JP2003081803A - ジベンゾイルメタン誘導体及び１，１，１−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタンを含有する遮蔽用組成物 - Google Patents
ジベンゾイルメタン誘導体及び１，１，１−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタンを含有する遮蔽用組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決課題】 組成物中のジベンゾイルメタン誘導体の
光化学安定性を大幅にかつ顕著に改善し、また、ジベン
ゾイルメタン誘導体と少なくとも１つの１,３,５-トリ
アジン誘導体の組み合わせを含む組成物中の１,３,５-
トリアジン誘導体の光安定性を完全に著しく改善し、よ
ってこれらの組成物の全体的な効果を改善する。 【手段】 化粧品的に許容可能な支持体に、少なくと
も：(ａ)１種のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮蔽
剤、及び(ｂ)１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキ
シ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを含有することを特
徴とする化粧品用又は皮膚用組成物とする。
光化学安定性を大幅にかつ顕著に改善し、また、ジベン
ゾイルメタン誘導体と少なくとも１つの１,３,５-トリ
アジン誘導体の組み合わせを含む組成物中の１,３,５-
トリアジン誘導体の光安定性を完全に著しく改善し、よ
ってこれらの組成物の全体的な効果を改善する。 【手段】 化粧品的に許容可能な支持体に、少なくと
も：(ａ)１種のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮蔽
剤、及び(ｂ)１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキ
シ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを含有することを特
徴とする化粧品用又は皮膚用組成物とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、化粧品的に許容可
能な支持体に、少なくとも：(ａ)１種のジベンゾイルメ
タン誘導体型のＵＶ遮蔽剤、及び(ｂ)１,１,１-トリス
(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブ
タンを含有することを特徴とする、特に、皮膚及びは毛
髪を光防御することを意図した、局所使用用の化粧品用
又は皮膚用組成物に関する。また、本発明は、ＵＶ線に
関して少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体の安
定性を改善するための、前記ジベンゾイルメタン誘導体
に有効量の１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-
５-tert-ブチルフェニル)ブタンを組み合わせることか
らなる方法に関する。
能な支持体に、少なくとも：(ａ)１種のジベンゾイルメ
タン誘導体型のＵＶ遮蔽剤、及び(ｂ)１,１,１-トリス
(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブ
タンを含有することを特徴とする、特に、皮膚及びは毛
髪を光防御することを意図した、局所使用用の化粧品用
又は皮膚用組成物に関する。また、本発明は、ＵＶ線に
関して少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体の安
定性を改善するための、前記ジベンゾイルメタン誘導体
に有効量の１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-
５-tert-ブチルフェニル)ブタンを組み合わせることか
らなる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】２８０
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にＵＶ-Ｂ線として知られている２８０と
３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は自然なサン
タン状態の形成を害するサンバーン及び紅斑を生じる。
これらの理由、並びに美観的な理由によって、この自然
な日焼けを調節して皮膚の色を調節するための手段に対
してコンスタントな需要があり；このＵＶ-Ｂ線は遮蔽
すべきである。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波
長を持ち、皮膚の日焼けを引き起こすＵＶ-Ａ線も、特
に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合
において、好ましくない変化を誘発する傾向にあること
が知られている。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を
喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化を導く原
因となるものである。それらは、紅斑反応の惹起を促進
し、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒又は光
アレルギー反応の原因にさえなりうる。しかして、例え
ば皮膚の自然な弾力性の保持のような美的及び美容的理
由から、益々多くの人々が皮膚へのＵＶ-Ａ線の影響を
コントロールすることを望んでいる。よって、ＵＶ-Ａ
線も遮蔽することが望ましい。
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にＵＶ-Ｂ線として知られている２８０と
３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は自然なサン
タン状態の形成を害するサンバーン及び紅斑を生じる。
これらの理由、並びに美観的な理由によって、この自然
な日焼けを調節して皮膚の色を調節するための手段に対
してコンスタントな需要があり；このＵＶ-Ｂ線は遮蔽
すべきである。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波
長を持ち、皮膚の日焼けを引き起こすＵＶ-Ａ線も、特
に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合
において、好ましくない変化を誘発する傾向にあること
が知られている。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を
喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化を導く原
因となるものである。それらは、紅斑反応の惹起を促進
し、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒又は光
アレルギー反応の原因にさえなりうる。しかして、例え
ば皮膚の自然な弾力性の保持のような美的及び美容的理
由から、益々多くの人々が皮膚へのＵＶ-Ａ線の影響を
コントロールすることを望んでいる。よって、ＵＶ-Ａ
線も遮蔽することが望ましい。
【０００３】従って、全てのＵＶ線スペクトルから皮膚
及び毛髪を最も完全に、最も効果的に保護できるように
するために、ＵＶＡの領域で活性のある遮蔽剤とＵＶＢ
の領域で活性のある遮蔽剤の組み合わせが、抗日光用組
成物の製造に一般的に使用される。この点に関し、現在
特に有効な種類のＵＶ-Ａ遮蔽剤はジベンゾイルメタン
誘導体、特に４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイ
ルメタンであり、これは高い固有の吸収力を有するもの
である。これらジベンゾイルメタン誘導体は、現在では
それ自体、ＵＶ-Ａ領域に活性のある遮蔽剤としてよく
知られている製品であり、特に仏国特許出願公開第２３
２６４０５号及び仏国特許公開第２４４０９３３号、並
びに欧州特許出願公開第０１１４６０７号に記載され；
さらに、４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイル
メタンは、ホフマン ラ ロシュ社(Hoffmann La Roche)
から「パルソール(Parsol)1789」の商品名で現在市販さ
れている。しかしながら、ジベンゾイルメタン誘導体
は、紫外線(特にＵＶ-Ａ)に比較的敏感な生成物であ
る、すなわち、より特定的には、それらは、この紫外線
の作用下で程度の差はあれ素早く劣化してしまうという
好ましくない傾向を有していることが知見されている。
よって、ジベンゾイルメタン誘導体がその性質上さらさ
れることとなる紫外線に対して光化学的安定性を大幅に
欠いているため、太陽にさらされている長い間、確実に
一定して保護し続けることはできず、使用者は、ＵＶ線
から皮膚を有効に保護するためには、短い時間間隔で規
則的に繰り返し塗布しなければならない。
及び毛髪を最も完全に、最も効果的に保護できるように
するために、ＵＶＡの領域で活性のある遮蔽剤とＵＶＢ
の領域で活性のある遮蔽剤の組み合わせが、抗日光用組
成物の製造に一般的に使用される。この点に関し、現在
特に有効な種類のＵＶ-Ａ遮蔽剤はジベンゾイルメタン
誘導体、特に４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイ
ルメタンであり、これは高い固有の吸収力を有するもの
である。これらジベンゾイルメタン誘導体は、現在では
それ自体、ＵＶ-Ａ領域に活性のある遮蔽剤としてよく
知られている製品であり、特に仏国特許出願公開第２３
２６４０５号及び仏国特許公開第２４４０９３３号、並
びに欧州特許出願公開第０１１４６０７号に記載され；
さらに、４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイル
メタンは、ホフマン ラ ロシュ社(Hoffmann La Roche)
から「パルソール(Parsol)1789」の商品名で現在市販さ
れている。しかしながら、ジベンゾイルメタン誘導体
は、紫外線(特にＵＶ-Ａ)に比較的敏感な生成物であ
る、すなわち、より特定的には、それらは、この紫外線
の作用下で程度の差はあれ素早く劣化してしまうという
好ましくない傾向を有していることが知見されている。
よって、ジベンゾイルメタン誘導体がその性質上さらさ
れることとなる紫外線に対して光化学的安定性を大幅に
欠いているため、太陽にさらされている長い間、確実に
一定して保護し続けることはできず、使用者は、ＵＶ線
から皮膚を有効に保護するためには、短い時間間隔で規
則的に繰り返し塗布しなければならない。
【０００４】１,３,５-トリアジン誘導体は、ＵＶ-Ｂ領
域、また更にはＵＶ-Ａ領域において、関連する置換基
の性質に依存してこれらの化合物に高い活性があるとい
う事実により、抗日光用化粧品に特に所望される。それ
らは、特に、米国特許出願第４３６７３９０号、欧州特
許公開第８６３１４５号、同第５１７１０４号、同第５
７０８３８号、同第５０７６９１号、同第７９６８５１
号、同第７７５６９８号、同第８７８４６９号及び同第
９３３３７６号に記載され、特に次の：− ２,４,６-
トリス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニ
ル)アニリノ］-１,３,５-トリアジン又はＢＡＳＦ社か
ら「ユビヌル(Uvinul)Ｔ１５０」の商品名で販売されて
いる「エチルヘキシルトリアゾン」（ＩＮＣＩ名）、−
２-[(ｐ-(tert-ブチルアミド)アニリノ]-４,６-ビス
[(ｐ-(２'エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニ
リノ］-１,３,５-トリアジン又はシグマ３Ｖ社(Sigma 3
V)から「ユバソーブ(Uvasorb)ＨＥＢ」の商品名で販売
されている「ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン」
（ＩＮＣＩ名）が知られている。しかしながら、出願人
は、これらの１,３,５-トリアジン誘導体がジベンゾイ
ルメタン誘導体、特に４-tert-ブチル-４'-メトキシジ
ベンゾイルメタンの存在下にある場合、紫外線下でそれ
らがかなりの化学分解を被るという欠点を有することを
発見した。これらの条件の下では、２つの遮蔽剤の組み
合わせは、もはや皮膚及び毛髪の長期的広範の抗日光防
御を提供しない。
域、また更にはＵＶ-Ａ領域において、関連する置換基
の性質に依存してこれらの化合物に高い活性があるとい
う事実により、抗日光用化粧品に特に所望される。それ
らは、特に、米国特許出願第４３６７３９０号、欧州特
許公開第８６３１４５号、同第５１７１０４号、同第５
７０８３８号、同第５０７６９１号、同第７９６８５１
号、同第７７５６９８号、同第８７８４６９号及び同第
９３３３７６号に記載され、特に次の：− ２,４,６-
トリス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニ
ル)アニリノ］-１,３,５-トリアジン又はＢＡＳＦ社か
ら「ユビヌル(Uvinul)Ｔ１５０」の商品名で販売されて
いる「エチルヘキシルトリアゾン」（ＩＮＣＩ名）、−
２-[(ｐ-(tert-ブチルアミド)アニリノ]-４,６-ビス
[(ｐ-(２'エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニ
リノ］-１,３,５-トリアジン又はシグマ３Ｖ社(Sigma 3
V)から「ユバソーブ(Uvasorb)ＨＥＢ」の商品名で販売
されている「ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン」
（ＩＮＣＩ名）が知られている。しかしながら、出願人
は、これらの１,３,５-トリアジン誘導体がジベンゾイ
ルメタン誘導体、特に４-tert-ブチル-４'-メトキシジ
ベンゾイルメタンの存在下にある場合、紫外線下でそれ
らがかなりの化学分解を被るという欠点を有することを
発見した。これらの条件の下では、２つの遮蔽剤の組み
合わせは、もはや皮膚及び毛髪の長期的広範の抗日光防
御を提供しない。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
出願人は、驚くべきことに、上述したジベンゾイルメタ
ン誘導体に、１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキ
シ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを有効量組合せる
と、これら同様のジベンゾイルメタン誘導体の光化学安
定性(すなわち光安定性)を大幅にかつ顕著に改善するこ
とができることを見出した。更に、出願人はまた、ジベ
ンゾイルメタン誘導体と少なくとも１種の１,３,５-ト
リアジン誘導体の組み合わせを含む組成物に、１,１,１
-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェ
ニル)ブタンを導入すると、完全に著しく、該組成物中
のこの１,３,５-トリアジン誘導体の光安定性を改善
し、よってこれらの組成物の全体的な効果を改善するこ
とが可能になることを見出した。
出願人は、驚くべきことに、上述したジベンゾイルメタ
ン誘導体に、１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキ
シ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを有効量組合せる
と、これら同様のジベンゾイルメタン誘導体の光化学安
定性(すなわち光安定性)を大幅にかつ顕著に改善するこ
とができることを見出した。更に、出願人はまた、ジベ
ンゾイルメタン誘導体と少なくとも１種の１,３,５-ト
リアジン誘導体の組み合わせを含む組成物に、１,１,１
-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェ
ニル)ブタンを導入すると、完全に著しく、該組成物中
のこの１,３,５-トリアジン誘導体の光安定性を改善
し、よってこれらの組成物の全体的な効果を改善するこ
とが可能になることを見出した。
【０００６】従って、本発明の主題の１つによれば、化
粧品的に許容可能な支持体中に、少なくとも： （ａ）ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも１種の
ＵＶ遮蔽剤、及び（ｂ）有効量の１,１,１-トリス(２-
メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
を含むことを特徴とする、局所使用のための化粧品用又
は皮膚用組成物が提案される。本発明の主題はまた、前
記ジベンゾイルメタン誘導体と有効量の１,１,１-トリ
ス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)
ブタンを組み合わせることからなる、少なくとも１種の
ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改
善するための方法にある。本発明の他の主題は、化粧品
的に許容可能な支持体中に、少なくとも： （ａ）ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも１種の
ＵＶ遮蔽剤、及び（ｂ）１,３,５-トリアジン誘導体型
の少なくとも１種のＵＶ遮蔽剤、及び（ｃ）有効量の
１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブ
チルフェニル)ブタンを含むことを特徴とする、局所使
用のための化粧品用又は皮膚用組成物からなる。
粧品的に許容可能な支持体中に、少なくとも： （ａ）ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも１種の
ＵＶ遮蔽剤、及び（ｂ）有効量の１,１,１-トリス(２-
メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
を含むことを特徴とする、局所使用のための化粧品用又
は皮膚用組成物が提案される。本発明の主題はまた、前
記ジベンゾイルメタン誘導体と有効量の１,１,１-トリ
ス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)
ブタンを組み合わせることからなる、少なくとも１種の
ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改
善するための方法にある。本発明の他の主題は、化粧品
的に許容可能な支持体中に、少なくとも： （ａ）ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも１種の
ＵＶ遮蔽剤、及び（ｂ）１,３,５-トリアジン誘導体型
の少なくとも１種のＵＶ遮蔽剤、及び（ｃ）有効量の
１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブ
チルフェニル)ブタンを含むことを特徴とする、局所使
用のための化粧品用又は皮膚用組成物からなる。
【０００７】本発明の主題はまた、有効量の１,１,１-
トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェ
ニル)ブタンを添加することからなる、少なくとも１種
のジベンゾイルメタン誘導体の存在下で少なくとも１種
の１,３,５-トリアジン誘導体のＵＶ線に対する安定性
を改善するための方法にある。最後に、本発明の他の主
題は、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体を含
む化粧品用又は皮膚用組成物の調製において、含有され
る前記ジベンゾイルメタン誘導体の紫外線に対する安定
性を改善するための、１,１,１-トリス(２-メチル-４-
ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンの使用にあ
る。最後に、本発明の主題はまた、少なくとも１種のジ
ベンゾイルメタン誘導体及び少なくとも１種の１,３,５
-トリアジン誘導体を含む化粧品用又は皮膚用組成物の
調製において、含有される前記１,３,５-トリアジン誘
導体の紫外線に対する安定性を改善するための、１,１,
１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフ
ェニル)ブタンの使用にある。
トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェ
ニル)ブタンを添加することからなる、少なくとも１種
のジベンゾイルメタン誘導体の存在下で少なくとも１種
の１,３,５-トリアジン誘導体のＵＶ線に対する安定性
を改善するための方法にある。最後に、本発明の他の主
題は、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体を含
む化粧品用又は皮膚用組成物の調製において、含有され
る前記ジベンゾイルメタン誘導体の紫外線に対する安定
性を改善するための、１,１,１-トリス(２-メチル-４-
ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンの使用にあ
る。最後に、本発明の主題はまた、少なくとも１種のジ
ベンゾイルメタン誘導体及び少なくとも１種の１,３,５
-トリアジン誘導体を含む化粧品用又は皮膚用組成物の
調製において、含有される前記１,３,５-トリアジン誘
導体の紫外線に対する安定性を改善するための、１,１,
１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフ
ェニル)ブタンの使用にある。
【０００８】「本発明に従う有効量の１,１,１-トリス
(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブ
タン」という表現は、光防御化粧品用組成物のジベンゾ
イルメタン誘導体（又は１,３,５-トリアジン誘導体）
の光安定性において認識可能な又は有意な改善を得るの
に十分な量を意味する。この使用されるべき光安定剤の
最少量は、組成物に選択される化粧品的に許容可能な支
持体の性質に大きく依存するが、光安定性測定の標準的
な試験によって難なく測定されうる。本発明の他の特
徴、態様及び利点は、以下の詳細な記載を読むことによ
り明らかになるであろう。
(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブ
タン」という表現は、光防御化粧品用組成物のジベンゾ
イルメタン誘導体（又は１,３,５-トリアジン誘導体）
の光安定性において認識可能な又は有意な改善を得るの
に十分な量を意味する。この使用されるべき光安定剤の
最少量は、組成物に選択される化粧品的に許容可能な支
持体の性質に大きく依存するが、光安定性測定の標準的
な試験によって難なく測定されうる。本発明の他の特
徴、態様及び利点は、以下の詳細な記載を読むことによ
り明らかになるであろう。
【０００９】１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキ
シ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン化合物は、次の式：
シ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン化合物は、次の式：
【化６】
に相当する。１,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキ
シ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン化合物は、好ましく
は本発明の組成物中に、組成物の全重量に対して０．１
重量％〜１５重量％、より好ましくは０．２重量％〜１
０重量％の割合で存在する。既述のとおり、本発明の文
脈において光安定化されることを意図するジベンゾイル
メタン誘導体は、それ自体よく知られている生産物であ
り、特に上述の文献仏国特許公開第２３２６４０５号、
同２４４０９３３号及び欧州特許公開第０１１４６０７
号に記載され、その文献の教示は、これらの生産物の実
際の定義に関するということから、開示により本説明に
全て取り込む。
シ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン化合物は、好ましく
は本発明の組成物中に、組成物の全重量に対して０．１
重量％〜１５重量％、より好ましくは０．２重量％〜１
０重量％の割合で存在する。既述のとおり、本発明の文
脈において光安定化されることを意図するジベンゾイル
メタン誘導体は、それ自体よく知られている生産物であ
り、特に上述の文献仏国特許公開第２３２６４０５号、
同２４４０９３３号及び欧州特許公開第０１１４６０７
号に記載され、その文献の教示は、これらの生産物の実
際の定義に関するということから、開示により本説明に
全て取り込む。
【００１０】本発明において、一又は複数のジベンゾイ
ルメタン誘導体が使用されることは明らかである。本発
明において特に適切なジベンゾイルメタン誘導体として
は、これらに限定されるものではないが： − ２-メチルジベンゾイルメタン − ４-メチルジベンゾイルメタン − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベ
ンゾイルメタン を特に挙げることができる。
ルメタン誘導体が使用されることは明らかである。本発
明において特に適切なジベンゾイルメタン誘導体として
は、これらに限定されるものではないが： − ２-メチルジベンゾイルメタン − ４-メチルジベンゾイルメタン − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベ
ンゾイルメタン を特に挙げることができる。
【００１１】上述したジベンゾイルメタン誘導体の中で
も、４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタ
ンが本発明において特に最も好ましく使用され、特にホ
フマン ラ ロシュ(Hoffmann la Roche)社から「パルソ
ール1789」の商品名で販売され、この遮蔽剤は次の構造
式：
も、４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタ
ンが本発明において特に最も好ましく使用され、特にホ
フマン ラ ロシュ(Hoffmann la Roche)社から「パルソ
ール1789」の商品名で販売され、この遮蔽剤は次の構造
式：
【化７】
に相当する。
【００１２】本発明の他の好ましい他のジベンゾイルメ
タン誘導体は、４-イソプロピルジベンゾイルメタン、
メルク社(Merck)から「ユーソレックス(Eusolex)8020」
の名称で販売される遮蔽剤であり、次の構造式：
タン誘導体は、４-イソプロピルジベンゾイルメタン、
メルク社(Merck)から「ユーソレックス(Eusolex)8020」
の名称で販売される遮蔽剤であり、次の構造式：
【化８】
に相当する。ジベンゾイルメタン誘導体は、本発明に係
る組成物中に、組成物の全重量に対して０．１〜１５重
量％、好ましくは０．５〜１０重量％の含有量で存在し
うる。
る組成物中に、組成物の全重量に対して０．１〜１５重
量％、好ましくは０．５〜１０重量％の含有量で存在し
うる。
【００１３】本発明において使用されうる１,３,５-ト
リアジン誘導体としては、特に次の式（Ｉ）：
リアジン誘導体としては、特に次の式（Ｉ）：
【化９】
｛上式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３基は同一でも異なってい
てもよく、次の式（ＩＩ）：
てもよく、次の式（ＩＩ）：
【化１０】
（上式中：
− Ｘａは同一でも異なっていてもよく、酸素又は-Ｎ
Ｈ-基を示し； − Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカ
リ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル
基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は
分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−
Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シ
クロアルキル基；末端のＯＨ基がメチル化された１〜６
のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化
基；次の式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)：
Ｈ-基を示し； − Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカ
リ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル
基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は
分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−
Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シ
クロアルキル基；末端のＯＨ基がメチル化された１〜６
のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化
基；次の式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)：
【化１１】
［上式中：
− Ｒ１は水素又はメチル基であり；
− Ｒ２はＣ１-Ｃ９アルキル基であり；
− ｑは０〜３の整数であり；
− ｒは１〜１０の整数であり；
− ＡはＣ４-Ｃ８アルキル基又はＣ５-Ｃ８シクロアル
キル基であり； − Ｂは直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ８アルキル基；Ｃ
５-Ｃ８シクロアルキル基；一又は複数のＣ１-Ｃ４アル
キル基で置換されていてもよいアリール基から選択され
る］の基から選択される）の基から選択される｝に相当
するものを使用することができる。
キル基であり； − Ｂは直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ８アルキル基；Ｃ
５-Ｃ８シクロアルキル基；一又は複数のＣ１-Ｃ４アル
キル基で置換されていてもよいアリール基から選択され
る］の基から選択される）の基から選択される｝に相当
するものを使用することができる。
【００１４】１,３,５-トリアジン誘導体の第１の特に
好ましいファミリーは、特に欧州特許出願公開第０５１
７１０４号公報に記載されているもので、Ａ１、Ａ２及
びＡ ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特徴： − Ｘａ−Ｒａ基の１つが：一又は複数のＣ１−Ｃ４ア
ルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロア
ルキル基；上述した式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、
ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し； − 他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なっていて
もよい、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又
はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモ
ニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル
基；一又は複数のＣ １−Ｃ４アルキル基で置換されてい
てもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上述した式
(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基を示す；を有
する式(Ｉ)に相当する１,３,５-トリアジン類である。
好ましいファミリーは、特に欧州特許出願公開第０５１
７１０４号公報に記載されているもので、Ａ１、Ａ２及
びＡ ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特徴： − Ｘａ−Ｒａ基の１つが：一又は複数のＣ１−Ｃ４ア
ルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロア
ルキル基；上述した式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、
ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し； − 他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なっていて
もよい、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又
はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモ
ニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル
基；一又は複数のＣ １−Ｃ４アルキル基で置換されてい
てもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上述した式
(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基を示す；を有
する式(Ｉ)に相当する１,３,５-トリアジン類である。
【００１５】本発明に係る１,３,５-トリアジン誘導体
の第２の特に好ましいファミリーは、特に欧州特許公開
第０５７０８３８号公報に記載されているもので、
Ａ１、Ａ ２及びＡ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特
徴： − １又は２つのＸａ−Ｒａ基が：直鎖状又は分枝状の
Ｃ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アル
キル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアル
キル基；上述した式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、こ
こで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し；他
の又は他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なってい
てもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル
又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアン
モニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル
基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されてい
てもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上述した式
(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である： から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基である；を有
する式(Ｉ)に相当する１,３,５-トリアジン類である。
この第２の特に好ましいファミリーの１,３,５-トリア
ジン誘導体は、２-[(ｐ-(tert-ブチルアミド)アニリノ]
-４,６-ビス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカル
ボニル)アニリノ]-１,３,５-トリアジン、又はシグマ(S
igma)3V社から「ユビヌル(Uvinul)ＨＥＢ」の商品名で
販売されている「ジエチルヘキシルブタミドトリアゾ
ン」であり、次の式：
の第２の特に好ましいファミリーは、特に欧州特許公開
第０５７０８３８号公報に記載されているもので、
Ａ１、Ａ ２及びＡ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特
徴： − １又は２つのＸａ−Ｒａ基が：直鎖状又は分枝状の
Ｃ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アル
キル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアル
キル基；上述した式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、こ
こで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し；他
の又は他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なってい
てもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル
又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアン
モニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル
基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されてい
てもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上述した式
(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である： から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基である；を有
する式(Ｉ)に相当する１,３,５-トリアジン類である。
この第２の特に好ましいファミリーの１,３,５-トリア
ジン誘導体は、２-[(ｐ-(tert-ブチルアミド)アニリノ]
-４,６-ビス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカル
ボニル)アニリノ]-１,３,５-トリアジン、又はシグマ(S
igma)3V社から「ユビヌル(Uvinul)ＨＥＢ」の商品名で
販売されている「ジエチルヘキシルブタミドトリアゾ
ン」であり、次の式：
【化１２】
［上式中、Ｒ'は２-エチルヘキシル基を示し、Ｒはtert
-ブチル基を示す］に相当する。
-ブチル基を示す］に相当する。
【００１６】本発明において使用されうる化合物の第３
の特に好ましいファミリーは、特に米国特許公開第４７
２４１３７号公報に記載されているもので、Ａ１、Ａ２
及びＡ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特徴： − Ｘａが同一で、酸素原子を示し； − Ｒａが同一でも又は異なっていてもよく、末端のＯ
Ｈ基がメチル化され、１〜６のエチレンオキシド単位を
含むポリオキシエチレン化基又はＣ６−Ｃ１２アルキル
基である； を有する式(Ｉ)に相当する１,３,５-トリアジン誘導体
である。本発明に係る１,３,５-トリアジン誘導体の第
３の特に好ましいファミリーは、２,４,６-トリス[ｐ-
(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリ
ノ］-１,３,５-トリアジン、又は特にＢＡＳＦ社から
「ユビヌル(Uvinul)Ｔ１５０」の商品名で販売されてい
る「エチルヘキシルトリアゾン」であり、次の式：
の特に好ましいファミリーは、特に米国特許公開第４７
２４１３７号公報に記載されているもので、Ａ１、Ａ２
及びＡ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特徴： − Ｘａが同一で、酸素原子を示し； − Ｒａが同一でも又は異なっていてもよく、末端のＯ
Ｈ基がメチル化され、１〜６のエチレンオキシド単位を
含むポリオキシエチレン化基又はＣ６−Ｃ１２アルキル
基である； を有する式(Ｉ)に相当する１,３,５-トリアジン誘導体
である。本発明に係る１,３,５-トリアジン誘導体の第
３の特に好ましいファミリーは、２,４,６-トリス[ｐ-
(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリ
ノ］-１,３,５-トリアジン、又は特にＢＡＳＦ社から
「ユビヌル(Uvinul)Ｔ１５０」の商品名で販売されてい
る「エチルヘキシルトリアゾン」であり、次の式：
【化１３】
［上式中、Ｒ'は２-エチルヘキシル基を示す］に相当す
る。１,３,５-トリアジン誘導体は、組成物の全重量に
対して、一般的に０．１〜１５重量％、好ましくは０．
５〜１０重量％の範囲の含有量で、本発明の組成物中に
存在する。
る。１,３,５-トリアジン誘導体は、組成物の全重量に
対して、一般的に０．１〜１５重量％、好ましくは０．
５〜１０重量％の範囲の含有量で、本発明の組成物中に
存在する。
【００１７】本発明の組成物は、水溶性又は脂溶性、も
しくは一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶であ
る、他の付加的なＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域で活性
のある有機ＵＶ遮蔽剤(吸収剤)を含有してもよい。付加
的な有機ＵＶ遮蔽剤は、特にアントラニラート類；サリ
チル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導
体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリ
アゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンズイ
ミダゾール誘導体；上記した式（Ｉ）のもの以外のトリ
アジン誘導体；イミダゾリン；欧州特許第６６９３２３
号及び米国特許第２４６３２６４号に記載されているビ
ス-ベンズアゾリル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢ
Ａ)誘導体；米国特許第５２３７０７１号、米国特許第
５１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９号、
独国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許出願第
８９３１１９号に記載されているメチレンビス(ヒドロ
キシフェニル)ベンゾトリアゾール誘導体；国際公開第
９３／０４６６５号に特に記載されているような遮蔽シ
リコーン及び遮蔽ポリマー；α-アルキルスチレンから
誘導される二量体、例えば独国特許出願第１９８５５６
４９号に記載されているもの、４,４-ジアリールブタジ
エン、例えば欧州特許出願第０９６７２００号及び独国
特許出願第１９７５５６４９号に記載されているもの
（本説明の内容の不可欠な部分をなす）から選択され
る。
しくは一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶であ
る、他の付加的なＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域で活性
のある有機ＵＶ遮蔽剤(吸収剤)を含有してもよい。付加
的な有機ＵＶ遮蔽剤は、特にアントラニラート類；サリ
チル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導
体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリ
アゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンズイ
ミダゾール誘導体；上記した式（Ｉ）のもの以外のトリ
アジン誘導体；イミダゾリン；欧州特許第６６９３２３
号及び米国特許第２４６３２６４号に記載されているビ
ス-ベンズアゾリル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢ
Ａ)誘導体；米国特許第５２３７０７１号、米国特許第
５１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９号、
独国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許出願第
８９３１１９号に記載されているメチレンビス(ヒドロ
キシフェニル)ベンゾトリアゾール誘導体；国際公開第
９３／０４６６５号に特に記載されているような遮蔽シ
リコーン及び遮蔽ポリマー；α-アルキルスチレンから
誘導される二量体、例えば独国特許出願第１９８５５６
４９号に記載されているもの、４,４-ジアリールブタジ
エン、例えば欧州特許出願第０９６７２００号及び独国
特許出願第１９７５５６４９号に記載されているもの
（本説明の内容の不可欠な部分をなす）から選択され
る。
【００１８】ＵＶ-Ａ活性及び／又はＵＶ-Ｂ活性のある
付加的な有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下の
標記する次のものが挙げられうる：パラ-アミノ安息香
酸誘導体： − ＰＡＢＡ、 − エチルＰＡＢＡ、 − エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、 − 特にＩＳＰ社から「エスカロール(Escalol)５０
７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチル
ＰＡＢＡ、 − グリセリルＰＡＢＡ、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｐ２５」の名称
で販売されているＰＥＧ-２５ＰＡＢＡ。
付加的な有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下の
標記する次のものが挙げられうる：パラ-アミノ安息香
酸誘導体： − ＰＡＢＡ、 − エチルＰＡＢＡ、 − エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、 − 特にＩＳＰ社から「エスカロール(Escalol)５０
７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチル
ＰＡＢＡ、 − グリセリルＰＡＢＡ、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｐ２５」の名称
で販売されているＰＥＧ-２５ＰＡＢＡ。
【００１９】サリチル酸誘導体：
− ロナ(Rona)／ＥＭインダストリー社から「ユーソレ
ックス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモ
サラート(Homosalate)、 − ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and Reimer)
から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)ＯＳ」の名称で
販売されているサリチル酸エチルヘキシル、 − スケル社(Scher)から「ディプサル(Dipsal)」の名
称で販売されているジプロピレングリコールサリチラー
ト、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
ックス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモ
サラート(Homosalate)、 − ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and Reimer)
から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)ＯＳ」の名称で
販売されているサリチル酸エチルヘキシル、 − スケル社(Scher)から「ディプサル(Dipsal)」の名
称で販売されているジプロピレングリコールサリチラー
ト、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
【００２０】β,β-ジフェニルアクリラート誘導体：
− 特に、ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品
名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、 − 特に、ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名
で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、 − 特に、ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名
で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
【００２１】ベンゾフェノン誘導体：
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-１、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-２、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販
売されているベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisor
b)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-
６、 − アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)社か
ら「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商
品名で販売されているベンゾフェノン-８、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で
販売されているベンゾフェノン-９、 − ベンゾフェノン-１２。
されているベンゾフェノン-１、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-２、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販
売されているベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisor
b)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-
６、 − アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)社か
ら「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商
品名で販売されているベンゾフェノン-８、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で
販売されているベンゾフェノン-９、 − ベンゾフェノン-１２。
【００２２】ベンジリデンショウノウ誘導体：
− メルク社から「ユーソレックス6300」の名称で販売
されている４-メチルベンジリデンショウノウ、 − シメックス社(Chimex)から「メキソリル(Mexoryl)
ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウ
ノウ、 − シメックス社から「メキソリルＳＬ」の名称で製造
されているベンジリデンショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メキソリルＳＯ」の名称で製造
されているメト硫酸ショウノウベンズアルコニウム、 − シメックス社から「メキソリルＳＸ」の名称で製造
されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メキソリルＳＷ」の名称で製造
されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショ
ウノウ。
されている４-メチルベンジリデンショウノウ、 − シメックス社(Chimex)から「メキソリル(Mexoryl)
ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウ
ノウ、 − シメックス社から「メキソリルＳＬ」の名称で製造
されているベンジリデンショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メキソリルＳＯ」の名称で製造
されているメト硫酸ショウノウベンズアルコニウム、 − シメックス社から「メキソリルＳＸ」の名称で製造
されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メキソリルＳＷ」の名称で製造
されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショ
ウノウ。
【００２３】ベンズイミダゾール誘導体：
− 特に、メルク社から「ユーソレックス２３２」の商
品名で販売されているフェニルベンズイミダゾールスル
ホン酸、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ ヘリオパン
ＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンズイミ
ダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
品名で販売されているフェニルベンズイミダゾールスル
ホン酸、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ ヘリオパン
ＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンズイミ
ダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００２４】トリアジン誘導体：
− チバガイギー社から「チノソーブＳ」の商品名で販
売されているアニソトリアジン、 − ２,４,６-トリス-(ジイソブチル-４'-アミノ-ベン
ザルマロナート)-ｓトリアジン。
売されているアニソトリアジン、 − ２,４,６-トリス-(ジイソブチル-４'-アミノ-ベン
ザルマロナート)-ｓトリアジン。
【００２５】ベンゾトリアゾール誘導体：
− チバ・スペシャリティー・ケミカル社から「チノソー
ブ(Tinosorb)Ｍ」の商品名で水性分散液におけるマイク
ロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミ
カル(Fairmount Chemical)社から「ミキシム(Mixxim)Ｂ
Ｂ／１００」の商品名で固体形態のものとして販売され
ているメチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチル
ブチルフェノール、 − ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラト
リゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロ
メトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン。
ブ(Tinosorb)Ｍ」の商品名で水性分散液におけるマイク
ロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミ
カル(Fairmount Chemical)社から「ミキシム(Mixxim)Ｂ
Ｂ／１００」の商品名で固体形態のものとして販売され
ているメチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチル
ブチルフェノール、 − ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラト
リゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロ
メトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン。
【００２６】アントラニル酸誘導体：
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ ヘリオパン
ＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチ
ル。 イミダゾリン誘導体： − エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイ
ミダゾリンプロピオナート。 ベンザルマロナート誘導体： − ホフマン ラ ロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の
商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有
するポリオルガノシロキサン。
ＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチ
ル。 イミダゾリン誘導体： − エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイ
ミダゾリンプロピオナート。 ベンザルマロナート誘導体： − ホフマン ラ ロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の
商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有
するポリオルガノシロキサン。
【００２７】特により好ましい付加的な有機ＵＶ遮蔽剤
は、次の化合物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二
ナトリウム、 − テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、 − アニソトリアジン、 − ２,４,６-トリス-(４'アミノ-ベンザルマロナート
ジイソブチル)-ｓ-トリアジン、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブ
チルフェノール、 − ｎ-ヘキシル-２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキ
シベンゾイル)-安息香酸− ドロメトリゾールトリシロ
キサン、 及びそれらの混合物から選択される。
は、次の化合物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二
ナトリウム、 − テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、 − アニソトリアジン、 − ２,４,６-トリス-(４'アミノ-ベンザルマロナート
ジイソブチル)-ｓ-トリアジン、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブ
チルフェノール、 − ｎ-ヘキシル-２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキ
シベンゾイル)-安息香酸− ドロメトリゾールトリシロ
キサン、 及びそれらの混合物から選択される。
【００２８】さらに、本発明の化粧品用組成物は、被覆
された又は被覆されていない金属酸化物の顔料又はナノ
顔料(一次粒子の平均粒径：一般に５ｎｍ〜１００ｎ
ｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、酸化チ
タン(非晶質又はルチル型及び／又はアナターゼ型結
晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セ
リウムのナノ顔料を含有することができ、これらは全て
それ自体よく知られているＵＶ光防御剤である。さら
に、標準的な被覆剤はアルミナ及び／又はステアリン酸
アルミニウムである。このような、被覆された又は被覆
されていない金属酸化物のナノ顔料は、特に欧州特許公
開第０５１８７７２号及び欧州特許公開第０５１８７７
３号に記載されている。またさらに、本発明の組成物
は、皮膚をタンニング状態及び／又は褐色にする薬剤
(自己タンニング剤)、例えばジヒドロキシアセトン(Ｄ
ＨＡ)を含有し得る。本発明の組成物は、また特に、脂
肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、
軟化剤、酸化防止剤、遊離基捕捉剤、乳濁剤、安定剤、
柔軟剤、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保
湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活
性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィ
ラー、ポリマー、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、着色
剤、又は化粧品に通常使用されている任意の他の成分、
特に、エマルションの形態の抗日光組成物を製造するた
めのものから選択される標準的な化粧品用アジュバンド
を含有することができる。
された又は被覆されていない金属酸化物の顔料又はナノ
顔料(一次粒子の平均粒径：一般に５ｎｍ〜１００ｎ
ｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、酸化チ
タン(非晶質又はルチル型及び／又はアナターゼ型結
晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セ
リウムのナノ顔料を含有することができ、これらは全て
それ自体よく知られているＵＶ光防御剤である。さら
に、標準的な被覆剤はアルミナ及び／又はステアリン酸
アルミニウムである。このような、被覆された又は被覆
されていない金属酸化物のナノ顔料は、特に欧州特許公
開第０５１８７７２号及び欧州特許公開第０５１８７７
３号に記載されている。またさらに、本発明の組成物
は、皮膚をタンニング状態及び／又は褐色にする薬剤
(自己タンニング剤)、例えばジヒドロキシアセトン(Ｄ
ＨＡ)を含有し得る。本発明の組成物は、また特に、脂
肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、
軟化剤、酸化防止剤、遊離基捕捉剤、乳濁剤、安定剤、
柔軟剤、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保
湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活
性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィ
ラー、ポリマー、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、着色
剤、又は化粧品に通常使用されている任意の他の成分、
特に、エマルションの形態の抗日光組成物を製造するた
めのものから選択される標準的な化粧品用アジュバンド
を含有することができる。
【００２９】脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合
物からなるものであってよく、直鎖状又は環状の脂肪
酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル類、例えば安息
香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸誘導体を含
み得る。油は、動物性、植物性、鉱物性及び合成油、特
に液状ワセリン、液状パラフィン、揮発性又は非揮発性
シリコーン油、イソパラフィン、ポリオレフィン、フル
オロ油及びペルフルオロ油から選択されうる。同様に、
ロウは、既に知られている動物性、化石、植物性、鉱物
性及び合成ロウから選択されうる。有機溶媒としては、
低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
言うまでもなく、当業者であれば、本発明の組成物に本
質的に関連する有利な特性、特に光安定性が、考えられ
る添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないよ
うに留意して、この又はこれらの任意の付加的な化合物
及び／又はその量を選択するであろう。
物からなるものであってよく、直鎖状又は環状の脂肪
酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル類、例えば安息
香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸誘導体を含
み得る。油は、動物性、植物性、鉱物性及び合成油、特
に液状ワセリン、液状パラフィン、揮発性又は非揮発性
シリコーン油、イソパラフィン、ポリオレフィン、フル
オロ油及びペルフルオロ油から選択されうる。同様に、
ロウは、既に知られている動物性、化石、植物性、鉱物
性及び合成ロウから選択されうる。有機溶媒としては、
低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
言うまでもなく、当業者であれば、本発明の組成物に本
質的に関連する有利な特性、特に光安定性が、考えられ
る添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないよ
うに留意して、この又はこれらの任意の付加的な化合物
及び／又はその量を選択するであろう。
【００３０】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製のための技術により調製され得る。これらの組成物
は、特に、単一エマルション又は複合エマルション(Ｏ
／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例
えばクリーム、ミルク、ゲル、クリーム-ゲル、パウダ
ー又は固体状チューブの形態であってもよく、また、任
意にエアゾールとして包装されてもよく、ムース又はス
プレーの形態であってもよい。エマルションである場
合、このエマルションの水相は、公知の方法（バンガム
(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキン
ス(Watkins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許
第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号）
により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有して
もよい。
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製のための技術により調製され得る。これらの組成物
は、特に、単一エマルション又は複合エマルション(Ｏ
／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例
えばクリーム、ミルク、ゲル、クリーム-ゲル、パウダ
ー又は固体状チューブの形態であってもよく、また、任
意にエアゾールとして包装されてもよく、ムース又はス
プレーの形態であってもよい。エマルションである場
合、このエマルションの水相は、公知の方法（バンガム
(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキン
ス(Watkins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許
第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号）
により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有して
もよい。
【００３１】本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒ
トの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日
光組成物として又はメークアップ製品として使用するこ
とができる。本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するために、あるいは抗日光組成物とし
て使用される場合、それは、溶媒又は脂肪物質に懸濁又
は分散した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又
はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばミルク又はクリーム、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エ
アゾールムース又はスプレーの形態とされ得る。本発明
の化粧品用組成物が、ＵＶ線からの毛髪の保護用に使用
される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、
エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態とす
ることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染
色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪
をまっすぐにする前、間又は後に適用されてすすがれる
組成物、毛髪のスタイリング用又はトリートメント用の
ローション又はゲル、ドライヤー乾燥用又はヘアセット
用のローション又はゲル、又はパーマネントウェーブ
用、ストレートパーマ用、染色用又は脱色用の組成物を
構成し得る。組成物が、睫毛、眉毛又は皮膚用のメーク
アップ用製品、例えば、表皮用トリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、固体状又はペースト状、無
水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とさ
れ得る。
トの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日
光組成物として又はメークアップ製品として使用するこ
とができる。本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するために、あるいは抗日光組成物とし
て使用される場合、それは、溶媒又は脂肪物質に懸濁又
は分散した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又
はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばミルク又はクリーム、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エ
アゾールムース又はスプレーの形態とされ得る。本発明
の化粧品用組成物が、ＵＶ線からの毛髪の保護用に使用
される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、
エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態とす
ることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染
色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪
をまっすぐにする前、間又は後に適用されてすすがれる
組成物、毛髪のスタイリング用又はトリートメント用の
ローション又はゲル、ドライヤー乾燥用又はヘアセット
用のローション又はゲル、又はパーマネントウェーブ
用、ストレートパーマ用、染色用又は脱色用の組成物を
構成し得る。組成物が、睫毛、眉毛又は皮膚用のメーク
アップ用製品、例えば、表皮用トリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、固体状又はペースト状、無
水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とさ
れ得る。
【００３２】指針として、水中油型エマルション型の支
持体を有する本発明の抗日光組成物処方において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組
成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２
０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。本明細書
の最初に挙げたように、本発明の主題の１つは、紫外
線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛髪を保護するこ
とを意図した化粧品用又は皮膚用組成物の製造における
上述した組成物の用途にある。本発明の他の主題は、Ｕ
Ｖ線に対する少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導
体の安定性を改善するための、前記ジベンゾイルメタン
誘導体と、有効量の上述した１,１,１-トリス(２-メチ
ル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを組
合せることからなる方法にある。本発明の他の主題は、
少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮
蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製におい
て、前記ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安
定性を改善するために、上述した１,１,１-トリス(２-
メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
を使用することからなる。
持体を有する本発明の抗日光組成物処方において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組
成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２
０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。本明細書
の最初に挙げたように、本発明の主題の１つは、紫外
線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛髪を保護するこ
とを意図した化粧品用又は皮膚用組成物の製造における
上述した組成物の用途にある。本発明の他の主題は、Ｕ
Ｖ線に対する少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導
体の安定性を改善するための、前記ジベンゾイルメタン
誘導体と、有効量の上述した１,１,１-トリス(２-メチ
ル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを組
合せることからなる方法にある。本発明の他の主題は、
少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮
蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製におい
て、前記ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安
定性を改善するために、上述した１,１,１-トリス(２-
メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
を使用することからなる。
【００３３】ここで本発明を例証し、限定するものでは
ない具体例を付与する。 実施例１ ジベンゾイルメタン誘導体の光安定性を、１,１,１-ト
リス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニ
ル)ブタン（Ｘ）の量を変化させたいくつかの処方で研
究した。これらの処方に共通する支持体は次の通りであ
る： 支持体 １ 重量％ 安息香酸C12/15アルキル（ウィトコノール １５．００ (Witconol)ＴＮ−ウィトコ社） ブチルメトキシジベンゾイルメタン ２ （パルソール1789−ホフマン ラ ロシュ社） １,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ- ｘ ５-tert-ブチルフェニル)ブタン （ミキシム(Mixxim)AO-30−フェアモント ケミカル社(Fairmount Chemical)） オキシエチレン化(200 EO)アクリル酸／ ３．３３ イタコン酸モノステアリルコポリマー （ストラクチャー(Structure)2001−ナショナル スターチ社） トリエタノールアミン ０．４５ 防腐剤 １．２０ 脱塩水 １００にする量
ない具体例を付与する。 実施例１ ジベンゾイルメタン誘導体の光安定性を、１,１,１-ト
リス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニ
ル)ブタン（Ｘ）の量を変化させたいくつかの処方で研
究した。これらの処方に共通する支持体は次の通りであ
る： 支持体 １ 重量％ 安息香酸C12/15アルキル（ウィトコノール １５．００ (Witconol)ＴＮ−ウィトコ社） ブチルメトキシジベンゾイルメタン ２ （パルソール1789−ホフマン ラ ロシュ社） １,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ- ｘ ５-tert-ブチルフェニル)ブタン （ミキシム(Mixxim)AO-30−フェアモント ケミカル社(Fairmount Chemical)） オキシエチレン化(200 EO)アクリル酸／ ３．３３ イタコン酸モノステアリルコポリマー （ストラクチャー(Structure)2001−ナショナル スターチ社） トリエタノールアミン ０．４５ 防腐剤 １．２０ 脱塩水 １００にする量
【００３４】測定方法
各処方について、３つのテストサンプルと３つの対照サ
ンプルとを調製した。２ｍｇ／ｃｍ２の処方物を、ポリ
メタクリル酸メチルプレート上に、スパチェラで配し
た。テストプレートを、ＵＶ-Ａ照明として：３．０２
×１０−３Ｗ／ｃｍ２、及びＵＶ-Ｂ照明として：２．
１×１０−４Ｗ／ｃｍ２のキセノンランプを具備するサ
ンテストヘレウス(Sun Test Heraus)機に、１時間３９
分間暴露し、コントロールプレートを同じ温度(３８〜
４０℃)で同じ時間、暗所で保管した。この時間の終わ
りに、各々のプレートを５０ｇのエタノールに浸し、良
好な抽出を確保するためにそれらを１５分間超音波で処
理することによって、遮蔽剤を抽出した。得られた溶液
をＵＶ分光測定で分析した。各々のテスト処方におい
て、暴露後の残留ブチルメトキシジベンゾイルメタン量
を、暴露サンプルの吸光度（ＯＤ）の非暴露吸光度（Ｏ
Ｄ）に対する比率として得た。機械はブチルメトキシジ
ベンゾイルメタン：λｍａｘ＝３５８ｎｍに相当する最
大吸光度に設定する。
ンプルとを調製した。２ｍｇ／ｃｍ２の処方物を、ポリ
メタクリル酸メチルプレート上に、スパチェラで配し
た。テストプレートを、ＵＶ-Ａ照明として：３．０２
×１０−３Ｗ／ｃｍ２、及びＵＶ-Ｂ照明として：２．
１×１０−４Ｗ／ｃｍ２のキセノンランプを具備するサ
ンテストヘレウス(Sun Test Heraus)機に、１時間３９
分間暴露し、コントロールプレートを同じ温度(３８〜
４０℃)で同じ時間、暗所で保管した。この時間の終わ
りに、各々のプレートを５０ｇのエタノールに浸し、良
好な抽出を確保するためにそれらを１５分間超音波で処
理することによって、遮蔽剤を抽出した。得られた溶液
をＵＶ分光測定で分析した。各々のテスト処方におい
て、暴露後の残留ブチルメトキシジベンゾイルメタン量
を、暴露サンプルの吸光度（ＯＤ）の非暴露吸光度（Ｏ
Ｄ）に対する比率として得た。機械はブチルメトキシジ
ベンゾイルメタン：λｍａｘ＝３５８ｎｍに相当する最
大吸光度に設定する。
【００３５】得られた結果を表１にまとめる。
【表１】
【００３６】実施例２
ブチルメトキシジベンゾイルメタンの存在下でのオクチ
ルトリアゾンの光安定性を、１,１,１-トリス(２-メチ
ル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
（Ｘ）の量を変化させたいくつかの処方で研究した。こ
れらの処方に共通する支持体は次の通りである： 支持体 １ 重量％ 安息香酸C12/15アルキル（ウィトコノール １５．００ ＴＮ−ウィトコ社） ブチルメトキシジベンゾイルメタン ０．５ （パルソール1789−ホフマン ラ ロシュ社） １,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ- ｘ ５-tert-ブチルフェニル)ブタン （ミキシム(Mixxim)AO-30−フェアモント ケミカル社） オクチルトリアゾン（ユビヌルT150−ＢＡＳＦ社）１．５ オキシエチレン化(200 EO)アクリル酸／ ３．３３ イタコン酸モノステアリルコポリマー （ストラクチャー2001−ナショナルスターチ社） トリエタノールアミン ０．４５ 防腐剤 １．２０ 脱塩水 １００にする量
ルトリアゾンの光安定性を、１,１,１-トリス(２-メチ
ル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
（Ｘ）の量を変化させたいくつかの処方で研究した。こ
れらの処方に共通する支持体は次の通りである： 支持体 １ 重量％ 安息香酸C12/15アルキル（ウィトコノール １５．００ ＴＮ−ウィトコ社） ブチルメトキシジベンゾイルメタン ０．５ （パルソール1789−ホフマン ラ ロシュ社） １,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ- ｘ ５-tert-ブチルフェニル)ブタン （ミキシム(Mixxim)AO-30−フェアモント ケミカル社） オクチルトリアゾン（ユビヌルT150−ＢＡＳＦ社）１．５ オキシエチレン化(200 EO)アクリル酸／ ３．３３ イタコン酸モノステアリルコポリマー （ストラクチャー2001−ナショナルスターチ社） トリエタノールアミン ０．４５ 防腐剤 １．２０ 脱塩水 １００にする量
【００３７】各処方について、３つのテストサンプルと
３つの対照サンプルとを調製した。２ｍｇ／ｃｍ２の処
方を、ポリメタクリル酸メチルプレート上に、スパチェ
ラで配した。テストプレートを、ＵＶ-Ａ照明として：
３．０２×１０−３Ｗ／ｃｍ ２、及びＵＶ-Ｂ照明とし
て：２．１×１０−４Ｗ／ｃｍ２のキセノンランプを具
備するサンテストヘレウス機に、１時間３９分間暴露
し、コントロールプレートを同じ温度(３８〜４０℃)で
同じ時間、暗所で保管した。この時間の終わりに、各々
のプレートを５０ｇのエタノールに浸し、良好な抽出を
確保するためにそれらを１５分間超音波で処理すること
によって、遮蔽剤を抽出した。得られた溶液をＵＶ分光
測定で分析した。各々のテスト処方において、暴露後の
ブチルメトキシジベンゾイルメタンの残量とオクチルト
リアゾンの残量を、暴露サンプルの各々の吸光度（Ｏ
Ｄ）のそれぞれのフィルターに相当する非暴露吸光度
（ＯＤ）に対する比率として得た。機械は、各フィルタ
ー：ブチルメトキシジベンゾイルメタン：λｍａｘ＝３
５８ｎｍ、オクチルトリアゾン：λｍａｘ＝３１２ｎｍ
に相当する最大吸光度に設定する。
３つの対照サンプルとを調製した。２ｍｇ／ｃｍ２の処
方を、ポリメタクリル酸メチルプレート上に、スパチェ
ラで配した。テストプレートを、ＵＶ-Ａ照明として：
３．０２×１０−３Ｗ／ｃｍ ２、及びＵＶ-Ｂ照明とし
て：２．１×１０−４Ｗ／ｃｍ２のキセノンランプを具
備するサンテストヘレウス機に、１時間３９分間暴露
し、コントロールプレートを同じ温度(３８〜４０℃)で
同じ時間、暗所で保管した。この時間の終わりに、各々
のプレートを５０ｇのエタノールに浸し、良好な抽出を
確保するためにそれらを１５分間超音波で処理すること
によって、遮蔽剤を抽出した。得られた溶液をＵＶ分光
測定で分析した。各々のテスト処方において、暴露後の
ブチルメトキシジベンゾイルメタンの残量とオクチルト
リアゾンの残量を、暴露サンプルの各々の吸光度（Ｏ
Ｄ）のそれぞれのフィルターに相当する非暴露吸光度
（ＯＤ）に対する比率として得た。機械は、各フィルタ
ー：ブチルメトキシジベンゾイルメタン：λｍａｘ＝３
５８ｎｍ、オクチルトリアゾン：λｍａｘ＝３１２ｎｍ
に相当する最大吸光度に設定する。
【００３８】得られた結果を表２にまとめる。
【表２】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ａ６１Ｋ 31/53 Ａ６１Ｋ 31/53
Ａ６１Ｐ 17/16 Ａ６１Ｐ 17/16
Ｆターム(参考） 4C083 AC211 AC212 AC471 AC472
AC542 AC851 AC852 AD092
BB21 BB46 CC02 CC11 CC33
CC38 EE17 EE29
4C086 AA01 AA02 BC64 MA03 MA63
NA14 ZA89 ZA92
4C206 AA01 AA02 CA13 CA27 CB19
MA02 MA03 MA83 NA14 ZA89
ZA92
Claims (28)
- 【請求項１】 化粧品的に許容可能な支持体中に、少な
くとも： （ａ）ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも１種の
ＵＶ遮蔽剤、及び（ｂ）有効量の１,１,１-トリス(２-
メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
を含むことを特徴とする、局所使用のための化粧品用又
は皮膚用組成物。 - 【請求項２】 化粧品的に許容可能な支持体中に、少な
くとも： （ａ）ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも１種の
ＵＶ遮蔽剤、（ｂ）１,３,５-トリアジン誘導体型の少
なくとも１種のＵＶ遮蔽剤、及び（ｃ）有効量の１,１,
１-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフ
ェニル)ブタンを含むことを特徴とする、局所使用のた
めの化粧品用又は皮膚用組成物。 - 【請求項３】 ジベンゾイルメタン誘導体が： − ２-メチルジベンゾイルメタン − ４-メチルジベンゾイルメタン − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベ
ンゾイルメタン から選択されることを特徴とする、請求項１又は２に記
載の組成物。 - 【請求項４】 ジベンゾイルメタン誘導体が、４-(tert
-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンであること
を特徴とする請求項３に記載の組成物。 - 【請求項５】 ジベンゾイルメタン誘導体が、４-イソ
プロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請
求項３に記載の組成物。 - 【請求項６】 １,１,１-トリス(２-メチル-４-ヒドロ
キシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンが、組成物の全重
量に対して０．１重量％〜１５重量％の含有量で存在す
ることを特徴とする請求項１ないし５の何れか１項に記
載の組成物。 - 【請求項７】 ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の
全重量に対して０．１〜１５重量％の含有量で存在する
ことを特徴とする請求項１ないし６の何れか１項に記載
の組成物。 - 【請求項８】 １,３,５-トリアジン誘導体が、次の式
（Ｉ）： 【化１】 ｛上式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３基は同一でも異なってい
てもよく、次の式（ＩＩ）： 【化２】 （上式中： − Ｘａは同一でも異なっていてもよく、酸素又は-Ｎ
Ｈ-基を示し； − Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカ
リ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル
基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は
分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−
Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シ
クロアルキル基；末端のＯＨ基がメチル化された１〜６
のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化
基；次の式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)： 【化３】 ［上式中： − Ｒ１は水素又はメチル基であり； − Ｒ２はＣ１-Ｃ９アルキル基であり； − ｑは０〜３の整数であり； − ｒは１〜１０の整数であり； − ＡはＣ４-Ｃ８アルキル基又はＣ５-Ｃ８シクロアル
キル基であり； − Ｂは直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ８アルキル基；Ｃ
５-Ｃ８シクロアルキル基；一又は複数のＣ１-Ｃ４アル
キル基で置換されていてもよいアリール基から選択され
る］の基から選択される）の基から選択される｝に相当
する請求項２ないし７の何れか１項に記載の組成物。 - 【請求項９】 式(Ｉ)の化合物が、Ａ１、Ａ２及びＡ３
が式(ＩＩ)のものであって、次の特徴： − Ｘａ−Ｒａ基の１つが：一又は複数のＣ１−Ｃ４ア
ルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロア
ルキル基；式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し； − 他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なっていて
もよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又
はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモ
ニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル
基；一又は複数のＣ １−Ｃ４アルキル基で置換されてい
てもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上の式(ＩＩ
Ｉ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基である；の全
てを有するものから選択される、請求項８に記載の組成
物。 - 【請求項１０】 式(Ｉ)の化合物が、Ａ１、Ａ２及びＡ
３が式(ＩＩ)のものであって、次の特徴： − １又は２つのＸａ−Ｒａ基が：直鎖状又は分枝状の
Ｃ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アル
キル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアル
キル基；式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し；他
の１つ又は他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なっ
ていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアル
キル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよい
アンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アル
キル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換され
ていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上の式
(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで： − ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり； − Ｒ２がメチル基である； から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基である；の全
てを有するものから選択される、請求項８に記載の組成
物。 - 【請求項１１】 式(Ｉ)の化合物が、２-[(ｐ-(tert-ブ
チルアミド)アニリノ]-４,６-ビス[ｐ-(２'エチルヘキ
シル-１'-オキシカルボニル)アニリノ]-１,３,５-トリ
アジンであり、次の式： 【化４】 ［上式中、Ｒ'は２-エチルヘキシル基を示し、Ｒはtert
-ブチル基を示す］に相当する、請求項１０に記載の組
成物。 - 【請求項１２】 式(Ｉ)の化合物が、Ａ１、Ａ２及びＡ
３が式(ＩＩ)のものであり、次の特徴： − Ｘａが同一で、酸素原子を示し； − Ｒａが同一でも異なっていてもよく、末端のＯＨ基
がメチル化され、１〜６のエチレンオキシド単位を含む
ポリオキシエチレン化基又はＣ６−Ｃ１２アルキル基で
ある； の全てを有するものから選択される、請求項８の組成
物。 - 【請求項１３】 式(Ｉ)の化合物が、２,４,６-トリス
[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニ
リノ］-１,３,５-トリアジンであり、次の式： 【化５】 ［上式中、Ｒ'は２-エチルヘキシル基を示す］に相当す
る、請求項１２に記載の組成物。 - 【請求項１４】 １,３,５-トリアジン誘導体が、組成
物の全重量に対して０．１〜１５重量％の範囲の含有量
で存在する、請求項２ないし１３の何れか１項に記載の
組成物。 - 【請求項１５】 ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域で活性
のある他の有機遮蔽剤をさらに含有することを特徴とす
る請求項１ないし１４の何れか１項に記載の組成物。 - 【請求項１６】 付加的な有機ＵＶ遮蔽剤が、アントラ
ニラート類；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベ
ンゾフェノン誘導体；式(Ｉ)のもの以外のトリアジン誘
導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾト
リアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンズ
イミダゾール誘導体；イミダゾリン；ビス-ベンズアゾ
リル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メ
チレンビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール誘
導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン；α-アルキル
スチレンから誘導される二量体；４,４-ジアリールブタ
ジエン、及びその混合物から選択される、請求項１５に
記載の組成物。 - 【請求項１７】 有機ＵＶ遮蔽剤が、次の化合物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二
ナトリウム、 − テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、 − アニソトリアジン、 − ２,４,６-トリス-(ジイソブチル-４'-アミノ-ベン
ザルマロナート)-ｓトリアジン、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ｎ-ヘキシル-２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキ
シベンゾイル)-安息香酸− メチレンビス(ベンゾトリ
アゾリル)テトラメチルブチルフェノール、 − ドロメトリゾールトリシロキサン、 及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする、
請求項２１に記載の組成物。 - 【請求項１８】 被覆された又は被覆されていない金属
酸化物顔料又はナノ顔料を更に含有することを特徴とす
る、請求項１ないし１７の何れか１項に記載の組成物。 - 【請求項１９】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆されて
いても又は被覆されていなくてもよい、酸化チタン、酸
化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム、
及びその混合物から選択されることを特徴とする請求項
１８に記載の組成物。 - 【請求項２０】 皮膚を人工的に日焼け及び／又は褐色
化させるための少なくとも１種の薬剤をさらに含有する
ことを特徴とする請求項１ないし１９の何れか１項に記
載の組成物。 - 【請求項２１】 脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非
イオン性の増粘剤、軟化剤、酸化防止剤、遊離基捕捉
剤、乳濁剤、安定剤、柔軟剤、シリコーン類、α-ヒド
ロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、
香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰ
アンタゴニスト、フィラー、ポリマー、噴霧剤、塩基性
化又は酸性化剤、着色剤から選択される少なくとも１種
のアジュバンドを更に含有することを特徴とする請求項
１ないし２０の何れか１項に記載の組成物。 - 【請求項２２】 ヒトの表皮を保護するための組成物又
は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、エ
マルション、特に水中油型エマルション、クリーム、ミ
ルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散体、パウダ
ー、チューブ状固体、ムース又はスプレーの形態とされ
ることを特徴とする請求項１ないし２１の何れか１項に
記載の組成物。 - 【請求項２３】 睫毛、眉毛又は皮膚用のメークアップ
組成物であり、固体状又はペースト状、無水又は水性の
形態、又はエマルション、懸濁液又は分散体の形態とさ
れることを特徴とする請求項１ないし２２の何れか１項
に記載の組成物。 - 【請求項２４】 紫外線から毛髪を保護するための組成
物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルショ
ン又は非イオン性の小胞体分散液の形態であることを特
徴とする請求項１ないし２３の何れか１項に記載の組成
物。 - 【請求項２５】 請求項１ないし２４に記載された少な
くとも１種のジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対す
る安定性を改善するための方法であって、前記ジベンゾ
イルメタン誘導体に、有効量の１,１,１-トリス(２-メ
チル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを
組合せることからなることを特徴とする方法。 - 【請求項２６】 ジベンソイルメタン誘導体型の少なく
とも１種のＵＶ遮蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚用組
成物の調製における、前記ジベンゾイルメタン誘導体の
ＵＶ線に対する安定性を改善するための、１,１,１-ト
リス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニ
ル)ブタンの使用。 - 【請求項２７】 請求項１ないし２４に記載されたジベ
ンゾイルメタン誘導体の存在下における、請求項１ない
し２４に記載の少なくとも１種の１,３,５-トリアジン
誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための方法で
あって、前記トリアジン誘導体に有効量の１,１,１-ト
リス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニ
ル)ブタンを組合せることからなることを特徴とする方
法。 - 【請求項２８】 請求項１ないし２４に記載された少な
くとも１種のジベンソイルメタン誘導体型のＵＶ遮蔽剤
と少なくとも１種の１,３,５-トリアジン誘導体型のＵ
Ｖ遮蔽剤とを含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製
における、前記１,３,５-トリアジン誘導体のＵＶ線に
対する安定性を改善するための、１,１,１-トリス(２-
メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
の使用。
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