JP2003073584A - Water-soluble coating liquid for forming metal oxide thin film and method for producing ceramic coating film using the same - Google Patents

Water-soluble coating liquid for forming metal oxide thin film and method for producing ceramic coating film using the same

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JP2003073584A
JP2003073584A JP2001269220A JP2001269220A JP2003073584A JP 2003073584 A JP2003073584 A JP 2003073584A JP 2001269220 A JP2001269220 A JP 2001269220A JP 2001269220 A JP2001269220 A JP 2001269220A JP 2003073584 A JP2003073584 A JP 2003073584A
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film
water
coating liquid
coating
thin film
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Japanese (ja)
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Hiromitsu Yukitsuka
広光 幸塚
Yukihiko Shirakawa
幸彦 白川
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TDK Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating liquid having stable viscosity with time and excellent film-forming property, a water-soluble coating liquid for forming a metal oxide thin film to form a ceramic thin film free from cracks and having excellent surface smoothness and translucency by baking a gel film produced by using the coating liquid and a method for producing a ceramic coating film. SOLUTION: The water-soluble coating liquid for forming a metal oxide thin film is at least composed of a water-soluble metal salt and an organic polymer having amide group and dissolved in water. The production method for the ceramic coating film comprises the use of the solution.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学、電子、情
報、化学、機械、医療など、機能性セラミック薄膜を必
要とするすべての分野で利用することができ、金属塩の
水溶液をコーティング液とするセラミックコーティング
膜の製造方法に関する。
The present invention can be used in all fields requiring functional ceramic thin films such as optical, electronic, information, chemical, mechanical, medical, etc., and an aqueous solution of a metal salt is used as a coating liquid. To a method for producing a ceramic coating film.

【0002】[0002]

【従来の技術】セラミック薄膜の製造法として、ディッ
プコーティングやスピンコーティングによってコーティ
ング液を基材に塗布し、これを焼成するという方法は近
年広い範囲で実用化されてきている。 この方法は主と
して,ゾル−ゲル法とよばれるものであり、多くの場
合、コーティング液の合成は、その金属源として金属ア
ルコキシドを出発物質として用い、主にアルコール系の
溶媒を用い、溶媒中に金属アルコキシドを溶解する形で
合成されている。
2. Description of the Related Art As a method for producing a ceramic thin film, a method of applying a coating liquid to a substrate by dip coating or spin coating and firing the same has been put into practical use in a wide range in recent years. This method is mainly called a sol-gel method, and in many cases, a coating solution is synthesized by using a metal alkoxide as a starting material, a mainly alcoholic solvent, and It is synthesized by dissolving metal alkoxide.

【0003】しかしながら、この方法には(1)コーテ
ィング液がアルコールを溶媒とする点、(2)コーティ
ング液の粘度が時間とともに増大するという点に問題が
ある。
However, this method has a problem in that (1) the coating liquid uses alcohol as a solvent, and (2) the viscosity of the coating liquid increases with time.

【0004】(1)アルコールを溶媒とする点が問題で
あることについて 金属アルコキシドを出発物節とするゾル−ゲル法は、金
属アルコキシドの加水分解とこれに続く縮合反応によっ
て、溶液中に金属−酸素−金属結合(メタロキサン結
合)を骨格とする無機高分子を生成さてゾルとし、これ
をコーティング液とする。そして、ディップコーティン
グやスピンコーティングによって、同高分子を主要構成
物とするゲル状のコーティング膜を基材表面上に形成
し、これを焼成することによってセラミックコーティン
グ膜とする。
(1) Regarding the problem of using alcohol as a solvent The sol-gel method using a metal alkoxide as a starting material is a method in which metal alkoxide is added to a solution by hydrolysis of the metal alkoxide and subsequent condensation reaction. An inorganic polymer having an oxygen-metal bond (metalloxane bond) as a skeleton is formed into a sol, which is used as a coating liquid. Then, a gel coating film containing the same polymer as a main constituent is formed on the surface of the base material by dip coating or spin coating, and is baked to form a ceramic coating film.

【0005】ところで、金属アルコキシドは疎水性であ
って、水とは混和しない。そのため、加水分解過程で溶
液中に沈殿を生じることなく、溶液中で均一に加水分解
反応を進行きせるためには、金属アルコキシドと水の双
方と混和しうるアルコールを溶媒とする必要がある。す
なわち、金属アルコキシドを出発物質とするゾル−ゲル
法は、金属アルコキシドのアルコール溶液を原料とする
セラミックコーティング膜の製造方法であるといえる。
By the way, the metal alkoxide is hydrophobic and immiscible with water. Therefore, in order to allow the hydrolysis reaction to proceed uniformly in the solution without causing precipitation in the solution during the hydrolysis process, it is necessary to use an alcohol miscible with both the metal alkoxide and water as the solvent. That is, it can be said that the sol-gel method using a metal alkoxide as a starting material is a method for producing a ceramic coating film using an alcohol solution of a metal alkoxide as a raw material.

【0006】アルコールは揮発性に富み、有機化合物で
あるがゆえに引火性に富む。また、エタノール以外のア
ルコールは健康上有害でもある。したがって、製造現場
でゾル−ゲル法を実施するうえで、アルコールが溶媒と
して使用きれることは、安全性と健康管理の上で好まし
くない。
Alcohol is highly volatile and, because it is an organic compound, highly flammable. Alcohols other than ethanol are also harmful to health. Therefore, in carrying out the sol-gel method at the manufacturing site, it is not preferable to use alcohol as a solvent in terms of safety and health management.

【0007】一方、水は引火性がなく、無香な物質であ
る。このため、製造サイドでは、ゾル−ゲル法において
使用きれるコーティング液の溶媒を、アルコールから水
に変えることが強く望まれてきた。しかしながら、上述
のように、金属アルコキシドと水は互いに混和しないた
め、コーティング液の溶媒をアルコールから水に変える
ことは原理的に不可能であると考えられてきた。
On the other hand, water is a non-flammable and unscented substance. Therefore, it has been strongly desired on the manufacturing side to change the solvent of the coating liquid that can be used in the sol-gel method from alcohol to water. However, as described above, since the metal alkoxide and water are immiscible with each other, it has been considered in principle impossible to change the solvent of the coating liquid from alcohol to water.

【0008】金属アルコキシドの代わりに、金属硝酸塩
のような水溶性の金属塩を出発物質とするゾル−ゲル法
がこれまでに全く提案されなかったわけではない。しか
しながら、水は表面張力が例外的に高い物質であって、
ガラス、セラミックス、金属などの基材に対する塗れ性
が極めて悪く、そのため、単に金属塩を水に溶かしただ
けのコーティング液は、基材に塗布してもはじいてしま
い、焼成前駆体膜をつくることができない。このため、
塗れ性と成膜性を確保するために、エチレングリコール
などのアルコールの添加がこれまでは不可欠であった。
The sol-gel method starting from a water-soluble metal salt such as a metal nitrate instead of a metal alkoxide has not been proposed so far. However, water is a substance with an exceptionally high surface tension,
It has extremely poor wettability to substrates such as glass, ceramics, and metals. Therefore, a coating solution obtained by simply dissolving a metal salt in water will be repelled even if it is applied to the substrate, forming a firing precursor film. I can't. For this reason,
In order to secure wettability and film-forming property, addition of alcohol such as ethylene glycol has been indispensable until now.

【0009】(2)コーティング液の粘度が時間ととも
に増大する点が問題であることについて 金属アルコキシドを出発物質とした場合には、溶液中で
は加水分解と縮合反応が進行するため、無機高分子が成
長し続ける。そのため、コーティング液の粘度は時間と
ともに増大する。ディップコーティングやスピンコーテ
イングによって塗布されたゲル膜の厚さは、コーティン
グ液の粘度の増加とともに増大するため、ひとつのコー
ティング液を長時間使用することはむずかしい。このた
め、粘度の経時変化のないコーティング液の開発が望ま
れてきた。具体的には以下に示す文献に記載されている
ような技術がある。
(2) The problem that the viscosity of the coating solution increases with time When a metal alkoxide is used as a starting material, hydrolysis and condensation reactions proceed in the solution, so that an inorganic polymer is formed. Keep growing Therefore, the viscosity of the coating liquid increases with time. Since the thickness of the gel film applied by dip coating or spin coating increases as the viscosity of the coating liquid increases, it is difficult to use one coating liquid for a long time. Therefore, it has been desired to develop a coating liquid that does not change its viscosity with time. Specifically, there are techniques described in the following documents.

【0010】(1)H,Kozuka and M,Kajimura, J,AmCer
am.soc,83,1056(2000).(幸塚) この文献には、ポリピニルピロリドンを含有する金属ア
ルコキシド/金属酢酸塩落液を使用したゾル−ゲル法に
よって、1回のコーティング操作で1.2μmの厚さを
もつ亀裂のないBaTiO3 薄膜が作製できることが報
告されている。しかしながら、この方法においては、ア
ルコールが溶媒として使われており、また、ゾルの粘度
は時間とともに急速に増大し、ゾルは数時間でゲル化し
てしまうため実用化が困難である。
(1) H, Kozuka and M, Kajimura, J, AmCer
am.soc, 83, 1056 (2000). (Kotsuka) This reference describes that one coating operation is performed by a sol-gel method using a metal alkoxide / metal acetate dropping solution containing polypinylpyrrolidone. It has been reported that a crack-free BaTiO 3 thin film having a thickness of 0.2 μm can be prepared. However, in this method, alcohol is used as a solvent, and the viscosity of the sol rapidly increases with time, and the sol gels in a few hours, which makes practical application difficult.

【0011】〈2)土谷敏雄、小泉淳、日本セラミック
ス協会学術論文誌、98(9),1011(199
0)。この文献には、塩化スズ(II)及び塩化アンチモ
ン(III)を、塩酸共存下、ジエチレングリコールに溶
解させてコーティング液とし、ディップコーティングに
よって石英ガラス基板上にアンチモンドープ酸化スズ薄
膜を作製した。ジエチレングリコールはアルコールの一
種であり、これを溶媒とすることが成膜を行うために不
可欠であった。
<2) Toshio Tsuchiya, Atsushi Koizumi, Journal of the Ceramic Society of Japan, 98 (9), 1011 (199)
0). In this document, tin (II) chloride and antimony (III) chloride were dissolved in diethylene glycol in the presence of hydrochloric acid to prepare a coating solution, and an antimony-doped tin oxide thin film was prepared on a quartz glass substrate by dip coating. Diethylene glycol is a kind of alcohol, and using it as a solvent was indispensable for film formation.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、粘度
の経時変化が少なく、成膜性のよいコーティング液と、
これをコーティング液として製造されるゲル膜を焼成す
ることによって、亀裂がなく、表面平滑性に優れ、透光
性を有するセラミック薄膜を得ることができる金属酸化
物薄膜形成用水溶性コーティング液およびセラミックコ
ーティング膜の製造方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a coating liquid having a small change in viscosity with time and having a good film-forming property.
By firing a gel film produced by using this as a coating liquid, a ceramic thin film having a metal oxide thin film for forming a ceramic thin film having no cracks, excellent surface smoothness, and translucency can be obtained. A method of manufacturing a membrane is provided.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】すなわち上記目的は、以
下の本発明の構成により達成される。 (1) 少なくとも水溶性金属塩と、アミド基を有する
有機高分子とが水に溶解されている金属酸化物薄膜形成
用水溶性コーティング液。 (2) 前記水溶性金属塩は、硫酸鉛、硝酸塩、オキシ
塩化物、カルボン酸塩、およびハロゲン化物のいずれか
1種または2種以上である上記(1)の金属酸化物薄膜
形成用水溶性コーティング液。 (3) 前記アミド基を有する有機高分子は、ポリアク
リルアミド、ポリビニルアセトアミド、およびポリビニ
ルピロリドンのいずれか1種または2種以上である上記
(1)または(2)の金属酸化物薄膜形成用水溶性コー
ティング液。 (4) 上記(1)〜(3)のいずれかの金属酸化物薄
膜形成用水溶性コーティング液を基材上に塗布し、焼成
してセラミックコーティング膜を得るセラミックコーテ
ィング膜の製造方法。
That is, the above object is achieved by the following constitution of the present invention. (1) A water-soluble coating solution for forming a metal oxide thin film, wherein at least a water-soluble metal salt and an organic polymer having an amide group are dissolved in water. (2) The water-soluble metal salt is a water-soluble coating for forming a metal oxide thin film according to (1), which is one or more of lead sulfate, nitrate, oxychloride, carboxylate, and halide. liquid. (3) The organic polymer having an amide group is one or more of polyacrylamide, polyvinylacetamide, and polyvinylpyrrolidone. The water-soluble coating for forming a metal oxide thin film according to (1) or (2) above. liquid. (4) A method for producing a ceramic coating film, wherein the water-soluble coating liquid for forming a metal oxide thin film according to any one of (1) to (3) above is applied onto a substrate and fired to obtain a ceramic coating film.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の金属酸化物薄膜形成用水
溶性コーティング液は、水溶性金属塩と、アミド基を有
する有機高分子とが水に溶解されているものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The water-soluble coating solution for forming a metal oxide thin film of the present invention is one in which a water-soluble metal salt and an organic polymer having an amide group are dissolved in water.

【0015】このようなコーティング液をを基材上に塗
布し、焼成(熱処理)することにより、容易に亀裂がな
く、表面平滑性に優れ、透光性を有するセラミックコー
ティング膜を得ることができる。
By coating such a coating solution on a substrate and baking (heat treatment), it is possible to easily obtain a ceramic coating film having no cracks, excellent surface smoothness and translucency. .

【0016】本発明のコーティング液で得られるセラミ
ックコーティング膜としては、とくにそのコーティング
膜に亀裂が無く、表面平滑性と透光性が得られるため、
特にセラミックス酸化物誘電体膜に用いることが効果的
である。
As the ceramic coating film obtained with the coating liquid of the present invention, there is no crack in the coating film and surface smoothness and translucency can be obtained.
It is particularly effective to use it for a ceramic oxide dielectric film.

【0017】例えばAl23 、MgO、SiO2 、Y2
3 、Nb25 、Ta25 、TiO2 、ZnO、Zr
2 などの単酸化物、BaTiO3 、SrTiO3 やP
b(Zr1-xTix)O3 等の複合酸化物など酸化物系セ
ラミックコーティング膜を得ることができる。
For example, Al 2 O 3 , MgO, SiO 2 , Y 2
O 3 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , ZnO, Zr
Single oxides such as O 2 , BaTiO 3 , SrTiO 3 and P
An oxide-based ceramic coating film such as a complex oxide such as b (Zr 1-x Ti x ) O 3 can be obtained.

【0018】本発明のコーティング液は溶媒としてアル
コールを含有しない。すなわち、揮発性と引火性を同時
にもつ成分を含んでいない。また、金属アルコキシドの
加水分解・縮合反応による無機高分子の生成を経ないた
め、これらのコーティング液には粘度の経時変化が見ら
れない。
The coating liquid of the present invention does not contain alcohol as a solvent. That is, it does not contain a component having both volatility and flammability. Further, since the inorganic polymer is not produced by the hydrolysis / condensation reaction of the metal alkoxide, the viscosity of these coating solutions does not change with time.

【0019】コーティング液に用いる水溶性金属塩は、
水溶性のものであれば特に限定されるものではなく、形
成しようとするセラミックコーティング膜により、必要
な成分を含有するものを選択して使用するとよい。具体
的には硫酸塩、硝酸塩、オキシ塩化物、または酢酸塩、
アンモニウムラクター卜等のカルボン酸塩や、塩化物や
ヨウ化物等のハロゲン化物などを挙げることができる。
これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用しても
よい。複数種を用いる場合の混合比は任意である。
The water-soluble metal salt used in the coating liquid is
The material is not particularly limited as long as it is water-soluble, and a material containing necessary components may be selected and used depending on the ceramic coating film to be formed. Specifically, sulfate, nitrate, oxychloride, or acetate,
Examples thereof include carboxylic acid salts such as ammonium lactate and halides such as chlorides and iodides.
These may be used alone or in combination of two or more. When a plurality of types are used, the mixing ratio is arbitrary.

【0020】例えばAl23 膜を形成する際は、臭化
アルミニウム6水和物、オキシ塩化アルミニウム9水和
物、水酸化塩化アルミニウム2水和物、ヨウ化アルミニ
ウム6水和物、乳酸アルミニウム、硝酸アルミニウム9
水和物、硫酸アルミニウム等が挙げられる。
For example, when forming an Al 2 O 3 film, aluminum bromide hexahydrate, aluminum oxychloride nonahydrate, aluminum hydroxide chloride dihydrate, aluminum iodide hexahydrate, aluminum lactate , Aluminum nitrate 9
A hydrate, aluminum sulfate, etc. are mentioned.

【0021】Y23 膜を形成する際は、臭化イットリ
ウム、塩化イットリウム、硝酸イットリウム6水和物、
硝酸イットリウム8水和物等が挙げられる。
When forming a Y 2 O 3 film, yttrium bromide, yttrium chloride, yttrium nitrate hexahydrate,
Examples thereof include yttrium nitrate octahydrate.

【0022】Nb25 膜を形成する際は、臭化ニオブ
(V)が用いられ、Ta25 膜を形成する際はフッ化
タンタル(V)を用いることが出来る。
Niobium bromide (V) can be used when forming the Nb 2 O 5 film, and tantalum fluoride (V) can be used when forming the Ta 2 O 5 film.

【0023】ZnO膜を形成する際は、酢酸亜鉛2水和
物、オキシ塩化亜鉛、塩化亜鉛、ギ酸亜鉛2水和物、ヨ
ウ化亜鉛、硝酸亜鉛、硫酸亜鉛等が挙げられる。
When forming the ZnO film, zinc acetate dihydrate, zinc oxychloride, zinc chloride, zinc formate dihydrate, zinc iodide, zinc nitrate, zinc sulfate and the like can be mentioned.

【0024】SiO2 膜を形成する際は、フッ化珪素、
4塩化珪素、酢酸珪素等を用いることが可能であり、M
gO膜としては、臭化マグネシウム、オキシ塩化マグネ
シウム6水和物、塩化マグネシウム、ヨウ化マグネシウ
ム、硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウム等が挙げられ
る。
When forming the SiO 2 film, silicon fluoride,
It is possible to use silicon tetrachloride, silicon acetate, etc.
Examples of the gO film include magnesium bromide, magnesium oxychloride hexahydrate, magnesium chloride, magnesium iodide, magnesium nitrate, magnesium sulfate and the like.

【0025】また、TiO2 膜を形成する場合は、(C
3CH(O)CO2NH42Ti(OH)2 、Ti
(SO42 、TiCl4 が好ましく用いられ、ZrO2
膜を形成する場合は、ZrCl2Oを用いることが出来
る。
When forming a TiO 2 film, (C
H 3 CH (O) CO 2 NH 4) 2 Ti (OH) 2, Ti
(SO 4 ) 2 and TiCl 4 are preferably used, and ZrO 2
When forming a film, ZrCl 2 O can be used.

【0026】さらに複合酸化物薄膜を形成する際は、複
数の金属塩を用いればよい。
Further, when forming the composite oxide thin film, a plurality of metal salts may be used.

【0027】例えばBaTiO3 薄膜を形成する際は、
Ba源として、Ba(CH3COO)2 を用い、Ti源
として前記のTiO2 膜を形成するのに用いたTiの金
属塩を用いればよい。
For example, when forming a BaTiO 3 thin film,
Ba (CH 3 COO) 2 may be used as the Ba source, and the metal salt of Ti used for forming the TiO 2 film may be used as the Ti source.

【0028】また、同じくSrTiO3 薄膜を形成する
際のSr源としては、オキシ塩化ストロンチウム、塩化
ストロンチウム、臭化ストロンチウム、フッ化ストロン
チウム、ヨウ化ストロンチウム等のハロゲン化ストロン
チウムや、硝酸ストロンチウムや水酸化ストロンチウム
を用いることが出来、Ti源として前記のTiO2 膜を
形成するのに用いたTiの金属塩を用いればよい。
Similarly, as the Sr source for forming the SrTiO 3 thin film, strontium halides such as strontium oxychloride, strontium chloride, strontium bromide, strontium fluoride and strontium iodide, and strontium nitrate and strontium hydroxide. Can be used, and the metal salt of Ti used for forming the TiO 2 film can be used as the Ti source.

【0029】また、PbTiO3 やPb(Zr1-x
x)O3 等の薄膜を形成する際は、Pb源として、酢
酸鉛、クエン酸鉛3水和物、乳酸鉛、ギ酸塩鉛等の鉛カ
ルボン酸塩や臭化鉛、塩化鉛、オキシ塩化鉛等を用い、
Ti及びZr源としては、前記のTiO2 やZrO2
を形成するのに用いた各金属源を用いればよい。
Further, PbTiO 3 and Pb (Zr 1-x T
i x) when forming a thin film of O 3, etc., as Pb source, lead acetate, lead citrate trihydrate, lactic lead, lead carboxylate or lead bromide such as formate salts of lead, lead chloride, oxy Using lead chloride etc.,
As the Ti and Zr sources, the metal sources used to form the TiO 2 and ZrO 2 films may be used.

【0030】また、YBa2Cu37-x 等の超伝導複合
酸化物の場合も、Cu源として硫酸銅(II)、硝酸銅
(II)、塩化銅(II)、臭化銅(II)、オキシ化銅(I
I)6水和物や、酢酸銅(II)1水和物、ギ酸銅(II)
等の銅カルボン酸塩等を用い、Y、Ba源として、前記
に挙げた物質を用いればよい。
Also, in the case of a superconducting composite oxide such as YBa 2 Cu 3 O 7-x, copper (II) sulfate, copper (II) nitrate, copper (II) chloride, copper bromide (II) is used as a Cu source. ), Copper oxydide (I
I) hexahydrate, copper (II) acetate monohydrate, copper (II) formate
The above-mentioned substances may be used as the Y and Ba sources by using copper carboxylates and the like.

【0031】水溶液中での金属塩濃度は、金属塩の総計
が10-2 〜101 mol/Lの範囲であることが好まし
い。
The metal salt concentration in the aqueous solution is preferably in the range of 10 -2 to 10 1 mol / L in total of metal salts.

【0032】溶液に添加する有機高分子は、アミド基を
有するものであって、かつ水溶性のものであれば特に限
定されるものではない。具体的には、ポリアクリルアミ
ド、ポリビニルアセトアミド、ポリビニルピロリドンな
どを挙げることができる。これらは単独で用いてもよい
し、2種以上を併用してもよい。複数種を用いる場合の
混合比は任意である。
The organic polymer added to the solution is not particularly limited as long as it has an amide group and is water-soluble. Specifically, polyacrylamide, polyvinylacetamide, polyvinylpyrrolidone, etc. can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. When a plurality of types are used, the mixing ratio is arbitrary.

【0033】有機高分子中にアミド基を有することで、
アミド基と金属原子の間に配位結合が形成され、溶液中
には高分子錯体が形成され、この高分子錯体の形成が成
膜性の向上をもたらす。
By having an amide group in the organic polymer,
A coordination bond is formed between the amide group and the metal atom, a polymer complex is formed in the solution, and the formation of this polymer complex improves the film forming property.

【0034】添加する有機高分子は、その全量がモノマ
ー換算で金属元素に対してモル比で0.1〜4の範囲で
あることが好ましい。
The total amount of the organic polymer to be added is preferably in the range of 0.1 to 4 in terms of molar ratio with respect to the metal element in terms of monomer.

【0035】これら金属塩と有機高分子とは、水に溶解
されコーティング液とされる。コーティング液調整の際
の液温としては、10〜100℃の範囲が好ましい。
The metal salt and the organic polymer are dissolved in water to obtain a coating liquid. The liquid temperature at the time of adjusting the coating liquid is preferably in the range of 10 to 100 ° C.

【0036】本発明のコーティング液は、金属アルコキ
シドを含有するコーティング液と異なり、水溶性金属塩
を金属源として用い、アミド基を有する水溶性高分子を
含有するため、液中で反応が進行することがなく、長時
間にわたって調整時の粘度を維持することができる。具
体的には100時間以上、特に1000時間以上保存す
ることが可能であり、長時間の輸送、保存にも耐えるこ
とができるため、生産性の向上と、コスト削減に大きく
寄与することができる。
Unlike the coating solution containing a metal alkoxide, the coating solution of the present invention uses a water-soluble metal salt as a metal source and contains a water-soluble polymer having an amide group, so that the reaction proceeds in the solution. It is possible to maintain the viscosity during adjustment over a long period of time. Specifically, it can be stored for 100 hours or more, particularly 1000 hours or more, and can withstand long-time transportation and storage, which can greatly contribute to improvement in productivity and cost reduction.

【0037】調整されたコーティング液は基材上に塗布
され、ゲルコーティング膜とされる。コーティング液
は、例えばディップ、スピン、スプレー、ラミナーコー
ティング等の方法によって基材に塗布することができ
る。
The prepared coating liquid is applied onto a base material to form a gel coating film. The coating liquid can be applied to the substrate by a method such as dipping, spinning, spraying, or laminar coating.

【0038】得られたゲルコーティング膜は、焼成(熱
処理)されてセラミックコーティング膜となる。
The obtained gel coating film is baked (heat treated) to form a ceramic coating film.

【0039】焼成時(熱処理)の温度としては、好まし
くは500〜1000℃、特に600〜900℃程度で
ある。焼成時の雰囲気としては、大気または酸素等の酸
化性雰囲気であればよい。焼成時間としては、通常5分
〜10時間、特に10分〜30分程度である。
The temperature during firing (heat treatment) is preferably 500 to 1000 ° C., and particularly 600 to 900 ° C. The atmosphere during firing may be air or an oxidizing atmosphere such as oxygen. The firing time is usually 5 minutes to 10 hours, particularly about 10 minutes to 30 minutes.

【0040】また、焼成膜の緻密化を図りたい場合に
は、等の場合には、本焼成の前に熱処理を行ってもよ
い。このような熱処理時の温度としては、好ましくは1
00〜400℃、特に300〜400℃程度である。熱
処理時の雰囲気としては、焼成時のものと同様でよい。
処理時間としては、通常5min〜8時間、特に10〜6
0min程度である。
If it is desired to make the fired film dense, heat treatment may be performed before the main firing in the cases such as the above. The temperature during such heat treatment is preferably 1
The temperature is from 00 to 400 ° C, especially from 300 to 400 ° C. The atmosphere during heat treatment may be the same as that during firing.
The treatment time is usually 5 min to 8 hours, especially 10 to 6
It is about 0 min.

【0041】なお、本発明のコーティング液は、可燃性
の高いアルコール等の溶媒を含有しないため引火性が低
く、従来のアルコールを含有するコーティング液と比較
して安全性が高い。このため、例えば300℃以上に加
熱された基板に溶液をスプレーしたり、超音波アトマイ
ジング法を利用して形成したエアロゾルの形で基板上に
供給し、コーティングと同時にコーティング膜の焼成
や、焼成前の熱処理を行う、いわゆるスプレー熱分解法
にも、より安全に用いることが可能である。
The coating liquid of the present invention has low flammability because it does not contain a solvent such as highly flammable alcohol, and is more safe than conventional coating liquids containing alcohol. For this reason, for example, the solution is sprayed on a substrate heated to 300 ° C. or higher, or is supplied onto the substrate in the form of an aerosol formed by using an ultrasonic atomizing method, and at the same time as coating, the coating film is baked or baked. It can be more safely used in the so-called spray pyrolysis method in which the previous heat treatment is performed.

【0042】本発明のコーティング液により得られたゾ
ルゲル膜は、十分な膜厚が得られる。具体的には0.0
5μm 以上、特に0.1μm 以上の膜が得られる。しか
も、得られた膜は緻密であり、亀裂もない。
The sol-gel film obtained by the coating liquid of the present invention has a sufficient film thickness. Specifically 0.0
A film having a thickness of 5 μm or more, particularly 0.1 μm or more can be obtained. Moreover, the obtained film is dense and has no cracks.

【0043】本発明の酸化物薄膜は、種々の用途に用い
ることができる。具体的には、高誘電率、高屈折率でサ
ブμmからμmオーダーの膜厚を必要とする用途に用いる
ことができる。すなわち、高誘電体もしくは強誘電体薄
膜、厚膜を利用した電子デバイス、例えば、積層セラミ
ックコンデンサや、ハイブリッドIC回路、複合LCネ
ットワーク回路、セラミックLCR内蔵多層基板のコン
デンサ誘電体層形成や、薄膜EL素子の誘電体層に用い
ることが可能であり、さらに小型アクチュエーター用の
圧電層、圧電スピーカー、焦電センサの焦電体等の圧電
セラミックスの薄板を要する分野にも好ましく用いられ
る。
The oxide thin film of the present invention can be used for various purposes. Specifically, it can be used for applications that require a high dielectric constant and high refractive index and a film thickness on the order of sub μm to μm. That is, an electronic device using a high dielectric or ferroelectric thin film or a thick film, for example, a laminated ceramic capacitor, a hybrid IC circuit, a composite LC network circuit, a capacitor dielectric layer formation of a ceramic LCR built-in multilayer substrate, or a thin film EL. It can be used as a dielectric layer of an element, and is also preferably used in a field requiring a thin plate of piezoelectric ceramics such as a piezoelectric layer for a small actuator, a piezoelectric speaker, and a pyroelectric body of a pyroelectric sensor.

【0044】また、緻密で亀裂が無い膜を形成できるた
め、良好な光透過性を有する事が可能であり、光学薄膜
としての応用、例えば反射防止膜や赤外線反射、透過膜
として通常用いられる用途や、発光素子、ディスプレイ
への応用も有効である。また、酸化物導電膜や透明導電
膜の形成に応用することも容易である。
Further, since it is possible to form a dense and crack-free film, it is possible to have a good light-transmitting property, and it can be used as an optical thin film, for example, as a film usually used as an antireflection film, an infrared reflection film or a transmission film. It is also effective to apply to light emitting devices and displays. Further, it can be easily applied to the formation of an oxide conductive film or a transparent conductive film.

【0045】[0045]

【実施例】〔実施例1〕硫酸チタンとポリビニルピロリ
ドンを含む水溶液からのTiO2 コーティング液の作
製。
EXAMPLES Example 1 Preparation of a TiO 2 coating solution from an aqueous solution containing titanium sulfate and polyvinylpyrrolidone.

【0046】表1に示すように、室温下、硫酸チタン水
溶液(和光純薬工業社製、Ti(SO42 30wt%含
有、硫酸13wt%含有)40g 、ポリビニルピロリドン
(東京化成社製、平均分子量10,000)2.78g
、水20.8g からなる溶液を作製し、コーティング
液とした。
As shown in Table 1, 40 g of an aqueous solution of titanium sulfate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, containing 30 wt% of Ti (SO 4 ) 2 and containing 13 wt% of sulfuric acid) at room temperature, polyvinylpyrrolidone (manufactured by Tokyo Kasei Co., average Molecular weight 10,000) 2.78g
Then, a solution containing 20.8 g of water was prepared as a coating solution.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】このコーティング液を用い、基板引上げ速
度3cm/min のディップコーティングによって厚さ1.
2mmの石英ガラス基板上にゲルコーティング膜を作製
し、これを100℃で10min 、さらに700℃で10
min で熱処理することにより、膜厚0.1μm のTiO
2 セラミックコーティング膜を得た。
Using this coating solution, the substrate was pulled up at a speed of 3 cm / min by dip coating to a thickness of 1.
A gel coating film was prepared on a 2 mm quartz glass substrate, and this was applied at 100 ° C for 10 minutes and then at 700 ° C for 10 minutes.
TiO with a film thickness of 0.1 μm by heat treatment at min
2 A ceramic coating film was obtained.

【0049】得られたコーティング膜のSEM写真を図
1に、可視紫外吸収スペクトルを図2に、X線回折パタ
ーンを図3にそれぞれ示す。図1のSEM写真に見られ
るように焼成膜は緻密な断面と平滑な表面を有し、ま
た、図2の可視紫外吸収スペクトルに見られるように焼
成膜は良好な可視光透過性を示した。図3のX線回折パ
ターンに見られるように、焼成膜にはルチル相とアナタ
ース相が混在していた。
An SEM photograph of the obtained coating film is shown in FIG. 1, a visible ultraviolet absorption spectrum is shown in FIG. 2, and an X-ray diffraction pattern is shown in FIG. As shown in the SEM photograph of FIG. 1, the fired film had a dense cross section and a smooth surface, and as seen in the visible ultraviolet absorption spectrum of FIG. 2, the fired film showed good visible light transmittance. . As seen in the X-ray diffraction pattern of FIG. 3, the rutile phase and the anatase phase were mixed in the baked film.

【0050】〔実施例2〕硫酸チタンとポリピニルアセ
トアミドを含む水溶汲からのTlO2 コーテイング液の
作製。
[0050] Example 2 Preparation of TlO 2 coating liquid from the water溶汲containing titanium sulfate and poly pin sulfonyl acetamide.

【0051】表1に示すように、室温下、硫酸チタン水
溶液(和光純薬工業社製、Ti(SO42 30wt%含
有、硫酸13wt%含有)41.5g 、ポリビニルアセト
アミド水溶液(昭和電工社製GE−191LL、ポリビ
ニルアセトアミド40wt%含有、平均分子量30,00
0)11.0g 、水68.0g からなる溶夜を作製し、
コーティング夜とした。
As shown in Table 1, at room temperature, 41.5 g of an aqueous solution of titanium sulfate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, containing 30 wt% of Ti (SO 4 ) 2 and containing 13 wt% of sulfuric acid), an aqueous solution of polyvinylacetamide (Showa Denko KK) GE-191LL, containing 40 wt% polyvinylacetamide, average molecular weight 30,000
0) Prepare a melted night consisting of 11.0 g and 68.0 g of water,
It was coating night.

【0052】このコーティング液を用い、実施例1と同
様にしてガラス基板上にゲルコーティング膜を作製し、
熱処理して、膜厚0.07μm のTiO2 セラミックコ
ーティング膜を得た。
Using this coating solution, a gel coating film was prepared on a glass substrate in the same manner as in Example 1,
Heat treatment was performed to obtain a TiO 2 ceramic coating film having a thickness of 0.07 μm.

【0053】得られたコーティング膜の可視紫外吸収ス
ペクトルを図2に、X線回折パターンを図3にそれぞれ
示す。焼成膜は平滑な表面を有し、また、図2の可視紫
外吸収スペクトルに見られるように良好な可視光透過性
を示した。また、図3のX線回折パターンより、焼成膜
はルチル相からなることがわかった。
The visible-ultraviolet absorption spectrum of the coating film thus obtained is shown in FIG. 2, and the X-ray diffraction pattern thereof is shown in FIG. The fired film had a smooth surface and exhibited good visible light transmittance as seen in the visible ultraviolet absorption spectrum of FIG. Moreover, it was found from the X-ray diffraction pattern of FIG. 3 that the fired film was composed of a rutile phase.

【0054】〔実施例3〕四塩化チタンとポリビニルピ
ロリドンを含む水溶液からのTiO2 コーティング膜の
作製。
Example 3 Preparation of a TiO 2 coating film from an aqueous solution containing titanium tetrachloride and polyvinylpyrrolidone.

【0055】表1に示すように、室温下、塩化チタン水
溶液(和光純薬工業社製、Ti16〜17wt%含有、C
l13wt%含有)14.52g 、ポリビニルピロリドン
(東京化成社製、平均分子量10,000)2.78g
、水40.6g からなる溶液を作製し、コーティング
液とした。
As shown in Table 1, an aqueous titanium chloride solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, containing 16 to 17 wt% of Ti, C
11.52 wt%) 14.52 g, polyvinylpyrrolidone (Tokyo Kasei Co., Ltd., average molecular weight 10,000) 2.78 g
A solution of 40.6 g of water was prepared as a coating solution.

【0056】このコーティング液を用い、実施例1と同
様にしてガラス基板上にゲルコーティング膜を作製し、
これを700℃で10min で熱処理することにより、膜
厚0.1μm のTiO2 セラミックコーティング膜を得
た。図4に示す可視紫外吸収スペクトルに見られるよう
に、焼成膜は良好な可視光透過性を示した。
Using this coating solution, a gel coating film was prepared on a glass substrate in the same manner as in Example 1,
This was heat-treated at 700 ° C. for 10 minutes to obtain a TiO 2 ceramic coating film having a film thickness of 0.1 μm. As seen in the visible-ultraviolet absorption spectrum shown in FIG. 4, the baked film exhibited good visible light transmittance.

【0057】〔実施例4〕オキシ塩化ジルコニウムとポ
リビニルヒロリドンを含む水溶液からのZrO2コーテ
ィング膜の作製。
Example 4 Preparation of a ZrO 2 coating film from an aqueous solution containing zirconium oxychloride and polyvinyl hyrrolidone.

【0058】表1に示すように、室温下、オキシ塩化ジ
ルコニウム8水和物(和光純薬工業社製)16.1g 、
ポリビニルピロリドン(東京化成社製、平均分子量1
0,000)7.1g 、水50.0g からなる溶液を作
製し、コーティング液とした。
As shown in Table 1, 16.1 g of zirconium oxychloride octahydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) at room temperature,
Polyvinylpyrrolidone (Tokyo Kasei Co., average molecular weight 1
50,000) 7.1 g and water 50.0 g to prepare a coating solution.

【0059】このコーティング液を用い、実施例1と同
様にしてガラス基板上にゲルコーティング膜を作製し、
熱処理することにより、膜厚0.08μm のZrO2
ラミックコーティング膜を得た。
Using this coating solution, a gel coating film was prepared on a glass substrate in the same manner as in Example 1,
By heat treatment, a ZrO 2 ceramic coating film having a film thickness of 0.08 μm was obtained.

【0060】得られたコーティング膜の可視紫外吸収ス
ペクトルを図2に、X線回折パターンを図3にそれぞれ
示す。焼成膜ほ平滑な表面を有し、また、図2の可視紫
外吸収スペクトルに見られるように良好な可視光透過性
を示した。また、図3に示す焼成膜のX線回折パターン
には立方晶ジルコニア相(及び斜方晶ジルコニア相)な
らびに単斜晶ジルコニア相が見られた。
The visible-ultraviolet absorption spectrum and the X-ray diffraction pattern of the obtained coating film are shown in FIG. 2 and FIG. 3, respectively. The fired film had a smooth surface and exhibited good visible light transmittance as seen in the visible ultraviolet absorption spectrum of FIG. In addition, a cubic zirconia phase (and an orthorhombic zirconia phase) and a monoclinic zirconia phase were found in the X-ray diffraction pattern of the fired film shown in FIG.

【0061】〔実施例5〕オキシ塩化ジルコニウムとポ
リアクリルアミドを含む水溶液からのZrO2 コーテイ
ング膜の作製。
Example 5 Preparation of a ZrO 2 coating film from an aqueous solution containing zirconium oxychloride and polyacrylamide.

【0062】表1に示すように、室温下、オキシ塩化ジ
ルコニウム8水和物(和光純薬工業社製)16.1g 、
ポリアクリルアミド水溶液(アルドリッチ社製、ポリア
クリルアミド50wt%含有、平均分子量10,000)
7.1g 、水43.8g からなる溶液を作製し、コーテ
ィング液とした。
As shown in Table 1, 16.1 g of zirconium oxychloride octahydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) at room temperature,
Aqueous polyacrylamide solution (manufactured by Aldrich, containing 50 wt% of polyacrylamide, average molecular weight 10,000)
A solution consisting of 7.1 g and 43.8 g of water was prepared as a coating solution.

【0063】このコーティング液を用い、実施例1と同
様にしてガラス基板上にゲルコーティング膜を作製し、
熱処理することにより、膜厚0.09μm のZrO2
ラミックコーティング膜を得た。
Using this coating solution, a gel coating film was prepared on a glass substrate in the same manner as in Example 1,
By heat treatment, a ZrO 2 ceramic coating film having a thickness of 0.09 μm was obtained.

【0064】得られたコーティング膜の可視紫外吸収ス
ペクトルを図2に、X線回折パターンを図3にそれぞれ
示す。焼成膜は緻密な断面と平滑な表面を有し、また、
図2の可視紫外吸収スペクトルに見られるように良好な
可視光透過性を示した。また、図3に示す焼成膜のX線
回折パターンには立方晶ジルコニア相(及び斜方晶ジル
コニア相)が見られた。
The visible-ultraviolet absorption spectrum and the X-ray diffraction pattern of the obtained coating film are shown in FIG. 2 and FIG. 3, respectively. The fired film has a dense cross section and a smooth surface.
As shown in the visible-ultraviolet absorption spectrum of FIG. 2, it showed good visible light transmittance. A cubic zirconia phase (and an orthorhombic zirconia phase) was found in the X-ray diffraction pattern of the fired film shown in FIG.

【0065】〔実施例6〕チタンビスアンモニウムラク
タートとポリビニルピロリドンを含む水溶液からのBa
TiO3 コーティング膜の作製。
Example 6 Ba from an aqueous solution containing titanium bisammonium lactate and polyvinylpyrrolidone
Preparation of TiO 3 coating film.

【0066】表1に示すように、室温下、チタンビスア
ンモニウムラクタート2水酸化物水溶液(アルドリッチ
社製チタンビスアンモニウムラクタート2水酸化物50
wt%含有)24.77g ,ポリビニルピロリドン(東京
化成社製、平均分子量10,000)2.341g 、酢
酸バリウム10.757g 、水2.973g からなる溶
液を作製し、コーティング液とした。
As shown in Table 1, at room temperature, an aqueous solution of titanium bisammonium lactate dihydroxide (Titanium bisammonium lactate dihydroxide 50 manufactured by Aldrich) was used.
wt%) 24.77 g, polyvinylpyrrolidone (Tokyo Kasei Co., Ltd., average molecular weight 10,000) 2.341 g, barium acetate 10.757 g, and water 2.973 g to prepare a coating solution.

【0067】このコーティング液を用い、実施例1と同
様にしてガラス基板上にゲルコーティング膜を作製し、
これを700℃にて10min で熱処理することにより、
透光性のある膜厚0.35μm のBaTiO3 セラミッ
クコーティング膜を得た。
Using this coating solution, a gel coating film was prepared on a glass substrate in the same manner as in Example 1,
By heat-treating this at 700 ° C for 10 minutes,
A transparent BaTiO 3 ceramic coating film having a thickness of 0.35 μm was obtained.

【0068】得られたコーティング膜のX線回折パター
ンを図5に示す。このX線回折パターンに見られるよう
に、焼成膜はBaTiO3 単一相であった。
The X-ray diffraction pattern of the obtained coating film is shown in FIG. As seen in this X-ray diffraction pattern, the fired film was a BaTiO 3 single phase.

【0069】[0069]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、粘度の経
時変化が少なく、成膜性のよいコーティング液と、これ
をコーティング液として製造されるゲル膜を焼成するこ
とによって、亀裂がなく、表面平滑性に優れ、透光性を
有するセラミック薄膜を得ることができる金属酸化物薄
膜形成用水溶性コーティング液およびセラミックコーテ
ィング膜の製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, a coating liquid having a small change in viscosity with time and having a good film-forming property, and a gel film produced by using the coating liquid as a coating liquid are fired without cracks. It is possible to provide a water-soluble coating liquid for forming a metal oxide thin film and a method for producing a ceramic coating film, which is capable of obtaining a ceramic thin film having excellent surface smoothness and translucency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1で形成されたセラミック薄膜の表面S
EM写真である。
FIG. 1 is a surface S of a ceramic thin film formed in Example 1.
It is an EM photograph.

【図2】実施例1,2,4,5で得られたセラミック薄
膜の可視紫外吸収スペクトルを示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing visible-ultraviolet absorption spectra of the ceramic thin films obtained in Examples 1, 2, 4, and 5.

【図3】実施例1,2,4,5で得られたセラミック薄
膜のX線回折パターンを示す図である。
FIG. 3 is a view showing an X-ray diffraction pattern of the ceramic thin films obtained in Examples 1, 2, 4, and 5.

【図4】実施例3で得られたセラミック薄膜の可視紫外
吸収スペクトルを示す図である。
FIG. 4 is a view showing a visible-ultraviolet absorption spectrum of the ceramic thin film obtained in Example 3.

【図5】実施例6で得られたセラミック薄膜のX線回折
パターンを示す図である。
5 is a diagram showing an X-ray diffraction pattern of the ceramic thin film obtained in Example 6. FIG.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J038 AA011 CF051 CG171 CK031 GA09 HA081 HA086 HA131 HA136 HA241 HA246 HA261 HA266 HA331 HA336 HA371 HA376 MA08 MA09 PA19 PB01 PB06 PB08 PB09 PB11   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4J038 AA011 CF051 CG171 CK031                       GA09 HA081 HA086 HA131                       HA136 HA241 HA246 HA261                       HA266 HA331 HA336 HA371                       HA376 MA08 MA09 PA19                       PB01 PB06 PB08 PB09 PB11

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも水溶性金属塩と、アミド基を
有する有機高分子とが水に溶解されている金属酸化物薄
膜形成用水溶性コーティング液。
1. A water-soluble coating liquid for forming a metal oxide thin film, wherein at least a water-soluble metal salt and an organic polymer having an amide group are dissolved in water.
【請求項2】 前記水溶性金属塩は、硫酸鉛、硝酸塩、
オキシ塩化物、カルボン酸塩、およびハロゲン化物のい
ずれか1種または2種以上である請求項1の金属酸化物
薄膜形成用水溶性コーティング液。
2. The water-soluble metal salt is lead sulfate, nitrate,
The water-soluble coating liquid for forming a metal oxide thin film according to claim 1, which is one kind or two or more kinds selected from an oxychloride, a carboxylate, and a halide.
【請求項3】 前記アミド基を有する有機高分子は、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルアセトアミド、およびポ
リビニルピロリドンのいずれか1種または2種以上であ
る請求項1または2の金属酸化物薄膜形成用水溶性コー
ティング液。
3. The water-soluble coating liquid for forming a metal oxide thin film according to claim 1, wherein the organic polymer having an amide group is one or more of polyacrylamide, polyvinylacetamide, and polyvinylpyrrolidone. .
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかの金属酸化物薄
膜形成用水溶性コーティング液を基材上に塗布し、焼成
してセラミックコーティング膜を得るセラミックコーテ
ィング膜の製造方法。
4. A method for producing a ceramic coating film, which comprises applying the water-soluble coating liquid for forming a metal oxide thin film according to any one of claims 1 to 3 on a base material and firing the coating liquid to obtain a ceramic coating film.
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JP2009181826A (en) * 2008-01-31 2009-08-13 Ushio Inc Excimer lamp
JP2013105668A (en) * 2011-11-15 2013-05-30 Nippon Shokubai Co Ltd Composite and manufacturing method of the same

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