JP2001233604A - Application solution for forming thin oxide film, method for producing the same and method for producing thin oxide film - Google Patents

Application solution for forming thin oxide film, method for producing the same and method for producing thin oxide film

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JP2001233604A
JP2001233604A JP2000047388A JP2000047388A JP2001233604A JP 2001233604 A JP2001233604 A JP 2001233604A JP 2000047388 A JP2000047388 A JP 2000047388A JP 2000047388 A JP2000047388 A JP 2000047388A JP 2001233604 A JP2001233604 A JP 2001233604A
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film
metal
oxide
coating
thin film
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JP2000047388A
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Japanese (ja)
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Toshimi Fukui
俊巳 福井
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Kansai Research Institute KRI Inc
Original Assignee
Kansai Research Institute KRI Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an application solution, excellent in film-forming properties, moisture resistance and stability for a long time, giving a coating film capable of being baked at a low temperature after film formation and capable of forming a thin oxide film having good film properties. SOLUTION: In preparing an application solution containing a metal oxide or its precursor by hydrolyzing a metal alkoxide, the metal alkoxide is hydrolyzed in an organic solvent containing an alkoxyalcohol with water in 0.1-10 molar ratio to the metal alkoxide.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、誘電体薄膜、導
電体薄膜、圧電体薄膜、半導体薄膜などの酸化物薄膜を
液相法により形成する場合に使用される酸化物薄膜形成
用塗布液、および、その塗布液を製造する方法、ならび
に、塗布液を使用して酸化物薄膜を形成する方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating liquid for forming an oxide thin film used for forming an oxide thin film such as a dielectric thin film, a conductive thin film, a piezoelectric thin film, and a semiconductor thin film by a liquid phase method. The present invention also relates to a method for producing the coating liquid and a method for forming an oxide thin film using the coating liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】液相法により金属酸化物の薄膜を基体の
表面に形成するには、一般に金属アルコキシドを出発原
料として使用し、それを加水分解させて金属酸化物また
はその前駆体を含有する塗布液を調製した後、その塗布
液を基体の表面に塗布し、乾燥させた後、塗布膜を適当
な温度で加熱処理して、金属酸化物を結晶化させるよう
にする。この場合において、金属アルコキシドを加水分
解させて調製された塗布液は、通常、完全非水系であ
り、大気中の湿度を含め水分に対して非常に敏感であ
る。このため、塗布液の調製後から成膜までの間に、塗
布液が大気中の水分の影響を受けて加水分解が進行し、
塗布液が不均質となって、均質な成膜を行うことができ
なかったり、塗布液の保存中に塗布液が大気中の水分の
影響を受けて不均質になる、といったことが起こる。
2. Description of the Related Art In order to form a metal oxide thin film on the surface of a substrate by a liquid phase method, a metal alkoxide is generally used as a starting material, which is hydrolyzed to contain a metal oxide or a precursor thereof. After preparing the coating solution, the coating solution is applied to the surface of the substrate and dried, and then the coating film is heated at an appropriate temperature to crystallize the metal oxide. In this case, the coating solution prepared by hydrolyzing the metal alkoxide is usually a completely non-aqueous solution, and is very sensitive to moisture including atmospheric humidity. Therefore, during the period from the preparation of the coating solution to the film formation, the coating solution is hydrolyzed under the influence of moisture in the atmosphere,
The coating liquid becomes inhomogeneous, making it impossible to form a uniform film, or during storage of the coating liquid, the coating liquid becomes inhomogeneous under the influence of moisture in the atmosphere.

【0003】そこで、塗布液の成膜性、耐湿性および長
期安定性を改善するための方法の1つとして、塗布液に
各種の有機配位子を添加して塗布液の安定化を図る方法
が提案されている。例えば、アルミニウム-s-ブトキシ
ドを出発原料としたアルミナ薄膜の形成では、β−ジケ
トンが有効である(日本セラミックス協会学術論文誌、
97、396(1989))。チタンイソプロポキシド
を出発原料としたチタニア薄膜の形成では、1,3−ブ
タンジオール(小柴寿夫、豊橋技術科学大学博士論文、
平成5年3月)、ジエタノールアミン(ジャーナル・オ
ブ・マテリアルズ・サイエンス(Journal of
Materials Science)、23、22
59(1988))、またはβ−ジケトン(日本セラミ
ックス協会学術論文誌、97、183(1989))が
有効であることがそれぞれ報告されている。ジルコニウ
ム−n−ブトキシドを出発原料としたジルコニア薄膜の
形成では、ジエチレングリコールの使用が有効であるこ
とが報告されている(窯業協会誌、95、942(19
87))。β−ジケトンやアルカノールアミンの使用
が、PbTiOやPb(Zr,Ti)Oなどの複合
酸化物の合成にも有効であるとの報告が、ジャーナル・
オブ・アメリカン・セラミックス・ソサイアティ(Jo
urnal of American Ceramic
s Society)、74、1407(1991)や
ジャーナル・オブ・マテリアルズ・サイエンス、25
3960(1990)に開示されている。また、
Therefore, as one of the methods for improving the film forming property, moisture resistance and long-term stability of a coating solution, a method of stabilizing the coating solution by adding various organic ligands to the coating solution. Has been proposed. For example, β-diketone is effective for forming an alumina thin film using aluminum-s-butoxide as a starting material (Academic Journal of the Ceramic Society of Japan,
97 , 396 (1989)). In forming a titania thin film using titanium isopropoxide as a starting material, 1,3-butanediol (Toshio Koshiba, doctoral dissertation, Toyohashi University of Technology,
March 1993), diethanolamine (Journal of Materials Science (Journal of Materials)
Materials Science), 23 , 22
59 (1988)) or β-diketone (Academic Journal of the Ceramic Society of Japan, 97 , 183 (1989)) is reported to be effective. It has been reported that the use of diethylene glycol is effective in forming a zirconia thin film using zirconium-n-butoxide as a starting material (Ceramic Industry Association, 95 , 942 (19)
87)). Journals report that the use of β-diketones and alkanolamines is also effective in the synthesis of complex oxides such as PbTiO 3 and Pb (Zr, Ti) O 3.
Of American Ceramic Society (Jo
urnal of American Ceramic
s Society), 74 , 1407 (1991) and Journal of Materials Science, 25 ,
3960 (1990). Also,

【0004】また、塗布液の成膜性、耐湿性および長期
安定性を改善するために塗布液の安定化を図る別の方法
として、例えば、フィジックス・オブ・チン・フィルム
(Physics of Tin Film)、、p
87(1969)、アカデミック・プレス(Acade
mic Press)には、塩化物、硫酸塩、硝酸塩、
アンモニウム塩などの各種無機塩の加水分解およびアク
ア錯体を利用した酸化物薄膜の製造方法が報告されてい
る。また、特開平9−12354号公報には、カルボン
酸バリウム、カルボン酸ストロンチウムおよびチタンア
ルコキシドを、カルボン酸とエステルとの混合溶剤に混
合して、Ba1−xSrTi薄膜形成用塗布液
を調製する方法が開示されている。さらに、特開平10
−87329号公報には、金属アルコキシドをカルボキ
シル化、β−ジケトン化、キレート化等の処理により、
安定性に優れたTi系複合酸化物薄膜形成用塗布液を得
る技術が開示されている。
As another method for stabilizing a coating solution in order to improve the film forming property, moisture resistance and long-term stability of the coating solution, for example, a Physics of Tin Film is available. , 5 , p
87 (1969), Academic Press (Acade)
mic Press) includes chloride, sulfate, nitrate,
A method for producing an oxide thin film using hydrolysis of various inorganic salts such as ammonium salts and an aqua complex has been reported. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-12354 discloses a method of forming a Ba 1-x Sr x Ti y O 3 thin film by mixing barium carboxylate, strontium carboxylate and titanium alkoxide in a mixed solvent of a carboxylic acid and an ester. A method for preparing a coating solution is disclosed. Further, Japanese Patent Application Laid-Open
No. 87329 discloses that a metal alkoxide is subjected to a treatment such as carboxylation, β-diketonation, or chelation.
There is disclosed a technique for obtaining a coating liquid for forming a Ti-based composite oxide thin film having excellent stability.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記したように有機配
位子の添加により塗布液を安定化させる方法によると、
均質な塗布液を容易に調製することができるが、得られ
た塗布膜中に多くの有機物が残留することになる。この
結果、その残留物の除去のために塗布膜を500℃程度
の高温で加熱処理することが必要になる。また、塗布膜
中に多くの有機物が残存するため、塗布膜を加熱処理す
ると膜の重量減少が大きくなる。言い換えると、塗布膜
からの有機物の除去によって膜中に多くの気孔が生成
し、欠陥となり易い。一方、膜の微細組織を改善するた
めには、余分なエネルギーが必要となる。
According to the method for stabilizing a coating solution by adding an organic ligand as described above,
Although a homogeneous coating solution can be easily prepared, many organic substances remain in the obtained coating film. As a result, it is necessary to heat-treat the coating film at a high temperature of about 500 ° C. to remove the residue. Further, since many organic substances remain in the coating film, heat treatment of the coating film greatly reduces the weight of the film. In other words, many pores are generated in the film due to the removal of the organic matter from the coating film, which is likely to be a defect. On the other hand, extra energy is required to improve the microstructure of the film.

【0006】また、特開平9−12354号公報や特開
平10−87329号公報に開示された酸化物薄膜形成
用塗布液も、それを用いて成膜したときに塗布膜中に多
くの有機物が残留することになり、有機配位子を使用す
る場合と同様の問題点がある。
[0006] Further, the coating liquid for forming an oxide thin film disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-12354 and 10-87329 also has many organic substances in the coating film when a film is formed using the same. It remains and has the same problems as when an organic ligand is used.

【0007】なお、上記したように金属塩を用いる方法
は、基本的には熱分解法であり、加熱処理後の膜質に多
くの問題を生じることになる。
[0007] As described above, the method using a metal salt is basically a thermal decomposition method, and causes many problems in the film quality after the heat treatment.

【0008】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、成膜性、耐湿性および長期安定性に
優れ、かつ、成膜後に塗布膜を低温で焼成することがで
き、良好な膜質の酸化物薄膜を形成することが可能であ
る塗布液を提供すること、および、そのような酸化物薄
膜形成用塗布液を製造するための塗布液の製造方法を提
供すること、ならびに、塗布液を使用して基体の表面に
酸化物薄膜を形成するための酸化物薄膜の製造方法を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has excellent film-forming properties, moisture resistance and long-term stability, and can fire a coating film at a low temperature after film formation. Providing a coating liquid capable of forming an oxide thin film having good film quality, and providing a method for producing a coating liquid for producing such a coating liquid for forming an oxide thin film; and It is another object of the present invention to provide a method for producing an oxide thin film for forming an oxide thin film on the surface of a substrate using a coating solution.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
金属酸化物および/またはその前駆体を含有する酸化物
薄膜形成用塗布液において、1種もしくは2種以上のア
ルコキシアルコールを主成分とする溶媒中に0.01重
量%〜10重量%、好ましくは0.1重量%〜5重量%
の水が含有されたことを特徴とする。
The invention according to claim 1 is
In the coating liquid for forming an oxide thin film containing a metal oxide and / or a precursor thereof, 0.01% by weight to 10% by weight, preferably in a solvent containing one or more alkoxy alcohols as a main component, preferably 0.1% by weight to 5% by weight
Of water.

【0010】請求項2に係る発明は、請求項1記載の塗
布液において、金属酸化物が、遷移金属酸化物、酸化セ
リウム(セリア)、化学式ABO(A:Ba、Srお
よびPbからなる群より選ばれた1種もしくは2種以上
の元素;B:Ti、Zr、GeおよびSnからなる群よ
り選ばれた1種もしくは2種以上の元素、あるいは、
A:Li、NaおよびKからなる群より選ばれた1種も
しくは2種以上の元素;B:V、NbおよびTaからな
る群より選ばれた1種もしくは2種以上の元素)で表わ
される複合酸化物およびその固溶体ならびに化学式C
(C:Ba、SrおよびPbからなる群より選
ばれた1種もしくは2種以上の元素;D:Nbおよび/
またはTa)で表わされる複合酸化物およびその固溶体
からなる群より選ばれた1種もしくは2種以上の酸化物
であることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the coating solution of the first aspect, the metal oxide is a group consisting of a transition metal oxide, cerium oxide (ceria), and a chemical formula of ABO 3 (A: Ba, Sr, and Pb). One or more elements selected from the group consisting of: B: one or more elements selected from the group consisting of Ti, Zr, Ge and Sn, or
A: a complex represented by one or more elements selected from the group consisting of Li, Na and K; B: one or more elements selected from the group consisting of V, Nb and Ta) Oxide and its solid solution and chemical formula C 2
D 2 O 7 (C: one or more elements selected from the group consisting of Ba, Sr and Pb; D: Nb and / or
Or one or more oxides selected from the group consisting of a composite oxide represented by Ta) and a solid solution thereof.

【0011】請求項3に係る発明は、1種もしくは2種
以上の金属アルコキシドを出発原料としてそれを加水分
解し、または、1種もしくは2種以上の金属アルコキシ
ドと1種もしくは2種以上の金属塩との混合物もしくは
それらの反応物を加水分解し、金属酸化物および/また
はその前駆体を含有する酸化物薄膜形成用塗布液を調製
する塗布液の製造方法において、1種もしくは2種以上
のアルコキシアルコールを含む有機溶剤中で、前記金属
アルコキシドに対するモル比または前記金属アルコキシ
ドおよび金属塩に対するモル比が0.1〜10、好まし
くは3〜10である量の水により金属アルコキシドを加
水分解することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, one or more metal alkoxides are used as a starting material and hydrolyzed, or one or more metal alkoxides and one or more metal alkoxides are used as starting materials. In a method for producing a coating solution for preparing a coating solution for forming an oxide thin film containing a metal oxide and / or a precursor thereof by hydrolyzing a mixture with a salt or a reaction product thereof, one or more kinds of Hydrolyzing a metal alkoxide with water in an amount of 0.1 to 10, preferably 3 to 10 in a molar ratio to the metal alkoxide or a molar ratio to the metal alkoxide and the metal salt in an organic solvent containing an alkoxy alcohol. It is characterized by.

【0012】請求項4に係る発明は、少なくとも金属ア
ルコキシドを出発原料とし、それを加水分解して、化学
式ABO(A:BaまたはSr;B:Ti、Zr、G
eおよびSnからなる群より選ばれた1種もしくは2種
以上の元素)で表わされる複合酸化物もしくはその固溶
体または化学式C(C:BaまたはSr;
D:Nbおよび/またはTa)で表わされる複合酸化物
もしくはその固溶体を含有する酸化物薄膜形成用塗布液
を調製する塗布液の製造方法において、BaまたはSr
の水酸化物水和物と元素BまたはDのアルコキシドと
を、1種もしくは2種以上のアルコキシアルコールを含
む有機溶剤中で混合し撹拌して、0.01重量%〜10
重量%、好ましくは0.1重量%〜5重量%の水が含有
された酸化物薄膜形成用塗布液を得ることを特徴とす
る。
According to a fourth aspect of the present invention, at least a metal alkoxide is used as a starting material, which is hydrolyzed to a chemical formula ABO 3 (A: Ba or Sr; B: Ti, Zr, G
a complex oxide represented by one or more elements selected from the group consisting of e and Sn), a solid solution thereof, or a chemical formula C 2 D 2 O 7 (C: Ba or Sr;
D: A method for producing a coating solution for preparing an oxide thin film containing a complex oxide represented by Nb and / or Ta) or a solid solution thereof, wherein Ba or Sr is used.
Hydroxide hydrate and an alkoxide of element B or D are mixed and stirred in an organic solvent containing one or more alkoxy alcohols to form a mixture of 0.01% by weight to 10% by weight.
The present invention is characterized in that a coating liquid for forming an oxide thin film containing water of 0.1% by weight, preferably 0.1% by weight to 5% by weight is obtained.

【0013】請求項5に係る発明は、金属アルコキシド
と金属塩との混合物またはそれらの反応物を加水分解し
て、化学式ABO(A:BaまたはSr;B:Ti、
Zr、GeおよびSnからなる群より選ばれた1種もし
くは2種以上の元素)で表わされる複合酸化物もしくは
その固溶体または化学式C(C:Baまたは
Sr;D:Nbおよび/またはTa)で表わされる複合
酸化物もしくはその固溶体を含有する酸化物薄膜形成用
塗布液を調製する塗布液の製造方法において、Baまた
はSrのアルコキシドまたは塩および水酸化物水和物と
元素BまたはDのアルコキシドまたは塩とを、1種もし
くは2種以上のアルコキシアルコールを含む有機溶剤中
で混合し撹拌または加熱撹拌した後、前記金属アルコキ
シドに対して0.1モル量〜10モル量の水を添加し、
0.01重量%〜10重量%、好ましくは0.1重量%
〜5重量%の水が含有された酸化物薄膜形成用塗布液を
得ることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, a mixture of a metal alkoxide and a metal salt or a reaction product thereof is hydrolyzed to give a chemical formula of ABO 3 (A: Ba or Sr; B: Ti,
A complex oxide represented by one or more elements selected from the group consisting of Zr, Ge and Sn) or a solid solution thereof or a chemical formula C 2 D 2 O 7 (C: Ba or Sr; D: Nb and / or Or a coating solution for preparing an oxide thin film-forming coating solution containing a complex oxide represented by Ta) or a solid solution thereof, comprising an alkoxide or salt of Ba or Sr and a hydroxide hydrate and an element B or After mixing with an alkoxide or a salt of D in an organic solvent containing one or more alkoxy alcohols and stirring or heating and stirring, 0.1 mol to 10 mol of water is added to the metal alkoxide. Add,
0.01% by weight to 10% by weight, preferably 0.1% by weight
It is characterized in that a coating liquid for forming an oxide thin film containing up to 5% by weight of water is obtained.

【0014】請求項6に係る発明は、請求項1もしくは
請求項2記載の塗布液または請求項3ないし請求項5の
いずれかに記載の製造方法によって得られた塗布液を用
いて成膜した後、塗布膜を加熱処理して、酸化物薄膜を
製造することを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, a film is formed by using the coating solution according to the first or second aspect or the coating solution obtained by the manufacturing method according to the third aspect. Thereafter, a heat treatment is performed on the coating film to produce an oxide thin film.

【0015】請求項1に係る発明の塗布液は、アルコキ
シアルコールを主成分とする溶媒中に適当な量の水が含
有されていることにより、大気中の水分の影響を受ける
ことがなく安定化する。また、水の存在により、成膜後
の残留有機物の除去に有効である。溶媒中の水の含有量
が10重量%を超えると、塗布液の安定性が低下する。
一方、溶媒中の水の含有量が0.01重量%より少ない
と、大気中の水分の影響を受けることになり、残留有機
物の除去の効果も低下する。そして、この塗布液は、有
機配位子などを含まなくても、安定化が可能である。ま
た、この塗布液は、有機配位子などの有機成分が共存し
たとしても、水の効果により成膜後の有機物の除去が容
易に行われる。したがって、この塗布液を用いて成膜し
たときは、塗布膜中に多くの有機物が残留する、といっ
たことが無くなる。溶媒中の水の含有量が0.1重量%
〜5重量%であると、成膜後の有機物の除去の効果がよ
り高まる。
The coating liquid according to the first aspect of the present invention is stabilized without being affected by moisture in the atmosphere by containing an appropriate amount of water in a solvent containing an alkoxy alcohol as a main component. I do. Further, the presence of water is effective for removing residual organic matter after film formation. When the content of water in the solvent exceeds 10% by weight, the stability of the coating solution is reduced.
On the other hand, if the content of water in the solvent is less than 0.01% by weight, it will be affected by moisture in the atmosphere, and the effect of removing residual organic substances will also be reduced. The coating liquid can be stabilized without containing an organic ligand or the like. In addition, even if an organic component such as an organic ligand coexists in this coating liquid, removal of organic matter after film formation is easily performed by the effect of water. Therefore, when a film is formed using this coating liquid, a large amount of organic substances does not remain in the coating film. 0.1% by weight of water in the solvent
When the content is 55% by weight, the effect of removing organic substances after film formation is further enhanced.

【0016】請求項2に係る発明の塗布液は、遷移金属
酸化物、酸化セリウムまたは複合酸化物の薄膜を形成す
るために使用される。
The coating solution of the invention according to claim 2 is used for forming a thin film of a transition metal oxide, cerium oxide or composite oxide.

【0017】請求項3に係る発明の製造方法によると、
金属アルコキシドを、それに対するモル比が0.1〜1
0である量の水により加水分解するので、または、金属
アルコキシドと金属塩との混合物もしくはそれらの反応
物を、それに対するモル比が0.1〜10である量の水
により加水分解するので、アルコキシアルコールを主成
分とする溶媒中に適当な量の水が含有された塗布液が調
製され、その塗布液は、大気中の水分の影響を受けるこ
とがなく安定化する。金属アルコキシドに対する水のモ
ル比または金属アルコキシドおよび金属塩に対する水の
モル比が10を超えると、塗布液がゲル化したり沈殿物
が生成したりして、塗布液の安定性が低下する。一方、
金属アルコキシドに対する水のモル比または金属アルコ
キシドおよび金属塩に対する水のモル比が0.1より少
ないと、金属アルコキシドの加水分解または金属アルコ
キシドおよび金属塩の加水分解に水が消費されてしま
い、所望する含水量の塗布液が得られず、塗布液が大気
中の水分の影響を受けることになる。そして、得られた
塗布液は、有機配位子などを含まなくても、安定化が可
能である。また、得られた塗布液は、有機配位子などの
有機成分が共存したとしても、水の効果により成膜後の
有機物の除去が容易に行われる。したがって、この塗布
液を用いて成膜したときは、塗布膜中に多くの有機物が
残留する、といったことが無くなる。金属アルコキシド
に対するモル比または金属アルコキシドおよび金属塩に
対するモル比が3〜10である量の水により加水分解を
行うときは、より適当な塗布液が調製され、その塗布液
は、成膜後の有機物の除去の効果がより高まる。
According to the manufacturing method of the third aspect of the present invention,
The metal alkoxide is used in a molar ratio of 0.1-1.
Hydrolysis by an amount of water which is 0, or a mixture of a metal alkoxide and a metal salt or a reaction product thereof is hydrolyzed by an amount of water having a molar ratio thereof of 0.1 to 10; A coating solution containing an appropriate amount of water in a solvent containing an alkoxy alcohol as a main component is prepared, and the coating solution is stabilized without being affected by atmospheric moisture. If the molar ratio of water to the metal alkoxide or the molar ratio of water to the metal alkoxide and the metal salt exceeds 10, the coating solution will gel or form a precipitate, and the stability of the coating solution will decrease. on the other hand,
If the molar ratio of water to metal alkoxide or the molar ratio of water to metal alkoxide and metal salt is less than 0.1, water is consumed for hydrolysis of metal alkoxide or hydrolysis of metal alkoxide and metal salt, which is desirable. A coating solution having a water content cannot be obtained, and the coating solution is affected by atmospheric moisture. Then, the obtained coating liquid can be stabilized without containing an organic ligand or the like. Further, even if an organic component such as an organic ligand coexists in the obtained coating liquid, removal of organic matter after film formation is easily performed by the effect of water. Therefore, when a film is formed using this coating liquid, a large amount of organic substances does not remain in the coating film. When the hydrolysis is carried out with an amount of water in which the molar ratio to the metal alkoxide or the molar ratio to the metal alkoxide and the metal salt is 3 to 10, a more appropriate coating solution is prepared, and the coating solution is an organic material after film formation. Removal effect is more enhanced.

【0018】請求項4に係る発明の製造方法において
は、BaまたはSrの水酸化物水和物が8水和物であ
り、その結晶水を用いて金属アルコキシドの加水分解が
行われる。この製造方法により、アルコキシアルコール
を主成分とする溶媒中に0.01重量%〜10重量%、
好ましくは0.1重量%〜5重量%の水が含有された塗
布液が得られ、その塗布液は、大気中の水分の影響を受
けることがなく安定化する。そして、得られた塗布液
は、有機配位子などを含まなくても、安定化が可能であ
る。また、得られた塗布液は、有機配位子などの有機成
分が共存したとしても、水の効果により成膜後の有機物
の除去が容易に行われる。したがって、この塗布液を用
いて成膜したときは、塗布膜中に多くの有機物が残留す
る、といったことが無くなる。
In the production method according to the fourth aspect of the invention, the hydroxide hydrate of Ba or Sr is octahydrate, and the metal alkoxide is hydrolyzed using the crystallization water. According to this production method, 0.01% by weight to 10% by weight in a solvent containing an alkoxy alcohol as a main component,
Preferably, a coating liquid containing 0.1 to 5% by weight of water is obtained, and the coating liquid is stabilized without being affected by atmospheric moisture. Then, the obtained coating liquid can be stabilized without containing an organic ligand or the like. Further, even if an organic component such as an organic ligand coexists in the obtained coating liquid, removal of organic matter after film formation is easily performed by the effect of water. Therefore, when a film is formed using this coating liquid, a large amount of organic substances does not remain in the coating film.

【0019】請求項5に係る発明の製造方法において
は、BaまたはSrの水酸化物水和物が8水和物であ
り、その結晶水を用いて金属アルコキシドおよび金属塩
の加水分解が行われる。この製造方法により、アルコキ
シアルコールを主成分とする溶媒中に0.01重量%〜
10重量%、好ましくは0.1重量%〜5重量%の水が
含有された塗布液が得られ、その塗布液は、大気中の水
分の影響を受けることがなく安定化する。そして、得ら
れた塗布液は、有機配位子などを含まなくても、安定化
が可能である。また、得られた塗布液は、有機配位子な
どの有機成分が共存したとしても、水の効果により成膜
後の有機物の除去が容易に行われる。したがって、この
塗布液を用いて成膜したときは、塗布膜中に多くの有機
物が残留する、といったことが無くなる。
In the method of the invention according to claim 5, the hydroxide hydrate of Ba or Sr is octahydrate, and the metal alkoxide and metal salt are hydrolyzed using the crystallization water. . According to this production method, 0.01% by weight or less in a solvent containing an alkoxy alcohol as a main component.
A coating liquid containing 10% by weight, preferably 0.1% to 5% by weight of water is obtained, and the coating liquid is stabilized without being affected by atmospheric moisture. Then, the obtained coating liquid can be stabilized without containing an organic ligand or the like. Further, even if an organic component such as an organic ligand coexists in the obtained coating liquid, removal of organic matter after film formation is easily performed by the effect of water. Therefore, when a film is formed using this coating liquid, a large amount of organic substances does not remain in the coating film.

【0020】請求項6に係る発明の製造方法によると、
安定な塗布液を用いて成膜するので、良好な膜質の酸化
物薄膜が得られる。また、成膜したときに、塗布膜中に
多くの有機物が残留する、といったことがないので、塗
布膜中からの残留物除去のために高温で塗布膜を加熱処
理する必要が無く、塗布膜を低温で焼成することがで
き、また、良好な微細組織を有する酸化物薄膜が得られ
る。
According to the manufacturing method of the invention according to claim 6,
Since the film is formed using a stable coating solution, an oxide thin film having good film quality can be obtained. Further, since a large amount of organic matter does not remain in the coating film when the film is formed, there is no need to heat-treat the coating film at a high temperature to remove the residue from the coating film. Can be fired at a low temperature, and an oxide thin film having a good microstructure can be obtained.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below.

【0022】この発明に係る酸化物薄膜形成用塗布液
は、金属酸化物またはその前駆体、あるいは金属酸化物
およびその前駆体を含有し、1種もしくは2種以上のア
ルコキシアルコールを主成分とする溶媒中に0.01重
量%〜10重量%、好ましくは0.1重量%〜5重量%
の水を含有している。このように、塗布液が適当な量の
水を含有していることにより、大気中の水分の影響を受
けることがなくなり、塗布液が安定化する。溶媒中の水
の含有量が10重量%を超えると、塗布液の安定性が低
下する。一方、溶媒中の水の含有量が0.01重量%よ
り少ないと、大気中の水分の影響を受けることになる。
そして、この塗布液は、塗布液を安定化させるための有
機配位子などを含んでいなくても、長期間にわたり安定
性が確保される。また、この塗布液は、有機配位子など
の有機成分が共存したとしても、水の効果により成膜後
の有機物の除去が容易である。
The coating liquid for forming an oxide thin film according to the present invention contains a metal oxide or a precursor thereof, or a metal oxide and a precursor thereof, and contains one or more alkoxy alcohols as main components. 0.01% by weight to 10% by weight, preferably 0.1% by weight to 5% by weight in the solvent
Contains water. As described above, since the coating liquid contains an appropriate amount of water, the coating liquid is not affected by atmospheric moisture, and the coating liquid is stabilized. When the content of water in the solvent exceeds 10% by weight, the stability of the coating solution is reduced. On the other hand, when the content of water in the solvent is less than 0.01% by weight, the solvent is affected by atmospheric moisture.
And, even if this coating solution does not contain an organic ligand or the like for stabilizing the coating solution, stability is ensured for a long period of time. Further, even if an organic component such as an organic ligand coexists in this coating liquid, removal of organic matter after film formation is easy due to the effect of water.

【0023】この発明を適用することが可能である酸化
物薄膜は、金属アルコキシドまたは金属塩を出発原料と
して金属酸化物またはその前駆体の塗布液が得られるも
のであれば、どのようなものでもよく、特に限定されな
い。例えば、金属酸化物として、遷移金属酸化物、例え
ば第4A族元素または第5A族元素の酸化物、酸化セリ
ウム、化学式ABOで表わされる複合酸化物またはそ
の固溶体、化学式Cで表わされる複合酸化物
またはその固溶体などが挙げられる。前記の各化学式
中、Aは、Ba、SrもしくはPb、またはそれらの元
素のうちの複数を組み合わせたものであり、Bは、T
i、Zr、GeもしくはSn、またはそれらの元素のう
ちの複数を組み合わせたものである。あるいは、Aは、
Li、NaもしくはK、またはそれらの元素のうちの複
数を組み合わせたものであり、Bは、V、Nbもしくは
Ta、またはそれらの元素のうちの複数を組み合わせた
ものである。また、Cは、Ba、SrまたはPb、ある
いはそれらの元素のうちの複数を組み合わせたものであ
り、Dは、NbまたはTa、あるいはNbおよびTaを
組み合わせたものである。これら複合酸化物の特性改善
のために、例えばLa、Bi、Mn等の遷移金属など、
一般に知られている微量添加成分を添加することも可能
である。そして、この塗布液を使用して、誘電体薄膜、
導電体薄膜、圧電体薄膜、半導体薄膜など、各種の酸化
物薄膜が形成される。
The oxide thin film to which the present invention can be applied is not particularly limited as long as a coating solution of a metal oxide or a precursor thereof can be obtained from a metal alkoxide or a metal salt as a starting material. Well, there is no particular limitation. For example, as the metal oxide, a transition metal oxide, for example, an oxide of a Group 4A element or a Group 5A element, cerium oxide, a composite oxide represented by the chemical formula ABO 3 or a solid solution thereof, and a chemical formula C 2 D 2 O 7 Or a solid solution thereof. In each of the above chemical formulas, A is Ba, Sr or Pb, or a combination of a plurality of these elements, and B is T
i, Zr, Ge or Sn, or a combination of a plurality of these elements. Alternatively, A is
Li, Na, or K, or a combination of a plurality of these elements, and B is V, Nb, or Ta, or a combination of a plurality of these elements. C is Ba, Sr or Pb, or a combination of a plurality of these elements, and D is Nb or Ta, or a combination of Nb and Ta. In order to improve the characteristics of these composite oxides, for example, transition metals such as La, Bi, Mn, etc.
It is also possible to add a generally known trace addition component. Then, using this coating solution, a dielectric thin film,
Various oxide thin films such as a conductor thin film, a piezoelectric thin film, and a semiconductor thin film are formed.

【0024】この塗布液は、1種もしくは2種以上の金
属アルコキシドを出発原料としてそれを加水分解するこ
とにより、あるいは、1種もしくは2種以上の金属アル
コキシドと1種もしくは2種以上の金属塩との混合物ま
たはそれらの反応物を加水分解することにより調製され
る。この際、1種もしくは2種以上のアルコキシアルコ
ールを含む有機溶剤中で、金属アルコキシドに対するモ
ル比または金属アルコキシドおよび金属塩に対するモル
比が0.1〜10、好ましくは3〜10である量の水に
より、加水分解を行うようにする。このように従来に比
べて多い量の水により加水分解することにより、アルコ
キシアルコールを主成分とする溶媒中に適当な量の水が
含有された塗布液が調製される。金属アルコキシドまた
は金属アルコキシドおよび金属塩に対する水のモル比が
10を超えると、塗布液がゲル化したり沈殿物が生成し
たりして、塗布液の安定性が低下する。一方、金属アル
コキシドまたは金属アルコキシドおよび金属塩に対する
水のモル比が0.1より少ないと、金属アルコキシドま
たは金属アルコキシドおよび金属塩の加水分解に水が消
費されてしまい、所望する含水量の塗布液が得られなく
なる。また、この製造方法では、塗布液を安定化させる
目的で有機配位子を添加したりしない。
This coating solution is prepared by hydrolyzing one or more metal alkoxides as a starting material, or one or two or more metal alkoxides and one or more metal salts. Or a mixture thereof or a reaction product thereof by hydrolysis. In this case, in an organic solvent containing one or more alkoxy alcohols, an amount of water having a molar ratio to the metal alkoxide or a molar ratio to the metal alkoxide and the metal salt of 0.1 to 10, preferably 3 to 10, is used. To perform hydrolysis. In this way, by performing hydrolysis with a larger amount of water than in the prior art, a coating liquid containing an appropriate amount of water in a solvent containing an alkoxy alcohol as a main component is prepared. When the molar ratio of water to the metal alkoxide or the metal alkoxide and the metal salt exceeds 10, the coating solution gels or precipitates are generated, and the stability of the coating solution is reduced. On the other hand, when the molar ratio of water to the metal alkoxide or the metal alkoxide and the metal salt is less than 0.1, water is consumed for hydrolysis of the metal alkoxide or the metal alkoxide and the metal salt, and a coating solution having a desired water content is obtained. No longer available. Further, in this production method, no organic ligand is added for the purpose of stabilizing the coating solution.

【0025】使用可能な金属アルコキシドまたは金属塩
としては、周期律表の第2周期から第6周期までのアル
カリ金属元素、アルカリ土類金属元素および第3B族元
素、周期律表の第3周期から第6周期までの第4B族元
素および第5B族元素、遷移金属元素、ランタノイド元
素などの金属アルコキシドまたは金属塩が挙げられる
が、特に限定されるものではない。金属塩としては、酢
酸塩などの有機酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、塩化物など
が使用される。また、前記元素の、2種以上の金属アル
コキシド間での反応により得られた複合アルコキシド、
あるいは、1種もしくは2種以上の金属アルコキシドと
1種もしくは2種以上の金属塩との反応により得られた
複合アルコキシドであってもよい。さらには、これらを
組み合わせて使用することも可能である。金属アルコキ
シドと金属塩との反応物により得られる金属酸化物は、
具体的にはPb(Zr1−xTi)O(0≦x≦
1)、Pb(B1,B2)Oなどの鉛系のペロブスカ
イト型複合酸化物である。この場合において、使用する
金属塩は、酢酸鉛が最も好適である。また、Pb(B
1,B2)Oでは、B1元素であるMg、Zn、N
i、Mn、Fe、Co等のアルコキシドまたは金属塩が
使用されるが、好ましくは酢酸塩が使用される。また、
Mgは、金属として添加して溶剤と反応させるのがより
好ましい。
Examples of usable metal alkoxides or metal salts include alkali metal elements, alkaline earth metal elements and Group 3B elements from the second period to the sixth period of the periodic table, and the third period of the periodic table. Examples include metal alkoxides or metal salts such as Group 4B and Group 5B elements up to the sixth period, transition metal elements, lanthanoid elements, etc., but are not particularly limited. Organic salts such as acetates, oxalates, nitrates, chlorides and the like are used as metal salts. A composite alkoxide obtained by a reaction between two or more metal alkoxides of the element;
Alternatively, it may be a composite alkoxide obtained by reacting one or more metal alkoxides with one or more metal salts. Furthermore, these can be used in combination. A metal oxide obtained by a reaction product of a metal alkoxide and a metal salt,
Specifically, Pb (Zr 1-x Ti x ) O 3 (0 ≦ x ≦
1), a Pb (B1, B2) perovskite-type composite oxide of lead-based, such as O 3. In this case, the metal salt used is most preferably lead acetate. Also, Pb (B
1, B2) O 3 includes B1, Mg, Zn, N
Alkoxides or metal salts such as i, Mn, Fe, and Co are used, and preferably acetate is used. Also,
Mg is more preferably added as a metal and reacted with a solvent.

【0026】金属アルコキシドのアルコキシル基の炭素
数は特に限定されないが、含有酸化物濃度、有機物の脱
離の容易さ、入手の容易さなどからは、炭素数が1〜4
であるものが好ましい。また、1種もしくは2種以上の
金属アルコキシドと1種もしくは2種以上の金属塩との
反応により得られる複合アルコキシドとしては、塩化
物、硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩や蟻酸塩等の有機酸塩、シ
ュウ酸塩などの金属塩とアルコキシドとの反応により得
られる化合物が用いられる。
The number of carbon atoms of the alkoxyl group of the metal alkoxide is not particularly limited. However, the number of carbon atoms is preferably 1 to 4 depending on the concentration of the oxide contained, the ease of desorption of organic substances, and the availability.
Is preferred. Complex alkoxides obtained by reacting one or more metal alkoxides with one or more metal salts include organic acid salts such as chlorides, nitrates, sulfates, acetates and formates. And a compound obtained by reacting a metal salt such as oxalate with an alkoxide.

【0027】溶媒として使用されるアルコキシアルコー
ルとしては、2−メトキシエタノール(エチレングリコ
ールモノメチルエーテル)、2−エトキシエタノール
(エチレングリコールモノエチルエーテル)、2−プロ
ポキシエタノール(エチレングリコールモノプロピルエ
ーテル)、2−ブトキシエタノール(エチレングリコー
ルモノブチルエーテル)、1−メトキシ−2−プロパノ
ール(1,2−プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル)、3−メトキシプロパノール(1,3−プロピレン
グリコールモノメチルエーテル)、3−エトキシプロパ
ノール(1,3−プロピレングリコールモノエチルエー
テル)、3−プロポキシプロパノール(1,3−プロピ
レングリコールモノプロピルエーテル)、4−メトキシ
ブタノール(ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル)、4−エトキシブタノール(ジエチレングリコール
モノエチルエーテル)、4−プロポキシブタノール(ジ
エチレングリコールモノプロピルエーテル)などが挙げ
られるが、これらのものに特に限定されない。また、こ
れらのアルコキシアルコールは、単独であるいは2種以
上のものを組み合わせて使用される。好ましくは、2−
メトキシエタノール、2−エトキシエタノールまたは1
−メトキシ−2−プロパノールが、溶媒として使用され
る。
As the alkoxy alcohol used as a solvent, 2-methoxyethanol (ethylene glycol monomethyl ether), 2-ethoxyethanol (ethylene glycol monoethyl ether), 2-propoxyethanol (ethylene glycol monopropyl ether), Butoxyethanol (ethylene glycol monobutyl ether), 1-methoxy-2-propanol (1,2-propylene glycol monomethyl ether), 3-methoxypropanol (1,3-propylene glycol monomethyl ether), 3-ethoxypropanol (1,3 -Propylene glycol monoethyl ether), 3-propoxypropanol (1,3-propylene glycol monopropyl ether), 4-methoxybutanol (diethyl Glycol monomethyl ether), 4-ethoxy-butanol (diethylene glycol monoethyl ether), 4-propoxy-butanol (although diethylene glycol monopropyl ether) include, but are not particularly limited to these. These alkoxy alcohols are used alone or in combination of two or more. Preferably, 2-
Methoxyethanol, 2-ethoxyethanol or 1
-Methoxy-2-propanol is used as solvent.

【0028】また、化学式ABOまたはC
で表わされる複合酸化物もしくはその固溶体を含有する
酸化物薄膜形成用塗布液を調製するのに、以下のような
方法を用いることもできる。前記の化学式中、Aおよび
Cはそれぞれ、BaまたはSrであり、Bは、Ti、Z
r、GeもしくはSn、またはそれらの元素のうちの複
数を組み合わせたものであり、また、Dは、Nbまたは
Ta、あるいはNbおよびTaを組み合わせたものであ
る。
Also, the chemical formula ABO 3 or C 2 D 2 O 7
The following method can also be used to prepare a coating solution for forming an oxide thin film containing the complex oxide represented by the formula (1) or a solid solution thereof. In the above formula, A and C are each Ba or Sr, and B is Ti, Z
r, Ge or Sn, or a combination of a plurality of these elements, and D is Nb or Ta, or a combination of Nb and Ta.

【0029】BaまたはSrの水酸化物水和物と元素B
またはDのアルコキシドとを出発原料として、それら
を、アルコキシアルコールを含む有機溶剤中で混合し撹
拌することにより、0.01重量%〜10重量%、好ま
しくは0.1重量%〜5重量%の水が含有された酸化物
薄膜形成用塗布液を調製する。また、BaまたはSrの
水酸化物水和物と元素BまたはDのアルコキシドまたは
塩とを出発原料とし、あるいは、BaまたはSrの水酸
化物水和物とBaまたはSrのアルコキシドまたは塩と
元素BまたはDのアルコキシドとを出発原料として、そ
れらを、アルコキシアルコールを含む有機溶剤中で混合
し撹拌することにより、水を添加することなしに0.0
1重量%〜10重量%、好ましくは0.1重量%〜5重
量%の水が含有された酸化物薄膜形成用塗布液を調製す
る。この手法は、他の複合アルコキシドと組み合わせて
行うことも可能である。
Hydroxide hydrate of Ba or Sr and element B
Alternatively, by using the alkoxide of D as a starting material and mixing and stirring them in an organic solvent containing an alkoxy alcohol, 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight is mixed. A coating liquid for forming an oxide thin film containing water is prepared. Further, a hydroxide hydrate of Ba or Sr and an alkoxide or salt of element B or D are used as starting materials, or a hydroxide hydrate of Ba or Sr and an alkoxide or salt of Ba or Sr are combined with an element B Alternatively, by using the alkoxide of D as a starting material and mixing and stirring them in an organic solvent containing an alkoxy alcohol, the mixture can be prepared without adding water to a concentration of 0.0
A coating liquid for forming an oxide thin film containing 1 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight of water is prepared. This method can be performed in combination with another complex alkoxide.

【0030】このように出発原料としてBaまたはSr
の水酸化物水和物を使用する方法では、BaまたはSr
の水酸化物水和物が8水和物であり、その結晶水を用い
て金属アルコキシドまたは金属塩の加水分解反応が進行
することになる。この製造方法では、アルコキシアルコ
ールを主成分とする溶媒中に0.01重量%〜10重量
%、好ましくは0.1重量%〜5重量%の水が含有され
た塗布液が得られるように、出発原料の種類および量が
選定される。
As described above, Ba or Sr is used as a starting material.
In the method using the hydroxide hydrate, Ba or Sr
Is an octahydrate, and the hydrolysis reaction of the metal alkoxide or metal salt proceeds using the water of crystallization. In this production method, a coating liquid containing 0.01% by weight to 10% by weight, preferably 0.1% by weight to 5% by weight of water in a solvent containing alkoxy alcohol as a main component is obtained. The type and amount of starting materials are selected.

【0031】上記したような製造方法により塗布液が得
られると、その塗布液を、成膜したい基体上に塗布する
ことにより、基体の表面に塗布膜を形成する。塗布の方
法として、ディップコート、スピンコート、フローコー
ト、バーコートなど、一般に実施されている方法を利用
することができる。そして、成膜後に塗布膜を加熱処理
することにより、金属酸化物を結晶化させる。この際の
加熱温度は、化合物により異なるが、例えばペロブスカ
イト型複合酸化物であれば300℃〜600℃程度であ
る。この製造方法によると、安定な塗布液を用いて成膜
するので、良好な膜質の酸化物薄膜が得られる。また、
塗布膜中から残留有機物を除去するために高温で塗布膜
を加熱処理する、といった必要が無いので、塗布膜を比
較的低温で焼成することができ、また、得られる酸化物
薄膜は、良好な微細組織を有することになる。
When a coating solution is obtained by the above-described manufacturing method, the coating solution is applied on a substrate on which a film is to be formed, thereby forming a coating film on the surface of the substrate. As a coating method, a generally practiced method such as dip coating, spin coating, flow coating, and bar coating can be used. Then, the metal oxide is crystallized by performing a heat treatment on the coating film after the film formation. The heating temperature at this time varies depending on the compound, but is, for example, about 300 ° C. to 600 ° C. for a perovskite-type composite oxide. According to this manufacturing method, since a film is formed using a stable coating solution, an oxide thin film having good film quality can be obtained. Also,
Since it is not necessary to heat-treat the coating film at a high temperature to remove residual organic substances from the coating film, the coating film can be fired at a relatively low temperature, and the obtained oxide thin film has a good quality. It will have a fine structure.

【0032】[0032]

【実施例】次に、この発明のより具体的な実施例につい
て説明する。
Next, a more specific embodiment of the present invention will be described.

【0033】〔実施例1〜14〕化学式M(OR)
(M:金属元素;n:Mの原子価)で表される金属ア
ルコキシドのアルコキシアルコール溶液を、イオン交換
蒸留水の10%アルコキシアルコール希釈液(HO/
n=1)で加水分解した。得られた加水分解液から、R
OHを主成分とする低沸点成分を減圧留去し、アルコキ
シアルコールを主成分とする透明なMOn/2塗布液を
得た。出発原料、溶剤の種類、溶液中における酸化物換
算重量濃度、水の添加量(HO/Mのモル比)、なな
らびに、塗布液の酸化物濃度および水分量を表1にまと
めて示す。表1の「溶剤の種類」の欄中(表3において
も同じ)、MEは2−メトキシエタノール、EEは2−
エトキシエタノール、MPは1−メトキシ−2−プロパ
ノールをそれぞれ示す。
Examples 1 to 14 Chemical formula M (OR)
n (M: metal element; n: valency of M) of an alkoxy alcohol solution of a metal alkoxide in a 10% alkoxy alcohol diluent (H 2 O /
n = 1). From the obtained hydrolyzate, R
The low boiling point component mainly composed of OH was distilled off under reduced pressure to obtain a transparent MOn / 2 coating liquid mainly composed of alkoxy alcohol. Table 1 shows the starting materials, the type of solvent, the weight concentration in terms of oxide in the solution, the amount of water added (molar ratio of H 2 O / M), and the oxide concentration and water content of the coating solution. . In the column of “Type of solvent” in Table 1 (the same applies to Table 3), ME is 2-methoxyethanol, EE is 2-methoxyethanol.
Ethoxyethanol and MP indicate 1-methoxy-2-propanol, respectively.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】得られた塗布液を用い、室温で湿度45
%、2000rpmの回転数で20秒間の条件で、Si
基板上に成膜した。続いて、塗布膜を100℃の温度で
乾燥させた後、各種の温度で30分間加熱処理した。こ
れにより、結晶性のMOn/2膜を得た。得られた酸化
物薄膜の膜厚および結晶化温度を表1にまとめて示す。
The obtained coating solution was used at room temperature and a humidity of 45.
%, At a rotation speed of 2000 rpm for 20 seconds.
A film was formed on a substrate. Subsequently, after the coating film was dried at a temperature of 100 ° C., heat treatment was performed at various temperatures for 30 minutes. Thus, a crystalline MOn / 2 film was obtained. Table 1 summarizes the thickness and crystallization temperature of the obtained oxide thin film.

【0036】〔比較例1〕Ti、Zr、Nb、Ta、C
e、VおよびWの各アルコキシドの2−ブタノール溶液
(酸化物換算濃度=2重量%)に、イオン交換蒸留水の
5%2−ブタノール希釈液(HO/M=1)を添加し
加水分解した。しかしながら、溶液中で白色沈殿を生成
し、成膜可能な塗布液を得ることはできなかった。
Comparative Example 1 Ti, Zr, Nb, Ta, C
e, to a 2-butanol solution (concentration in terms of oxide = 2% by weight) of each of the alkoxides of V, W, and 5% 2-butanol diluted solution (H 2 O / M = 1) of ion-exchange distilled water was added, and water was added. Decomposed. However, a white precipitate was formed in the solution, and a coating solution capable of forming a film could not be obtained.

【0037】〔比較例2〕Ti、Zr、Nb、Ta、C
e、VおよびWの各アルコキシドの2−ブタノール溶液
(酸化物換算濃度=2重量%)を用い、成膜試験を行っ
た。しかしながら、上記した実施例1〜14での室温、
湿度45%の条件下では、成膜時に白濁または粉を生成
し、成膜が不可能であった。実施例1〜14の酸化物薄
膜と同等の膜を得るためには、湿度15%以下の条件で
の成膜が必要であった。
Comparative Example 2 Ti, Zr, Nb, Ta, C
A film-forming test was performed using 2-butanol solutions of alkoxides e, V and W (concentration in terms of oxide = 2% by weight). However, at room temperature in Examples 1-14 above,
Under the condition of a humidity of 45%, white turbidity or powder was generated during film formation, and film formation was impossible. In order to obtain a film equivalent to the oxide thin films of Examples 1 to 14, it was necessary to form the film under the condition of a humidity of 15% or less.

【0038】〔実施例15〜22〕最終的な酸化物濃度
が5重量%となるように所定量の金属バリウムまたはバ
リウムジイソプロポキシド、金属ストロンチウムまたは
ストロンチウムジイソプロポキシド、および、テトライ
ソプロポキシチタンを2−メトキシエタノールに添加し
た後、1時間還流させ、複合アルコキシドを合成した。
得られた複合アルコキシド溶液を、イオン交換蒸留水の
10%アルコキシアルコール希釈液で加水分解した。得
られた加水分解液から、2−プロパノールを主成分とす
る低沸点成分を減圧留去し、2−メトキシエタノールを
主成分とし酸化物濃度が5重量%である(BaSr
1−x)TiO塗布液を得た。Ba比率x、水の添加
量((BaSr1−x)TiOに対するモル比)、
および、塗布液中の水分量を表2にまとめて示す。
Examples 15 to 22: Predetermined amounts of metal barium or barium diisopropoxide, metal strontium or strontium diisopropoxide and tetraisopropoxy so that the final oxide concentration is 5% by weight. After adding titanium to 2-methoxyethanol, the mixture was refluxed for 1 hour to synthesize a composite alkoxide.
The obtained composite alkoxide solution was hydrolyzed with a 10% alkoxy alcohol diluted solution of ion exchange distilled water. From the obtained hydrolyzate, a low-boiling component containing 2-propanol as a main component was distilled off under reduced pressure, and 2-methoxyethanol as a main component and an oxide concentration of 5% by weight (Ba x Sr).
1-x ) TiO 3 coating solution was obtained. Ba ratio x, the amount of water added ((molar ratio Ba x Sr 1-x) TiO 3),
Table 2 shows the amount of water in the coating solution.

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【0040】得られた塗布液を用い、室温で湿度45
%、2000rpmの回転数で20秒間の条件で、Pt
電極を形成したSi基板上に成膜した。続いて、塗布液
を100℃の温度で乾燥させた後、450℃の温度で3
0分間加熱処理した。これにより、結晶性の(Ba
1−x)TiO膜が得られた。
The obtained coating solution was used at room temperature with a humidity of 45.
%, Pt under the condition of rotation speed of 2000 rpm for 20 seconds
A film was formed on the Si substrate on which the electrodes were formed. Subsequently, the coating solution was dried at a temperature of 100 ° C., and then dried at a temperature of 450 ° C. for 3 hours.
Heat treatment was performed for 0 minutes. Thereby, the crystalline (BaxS )
r 1-x) TiO 3 film was obtained.

【0041】また、成膜・乾燥および350℃の温度で
の15分間の仮焼を、膜厚が約400nmになるまで1
0回繰り返した後、塗布膜を600℃の温度で加熱処理
して、(BaSr1−x)TiO膜を得た。得られ
た(BaSr1−x)TiO膜 に、真空蒸着法に
よりφ0.5mmのAl上部電極を形成し、LCRメー
タを用いて室温で、1kHzでの誘電特性を測定した。
この結果を表2にまとめて示す。
Further, film formation / drying and calcination at 350 ° C. for 15 minutes are performed until the film thickness becomes about 400 nm.
After repeating 0 times, the coating film was subjected to a heat treatment at a temperature of 600 ° C. to obtain a (Ba x Sr 1-x ) TiO 3 film. On the obtained (Ba x Sr 1-x ) TiO 3 film, an Al upper electrode having a diameter of 0.5 mm was formed by a vacuum deposition method, and the dielectric characteristics at 1 kHz were measured at room temperature using an LCR meter.
The results are summarized in Table 2.

【0042】〔実施例23、24〕上記した実施例18
と同じ組成で、溶剤として2−エトキシエタノールまた
は1−メトキシ−2−プロパノールを用いて、塗布液を
調製した。各溶剤を用いて得られた塗布液の水分量は、
それぞれ0.97重量%および1.01重量%であっ
た。
Embodiments 23 and 24 Embodiment 18 described above.
A coating solution was prepared using the same composition as described above and using 2-ethoxyethanol or 1-methoxy-2-propanol as a solvent. The water content of the coating solution obtained using each solvent is
They were 0.97% by weight and 1.01% by weight, respectively.

【0043】得られた塗布液を用い、室温で湿度45
%、2000rpmの回転数で20秒間の条件で、Pt
電極を形成したSi基板上に成膜した。続いて、それぞ
れの塗布液を100℃の温度で乾燥させた後、450℃
の温度で30分間加熱処理した。これにより、結晶性の
(Ba0.5Sr0.5)TiO膜が得られた。
Using the obtained coating solution, at room temperature and humidity of 45
%, Pt under the condition of rotation speed of 2000 rpm for 20 seconds
A film was formed on the Si substrate on which the electrodes were formed. Subsequently, after drying each coating solution at a temperature of 100 ° C.,
For 30 minutes. As a result, a crystalline (Ba 0.5 Sr 0.5 ) TiO 3 film was obtained.

【0044】〔実施例25〜30〕最終的な酸化物濃度
が5重量%となるように調製したテトライソプロポキシ
チタンの2−メトキシエタノール溶液に、水酸化ストロ
ンチウム8水和物または水酸化バリウム8水和物を添加
した後、室温で24時間、溶液を強撹拌して、透明な
(BaSr1−x)TiO塗布液を調製した。Ba
比率xおよび塗布液中の水分量を表2にまとめて示す。
[Examples 25 to 30] Strontium hydroxide octahydrate or barium hydroxide 8 was added to a 2-methoxyethanol solution of tetraisopropoxytitanium prepared so that the final oxide concentration was 5% by weight. After the hydrate was added, the solution was vigorously stirred at room temperature for 24 hours to prepare a transparent (Ba x Sr 1-x ) TiO 3 coating solution. Ba
Table 2 summarizes the ratio x and the amount of water in the coating solution.

【0045】上記した実施例15と同じ条件で、(Ba
Sr1−x)TiOの結晶化温度の確認を行った。
この結果、Ba比率に関係無く、450℃の温度での3
0分間の加熱処理によりペロブスカイト相へ結晶化する
ことが分かった。さらに、上記した実施例15〜22と
同様の方法により600℃の加熱温度で、膜厚を約40
0nmとしたときの誘電特性の評価を行った。この結果
を表2にまとめて示す。
Under the same conditions as in Example 15 described above, (Ba
x Sr 1-x) it was confirmed crystallization temperature of TiO 3.
As a result, irrespective of the Ba ratio, 3
It was found that crystallization to the perovskite phase was obtained by the heat treatment for 0 minutes. Further, at a heating temperature of 600 ° C., a film thickness of about 40
The evaluation of the dielectric properties at 0 nm was performed. The results are summarized in Table 2.

【0046】〔比較例3〕上記した実施例15と同じ組
成で、溶剤として2−ブタノールを用いて、塗布液を調
製した。しかしながら、水の添加により溶液中に沈殿を
生じ、成膜可能な塗布液は得られなかった。
Comparative Example 3 A coating solution was prepared with the same composition as in Example 15 described above, but using 2-butanol as a solvent. However, a precipitate was formed in the solution by the addition of water, and a coating solution capable of forming a film was not obtained.

【0047】〔比較例4〕当モル量の金属バリウムとテ
トライソプロポキシチタントとを、Tiと当モル量のア
セルアセトンの共存下において2−ブタノールに溶解さ
せ、酸化物換算濃度が5重量%である複合アルコキシド
を含む均質溶液を得た。溶液中の水分量は、0.008
%であった。
Comparative Example 4 An equimolar amount of metal barium and tetraisopropoxytitanate were dissolved in 2-butanol in the presence of Ti and an equimolar amount of aceracetone, and the concentration in terms of oxide was 5% by weight. A homogeneous solution containing the complex alkoxide was obtained. The amount of water in the solution is 0.008
%Met.

【0048】得られた塗布液を用い、室温で湿度45
%、2000rpmの回転数で20秒間の条件で、Pt
電極を形成したSi基板上に成膜した。続いて、塗布膜
を100℃の温度で乾燥させた後、450℃の温度で3
0分間加熱処理した。これにより得られたBaTiO
膜は非晶質であり、BaTiOを結晶化させるために
は、600℃の温度での1時間の加熱処理が必要であっ
た。
The obtained coating solution was used at room temperature and a humidity of 45.
%, Pt under the condition of rotation speed of 2000 rpm for 20 seconds
A film was formed on the Si substrate on which the electrodes were formed. Subsequently, after the coating film was dried at a temperature of 100 ° C.,
Heat treatment was performed for 0 minutes. BaTiO 3 obtained by this
The film was amorphous, and required one hour of heat treatment at a temperature of 600 ° C. to crystallize BaTiO 3 .

【0049】〔実施例31〜44〕Tiアルコキシドお
よび/またはZrアルコキシドのアルコキシアルコール
溶液に無水酢酸鉛を(Zr+Ti)量の1.04モル倍
添加し、90℃の温度で24時間反応させ、酸化物換算
濃度が20重量%であるPb−Zr−Ti複合アルコキ
シド溶液を得た。得られた複合アルコキシド溶液をイオ
ン交換蒸留水の10%アルコキシアルコール希釈液で加
水分解した。得られた加水分解液から、ROHを主成分
とする低沸点成分を減圧留去し、アルコキシアルコール
を主成分とし酸化物濃度が20重量%であるPZT塗布
液を得た。出発原料であるアルコキシドの種類およびZ
r/Ti比率(モル比)、溶剤の種類、水の添加量
((Zr+Ti)量に対するモル比)、ならびに、溶液
中の水分量を表3にまとめて示す。
[Examples 31 to 44] Anhydrous lead acetate was added to an alkoxy alcohol solution of Ti alkoxide and / or Zr alkoxide in an amount of 1.04 mol times the amount of (Zr + Ti), and the mixture was reacted at a temperature of 90 ° C. for 24 hours. A Pb-Zr-Ti composite alkoxide solution having a concentration in terms of a substance of 20% by weight was obtained. The obtained composite alkoxide solution was hydrolyzed with a 10% alkoxy alcohol diluted solution of ion exchange distilled water. From the obtained hydrolyzed solution, a low boiling point component containing ROH as a main component was distilled off under reduced pressure to obtain a PZT coating solution containing an alkoxy alcohol as a main component and an oxide concentration of 20% by weight. Kind of alkoxide as starting material and Z
Table 3 shows the r / Ti ratio (molar ratio), the type of solvent, the amount of water added (molar ratio to the (Zr + Ti) amount), and the amount of water in the solution.

【0050】[0050]

【表3】 [Table 3]

【0051】得られた塗布液を用い、室温で湿度45
%、3000rpmの回転数で20秒間の条件で、Pt
電極を形成したSi基板上に成膜した。続いて、塗布液
を100℃の温度で乾燥させた後、350℃の温度で1
5分間仮焼し、この成膜・乾燥および仮焼を、膜厚が約
300nmになるまで3回繰り返した後、塗布膜を各種
温度で1時間加熱処理(昇温速度:10℃/分)して、
PZT膜を得た。それぞれのPZT膜のペロブスカイト
単相への結晶化温度を表3にまとめて示す。
Using the obtained coating solution, at room temperature and humidity 45
%, At a rotation speed of 3000 rpm for 20 seconds.
A film was formed on the Si substrate on which the electrodes were formed. Subsequently, the coating solution was dried at a temperature of 100 ° C., and then dried at a temperature of 350 ° C.
After calcining for 5 minutes and repeating this film formation / drying and calcining three times until the film thickness becomes about 300 nm, the coating film is heated at various temperatures for 1 hour (heating rate: 10 ° C./min). do it,
A PZT film was obtained. Table 3 shows the crystallization temperature of each PZT film into a perovskite single phase.

【0052】実施例34で得られたPZT膜に、真空蒸
着法によりAl上部電極を形成し、ソーヤータワー法に
よりP−E特性の評価を行った。この結果、強誘電体に
相当するヒステリシスループが得られ、形成されたPZ
T膜が強誘電体であることが確認された。また、実施例
39で得られたPZT膜は反強誘電体であり、他の実施
例で得られたPZT膜は強誘電体膜であることが確認さ
れた。
An Al upper electrode was formed on the PZT film obtained in Example 34 by a vacuum evaporation method, and the PE characteristics were evaluated by a Sawyer tower method. As a result, a hysteresis loop corresponding to the ferroelectric substance is obtained, and the formed PZ
It was confirmed that the T film was a ferroelectric. Further, it was confirmed that the PZT film obtained in Example 39 was an antiferroelectric substance, and the PZT films obtained in other examples were ferroelectric films.

【0053】〔実施例45、46〕上記した実施例34
と同じ条件で、アルコキシドと酢酸鉛との反応時間のみ
を10時間および48時間とそれぞれ変更して、PZT
塗布液を調製した。得られた各PZT塗布液の水含有量
は、それぞれ0.72%および0.80%であった。そ
れぞれの塗布液を用いて成膜した後、PZTの結晶化温
度を確認した。この結果、実施例45、46共に、実施
例34と同じ500℃の温度での1時間の焼成によりペ
ロブスカイト単相へ結晶化したことが確認された。
Embodiments 45 and 46 Embodiment 34 described above.
Under the same conditions as above, only the reaction time between the alkoxide and lead acetate was changed to 10 hours and 48 hours, respectively.
A coating solution was prepared. The water content of each of the obtained PZT coating solutions was 0.72% and 0.80%, respectively. After film formation using each coating solution, the crystallization temperature of PZT was confirmed. As a result, it was confirmed that both Examples 45 and 46 were crystallized into a perovskite single phase by firing at the same temperature of 500 ° C. for 1 hour as in Example 34.

【0054】〔実施例47〕上記した実施例34と同じ
条件で、PZTに対して1モル%のLaを添加した塗布
液を調製した。La原料としては、無水酢酸ランタンを
用いた。無水酢酸ランタンは、相当量を無水酢酸鉛と置
き換えることにより生成した。得られた塗布液中の水分
量は、0.75%であった。その塗布液を用いて成膜し
た後、PZT−Laの結晶化温度を確認した。この結
果、実施例34と同じ500℃の温度での1時間の焼成
によりペロブスカイト単相へ結晶化したことが確認され
た。
Example 47 Under the same conditions as in Example 34 described above, a coating liquid was prepared by adding 1 mol% of La to PZT. As a La raw material, lanthanum acetate anhydride was used. Lanthanum anhydride was produced by replacing a substantial amount of it with lead acetate. The water content in the obtained coating solution was 0.75%. After forming a film using the coating solution, the crystallization temperature of PZT-La was confirmed. As a result, it was confirmed that sintering at the same temperature of 500 ° C. for 1 hour as in Example 34 caused crystallization to a perovskite single phase.

【0055】〔比較例5〕Zr/Ti=52/48とな
るように調製されたテトライソプロポキシチタンとテト
ラノルマルブトキシジルコニウムとの2−メトキシエタ
ノール溶液に、無水酢酸鉛を(Zr+Ti)量の1.0
4モル倍添加した後、2時間還流させ、酸化物換算濃度
が20重量%であるPb−Zr−Ti複合アルコキシド
溶液を得た。得られた複合アルコキシド溶液に(Zr+
Ti)と等モルのアセチルアセトンを添加した後、イオ
ン交換蒸留水の10%アルコキシアルコール希釈液(H
O/PZT=1)で加水分解し、酸化物濃度が10重
量%であるPZT塗布液を得た。塗布液中の水の含有量
は、0.09%であった。
[Comparative Example 5] Anhydrous lead acetate was added to a 2-methoxyethanol solution of tetraisopropoxytitanium and tetranormal butoxyzirconium prepared so that Zr / Ti = 52/48, and 1% of (Zr + Ti) was added. .0
After adding 4 mol times, the mixture was refluxed for 2 hours to obtain a Pb-Zr-Ti composite alkoxide solution having an oxide equivalent concentration of 20% by weight. (Zr +
Ti) and an equimolar amount of acetylacetone were added, and then a 10% alkoxy alcohol diluted solution (H
Hydrolysis with 2 O / PZT = 1) gave a PZT coating solution having an oxide concentration of 10% by weight. The water content in the coating solution was 0.09%.

【0056】得られた塗布液を用い、室温で湿度45
%、3000rpmの回転数で20秒間の条件で、Pt
電極を形成したSi基板上に成膜した。続いて、塗布液
を100℃の温度で乾燥させた後、350℃の温度で1
5分間仮焼し、この成膜・乾燥および仮焼を、膜厚が約
300nmになるまで5回繰り返した。ペロブスカイト
単相膜を得るためには、高速昇温処理により700℃の
温度で1時間の加熱処理が必要であった。
The obtained coating solution was used at room temperature with a humidity of 45.
%, At a rotation speed of 3000 rpm for 20 seconds.
A film was formed on the Si substrate on which the electrodes were formed. Subsequently, the coating solution was dried at a temperature of 100 ° C., and then dried at a temperature of 350 ° C.
The film was calcined for 5 minutes, and the film formation / drying and calcining were repeated five times until the film thickness became about 300 nm. In order to obtain a perovskite single-phase film, a heat treatment at a temperature of 700 ° C. for one hour was required by a high-speed heating treatment.

【0057】〔比較例6〕Zr/Ti=52/48とな
るように調製されたテトライソプロポキシチタンとテト
ラノルマルブトキシジルコニウムとの2−エトキシエタ
ノール溶液に、無水酢酸鉛を(Zr+Ti)量の1.0
4モル倍添加した後、24時間還流させ、酸化物換算濃
度が20重量%であるPb−Zr−Ti複合アルコキシ
ド溶液を得た。この反応液中の水分量は、0.04%で
あった。得られた反応液を塗布液として、実施例34と
同様に成膜を試みた。しかしながら、湿度45%の条件
下では、得られた膜にクラックが発生した。クラックの
発生を抑制するには、塗布液を5%に希釈すること、ま
たは、湿度20%以下での成膜が必要であった。
[Comparative Example 6] In a 2-ethoxyethanol solution of tetraisopropoxytitanium and tetranormal butoxyzirconium prepared so that Zr / Ti = 52/48, anhydrous lead acetate was added in an amount of 1% (Zr + Ti). .0
After adding 4 mol times, the mixture was refluxed for 24 hours to obtain a Pb-Zr-Ti composite alkoxide solution having an oxide equivalent concentration of 20% by weight. The water content in the reaction solution was 0.04%. Using the obtained reaction liquid as a coating liquid, film formation was attempted in the same manner as in Example 34. However, under the condition of 45% humidity, cracks occurred in the obtained film. In order to suppress the generation of cracks, it was necessary to dilute the coating solution to 5% or to form a film at a humidity of 20% or less.

【0058】酸化物換算濃度が5%となるように希釈し
た塗布液を用い、室温で湿度45%、3000rpmの
回転数で20秒間の条件で、Pt電極を形成したSi基
板上に成膜した。続いて、塗布膜を100℃の温度で乾
燥させた後、350℃の温度で15分間仮焼し、この成
膜・乾燥および仮焼を、膜厚が約300nmになるまで
6回繰り返した。ペロブスカイト単相膜を得るために
は、高速昇温処理により650℃の温度で1時間の加熱
処理が必要であった。
Using a coating solution diluted to an oxide equivalent concentration of 5%, a film was formed on a Si substrate on which a Pt electrode had been formed at room temperature under a condition of 45% humidity and a rotation speed of 3000 rpm for 20 seconds. . Subsequently, after the coating film was dried at a temperature of 100 ° C., it was calcined at a temperature of 350 ° C. for 15 minutes, and the film formation / drying and calcining were repeated six times until the film thickness became about 300 nm. In order to obtain a perovskite single-phase film, a heat treatment at a temperature of 650 ° C. for one hour by a high-speed temperature raising treatment was required.

【0059】〔実施例48〕酢酸鉛無水物とペンタエト
キシニオブとを、2−エトキシエタノール中において9
0℃の温度で24時間反応させ、Pb−Nb複合アルコ
キシド溶液を得た。さらに、溶液中に金属マグネシウム
を添加し、90℃の温度で24時間反応させ、Pb−M
g−Nb複合アルコキシド溶液を合成した。このとき、
各元素の組成は、Pb1.04(Mg1/3
2/3)Oとして、また、酸化物換算濃度は15重
量%とした。得られた複合アルコキシド溶液を、イオン
交換蒸留水の10%アルコキシアルコール希釈液(H
O/(Mg+Nb)=12)で加水分解した。得られた
加水分解液から、ROHを主成分とする低沸点成分を減
圧留去し、アルコキシアルコールを主成分とし酸化物濃
度が20重量%であるPMN塗布液を得た。得られた塗
布液中の水分量は、0.88%であった。
[Example 48] Anhydrous lead acetate and pentaethoxyniobium were mixed in 2-ethoxyethanol for 9 hours.
The reaction was carried out at a temperature of 0 ° C. for 24 hours to obtain a Pb—Nb composite alkoxide solution. Further, metallic magnesium was added to the solution and reacted at 90 ° C. for 24 hours to obtain Pb-M
A g-Nb composite alkoxide solution was synthesized. At this time,
The composition of each element is Pb 1.04 (Mg 1/3 N
b 2/3 ) O 3 and the concentration in terms of oxide was 15% by weight. The obtained composite alkoxide solution was diluted with a 10% alkoxy alcohol diluent (H 2
O / (Mg + Nb) = 12). From the resulting hydrolyzed solution, a low boiling component containing ROH as a main component was distilled off under reduced pressure to obtain a PMN coating solution containing an alkoxy alcohol as a main component and an oxide concentration of 20% by weight. The water content in the obtained coating solution was 0.88%.

【0060】得られた塗布液を用い、室温で湿度45
%、3000rpmの回転数で20秒間の条件で、Pt
電極を形成したSi基板上に成膜した。続いて、塗布膜
を100℃の温度で乾燥させた後、350℃の温度で1
5分間仮焼し、この成膜・乾燥および仮焼を、膜厚が約
500nmになるまで5回繰り返した後、760℃の温
度で1時間加熱処理(昇温速度:10℃/分)して、単
相のPMN膜を得た。得られたPMN膜に、真空蒸着法
によりAl上部電極を形成し、LCRメータを用いて室
温で、1kHzでの誘電特性を測定した。この結果、比
誘電率が1700で、tanδが0.01であった。
Using the obtained coating solution, at room temperature and a humidity of 45
%, At a rotation speed of 3000 rpm for 20 seconds.
A film was formed on the Si substrate on which the electrodes were formed. Subsequently, the coating film was dried at a temperature of 100 ° C., and then dried at a temperature of 350 ° C.
After calcination for 5 minutes, this film formation / drying and calcination are repeated 5 times until the film thickness becomes about 500 nm, and then heat-treated at 760 ° C. for 1 hour (heating rate: 10 ° C./min). Thus, a single-phase PMN film was obtained. An Al upper electrode was formed on the obtained PMN film by a vacuum evaporation method, and the dielectric characteristics at room temperature and 1 kHz were measured using an LCR meter. As a result, the relative dielectric constant was 1700, and tan δ was 0.01.

【0061】〔比較例7〕上記した実施例48で得られ
たPb−Mg−Nb複合アルコキシド溶液を塗布液(水
分量:0.05%)として、成膜を試みたが、室温で湿
度45%の条件下では、膜にクラックが発生した。
Comparative Example 7 Film formation was attempted using the Pb-Mg-Nb composite alkoxide solution obtained in Example 48 described above as a coating liquid (water content: 0.05%). %, Cracks occurred in the film.

【0062】〔実施例49〕上記した実施例34および
実施例48でそれぞれ得られた各塗布液を1:9の比率
で混合させ、Pb(Mg1/3Nb2/30.9Ti
0.1膜形成用塗布液とした。得られた塗布液中の
水分量は、0.86%であった。実施例48と同様の方
法で成膜した後、690℃の温度で1時間加熱処理し
て、単相のPMN−PT膜を得た。得られた膜の誘電特
性は、比誘電率が2300で、tanδが0.03であ
った。
Example 49 Each of the coating solutions obtained in Examples 34 and 48 was mixed at a ratio of 1: 9, and mixed with Pb (Mg 1/3 Nb 2/3 ) 0.9 Ti.
A coating solution for forming a 0.1 O 3 film was used. The water content in the obtained coating solution was 0.86%. After forming a film in the same manner as in Example 48, the film was heated at 690 ° C. for 1 hour to obtain a single-phase PMN-PT film. The dielectric properties of the obtained film were a relative dielectric constant of 2300 and a tan δ of 0.03.

【0063】〔比較例8〕化学組成がPb1.04(M
1/3Nb2/30.9Ti0.1となるよう
に所定量の酢酸鉛無水物、ペンタエトキシニオブ、金属
マグネシウムおよびテトライソプロポキシチタンを、2
−エトキシエタノール中において2時間還流させ反応さ
せて、Pb−Nb複合アルコキシド溶液を得た。得られ
た複合アルコキシド溶液を塗布液(水分量:0.05
%)として成膜を試みたが、室温で湿度45%の条件下
では、膜にクラックが発生した。
[Comparative Example 8] The chemical composition was Pb 1.04 (M
g 1/3 Nb 2/3 ) 0.9 Ti 0.1 O 3 A predetermined amount of anhydrous lead acetate, pentaethoxy niobium, metallic magnesium and tetraisopropoxy titanium were added to 2
-The mixture was refluxed in ethoxyethanol for 2 hours to be reacted to obtain a Pb-Nb composite alkoxide solution. The obtained composite alkoxide solution is coated with a coating solution (water content: 0.05
%), But cracks occurred in the film under the condition of room temperature and humidity of 45%.

【0064】酸化物換算濃度が5重量%となるように2
−エトキシエタノールで希釈した塗布液を用い、上記し
た実施例48と同じ条件で成膜した。続いて、塗布膜を
100℃の温度で乾燥させた後、350℃の温度で15
分間仮焼し、この成膜・乾燥および仮焼を12回繰り返
して、膜厚が500nmであるPMN−PT膜を得た。
ペロブスカイト単相膜を得るためには、820℃の温度
での1時間の加熱処理が必要であった。
In order to obtain an oxide-concentrated concentration of 5% by weight,
-Using an application liquid diluted with ethoxyethanol, a film was formed under the same conditions as in Example 48 described above. Subsequently, the coating film is dried at a temperature of 100 ° C., and then dried at a temperature of 350 ° C. for 15 minutes.
After calcining for 20 minutes, the film formation / drying and calcining were repeated 12 times to obtain a PMN-PT film having a thickness of 500 nm.
In order to obtain a perovskite single-phase film, a heat treatment at a temperature of 820 ° C. for one hour was required.

【0065】〔実施例50〕最終酸化物濃度が2重量%
となるように調製したテトラエトキシニオブの2−メト
キシエタノール溶液に、水酸化ストロンチウム8水和物
を添加した後、室温で24時間強撹拌し、透明なSr
Nb塗布液を得た。塗布液中の水分量は、1.8
8%であった。
Example 50 Final oxide concentration was 2% by weight
After adding strontium hydroxide octahydrate to a 2-methoxyethanol solution of tetraethoxy niobium prepared so as to obtain a solution of transparent Sr 2
An Nb 2 O 7 coating solution was obtained. The amount of water in the coating solution is 1.8
8%.

【0066】得られた塗布液を用い、室温で湿度45
%、3000rpmの回転数で20秒間の条件で、Pt
電極を形成したSi基板上に成膜した。続いて、塗布膜
を100℃の温度で乾燥させ、350℃の温度で15分
間仮焼した後、650℃の温度で1時間加熱処理(昇温
速度:10℃/分)した。これにより、SrNb
への結晶化を確認した。
The obtained coating solution was used at room temperature and a humidity of 45.
%, At a rotation speed of 3000 rpm for 20 seconds.
A film was formed on the Si substrate on which the electrodes were formed. Next, the coating film
Is dried at a temperature of 100 ° C. and at a temperature of 350 ° C. for 15 minutes
After calcination for 1 hour, heat treatment at 650 ° C. for 1 hour (heating
(Rate: 10 ° C./min). Thereby, Sr2Nb2O
7Crystallization was confirmed.

【0067】また、Pt電極を形成したSi基板上に成
膜した後、塗布膜を100℃の温度で乾燥させ、350
℃の温度で15分間仮焼し、この成膜・乾燥および仮焼
を、膜厚が約200nmになるまで4回繰り返した後、
650℃の温度で1時間加熱処理(昇温速度:10℃/
分)して、電気特性評価用サンプルを得た。得られたサ
ンプルのSrNb膜に、真空蒸着法によりAl
上部電極を形成し、LCRメータを用いて室温で、1k
Hzでの誘電特性を測定した。この結果、誘電率
(εγ)が50で、誘電損失(tanδ)が0.01で
あった。
After forming a film on the Si substrate on which the Pt electrode is formed, the coating film is dried at a temperature of 100 ° C.
After calcining at a temperature of 15 ° C. for 15 minutes, repeating the film formation / drying and calcining four times until the film thickness becomes about 200 nm,
Heat treatment at a temperature of 650 ° C. for 1 hour (heating rate: 10 ° C. /
) To obtain a sample for evaluating electrical characteristics. Al was applied to the Sr 2 Nb 2 O 7 film of the obtained sample by a vacuum evaporation method.
Form an upper electrode and use an LCR meter at room temperature for 1 k
The dielectric properties at Hz were measured. As a result, the dielectric constant (ε γ ) was 50 and the dielectric loss (tan δ) was 0.01.

【0068】〔比較例9〕当モル量の金属ストロンチウ
ムとテトラエトキシニオブとを、Nbと当モル量のアセ
チルアセトンの共存下で、2−ブタノールに溶解させて
酸化物とし、2重量%のSrNbを含む均質溶
液を得た。得られた複合アルコキシド溶液を10%イオ
ン交換蒸留水の2−ブタノール希釈液(HO/Ti=
1)で加水分解し、SrNb塗布液を得た。塗
布液中の水分量は、0.07%であった。
Comparative Example 9 An equimolar amount of metal strontium and tetraethoxyniobium were dissolved in 2-butanol in the presence of Nb and an equimolar amount of acetylacetone to form an oxide to give 2% by weight of Sr 2. A homogeneous solution containing Nb 2 O 7 was obtained. The obtained composite alkoxide solution was diluted with 2-butanol (H 2 O / Ti = 10% ion-exchange distilled water).
Hydrolysis was performed in 1) to obtain a Sr 2 Nb 2 O 7 coating solution. The water content in the coating solution was 0.07%.

【0069】得られた塗布液を用い、室温で湿度45
%、2000rpmの回転数で20秒間の条件で、Pt
電極を形成したSi基板上に成膜した。続いて、塗布膜
を100℃の温度で乾燥させ、350℃の温度で15分
間仮焼した後、650℃の温度で加熱処理したが、Sr
Nbは非晶質であった。さらに加熱処理温度を
上げると、目的のSrNb層と他のSrO−N
系不純物層とが生成し、SrNb単層
膜を得るためには、800℃の温度で1時間の加熱処理
が必要であった。
The obtained coating solution was used at room temperature and a humidity of 45.
%, Pt under the condition of rotation speed of 2000 rpm for 20 seconds
A film was formed on the Si substrate on which the electrodes were formed. Subsequently, the coating film was dried at a temperature of 100 ° C., calcined at a temperature of 350 ° C. for 15 minutes, and then heat-treated at a temperature of 650 ° C.
2 Nb 2 O 7 was amorphous. When the heat treatment temperature is further increased, the intended Sr 2 Nb 2 O 7 layer and other SrO—N
Heat treatment at a temperature of 800 ° C. for one hour was required to generate a b 2 O 5 -based impurity layer and obtain a Sr 2 Nb 2 O 7 single-layer film.

【0070】以上の通り、本発明によれば、塗布液は、
大気中の水分の影響が少なくなり、成膜性が向上し、所
定の膜厚の酸化物薄膜を得るための成膜回数が少なくて
済む。また、酸化物薄膜の結晶化温度も、従来法に比べ
て低温化することが可能になる。
As described above, according to the present invention, the coating solution is
The influence of moisture in the atmosphere is reduced, the film forming property is improved, and the number of times of forming the oxide thin film having a predetermined thickness can be reduced. Further, the crystallization temperature of the oxide thin film can be lowered as compared with the conventional method.

【0071】[0071]

【発明の効果】請求項1に係る発明によると、成膜性、
耐湿性および長期安定性に優れ、かつ、成膜後に塗布膜
を低温で焼成することが可能で、良好な膜質の酸化物薄
膜を形成することができる塗布液が提供される。
According to the first aspect of the present invention, film forming properties,
Provided is a coating liquid which is excellent in moisture resistance and long-term stability, can bake a coating film at a low temperature after film formation, and can form an oxide thin film having good film quality.

【0072】請求項2に係る発明によると、遷移金属酸
化物、酸化セリウムまたは複合酸化物の薄膜を形成する
ために使用される上記特性を持つ塗布液が提供される。
According to the second aspect of the present invention, there is provided a coating liquid having the above-mentioned properties used for forming a thin film of a transition metal oxide, cerium oxide or a composite oxide.

【0073】請求項3ないし請求項5に係る各発明の製
造方法によると、成膜性、耐湿性および長期安定性に優
れ、かつ、成膜後に塗布膜を低温で焼成することが可能
で、良好な膜質の酸化物薄膜を形成することができる塗
布液が得られる。
According to the production method of each of the third to fifth aspects of the present invention, the coating film is excellent in film formability, moisture resistance and long-term stability, and the coated film can be fired at a low temperature after film formation. A coating liquid capable of forming an oxide thin film having good film quality can be obtained.

【0074】請求項6に係る発明の製造方法によると、
比較的低温での焼成により、良好な微細組織を有する良
好な膜質の酸化物薄膜が得られる。
According to the manufacturing method of the invention according to claim 6,
By firing at a relatively low temperature, an oxide thin film having a good film structure and a good film quality can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/316 H01L 21/316 U Fターム(参考) 4G042 DA02 DB10 DB11 DC01 DC03 DD02 DD10 DE09 DE14 4G047 CA07 CA08 CC02 CD02 CD07 CD08 4G048 AA04 AC02 AD02 AD08 4J038 AA011 HA156 HA161 HA166 JA16 JA17 KA06 NA17 NA19 PA19 PB09 5F058 BA07 BC03 BF46 BH01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/316 H01L 21/316 U F term (Reference) 4G042 DA02 DB10 DB11 DC01 DC03 DD02 DD10 DE09 DE14 4G047 CA07 CA08 CC02 CD02 CD07 CD08 4G048 AA04 AC02 AD02 AD08 4J038 AA011 HA156 HA161 HA166 JA16 JA17 KA06 NA17 NA19 PA19 PB09 5F058 BA07 BC03 BF46 BH01

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属酸化物および/またはその前駆体を
含有する酸化物薄膜形成用塗布液において、 1種もしくは2種以上のアルコキシアルコールを主成分
とする溶媒中に0.01重量%〜10重量%の水が含有
されたことを特徴とする酸化物薄膜形成用塗布液。
1. A coating liquid for forming an oxide thin film containing a metal oxide and / or a precursor thereof, wherein 0.01% by weight to 10% by weight is contained in a solvent containing one or more alkoxy alcohols as a main component. A coating liquid for forming an oxide thin film, comprising water by weight.
【請求項2】 金属酸化物が、遷移金属酸化物、酸化セ
リウム、化学式ABO(A:Ba、SrおよびPbか
らなる群より選ばれた1種もしくは2種以上の元素;
B:Ti、Zr、GeおよびSnからなる群より選ばれ
た1種もしくは2種以上の元素、あるいは、A:Li、
NaおよびKからなる群より選ばれた1種もしくは2種
以上の元素;B:V、NbおよびTaからなる群より選
ばれた1種もしくは2種以上の元素)で表わされる複合
酸化物およびその固溶体ならびに化学式C
(C:Ba、SrおよびPbからなる群より選ばれた
1種もしくは2種以上の元素;D:Nbおよび/または
Ta)で表わされる複合酸化物およびその固溶体からな
る群より選ばれた1種もしくは2種以上の酸化物である
請求項1記載の酸化物薄膜形成用塗布液。
2. The metal oxide is a transition metal oxide, cerium oxide, ABO 3 (A: one or more elements selected from the group consisting of Ba, Sr and Pb;
B: one or more elements selected from the group consisting of Ti, Zr, Ge and Sn, or A: Li,
One or two or more elements selected from the group consisting of Na and K; B: one or two or more elements selected from the group consisting of V, Nb and Ta) Solid solution and chemical formula C 2 D 2 O
7 (C: one or more elements selected from the group consisting of Ba, Sr, and Pb; D: Nb and / or Ta) and a complex oxide represented by the group consisting of: The coating liquid for forming an oxide thin film according to claim 1, wherein the coating liquid is a kind or two or more kinds of oxides.
【請求項3】 1種もしくは2種以上の金属アルコキシ
ドを出発原料としてそれを加水分解し、または、1種も
しくは2種以上の金属アルコキシドと1種もしくは2種
以上の金属塩との混合物もしくはそれらの反応物を加水
分解し、金属酸化物および/またはその前駆体を含有す
る酸化物薄膜形成用塗布液を調製する塗布液の製造方法
において、 1種もしくは2種以上のアルコキシアルコールを含む有
機溶剤中で、前記金属アルコキシドに対するモル比また
は前記金属アルコキシドおよび金属塩に対するモル比が
0.1〜10である量の水により金属アルコキシドを加
水分解することを特徴とする塗布液の製造方法。
3. Hydrolysis of one or more metal alkoxides as a starting material, or a mixture of one or more metal alkoxides with one or more metal salts or a mixture thereof. A method for preparing a coating solution for forming an oxide thin film containing a metal oxide and / or a precursor thereof by hydrolyzing the reaction product of (1), wherein the organic solvent contains one or more alkoxy alcohols Wherein the metal alkoxide is hydrolyzed by an amount of water having a molar ratio to the metal alkoxide or a molar ratio to the metal alkoxide and the metal salt of from 0.1 to 10.
【請求項4】 少なくとも金属アルコキシドを出発原料
とし、それを加水分解して、化学式ABO(A:Ba
またはSr;B:Ti、Zr、GeおよびSnからなる
群より選ばれた1種もしくは2種以上の元素)で表わさ
れる複合酸化物もしくはその固溶体または化学式C
(C:BaまたはSr;D:Nbおよび/または
Ta)で表わされる複合酸化物もしくはその固溶体を含
有する酸化物薄膜形成用塗布液を調製する塗布液の製造
方法において、 BaまたはSrの水酸化物水和物と元素BまたはDのア
ルコキシドとを、1種もしくは2種以上のアルコキシア
ルコールを含む有機溶剤中で混合し撹拌して、0.01
重量%〜10重量%の水が含有された酸化物薄膜形成用
塗布液を得ることを特徴とする塗布液の製造方法。
4. At least a metal alkoxide as a starting material, which is hydrolyzed to give a chemical formula ABO 3 (A: Ba
Or Sr; B: a complex oxide represented by one or more elements selected from the group consisting of Ti, Zr, Ge and Sn), a solid solution thereof, or a chemical formula C 2 D
2 O 7 (C: Ba or Sr; D: Nb and / or Ta) in a method for producing a coating solution for forming an oxide thin film containing a complex oxide or a solid solution thereof, comprising Ba or Sr Is mixed with an alkoxide of the element B or D in an organic solvent containing one or more alkoxy alcohols, and stirred to obtain a hydrate of 0.01%.
A method for producing a coating solution, characterized by obtaining a coating solution for forming an oxide thin film containing water in an amount of 10% by weight to 10% by weight.
【請求項5】 金属アルコキシドと金属塩との混合物ま
たはそれらの反応物を加水分解して、化学式ABO
(A:BaまたはSr;B:Ti、Zr、Geおよび
Snからなる群より選ばれた1種もしくは2種以上の元
素)で表わされる複合酸化物もしくはその固溶体または
化学式C(C:BaまたはSr;D:Nbお
よび/またはTa)で表わされる複合酸化物もしくはそ
の固溶体を含有する酸化物薄膜形成用塗布液を調製する
塗布液の製造方法において、 BaまたはSrのアルコキシドまたは塩および水酸化物
水和物と元素BまたはDのアルコキシドまたは塩とを、
1種もしくは2種以上のアルコキシアルコールを含む有
機溶剤中で混合し撹拌または加熱撹拌した後、前記金属
アルコキシドに対して0.1モル量〜10モル量の水を
添加し、0.01重量%〜10重量%の水が含有された
酸化物薄膜形成用塗布液を得ることを特徴とする塗布液
の製造方法。
5. A mixture of a metal alkoxide and a metal salt or a reaction product thereof is hydrolyzed to give a compound of the formula ABO
3 (A: Ba or Sr; B: one or more elements selected from the group consisting of Ti, Zr, Ge and Sn) or a solid solution thereof, or a chemical formula C 2 D 2 O 7 (C: Ba or Sr; D: Nb and / or Ta) A method for producing a coating solution for preparing an oxide thin film-forming coating solution containing a complex oxide or a solid solution thereof, wherein Ba or Sr alkoxide or Salt and hydroxide hydrate with an alkoxide or salt of element B or D,
After mixing and stirring or heating and stirring in an organic solvent containing one or more alkoxy alcohols, 0.1 mol to 10 mol of water is added to the metal alkoxide, and 0.01 wt% A method for producing a coating liquid, comprising obtaining a coating liquid for forming an oxide thin film containing water of 10 to 10% by weight.
【請求項6】 請求項1もしくは請求項2記載の塗布液
または請求項3ないし請求項5のいずれかに記載の製造
方法によって得られた塗布液を用いて成膜した後、塗布
膜を加熱処理することを特徴とする酸化物薄膜の製造方
法。
6. A film is formed using the coating liquid according to claim 1 or 2 or the coating liquid obtained by the production method according to claim 3, and then the coating film is heated. A method for producing an oxide thin film, comprising:
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