, there is a problem that tin and gold are alloyed and the portion becomes a brittle metal.

そこで、本発明の課題は、低コスト化が可能で、陰極電極の接続に関して高い信頼性を持ち、リフロー処理によってもリードフレーム端子の劣化のないチップ型固体電解コンデンサを提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a chip-type solid electrolytic capacitor that can be reduced in cost, has high reliability with respect to connection of a cathode electrode, and does not deteriorate lead frame terminals even by reflow processing.

上記課題を解決するため、本発明によるチップ型固体電解コンデンサは、陽極リードが引き出された弁作用金属からなる陽極体と、該陽極体の表面に形成された酸化皮膜と、該酸化皮膜上に形成された固体電解質層と、該固体電解質層上に形成されたグラファイト層及び銀ペースト層からなる陰極引き出し層とから構成される固体電解コンデンサ素子を有し、板状のリードフレーム端子が導電性接着剤により前記陰極引き出し層に接続されたチップ型固体電解コンデンサにおいて、前記リードフレーム端子の両面の全面に下地となる第一のめっき層が形成され、該第一のめっき層上の前記導電性接着剤と接する表面にのみ貴金属からなる第二のめっき層が形成されていることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a chip-type solid electrolytic capacitor according to the present invention includes an anode body made of a valve metal from which an anode lead is drawn, an oxide film formed on the surface of the anode body, and an oxide film on the oxide film. It has a solid electrolytic capacitor element composed of a formed solid electrolyte layer and a cathode lead layer composed of a graphite layer and a silver paste layer formed on the solid electrolyte layer, and the plate-like lead frame terminal is conductive In a chip-type solid electrolytic capacitor connected to the cathode lead layer by an adhesive, a first plating layer serving as a base is formed on the entire surface of both surfaces of the lead frame terminal, and the conductivity on the first plating layer A second plating layer made of a noble metal is formed only on the surface in contact with the adhesive.

また、前記リードフレームの前記第二のめっき層が形成された面と同一の面の前記第二のめっき層が形成されていない部分の少なくとも一部にのみ、前記第一のめっき層上にスズめっき層が形成されていてもよい。   Further, tin is formed on the first plating layer only on at least a part of a portion of the lead frame where the second plating layer is not formed on the same surface as the second plating layer is formed. A plating layer may be formed.

また、前記リードフレームの前記第二のめっき層が形成された面と同一の面の前記第二のめっき層が形成されていない部分の少なくとも一部および前記リードフレームの前記第二のめっき層が形成された面の裏面の少なくとも一部において、前記第一のめっき層上にスズめっき層が形成されていてもよい。   In addition, at least a part of a portion of the lead frame on which the second plating layer is formed and the second plating layer of the lead frame are not formed. A tin plating layer may be formed on the first plating layer on at least a part of the back surface of the formed surface.

上記の場合、前記第二のめっき層を形成した領域と前記スズめっき層を形成した領域とが互いに接していないことが望ましい。   In the above case, it is desirable that the region where the second plating layer is formed and the region where the tin plating layer is formed are not in contact with each other.

また、前記固体電解コンデンサ素子を覆う外装樹脂を有し、前記第二のめっき層または前記スズめっき層のいずれも形成されていない領域は前記外装樹脂の内部にのみ存在してもよい。   Moreover, it has exterior resin which covers the said solid electrolytic capacitor element, and the area | region where neither said 2nd plating layer nor said tin plating layer is formed may exist only in the inside of said exterior resin.

なお、第二のめっき層を構成する貴金属としては、一般的に、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウムの8種の金属を指すが、実用上、本発明に適しているものは上記のうちからイリジウム、ルテニウム、オスミウムを除いた金属およびそれらの合金である。また、下地となる第一のめっき層は腐食の防止と第二のめっき層の母材への拡散防止のため形成するものである。   In addition, as the noble metal constituting the second plating layer, generally, eight kinds of metals such as gold, silver, platinum, palladium, rhodium, iridium, ruthenium, and osmium are used, but are practically suitable for the present invention. Among these, metals other than iridium, ruthenium and osmium and alloys thereof are included. In addition, the first plating layer serving as the base is formed for preventing corrosion and preventing diffusion of the second plating layer to the base material.

本発明によれば、チップ型固体電解コンデンサのリードフレーム端子において、固体電解コンデンサ素子との陰極電極の接続に使用される導電性接着剤と接する領域にのみ貴金属のめっき層を形成するために、陰極電極の接続の信頼性が高まる効果と、低コストで製造できる効果を両立させることができる。さらに貴金属のめっき層を形成した領域以外にスズめっき層を形成する場合において、貴金属のめっき層とスズめっき層とが互いに接しないようにして、両者のめっき領域の間に下地のめっき層が露出した領域を設けることにより、リフロー処理により溶融したスズが金めっき層の領域にまで侵入しないため、スズと金が合金化し、リードフレーム端子が脆弱化することを防止する効果がある。   According to the present invention, in the lead frame terminal of the chip-type solid electrolytic capacitor, in order to form the noble metal plating layer only in the region in contact with the conductive adhesive used for the connection of the cathode electrode with the solid electrolytic capacitor element, It is possible to achieve both the effect of increasing the reliability of the connection of the cathode electrode and the effect of being able to be manufactured at a low cost. Furthermore, when the tin plating layer is formed outside the region where the noble metal plating layer is formed, the noble metal plating layer and the tin plating layer are not in contact with each other, and the underlying plating layer is exposed between the two plating regions. By providing such a region, tin melted by the reflow process does not penetrate into the region of the gold plating layer, so that there is an effect of preventing tin and gold from alloying and leading to weakening of the lead frame terminal.

本発明により、低コスト化が可能で、陰極電極の接続に関して高い信頼性を持ち、リフロー処理によってもリードフレーム端子の劣化のないチップ型固体電解コンデンサが得られる。   According to the present invention, it is possible to obtain a chip-type solid electrolytic capacitor that can be reduced in cost, has high reliability with respect to the connection of the cathode electrode, and does not deteriorate lead frame terminals even by reflow processing.

次に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明によるチップ型固体電解コンデンサの第一の実施の形態を示す断面図である。図1において、従来と同様に、陽極リード20が引き出された弁作用金属からなる陽極体と、その陽極体の表面に形成された酸化皮膜と、その酸化皮膜上に形成された固体電解質層と、その固体電解質層上に形成されたグラファイト層及び銀ペースト層からなる陰極引き出し層とから構成される固体電解コンデンサ素子1を有し、板状のリードフレーム端子14が導電性接着剤により陰極引き出し層に接続されている。外装樹脂2、リードフレーム端子14と陰極電極の接続に使用される導電性接着剤3は従来と同様である。図2はリードフレーム端子14の拡大断面図であり、リードフレーム端子14の両面には従来と同様に母材41の上に第一のめっき層として下地めっき層42が形成されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a chip-type solid electrolytic capacitor according to the present invention. In FIG. 1, as in the prior art, an anode body made of a valve metal from which an anode lead 20 is drawn, an oxide film formed on the surface of the anode body, and a solid electrolyte layer formed on the oxide film, , Having a solid electrolytic capacitor element 1 composed of a graphite lead layer formed of a graphite layer and a silver paste layer formed on the solid electrolyte layer, and a plate-like lead frame terminal 14 is drawn into the cathode by a conductive adhesive. Connected to the layer. The conductive adhesive 3 used for connecting the exterior resin 2, the lead frame terminal 14 and the cathode electrode is the same as the conventional one. FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the lead frame terminal 14, and a base plating layer 42 is formed as a first plating layer on a base material 41 on both surfaces of the lead frame terminal 14 as in the prior art.

但し、本実施の形態においては、導電性接着剤と接する領域には下地めっき層42の上に金めっき層またはパラジウム−金からなる第二のめっき層5が形成されている。その他のリードフレーム端子4の表面は、下地めっき層42が露出している。   However, in the present embodiment, the second plating layer 5 made of a gold plating layer or palladium-gold is formed on the base plating layer 42 in a region in contact with the conductive adhesive. The base plating layer 42 is exposed on the surface of the other lead frame terminals 4.

図3は、本発明によるチップ型固体電解コンデンサの第二の実施の形態を示す断面図である。図3において、図1に示した第一の実施の形態と同様な固体電解コンデンサ素子1を有し、板状のリードフレーム端子24が導電性接着剤3により陰極引き出し層に接続され、同様な外装樹脂2を有している。図4はリードフレーム端子24の拡大断面図であり、リードフレーム端子24の両面には従来と同様に母材41の上に第一のめっき層として下地めっき層42が形成されている。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the chip-type solid electrolytic capacitor according to the present invention. 3, the solid electrolytic capacitor element 1 is the same as that of the first embodiment shown in FIG. 1, and a plate-like lead frame terminal 24 is connected to the cathode lead layer by the conductive adhesive 3. It has exterior resin 2. FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the lead frame terminal 24. A base plating layer 42 is formed as a first plating layer on the base material 41 on both surfaces of the lead frame terminal 24 as in the conventional case.

但し、本実施の形態においては、導電性接着剤と接する領域には下地めっき層42の上に金めっき層またはパラジウム−金からなる第二のめっき層5が形成され、第二のめっき層5が形成された面と同一の面の第二のめっき層5が形成されていない部分の一部にのみ、下地めっき層42上にスズめっき層6が形成されて、リードフレーム端子24の反対側の面は下地めっき層42が露出している。   However, in the present embodiment, the second plating layer 5 made of a gold plating layer or palladium-gold is formed on the base plating layer 42 in the region in contact with the conductive adhesive, and the second plating layer 5 The tin plating layer 6 is formed on the base plating layer 42 only on a part of the same surface as the surface where the second plating layer 5 is not formed, and on the opposite side of the lead frame terminal 24. The surface plating layer 42 is exposed on this surface.

また、第二のめっき層5を形成した領域とスズめっき層6を形成した領域とは互いに接していなく、両領域の間は下地めっき層42が露出した領域11となっている。   Further, the region where the second plating layer 5 is formed and the region where the tin plating layer 6 is formed are not in contact with each other, and the underlying plating layer 42 is exposed between the two regions 11.

図5は、本発明によるチップ型固体電解コンデンサの第三の実施の形態を示す断面図である。図5において、図1に示した第一の実施の形態と同様な固体電解コンデンサ素子1を有し、板状のリードフレーム端子34が導電性接着剤3により陰極引き出し層に接続され、同様な外装樹脂2を有している。図6はリードフレーム端子34の拡大断面図であり、リードフレーム端子34の両面には従来と同様に母材41の上に第一のめっき層として下地めっき層42が形成されている。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing a third embodiment of the chip-type solid electrolytic capacitor according to the present invention. 5, the solid electrolytic capacitor element 1 is the same as that of the first embodiment shown in FIG. 1, and a plate-like lead frame terminal 34 is connected to the cathode lead layer by the conductive adhesive 3. It has exterior resin 2. FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of the lead frame terminal 34, and a base plating layer 42 is formed as a first plating layer on the base material 41 on both surfaces of the lead frame terminal 34 as in the prior art.

但し、本実施の形態においては、導電性接着剤と接する領域には下地めっき層42の上に金めっき層またはパラジウム−金からなる第二のめっき層5が形成され、第二のめっき層5が形成された面と同一の面の第二のめっき層5が形成されていない部分の一部およびリードフレーム端子24の第二のめっき層5が形成された面の裏面のほぼ全面には下地めっき層42上にスズめっき層6が形成されている。   However, in the present embodiment, the second plating layer 5 made of a gold plating layer or palladium-gold is formed on the base plating layer 42 in the region in contact with the conductive adhesive, and the second plating layer 5 A portion of the same surface as the surface on which the second plating layer 5 is not formed and a part of the back surface of the surface on which the second plating layer 5 of the lead frame terminal 24 is formed are substantially the base. A tin plating layer 6 is formed on the plating layer 42.

また、第二のめっき層5を形成した領域とスズめっき層6を形成した領域とは互いに接していなく、両領域の間は下地めっき層42が露出した領域10となっている。   Further, the region where the second plating layer 5 is formed and the region where the tin plating layer 6 is formed are not in contact with each other, and the underlying plating layer 42 is exposed between the two regions.

また、本実施の形態においては、第二のめっき層5またはスズめっき層6のいずれも形成されていない下地めっき層42が露出した領域10は外装樹脂2に覆われ、その内部にのみ存在している。   Further, in the present embodiment, the region 10 where the base plating layer 42 in which neither the second plating layer 5 nor the tin plating layer 6 is formed is covered with the exterior resin 2 and exists only in the interior thereof. ing.

次に、上記第三の実施の形態のチップ型固体電解コンデンサの具体的な一実施例について説明する。タンタル粉末を成型し焼結した多孔質体に陽極引き出しを目的としたタンタル線が埋設された陽極体を使用する。前記陽極体の表面には、陽極酸化によりタンタルの酸化皮膜を形成する。その上に、導電性高分子からなる固体電解質層を形成し、更にその上にグラファイト層と銀ペースト層からなる陰極引き出し層を形成し固体電解コンデンサ素子1を得る。   Next, a specific example of the chip-type solid electrolytic capacitor of the third embodiment will be described. An anode body in which a tantalum wire is embedded in a porous body obtained by molding and sintering tantalum powder is used. A tantalum oxide film is formed on the surface of the anode body by anodic oxidation. A solid electrolyte layer made of a conductive polymer is formed thereon, and a cathode lead layer made of a graphite layer and a silver paste layer is further formed thereon to obtain the solid electrolytic capacitor element 1.

リードフレーム端子34の母材41には鉄−ニッケル合金を使用し、下地めっき層42としてニッケルめっき層を0.5μm形成する。その後、チップ型固体電解コンデンサに成型した際に導電性接着剤と接する領域以外にはマスクを施し、金めっき層を厚さ0.1μm形成する。次に、金めっきを施した領域にマスクをし、スズめっき層6を厚さ3μm形成する。このとき、金めっき層の領域とスズめっき層の領域の間に0.5mm以上の間隔をあけるようにマスクをすることにより下地めっき層42が露出した領域10を得る。   An iron-nickel alloy is used for the base material 41 of the lead frame terminal 34, and a nickel plating layer of 0.5 μm is formed as the base plating layer 42. Thereafter, a mask is applied to a region other than the region in contact with the conductive adhesive when the chip-type solid electrolytic capacitor is molded, and a gold plating layer is formed to a thickness of 0.1 μm. Next, a mask is applied to the gold-plated region to form a tin plating layer 6 having a thickness of 3 μm. At this time, the region 10 where the base plating layer 42 is exposed is obtained by masking the gold plating layer region and the tin plating layer region with a gap of 0.5 mm or more.

陽極リード20は抵抗溶接により陽極側のリードフレーム端子と、陰極引出し層は導電性接着剤3により金めっき層が形成されたリードフレーム端子の部分とそれぞれ接続され、外装樹脂2により成型されチップ型固体電解コンデンサが完成する。   The anode lead 20 is connected to the lead frame terminal on the anode side by resistance welding, and the cathode lead layer is connected to the portion of the lead frame terminal on which the gold plating layer is formed by the conductive adhesive 3, and is molded by the exterior resin 2 to be a chip type. A solid electrolytic capacitor is completed.

上記の実施例により製造したチップ型固体電解コンデンサと図7に示した従来の構造により製造した従来例のチップ型固体電解コンデンサを、それぞれ温度65℃、湿度95%の状態で1000時間放置する耐湿試験を行い、ESR(等価直列抵抗)を比較した。その結果を表1に示す。   The chip-type solid electrolytic capacitor manufactured by the above embodiment and the conventional chip-type solid electrolytic capacitor manufactured by the conventional structure shown in FIG. 7 are allowed to stand for 1000 hours at a temperature of 65 ° C. and a humidity of 95%, respectively. Tests were performed to compare ESR (equivalent series resistance). The results are shown in Table 1.

Figure 2010067876
Figure 2010067876

表1に示す通り、従来例に比較して実施例では耐湿試験後のESR値の増加が抑えられている。これは、導電性接着剤と接するリードフレーム端子に腐食が発生しにくい金めっき層を施したために、陰極接続の信頼性が向上したためであると考えられる。   As shown in Table 1, an increase in the ESR value after the moisture resistance test is suppressed in the example as compared with the conventional example. This is considered to be because the reliability of the cathode connection was improved because the lead frame terminal in contact with the conductive adhesive was provided with a gold plating layer that hardly corrodes.

以上のように、本発明では金などの貴金属のめっきをする領域を陰極接続の信頼性に関係する部分のみに限定することにより低コスト化が可能で、高い信頼性を持ち、金とスズとの合金化を防ぐことによりリードフレーム端子の劣化のないチップ型固体電解コンデンサが得られる。   As described above, in the present invention, it is possible to reduce the cost by limiting the region where the noble metal such as gold is plated to only the portion related to the reliability of the cathode connection, and it has high reliability. By preventing this alloying, a chip-type solid electrolytic capacitor in which the lead frame terminal is not deteriorated can be obtained.

上記の実施の形態において、チップ型固体電解コンデンサのサイズや実装性および外観上の必要性などによるリードフレーム端子のスズめっき層の必要性に応じて、第一、第二、第三の各実施の形態を選択することができる。   In the above embodiment, each of the first, second, and third implementations according to the necessity of the tin plating layer of the lead frame terminal due to the size, mountability, and appearance needs of the chip-type solid electrolytic capacitor Can be selected.

なお、本発明は上記の実施の形態および実施例に限られるものではないことはいうまでもなく、目的や用途、要求性能などに応じて、第一および第二のめっき層の材料や厚さ、リードフレーム端子の材料や構造、コンデンサ素子の構造や形状など、設計変更が可能である。   Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and the materials and thicknesses of the first and second plating layers according to the purpose, application, required performance, and the like. It is possible to change the design such as the material and structure of the lead frame terminal and the structure and shape of the capacitor element.

本発明によるチップ型固体電解コンデンサの第一の実施の形態を示す断面図。Sectional drawing which shows 1st embodiment of the chip-type solid electrolytic capacitor by this invention. 第一の実施の形態のリードフレーム端子の拡大断面図。The expanded sectional view of the lead frame terminal of a first embodiment. 本発明によるチップ型固体電解コンデンサの第二の実施の形態を示す断面図。Sectional drawing which shows 2nd embodiment of the chip-type solid electrolytic capacitor by this invention. 第二の実施の形態のリードフレーム端子の拡大断面図。The expanded sectional view of the lead frame terminal of a 2nd embodiment. 本発明によるチップ型固体電解コンデンサの第三の実施の形態を示す断面図。Sectional drawing which shows 3rd embodiment of the chip-type solid electrolytic capacitor by this invention. 第三の実施の形態のリードフレーム端子の拡大断面図。The expanded sectional view of the lead frame terminal of a third embodiment. 従来のチップ型固体電解コンデンサの一例を示す断面図。Sectional drawing which shows an example of the conventional chip-type solid electrolytic capacitor. 従来のリードフレーム端子の拡大断面図。The expanded sectional view of the conventional lead frame terminal.

符号の説明Explanation of symbols

1 固体電解コンデンサ素子
2 外装樹脂
3 導電性接着剤
4、14、24、34 リードフレーム端子
41 母材
42 下地めっき層
5 第二のめっき層
6 スズめっき層
10、11 領域
20 陽極リード
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solid electrolytic capacitor element 2 Exterior resin 3 Conductive adhesive 4, 14, 24, 34 Lead frame terminal 41 Base material 42 Base plating layer 5 Second plating layer 6 Tin plating layer 10, 11 Area 20 Anode lead

Claims (5)

陽極リードが引き出された弁作用金属からなる陽極体と、該陽極体の表面に形成された酸化皮膜と、該酸化皮膜上に形成された固体電解質層と、該固体電解質層上に形成されたグラファイト層及び銀ペースト層からなる陰極引き出し層とから構成される固体電解コンデンサ素子を有し、板状のリードフレーム端子が導電性接着剤により前記陰極引き出し層に接続されたチップ型固体電解コンデンサにおいて、前記リードフレーム端子の両面の全面に下地となる第一のめっき層が形成され、該第一のめっき層上の前記導電性接着剤と接する表面にのみ貴金属からなる第二のめっき層が形成されていることを特徴とするチップ型固体電解コンデンサ。   An anode body made of a valve metal from which an anode lead was drawn, an oxide film formed on the surface of the anode body, a solid electrolyte layer formed on the oxide film, and formed on the solid electrolyte layer In a chip type solid electrolytic capacitor having a solid electrolytic capacitor element composed of a graphite layer and a cathode lead layer made of a silver paste layer, and having a plate-like lead frame terminal connected to the cathode lead layer by a conductive adhesive The first plating layer as a base is formed on the entire surface of both surfaces of the lead frame terminal, and the second plating layer made of a noble metal is formed only on the surface in contact with the conductive adhesive on the first plating layer. A chip-type solid electrolytic capacitor characterized in that 前記リードフレームの前記第二のめっき層が形成された面と同一の面の前記第二のめっき層が形成されていない部分の少なくとも一部にのみ、前記第一のめっき層上にスズめっき層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のチップ型固体電解コンデンサ。   A tin plating layer on the first plating layer only on at least a part of a portion of the lead frame on which the second plating layer is not formed on the same surface as the second plating layer is formed. The chip-type solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein: is formed. 前記リードフレームの前記第二のめっき層が形成された面と同一の面の前記第二のめっき層が形成されていない部分の少なくとも一部および前記リードフレームの前記第二のめっき層が形成された面の裏面の少なくとも一部において、前記第一のめっき層上にスズめっき層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のチップ型固体電解コンデンサ。   At least a part of a portion of the lead frame on which the second plating layer is formed and the second plating layer of the lead frame and the second plating layer of the lead frame are formed. 2. The chip-type solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a tin plating layer is formed on the first plating layer on at least a part of the back surface of the first surface. 前記第二のめっき層を形成した領域と前記スズめっき層を形成した領域とが互いに接していないことを特徴とする請求項2または3に記載のチップ型固体電解コンデンサ。   4. The chip-type solid electrolytic capacitor according to claim 2, wherein a region where the second plating layer is formed and a region where the tin plating layer is formed are not in contact with each other. 前記固体電解コンデンサ素子を覆う外装樹脂を有し、前記第二のめっき層または前記スズめっき層のいずれも形成されていない領域は前記外装樹脂の内部にのみ存在することを特徴とする請求項2〜4のいずれか1項に記載のチップ型固体電解コンデンサ。   3. An exterior resin covering the solid electrolytic capacitor element is provided, and a region where neither the second plating layer nor the tin plating layer is formed exists only inside the exterior resin. The chip type solid electrolytic capacitor of any one of -4.
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