JP2003084293A - 液晶パネルの製造方法、液晶パネル用基板及び液晶パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶の使用量を低減して液晶パネルの製造コ
ストを低減できる液晶パネルの製造方法を提供する。 【解決手段】 液晶封入用の第１シール材を第１基材上
に形成する工程Ｐ４と、第１シール材に隣接して第２シ
ール材によって閉ループ領域を形成する工程Ｐ４と、第
１シール材を挟んで第１基材に第２基材を貼り合せる工
程Ｐ２１とを有する液晶パネルの製造方法である。第２
基材を貼り合せる工程Ｐ２１は減圧下にて行われるの
で、工程Ｐ４で閉ループ領域を形成した場合でも、工程
Ｐ２１で両基板を貼り合せたときに閉ループ領域を形成
する第２シール材が破裂することがない。そして、パネ
ル構造体の内部に閉ループ領域を形成したため、液晶の
無駄な消費量を低減できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶の配向を制御
することによって文字、数字等といった像を表示する液
晶パネルを製造するための液晶パネルの製造方法に関す
る。また、本発明は、その液晶パネルを製造するのに適
した液晶パネル用基板に関する。また、本発明は、その
ような製造方法によって製造される液晶パネルに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】液晶パネルは、それぞれが電極を備えた
一対の基板によって液晶を挟持することによって形成さ
れるパネル構造体である。この液晶パネルに、液晶駆動
用ＩＣ、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit：可撓性プ
リント基板）、バックライト、フロントライト等といっ
た付帯機器を付設することにより液晶装置が形成され
る。なお、基板上に液晶駆動用ＩＣを直接に実装する構
造の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パ
ネルでは、基板上に液晶駆動用ＩＣが実装された状態の
パネル構造体を液晶パネルと呼ぶこともある。

【０００３】液晶パネルは、従来、例えば図１９に示す
製造方法によって製造される。この従来の製造方法にお
いては、工程Ｐ１から工程Ｐ４に至る一連の工程によっ
て図２０に示す大判の第１基板５１ａが形成される。ま
た、工程Ｐ１１から工程Ｐ１３に至る一連の工程によっ
て図２１に示す大判の第２基板５１ｂが形成される。工
程Ｐ１においては、図２０に示すように、ガラス等によ
って形成された大判の第１基材５２ａ上に液晶パネル複
数分の第１電極５３ａを形成する。次に、工程Ｐ２にお
いて、図２０に示すように、各液晶パネル領域内に配向
膜５４ａを形成し、さらに、工程Ｐ３において、配向膜
５４ａに対してラビング処理を実行する。このラビング
処理により、液晶分子が第１基板５１ａ側から一方向に
並べられる。

【０００４】その後、第１基材５２ａ上の各液晶パネル
領域にエポキシ樹脂等を環状に付着、例えば印刷、する
ことによってシール材５６を形成する。これにより、液
晶パネル複数分のパターンが形成された大判の第１基板
５１ａが作製される。なお、第１基板５１ａ上には、必
要に応じて、上記第１電極５３ａ及び配向膜５４ａ以外
の光学的要素が形成されることもあるが、図２０ではそ
れら付加的な光学的要素は省略してある。

【０００５】一方、工程Ｐ１１においては、図２１に示
すように、ガラス等によって形成された大判の第２基材
５２ｂ上に液晶パネル複数分の第２電極５３ｂを形成す
る。なお、図２１では、第２基材５２ｂを通して第２電
極５３ｂを見た状態を示しており、さらに、第２基材５
２ｂは鎖線で仮想的に示してある。

【０００６】次に、工程Ｐ１２において、図２１に示す
ように、各液晶パネル領域内に配向膜５４ｂを形成し、
さらに、工程Ｐ１３において、配向膜５４ｂに対してラ
ビング処理を実行する。このラビング処理により、液晶
分子が第２基板５１ｂ側から一方向に並べられる。これ
により、液晶パネル複数分のパターンが形成された大判
の第２基板５１ｂが作製される。なお、第２基板５１ｂ
上には、必要に応じて、上記第２電極５３ｂ及び配向膜
５４ｂ以外の光学的要素が形成されることもあるが、図
２１ではそれら付加的な光学的要素は省略してある。

【０００７】以上により、図２０の第１基板５１ａ及び
図２１の第２基板５１ｂが形成されると、工程Ｐ２１に
おいて、両基板５１ａ及び５１ｂがシール材５６を間に
挟んで互いに貼り合わすことにより、液晶パネル複数分
の空セルを有した大判のパネル構造体が形成される。

【０００８】さらに、工程２２において、図２０に示す
溝Ｇ１並びに図２１に示す溝Ｇ２及びＧ３に従ってを第
１基材５２ａ上に形成すると共に、それらの溝に従って
パネル構造体を切断することにより、図２２に示すよう
な１列分のパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造
体５７が形成される。この短冊状のパネル構造体５７に
おいては、シール材５６の一部に形成した液晶注入用開
口６８が外部へ露出している。

【０００９】次に、工程Ｐ２３において液晶の注入処理
を実行する。具体的には、まず、図２３に示すように、
液晶Ｌ０を収容した容器５８と短冊状のパネル構造体５
７とを密閉チャンバ５９内に入れる。そして、密閉チャ
ンバ５９内を減圧、例えば真空状態に減圧することによ
り、パネル構造体５７内の各液晶パネル部分のシール材
５６の内部を減圧し、この状態でパネル構造体５７の各
液晶パネル部分の液晶注入用開口６８を液晶Ｌ０の液面
に漬ける。その後、密閉チャンバ５９内の減圧状態を大
気圧に戻すことにより、液晶Ｌ０の液面に大気圧を加
え、これにより、液晶注入用開口５６を通してシール材
５６の内部に液晶Ｌ０を注入する。その後、図２４に符
号６１で示すように、各シール材５６の液晶注入用開口
６８を樹脂等によって封止する。

【００１０】次に、工程Ｐ２４において、図２２の溝Ｇ
４に従って、パネル構造体５７を切断することにより、
図２４に示すような液晶パネル６２が作製される。この
液晶パネル６２において、第１基板５１ａは第２基板５
１ｂの外側へ張り出す張出し部５１ｃを有し、この張出
し部５１ｃ上には、外部回路との間で信号や電力の授受
を行うための端子６３が形成される。

【００１１】第１基板５１ａ上に形成された第１電極５
３ａはシール材５６を通過して外部へ張り出して端子６
３となっている。一方、第２基板５１ｂ上に形成された
第２電極５３ｂは、シール材５６の内部に分散した導通
材６４を介して、第１基板５１ａ上の配線６６に接続
し、この配線６６は端子６３につながっている。これに
より、第２基板５１ｂ上の第２電極５３ｂが第１基板５
１ａ上の端子６３につなげられている。

【００１２】以上のようにして液晶パネル６２が作製さ
れた後、図１９の工程Ｐ２５において液晶パネルの洗浄
が行われる。例えば、界面活性剤を混入させた洗浄液を
液晶パネル６２の外表面に供給することにより、液晶パ
ネル６２の外表面に付着した液晶Ｌ０の残りかすを液晶
パネル６２から除去する。次に、工程Ｐ２６において、
図２５に示すように、第１基材５２ａ及び第２基材５２
ｂの外側表面に偏光板６７ａ及び６７ｂを貼着する。

【００１３】さらに、工程Ｐ２７において、図２４に示
す第１基板５１ａの張出し部５１ｃに形成した端子６３
に、例えば、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）等を
介して液晶駆動用ＩＣを実装する。これにより、目標と
する液晶装置が完成する。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】以上のような従来の液
晶パネルの製造方法においては、図２３に示したように
パネル構造体５７内の個々の液晶パネル領域内に液晶Ｌ
０を注入するときに、その液晶注入の目標であるシール
材５６によって囲まれる領域内だけでなく、シール材５
６の外側であってパネル構造体５７の内部の広い領域内
にも液晶Ｌ０が流れ込んでしまい、それ故、液晶Ｌ０が
無駄に消費されるという問題があった。

【００１５】また、従来の製造方法によって作製される
液晶パネルに関しては、図２５に示すように、第１基板
５２ａと第２基板５２ｂとの間の間隔の寸法Ａが５〜１
０μｍ程度であるところ、第１基板５２ａ又は第２基板
５２ｂの張出し寸法Ｂは０．１〜０．２ｍｍ程度であ
る。つまり、基板間間隙が小さいにも拘らず、基板の張
出し寸法は大きいという構造を有している。

【００１６】このような構造の液晶パネルに対して図１
９の工程Ｐ２５で洗浄を行うとき、第１基板５２ａと第
２基板５２ｂとの間の狭い間隙を満遍なく完全に洗浄す
るということは、非常に困難であり、基板間に液晶Ｌ０
のかすが残るという問題もあった、この場合、例えば、
図２４及び図２５に符号Ｃで示すように、電極につなが
る配線６６のところに液晶Ｌ０が残ってしまうと、液晶
パネル６２を使用するときに配線６６に電位差が発生す
ると、その電位差に起因して配線６６にコロージョン、
すなわち電食が発生し、表示品質が低下するという問題
があった。

【００１７】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、液晶の使用量を低減して液晶パネルの製
造コストを低減できる液晶パネルの製造方法、液晶パネ
ル用基板及び液晶パネルを提供することを目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】（１）上記の目的を達成
するため、本発明に係る液晶パネルの製造方法は、液晶
封入用の第１シール材を第１基材上に形成する工程と、
前記第１シール材に隣接して第２シール材によって閉ル
ープ領域を形成する工程と、前記第１シール材を挟んで
前記第１基材に第２基材を貼り合せる工程とを有し、前
記第２基材を貼り合せる工程は減圧下にて行われること
を特徴とする。

【００１９】一般に、一対の基板の一方に閉ループ状の
シール材、すなわち空気の抜け口のないシール材を形成
した上で、それらの基板をそのシール材を挟んで大気中
で互いに貼り合わせる場合を考えると、それらの基板を
シール材を挟んで加圧したときにシール材によって囲ま
れる領域内の気圧が高くなってシール材が破裂して損傷
することが考えられる。つまり、何等かの工夫がない限
り、液晶パネルを構成する一対の基板の一方に閉ループ
状のシール材を形成することはできなかった。これに対
し、本発明のように、第１基板と第２基板との貼り合せ
を減圧下で行うようにすれば、両基板の間に閉ループ状
の第２シール材を介在させた状態で両基板を互いに加圧
したとしても、その第２シール材が破裂する心配がな
い。

【００２０】そして、液晶封入用の第１シール材に隣接
して閉ループ状の第２シール材を形成しておけば、第１
シール材によって囲まれるセル領域に液晶を注入すると
き、第２シール部材によって囲まれる領域は閉空間とな
っているので、その領域には液晶が進入することがな
く、それ故、その閉空間の容積分だけ、液晶が無駄に消
費されることを回避でき、その結果、液晶パネルの製造
コストを低減できる。

【００２１】（２）次に、本発明に係る液晶パネルの製
造方法において、前記第１シール材を形成する工程と前
記閉ループ領域を形成する工程とは同じ工程で行われる
ことが望ましい。これにより、第２シール材を簡単に形
成することができる。

【００２２】（３）次に、本発明に係る液晶パネルの製
造方法において、前記減圧下は大気圧の半分又はそれ以
下であることが望ましい。基板の貼り合せを完全な真空
状態下で行うと、貼り合せ後のパネル構造体を大気中に
戻したときに大気圧によって過剰な力が加わり、それ
故、液晶パネルが変形するかもしれない。これに対し、
本発明のように、減圧状態を大気圧の半分又はそれ以下
に抑えれば、パネル構造体に過剰な外力が加わることを
防止でき、液晶パネルに異常な変形が発生することを防
止できる。

【００２３】（４）次に、本発明に係る液晶パネルの製
造方法において、前記第２シール材は前記第１シール材
よりも細いことが望ましい。パネル構造体において第２
シール材が設けられる領域は、多くの場合、後工程にお
いてスクライブ溝が形成され、さらにそのスクライブ溝
に従って切断されて小さい部分に分離される領域であ
る。第２シール材は、例えば、エポキシ樹脂等のように
接着性の高い材料によって形成されることが多く、この
ような接着性の高い第２シール材が設けられている領域
においてパネル構造体を切断して分離することは、非常
に難しくて、工程が複雑になるおそれがあるかもしれな
い。

【００２４】これに対し、本発明のように、第２シール
材を細く形成すれば、第２シール材の基板に対する接着
力が弱くなるので、切断によって分離する作業を簡単且
つ確実に行うことが可能となる。

【００２５】（５）次に、本発明に係る液晶パネルの製
造方法においては、前記第２シール材と前記第１基材と
の間及び／又は前記第２シール材と前記第２基材との間
に剥離膜を設けることが望ましい。ここで、「剥離膜」
とは、基板に対しての剥離のし易すさが第２シール材に
比べて高い性質の膜ということである。

【００２６】パネル構造体において第２シール材が設け
られる領域は、多くの場合、後工程においてスクライブ
溝が形成され、さらにそのスクライブ溝に従って切断さ
れて小さい部分に分離される領域である。第２シール材
は、例えば、エポキシ樹脂等のように接着性の高い材料
によって形成されることが多く、このような接着性の高
い第２シール材が設けられている領域においてパネル構
造体を切断して分離することは、非常に難しくて、工程
が複雑になるおそれがあるかもしれない。

【００２７】これに対し、本発明のように、第２シール
材と基板との間に剥離膜を介在させておけば、第２シー
ル材の基板に対する接着力が弱くなるので、切断によっ
て分離する作業を簡単且つ確実に行うことが可能とな
る。

【００２８】（６）次に、本発明に係る液晶パネルの製
造方法において、前記剥離膜は配向膜と同じ材料によっ
て該配向膜を形成する際に同時に形成されることが望ま
しい。こうすれば、剥離膜を簡単且つ正確に形成するこ
とが可能となる。

【００２９】（７）次に、本発明に係る液晶パネルの製
造方法において、前記第２シール材は、配線が前記第１
シール材を通過して外部へ張り出す部分を取り囲むよう
に形成されるこが望ましい。

【００３０】液晶パネルを製造するに際しては、液晶の
注入工程が完了した後、液晶パネルの周囲に対して洗浄
処理が行われ、この洗浄処理により、液晶パネルの周り
に液晶が残存しないようにしている。しかしながら、こ
の洗浄を完璧に行って液晶の残存を皆無にするというこ
とは、非常に困難である。これに対し、閉ループ状の第
２シール材を配線の外部への張出し部分の周りに形成す
れば、その配線の張出し部分には、そもそも、液晶が進
入しないので、当然のことながら残存することもない。
従って、液晶パネルの長時間の使用後にコロージョンが
発生して液晶パネルの表示品質が低下するといったこと
がなくなる。

【００３１】（８）次に、本発明に係る液晶パネル用基
板は、基材と、該基材上に形成された液晶封入用の第１
シール材と、該第１シール材に隣接して第２シール材に
よって形成された閉ループ領域とを有することを特徴と
する。

【００３２】この構成の基板を用いて液晶パネルを製造
すれば、この構成の基板に他の基板を貼り合せてパネル
構造体を形成した後に、そのパネル構造体の内部に液晶
を注入する際、第２シール材によって囲まれる領域へ液
晶が進入することを防止できるので、液晶の無駄な消費
を回避でき、それ故、液晶パネルの製造コストの低減を
達成できる。

【００３３】（９）次に、本発明に係る液晶パネルは、
以上に記載した構成の液晶パネルの製造方法を用いて製
造されたことを特徴とする液晶パネルである。この液晶
パネルは、液晶の無駄な消費を抑えた分だけ安く製造で
きる。

【００３４】

【発明の実施の形態】（第１実施形態）以下、本発明を
単純マトリクス方式の液晶パネル及び液晶装置を製造す
る場合を例に挙げて説明する。図１は、本発明に係る液
晶パネルの製造方法の一実施形態を示している。ここに
示す液晶パネルの製造方法においては、工程Ｐ１から工
程Ｐ４に至る一連の工程によって図２に示す大判の第１
基板１ａが形成される。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１
３に至る一連の工程によって図３に示す大判の第２基板
１ｂが形成される。

【００３５】工程Ｐ１においては、図２に示すように、
大判の第１基材２ａ上に液晶パネル複数分の第１電極３
ａを形成する。なお、図２では、１つの第１基材２ａ上
に形成する液晶パネルの数を４×４＝１６個としたが、
液晶パネルの形成数は、第１基板２ａの大きさと製造す
る液晶パネルの大きさとの関係に応じて任意に設定され
る。第１電極３ａは、複数の直線状の電極を互いに平行
に並べることによって全体としてストライプ状に形成さ
れている。

【００３６】次に、工程Ｐ２において、図２に示すよう
に、各液晶パネル領域内に配向膜４ａを形成し、さら
に、工程Ｐ３において、配向膜４ａに対してラビング処
理を実行する。このラビング処理により、液晶分子が第
１基板１ａ側から一方向に並べられる。

【００３７】なお、第１基材２ａは、ガラス、プラスチ
ック等によって形成される。また、第１電極３ａは、例
えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料としてフォトリ
ソグラフィー法を用いて形成される。また、配向膜４ａ
は、例えばポリイミドを塗布又は印刷することによって
形成される。

【００３８】その後、第１基材２ａ上の各液晶パネル領
域にエポキシ樹脂等を環状に付着、例えば印刷、するこ
とによって第１シール材６ａを形成する。また、第１シ
ール材６ａに連続して第２シール材６ｂを形成すること
により、第１シール材６ａに隣接する所に閉ループ領域
Ｄ、すなわちシール材によって囲まれて開口の無い領域
を形成する。

【００３９】本実施形態の場合、閉ループ領域Ｄは、互
いに隣り合う液晶パネル領域の間を埋めるように形成さ
れている。なお、第２シール材６ｂは、第１シール材６
ａとは別個に独立して形成することもできるし、第１シ
ール材６ａを印刷等によって形成する際に同時に形成す
ることもできる。

【００４０】以上により、液晶パネル複数分のパターン
が形成された大判の第１基板１ａが作製される。なお、
第１基板１ａ上には、必要に応じて、上記第１電極３ａ
及び配向膜４ａ以外の光学的要素が形成されることもあ
るが、図２ではそれら付加的な光学的要素は省略してあ
る。

【００４１】一方、図１の工程Ｐ１１においては、図３
に示すように、大判の第２基材２ｂ上に液晶パネル複数
分の第２電極３ｂを形成する。第２電極３ｂは、複数の
直線状の電極を互いに平行に並べることによって全体と
してストライプ状に形成されている。なお、図３では、
第２基材２ｂを通して第２電極３ｂを見た状態を示して
おり、さらに、第２基材２ｂは鎖線で仮想的に示してあ
る。

【００４２】次に、工程Ｐ１２において、図３に示すよ
うに、各液晶パネル領域内に配向膜４ｂを形成し、さら
に、工程Ｐ１３において、配向膜４ｂに対してラビング
処理を実行する。このラビング処理により、液晶分子が
第２基板１ｂ側から一方向に並べられる。これにより、
液晶パネル複数分のパターンが形成された大判の第２基
板１ｂが作製される。なお、第２基板１ｂ上には、必要
に応じて、上記第２電極３ｂ及び配向膜４ｂ以外の光学
的要素が形成されることもあるが、図３ではそれら付加
的な光学的要素は省略してある。

【００４３】なお、第２基材２ｂは、ガラス、プラスチ
ック等によって形成される。また、第２電極３ｂは、例
えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料としてフォトリ
ソグラフィー法を用いて形成される。また、配向膜４ｂ
は、例えばポリイミドを塗布又は印刷することによって
形成される。

【００４４】以上により、図２の第１基板１ａ及び図３
の第２基板１ｂが形成されると、図１の工程Ｐ２１にお
いて、両基板１ａ及び１ｂが第１シール材６ａ及び第２
シール材６ｂを間に挟んで互いに貼り合わされることに
より、液晶パネル複数分の空セルを有した大判のパネル
構造体が形成される。なお、両基板１ａ及び１ｂは、第
１電極３ａと第２電極３ｂとがほぼ直交するように互い
に貼り合わされる。

【００４５】さらに、工程２２において、図２に示す溝
Ｇ１を第１基材２ａ上に形成し、さらに図３に示す溝Ｇ
２及びＧ３を第２基材２ｂ上に形成すると共に、それら
の溝に従ってパネル構造体を切断することにより、図４
に示すような１列分のパネル構造体、いわゆる短冊状の
パネル構造体７が形成される。この短冊状のパネル構造
体７においては、第１シール材６ａの一部に形成した液
晶注入用開口１８が外部へ露出している。

【００４６】次に、工程Ｐ２３において液晶の注入処理
を実行する。具体的には、まず、図５に示すように、液
晶Ｌ０を収容した容器８と短冊状のパネル構造体７とを
密閉チャンバ９内に入れる。そして、密閉チャンバ９内
を減圧、例えば真空状態に減圧することにより、パネル
構造体７内の各液晶パネル部分の第１シール材６ａの内
側領域を減圧し、この状態でパネル構造体７の各液晶パ
ネル部分の液晶注入用開口６ａを液晶Ｌ０の液面に漬け
る。

【００４７】その後、密閉チャンバ９内の減圧状態を大
気圧に戻すことにより、液晶Ｌ０の液面に大気圧を加
え、これにより、液晶注入用開口１８を通して第１シー
ル材６ａの内部に液晶Ｌ０を注入する。その後、図６に
符号１１で示すように、各第１シール材６ａの液晶注入
用開口１８を樹脂等によって封止する。

【００４８】本実施形態では、液晶Ｌ０を封入する領域
である第１シール材６ａに隣接して第２シール材６ｂに
よって閉ループ領域Ｄを形成した。この閉ループ領域Ｄ
は開口の無い閉鎖領域であるので、第１シール材６ａに
よって囲まれた領域へ液晶Ｌ０を注入する際、この閉ル
ープ領域Ｄには液晶Ｌ０が進入しない。このため、無駄
に消費される液晶Ｌ０の量が少なくなり、それ故、液晶
パネルの製造コストを低くすることができる。

【００４９】次に、図１の工程Ｐ２４において、図４の
溝Ｇ４に従って、パネル構造体７を切断して個々に分離
することにより、図６に示すような液晶パネル１２が、
複数、作製される。この液晶パネル１２において、第１
基板１ａは第２基板１ｂの外側へ張り出す張出し部１ｃ
を有し、この張出し部１ｃ上には、外部回路との間で信
号や電力の授受を行うための端子１３が形成される。

【００５０】第１基板１ａ上に形成された第１電極３ａ
は第１シール材６ａを通過して外部へ張り出して端子１
３となっている。一方、第２基板１ｂ上に形成された第
２電極３ｂは、第１シール材６ａの内部に混入された導
通材１４を介して配線１６に接続し、その配線１６が端
子１３につなげられている。

【００５１】以上のようにして液晶パネル１２が作製さ
れた後、図１の工程Ｐ２５において液晶パネルの洗浄が
行われる。例えば、界面活性剤を混入させた洗浄液を液
晶パネル１２の外表面に供給することにより、液晶パネ
ル１２の外表面に付着した液晶Ｌ０の残りかすを液晶パ
ネル１２から除去する。次に、工程Ｐ２６において、図
７に示すように、第１基材２ａ及び第２基材２ｂの外側
表面に偏光板１７ａ及び１７ｂを貼着する。

【００５２】さらに、工程Ｐ２７において、図６に示す
第１基板１ａの張出し部１ｃに形成した端子１３に、例
えば、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）等を介して
液晶駆動用ＩＣを実装する。これにより、目標とする液
晶装置が完成する。こうして製造された液晶装置は、ア
クティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶パネ
ルである。第１電極３ａと第２電極３ｂとはドットマト
リクス状に配列する複数の点で交差し、それらの交点の
１つによって像形成のための１ドットが形成され、これ
らドットの集まりによって表示領域が形成される。

【００５３】この液晶装置では、各ドットに印加される
電圧を制御することにより、それらのドットに存在する
液晶の配向がドットごとに制御される。この配向制御に
より、各ドットを通過する光が変調されて図７の偏光板
１７ａ又は１７ｂを通過するものと通過しないものとが
選択され、これにより、第１基板２ａの外側又は第２基
板２ｂの外側に文字、数字等といった像が表示される。

【００５４】なお、図７において、液晶層Ｌへ供給する
光は、反射方式又は透過方式によって与えられる。反射
方式というのは、第１基板２ａ又は第２基板２ｂのいず
れかの液晶層Ｌ側の表面又は液晶層Ｌと反対側の表面に
反射膜（図示せず）を形成し、外部からの光、例えば太
陽光、室内光等をその反射膜によって反射して液晶層Ｌ
へ供給する方式である。他方、透過方式というのは、第
１基板２ａ又は第２基板２ｂのいずれかの液晶層Ｌと反
対側の表面に照明装置を配設し、この照明装置からの光
を第１基板２ａ又は第２基板２ｂを透過させて液晶層Ｌ
へ供給する方式である。

【００５５】以上に説明したように、本実施形態に係る
液晶パネルの製造方法によれば、図５に示すように、第
１シール材６ａによって囲まれる液晶注入領域、すなわ
ち液晶セルに隣接して、特に本実施形態では互いに隣り
合う２つの液晶セルの間に、閉ループ領域Ｄを形成した
ので、液晶注入処理の際にその閉ループ領域Ｄ内への液
晶Ｌ０の進入が阻止され、これにより、液晶Ｌ０が無駄
に消費されることを回避できる。この結果、液晶パネル
を安価に製造することができる。

【００５６】（第２実施形態）図８は、本発明に係る液
晶パネルの製造方法の他の実施形態の１工程を示してい
る。本実施形態に係る製造方法の全工程は図１に示した
一連の工程と同じとすることができる。

【００５７】図８に示す工程が、図２に示した先の実施
形態における対応工程と異なる点は、互いに隣り合う２
つの液晶セルの間に第１の閉ループ領域Ｄ１を形成する
ことに加えて、第１電極３ａから延びていて第１シール
材６ａを通過して液晶セルの外部へ延び出る配線部分を
取り囲むように第２シール材６ｃによって第２の閉ルー
プ領域Ｄ２を形成したことである。

【００５８】本実施形態の製造方法は、図１に示した先
の実施形態とほとんど同様にして行うことができるが、
図１の工程Ｐ２３の液晶注入工程では、図１０に示すよ
うに、第１シール材６ａによって囲まれる液晶セル内に
液晶Ｌ０が進入し、しかし、第２シール材６ｂによって
囲まれる第１閉ループ領域Ｄ１内及び第２シール材６ｃ
によって囲まれる第２閉ループ領域Ｄ２内には液晶Ｌ０
は進入しない。

【００５９】また、本実施形態では、図１０に示す液晶
注入工程の後、図１の２次ブレイク工程Ｐ２４におい
て、図９に示すスクライブ溝Ｇ４及びＧ５に従って、短
冊状のパネル構造体を切断することにより、図１１に示
す液晶パネル１２が個々に切り出される。

【００６０】図５に示した実施形態では液晶Ｌ０の無駄
な消費を回避するための領域が閉ループ領域Ｄ（本実施
形態の第１閉ループ領域Ｄ１）に限られていたが、本実
施形態では第１閉ループ領域Ｄ１に加えて第２閉ループ
領域Ｄ２への液晶Ｌ０の進入をも防止できる。この結
果、液晶Ｌ０の無駄な消費をより一層効果的に抑えるこ
とができる。

【００６１】さらに本実施形態では、図９において、第
１電極３ａから延びていて第１シール材６ａを通過して
液晶セルの外部へ延びる配線部分及びそれに引き続く端
子１３の部分が第２シール材６ｃに囲まれていて液晶Ｌ
０が進入しないようになっているので、この部分を洗浄
しなくても液晶Ｌ０が残留するという事態が発生するこ
とがない。従って、図２４に符号Ｃで示したように、配
線のところに液晶Ｌ０が残留することを完全に防止で
き、この結果、液晶パネル及び液晶装置の完成後の液晶
装置の使用中に配線部分にコロージョンが発生すること
を防止でき、液晶装置の信頼性を向上できる。

【００６２】（第３実施形態）図１２〜図１７は、本発
明に係る液晶パネルの製造方法のさらに他の実施形態を
示している。ここに示す実施形態の全体的な工程は図１
に示した工程とすることができる。

【００６３】図１２に示す第１基板１ａの形成工程で
は、図２に示した工程や図８に示した工程と同様に、互
いに隣り合う２つの液晶セルの間に第２シール材６ｂに
よって閉ループ領域Ｄが形成されている。図２や図８に
示した実施形態と異なる点は、第１電極３ａの延在方向
が短冊状パネル構造体の長手方向（すなわち、図１２の
左右方向）であり、この結果、図１３(ａ)及び（ｂ）に
示すように、第１電極３ａから延びていて第１シール材
６ａを通過して液晶セルの外部へ延び出る配線部分及び
それに引き続く端子１３の部分が閉ループ領域Ｄの中に
位置するようになっていることである。

【００６４】図１２の第１基板１ａに貼り合わされる図
１４に示す第２基板１ｂに関しては、図３で示した第２
基板１ｂと異なって、第２電極３ｂが短冊状パネル構造
体の短手方向（すなわち、図１４の上下方向）へ延び
て、図１２の第１電極３ａと直交する位置関係に設定さ
れている。

【００６５】また、本実施形態では、図１３（ａ）及び
図１３（ｃ）において、液晶セル内の第１基材２ａの上
に配向膜４ａを形成する際に、第２シール材６ｂが形成
される位置に相当する第１基材２ａの上に、配向膜４ａ
の形成と同時に同じ材料によって剥離膜１９を形成す
る。

【００６６】本実施形態では、図１に示す液晶注入工程
Ｐ２３において、図１６に示すように、第１シール材６
ａによって囲まれる液晶セル内に液晶Ｌ０が進入する
が、第２シール材６ｂによって囲まれた閉ループ領域Ｄ
内には液晶Ｌ０は進入しない。従って、閉ループ領域Ｄ
内に収納されている端子１３の部分及びそれにつながる
配線部分には液晶Ｌ０は進入しない。

【００６７】図１の液晶注入工程Ｐ２３の後に行われる
２次ブレイク工程Ｐ２４においては、図１５に示すよう
に、スクライブ溝Ｇ６に従って第１基板１ａの基材２ａ
及び第２基板１ｂの基材２ｂが切断され、さらにスクラ
イブ溝Ｇ７に従って第２基板１ｂの基材２ｂが切断され
る。これにより、図１７(ａ)及び（ｂ）に示すような液
晶パネル１２が複数、個々に切り出される。

【００６８】本実施形態に係る液晶パネルの製造方法に
よれば、図１６に示すように、第１シール材６ａによっ
て囲まれる液晶注入領域、すなわち液晶セルに隣接し
て、特に本実施形態では互いに隣り合う２つの液晶セル
の間に、閉ループ領域Ｄを形成したので、液晶注入処理
の際にその閉ループ領域Ｄ内への液晶Ｌ０の進入が阻止
され、これにより、液晶Ｌ０が無駄に消費されることを
回避できる。この結果、液晶パネルを安価に製造するこ
とができる。

【００６９】さらに本実施形態では、図１５において、
第１電極３ａから延びていて第１シール材６ａを通過し
て液晶セルの外部へ延びる配線部分及びそれに引き続く
端子１３の部分が第２シール材６ｂに囲まれていて液晶
Ｌ０が進入しないようになっているので、この部分を洗
浄しなくても液晶Ｌ０が残留するという事態が発生する
ことがない。従って、図２４に符号Ｃで示したように、
配線のところに液晶Ｌ０が残留することを完全に防止で
き、この結果、液晶パネル及び液晶装置の完成後に液晶
装置を使用しているときに配線部分にコロージョンが発
生することを防止でき、液晶装置の信頼性を向上でき
る。

【００７０】さらに、本実施形態では、図１５におい
て、スクライブ溝Ｇ６及びＧ７に従って切断される部分
の第２シール材６ｂと第１基材２ａとの間に、配向膜４
ａと同じ材質の剥離膜１９が形成されている。配向膜４
ａは一般にポリイミドによって形成されており、このポ
リイミドは液晶パネルを構成する各種材料の中で、ガラ
ス等によって形成された基材２ａ，２ｂに対して最も接
着されにくい、従って最も剥がれ易い材料であると考え
られる。

【００７１】一般に、第２シール材６ｂとして用いられ
るエポキシ樹脂は、ガラス等によって形成された基材２
ａ，２ｂに対して非常に接着性が高く、それ故、このエ
ポキシ樹脂が一旦ガラス等に固着されると、剥がし難
い。このため、図１５においてスクライブ溝Ｇ６及びＧ
７に従って短冊状のパネル構造体７を切断する際、第２
シール材６ｂが第１基材２ａに直接に固着されている
と、上記の切断を行って切断後の各部を分離することが
うまくできなくなるおそれがある。

【００７２】これに対し、本実施形態のように、第２シ
ール材６ｂと第１基材２ａとの間に剥がれ易い剥離膜１
９を予め設けてあるので、第２シール材６ｂの第１基材
２ａからの切断及び分離を簡単且つ確実に行うことが可
能となる。

【００７３】なお、図１５では、第２シール材６ｂと第
１基材２ａとの間に剥離膜１９を設けたが、剥離膜１９
は第２シール材６ｂと第２基材２ｂとの間に設けること
もできる。また、それらの両方に設けることもできる。
また、剥離膜１９は、配向膜４ａと同じ材料によって形
成することに限定されることなく、その他の任意の材料
によって形成することができる。但し、剥離性に優れた
材料であることが望ましい。

【００７４】（第４実施形態）図１８は、本発明に係る
液晶パネルの製造方法のさらに他の実施形態の１工程で
あって、短冊状のパネル構造体７が形成された工程を示
している。本実施形態は、図１２〜図１７を用いて説明
した先の実施形態の変形例である。

【００７５】図１５に示した実施形態では、第２シール
材６ｂの剥離性を向上させるために、その第２シール材
６ｂと第１基材２ａとの間に剥離膜１９を設けた。本実
施形態では、剥離膜１９を設けることに代えて、図１８
（ａ）に示すように、閉ループ領域Ｄを区画する第２シ
ール材６ｂの幅Ｗ２が液晶封入領域を区画する第１シー
ル材６ａの幅Ｗ１よりも細く形成されている。例えば、
液晶封入領域を区画するための第１シール材６ａの幅Ｗ
１は、通常、基材の上に形成された状態で０．２〜０．
５ｍｍ程度に形成されるので、第１シール材６ｂの幅Ｗ
２はそれよりも細い寸法に形成される。

【００７６】本実施形態によれば、第２シール材６ｂの
幅Ｗ２を細くしたので、第２シール材６ｂと第１基材２
ａとの間に剥がれ易い剥離膜１９を予め設けてあるの
で、第２シール材６ｂと第１基材２ａとの間の結合力及
び第２シール材６ｂと第２基材２ｂとの間の結合力が弱
められ、それ故、第２シール材６ｂの第１基材２ａや第
２基材２ｂからの切断及び分離を簡単且つ確実に行うこ
とが可能となる。

【００７７】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。

【００７８】例えば、以上の実施形態では、本発明を単
純マトリクス方式の液晶パネルに適用したが、本発明
は、その他の任意の構造の液晶パネル、例えば、ＴＤＦ
（ThinFilm Diode）素子等とった２端子型のスイッチン
グ素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶パネル
や、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子等といった３
端子型のスイッチング素子を用いるアクティブマトリク
ス方式の液晶パネル等にも適用できる。

【００７９】

【発明の効果】以上の説明の通り、本発明に係る液晶パ
ネルの製造方法、液晶パネル用基板及び液晶パネルによ
れば、液晶が封入される液晶セル領域を区画する第１シ
ール材に隣接してパネル構造体の内部に閉ループ領域が
形成され、その閉ループ領域内には液晶が進入すること
がないので、液晶の使用量を低減して液晶パネルの製造
コストを低減できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液晶パネルの製造方法の一実施形
態を示す工程図である。

【図２】図１の製造方法における１つの工程で形成され
る第１基板を平面的に示す平面図である。

【図３】図１の製造方法における１つの工程で形成され
る第２基板を平面的に示す平面図である。

【図４】図１の製造方法における１つの工程で形成され
る短冊状のパネル構造体の平面構造及び断面構造を示す
図である。

【図５】図１の製造方法における１つの工程で行われる
液晶注入処理を示す図である。

【図６】図１の製造方法によって製造される液晶パネル
を一部破断して平面的に示す平面図である。

【図７】図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線に従って液晶パネルの
断面構造を示す図である。

【図８】本発明に係る液晶パネルの製造方法の他の実施
形態における１つの工程で形成される第１基板を平面的
に示す平面図である。

【図９】図８の第１基板を用いて形成された短冊状のパ
ネル構造体の平面構造及び断面構造を示す図である。

【図１０】図９のパネル構造体に液晶を注入する工程を
示す図である。

【図１１】図８に示す基板を用いて形成される液晶パネ
ルの平面構造を示す平面図である。

【図１２】本発明に係る液晶パネルの製造方法のさらに
他の実施形態における１つの工程で形成される第１基板
を平面的に示す平面図である。

【図１３】図１２において矢印ＩＩＩで示す液晶パネル
１個分の領域を拡大して示す図である。

【図１４】図１２に示す第１基板に貼り合わされる第２
基板を平面的に示す平面図である。

【図１５】図１２の第１基板を用いて形成された短冊状
のパネル構造体の平面構造及び断面構造を示す図であ
る。

【図１６】図１５のパネル構造体に液晶を注入する工程
を示す図である。

【図１７】図１２及び図１４に示す基板を用いて形成さ
れる液晶パネルの平面構造及び断面構造を示す図であ
る。

【図１８】本発明に係る液晶パネルの製造方法のさらに
他の実施形態における１つの工程で形成される短冊状の
パネル構造体を平面的に示す平面図である。

【図１９】液晶パネルの製造方法の従来の一例を示す工
程図である。

【図２０】図１９に示す従来の製造方法における１つの
工程で形成される第１基板を平面的に示す平面図であ
る。

【図２１】図１９に示す従来の製造方法における１つの
工程で形成される第２基板を平面的に示す平面図であ
る。

【図２２】図１９に示す従来の製造方法における１つの
工程で形成される短冊状のパネル構造体の平面構造及び
断面構造を示す図である。

【図２３】図１９に示す従来の製造方法における１つの
工程で行われる液晶注入処理を示す図である。

【図２４】図１９に示す従来の製造方法によって製造さ
れる液晶パネルを一部破断して平面的に示す平面図であ
る。

【図２５】図２４におけるＶ−Ｖ線に従って液晶パネル
の断面構造を示す図である。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ 基板 ２ａ，２ｂ 基材 ３ａ，３ｂ 電極 ４ａ，４ｂ 配向膜 ６ａ 第１シール材 ６ｂ，６ｃ 第２シール材 ７ 短冊状のパネル構造体 ８ 液晶容器 ９ 密閉チャンバ １２ 液晶パネル １３ 端子 １４ 導通材 １６ 配線 １９ 剥離膜 Ｄ 閉ループ領域 Ｄ１ 第１閉ループ領域 Ｄ２ 第２閉ループ領域 Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４，Ｇ５，Ｇ６，Ｇ７ スクライ
ブ溝 Ｌ０ 液晶 Ｌ 液晶層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H088 FA04 FA10 FA16 FA17 FA18 FA24 FA28 FA30 MA16 2H089 MA04Y NA24 NA25 NA34 NA39 NA43 NA49 QA03 QA11 QA12 QA13 5C094 AA44 BA43 DA07 EB02 GB01 5G435 AA00 BB12 EE09 EE33 FF00 KK05

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶封入用の第１シール材を第１基材上
   に形成する工程と、 前記第１シール材に隣接して第２シール材によって閉ル
   ープ領域を形成する工程と、 前記第１シール材を挟んで前記第１基材に第２基材を貼
   り合せる工程とを有し、 前記第２基材を貼り合せる工程は減圧下にて行われるこ
   とを特徴とする液晶パネルの製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、前記第１シール材を
   形成する工程と前記閉ループ領域を形成する工程とは同
   じ工程で行われることを特徴とする液晶パネルの製造方
   法。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２において、前記減
   圧下は大気圧の半分又はそれ以下であることを特徴とす
   る液晶パネルの製造方法。
4. 【請求項４】 請求項１から請求項３の少なくとも１つ
   において、前記第２シール材は前記第１シール材よりも
   細いことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
5. 【請求項５】 請求項１から請求項４の少なくとも１つ
   において、前記第２シール材と前記第１基材との間及び
   ／又は前記第２シール材と前記第２基材との間に剥離膜
   を設けることを特徴とする液晶パネルの製造方法。
6. 【請求項６】 請求項５において、前記剥離膜は配向膜
   と同じ材料によって該配向膜を形成する際に同時に形成
   されることを特徴とする液晶パネルの製造方法。
7. 【請求項７】 請求項１から請求項６の少なくとも１つ
   において、前記第２シール材は、配線が前記第１シール
   材を通過して張り出す部分を取り囲むように形成される
   ことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
8. 【請求項８】 基材と、該基材上に形成された液晶封入
   用の第１シール材と、該第１シール材に隣接して第２シ
   ール材によって形成された閉ループ領域とを有すること
   を特徴とする液晶パネル用基板。
9. 【請求項９】 請求項１から請求項７の少なくとも１つ
   に記載された液晶パネルの製造方法を用いて製造された
   液晶パネル。