JP2003100146A - Conductive paste and manufacturing method of wiring board using it - Google Patents

Conductive paste and manufacturing method of wiring board using it

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JP2003100146A
JP2003100146A JP2001290921A JP2001290921A JP2003100146A JP 2003100146 A JP2003100146 A JP 2003100146A JP 2001290921 A JP2001290921 A JP 2001290921A JP 2001290921 A JP2001290921 A JP 2001290921A JP 2003100146 A JP2003100146 A JP 2003100146A
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wiring board
isocyanurate
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a wiring board by using conductive paste capable of forming a stable via hole conductor or the like, with excellent shape-keeping capability and embedding-filling capability by the conductive paste without deterioration of an insulation property by permeating of a resin constituent into an insulation board even if it is used as a filler of the via hole conductor or the like by improving wettability between metal particles and the resin constituent. SOLUTION: The via hole conductor 13 or the like in the wiring board is formed by using this conductive paste containing triallyl isocyanurate, a derivative such as 1-(2-hydroxypropyl)-3,5-di-2-propenyl-isocyanurate or 1,3-bis(2- hydroxypropyl)-5-(2-propenyl)-isocyanurate having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituted group and conductive powder comprising at least one kind selected from a group of gold, silver, palladium, copper, nickel, tin and lead.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】 本発明は、絶縁基板内部に
配線回路やビアホール導体等の導体配線層を形成した配
線基板の導体配線層用として好適な導電性ペーストおよ
びそれを用いた少なくとも有機樹脂を含有する配線基板
の製造方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a conductive paste suitable for a conductor wiring layer of a wiring board in which a conductor wiring layer such as a wiring circuit or a via-hole conductor is formed inside an insulating substrate, and at least an organic resin using the same. The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board containing the same.

【0002】[0002]

【従来技術】近年、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の
熱硬化性樹脂を含む絶縁基板の表面に導体配線層を形成
した、いわゆるプリント基板が、回路基板や半導体素子
を搭載したパッケージ等に適用されている。このような
プリント基板において、導体配線層を形成する方法とし
ては、絶縁基板の表面に銅箔を接着した後、これをエッ
チングして配線回路を形成する方法、または、配線回路
に形成された銅箔を絶縁基板に転写する方法、絶縁基板
の表面に金属メッキ法によって回路を形成する方法等が
用いられている。
2. Description of the Related Art In recent years, so-called printed boards, in which a conductor wiring layer is formed on the surface of an insulating substrate containing a thermosetting resin such as an epoxy resin or a phenol resin, have been applied to a circuit board or a package having a semiconductor element mounted thereon. There is. In such a printed circuit board, as a method of forming the conductor wiring layer, a method of forming a wiring circuit by adhering a copper foil to the surface of the insulating substrate and then etching the copper foil, or a method of forming a copper circuit on the wiring circuit A method of transferring the foil to the insulating substrate, a method of forming a circuit on the surface of the insulating substrate by a metal plating method, and the like are used.

【0003】また、導体配線層および異なる層間の導体
配線層を電気的に接続するビアホール導体が多用され、
該ビアホール導体として、銀、銅等の金属粉末にトリア
リルイソシアヌレートや液状エポキシ系樹脂と硬化剤と
を混合した導電性ペーストを塗布、または充填する方法
が提案されている。
Further, a via-hole conductor for electrically connecting a conductor wiring layer and a conductor wiring layer between different layers is often used,
As the via-hole conductor, there has been proposed a method of applying or filling a conductive paste in which metal powder such as silver or copper is mixed with triallyl isocyanurate or a liquid epoxy resin and a curing agent.

【0004】一方、導電性ペーストとしては、例えば、
特開平4−91111号公報に記載されるように、ポリ
フェニレンエーテルとトリアリルイソシアヌレートとの
混合物、またはそれらをクロロホルム等を添加して溶解
し、この溶液に対して、銀、銅等の金属粉末を添加、混
合した溶液を用い、シート状導電体を作製することが記
載されている。
On the other hand, as the conductive paste, for example,
As described in JP-A-4-91111, a mixture of polyphenylene ether and triallyl isocyanurate, or chloroform and the like are added and dissolved, and a metal powder of silver, copper or the like is added to the solution. It is described that a sheet-shaped conductor is produced using a solution obtained by adding and mixing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
エポキシ系樹脂等を含有する導電性ペーストでは、耐熱
性が200℃程度と低く、配線基板を半田実装する場合
に導体配線層中のエポキシ系樹脂が変質してしまう恐れ
があった。
However, the heat resistance of the conventional conductive paste containing epoxy resin or the like is as low as about 200 ° C., and the epoxy resin in the conductor wiring layer is used when the wiring board is mounted by soldering. There was a risk that it would deteriorate.

【0006】また、トリアリルイソシアヌレートを用い
た導電性ペーストでは、ペーストとして必要な粘度とす
るために、トリアリルイソシアヌレートを所定量添加し
た場合、ペースト中のトリアリルイソシアヌレートがビ
アホール導体から絶縁基板側に染み出してしまい、絶縁
基板の導体配線、特にビアホール導体と接する部分で局
所的にトリアリルイソシアヌレートの含有割合が増大し
てしまい、絶縁基板を加熱硬化する際に、絶縁基板の硬
化を阻害したり、硬化後も残存したトリアリルイソシア
ヌレートが200℃以上の高温で半田実装を行う場合に
絶縁基板に膨れを生じさせたり、絶縁基板内にボイドが
発生して絶縁抵抗が劣化し信頼性を低下させるという問
題があった。
Further, in a conductive paste using triallyl isocyanurate, when a predetermined amount of triallyl isocyanurate is added in order to obtain a viscosity necessary for the paste, the triallyl isocyanurate in the paste is insulated from the via-hole conductor. When the insulating substrate heats and cures, the content of triallyl isocyanurate increases locally at the conductor wiring of the insulating substrate, especially at the part that contacts the via-hole conductor. Or the residual triallyl isocyanurate after curing causes swelling in the insulating substrate when solder mounting is performed at a high temperature of 200 ° C. or higher, or voids occur in the insulating substrate to deteriorate the insulation resistance. There was a problem of reducing reliability.

【0007】また、特開平4−91111号公報のポリ
フェニレンエーテルとトリアリルイソシアヌレートとを
含有する溶液では、ポリフェニレンエーテルの融点が高
いためにポリフェニレンエーテルが固体状で残存して溶
液の均質性が低く、また、これを溶解するためにはクロ
ロホルム等の特定の溶剤を添加しなければならず、溶剤
に制限があるために作業性が悪いという問題があった。
Further, in the solution containing the polyphenylene ether and triallyl isocyanurate disclosed in JP-A-4-91111, the polyphenylene ether remains in a solid state due to the high melting point of the polyphenylene ether, resulting in low homogeneity of the solution. Further, in order to dissolve this, a specific solvent such as chloroform must be added, and there is a problem that workability is poor because the solvent is limited.

【0008】したがって、本発明は、上記課題を解決す
るためになされたものであり、具体的には、金属粉末と
樹脂分との濡れ性を改善し、ビアホール導体などの充填
物として用いた場合でも、絶縁基板への樹脂分の浸み出
しによって絶縁性を損ねることがなく、導電性ペースト
による保形性とビアホール等への埋込充填性に優れ、安
定したビアホール導体等の形成が可能な導電性ペースト
と、それを用いた配線基板の製造方法を提供することを
目的とするものである。
Therefore, the present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems. Specifically, when the wettability between a metal powder and a resin component is improved and it is used as a filling material for via-hole conductors, etc. However, leaching of resin into the insulating substrate does not impair the insulating properties, and the conductive paste is excellent in shape retention and filling filling in via holes etc., and stable via hole conductors, etc. can be formed. It is an object to provide a conductive paste and a method for manufacturing a wiring board using the conductive paste.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題に
対して検討を重ねた結果、導電性粉末を主成分とする導
電性ペースト中に、特定の比率でトリアリルイソシアヌ
レートと、置換基として水酸基を含むシアヌル酸骨格を
有する誘導体とを含有せしめることにより、耐熱性が高
く、絶縁基板の絶縁性を損なうことがないとともに、ペ
ーストの保形性やビアホールへの充填性を高めた作業性
に優れた導電性ペーストとなることを知見した。
Means for Solving the Problems As a result of repeated studies on the above problems, the present inventor replaced triallyl isocyanurate with a specific ratio in a conductive paste containing a conductive powder as a main component. By including a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a group, it has high heat resistance, does not impair the insulating property of the insulating substrate, and enhances the shape retention of the paste and the filling properties into via holes. It was found that the resulting conductive paste has excellent properties.

【0010】すなわち、本発明の導電性ペーストは、ト
リアリルイソシアヌレートと、置換基として水酸基を含
むシアヌル酸骨格を有する誘導体と、導電性粉末とを含
有することを特徴とするものである。
That is, the conductive paste of the present invention is characterized by containing triallyl isocyanurate, a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent, and a conductive powder.

【0011】導電性粉末としては、金、銀、パラジウ
ム、銅、ニッケル、錫および鉛の群から選ばれる少なく
とも1種が低抵抗化などの点で望ましい。
As the conductive powder, at least one selected from the group consisting of gold, silver, palladium, copper, nickel, tin and lead is desirable from the viewpoint of lowering resistance.

【0012】また、前記誘導体としては、1−(2−ヒ
ドロキシプロピル)−3,5−ジ−2−プロペニル−イ
ソシアヌレートあるいは1,3−ビス(2−ヒドロキシ
プロピル)−5−(2−プロペニル)−イソシアヌレー
トが望ましく、これらはトリアリルイソシアヌレートと
の合計100質量部中に、5〜50質量部の割合で添加
含有させることが、また、トリアリルイソシアヌレート
は、全量中7〜20質量%添加することが適当である。
As the above-mentioned derivative, 1- (2-hydroxypropyl) -3,5-di-2-propenyl-isocyanurate or 1,3-bis (2-hydroxypropyl) -5- (2-propenyl) is used. ) -Isocyanurate is desirable, and these are added and contained at a ratio of 5 to 50 parts by mass in a total of 100 parts by mass with triallyl isocyanurate, and the triallyl isocyanurate is contained at 7 to 20 parts by mass in the total amount. % Is suitable.

【0013】また、本発明によれば、上記の成分以外
に、トリアリルイソシアヌレートプレポリマーをトリア
リルイソシアヌレートとの合計100質量部中、5〜4
0質量部の割合で添加含有せしめることによってペース
トの保形性を改善することができる。特に、このトリア
リルイソシアヌレートプレポリマーは、重量平均分子量
が1500〜70000であることがペーストの粘度を
制御する上で望ましい。
Further, according to the present invention, in addition to the above components, a triallyl isocyanurate prepolymer is added in an amount of 5 to 4 in 100 parts by mass in total with triallyl isocyanurate.
The shape retention of the paste can be improved by adding and containing it in an amount of 0 parts by mass. In particular, the triallyl isocyanurate prepolymer preferably has a weight average molecular weight of 1500 to 70,000 in order to control the viscosity of the paste.

【0014】また、本発明の配線基板の製造方法は、少
なくとも有機樹脂を含有する未硬化あるいは半硬化状態
の絶縁シートに形成されたビアホールに導電性ペースト
を充填してビアホール導体を形成する工程と、前記ビア
ホール導体形成部を含む前記絶縁シート表面に導体配線
層を形成する工程と、前記絶縁シートを積層して一体化
し、前記有機樹脂の硬化温度に加熱して一括硬化する工
程とを具備することを特徴とする配線基板の製造方法で
あって、トリアリルイソシアヌレートと、置換基として
水酸基を含むシアヌル酸骨格を有する誘導体と、導電性
粉末とを含有する導電性ペーストを塗布または充填して
前記ビアホール導体および/または前記導体配線層を形
成することを特徴とするものである。
The method of manufacturing a wiring board according to the present invention comprises a step of forming a via-hole conductor by filling a conductive paste into a via-hole formed in an uncured or semi-cured insulating sheet containing at least an organic resin. And a step of forming a conductor wiring layer on the surface of the insulating sheet including the via-hole conductor forming portion, and a step of stacking and integrating the insulating sheets and heating the organic resin to a curing temperature to collectively cure the insulating sheet. A method of manufacturing a wiring board, comprising: a triallyl isocyanurate, a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent, and a conductive paste containing a conductive powder is applied or filled. The via hole conductor and / or the conductor wiring layer are formed.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明の導電性ペーストは、トリ
アリルイソシアヌレートと、置換基として水酸基を含む
シアヌル酸骨格を有する誘導体と、導電性粉末とを含有
するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The conductive paste of the present invention contains triallyl isocyanurate, a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent, and a conductive powder.

【0016】すなわち、置換基として水酸基を含むシア
ヌル酸骨格を有する誘導体を添加することで導電性粉末
との濡れ性を向上させることができ、ペーストの保形性
を高めて、しみだしやにじみを抑制し、ビアホールへの
埋込み充填性を高めることができる。さらに、シアヌル
酸骨格を有する誘導体自体の耐熱性に優れることから、
導電性ペーストの耐熱性を高めることができる。
That is, by adding a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent, the wettability with the conductive powder can be improved, the shape retention of the paste can be improved, and oozing and bleeding can be prevented. It is possible to suppress it and to enhance the filling property into the via hole. Furthermore, since the derivative itself having a cyanuric acid skeleton has excellent heat resistance,
The heat resistance of the conductive paste can be improved.

【0017】また、置換基として水酸基を含むシアヌル
酸骨格を有する誘導体としては、1−(2−ヒドロキシ
プロピル)−3,5−ジ−2−プロペニル−イソシアヌ
レートあるいは1,3−ビス(2−ヒドロキシプロピ
ル)−5−(2−プロペニル)−イソシアヌレートが好
適である。
As the derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent, 1- (2-hydroxypropyl) -3,5-di-2-propenyl-isocyanurate or 1,3-bis (2- Hydroxypropyl) -5- (2-propenyl) -isocyanurate is preferred.

【0018】すなわち、シアヌル酸骨格を有する誘導体
は、水酸基とアリル基と両方の基を有することから、導
電性粉末との濡れ性を高め、トリアリルイソシアヌレー
トとの高分子化も図れるために、信頼性の高い導電性ペ
ーストを提供することができる。
That is, since the derivative having a cyanuric acid skeleton has both a hydroxyl group and an allyl group, it is possible to enhance the wettability with the conductive powder and to polymerize it with triallyl isocyanurate. A highly reliable conductive paste can be provided.

【0019】また、上記誘導体は、トリアリルイソシア
ヌレートとの合計100質量部中において、導電性粉末
との十分な濡れ性を確保し、且つペーストの保形性を高
め、しみだし、にじみの発生を有効に防止するために5
質量部以上であることが望ましく、また、置換基として
水酸基を含むシアヌル酸骨格を有する誘導体とトリアリ
ルイソシアヌレートとを十分に反応させるとともに、モ
ノマーとして残存させることなく、半田耐熱試験や半田
リフロー試験の時に揮発することなく高い信頼性を得る
ために50質量部以下であることが望ましい。従って、
前記誘導体は、トリアリルイソシアヌレートとの合計1
00質量部中に5〜50質量部、特に10〜30質量部
の割合で添加することが望ましい。
Further, the above-mentioned derivative secures sufficient wettability with the conductive powder in 100 parts by weight in total with triallyl isocyanurate and enhances the shape retention of the paste to cause bleeding and bleeding. 5 to effectively prevent
It is desirable that the amount is not less than parts by mass, and a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent is sufficiently reacted with triallyl isocyanurate, without remaining as a monomer, and a solder heat resistance test or a solder reflow test. In order to obtain high reliability without volatilization at the time, it is desirable that the amount is 50 parts by mass or less. Therefore,
The derivative has a total of 1 with triallyl isocyanurate.
It is desirable to add 5 to 50 parts by mass, especially 10 to 30 parts by mass to 00 parts by mass.

【0020】本発明における導体粉末は、金、銀、パラ
ジウム、銅、ニッケル、錫および鉛の群から選ばれる少
なくとも1種であることが低抵抗化を図る上で全量中に
70〜90質量%の割合で含有せしめることが望まし
く、具体的には、上記の純粋な金属およびそれらの合金
あるいは混合物、さらには上記から選ばれる金属の核に
他の金属を被覆したものを用いることができる。特に、
絶縁基板へのマイグレーションがないことおよび低コス
トである点で銅を含むことが好ましく、さらに化学的安
定性を考慮すると銀を被覆した銅粉末が最適である。ま
た、銅に対して、さらに錫を含有する半田などの低融点
金属を添加した場合には、Cu3Snを析出させて耐熱
性を高めることが望ましい。
The conductor powder in the present invention is at least one selected from the group consisting of gold, silver, palladium, copper, nickel, tin and lead in order to reduce the resistance, and the total amount is 70 to 90% by mass. It is desirable to contain the above metal in a ratio of, specifically, the above-mentioned pure metals and alloys or mixtures thereof, and the core of a metal selected from the above, coated with another metal can be used. In particular,
It is preferable to contain copper from the viewpoint of no migration to the insulating substrate and low cost, and in consideration of chemical stability, silver-coated copper powder is most suitable. Further, when a low melting point metal such as solder containing tin is added to copper, it is desirable to precipitate Cu 3 Sn to improve heat resistance.

【0021】また、本発明の導電性ペーストは、トリア
リルイソイアヌレートを全量中、7〜20質量%の割合
で添加含有するものである。すなわち、トリアリルイソ
シアヌレートの含有量が7質量%より少ないとペースト
の粘度が高すぎてビアホール内への埋込性が悪くなりや
すく、導体配線の抵抗が増大するおそれがある。逆に2
0質量%より多いとペーストとしての粘度が低くなり保
形性が低下して絶縁基板の表面からペーストがにじむ恐
れがあるとともに、ペースト中の導電性粒子の含有割合
が低下してビアホール導体の抵抗が増大する場合があ
る。トリアリルイソシアヌレートは8〜15質量%が最
適である。
Further, the conductive paste of the present invention contains triallylisoianurate in an amount of 7 to 20% by mass based on the total amount. That is, if the content of triallyl isocyanurate is less than 7% by mass, the viscosity of the paste is too high and the embeddability in the via hole is likely to deteriorate, and the resistance of the conductor wiring may increase. 2 on the contrary
If the content is more than 0% by mass, the viscosity of the paste will be low and the shape retention will be reduced, which may cause the paste to bleed from the surface of the insulating substrate, and the content of conductive particles in the paste will be reduced to reduce the resistance of the via-hole conductor. May increase. The optimum amount of triallyl isocyanurate is 8 to 15% by mass.

【0022】なお、前記トリアリルイソシアヌレート
は、分子量が約250のモノマーであるが、これに前記
トリアリルイソシアヌレートを重合させた前記トリアリ
ルイソシアヌレートプレポリマーを所定の比率で配合さ
せることにより、ペーストの保形性を高めてしみだし、
にじみを抑制し、ビアホールへの埋込充填性を高めるこ
とができるとともに、絶縁基板を硬化する際にビアホー
ル導体中のトリアリルイソシアヌレートおよびトリアリ
ルイソシアヌレートプレポリマーが硬化物を形成して硬
化後のビアホール導体の保形性をも高めることができ
る。
The triallyl isocyanurate is a monomer having a molecular weight of about 250. By adding the triallyl isocyanurate prepolymer obtained by polymerizing the triallyl isocyanurate in a predetermined ratio, It enhances the shape retention of the paste and exudes,
It is possible to suppress bleeding and improve the filling filling in via holes, and at the time of curing the insulating substrate, the triallyl isocyanurate and triallyl isocyanurate prepolymer in the via hole conductor form a cured product and after curing. The shape retention of the via-hole conductor can also be improved.

【0023】その場合、トリアリルイソシアヌレートプ
レポリマーを前記トリアリルイソシアヌレートとの合計
100質量部中に5〜40質量部の割合で添加含有する
ことが望ましい。
In this case, it is desirable to add the triallyl isocyanurate prepolymer in an amount of 5 to 40 parts by mass based on 100 parts by mass of the triallyl isocyanurate.

【0024】これは、トリアリルイソシアヌレートプレ
ポリマーの含有量が5質量部より少ないと、ペースト中
のトリアリルイソシアヌレートの粒子同士を付着させる
力が低下してビアホール内に導電性ペーストを充填した
後、ビアホールの上表面付近に存在するトリアリルイソ
シアヌレートが重力によって沈降し、該上表面の導電性
粒子間が空隙となってしまい、取扱いや振動等によって
前記導電性粒子の一部が絶縁基板表面に飛散する結果、
隣接するビアホール間に前記飛散した導電性粒子が介在
すると絶縁抵抗が劣化して信頼性に悪影響を及ぼした
り、場合によってはショートする恐れがあるためであ
る。
This is because when the content of triallyl isocyanurate prepolymer is less than 5 parts by mass, the force for adhering the particles of triallyl isocyanurate in the paste to each other is reduced and the via hole is filled with the conductive paste. After that, triallyl isocyanurate existing near the upper surface of the via hole is settled by gravity, and voids are formed between the conductive particles on the upper surface, and a part of the conductive particles is handled by an operation such as handling or vibration. As a result of being scattered on the surface,
This is because if the scattered conductive particles are interposed between the adjacent via holes, the insulation resistance is deteriorated, which may adversely affect the reliability, or may cause a short circuit in some cases.

【0025】また、スクリーン印刷等を行う場合、トリ
アリルイソシアヌレートの導電性粉末間を付着する力が
低いためにペースト中のトリアリルイソシアヌレートの
みが優先的に流出して粘度が変化し連続して印刷するこ
とができないためである。
In addition, when screen printing or the like is performed, only the triallyl isocyanurate in the paste is preferentially flowed out and the viscosity changes continuously because the force of adhesion between the conductive powders of triallyl isocyanurate is low. This is because it cannot be printed.

【0026】逆に、トリアリルイソイアヌレートプレポ
リマーの含有量が40質量部より多いとトリアリルイソ
シアヌレートプレポリマーを完全に溶解することができ
ずペーストの均質性が低下し、作業性が悪くなるためで
ある。トリアリルイソシアヌレートプレポリマーの特に
望ましい範囲は、8質量部以上、30質量部以下であ
り、特に10〜20質量部が最適である。
On the contrary, if the content of triallyl isocyanurate prepolymer is more than 40 parts by mass, the triallyl isocyanurate prepolymer cannot be completely dissolved and the homogeneity of the paste is deteriorated, resulting in poor workability. This is because A particularly desirable range of the triallyl isocyanurate prepolymer is 8 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, and 10 to 20 parts by mass is particularly suitable.

【0027】また、ペーストの粘度を所定の範囲とし、
保形性およびビアホール等への充填性を高めるため、お
よびトリアリルイソシアヌレートと導電性粒子との分離
を抑制し、かつペーストとして保形性およびビアホール
への埋込充填性を高めるために、トリアリルイソシアヌ
レートプレポリマーの重量平均分子量が1500〜70
000のであることが望ましい。
Further, the viscosity of the paste is set within a predetermined range,
In order to improve shape retention and filling properties into via holes, etc., and to suppress separation of triallyl isocyanurate and conductive particles, and to improve shape retention properties as paste and filling filling properties into via holes, tri- The weight average molecular weight of the allyl isocyanurate prepolymer is 1500 to 70.
000 is desirable.

【0028】尚、本発明において、トリアリルイソシア
ヌレートとトリアリルイソシアヌレートプレポリマー以
外に、トリメタリルイソシアヌレートやトリアリルシア
ヌレートを併用して配合することもできる。
In the present invention, in addition to the triallyl isocyanurate and the triallyl isocyanurate prepolymer, it is also possible to mix and use trimethallyl isocyanurate or triallyl cyanurate.

【0029】さらに、熱硬化性樹脂、硬化剤、硬化促進
剤等を導電性粉末100質量部当り15質量部以下の割
合で配合することが可能である。熱硬化性樹脂として
は、特に限定されるものではなく、エポキシ樹脂やポリ
イミド樹脂、ポリエステル樹脂等を用いることができ
る。また、硬化剤や硬化促進剤としては、エポキシ樹脂
等に使用されるものであれば特に限定されるものではな
く、硬化剤としてフェノールノボラック樹脂、ジシアン
ジアミド、芳香族アミン類、ジアミノマレオニトリル、
ヒドラジッド等を、硬化促進剤としてイミダゾール類、
ベンジルジメチルアミン等をそれぞれ例示することがで
きる。
Further, it is possible to add a thermosetting resin, a curing agent, a curing accelerator and the like in a ratio of 15 parts by mass or less per 100 parts by mass of the conductive powder. The thermosetting resin is not particularly limited, and epoxy resin, polyimide resin, polyester resin or the like can be used. The curing agent and the curing accelerator are not particularly limited as long as they are used in epoxy resins and the like, and as the curing agent, phenol novolac resin, dicyandiamide, aromatic amines, diaminomaleonitrile,
Hydrazide, etc. as a curing accelerator, imidazoles,
Examples thereof include benzyldimethylamine.

【0030】さらにこれら硬化剤や硬化促進剤としての
効果を有するラジカル重合開始剤として、ハイドロパー
オキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアリルパー
オキサイド等の有機過酸化物を全量中0.25〜3質量
%の割合で配合することもできる。この有機過酸化物は
トリアリルイソシアヌレートの硬化を促進することから
該硬化温度を30℃以上、特に50℃以上低下させるこ
とができる。
Further, as radical polymerization initiators having effects as these curing agents and curing accelerators, organic peroxides such as hydroperoxide, dialkyl peroxide and diallyl peroxide are contained in an amount of 0.25 to 3% by mass based on the total amount. It can also be blended in a ratio. Since this organic peroxide accelerates the curing of triallyl isocyanurate, the curing temperature can be lowered by 30 ° C. or higher, particularly 50 ° C. or higher.

【0031】また、ペースト中にはラジカル反応禁止剤
等は導体配線中のトリアリルイソシアヌレートの硬化を
抑制することから添加しないことが望ましい。
It is desirable not to add a radical reaction inhibitor or the like to the paste because it suppresses the curing of triallyl isocyanurate in the conductor wiring.

【0032】さらに、導電性ペースト中には、粘度調整
のために、例えば、イソプロピルアルコール、テオピネ
オール、2−オクタール、ブチルカルビトールアセテー
ト等を微量添加することもできるが、絶縁基板および導
体配線を熱硬化させる際に溶剤成分が揮発し、導体配線
中の充填密度が低下するとともに、揮発気体により絶縁
層間に膨れを生じる等の問題があるために、溶剤を実質
的に含有しないことが望ましい。
Further, in order to adjust the viscosity, a slight amount of isopropyl alcohol, theopineol, 2-octal, butyl carbitol acetate, etc. may be added to the conductive paste, but the insulating substrate and the conductor wiring may be heated. Since the solvent component volatilizes during curing, the packing density in the conductor wiring decreases, and there is a problem that the insulating layer swells due to the volatile gas, it is desirable that the solvent is not substantially contained.

【0033】導電性ペーストを調製するには、上記組成
物を攪拌脱泡機、プラネタリーミキサ、回転ミルや3本
ロール等で混練することにより所定粘度の導電性ペース
トを作製することができる。
In order to prepare the conductive paste, the above composition can be kneaded with a stirring and defoaming machine, a planetary mixer, a rotary mill, a triple roll or the like to prepare a conductive paste having a predetermined viscosity.

【0034】また、上記混合方法により混合された導電
性ペーストの粘度については、印刷した時にダレ、にじ
みが生じずファインピッチのビアホール導体を形成する
ことができ、また、ペーストをビアホール内への埋込充
填性を高める上で、せん断速度=100s-1において2
0〜1000Pa・sであることが望ましい。
Regarding the viscosity of the conductive paste mixed by the above mixing method, a fine-pitch via-hole conductor can be formed without sagging or bleeding when printed, and the paste is embedded in the via-hole. In order to improve the filling capacity, 2 at shear rate = 100 s -1
It is desirable that the pressure is 0 to 1000 Pa · s.

【0035】次に、上記導電性ペーストを用いて配線基
板を作製する方法について説明する。まず、図1(a)
に示すように未硬化または半硬化状態の軟質の絶縁シー
ト11に対して、レーザー加工やマイクロドリルなどに
よってビアホール12を形成する。
Next, a method for producing a wiring board using the above conductive paste will be described. First, FIG. 1 (a)
As shown in, via holes 12 are formed in the uncured or semi-cured soft insulating sheet 11 by laser processing, a micro drill, or the like.

【0036】絶縁シート11は、少なくとも熱硬化性樹
脂を含む絶縁材料から構成されるが、具体的には、有機
樹脂としては例えば、PPE(ポリフェニレンエーテ
ル)、BTレジン(ビスマレイミドトリアジン)、エポ
キシ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹
脂等の合成樹脂およびそれらの混合物が使用可能である
が、とりわけ誘電特性がよく、吸水率が低い点でPPE
(ポリフェニレンエーテル)を含有することが望まし
い。
The insulating sheet 11 is made of an insulating material containing at least a thermosetting resin. Specifically, examples of the organic resin include PPE (polyphenylene ether), BT resin (bismaleimide triazine), and epoxy resin. Synthetic resins such as polyimide, polyimide resin, fluororesin, phenol resin and the like can be used, but PPE is particularly preferable because it has good dielectric properties and low water absorption.
It is desirable to contain (polyphenylene ether).

【0037】また、この有機樹脂の中には、基板全体の
強度を高めるために、フィラーを複合化させることもで
きる。フィラーとしては、SiO2、Al23、Zr
2、TiO2、AlN、SiC、BaTiO3、SrT
iO3、ゼオライト、CaTiO3等の無機質フィラーが
好適に使用される。また、ガラスやアラミド樹脂からな
る不織布、織布等に上記樹脂を含浸させて用いてもよ
い。このようにフィラーと複合化する場合、有機樹脂と
フィラーとは体積比率で30:70〜70:30の比率
で複合化することが望ましい。
In addition, a filler may be compounded in the organic resin in order to increase the strength of the entire substrate. As the filler, SiO 2 , Al 2 O 3 , Zr
O 2 , TiO 2 , AlN, SiC, BaTiO 3 , SrT
Inorganic fillers such as iO 3 , zeolite and CaTiO 3 are preferably used. Alternatively, a non-woven fabric or a woven fabric made of glass or aramid resin may be impregnated with the above resin before use. When compounding with the filler in this way, it is desirable that the organic resin and the filler are compounded at a volume ratio of 30:70 to 70:30.

【0038】そして、図1(b)に示すように、そのビ
アホール12内に、前述したようにしてせん断速度=1
00s-1において、20〜1000Pa・sに調製され
た導電性ペーストをスクリーン印刷等によって充填して
ビアホール導体13を形成する。本発明の導電性ペース
トによれば、ビアホール12からの導電性ペーストの流
出を防止し、ビアホール12へのペーストの埋込充填性
を高めることができる。また、導電性ペーストの粘度が
上記範囲であれば、ビアホール12内へ充填したペース
トの上面の一部が絶縁シート11表面に対して突出する
ように形成でき、これを後述する導体配線層の形成時ま
たは絶縁シート11の積層時に圧縮することによってビ
アホール導体13と導体配線層との接続性を高めること
もできる。
Then, as shown in FIG. 1B, the shear rate = 1 in the via hole 12 as described above.
At 00 s −1 , the conductive paste prepared to 20 to 1000 Pa · s is filled by screen printing or the like to form the via hole conductor 13. According to the conductive paste of the present invention, it is possible to prevent the conductive paste from flowing out from the via hole 12 and improve the filling and filling property of the paste into the via hole 12. In addition, if the viscosity of the conductive paste is within the above range, the paste filled in the via holes 12 can be formed so that a part of the upper surface thereof protrudes from the surface of the insulating sheet 11, and this can be formed into a conductor wiring layer described later. At the time of stacking or when the insulating sheet 11 is laminated, the connectivity between the via-hole conductor 13 and the conductor wiring layer can be improved.

【0039】そして、ペースト充填後に、所望により、
有機バインダの融点以下に冷却することにより、ビアホ
ール12内の導電性ペーストの粘度を、せん断速度=1
00s-1において、760〜2500Pa・sに高める
ことによりビアホール12中のペーストの保形性を高
め、ペーストのビアホール12からのダレの発生やにじ
みを防止できる。
After filling the paste, if desired,
By cooling to below the melting point of the organic binder, the viscosity of the conductive paste in the via hole 12 is reduced to a shear rate of 1
At 00 s −1 , the shape retention of the paste in the via hole 12 can be enhanced by increasing it to 760 to 2500 Pa · s, and the sagging of the paste from the via hole 12 and the bleeding can be prevented.

【0040】また、ペースト充填時にビアホール12の
反対面を減圧吸引するか、または多孔質シートを載置し
てビアホール12内へ充填されたペースト中の保形性に
支障ない余剰のトリアリルイソシアヌレートおよびトリ
アリルイソシアヌレートプレポリマー等の樹脂成分を取
り除くことによってビアホール導体13の抵抗を低減さ
せたり、導電性粒子の充填密度を高めることができ、接
続信頼性を向上させる効果がある。
In addition, an excessive amount of triallyl isocyanurate in the paste filled in the via hole 12 which does not hinder the shape retention in the paste filled in the via hole 12 by vacuum suction on the opposite surface of the via hole 12 at the time of filling the paste. By removing the resin component such as the triallyl isocyanurate prepolymer and the like, the resistance of the via-hole conductor 13 can be reduced and the filling density of the conductive particles can be increased, which has the effect of improving the connection reliability.

【0041】次に、ビアホール導体13を形成した絶縁
シート11の表面に、導体配線層14を形成する。導体
配線層14としては、銅、アルミニウム、金、銀のうち
から選ばれる少なくとも1種、または2種以上の合金、
特に、銅あるいは銅を含む合金からなる厚さ5〜40μ
mの金属箔によって形成することにより、ビアホール導
体13を両端を封止して外気の影響を防止でき、しかも
導電性ペーストを充填して形成したビアホール導体13
との電気的な接続性に優れることから最も望ましい。
Next, the conductor wiring layer 14 is formed on the surface of the insulating sheet 11 on which the via-hole conductor 13 is formed. As the conductor wiring layer 14, at least one kind selected from copper, aluminum, gold, and silver, or an alloy of two or more kinds,
In particular, a thickness of 5-40 μm made of copper or an alloy containing copper
By forming the via-hole conductor 13 from the metal foil of m, the both ends of the via-hole conductor 13 can be sealed and the influence of the outside air can be prevented, and the via-hole conductor 13 formed by filling the conductive paste.
Most desirable because it has excellent electrical connectivity with.

【0042】この金属箔による導体配線層14の形成
は、a)絶縁シート11の表面に金属箔を貼り付けた
後、エッチング処理して回路パターンを形成する方法、
b)絶縁シート11表面にレジストを形成して、メッキ
により金属箔層を形成する方法、c)転写シート表面に
金属箔を貼り付けた後、エッチング処理して回路パター
ンを形成した後、この金属箔の回路パターンを絶縁シー
ト11表面に転写させる方法、等が挙げられるが、この
中でも、絶縁シート11をエッチングやメッキ液などに
浸漬する必要がなく、ビアホール導体13内への薬品の
侵入を防止する上では、c)の転写法が最も望ましい。
The conductor wiring layer 14 is formed of this metal foil by a) a method in which a metal foil is attached to the surface of the insulating sheet 11 and then etched to form a circuit pattern,
b) A method in which a resist is formed on the surface of the insulating sheet 11 and a metal foil layer is formed by plating, c) A metal foil is attached to the surface of the transfer sheet, and then an etching treatment is performed to form a circuit pattern. A method of transferring the circuit pattern of the foil to the surface of the insulating sheet 11 may be mentioned. Among them, it is not necessary to immerse the insulating sheet 11 in an etching or plating solution and prevent chemicals from entering the via-hole conductor 13. For this purpose, the transfer method of c) is most desirable.

【0043】そこで、c)転写法による導体配線層を例
にして以下に説明する。図1(c)に示すように、転写
シート15の表面に、金属箔からなる導体配線層14を
形成する。この導体配線層14は、転写シート15の表
面に金属箔を接着剤によって接着した後、この金属箔の
表面にレジストを回路パターン状に塗布した後、エッチ
ング処理およびレジスト除去を行って形成される。この
時、金属箔からなる導体配線層14露出面は、エッチン
グ等により表面粗さ(Ra)0.1〜5μm、特に0.
2〜4μm程度に粗化されていることが望ましい。
Therefore, the description will be given below with reference to c) a conductor wiring layer formed by the transfer method. As shown in FIG. 1C, the conductor wiring layer 14 made of a metal foil is formed on the surface of the transfer sheet 15. The conductor wiring layer 14 is formed by adhering a metal foil to the surface of the transfer sheet 15 with an adhesive, applying a resist in a circuit pattern on the surface of the metal foil, and then performing etching treatment and resist removal. . At this time, the exposed surface of the conductor wiring layer 14 made of a metal foil has a surface roughness (Ra) of 0.1 to 5 μm, particularly 0.
It is desirable that the surface is roughened to about 2 to 4 μm.

【0044】次に、図1(d)に示すように、導体配線
層14が形成された転写シート15を前記ビアホール導
体13が形成された軟質の絶縁シート11の表面に位置
合わせして加圧積層した後、転写シート15を剥がして
導体配線層14を絶縁シート11に転写させることによ
り配線層aが形成される。
Then, as shown in FIG. 1D, the transfer sheet 15 having the conductor wiring layer 14 formed thereon is aligned with the surface of the soft insulating sheet 11 having the via-hole conductor 13 formed thereon and pressed. After stacking, the transfer sheet 15 is peeled off and the conductor wiring layer 14 is transferred to the insulating sheet 11 to form the wiring layer a.

【0045】この時、絶縁シート11が軟質状態である
ことから、導体配線層14は、絶縁シート11の表面に
埋設され、実質的に絶縁シート11表面と導体配線層1
4の表面が同一平面となるように加圧積層する。この時
の加圧積層条件としては、圧力2MPa以上、温度60
〜240℃が適当である。
At this time, since the insulating sheet 11 is in the soft state, the conductor wiring layer 14 is embedded in the surface of the insulating sheet 11, and the surface of the insulating sheet 11 and the conductor wiring layer 1 are substantially formed.
4 is pressure-laminated so that the surfaces of 4 are flush with each other. The pressure laminating conditions at this time are a pressure of 2 MPa or more and a temperature of 60.
A temperature of ~ 240 ° C is suitable.

【0046】そして、上記のようにして作製された一単
位の配線層aおよび同様にして作製された一単位の配線
層b、cを図1(e)に示すように積層圧着し、所定の
温度に加熱することにより絶縁シート11中の熱硬化性
樹脂を完全硬化させることにより多層化された配線基板
を作製することができる。
Then, one unit of the wiring layer a manufactured as described above and one unit of the wiring layers b and c manufactured in the same manner are laminated and pressure-bonded as shown in FIG. By heating to a temperature to completely cure the thermosetting resin in the insulating sheet 11, a multilayer wiring board can be manufactured.

【0047】上記の転写シート15からの回路転写の製
造方法によれば、絶縁シート11へのビアホール12形
成や積層化と、導体配線層14の形成工程を並列的に行
うことができるために、配線基板における製造時間を大
幅に短縮することができる。
According to the manufacturing method of the circuit transfer from the transfer sheet 15 described above, the formation and lamination of the via holes 12 in the insulating sheet 11 and the step of forming the conductor wiring layer 14 can be performed in parallel. The manufacturing time for the wiring board can be significantly reduced.

【0048】なお、上記の製造方法では、絶縁シート1
1の完全硬化およびビアホール導体13の加熱処理を多
層化後に一括して行ったが、この加熱処理は、積層前に
個々の絶縁シート11に対して施し硬化した後、積層し
て多層化することも可能である。
In the above manufacturing method, the insulating sheet 1 is used.
The complete curing of No. 1 and the heat treatment of the via-hole conductor 13 were collectively performed after forming the multilayer structure. This heat treatment should be performed on each insulating sheet 11 before being laminated and cured, and then laminated to form multiple layers. Is also possible.

【0049】また、上記導電性ペーストはビアホール導
体13形成用として用いる場合について説明したが、本
発明はこれに限定されるものではなく、本発明の導電性
ペーストを前記導体配線層14用として用いることもで
きる。この場合は、絶縁シート11の表面に、導電性ペ
ーストをスクリーン印刷法等によって導体配線層14を
印刷形成することができる。かかる場合においても、本
発明の導電性ペーストは、導体配線層14の保形性を高
めるという効果がある。
Although the above-mentioned conductive paste is used for forming the via-hole conductor 13, the present invention is not limited to this, and the conductive paste of the present invention is used for the conductor wiring layer 14. You can also In this case, the conductive wiring layer 14 can be formed by printing a conductive paste on the surface of the insulating sheet 11 by a screen printing method or the like. Even in such a case, the conductive paste of the present invention has the effect of improving the shape retention of the conductor wiring layer 14.

【0050】[0050]

【実施例】(導電性ペースト調製)まず、平均粒径5μ
mの導電性粉末(Ag被覆Cu粉末については銀含有量
3質量%)、トリアリルイソシアヌレートと、置換基と
して水酸基を含むシアヌル酸骨格を有する誘導体とし
て、1−(2−ヒドロキシプロピル)−3,5−ジ−2
−プロペニル−イソシアヌレート(HDPIC)あるい
は1,3−ビス(2−ヒドロキシプロピル)−5−(2
−プロペニル)−イソシアヌレート(BHPIC)と、
を表1に示す割合で調合した。また、平均分子量が30
000〜60000のトリアリルイソシアヌレートプレ
ポリマー(TAICPP)を表1の比率で、さらにジア
リルパーオキサイドを1質量%の割合で添加して、3本
ロールで混練して導電性ペーストを調製した。また、直
径20mmのコーン型粘度計を用いて、せん断速度10
0s-1における粘度を測定し、表1に示した。(配線基
板の作製)一方、ポリフェニレンエーテル樹脂40体積
%と、シリカを60体積%からなるBステージの絶縁シ
ートに対して、マイクロドリルによって直径が200μ
mのビアホールをビアホールの中心間の間隔500μm
で2つ形成し、そのビアホール内に前記のようにして調
製した導電性ペーストを充填した。
[Example] (Preparation of conductive paste) First, the average particle size is 5μ.
m conductive powder (silver content 3% by mass for Ag-coated Cu powder), triallyl isocyanurate, and 1- (2-hydroxypropyl) -3 as a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent. , 5-di-2
-Propenyl-isocyanurate (HDPIC) or 1,3-bis (2-hydroxypropyl) -5- (2
-Propenyl) -isocyanurate (BHPIC),
Was prepared at the ratio shown in Table 1. The average molecular weight is 30
000 to 60,000 triallyl isocyanurate prepolymer (TAICPP) was added at a ratio shown in Table 1 and diallyl peroxide was added at a ratio of 1% by mass, and the mixture was kneaded with a three-roll to prepare a conductive paste. Also, using a cone type viscometer with a diameter of 20 mm, a shear rate of 10
The viscosity at 0 s -1 was measured and is shown in Table 1. (Fabrication of Wiring Board) On the other hand, the diameter of the micro-drill was 200 μm with respect to the B-stage insulating sheet composed of 40% by volume of polyphenylene ether resin and 60% by volume of silica.
m via hole, the distance between the center of the via hole is 500 μm
And two conductive pastes prepared as described above were filled in the via holes.

【0051】そして、導電性ペーストを埋め込んだBス
テージ状態の絶縁シートの両面に、厚さ12μmの銅箔
からなる導体配線層を転写法により前記ビアホール導体
の両端を挟持するように貼り合わせた後、200℃で、
2MPaの圧力で、60分間硬化処理を行い、単層の配
線基板を作製した。
Then, a conductor wiring layer made of a copper foil having a thickness of 12 μm is attached to both sides of the B-stage insulating sheet in which the conductive paste is embedded by a transfer method so as to sandwich both ends of the via-hole conductor. At 200 ° C
Curing treatment was performed at a pressure of 2 MPa for 60 minutes to produce a single-layer wiring board.

【0052】得られた配線基板におけるビアホール導体
の体積固有抵抗率(表中ではビア抵抗と記載)を測定
し、表1に示した。なお、この体積固有抵抗の測定は、
ビアホール導体を両側から挟持する金属箔からなる導体
配線層間の抵抗を測定したものである。
The volume resistivity (described as via resistance in the table) of the via-hole conductor in the obtained wiring board was measured and is shown in Table 1. The measurement of the volume resistivity is
This is a measurement of resistance between conductor wiring layers made of metal foil sandwiching a via hole conductor from both sides.

【0053】また、硬化後の配線基板を200℃に加
熱、冷却した後、絶縁基板のビアホール導体形成部周囲
への浸み出し状態を観察し、ビアホール導体の周辺への
最大のにじみ幅を測定した。また、ビアホール導体の表
面を観察して、金属粒子と樹脂分との濡れ状態について
観察した。観察の結果、金属粒子の表面全体が樹脂分と
濡れて粒子と粒子間が樹脂分によって緻密に充填された
状態を〇、金属粒子の一部が樹脂分と濡れており、一部
に金属粒子形が明確に観察でき、金属粒子間に一部に空
隙が観察される状態を△、金属粒子の表面に樹脂が存在
するものと、粒子個々が独立して存在し、粒子間に空隙
が存在する状態を×として、表1に示した。
Also, after the wiring board after curing is heated to 200 ° C. and cooled, the state of leaching of the insulating board around the via-hole conductor forming portion is observed, and the maximum bleeding width around the via-hole conductor is measured. did. Moreover, the surface of the via-hole conductor was observed to observe the wet state of the metal particles and the resin component. As a result of the observation, a state where the entire surface of the metal particles is wet with the resin component and the space between the particles and the particles are densely filled with the resin component is 〇, a part of the metal particles is wet with the resin component, and a part of the metal particles is The state where the shape can be clearly observed and a part of voids are observed between the metal particles is △, the resin is present on the surface of the metal particles and the individual particles are independently present, and the voids are present between the particles. The results are shown in Table 1 with the state of being marked as x.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】表1の結果から明らかなように、誘導体を
含まない場合(No.1、7)では、にじみが大きく、
しかもビアホール導体は、粒子と樹脂の濡れ性がなく、
ビアホール導体内には多くの気孔が存在していた。
As is clear from the results of Table 1, when the derivative was not contained (Nos. 1 and 7), bleeding was large,
Moreover, the via-hole conductor has no wettability between particles and resin,
There were many pores in the via-hole conductor.

【0056】これに対して、置換基として水酸基を含む
シアヌル酸骨格を有する誘導体を含むことによって、に
じみが少なくなり、同時にビアホール導体も粒子と樹脂
分が完全に濡れておりビアホール導体内にはほとんど気
孔は存在しないものであった。特に誘導体の量がトリア
リルイソシアヌレートとの比率で5〜50質量部で特に
良好な結果を得た。
On the other hand, by including a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent, bleeding is reduced, and at the same time, the via-hole conductor is completely wetted with particles and resin, so that the inside of the via-hole conductor is almost free. There were no pores. Particularly good results were obtained when the amount of the derivative was 5 to 50 parts by mass in the ratio with the triallyl isocyanurate.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上詳述べたように、本発明の導電性ペ
ーストは、ビアホール導体などの充填物として用いた場
合においても、トリアリルイソシアヌレートの絶縁基板
へのにじみを有効に防止し、絶縁基板の絶縁性を損ねる
ことがなく、また導電性ペーストによる保形性とビアホ
ール等への埋込充填性に優れ、安定したビアホール導体
等の形成を実現することができる。
As described in detail above, the conductive paste of the present invention effectively prevents bleeding of triallyl isocyanurate on an insulating substrate even when used as a filling material for via-hole conductors, etc. It is possible to realize stable formation of via-hole conductors and the like without impairing the insulating property of the substrate, excellent in shape retention by the conductive paste, and filling and filling in via-holes.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の配線基板の製造方法の一例を説明する
ための工程図である。
FIG. 1 is a process drawing for explaining an example of a method for manufacturing a wiring board according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 絶縁シート 12 ビアホール 13 ビアホール導体 14 導体配線層 15 転写シート 11 Insulation sheet 12 beer hall 13 Via hole conductor 14 Conductor wiring layer 15 Transfer sheet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/46 H05K 3/46 G N Fターム(参考) 4E351 AA01 BB01 BB24 BB26 BB31 BB49 CC11 DD04 DD05 DD06 DD12 DD19 DD20 EE02 EE03 EE11 EE28 GG09 GG11 5E317 AA24 BB01 BB11 BB12 BB13 BB14 BB15 CC25 CD21 CD32 GG01 GG11 5E343 AA02 AA07 AA12 BB02 BB22 BB24 BB66 DD56 ER52 GG08 5E346 AA06 AA12 AA15 AA35 AA38 AA43 BB01 CC02 CC08 CC31 DD02 DD33 EE02 EE06 FF18 FF35 GG28 HH07 5G301 DA03 DA05 DA06 DA10 DA11 DA13 DA42 DD01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 3/46 H05K 3/46 GN F term (reference) 4E351 AA01 BB01 BB24 BB26 BB31 BB49 CC11 DD04 DD05 DD06 DD12 DD19 DD20 EE02 EE03 EE11 EE28 GG09 GG11 5E317 AA24 BB01 BB11 BB12 BB13 BB14 BB15 CC25 CD21 CD32 GG01 GG01 GG11 GG22 BB22 BB22 BB22 BB22 HH07 5G301 DA03 DA05 DA06 DA10 DA11 DA13 DA42 DD01

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】トリアリルイソシアヌレートと、置換基と
して水酸基を含むシアヌル酸骨格を有する誘導体と、導
電性粉末とを含有することを特徴とする導電性ペース
ト。
1. A conductive paste containing triallyl isocyanurate, a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent, and a conductive powder.
【請求項2】前記誘導体が、1−(2−ヒドロキシプロ
ピル)−3,5−ジ−2−プロペニル−イソシアヌレー
トあるいは1,3−ビス(2−ヒドロキシプロピル)−
5−(2−プロペニル)−イソシアヌレートであること
を特徴とする請求項1記載の導電性ペースト。
2. The derivative is 1- (2-hydroxypropyl) -3,5-di-2-propenyl-isocyanurate or 1,3-bis (2-hydroxypropyl)-.
The conductive paste according to claim 1, which is 5- (2-propenyl) -isocyanurate.
【請求項3】前記導電性粉末が、金、銀、パラジウム、
銅、ニッケル、錫および鉛の群から選ばれる少なくとも
1種であることを特徴とする請求項1または2記載の導
電性ペースト。
3. The conductive powder is gold, silver, palladium,
The conductive paste according to claim 1 or 2, which is at least one selected from the group consisting of copper, nickel, tin and lead.
【請求項4】前記誘導体を前記トリアリルイソシアヌレ
ートとの合計100質量部中、5〜50質量部の割合で
添加することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいず
れか記載の導電性ペースト。
4. The conductive material according to claim 1, wherein the derivative is added in a ratio of 5 to 50 parts by mass in a total of 100 parts by mass with the triallyl isocyanurate. paste.
【請求項5】前記トリアリルイソシアヌレートを全量
中、7〜20質量%の割合で含有することを特徴とする
請求項1乃至請求項4のいずれか記載の導電性ペース
ト。
5. The conductive paste according to claim 1, wherein the triallyl isocyanurate is contained in a proportion of 7 to 20 mass% in the total amount.
【請求項6】トリアリルイソイアヌレートプレポリマー
を前記トリアリルイソシアヌレートとの合計100質量
部中に、5〜40質量部の割合で添加することを特徴と
する請求項1乃至請求項5のいずれか記載の記載の導電
性ペースト。
6. The triallyl isoiyanurate prepolymer is added in an amount of 5 to 40 parts by mass in a total of 100 parts by mass with the triallyl isocyanurate prepolymer. The conductive paste according to any one of the above.
【請求項7】前記トリアリルイソシアヌレートプレポリ
マーの重量平均分子量が1500〜70000であるこ
とを特徴とする請求項6記載の導電性ペースト。
7. The conductive paste according to claim 6, wherein the triallyl isocyanurate prepolymer has a weight average molecular weight of 1500 to 70,000.
【請求項8】少なくとも有機樹脂を含有する未硬化ある
いは半硬化状態の絶縁シートに形成されたビアホールに
導電性ペーストを充填してビアホール導体を形成する工
程と、前記ビアホール導体形成部を含む前記絶縁シート
表面に導体配線層を形成する工程と、前記絶縁シートを
積層して一体化し、前記有機樹脂の硬化温度に加熱して
一括硬化する工程とを具備することを特徴とする配線基
板の製造方法であって、トリアリルイソシアヌレート
と、置換基として水酸基を含むシアヌル酸骨格を有する
誘導体と、導電性粉末とを含有する導電性ペーストを塗
布または充填して前記ビアホール導体および/または前
記導体配線層を形成することを特徴とする配線基板の製
造方法。
8. A step of filling a via hole formed in an uncured or semi-cured insulating sheet containing at least an organic resin with a conductive paste to form a via hole conductor, and the insulating including the via hole conductor forming portion. A method of manufacturing a wiring board, comprising: a step of forming a conductor wiring layer on a surface of a sheet; and a step of stacking and integrating the insulating sheets and heating them to a curing temperature of the organic resin to collectively cure them. A conductive paste containing triallyl isocyanurate, a derivative having a cyanuric acid skeleton containing a hydroxyl group as a substituent, and a conductive powder is applied or filled to form the via-hole conductor and / or the conductor wiring layer. A method for manufacturing a wiring board, comprising:
【請求項9】前記導電性ペースト中の誘導体が、1−
(2−ヒドロキシプロピル)−3,5−ジ−2−プロペ
ニル−イソシアヌレートあるいは1,3−ビス(2−ヒ
ドロキシプロピル)−5−(2−プロペニル)−イソシ
アヌレートであることを特徴とする請求項8記載の配線
基板の製造方法。
9. The derivative in the conductive paste is 1-
It is (2-hydroxypropyl) -3,5-di-2-propenyl-isocyanurate or 1,3-bis (2-hydroxypropyl) -5- (2-propenyl) -isocyanurate. Item 9. A method for manufacturing a wiring board according to item 8.
【請求項10】前記導電性ペースト中の前記導電性粉末
が、金、銀、パラジウム、銅、ニッケル、錫および鉛の
群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする
請求項8または請求項9記載の配線基板の製造方法。
10. The conductive powder in the conductive paste is at least one selected from the group consisting of gold, silver, palladium, copper, nickel, tin and lead. Item 10. A method for manufacturing a wiring board according to Item 9.
【請求項11】前記導電性ペースト中の前記誘導体をト
リアリルイソシアヌレートとの合計100質量部中、5
〜50質量部添加することを特徴とする請求項8乃至請
求項10のいずれか記載の配線基板の製造方法。
11. The derivative in the electroconductive paste is added to triallyl isocyanurate in a total amount of 100 parts by mass to give 5
The method for manufacturing a wiring board according to claim 8, wherein the amount is added in an amount of ˜50 parts by mass.
【請求項12】前記導電性ペースト中の前記トリアリル
イソイアヌレートを全量中7〜20質量%添加すること
を特徴とする請求項8乃至請求項11のいずれか記載の
配線基板の製造方法。
12. The method of manufacturing a wiring board according to claim 8, wherein the triallylisoianurate in the conductive paste is added in an amount of 7 to 20% by mass based on the total amount.
【請求項13】前記導電性ペースト中に、トリアリルイ
ソイアヌレートプレポリマーを前記トリアリルイソシア
ヌレートとの合計100質量部中に、5〜40質量部添
加することを特徴とする請求項8乃至請求項12のいず
れか記載の配線基板の製造方法。
13. The conductive paste containing 5 to 40 parts by mass of triallyl isoiyanurate prepolymer is added to 100 parts by mass of the triallyl isocyanurate prepolymer. The method for manufacturing a wiring board according to claim 12.
【請求項14】前記トリアリルイソシアヌレートプレポ
リマーの重量平均分子量が1500〜70000である
ことを特徴とする請求項13記載の配線基板の製造方
法。
14. The method for producing a wiring board according to claim 13, wherein the triallyl isocyanurate prepolymer has a weight average molecular weight of 1500 to 70,000.
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