JP2003086362A - Display device and its manufacturing method, and electronic equipment - Google Patents

Display device and its manufacturing method, and electronic equipment

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JP2003086362A
JP2003086362A JP2001276140A JP2001276140A JP2003086362A JP 2003086362 A JP2003086362 A JP 2003086362A JP 2001276140 A JP2001276140 A JP 2001276140A JP 2001276140 A JP2001276140 A JP 2001276140A JP 2003086362 A JP2003086362 A JP 2003086362A
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JP
Japan
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layer
heat
organic electroluminescent
display device
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001276140A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshitaka Kawashima
利孝 河嶋
Shina Kuriki
科 栗木
Masato Kobayashi
正人 小林
Shunji Amano
俊二 天野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/8794Arrangements for heating and cooling

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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image display device in which deterioration of the organic electroluminescence element due to heat is suppressed, and freedom of layout of the picture element is high, and the numerical aperture can be improved. SOLUTION: A heat radiating region 27 including a heat conduction layer 28 is formed on the organic electroluminescent element 13 through a protection layer 26. A first and a second plugs 31, 32 as a connection point are formed at the position apart from the organic electroluminescent element 13. By positioning a plurality of holes 18A, 18B of the flexible printed-circuit board 18 and the first and second plugs 31, 32, and melting a solder in the plural holes 18A, 18B, electric connection parts 18E are formed, and the flexible printed-circuit board and the first and second plugs 31, 32 are connected. The melting heat of the solder is dispersed through the heat conduction layer 28 as shown by the arrow mark B. Since the heat radiating region 27 includes a heat insulation layer 29, the melting heat of the solder is first cut off by the heat insulation layer 29.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置、特に、
電流が注入されることにより発光する有機化合物を構成
要素に含む有機電界発光素子を備えた有機EL(Electr
oluminescence )ディスプレイに関する。本発明は、ま
た、この表示装置の製造方法、およびこの表示装置を用
いた電子機器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a display device, and more particularly to
An organic EL (Electrifier) equipped with an organic electroluminescence device containing an organic compound that emits light when a current is injected
oluminescence) Display. The present invention also relates to a method for manufacturing the display device and electronic equipment using the display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、表示装置(ディスプレイ)として
は、据え置き型のブラウン管すなわちCRT(Cathode
Ray Tube)装置や、携帯用や薄型化の要求を満たすため
のフラットパネルディスプレイがある。ブラウン管は輝
度が高く、色再現性が良いために現在多用されている
が、占有容量が大きい、重い、消費電力が大きい等の問
題点が指摘されている。一方、フラットパネルディスプ
レイは、軽量であり、ブラウン管よりも発光効率に優れ
ており、コンピュータやテレビジョンの画面表示用とし
て期待されている。現在、フラットパネルディスプレイ
では、アクティブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレ
イ(LCD;Liquid Crystal Display)が商品化されて
いる。このLCDは、自ら発光せずに外部よりの光(バ
ックライト)を受けて表示するタイプのディスプレイで
あり、視野角が狭い、自発光型ではないために周囲が暗
い環境下ではバックライトの消費電力が大きい、今後実
用化が期待されている高精細度の高速のビデオ信号に対
して十分な応答性能を備えていない等の問題点が指摘さ
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a display device, a stationary cathode ray tube, that is, a CRT (Cathode) is used.
Ray Tube) devices and flat panel displays to meet the demands of portable and thin products. CRTs are currently widely used because they have high brightness and good color reproducibility, but problems such as large occupied capacity, heavy weight, and large power consumption have been pointed out. On the other hand, a flat panel display is lightweight and has a higher luminous efficiency than a cathode ray tube, and is expected as a screen display for computers and televisions. Currently, as a flat panel display, an active matrix driving type liquid crystal display (LCD; Liquid Crystal Display) has been commercialized. This LCD is a type of display which receives light from the outside (backlight) and does not emit light by itself, and has a narrow viewing angle, and because it is not a self-luminous type, it consumes the backlight in a dark environment. It has been pointed out that there are problems such as high power consumption and insufficient response performance for high-definition and high-speed video signals that are expected to be put to practical use in the future.

【0003】このような種々の問題点を解決する可能性
のあるディスプレイとして、近年、電流が注入されるこ
とにより発光する有機発光材料を用いた有機ELディス
プレイが注目されている。この有機ELディスプレイ
は、バックライトが不要である自発光型のフラットパネ
ルディスプレイであり、自発光型ディスプレイに特有の
視野角の広いディスプレイが実現できるという利点を有
する。また、必要な画素のみを点灯させればよいために
更なる消費電力の低減を図ることが可能であると共に、
上述の高精細度の高速のビデオ信号に対して十分な応答
性能を備えていると考えられている。
As a display capable of solving such various problems, an organic EL display using an organic light emitting material which emits light when an electric current is injected has been attracting attention in recent years. This organic EL display is a self-luminous flat panel display that does not require a backlight, and has an advantage that a display having a wide viewing angle, which is peculiar to the self-luminous display, can be realized. In addition, it is possible to further reduce the power consumption because only the necessary pixels need to be turned on.
It is considered to have sufficient response performance for the above-mentioned high-definition and high-speed video signal.

【0004】有機ELディスプレイは以上のような利点
を有することから、従来は液晶ディスプレイが主流であ
ったフラットパネルディスプレイ用途への開発が進めら
れてきている。近年では、発光材料などの進歩により、
有機EL素子は高効率化、長寿命化およびフルカラー化
が達成されつつあり、ディスプレイとしての実用化が目
されている。
Since the organic EL display has the above-mentioned advantages, the liquid crystal display has been mainly developed for the flat panel display use, which has been the mainstream. In recent years, due to advances in light-emitting materials,
Organic EL devices are being achieved with higher efficiency, longer life and full color, and are being put to practical use as displays.

【0005】有機ELディスプレイを構成する素子とし
ては、透明基板上に透明導電膜よりなる短冊状の電極層
(陽極)が形成されており、この透明電極層と交差する
ように有機電界発光層および金属薄膜よりなる短冊状の
電極層(陰極)が形成され、透明電極層と金属電極層と
で有機電界発光層を挟んだ構造を有する有機電界発光素
子が知られている。この有機電界発光素子では、透明電
極層と金属電極層とがマトリクス構造を形成しており、
選択された透明電極層と金属電極層との間に電圧を印加
して有機電界発光層に電流を流すことによって、画素を
発光させる。
As an element constituting an organic EL display, a strip-shaped electrode layer (anode) made of a transparent conductive film is formed on a transparent substrate, and an organic electroluminescent layer and an organic electroluminescent layer are formed so as to intersect with the transparent electrode layer. There is known an organic electroluminescent device having a structure in which a strip-shaped electrode layer (cathode) made of a metal thin film is formed and an organic electroluminescent layer is sandwiched between a transparent electrode layer and a metal electrode layer. In this organic electroluminescent device, the transparent electrode layer and the metal electrode layer form a matrix structure,
A pixel is made to emit light by applying a voltage between the selected transparent electrode layer and the selected metal electrode layer and applying a current to the organic electroluminescent layer.

【0006】透明電極層および金属電極層の端部には、
両電極間に電圧を印加するための駆動用IC(Integrat
ed Circuit;集積回路)あるいは駆動用ICが実装され
た駆動回路基板、または外部への接続用のフレキシブル
プリント配線板などが電気的に接続される。この電気的
接続は、従来では、微小ピッチに対応できて取り扱いの
容易なACF(Anisotropic Conductive Film ;異方性
導電膜)を介して行われている。ACFは、熱硬化性樹
脂などの接着剤(バインダ)にニッケル(Ni),半田
などの金属粒子やカーボン粒子などの導電粒子を分散さ
せ、厚さ約20μmのシート状に成形したものである。
ACFの接合の際には、まずACFを仮圧着した後、接
合されるべき基板等を位置合わせし、200〜250℃
の温度で20〜30分間、20〜30kg/cm2 の圧
力を加えて本圧着(ボンディング)する。
At the ends of the transparent electrode layer and the metal electrode layer,
Driving IC (Integrat for applying voltage between both electrodes
An ed circuit (integrated circuit), a drive circuit board on which a drive IC is mounted, or a flexible printed wiring board for external connection is electrically connected. Conventionally, this electrical connection is made via an ACF (Anisotropic Conductive Film) which can handle a fine pitch and is easy to handle. The ACF is obtained by dispersing conductive particles such as metal particles such as nickel (Ni) and solder and carbon particles into an adhesive (binder) such as a thermosetting resin, and molding the sheet into a sheet having a thickness of about 20 μm.
When joining the ACFs, first, the ACFs are temporarily pressure-bonded, then the substrates to be joined are aligned, and the temperature is set to 200 to 250 ° C.
At this temperature for 20 to 30 minutes, a pressure of 20 to 30 kg / cm 2 is applied for main pressure bonding (bonding).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有機電
界発光素子を構成している有機化合物の耐えうる温度は
80℃程度である。上述のようにACFの接合には20
0〜250℃の高温を20〜30分間にわたって加える
必要があるので、接合の際の熱によって有機電界発光素
子が劣化する虞がある。このため、有機電界発光素子の
近傍での接合はできなかった。
However, the temperature that the organic compound constituting the organic electroluminescent device can withstand is about 80 ° C. As mentioned above, 20 is required for ACF bonding.
Since it is necessary to apply a high temperature of 0 to 250 ° C. for 20 to 30 minutes, the organic electroluminescent element may be deteriorated by the heat at the time of bonding. For this reason, joining was not possible in the vicinity of the organic electroluminescent element.

【0008】このようなことから、本出願人と同一出願
人は先に、上記問題を解決し、有機電界発光素子の近傍
での電気的接続を可能とするディスプレイ装置を提案し
た(特願2000−368663)。このディスプレイ
装置は、基板上の有機電界発光素子に重ならない位置に
導電性の金属膜を設ける一方、フレキシブルプリント配
線板に複数の穴を形成してその穴の周囲部分に導電性の
接続部分を形成しておき、基板上の導電性の金属膜とフ
レキシブルプリント配線板の複数の穴とを位置合わせ
し、この複数の穴に半田ボールを投入してレーザ光によ
り溶解し、これにより導電性の金属膜とフレキシブルプ
リント配線板とを電気的に接続するように構成したもの
である。
Under the circumstances, the same applicant as the present applicant has previously proposed a display device which solves the above-mentioned problems and enables electrical connection in the vicinity of the organic electroluminescent element (Japanese Patent Application No. 2000-2000). -368663). In this display device, a conductive metal film is provided on the substrate at a position that does not overlap the organic electroluminescent device, while a plurality of holes are formed in the flexible printed wiring board and a conductive connecting portion is provided around the holes. Once formed, the conductive metal film on the substrate and the multiple holes of the flexible printed wiring board are aligned, solder balls are put into these holes and melted by laser light. The metal film and the flexible printed wiring board are electrically connected.

【0009】しかしながら、上記構成においては、溶解
された半田ボールの周辺に熱が集中し、この熱により有
機電界発光層、ひいては有機電界発光素子が劣化する虞
がある。これを避けるため、基板とフレキシブルプリン
ト配線板との接合部分を有機電界発光素子から十分離す
などの対策が必要になり、ディスプレイ内部の画素のレ
イアウトに対する制約、具体的には開口率の低下などの
問題が生じる可能性がある。
However, in the above structure, heat is concentrated around the melted solder balls, and this heat may deteriorate the organic electroluminescent layer, and thus the organic electroluminescent element. In order to avoid this, it is necessary to take measures such as separating the joint portion between the substrate and the flexible printed wiring board from the organic electroluminescent element sufficiently, which may impose restrictions on the pixel layout inside the display, specifically, decrease in aperture ratio. Problems can occur.

【0010】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、熱による有機電界発光素子の劣化を
抑制し、画素のレイアウトの自由度が高く開口率を向上
させることのできる表示装置およびその製造方法、なら
びに電子機器を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to suppress deterioration of an organic electroluminescent device due to heat, have a high degree of freedom in pixel layout, and improve an aperture ratio. An object is to provide a device, a manufacturing method thereof, and an electronic device.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明による表示装置
は、基板と、基板上に、第1の電極層と、有機電界発光
層と、第2の電極層とをこの順に配設した構造を有する
有機電界発光素子と、有機電界発光素子の基板と反対側
に設けられるとともに、少なくとも一層の熱伝導層を含
む熱放散領域と、有機電界発光素子から外れた位置に形
成されるとともに、熱放散領域を貫通し、第1の電極層
に到達する導電性の第1のプラグと、有機電界発光素子
から外れた位置に形成されるとともに、熱放散領域を貫
通し、第2の電極層に到達する導電性の第2のプラグ
と、周縁および内周面に導電膜が形成された複数の孔を
第1および第2のプラグに対応する位置に有する配線基
板と、配線基板の複数の孔それぞれにおいて、配線基板
の導電膜と第1または第2のプラグとを電気的に接続し
てなる電気的接続部とを備えたものである。
A display device according to the present invention has a structure in which a substrate, a first electrode layer, an organic electroluminescent layer, and a second electrode layer are arranged in this order on the substrate. The organic electroluminescent device has a heat dissipating region that is provided on the opposite side of the substrate of the organic electroluminescent device, and includes a heat dissipation layer including at least one heat conducting layer, and a heat dissipating region that is formed outside the organic electroluminescent device. A conductive first plug that penetrates the region and reaches the first electrode layer, and is formed at a position outside the organic electroluminescent element, penetrates the heat dissipation region, and reaches the second electrode layer. A conductive second plug, a wiring board having a plurality of holes having a conductive film formed on the peripheral and inner peripheral surfaces at positions corresponding to the first and second plugs, and a plurality of holes of the wiring board, respectively. In, the conductive film of the wiring board and the first or A second plug is obtained and an electrical connection formed by electrically connecting.

【0012】本発明による表示装置の製造方法は、基板
上に、第1の電極層と、有機電界発光層と、第2の電極
層とを備えた有機電界発光素子を形成する工程と、有機
電界発光素子の基板と反対側に、少なくとも一層の熱伝
導層を含む熱放散領域を形成する工程と、有機電界発光
素子から外れた位置に、熱放散領域を貫通するとともに
第1の電極層に達する導電性の第1のプラグを形成する
工程と、有機電界発光素子から外れた位置に、熱放散領
域を貫通するとともに第2の電極層に達する導電性の第
2のプラグを形成する工程と、周縁および内周面に導電
膜が形成された複数の孔を第1および第2のプラグに対
応する位置に有する配線基板を、基板に位置合わせした
後、複数の孔それぞれに導電性物質を充填する工程と、
導電性物質を加熱溶融させることにより電気的接続部を
形成し、配線基板の導電膜と第1のプラグまたは第2の
プラグとを接続させる工程とを含むようにしたものであ
る。
A method of manufacturing a display device according to the present invention comprises a step of forming an organic electroluminescent device having a first electrode layer, an organic electroluminescent layer and a second electrode layer on a substrate, and an organic electroluminescent element. Forming a heat-dissipating region including at least one heat-conducting layer on the side opposite to the substrate of the electroluminescent device, and penetrating the heat-dissipating region and forming a first electrode layer at a position apart from the organic electroluminescent device. A step of forming a conductive first plug that reaches, and a step of forming a conductive second plug that penetrates the heat dissipation region and reaches the second electrode layer at a position apart from the organic electroluminescent element After aligning a wiring board having a plurality of holes having conductive films formed on the peripheral edge and the inner peripheral surface at positions corresponding to the first and second plugs with the board, a conductive material is placed in each of the plurality of holes. Filling process,
The method further includes the step of forming an electrical connection portion by heating and melting a conductive material, and connecting the conductive film of the wiring board and the first plug or the second plug.

【0013】本発明による電子機器は、表示装置を含む
ものであって、表示装置が、基板と、基板上に、第1の
電極層と、有機電界発光層と、第2の電極層とをこの順
に配設した構造を有する有機電界発光素子と、有機電界
発光素子の基板と反対側に設けられるとともに、少なく
とも一層の熱伝導層を含む熱放散領域と、有機電界発光
素子から外れた位置に形成されるとともに、熱放散領域
を貫通し、第1の電極層に到達する導電性の第1のプラ
グと、有機電界発光素子から外れた位置に形成されると
ともに、熱放散領域を貫通し、第2の電極層に到達する
導電性の第2のプラグと、周縁および内周面に導電膜が
形成された複数の孔を第1および第2のプラグに対応す
る位置に有する配線基板と、配線基板の複数の孔それぞ
れにおいて、配線基板の導電膜と第1または第2のプラ
グとを電気的に接続してなる電気的接続部とを備えたも
のである。
The electronic device according to the present invention includes a display device, and the display device includes a substrate, a first electrode layer, an organic electroluminescent layer, and a second electrode layer on the substrate. An organic electroluminescent device having a structure arranged in this order, a heat dissipation region provided on the opposite side of the substrate of the organic electroluminescent device, including at least one heat conducting layer, and a position separated from the organic electroluminescent device. While being formed, it penetrates the heat-dissipating region and is formed at a position apart from the conductive first plug that reaches the first electrode layer and the organic electroluminescent element, and penetrates the heat-dissipating region, A conductive second plug reaching the second electrode layer, and a wiring board having a plurality of holes in which a conductive film is formed on a peripheral edge and an inner peripheral surface at positions corresponding to the first and second plugs, Wiring in each of the multiple holes on the wiring board It is obtained by a electrical connection formed by electrically connecting the conductive film and the first or second plug plate.

【0014】本発明による表示装置またはその製造方法
では、基板上に形成された有機電界発光素子と、この有
機電界発光素子の第1および第2の電極層に電気的に接
続された配線基板との間に、少なくとも一層の熱伝導層
を含む熱放散領域を設けたので、製造プロセスにおいて
発生あるいは外部から加えられた熱、または表示装置の
稼動中に有機電界発光素子内などにおいて発生した熱を
一点集中させずに、熱伝導層を介して分散させることが
できる。したがって、有機電界発光素子の有機電界発光
層に伝わる熱が著しく低減され、熱による有機電界発光
層に対する悪影響が抑えられ、有機電界発光素子の劣化
を防ぐことができる。
In the display device or the method of manufacturing the same according to the present invention, an organic electroluminescent element formed on a substrate, and a wiring substrate electrically connected to the first and second electrode layers of the organic electroluminescent element. Since a heat-dissipating region including at least one heat-conducting layer is provided between the two, heat generated in the manufacturing process or applied from the outside, or heat generated in the organic electroluminescent element during the operation of the display device, etc. It is possible to disperse through the heat conducting layer without concentrating at one point. Therefore, the heat transmitted to the organic electroluminescent layer of the organic electroluminescent element is significantly reduced, the adverse effect of the heat on the organic electroluminescent layer is suppressed, and the deterioration of the organic electroluminescent element can be prevented.

【0015】本発明による電子機器では、本発明による
表示装置を用いているので、熱による有機電界発光層に
対する悪影響が軽減され、ひいては有機電界発光素子の
劣化を防止することができる。
In the electronic device according to the present invention, since the display device according to the present invention is used, the adverse effect of heat on the organic electroluminescent layer can be reduced, and the deterioration of the organic electroluminescent element can be prevented.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0017】図6は、本発明の一実施の形態に係る電子
機器の全体構成を表している。図6に示した電子機器1
0は、具体的には、例えばテレビジョン受像機として用
いられるものである。電子機器10は、表示装置11を
備えている。表示装置11は、具体的には、有機電界発
光素子を備えた有機EL(Electroluminescence )ディ
スプレイである。表示装置11は、外側ケース11A内
に、例えば可視光領域で透明なガラスまたはプラスチッ
クからなる基板12を有している。この基板12は光を
取り出す面(フェースプレート)を兼ねており、ユーザ
は、基板12の表面12A側から表示された画像を見る
ことができる。
FIG. 6 shows the overall structure of an electronic device according to an embodiment of the present invention. Electronic device 1 shown in FIG.
Specifically, 0 is used, for example, as a television receiver. The electronic device 10 includes a display device 11. The display device 11 is specifically an organic EL (Electroluminescence) display including an organic electroluminescent element. The display device 11 has a substrate 12 made of, for example, transparent glass or plastic in the visible light region inside an outer case 11A. The substrate 12 also serves as a surface (face plate) for taking out light, and the user can see the displayed image from the front surface 12A side of the substrate 12.

【0018】図1は、表示装置11の一部を基板12の
裏面12B側から見た拡大分解斜視図である。基板12
の裏面12B側には、有機電界発光素子13を駆動する
ための駆動用IC16が実装された複数の駆動回路基板
17が配設されている。基板12と、駆動回路基板17
のそれぞれとは、フレキシブルプリント配線板18を介
して電気的に接続される。このように、一枚の基板12
に対して複数の駆動回路基板17を設けることにより、
配線を短くして配線抵抗による電圧降下を防止するとも
に、駆動回路基板17または駆動用IC16の交換やメ
ンテナンスが容易になるという利点がある。ここで、フ
レキシブルプリント配線板が、本発明における「配線基
板」に対応している。
FIG. 1 is an enlarged exploded perspective view of a part of the display device 11 seen from the back surface 12B side of the substrate 12. Board 12
A plurality of drive circuit boards 17 on which drive ICs 16 for driving the organic electroluminescent elements 13 are mounted are provided on the back surface 12B side of the. Substrate 12 and drive circuit board 17
Are electrically connected to each of the above through the flexible printed wiring board 18. In this way, one substrate 12
By providing a plurality of drive circuit boards 17 for
There are advantages that the wiring is shortened to prevent a voltage drop due to wiring resistance, and replacement and maintenance of the drive circuit board 17 or the drive IC 16 are facilitated. Here, the flexible printed wiring board is a feature that corresponds to the "wiring board" according to this invention.

【0019】基板12の裏面12Bには、図2に示した
ように、全面にわたって、複数の有機電界発光素子13
すなわち画素(発光点)14が2次元に配置形成されて
いる。画素14の隙間には、各ライン毎に、円形形状の
接続ポイント15が、一定間隔で設けられている。な
お、基板12の端部には、例えば正方形形状のアライン
メントマーク12Cが設けられている。
As shown in FIG. 2, a plurality of organic electroluminescent elements 13 are formed on the back surface 12B of the substrate 12 over the entire surface.
That is, the pixels (light emitting points) 14 are two-dimensionally arranged and formed. Circular connection points 15 are provided at regular intervals for each line in the gap between the pixels 14. A square alignment mark 12C, for example, is provided at the end of the substrate 12.

【0020】図1に示したフレキシブルプリント配線板
18には、接続ポイント15に対応して、複数の孔(図
2には図示せず。図3および図4参照)が形成されてい
る。この複数の孔についての詳細は後述する。さらに、
フレキシブルプリント配線板18には、図示しないが、
基板12のアラインメントマーク12Cに対応するアラ
インメントマークが形成されており、これらのアライン
メントマークを利用してフレキシブルプリント配線板1
8の複数の孔と基板12上の接続ポイント15とを位置
合わせして、後述するように例えば半田により接合する
ことができる。なお、フレキシブルプリント配線板18
と駆動回路基板17との電気的接続は、コネクタ17A
を介して行われている。また、駆動回路基板17どうし
は、コネクタ17Bを介して、別のフレキシブルプリン
ト配線板19により相互に電気的に接続されている。
A plurality of holes (not shown in FIG. 2; see FIGS. 3 and 4) are formed in the flexible printed wiring board 18 shown in FIG. 1 corresponding to the connection points 15. Details of the plurality of holes will be described later. further,
Although not shown on the flexible printed wiring board 18,
Alignment marks corresponding to the alignment marks 12C on the substrate 12 are formed, and the flexible printed wiring board 1 is formed by using these alignment marks.
The holes 8 and the connection points 15 on the substrate 12 can be aligned and joined by solder, for example, as described below. The flexible printed wiring board 18
And the drive circuit board 17 are electrically connected by the connector 17A.
Is done through. The drive circuit boards 17 are electrically connected to each other by another flexible printed wiring board 19 via the connector 17B.

【0021】有機電界発光素子13は、図3および図4
に示したように、基板12の裏面12B上に、基板側保
護層21を介して形成されている。なお、図3および図
4に示した有機電界発光素子13は、図2において例え
ば左上隅に位置する、周囲の二箇所に接続ポイント15
を有する画素14に対応している。有機電界発光素子1
3は、図2に示したように、周囲に一つも接続ポイント
15を有しないもの(例えば図2の中央付近の画素1
4)や、周囲の一箇所に接続ポイント15が設けられて
いるもの(例えば図2の左下隅の画素14)もある。
The organic electroluminescent device 13 is shown in FIGS.
As shown in FIG. 5, it is formed on the back surface 12B of the substrate 12 with the substrate-side protective layer 21 interposed therebetween. The organic electroluminescent device 13 shown in FIGS. 3 and 4 has connection points 15 at two peripheral positions, for example, located at the upper left corner in FIG.
Corresponding to the pixel 14 having Organic electroluminescent device 1
As shown in FIG. 2, 3 has no connection point 15 in the periphery (for example, pixel 1 near the center of FIG. 2).
4) or the one in which the connection point 15 is provided at one place on the periphery (for example, the pixel 14 in the lower left corner of FIG. 2).

【0022】基板12としては、上述のように、可視光
領域で透明なガラスまたはプラスチックからなる基板を
用いる。ガラス基板の場合には、例えばソーダガラス、
無アルカリガラスまたは石英ガラスなどが用いられる。
一方、プラスチック基板の場合には、例えばポリカーボ
ネート(PC),フッ素ポリイミド(PI),アクリル
樹脂(PMMA),ポリエチレンテレフタレート(PE
T),ポリアリレート(PAR),ポリエーテルスルフ
ォン(PES),ポリエーテルニトリル(PEN),シ
クロ・オレフィン系樹脂などを用いることができる。
As the substrate 12, a substrate made of glass or plastic which is transparent in the visible light region is used as described above. In the case of a glass substrate, for example, soda glass,
Alkali-free glass or quartz glass is used.
On the other hand, in the case of a plastic substrate, for example, polycarbonate (PC), fluoropolyimide (PI), acrylic resin (PMMA), polyethylene terephthalate (PE)
T), polyarylate (PAR), polyether sulfone (PES), polyether nitrile (PEN), cyclo-olefin resin, etc. can be used.

【0023】基板側保護層21は、可視光領域で透明で
あり、本実施の形態では例えば酸窒化ケイ素(SiO
N)から構成されている。基板側保護層21は、また、
水分や酸素等が有機電界発光素子13内に侵入すること
を防止し、有機電界発光素子13の劣化を防止するため
のパッシベーションとしての機能を有する。なお、基板
側保護層21には、反射防止特性が付与されていること
が望ましい。これは、有機電界発光素子13内で発生し
た光が基板12により反射されるのを防ぎ、基板12の
光透過率を向上させるためである。また、基板12の表
面12Aにも基板側保護層21と同様の保護層を設けて
もよい。
The substrate-side protective layer 21 is transparent in the visible light region, and in the present embodiment, it is made of, for example, silicon oxynitride (SiO 2).
N). The substrate-side protective layer 21 also includes
It has a function as a passivation for preventing moisture, oxygen, and the like from entering the organic electroluminescence element 13 and preventing the deterioration of the organic electroluminescence element 13. It is desirable that the substrate-side protective layer 21 be provided with antireflection properties. This is to prevent the light generated in the organic electroluminescent device 13 from being reflected by the substrate 12 and improve the light transmittance of the substrate 12. A protective layer similar to the substrate-side protective layer 21 may be provided on the surface 12A of the substrate 12.

【0024】有機電界発光素子13は、第1の電極層2
2と、有機電界発光層23と、第2の電極層24とが積
層された構造を有しており、第1の電極22と第2の電
極24との交点が画素(発光点)14に相当する。第1
の電極層22は、効率良く正孔を正孔輸送層に注入する
ために真空準位からの仕事関数が大きく、かつ、基板1
2の側から光を取り出すために可視光領域で透明である
ことが望ましい。このような第1の電極層22の材料と
して、具体的には、酸化インジウムスズ(ITO;Indi
um Tin Oxide),酸化スズ(SnO2 ),酸化亜鉛(Z
nO)が挙げられる。特に、生産性、制御性の観点から
は、ITOを用いるのが好ましい。
The organic electroluminescent device 13 includes the first electrode layer 2
2 has a structure in which an organic electroluminescent layer 23 and a second electrode layer 24 are laminated, and the intersection of the first electrode 22 and the second electrode 24 is a pixel (light emitting point) 14. Equivalent to. First
The electrode layer 22 has a large work function from the vacuum level in order to efficiently inject holes into the hole transport layer, and the substrate 1
In order to extract light from the side of 2, it is desirable that it is transparent in the visible light region. As a material of such a first electrode layer 22, specifically, indium tin oxide (ITO; Indi
um Tin Oxide), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (Z
nO). In particular, it is preferable to use ITO from the viewpoint of productivity and controllability.

【0025】第1の電極層22は、平面形状においてス
トライプ状に形成されており、隣接する第1の電極層2
2相互間は、絶縁層25により絶縁されている。絶縁層
25は、また、第1の電極層22と第2の電極層24と
の間の短絡を防ぐ機能も有している。本実施の形態で
は、絶縁層25は窒化ケイ素(SiN)から構成されて
いるので、電気絶縁性のみならず、水分や酸素にたいす
るバリア特性をも期待できる。
The first electrode layers 22 are formed in a stripe shape in a plan view, and the first electrode layers 2 adjacent to each other are formed.
The two layers are insulated from each other by the insulating layer 25. The insulating layer 25 also has a function of preventing a short circuit between the first electrode layer 22 and the second electrode layer 24. In the present embodiment, since the insulating layer 25 is made of silicon nitride (SiN), not only electrical insulation but also barrier properties against moisture and oxygen can be expected.

【0026】有機電界発光層23は、第1の電極層22
の側から順に、例えば、正孔輸送層、発光層および電子
輸送層が積層されてなる有機化合物層である。正孔輸送
層は、第1の電極層22から注入された正孔を発光層ま
で輸送し、一方、電子輸送層は、第2の電極層24から
注入される電子を発光層に輸送する。発光層は、第2の
電極層24および第1の電極層22間に電圧が印加され
たときに、第2の電極層24および第1の電極層22の
それぞれから電子および正孔が注入され、さらにこれら
電子および正孔が再結合する領域である。発光層は、発
光効率が高い材料、例えば、低分子蛍光色素,蛍光性の
高分子,金属錯体等の有機材料から構成されている。こ
のように、有機電界発光層23は、キャリア輸送性が互
いに異なる材料からなる複数の層の積層構造となってい
るので、第1の電極層22および第2の電極層24から
のキャリア注入効率およびキャリア再結合効率を向上さ
せることができる。なお、有機電界発光層23は上記の
3層構造に限らず、例えば正孔輸送層または電子輸送層
に発光材料をドープすることにより、正孔輸送層を兼ね
る発光層と電子輸送層との2層構造、または正孔輸送層
と電子輸送層を兼ねる発光層との2層構造としてもよ
い。
The organic electroluminescent layer 23 is the first electrode layer 22.
From the side of, for example, an organic compound layer in which a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer are laminated. The hole transport layer transports holes injected from the first electrode layer 22 to the light emitting layer, while the electron transport layer transports electrons injected from the second electrode layer 24 to the light emitting layer. In the light emitting layer, when a voltage is applied between the second electrode layer 24 and the first electrode layer 22, electrons and holes are injected from the second electrode layer 24 and the first electrode layer 22, respectively. Further, it is a region where these electrons and holes are recombined. The light emitting layer is made of a material having a high luminous efficiency, for example, an organic material such as a low molecular weight fluorescent dye, a fluorescent polymer, and a metal complex. As described above, the organic electroluminescent layer 23 has a laminated structure of a plurality of layers made of materials having different carrier transporting properties, so that carrier injection efficiency from the first electrode layer 22 and the second electrode layer 24 is high. And the carrier recombination efficiency can be improved. The organic electroluminescent layer 23 is not limited to the above-mentioned three-layer structure, and for example, by doping the hole transport layer or the electron transport layer with a light emitting material, the organic light emitting layer 23 has a light emitting layer also serving as the hole transport layer and an electron transport layer. It may have a layer structure or a two-layer structure of a hole transport layer and a light emitting layer also serving as an electron transport layer.

【0027】第2の電極層24は、効率良く電子を注入
するために真空準位からの仕事関数が小さい材料から構
成されることが好ましい。具体的には、例えば、アルミ
ニウム(Al),インジウム(In),マグネシウム
(Mg),銀(Ag),カルシウム(Ca),バリウム
(Ba),リチウム(Li)が挙げられる。これらの金
属は単体で用いてもよく、または、他の金属との合金と
して安定性を高めて使用してもよい。
The second electrode layer 24 is preferably made of a material having a small work function from the vacuum level in order to efficiently inject electrons. Specific examples include aluminum (Al), indium (In), magnesium (Mg), silver (Ag), calcium (Ca), barium (Ba), and lithium (Li). These metals may be used alone, or may be used as alloys with other metals with increased stability.

【0028】有機電界発光素子13の表面全体は、保護
層26により覆われている。保護層26は、有機電界発
光素子13の劣化防止および動作信頼性の保障のため
に、有機電界発光素子13を封止し、酸素や水分を遮断
するものである。したがって、保護層26は、気密性を
保つことが可能な材料から構成されることが必要であ
る。具体的には、例えば、酸化ケイ素(SiOx ),窒
化ケイ素(SiNx ),酸化アルミニウム(Al
2 3 ),窒化アルミニウム(AlN)が挙げられる。
本実施の形態では、例えば、酸窒化ケイ素(SiON)
を使用している。
The entire surface of the organic electroluminescent device 13 is covered with a protective layer 26. The protective layer 26 seals the organic electroluminescent device 13 and shuts off oxygen and moisture in order to prevent deterioration of the organic electroluminescent device 13 and ensure operational reliability. Therefore, the protective layer 26 needs to be made of a material capable of maintaining hermeticity. Specifically, for example, silicon oxide (SiO x ), silicon nitride (SiN x ), aluminum oxide (Al
2 O 3 ) and aluminum nitride (AlN).
In the present embodiment, for example, silicon oxynitride (SiON)
Are using.

【0029】本実施の形態においては、保護層26の表
面に、さらに、熱放散領域27が設けられている。熱放
散領域27は、後述するように、少なくとも一層の熱伝
導層28を含んでいる。これにより、熱放散領域27
は、表示装置11の製造プロセスにおいて発生あるいは
外部から加えられた熱、または表示装置11の稼動中に
有機電界発光素子13内などにおいて発生した熱を一点
集中させずに、熱伝導層28を介して分散させることが
できるようになっている。この熱放散領域27の上に、
接着剤30を介してフレキシブルプリント配線板18が
接着されている。この接着剤30としては、例えばアク
リル系粘着剤を用いることができる。
In the present embodiment, a heat dissipation area 27 is further provided on the surface of the protective layer 26. The heat dissipation area 27 includes at least one heat conduction layer 28, as will be described later. As a result, the heat dissipation area 27
Does not concentrate the heat generated in the manufacturing process of the display device 11 or applied from the outside, or the heat generated in the organic electroluminescent element 13 during the operation of the display device 11 via one point through the heat conduction layer 28. It can be dispersed. Above this heat dissipation area 27,
The flexible printed wiring board 18 is bonded via the adhesive 30. As the adhesive 30, for example, an acrylic adhesive can be used.

【0030】保護層26および熱放散領域27には、上
述の接続ポイント15として、有機電界発光素子13か
ら外れた位置に、第1のプラグ31および第2のプラグ
32が形成されている。第1のプラグ31は、保護層2
6および熱放散領域27を貫通して、一端は第1の電極
層22に達し、他端には接着剤30を貫通する第1の電
極パッド31Aが形成されている。また、第2のプラグ
32は、保護層26および熱放散領域27を貫通して、
一端は第2の電極層24に達し、他端には接着剤30を
貫通する第2の電極パッド32Aが形成されている。第
1および第2のプラグ31,32は例えばニッケル(N
i)から構成されており、第1および第2の電極パッド
31A,32Aは例えば金(Au)から構成されてい
る。なお、第1および第2の電極パッド31A,32A
は、金の代わりに、半田や銅(Cu)、あるいは金をめ
っきしたニッケルから構成してもよい。
In the protective layer 26 and the heat dissipation area 27, a first plug 31 and a second plug 32 are formed as the above-mentioned connection points 15 at positions outside the organic electroluminescent element 13. The first plug 31 has a protective layer 2
6 and the heat dissipation area 27 are penetrated, one end reaches the first electrode layer 22, and the other end is formed with a first electrode pad 31A penetrating the adhesive 30. In addition, the second plug 32 penetrates the protective layer 26 and the heat dissipation area 27,
One end reaches the second electrode layer 24, and the other end has a second electrode pad 32A penetrating the adhesive 30. The first and second plugs 31, 32 are made of nickel (N
i), and the first and second electrode pads 31A and 32A are made of, for example, gold (Au). The first and second electrode pads 31A, 32A
May be made of solder or copper (Cu) instead of gold, or nickel plated with gold.

【0031】さらに、接続ポイント15としての第1の
プラグ31および第2のプラグ32に対応して、フレキ
シブルプリント配線板18には、複数の孔18A,18
Bが形成されている。これらの複数の孔18A,18B
の周縁および内周面には、例えば銅,銀(Ag)または
カーボンなどからなる導電膜18C,18Dが設けられ
ている。複数の孔18A,18Bの中には、例えば半田
などの導電性物質からなる電気的接続部18Eが形成さ
れ、これにより、フレキシブルプリント配線板18と接
続ポイント15としての第1および第2のプラグ31,
32とが接合されている。なお、電気的接続部18Eに
用いられる半田は、無鉛半田であることが望ましい。
Further, the flexible printed wiring board 18 has a plurality of holes 18A, 18 corresponding to the first plug 31 and the second plug 32 as the connection points 15.
B is formed. These multiple holes 18A, 18B
Conductive films 18C and 18D made of, for example, copper, silver (Ag), or carbon are provided on the peripheral edge and the inner peripheral surface of. An electrical connection portion 18E made of a conductive material such as solder is formed in the plurality of holes 18A and 18B, whereby the flexible printed wiring board 18 and the first and second plugs as the connection points 15 are formed. 31,
32 is joined. The solder used for the electrical connection portion 18E is preferably lead-free solder.

【0032】次に、熱放散領域の構成および作用につい
てさらに詳細に説明する。上述したように、熱放散領域
27は、熱伝導層28を含み、表示装置11の製造プロ
セスにおいて発生する熱あるいは外部から加えられた
熱、または表示装置11の稼動中に有機電界発光素子1
3内などにおいて発生した熱を熱伝導層28を介して分
散させることができる。ここでは、電気的接続部18E
を形成する際の半田の溶解熱を例として、熱放散領域2
7の作用を図3と図5とを比較して説明する。
Next, the structure and operation of the heat dissipation area will be described in more detail. As described above, the heat dissipation area 27 includes the heat conductive layer 28, and the heat generated in the manufacturing process of the display device 11 or the heat applied from the outside, or the organic electroluminescent device 1 during the operation of the display device 11.
It is possible to dissipate the heat generated in the inside 3 through the heat conduction layer 28. Here, the electrical connection portion 18E
The heat dissipation area 2
The operation of No. 7 will be described by comparing FIG. 3 and FIG.

【0033】電気的接続部18Eを形成する際に加熱溶
融された半田の溶解熱は、まず電気的接続部18Eの周
辺に一点集中しているが、熱放散領域27が設けられて
いない図5の構成においては、矢印Aに示したように、
この集中した熱がすべて第1および第2のプラグ31,
32を介して有機電界発光素子13の有機電界発光層2
3へ到達してしまい、有機電界発光素子13を劣化させ
る虞がある。これに対して、本実施の形態においては、
熱伝導層28を含む熱放散領域27を設けたので、電気
的接続部18Eの周辺に一点集中している熱は、図3の
矢印Bに示したように、第1および第2のプラグ31,
32を介して有機電界発光素子13へ伝わる途中で熱伝
導層28に伝わり、熱伝導層28を介して分散する。し
たがって、図3の矢印Cのように有機電界発光素子13
に伝わる熱は著しく低減されるので、熱による有機電界
発光素子13の有機電界発光層23への悪影響が軽減さ
れ、有機電界発光素子13の劣化を防ぐことができる。
The heat of melting of the solder which is heated and melted when forming the electrical connection portion 18E is first concentrated at one point around the electrical connection portion 18E, but the heat dissipation area 27 is not provided in FIG. In the above configuration, as indicated by arrow A,
This concentrated heat is all caused by the first and second plugs 31,
Organic electroluminescent layer 2 of organic electroluminescent element 13 via 32
3 is reached, which may deteriorate the organic electroluminescent device 13. On the other hand, in the present embodiment,
Since the heat dissipation area 27 including the heat conduction layer 28 is provided, the heat concentrated at one point around the electrical connection portion 18E is the first and second plugs 31 as shown by the arrow B in FIG. ,
While being transmitted to the organic electroluminescent device 13 via 32, it is transmitted to the heat conduction layer 28 and is dispersed via the heat conduction layer 28. Therefore, as shown by the arrow C in FIG.
Since the heat transmitted to the organic electroluminescent element is significantly reduced, the adverse effect of the heat on the organic electroluminescent layer 23 of the organic electroluminescent element 13 is reduced, and the deterioration of the organic electroluminescent element 13 can be prevented.

【0034】さらに、本実施の形態の熱放散領域27に
は、図3および図4に示したように、熱伝導層28の上
に断熱層29が設けられている。この場合、電気的接続
部18Eを形成する際の半田の溶解熱は、まず断熱層2
9により遮断される。そして、断熱層29により遮断さ
れなかった余剰の熱だけが熱伝導層28内で分散される
ことになり、有機電界発光素子13の有機電界発光層2
3に伝わる熱を一層減少させることができる。
Further, in the heat dissipation area 27 of the present embodiment, as shown in FIGS. 3 and 4, a heat insulating layer 29 is provided on the heat conducting layer 28. In this case, the heat of melting of the solder when forming the electrical connection portion 18E is first determined by the heat insulating layer 2
Blocked by 9. Then, only the surplus heat that is not blocked by the heat insulating layer 29 is dispersed in the heat conducting layer 28, and the organic electroluminescent layer 2 of the organic electroluminescent element 13 is dispersed.
The heat transferred to 3 can be further reduced.

【0035】このような熱伝導層28および断熱層29
は、例えば、ポリマーから構成される。より好ましく
は、熱伝導層28は、金属,窒化アルミニウム(Al
N),DLC(Diamond Like Carbon )または窒化ホウ
素(BN)から構成され、断熱層29はポリイミドまた
はポリサルフォンから構成される。また、基板12の周
縁部においては、図3および図4に示したように断熱層
29を基板12よりも少し小さめに成形するなどの方法
により、熱伝導層28の周縁部28Aを露出させ、これ
により熱伝導層28内に分散した熱を放出できるように
することが極めて望ましい。
The heat conducting layer 28 and the heat insulating layer 29 as described above.
Is composed of, for example, a polymer. More preferably, the heat conduction layer 28 is made of metal, aluminum nitride (Al
N), DLC (Diamond Like Carbon) or boron nitride (BN), and the heat insulating layer 29 is made of polyimide or polysulfone. Further, in the peripheral portion of the substrate 12, as shown in FIGS. 3 and 4, the peripheral portion 28A of the heat conduction layer 28 is exposed by a method of molding the heat insulating layer 29 to be slightly smaller than the substrate 12, It is therefore highly desirable to be able to release the heat dispersed in the heat conducting layer 28.

【0036】熱放散領域27の熱伝導層28および断熱
層29の膜厚は、例えば100nm〜1mm程度とする
ことができるが、これに限定されるものではなく、有機
電界発光層23の材料や保護層26の膜厚などを考慮し
て適宜設定してよい。
The thickness of the heat conducting layer 28 and the heat insulating layer 29 in the heat dissipation area 27 can be set to, for example, about 100 nm to 1 mm, but not limited to this, and the material of the organic electroluminescent layer 23 and the like. It may be appropriately set in consideration of the film thickness of the protective layer 26 and the like.

【0037】また、熱放散領域27を設ける位置は、図
3および図4に示したように、保護層26とフレキシブ
ルプリント配線板18との間とすることが好ましい。こ
れは、保護層26に伝わる熱が少なくなるので、保護層
26の材料の選択の幅が広くなるからである。ただし、
熱放散領域27は、図7に示したように、有機電界発光
素子13と保護層26との間に設けてもよい。
The position where the heat dissipation area 27 is provided is preferably between the protective layer 26 and the flexible printed wiring board 18, as shown in FIGS. This is because less heat is transferred to the protective layer 26, and the range of materials for the protective layer 26 can be selected. However,
The heat dissipation area 27 may be provided between the organic electroluminescent element 13 and the protective layer 26, as shown in FIG. 7.

【0038】このような構成を有する表示装置11およ
び電子機器10は、以下のようにして製造することがで
きる。
The display device 11 and the electronic device 10 having such a configuration can be manufactured as follows.

【0039】まず、基板12上に、例えば反応性高周波
スパッタリングにより、例えば酸窒化ケイ素からなる基
板側保護層21を形成する。次に、例えば反応性直流ス
パッタリングにより、例えばITOからなる第1の電極
層22を形成する。
First, the substrate side protective layer 21 made of, for example, silicon oxynitride is formed on the substrate 12 by, for example, reactive high frequency sputtering. Next, the first electrode layer 22 made of, for example, ITO is formed by, for example, reactive DC sputtering.

【0040】第1の電極層22の上に、有機電界発光層
23を形成する。有機電界発光層23は、例えば真空蒸
着法により、正孔輸送層、発光層および電子輸送層をこ
の順に成膜することにより形成する。正孔輸送層は、例
えば、4,4’,4”−トリス(3−メチルフェニルフ
ェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDAT
A)を成膜することにより形成する。発光層は、例え
ば、ビス[(N−ナフチル)−N−フェニル]ベンジジ
ン(α−NPD)を成膜することにより形成する。そし
て、電子輸送層は、例えば、8−キノリノールアルミニ
ウム錯体(Alq)を成膜することにより形成する。
The organic electroluminescent layer 23 is formed on the first electrode layer 22. The organic electroluminescent layer 23 is formed by depositing a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer in this order by, for example, a vacuum vapor deposition method. The hole transport layer is formed of, for example, 4,4 ′, 4 ″ -tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (m-MTDAT).
It is formed by depositing A). The light emitting layer is formed, for example, by depositing bis [(N-naphthyl) -N-phenyl] benzidine (α-NPD). Then, the electron transport layer is formed by forming a film of 8-quinolinol aluminum complex (Alq), for example.

【0041】続いて、有機電界発光層23上に、例えば
真空蒸着法により、例えばAl−Li合金よりなる第2
の電極層24を形成する。このようにして、有機電界発
光素子13が作製される。さらに、例えば反応性高周波
スパッタリングにより、例えば酸窒化ケイ素よりなる保
護層26を形成し、有機電界発光素子13を覆う。
Then, a second layer made of, for example, an Al--Li alloy is formed on the organic electroluminescent layer 23 by, for example, a vacuum vapor deposition method.
The electrode layer 24 is formed. In this way, the organic electroluminescent element 13 is manufactured. Further, a protective layer 26 made of, for example, silicon oxynitride is formed by, for example, reactive high frequency sputtering to cover the organic electroluminescent element 13.

【0042】保護層26の上に、熱放散領域27として
熱伝導層28と断熱層29とを順に成膜する。まず、例
えば真空蒸着またはスパッタリング法により、金属,窒
化アルミニウム,DLCまたは窒化ホウ素からなる熱伝
導層28を形成し、次いで、ポリイミドまたはポリサル
フォンからなる断熱層29を形成する。さらに、断熱層
29の上に、フレキシブルプリント配線板18を接着す
るための接着剤30を塗布する。
On the protective layer 26, a heat conducting layer 28 and a heat insulating layer 29 are sequentially formed as a heat dissipation area 27. First, the heat conduction layer 28 made of metal, aluminum nitride, DLC or boron nitride is formed by, for example, vacuum deposition or sputtering, and then the heat insulation layer 29 made of polyimide or polysulfone is formed. Further, an adhesive 30 for adhering the flexible printed wiring board 18 is applied on the heat insulating layer 29.

【0043】ここで、例えばドライエッチング法によ
り、保護層26、熱放散領域27の熱伝導層28および
断熱層29、ならびに接着剤30を貫通して第1または
第2の電極22,24に達するコンタクトホールを形成
する。このコンタクトホール内に、例えばスパッタリン
グまたは蒸着により、ニッケルを埋め込み、第1のプラ
グ31および第2のプラグ32を形成する。第1のプラ
グ31および第2のプラグ32の先端には、同じくスパ
ッタリングまたは蒸着により、金を埋め込み、電極パッ
ド31A,32Aを形成する。
Here, the protective layer 26, the heat conducting layer 28 and the heat insulating layer 29 of the heat dissipation area 27, and the adhesive 30 are penetrated to reach the first or second electrode 22, 24 by, for example, a dry etching method. Form a contact hole. Nickel is buried in the contact hole by, for example, sputtering or vapor deposition to form the first plug 31 and the second plug 32. Gold is also embedded at the tips of the first plug 31 and the second plug 32 by sputtering or vapor deposition to form electrode pads 31A and 32A.

【0044】最後に、フレキシブルプリント配線板18
を基板12に整合させて、フレキシブルプリント配線板
18の複数の孔18A,18B内に導電性物質として例
えば半田ボールを投入し、レーザ光により溶解させる。
これにより、複数の孔18A,18B内に半田からなる
電気的接続部18Eが形成され、フレキシブルプリント
配線板18と第1および第2のプラグ31,32との電
気的接続が行われる。その後、フレキシブルプリント配
線板18を接着剤30を用いて接着し、さらに、図1に
示したように、駆動用IC16を実装した駆動回路基板
17をコネクタ17Aを介してフレキシブルプリント配
線板18に接続する。こうして完成した表示装置11
を、図6に示したように、外側ケース11Aに収納し、
電子機器10として完成させる。
Finally, the flexible printed wiring board 18
Is aligned with the substrate 12, and a solder ball, for example, as a conductive substance is put into the plurality of holes 18A and 18B of the flexible printed wiring board 18 and melted by laser light.
As a result, the electrical connection portion 18E made of solder is formed in the plurality of holes 18A, 18B, and the flexible printed wiring board 18 and the first and second plugs 31, 32 are electrically connected. Thereafter, the flexible printed wiring board 18 is adhered using an adhesive agent 30, and as shown in FIG. 1, the drive circuit board 17 on which the driving IC 16 is mounted is connected to the flexible printed wiring board 18 via the connector 17A. To do. The display device 11 thus completed
Is stored in the outer case 11A as shown in FIG.
The electronic device 10 is completed.

【0045】この有機電界発光素子10では、第1の電
極層22と第2の電極層24との間に所定の電圧が印加
されることにより、第1の電極層22および第2の電極
層24からそれぞれ正孔および電子が注入される。これ
ら正孔および電子は、正孔輸送層および電子輸送層を介
して発光層に輸送され、これらが再結合することにより
発光が起こり、この光は基板12の主面に対して垂直な
方向に(表面12A側へ)取り出される。
In this organic electroluminescence device 10, a predetermined voltage is applied between the first electrode layer 22 and the second electrode layer 24, so that the first electrode layer 22 and the second electrode layer Holes and electrons are injected from 24, respectively. These holes and electrons are transported to the light emitting layer through the hole transporting layer and the electron transporting layer, and recombine with each other to generate light emission, and this light is emitted in a direction perpendicular to the main surface of the substrate 12. It is taken out (to the surface 12A side).

【0046】このように、本実施の形態によれば、有機
電界発光素子13の上に、少なくとも一層の熱伝導層2
8を含む熱放散領域27を設けたので、表示装置11の
製造プロセスにおいて発生あるいは外部から加えられた
熱、または表示装置11の稼動中に有機電界発光素子1
3内などにおいて発生した熱を一点集中させずに、熱放
散領域27の熱伝導層28を介して分散させることがで
きる。例えば、電気的接続部18Eを形成する際の半田
の溶解熱を、電気的接続部18Eの周辺に一点集中させ
ず、熱伝導層28を介して分散させ、有機電界発光素子
13に伝わる熱を著しく低減させることができる。この
ように、熱放散領域27を設けることにより、熱による
有機電界発光素子13の有機電界発光層23への悪影響
が軽減され、有機電界発光素子13の劣化を防ぐことが
できる。したがって、この表示装置11においては、画
素のレイアウトの自由度が高くなり、開口率を向上させ
ることができる。
As described above, according to this embodiment, at least one heat conduction layer 2 is formed on the organic electroluminescence device 13.
Since the heat-dissipating region 27 including 8 is provided, heat generated in the manufacturing process of the display device 11 or applied from the outside, or the organic electroluminescent element 1 during operation of the display device 11 is provided.
It is possible to disperse the heat generated in the inside of 3 or the like through the heat conduction layer 28 of the heat dissipation area 27 without concentrating it at one point. For example, the heat of melting of the solder when forming the electrical connection portion 18E is not concentrated at one point around the electrical connection portion 18E but is dispersed through the heat conductive layer 28, and the heat transmitted to the organic electroluminescent element 13 is dispersed. It can be significantly reduced. As described above, by providing the heat dissipation area 27, the adverse effect of heat on the organic electroluminescent layer 23 of the organic electroluminescent element 13 is reduced, and the deterioration of the organic electroluminescent element 13 can be prevented. Therefore, in this display device 11, the degree of freedom in pixel layout is increased, and the aperture ratio can be improved.

【0047】さらに、本実施の形態では、熱伝導層28
の上に断熱層29が設けられているので、例えば、半田
の溶解熱は、まず断熱層29により遮断され、断熱層2
9により遮断されなかった余剰の熱だけが熱伝導層28
内で分散されることになり、有機電界発光素子13の有
機電界発光層23に伝わる熱を一層減少させることがで
きる。
Further, in the present embodiment, the heat conducting layer 28
Since the heat insulating layer 29 is provided on the heat insulating layer 29, for example, the heat of melting of the solder is first blocked by the heat insulating layer 29.
Only the excess heat that is not blocked by the heat conduction layer 28
Since it is dispersed inside, heat transferred to the organic electroluminescent layer 23 of the organic electroluminescent element 13 can be further reduced.

【0048】また、本実施の形態では、熱放散領域27
を設ける位置を、保護層26とフレキシブルプリント配
線板18との間としたので、保護層26に伝わる熱が少
なくなり、保護層26の材料の選択の幅が広くなる。
Further, in this embodiment, the heat dissipation area 27
Since the position where the protective layer 26 is provided is between the protective layer 26 and the flexible printed wiring board 18, heat transferred to the protective layer 26 is reduced, and the range of selection of the material of the protective layer 26 is widened.

【0049】加えて、本実施の形態では、熱伝導層28
および断熱層29は、例えば、ポリマーから構成され、
より好ましくは、熱伝導層28は、金属,窒化アルミニ
ウム(AlN),DLCまたは窒化ホウ素(BN)から
構成され、断熱層29はポリイミドまたはポリサルフォ
ンから構成される。このように、熱伝導層28および断
熱層29は容易に入手可能な一般的な材料から構成さ
れ、しかも、成膜方法は真空中での蒸着またはスパッタ
リングなどの一般的な方法を採用することができる。
In addition, in the present embodiment, the heat conducting layer 28
And the heat insulating layer 29 is made of, for example, a polymer,
More preferably, the heat conducting layer 28 is made of metal, aluminum nitride (AlN), DLC or boron nitride (BN), and the heat insulating layer 29 is made of polyimide or polysulfone. As described above, the heat conducting layer 28 and the heat insulating layer 29 are composed of commonly available general materials, and the film forming method may be a general method such as vapor deposition or sputtering in vacuum. it can.

【0050】また、本実施の形態では、基板12の周縁
部において、熱伝導層28の周縁部を露出させるので、
熱伝導層28内に分散した熱を放出することができ、有
機電界発光素子の劣化が効果的に防止される。
Further, in the present embodiment, since the peripheral portion of the heat conducting layer 28 is exposed at the peripheral portion of the substrate 12,
The heat dispersed in the heat conduction layer 28 can be released, and the deterioration of the organic electroluminescence device can be effectively prevented.

【0051】以上、実施の形態を挙げて本発明を説明し
たが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではな
く、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態で
は、熱放散領域27が、熱伝導層28の上に断熱層29
を積層した2層構造を有する場合について説明した。し
かしながら、例えば図8に示したように、断熱層29を
熱伝導層28の下に設けた2層構造も可能である。ま
た、断熱層29を省略して熱伝導層28のみの単層構造
としても、熱放散領域27の目的は達し得る。
Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, the heat dissipation area 27 has the heat insulating layer 29 on the heat conducting layer 28.
The case of having a two-layer structure in which the above is laminated has been described. However, for example, as shown in FIG. 8, a two-layer structure in which the heat insulating layer 29 is provided below the heat conducting layer 28 is also possible. Further, the purpose of the heat dissipation area 27 can be achieved even if the heat insulating layer 29 is omitted and the heat conducting layer 28 is formed as a single layer structure.

【0052】また、例えば図9に示したように、2層の
断熱層29A,29Bにより熱伝導層28を挟む3層構
造も可能である。なお、熱放散領域27の構造の変形例
は、図8および図9に示したものに限られず、表示装置
11の厚みに影響ない限り、例えば熱伝導層28と断熱
層29とを互いに積層した多層構造とすることも可能で
ある。また、熱放散領域27を、保護層26とフレキシ
ブルプリント配線板18の間だけでなく、有機電界発光
素子13と保護層26との間にも設けることも考えられ
る。
Further, for example, as shown in FIG. 9, a three-layer structure in which the heat conducting layer 28 is sandwiched by two heat insulating layers 29A and 29B is also possible. The modification example of the structure of the heat dissipation area 27 is not limited to that shown in FIGS. 8 and 9, and, for example, the heat conduction layer 28 and the heat insulation layer 29 are laminated on each other as long as the thickness of the display device 11 is not affected. A multilayer structure is also possible. It is also possible to provide the heat dissipation area 27 not only between the protective layer 26 and the flexible printed wiring board 18 but also between the organic electroluminescent element 13 and the protective layer 26.

【0053】上記実施の形態においては、電子機器10
として、表示装置11を備えたテレビジョン受像機の場
合について説明したが、本発明は、表示装置11を備え
た他の電子機器にも適用することができる。例えば、携
帯電話機、PDA(PersonalDigital Assistant)、ラ
ップトップ型コンピュータなどの携帯情報端末、デスク
トップ型コンピュータなどの小型のものから、電車や飛
行機の運行予定を表示するなどのために用いられる一行
表示型から中型、大型までの各種情報表示装置、街頭や
コンサート会場などで用いられる超大型の情報・表示装
置などへの適用が考えられる。
In the above embodiment, the electronic device 10 is used.
As described above, the case of the television receiver including the display device 11 has been described, but the present invention can also be applied to other electronic devices including the display device 11. For example, from mobile phones, PDAs (Personal Digital Assistants), personal digital assistants such as laptop computers, desktop computers, and other small devices, to single-line display types used to display train and flight schedules, etc. It can be considered to be applied to various types of information display devices up to medium and large size, and ultra-large size information / display devices used in streets and concert venues.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上説明したように請求項1ないし請求
項7のいずれか1項に記載の表示装置、または請求項8
ないし請求項12のいずれか1項に記載の表示装置の製
造方法によれば、有機電界発光素子の基板と反対側に、
少なくとも一層の熱伝導層を含む熱放散領域を備えるよ
うにしたので、表示装置の製造プロセスにおいて発生あ
るいは外部から加えられた熱、または表示装置の稼動中
に有機電界発光素子内などにおいて発生した熱を一点集
中させずに、熱放散領域の熱伝導層を介して分散させる
ことができる。例えば、電気的接続部を形成する際の導
電性物質の溶解熱を、電気的接続部の周辺に一点集中さ
せず、熱伝導層を介して分散させ、有機電界発光素子に
伝わる熱を著しく減少させることができる。このよう
に、熱放散領域を設けることにより、熱による有機電界
発光素子の有機電界発光層への悪影響が軽減され、有機
電界発光素子の劣化を防ぐことができる。したがって、
この表示装置においては、画素のレイアウトの自由度が
高くなり、開口率を向上させることができる。
As described above, the display device according to any one of claims 1 to 7 or claim 8
According to the method of manufacturing a display device according to any one of claims 12 to 12, on a side opposite to the substrate of the organic electroluminescent element,
Since the heat dissipation area including at least one heat conduction layer is provided, the heat generated in the manufacturing process of the display device or applied from the outside, or the heat generated in the organic electroluminescent element during the operation of the display device. Can be dispersed through the heat conduction layer in the heat dissipation region without concentrating at one point. For example, the heat of fusion of the conductive material when forming the electrical connection is not concentrated at one point around the electrical connection, but is dispersed through the heat conduction layer, and the heat transferred to the organic electroluminescent device is significantly reduced. Can be made. As described above, by providing the heat-dissipating region, the adverse effect of heat on the organic electroluminescent layer of the organic electroluminescent element can be reduced, and the deterioration of the organic electroluminescent element can be prevented. Therefore,
In this display device, the degree of freedom in pixel layout is increased, and the aperture ratio can be improved.

【0055】特に、請求項3または請求項4記載の表示
装置、または請求項10または請求項11記載の表示装
置の製造方法によれば、熱放散領域には、熱伝導層と、
熱伝導層の一方の面に接する断熱層とを含ませるように
したので、例えば、導電性物質の溶解熱は、まず断熱層
により遮断され、断熱層により遮断されなかった余剰の
熱だけが熱伝導層内で分散されることになり、有機電界
発光素子の有機電界発光層に伝わる熱を一層減少させる
ことができる。
Particularly, according to the display device of claim 3 or 4, or the method of manufacturing the display device of claim 10 or 11, a heat conductive layer is provided in the heat dissipation region,
Since the heat-insulating layer in contact with one surface of the heat-conducting layer is included, for example, the heat of fusion of the conductive material is first blocked by the heat-insulating layer, and only the excess heat not blocked by the heat-insulating layer is heated. By being dispersed in the conductive layer, the heat transferred to the organic electroluminescent layer of the organic electroluminescent device can be further reduced.

【0056】また、特に、請求項2記載の表示装置、ま
たは請求項9記載の表示装置の製造方法によれば、さら
に保護層を設けて、熱放散領域を設ける位置を、その保
護層と配線基板との間としたので、保護層に伝わる熱が
少なくなり、保護層の材料の選択の幅が広くなる。
Further, in particular, according to the display device of claim 2 or the manufacturing method of the display device of claim 9, a protective layer is further provided, and the position where the heat dissipation region is provided is set to the protective layer and the wiring. Since it is provided between the substrate and the substrate, less heat is transferred to the protective layer, and the range of materials for the protective layer can be selected.

【0057】加えて、特に、請求項5または請求項6記
載の表示装置、または請求項12記載の表示装置によれ
ば、熱伝導層または断熱層は、容易に入手可能な一般的
な材料であるポリマーから構成され、しかも、成膜方法
は真空中での蒸着またはスパッタリングなどの一般的な
方法を採用することができる。
In addition, in particular, according to the display device according to claim 5 or 6, or the display device according to claim 12, the heat conducting layer or the heat insulating layer is a commonly available material. It is composed of a certain polymer, and as the film forming method, a general method such as vapor deposition in vacuum or sputtering can be adopted.

【0058】また、特に、請求項7記載の表示装置によ
れば、基板の周縁部において、熱伝導層の周縁部を露出
させるようにしたので、熱伝導層内に分散した熱を放出
することができ、有機電界発光素子の劣化が効果的に防
止される。
Further, in particular, according to the display device of the seventh aspect, since the peripheral portion of the heat conducting layer is exposed at the peripheral portion of the substrate, the heat dispersed in the heat conducting layer can be released. As a result, deterioration of the organic electroluminescent device can be effectively prevented.

【0059】請求項13記載の電子機器によれば、本発
明の表示装置を備えるようにしたので、熱による有機電
界発光層に対する悪影響が軽減され、ひいては有機電界
発光素子の劣化を防止することができる。
According to the electronic apparatus of the thirteenth aspect, since the display device of the present invention is provided, the adverse effect on the organic electroluminescent layer due to heat is reduced, and consequently the deterioration of the organic electroluminescent element can be prevented. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る表示装置の一部を
基板の裏面側から見た拡大分解斜視図である。
FIG. 1 is an enlarged exploded perspective view of a part of a display device according to an embodiment of the present invention viewed from the back surface side of a substrate.

【図2】図1に示した表示装置の基板の裏面の概略構成
を表す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of a back surface of a substrate of the display device shown in FIG.

【図3】図2のIII−III線に沿った断面図であ
る。
3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG.

【図4】図3に示した有機電界発光素子を、一部切り欠
いて示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing the organic electroluminescent device shown in FIG. 3 with a part thereof cut away.

【図5】図3に示した熱放散領域の作用を説明するため
の説明図であり、熱放散領域を備えていない場合の図で
ある。
5 is an explanatory diagram for explaining the operation of the heat dissipation region shown in FIG. 3, and is a diagram in the case where the heat dissipation region is not provided.

【図6】図1に示した表示装置を含む電子機器の外観を
表す斜視図である。
6 is a perspective view showing an appearance of an electronic device including the display device shown in FIG.

【図7】図1に示した有機電界発光素子の変形例を表す
断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a modified example of the organic electroluminescent device shown in FIG.

【図8】図1に示した有機電界発光素子の他の変形例を
表す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing another modification of the organic electroluminescence device shown in FIG.

【図9】図1に示した有機電界発光素子のさらに他の変
形例を表す断面図である。
9 is a cross-sectional view showing still another modified example of the organic electroluminescent device shown in FIG.

【符号の説明】 10…電子機器、11…表示装置、11A…外側ケー
ス、12…基板、12A…表面、12B…裏面、12C
…アラインメントマーク、13…有機電界発光素子、1
4…画素(発光点)、15…接続ポイント、16…駆動
用IC、17…駆動回路基板、17A,17B…コネク
タ、18,19…フレキシブルプリント配線板、18
A,18B…孔、18C,18D…導電膜、18E…電
気的接続部、21…基板側保護層、22…第1の電極
層、23…有機電界発光層、24…第2の電極層、25
…絶縁層、26…保護層、27…熱放散領域、28…熱
伝導層、29,29A,29B…断熱層、30…接着
剤、31…第1のプラグ、31A…第1の電極パッド、
32…第2のプラグ、32A…第2の電極パッド
[Explanation of Codes] 10 ... Electronic device, 11 ... Display device, 11A ... Outer case, 12 ... Substrate, 12A ... Front surface, 12B ... Back surface, 12C
... Alignment mark, 13 ... Organic electroluminescent device, 1
4 ... Pixel (light emitting point), 15 ... Connection point, 16 ... Driving IC, 17 ... Driving circuit board, 17A, 17B ... Connector, 18, 19 ... Flexible printed wiring board, 18
A, 18B ... Hole, 18C, 18D ... Conductive film, 18E ... Electrical connection part, 21 ... Substrate side protective layer, 22 ... First electrode layer, 23 ... Organic electroluminescent layer, 24 ... Second electrode layer, 25
... Insulating layer, 26 ... Protective layer, 27 ... Heat dissipation area, 28 ... Heat conducting layer, 29, 29A, 29B ... Heat insulating layer, 30 ... Adhesive agent, 31 ... First plug, 31A ... First electrode pad,
32 ... Second plug, 32A ... Second electrode pad

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 33/04 H05B 33/04 33/10 33/10 33/14 33/14 A (72)発明者 小林 正人 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 天野 俊二 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB11 AB17 AB18 BA06 BB07 CA01 CB01 CC05 DA01 DB03 EB00 FA01 FA02 5C094 AA04 AA10 AA13 AA14 AA31 AA43 AA47 AA48 AA53 AA55 BA27 CA19 DA07 DA09 DA12 DA13 DB01 DB03 DB05 EA02 EA04 EA05 EB02 FA01 FA02 FB01 FB02 FB12 FB15 FB20 GB10 5G435 AA03 AA07 AA14 AA16 AA17 AA18 BB05 CC09 EE36 EE43 HH12 HH14 HH20 KK05 KK10─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05B 33/04 H05B 33/04 33/10 33/10 33/14 33/14 A (72) Inventor Kobayashi Masato 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Shunji Amano 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation F-term (reference) 3K007 AB11 AB17 AB18 BA06 BB07 CA01 CB01 CC05 DA01 DB03 EB00 FA01 FA02 5C094 AA04 AA10 AA13 AA14 AA31 AA43 AA47 AA48 AA53 AA55 BA27 CA19 DA07 DA09 DA12 DA13 DB01 DB03 DB05 EA02 EA04 EA05 EB02 FA01 FA02 FB01 FB02 FB12 FB15 FB20 GB10 5G435 AA03 AA07 AA14 AA16 AA17 AA18 BB05 CC09 EE36 EE43 HH12 HH14 HH20 KK05 KK10

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、 前記基板上に、第1の電極層と、有機電界発光層と、第
2の電極層とをこの順に配設した構造を有する有機電界
発光素子と、 前記有機電界発光素子の前記基板と反対側に設けられる
とともに、少なくとも一層の熱伝導層を含む熱放散領域
と、 前記有機電界発光素子から外れた位置に形成されるとと
もに、前記熱放散領域を貫通し、前記第1の電極層に到
達する導電性の第1のプラグと、 前記有機電界発光素子から外れた位置に形成されるとと
もに、前記熱放散領域を貫通し、前記第2の電極層に到
達する導電性の第2のプラグと、 周縁および内周面に導電膜が形成された複数の孔を前記
第1および第2のプラグに対応する位置に有する配線基
板と、 前記配線基板の複数の孔それぞれにおいて、前記配線基
板の導電膜と前記第1または第2のプラグとを電気的に
接続してなる電気的接続部とを備えたことを特徴とする
表示装置。
1. A substrate, an organic electroluminescent device having a structure in which a first electrode layer, an organic electroluminescent layer, and a second electrode layer are arranged in this order on the substrate, and the organic electric field. While being provided on the opposite side of the substrate of the light emitting device, a heat dissipation region including at least one heat conducting layer, and formed at a position deviated from the organic electroluminescent device, penetrating the heat dissipation region, A conductive first plug that reaches the first electrode layer, and a conductive plug that is formed at a position deviated from the organic electroluminescent element, penetrates the heat dissipation region, and reaches the second electrode layer. Conductive second plug, a wiring board having a plurality of holes in which a conductive film is formed on the peripheral edge and the inner peripheral surface at positions corresponding to the first and second plugs, and a plurality of holes of the wiring board, respectively. In, the conductive film of the wiring board A display device, comprising: an electric connection part that electrically connects the first and second plugs.
【請求項2】 前記有機電界発光素子と前記熱放散領域
との間に、前記有機電界発光素子を保護するための保護
層を備えたことを特徴とする請求項1記載の表示装置。
2. The display device according to claim 1, further comprising a protective layer provided between the organic electroluminescent device and the heat dissipation region to protect the organic electroluminescent device.
【請求項3】 前記熱放散領域は、一層の熱伝導層と、
この熱伝導層の一方の面に接して設けられた一層の断熱
層とを含むことを特徴とする請求項1記載の表示装置。
3. The heat-dissipating region comprises a single heat-conducting layer,
The display device according to claim 1, further comprising a single heat insulating layer provided in contact with one surface of the heat conducting layer.
【請求項4】 前記熱放散領域は、前記熱伝導層の他方
の面に接して設けられた他の断熱層を含むことを特徴と
する請求項3記載の表示装置。
4. The display device according to claim 3, wherein the heat dissipation area includes another heat insulating layer provided in contact with the other surface of the heat conducting layer.
【請求項5】 前記熱伝導層または前記断熱層はポリマ
ーから構成されていることを特徴とする請求項3記載の
表示装置。
5. The display device according to claim 3, wherein the heat conducting layer or the heat insulating layer is made of a polymer.
【請求項6】 前記熱伝導層は金属,窒化アルミニウム
(AlN),DLC(Diamond Like Carbon )または窒
化ホウ素(BN)から構成され、前記断熱層はポリイミ
ドまたはポリサルフォンから構成されていることを特徴
とする請求項3記載の表示装置。
6. The heat conducting layer is made of metal, aluminum nitride (AlN), DLC (Diamond Like Carbon) or boron nitride (BN), and the heat insulating layer is made of polyimide or polysulfone. The display device according to claim 3.
【請求項7】 前記基板の周縁部において、前記熱伝導
層の周縁部が露出していることを特徴とする請求項1記
載の表示装置。
7. The display device according to claim 1, wherein a peripheral portion of the heat conducting layer is exposed at a peripheral portion of the substrate.
【請求項8】 基板上に、第1の電極層と、有機電界発
光層と、第2の電極層とを備えた有機電界発光素子を形
成する工程と、 前記有機電界発光素子の前記基板と反対側に、少なくと
も一層の熱伝導層を含む熱放散領域を形成する工程と、 前記有機電界発光素子から外れた位置に、前記熱放散領
域を貫通するとともに前記第1の電極層に達する導電性
の第1のプラグを形成する工程と、 前記有機電界発光素子から外れた位置に、前記熱放散領
域を貫通するとともに前記第2の電極層に達する導電性
の第2のプラグを形成する工程と、 周縁および内周面に導電膜が形成された複数の孔を前記
第1および第2のプラグに対応する位置に有する配線基
板を、前記基板に位置合わせした後、前記複数の孔それ
ぞれに導電性物質を充填する工程と、 前記導電性物質を加熱溶融させることにより電気的接続
部を形成し、前記配線基板の導電膜と前記第1のプラグ
または第2のプラグとを接続させる工程とを含むことを
特徴とする表示装置の製造方法。
8. A step of forming an organic electroluminescent device having a first electrode layer, an organic electroluminescent layer, and a second electrode layer on a substrate, and the substrate of the organic electroluminescent device. Forming a heat-dissipating region including at least one heat-conducting layer on the opposite side; and conducting to penetrate the heat-dissipating region and reach the first electrode layer at a position separated from the organic electroluminescent device. And a step of forming a conductive second plug penetrating the heat dissipation region and reaching the second electrode layer at a position separated from the organic electroluminescent element. After aligning a wiring board having a plurality of holes having conductive films formed on the peripheral edge and the inner peripheral surface at positions corresponding to the first and second plugs with the board, the wiring board is electrically conductive to each of the plurality of holes. The step of filling with a volatile substance, A step of forming an electrical connection portion by heating and melting a conductive material, and connecting the conductive film of the wiring board to the first plug or the second plug. Production method.
【請求項9】 前記有機電界発光素子を形成する工程と
前記熱放散領域を形成する工程との間に、前記有機電界
発光素子を保護するための保護層を形成する工程を含む
ことを特徴とする請求項8記載の表示装置の製造方法。
9. A step of forming a protective layer for protecting the organic electroluminescent element is included between the step of forming the organic electroluminescent element and the step of forming the heat dissipation region. The method for manufacturing a display device according to claim 8.
【請求項10】 前記熱放散領域を形成する工程におい
て、一層の熱伝導層を形成した後、前記熱伝導層上に一
層の断熱層を形成することを特徴とする請求項8記載の
表示装置の製造方法。
10. The display device according to claim 8, wherein, in the step of forming the heat dissipation region, after forming one heat conducting layer, one heat insulating layer is formed on the heat conducting layer. Manufacturing method.
【請求項11】 前記熱放散領域を形成する工程におい
て、一層の断熱層を形成した後、前記断熱層上に熱伝導
層を形成し、前記熱伝導層上に他の断熱層を形成するこ
とを特徴とする請求項10記載の表示装置の製造方法。
11. In the step of forming the heat dissipation area, after forming one heat insulating layer, forming a heat conducting layer on the heat insulating layer, and forming another heat insulating layer on the heat conducting layer. The method for manufacturing a display device according to claim 10, wherein:
【請求項12】 前記熱伝導層および前記断熱層を真空
中で蒸着またはスパッタリングにより形成することを特
徴とする請求項10記載の表示装置の製造方法。
12. The method of manufacturing a display device according to claim 10, wherein the heat conductive layer and the heat insulating layer are formed by vacuum evaporation or sputtering.
【請求項13】 表示装置を含む電子機器であって、 前記表示装置が、 基板と、 前記基板上に、第1の電極層と、有機電界発光層と、第
2の電極層とをこの順に配設した構造を有する有機電界
発光素子と、 前記有機電界発光素子の前記基板と反対側に設けられる
とともに、少なくとも一層の熱伝導層を含む熱放散領域
と、 前記有機電界発光素子から外れた位置に形成されるとと
もに、前記熱放散領域を貫通し、前記第1の電極層に到
達する導電性の第1のプラグと、 前記有機電界発光素子から外れた位置に形成されるとと
もに、前記熱放散領域を貫通し、前記第2の電極層に到
達する導電性の第2のプラグと、 周縁および内周面に導電膜が形成された複数の孔を前記
第1および第2のプラグに対応する位置に有する配線基
板と、 前記配線基板の複数の孔それぞれにおいて、前記配線基
板の導電膜と前記第1または第2のプラグとを電気的に
接続してなる電気的接続部とを備えたことを特徴とする
電子機器。
13. An electronic device including a display device, wherein the display device includes a substrate, a first electrode layer, an organic electroluminescent layer, and a second electrode layer on the substrate in this order. An organic electroluminescent element having a structure arranged, a heat dissipation area provided on the opposite side of the organic electroluminescent element from the substrate, and including a heat conducting layer of at least one layer, and a position deviated from the organic electroluminescent element And a conductive first plug that penetrates the heat dissipation region and reaches the first electrode layer, and is formed at a position away from the organic electroluminescent element, and that dissipates the heat. A conductive second plug penetrating the region and reaching the second electrode layer and a plurality of holes having a conductive film formed on the peripheral edge and the inner peripheral surface correspond to the first and second plugs. A wiring board having a position, and the wiring An electronic device in each of a plurality of holes, characterized by comprising an electrical connection part formed by electrically connecting the conductive film of the wiring board and the first or second plug plate.
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