JP2003075128A - 光ファイバレンズの焦点距離を用いた物質の厚さ測定装置及びその方法 - Google Patents

光ファイバレンズの焦点距離を用いた物質の厚さ測定装置及びその方法

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fiber lens
light
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Duck-Young Kim
徳 泳 金
Young Choon Yook
永 春 陸
Yong Woo Park
用 雨 朴
Gakugen Sei
樂 鉉 成
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    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ファイバレンズから出る光が物質に焦点を
合わせる時、焦点距離から反射される光の強さが一番大
きいという点を用いて物質の厚さを測定する、光ファイ
バレンズの焦点距離を用いた物質の厚さ測定装置及びそ
の方法を提供する。 【解決手段】 強度分布がガウス分布を示すいわゆるガ
ウシアンビームを射出し、基板上のコーティングされた
物質の表面にガウシアンビームが焦点を合わせるよう
に、光ファイバレンズがPZTに付着して垂直に動く
際、前記光ファイバレンズの端を通して、基板で反射さ
れる光の量を検出し、これを分析して物質の厚さを測定
する構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバレンズ
の焦点距離を用いた物質の厚さ測定装置及びその方法に
関するものであり、より詳しくは、光ファイバレンズか
ら射出される光が物質に焦点を合わせる時、焦点距離か
ら反射される光の強さを用いて物質の厚さを測定しよう
とする技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、物質の厚さを測定する方法として
は、物質から反射される光の干渉縞を分析する方法か
ら、物質をエッチングした後に生じる高さの差を用いる
方法まで、様々な形態の技術が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような、干渉縞を分析する方法は、外部環境に敏感で
あるので、最も安定した状態で実験を行わなければなら
ないという短所があり、また、得られた結果をコンピュ
ーター分析することでしか厚さを判定することができな
いため、測定の過程が複雑であるという短所がある。ま
た、エッチング(etching)を用いた厚さ測定方法は、
半導体工程で多く使用されるが、手順が複雑であり、し
かも体に悪い化学薬品を使用しなくてはならないという
短所がある。従って、本発明は、前述した問題点を解決
するためのものであって、光ファイバレンズから出る光
が物質に焦点を合わせる時、焦点距離から反射される光
の強さが一番大きいという点を用いて物質の厚さを測定
する、光ファイバレンズの焦点距離を用いた物質の厚さ
測定装置及びその方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ための技術的思想として、本発明は、強度分布がガウス
分布を示すいわゆるガウシアンビームを射出し、基板上
のコーティングされた物質の表面にガウシアンビームが
焦点を合わせるように、光ファイバレンズがPZTに付
着して垂直に動く際、前記光ファイバレンズの端を通し
て、基板で反射される光の量を検出し、これを分析して
物質の厚さを測定することを特徴とする、光ファイバレ
ンズの焦点距離を用いた物質の厚さ測定方法を提供する
ものである。
【0004】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に対する構
成及びその作用を、添付した図面を参照しながら詳細に
説明する。図1は、本発明に従って光ファイバレンズか
ら射出される光がガウス分布を示しつつ、コーティング
物質の表面に焦点を合わせる課程を説明するための図面
であって、図2は、光ファイバレンズが測定しようとす
る物質の層に対して垂直に動く時の、測定される光の強
さを説明するためのグラフである。図3は、図2に示さ
れた互いに異なる物質の境界面で反射される光の強さ
が、二つのピーク値を有して分布することを示すための
グラフであって、図4は、図3で得られる光の強さの変
化が、干渉縞を有することを示すためのグラフである。
図1に示すように、光ファイバレンズ10からの光はガ
ウシアンビーム(Gaussian Beam; GB)であり、基板4
0上のコーティング物質42表面に焦点(focusing)を
合わせる構成となっている。
【0005】この時、前記光ファイバレンズ10を通過
する光は、強度分布がガウス分布を示しつつ進行するの
で、物質の表面がレンズの焦点距離に位置する時、反射
される光の強さが一番大きくなる。このような方法によ
り、多層(複数層)からなる物質で反射される光の強さ
を通して、物質の厚さを測定することができる。また、
図2において、光ファイバレンズ10が測定しようとす
る物質の層に対して垂直に動く時、測定される光の強さ
を示しており、一番目の物質から反射され得られる光の
強さと、二番目の物質から反射され得られる光の強さを
それぞれ示している。一般に、一番目の物質から反射さ
れる光の強さよりも、二番目の物質から反射される光の
強さが小さい。これは、一番目の物質を通過した光が途
中で吸収され、二番目の物質に達するまでに、光の強さ
が弱くなるためである。前記光ファイバレンズ10の焦
点距離が、使用する光のコヒーレント(coherent)長さよ
り長くなると、光の経路差から発生する干渉縞を除くこ
とができる。従って、焦点距離が長い光ファイバレンズ
10を用いると、光ファイバレンズ10が動いた距離に
従って、干渉縞がない線形的な光の強さの変化を得るこ
とができる。図3に示すように、図2で説明した互いに
異なる物質の境界面で反射される光の強さ分布が、二つ
のピーク値を有している。このように、光ファイバレン
ズ10の焦点距離が、使用する光のコヒーレント(cohe
rent)長さより長くなると、光の経路差から発生する干
渉縞を除くことができる。
【0006】従って、焦点距離が長い光ファイバレンズ
10を用いると、光ファイバレンズ10が動いた距離に
従って、干渉縞がない線形的な光の強さの変化を得るこ
とができる。即ち、それぞれのピーク値を距離軸に対比
すると、二つのピーク値に該当する距離の差が物質の厚
さになることが判る。図4に示すように、同図では図3
で得られる光の強さの変化が干渉縞を有している。即
ち、使用する光のコヒーレント長さがレンズの焦点距離
より長くなると、干渉縞が現れることになる。しかし、
この場合でも、干渉縞が反射される光の強さに対する情
報を有しているので、ピーク値を見出すことで物質の厚
さを測定することができる。これらの干渉縞の平均値の
差を自乗すると、一番目のピーク値と二番目のピーク値
を見出すことができ、これらの二つのピーク値の距離の
差がコーティング物質の厚さになる。即ち、全体的な干
渉縞が大きくなり、小さくなり、再度大きくなるが、こ
れは光の強さが大きくなり、小さくなり、再度大きくな
ることを表わす。このような光の強さの変化に基づい
て、これらの干渉縞の平均値の差を自乗すると、ピーク
値を有するグラフを見ることができる。
【0007】また、前記測定しようとする物質が多層
(複数層)である場合、それぞれの層に該当する反射さ
れた光のピーク値などを通して、多層のそれぞれの厚さ
を測定することができる。この時、前記光ファイバレン
ズ10に代えて、一般レンズを使用し、物質の厚さを測
定することもできる。図5は、本発明の実施例に従っ
て、光ファイバレンズの焦点距離を用いた物質の厚さを
測定するための装置構成図である。同図において、厚さ
を測定しようとする物質と垂直に動く圧電変換器(Piez
oElectric Transducer; PZT)12と、前記PZT1
2に固定されてガウシアンビームを出力するための光フ
ァイバレンズ10と、光源を発生するためのレーザ14
と、光出力がリターンされることを防ぐための光隔離器
16と、前記光ファイバレンズ10とレーザ14から出
力される光強さを50対50に分離させる3dB光ファ
イバカプラ18とが接続されている。また、前記光ファ
イバレンズ10の端で反射される光の強さを検出する光
検出器20と、前記検出された光をフィルタリングする
ためのRCフィルタ22と、前記検出された光の強さを
分析するためのマイクロプロセッサ24と、前記マイク
ロプロセッサ24の制御に従って電気信号の強さを増幅
する増幅器26と、前記増幅器26から増幅された電気
の強さに従ってPZT12を駆動するPZT駆動器28
とが接続されている。さらに、前記マイクロプロセッサ
24の制御に従ってX軸とY軸のスキャナーを駆動する
ためのX−Y軸スキャナー駆動器30と、前記X−Y軸
スキャナー駆動器30の駆動に従ってX軸が駆動される
X軸スキャナー32と、前記X−Y軸スキャナー駆動器
30の駆動に従ってY軸が駆動されるY軸スキャナー3
4とがとが接続され、構成されている。
【0008】測定の際は、先ず、光ファイバレンズ10
をPZT12に固定して、測定しようとする物質に対し
て垂直に動かす。この時、光ファイバレンズ10の端で
反射される光の量の情報を、検出器20を通してマイク
ロプロセッサ24に伝達し、データを分析すると、図3
及び図4で示す結果を得ることができる。もし、測定し
ようとする物質の厚さが大きい場合は、PZT12に代
えて、その厚さと同等の範囲を動くことができる線形ス
テージを使用すると良い。また、測定しようとする物質
をX軸スキャナー32とY軸スキャナー34に固定して
動かすと、物質のX,Y軸の何れの方向に対しても物質
の厚さを測定することができる。
【0009】
【発明の効果】以上のように、本発明による光ファイバ
レンズの焦点距離を用いた物質の厚さ測定装置及びその
方法に従うと、光ファイバレンズを通過した光が物質の
表面で反射される量が異なるという事実を用いて、物質
の厚さを測定することができる。このような方法によれ
ば、既存のコーティング厚さを測定することができると
ともに、多層構造の物質の厚さを測定する用途にも使う
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明において、光ファイバレンズから射出さ
れる光がガウス分布を示しつつ、コーティング物質の表
面に焦点を合わせる過程を説明するための図。
【図2】本発明において、光ファイバレンズが測定しよ
うとする物質の層に対して垂直に動く時の、測定される
光の強さを説明するためのグラフ。
【図3】図2に示された互いに異なる二つの物質の境界
面で反射される光の強さが、二つのピーク(peak)値を
有して分布することを示すためのグラフ。
【図4】図3で得られる光の強さの変化が、干渉縞を有
することを示すためのグラフ。
【図5】本発明の実施例に従って、光ファイバレンズの
焦点距離を用いた物質の厚さを測定するための装置構成
図。
【符号の説明】
10 光ファイバレンズ 12 PZT 14 レーザ 16 光隔離器 18 3dB光ファイバカプラ 20 光検出器 22 RCフィルタ 24 マイクロプロセッサ 26 増幅器 28 PZT駆動器 30 X−Yスキャナー駆動器 32 X軸スキャナー 34 Y軸スキャナー 40 基板 42 コーティング物質
フロントページの続き (72)発明者 朴 用 雨 大韓民国ソウル特別市瑞草区瑞草洞1562番 地2号 (72)発明者 成 樂 鉉 大韓民国忠清南道公州市灘川面加尺里31 Fターム(参考) 2F065 AA30 BB13 BB17 FF51 GG04 HH04 LL02 LL10 LL21 LL53 LL67 MM14 PP02 PP12 PP22

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 厚さを測定しようとする物質に対して垂
    直に動くPZTと、前記PZTに固定されてガウシアン
    ビームを出力するための光ファイバレンズと、光源を発
    生するためのレーザと、光出力がリターンすることを防
    ぐための光隔離器と、前記光ファイバレンズとレーザか
    ら出力される光の強さを50対50に分離させる3dB光
    ファイバカプラと、前記光ファイバレンズの端で反射さ
    れる光の強さを検出する光検出器と、前記検出された光
    をフィルタリングするためのRCフィルタと、前記検出
    された光の強さを分析するためのマイクロプロセッサ
    と、前記マイクロプロセッサの制御に従って検出された
    電気信号の強さを増幅する増幅器と、前記増幅器から増
    幅された光の強さに従ってPZTを駆動するPZT駆動
    器と、前記マイクロプロセッサの制御に従ってX軸とY
    軸のスキャナーを駆動するためのX−Y軸スキャナー駆
    動器と、前記X−Y軸スキャナー駆動器の駆動に従って
    X軸が駆動されるX軸スキャナーと、前記X−Y軸スキ
    ャナー駆動器の駆動に従ってY軸が駆動されるY軸スキ
    ャナーと、を備えたことを特徴とする光ファイバレンズ
    の焦点距離を用いた物質の厚さ測定装置。
  2. 【請求項2】 ガウシアンビームを射出し、基板上のコ
    ーティングされた物質の表面に該ガウシアンビームが焦
    点を合わせるように、光ファイバレンズがPZTに固定
    されて垂直に動く際、前記光ファイバレンズの端に反射
    される光の量を検出してこれを分析し、物質の厚さを測
    定することを特徴とする光ファイバレンズの焦点距離を
    用いた物質の厚さ測定方法。
  3. 【請求項3】 前記物質の厚さを測定する際、前記光フ
    ァイバレンズの焦点距離が使用する光のコヒーレント長
    さよりも長いことを特徴とする請求項2に記載の光ファ
    イバレンズの焦点距離を用いた物質の厚さ測定方法。
  4. 【請求項4】 前記光ファイバレンズの焦点距離が使用
    する光のコヒーレント長さより短い時に現れる干渉縞の
    平均値の差を自乗することにより、厚さを計算すること
    を特徴とする請求項2に記載の光ファイバレンズ焦点距
    離を用いた物質の厚さ測定方法。
  5. 【請求項5】 前記光ファイバレンズに代えて一般レン
    ズを使用して物質の厚さを測定することを特徴とする請
    求項2乃至4のいずれかに記載の光ファイバレンズの焦
    点距離を用いた物質の厚さ測定方法。
  6. 【請求項6】 前記物質の表面に反射される光の強さが
    二つのピーク値を表わすことを用いて、厚さを測定する
    ことを特徴とする請求項2に記載の光ファイバレンズの
    焦点距離を用いた物質の厚さ測定方法。
  7. 【請求項7】 前記測定しようとする物質が複数層であ
    る場合、夫々の層に該当する反射された光のピーク値に
    より、該複数層のそれぞれの厚さを測定することを特徴
    とする請求項2に記載の光ファイバレンズの焦点距離を
    用いた物質の厚さ測定方法。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6937351B1 (en) * 2002-11-04 2005-08-30 National Semiconductor Corporation Non-destructive method of measuring the thickness of a semiconductor wafer
US20050168750A1 (en) * 2004-02-02 2005-08-04 Interantional Business Machines Corporation Measurement system for determining the thickness of a layer during a plating process
KR100790706B1 (ko) * 2006-09-22 2008-01-02 삼성전기주식회사 렌즈 초점 거리 측정 장치
EP2174118A4 (en) * 2007-02-01 2015-06-24 Ls Biopath Inc OPTICAL SYSTEM FOR THE IDENTIFICATION AND CHARACTERIZATION OF FABRICS AND ABNORMAL CELLS
EP2165187B1 (en) 2007-02-01 2018-05-16 LS Biopath, Inc. Apparatus and method for detection and characterization of abnormal tissue and cells
KR102045544B1 (ko) * 2018-08-31 2019-11-18 계명대학교 산학협력단 인쇄 회로 기판 컨포멀 코팅 두께 측정 장치 및 방법
CN109813226B (zh) * 2019-04-16 2019-07-16 山东中科普锐检测技术有限公司 一种三维形貌测量仪
CN113739736A (zh) * 2021-09-09 2021-12-03 湖北华鑫光电有限公司 一种可精准测量镜筒直升段长度用的测量装置及测量方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2221533A (en) * 1937-11-06 1940-11-12 William J Voit Athletic ball
US2278193A (en) * 1940-09-13 1942-03-31 Edward W Discher Return runway for bowling balls
US2379011A (en) * 1943-04-24 1945-06-26 Jacob E Laskin Orthodontia appliance
US3914356A (en) * 1974-03-28 1975-10-21 Western Electric Co Methods of and apparatus for controlling the thickness of an annular extrusion
US4748335A (en) * 1985-04-19 1988-05-31 Siscan Systems, Inc. Method and aparatus for determining surface profiles
GB8818358D0 (en) * 1988-08-02 1988-09-07 Oliver Eng Ltd Probe positioning method & apparatus
JPH0287005A (ja) * 1988-09-26 1990-03-27 Brother Ind Ltd 光ヘテロダイン干渉表面形状測定装置
JPH0470562A (ja) * 1990-07-12 1992-03-05 Olympus Optical Co Ltd 透過型超音波顕微鏡
JPH05302816A (ja) * 1992-04-28 1993-11-16 Jasco Corp 半導体膜厚測定装置
US5323229A (en) * 1992-08-31 1994-06-21 Science Applications International Corporation Measurement system using optical coherence shifting interferometry
JP3375995B2 (ja) * 1992-11-25 2003-02-10 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー 医療用温度センサ
JPH06265317A (ja) * 1993-03-10 1994-09-20 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 共焦点走査方式レーザ顕微鏡を用いた厚み計測方法
US5483347A (en) * 1993-05-19 1996-01-09 Hughes Aircraft Company Non-contact measurement apparatus using bifurcated optical fiber bundle with intermixed fibers
US5473432A (en) * 1994-09-12 1995-12-05 Hewlett-Packard Company Apparatus for measuring the thickness of a moving film utilizing an adjustable numerical aperture lens
US5646734A (en) * 1995-08-28 1997-07-08 Hewlett-Packard Company Method and apparatus for independently measuring the thickness and index of refraction of films using low coherence reflectometry
US5850287A (en) * 1997-07-11 1998-12-15 Hewlett-Packard Company Roller assembly having pre-aligned for on-line thickness measurements
KR100343813B1 (ko) * 2000-09-21 2002-07-20 광주과학기술원 광섬유나 광도파로 표면의 굴절률구조 측정장치 및 방법

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Publication number Publication date
KR20030016935A (ko) 2003-03-03
GB0204755D0 (en) 2002-04-17
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GB2379011B (en) 2006-05-31
US6721058B2 (en) 2004-04-13

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