JPH1160281A - Photocatalyst glass and its production - Google Patents

Photocatalyst glass and its production

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Publication number
JPH1160281A
JPH1160281A JP9224796A JP22479697A JPH1160281A JP H1160281 A JPH1160281 A JP H1160281A JP 9224796 A JP9224796 A JP 9224796A JP 22479697 A JP22479697 A JP 22479697A JP H1160281 A JPH1160281 A JP H1160281A
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JP
Japan
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layer
tio
film
glass
solution
Prior art date
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Pending
Application number
JP9224796A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Yamazaki
誠司 山崎
Yoshihiro Nishida
佳弘 西田
Keiji Honjo
啓司 本城
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Central Glass Co Ltd
Nissan Motor Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
Nissan Motor Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd, Nissan Motor Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/71Photocatalytic coatings

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photocatalyst glass prevented in the diffusion of Na ions from the glass, capable of sufficiently exhibiting the function of the photocatalyst and capable of persisting duration properties such as hot warm water, moisture, alkali and warm salt water resistances over a long period by forming a SiO2 coating film containing Al2 O3 and subsequently a coating film containing TiO2 as a main component on the surface of a soda lime glass substrate. SOLUTION: This photocatalyst glass is obtained by forming a SiO2 coating film containing Al2 O3 preferably in an amount of 1-80 wt.% and subsequently a coating film containing TiO2 as a main component preferably in a TiO2 content of 10-100 wt. % and preferably further containing one or more kinds of metal oxides selected from SiO2 , Al2 O3 , P2 O5 , B2 O3 , ZrO2 , SnO2 and Ta2 O5 on the surface of a soda lime glass substrate. The glass can be produced by applying a coating solution comprising a SiO2 solution containing Al on the surface of a soda lime glass substrate, applying a solution comprising a mixture sol containing a TiO2 precursor and/or TiO2 on the coating film, drying the coating films and subsequently baking the dried coating films.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、建築用、自動車用
等の窓材、さらには鏡等の各種の分野のガラス物品にお
いて用いられる光触媒ガラスおよびその製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photocatalytic glass used for window materials for buildings, automobiles and the like, and glass articles in various fields such as mirrors, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、防汚・消臭・抗菌・親水等のため
にガラスの表面に光触媒機能を有する被膜を形成するこ
とが行われている。例えば、特開平5ー253544号
公報に記載のアナターゼ型TiO2を主体とする光触媒微
粉末をその一部がバインダ層表面から露出するようにし
た板状部材、特開平7−232080号公報に記載の光
触媒微粒子がTiO2、ZnO、SrTiO2、Fe23、W
3、FeTiO2、Bi23、SnO2等であり、光触媒粒
子の間隙充填粒子がSn、Ti、Ag、Cu、Zn、Fe、P
t、Co、Niの金属または酸化物である光触媒機能を有
する多機能材、特開平9−59042号公報記載の光触
媒性の平均結晶粒子径が約0.1μm以下のTiO2の粒子
を含有する防曇性被膜で覆われた透明基材等が知られて
いる。
2. Description of the Related Art Recently, a film having a photocatalytic function has been formed on a glass surface for antifouling, deodorizing, antibacterial, hydrophilic, and the like. For example, a plate-like member which is adapted a part photocatalyst fine powder mainly comprising anatase TiO 2 described in JP-A-5 over 253,544 are exposed from the binder layer surface described in Japanese Patent Laid-Open No. 7-232080 Are fine particles of TiO 2 , ZnO, SrTiO 2 , Fe 2 O 3 , W
O 3 , FeTiO 2 , Bi 2 O 3 , SnO 2, etc., and the gap filling particles of the photocatalyst particles are Sn, Ti, Ag, Cu, Zn, Fe, P
t, Co, multifunctional material having a photocatalytic function is a metal or an oxide of Ni, average crystal grain size of the photocatalytic Hei 9-59042 JP contains about 0.1μm or less of the TiO 2 particles A transparent substrate or the like covered with an antifogging film is known.

【0003】また従来、ガラス表面に各種の機能性膜を
被覆するに際し、ガラスから機能性膜へのナトリウムイ
オンの拡散を防止するために、該機能性膜の下層にアン
ダーコート膜を形成する事が知られている。例えば、特
開平4−18237号公報記載のZnOを含有した紫外
線吸収膜の下層にSiO2を主成分とする金属酸化物被膜
を設けた表面処理ガラス、特開平7−315880号公
報記載のガラス板表面にSiO2を主成分とする薄膜、T
iO2を主成分とする薄膜、SnO2を主成分とする薄膜を
順次被覆させた透明導電膜付きガラス板、特開平8−1
90088号公報記載のガラス基板からのアルカリ金属
イオンの拡散を防止する金属酸化物の障壁層と該障壁層
の上層の金属含有被覆からなるガラス物品等が知られて
いる。
Conventionally, when coating various functional films on a glass surface, an undercoat film is formed under the functional film in order to prevent diffusion of sodium ions from the glass to the functional film. It has been known. For example, surface-treated glass having a metal oxide film containing SiO 2 as a main component in the lower layer of the ultraviolet absorbing film containing ZnO of JP-A 4-18237 JP, a glass plate of JP-A 7-315880 JP On the surface, a thin film mainly composed of SiO 2 , T
iO 2 as main components a thin film, the transparent conductive film-attached glass plate is sequentially coated film on the basis of SnO 2, JP-A-8-1
No. 90088 discloses a glass article or the like comprising a metal oxide barrier layer for preventing diffusion of alkali metal ions from a glass substrate and a metal-containing coating on the barrier layer.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の光触媒膜を
ガラス上に形成した光触媒ガラスにおいては、該光触媒
膜をガラス表面に直接被覆する場合、高温で処理すると
ガラス中に含まれるナトリウムイオンが該光触媒膜に拡
散し、光触媒膜のTiO2の酸化作用を促進する電子を中
和してしまい、上述の光触媒機能が損なわれてしまう欠
点があった。
In the above-mentioned conventional photocatalytic glass in which a photocatalytic film is formed on glass, when the photocatalytic film is directly coated on the glass surface, if the treatment is performed at a high temperature, sodium ions contained in the glass are removed. diffused into the photocatalyst film, will neutralize the electrons to accelerate the oxidation of the TiO 2 photocatalyst film, the above-described photocatalytic function is a drawback that impairs.

【0005】また、光触媒膜の下層に、アンダーコート
層としてのSiO2膜を被覆した場合には光触媒膜と該S
iO2膜との密着性が充分でなく、耐久性評価試験で光触
媒膜が剥離してしまう欠点が生じた。
When an SiO 2 film as an undercoat layer is coated under the photocatalytic film, the photocatalytic film and the S
Adhesion with the SiO 2 film was not sufficient, and the photocatalytic film peeled off in a durability evaluation test.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、従来のかかる
課題に鑑みてなしたものであって、アンダーコート層の
組成を種々検討した結果、アンダーコート膜中にAl2
3を含有させることにより、膜の緻密性が高まる。その
結果、耐温水性、耐塩温水性等の耐久試験において、膜
中のSiO2分の溶解を防ぎ、アルカリバリアー性を保持
したまま、アンダーコート層と光触媒膜間の接着強度が
著しく向上するとともに、成膜後ガラスを熱加工等の高
温処理を施してもアルカリバリアー性が低下しないこと
を見出した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and as a result of various studies on the composition of the undercoat layer, Al 2 O was found in the undercoat film.
By including 3 , the denseness of the film is increased. As a result, in endurance tests such as warm water resistance and salt warm water resistance, the dissolution of SiO 2 in the film is prevented, and the adhesion strength between the undercoat layer and the photocatalytic film is significantly improved while maintaining alkali barrier properties. It has also been found that alkali barrier properties do not decrease even if the glass is subjected to high temperature treatment such as thermal processing after film formation.

【0007】本発明は、ソーダライムガラス基板の表面
に、第1層としてAl23を含むSiO2膜を成膜し、そ
の上に第2層としてTiO2を主成分とした膜を成膜した
光触媒ガラスに関する。
According to the present invention, a SiO 2 film containing Al 2 O 3 is formed as a first layer on the surface of a soda lime glass substrate, and a film mainly composed of TiO 2 is formed as a second layer thereon. It relates to a coated photocatalytic glass.

【0008】なお、第1層中のAl23の含有量は、1
〜80重量%であることが好ましく5〜60重量%がよ
り好ましい。
The content of Al 2 O 3 in the first layer is 1
The content is preferably from 80 to 80% by weight, more preferably from 5 to 60% by weight.

【0009】さらに、第2層中のTiO2の含有量が10
〜100重量%であることが好ましい。さらに、第2層
中のTiO2以外の成分は、SiO2、Al23、P25
23、ZrO2、SnO2、Ta25の内の少なくとも1
種の金属酸化物であることが好ましい。これらの金属酸
化物の内、SiO2、Al23、P25、B23を用いた
場合は、網目形成酸化物として機能し、ZrO2、Sn
2、Ta25を用いた場合は、膜の緻密性が高くなり、
その結果膜強度が向上する。さらに、ZrO2は耐アルカ
リ性に優れ、SnO2は膜に導電性を持たせることが可能
となり、Ta25はTiO2の光励起には関与しない28
0nm付近の紫外線をカットすることができる等の利点が
ある。
Further, when the content of TiO 2 in the second layer is 10
It is preferably from 100 to 100% by weight. Further, components other than TiO 2 in the second layer include SiO 2 , Al 2 O 3 , P 2 O 5 ,
At least one of B 2 O 3 , ZrO 2 , SnO 2 and Ta 2 O 5
Preferably, it is a kind of metal oxide. When SiO 2 , Al 2 O 3 , P 2 O 5 , and B 2 O 3 are used among these metal oxides, they function as network-forming oxides, and ZrO 2 , Sn
When O 2 or Ta 2 O 5 is used, the denseness of the film increases,
As a result, the film strength is improved. Further, ZrO 2 has excellent alkali resistance, SnO 2 makes it possible to impart conductivity to the film, and Ta 2 O 5 does not contribute to the photoexcitation of TiO 2.
There are advantages such as the ability to cut off ultraviolet light near 0 nm.

【0010】さらにまた、第1層及び第2層の膜厚は、
それぞれ50〜500nmであることが適する。また、
本発明は、ソーダライムガラス基板の表面に、第1層と
してAlを含むSiO2溶液よりなる塗布液を被覆した
後、TiO2前駆体及び/またはTiO2を含有する混合ゾ
ルよりなる第2層用溶液を塗布し、乾燥・焼成してなる
光触媒ガラスの製造方法に関する。
Further, the film thickness of the first layer and the second layer is
It is suitable that each is 50 to 500 nm. Also,
The present invention is directed to a second layer made of a mixed sol containing a TiO 2 precursor and / or TiO 2 after coating a coating solution composed of a SiO 2 solution containing Al as a first layer on a surface of a soda lime glass substrate. The present invention relates to a method for producing a photocatalytic glass obtained by applying a solution for use, drying and firing.

【0011】なお、第1層用塗布液は、Al元素の硝酸
塩、有機酸塩、アセチルアセトナート化合物、アルコキ
シド化合物を含んだアルコキシシラン化合物の加水分解
物よりなることが好ましい。
The first layer coating solution is preferably composed of a hydrolyzate of an alkoxysilane compound containing a nitrate, an organic acid salt, an acetylacetonate compound and an alkoxide compound of an Al element.

【0012】さらに、第2層中のTiO2の出発原料が結
晶性微粒子である場合、第2層中のTiO2の含有量は1
0〜90重量%であることが好ましく、20〜80重量
%がより好ましい。
Further, when the starting material of TiO 2 in the second layer is crystalline fine particles, the content of TiO 2 in the second layer is 1%.
It is preferably from 0 to 90% by weight, more preferably from 20 to 80% by weight.

【0013】さらに、第2層中のTiO2が溶液を出発原
料とする場合、第2層中のTiO2の含有量は50〜10
0重量%であることが好ましく、70〜100重量%が
より好ましい。
When the solution of TiO 2 in the second layer is a starting material, the content of TiO 2 in the second layer is 50 to 10%.
It is preferably 0% by weight, more preferably 70 to 100% by weight.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】ガラス表面に形成する、アンダー
コートとしての第1層、光触媒機能としての第2層より
なる光触媒ガラスは次のようにして得る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A photocatalytic glass formed on a glass surface and comprising a first layer as an undercoat and a second layer as a photocatalytic function is obtained as follows.

【0015】ソーダライムガラス基板としては、自動車
用ならびに建築用ガラス等に通常用いられている普通板
ガラス、所謂フロート板ガラスなどであり、クリアをは
じめグリ−ン、ブロンズ等各種着色ガラスや各種機能性
ガラス、強化ガラスやそれに類するガラス、合せガラス
のほか複層ガラス等、さらに平板あるいは曲げ板等各種
板ガラス製品として使用できることは言うまでもない。
また板厚としては例えば約1.0mm程度以上約12mm
程度以下であり、建築用としては約2.0mm程度以上約
10mm程度以下が好ましく、自動車用としては約1.5m
m程度以上約6.0mm程度以下が好ましく、より好ましく
は約2.0mm程度以上約5.0mm程度以下のガラスであ
る。
The soda-lime glass substrate is a common plate glass or so-called float plate glass which is generally used for automobiles and architectural glass, etc., and various colored glass such as clear, green and bronze, and various functional glasses. Needless to say, it can be used as a tempered glass, a glass similar thereto, a laminated glass, a double-glazed glass, and various flat glass products such as a flat plate or a bent plate.
The thickness is, for example, about 1.0 mm or more and about 12 mm.
About 2.0 mm or more and about 10 mm or less for architectural use and about 1.5 m for automobile use.
The glass is preferably about m or more and about 6.0 mm or less, more preferably about 2.0 mm or more and about 5.0 mm or less.

【0016】また、第1層のSiO2膜、第2層のTiO2
膜の主な原料としては、前記金属アルコキド類である
が、具体例としては、Siアルコキシド類が、テトラエ
トキシシラン、テトラメトキシシラン、モノメチルトリ
エトキシシラン、モノメチルトリメトキシシラン、ジメ
チルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、そ
の他のテトラアルコキシシラン化合物、その他のアルキ
ルアルコキシシラン化合物、またTiアルコキシド類
は、テトライソプロポキシチタン、テトラノルマルブト
キシチタン、トリイソプロポキシチタンモノアセチルア
セトナ−ト等が使用できる。
A first layer of SiO 2 film and a second layer of TiO 2
The main raw material of the film is the above-mentioned metal alkoxides. Specific examples include Si alkoxides such as tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, monomethyltriethoxysilane, monomethyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane and dimethyldimethoxysilane. As ethoxysilanes, other tetraalkoxysilane compounds, other alkylalkoxysilane compounds, and Ti alkoxides, tetraisopropoxytitanium, tetranormal butoxytitanium, triisopropoxytitanium monoacetylacetonate, and the like can be used.

【0017】さらに、第1層に添加するAl元素は、金
属アルコキシド類、アセチルアセトナート類、硝酸塩、
有機酸塩のうちの少なくとも1種を用いることができ、
上記第1層のSiO2の原料であるアルコキシシラン類の
加水分解物と混合して用いる。
Further, the Al element added to the first layer includes metal alkoxides, acetylacetonates, nitrates,
At least one of the organic acid salts can be used;
The first layer is used as a mixture with a hydrolyzate of alkoxysilanes, which is a raw material of SiO 2 .

【0018】また、希釈溶媒としては、アルコ−ル系溶
媒が好ましく、具体例としては、メタノ−ル、エタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、エチレン
グリコ−ル、ヘキシレングリコ−ル、さらには酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル類、さらに
はメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソ
ルブなどのセロソルブ類及びこれらを混合した溶媒、さ
らには増粘剤としてポリエチレングリコ−ル(平均分子
量200)、ポリプロピレングリコ−ル(平均分子量4
00)等を加えても良いし、レベリング剤としてジメチ
ルシリコーンなどのメチルシリコーン類やフッ素系レベ
リング剤を適量加えても良い。本来溶液中に含まれるア
ルコ−ル系やセロソルブ系のもの単独または混合物を、
該溶液の蒸発速度や被膜粘度を勘案して選択すればよ
い。
The diluting solvent is preferably an alcoholic solvent, and specific examples thereof include methanol and ethanol.
, Ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, hexylene glycol, and esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and amyl acetate; further, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, and the like. Cellosolves and their mixed solvents, as well as polyethylene glycol (average molecular weight 200) and polypropylene glycol (average molecular weight 4
00) or the like, or an appropriate amount of a methyl silicone such as dimethyl silicone or a fluorine-based leveling agent as a leveling agent. Alcohols or cellosolves, which are originally contained in the solution, alone or as a mixture,
The solution may be selected in consideration of the evaporation rate of the solution and the viscosity of the film.

【0019】さらに、第1層中のAl23含有率が1〜
80重量%が好ましく、、80重量%以上であれば、第
1層のアンダーコート膜のNaイオンのバリアー効果が
低減することにより光活性が著しく低下し、さらに、耐
アルカリ性も著しく低下してしまう。また、1重量%以
下では光触媒膜の密着性が低下してしまう。
Further, the content of Al 2 O 3 in the first layer is 1 to
It is preferably 80% by weight, and if it is 80% by weight or more, the photoactivity is remarkably reduced due to the reduction of the Na ion barrier effect of the first layer undercoat film, and the alkali resistance is also remarkably reduced. . If the content is less than 1% by weight, the adhesion of the photocatalyst film is reduced.

【0020】なお、第2層のTiO2前駆体としては、前
記Tiアルコキシド類に安定化剤を加えた溶液やTiのア
セチルアセトナート類に水を加えて加水分解したTiO2
ゾル、或いは、Tiアセチルアセトナート類、TiCl4
Ti(SO4)2等を各種溶媒に溶解させた溶液等である。
[0020] Incidentally, TiO 2 as the TiO 2 precursor of the second layer, which is hydrolyzed by adding water to the acetylacetonates of the added stabilizer Ti alkoxides solution or Ti
Sol or Ti acetylacetonates, TiCl 4 ,
It is a solution in which Ti (SO 4 ) 2 or the like is dissolved in various solvents.

【0021】また、TiO2を含有する混合ゾルは、前記
TiO2前駆体をTiO2以外のSiO2、Al23、P
25、B23、ZrO2、SnO2、Ta25等の金属酸化
物の内の少なくとも1種に混合したもの、或いは予めT
iO2の結晶性又は非晶質性のTiO2微粒子を前記金属酸
化物ゾルに分散剤等を用いて分散させたTiO2混合ゾル
等である。
In the mixed sol containing TiO 2 , the TiO 2 precursor may be made of SiO 2 , Al 2 O 3 , P other than TiO 2.
A mixture of at least one of metal oxides such as 2 O 5 , B 2 O 3 , ZrO 2 , SnO 2 and Ta 2 O 5;
It is a TiO 2 mixed sol or the like in which TiO 2 crystalline or amorphous TiO 2 fine particles are dispersed in the metal oxide sol using a dispersant or the like.

【0022】第2層中のTiO2の含有量は、10〜10
0重量%が好ましく、TiO2以外の酸化物としては、S
iO2、Al23、P25、B23、ZrO2、SnO2、Ta
25等を用いることができ、特に、SiO2は膜強度の点
より好ましい。
The content of TiO 2 in the second layer is 10 to 10
0% by weight is preferable, and oxides other than TiO 2 include S
iO 2, Al 2 O 3, P 2 O 5, B 2 O 3, ZrO 2, SnO 2, Ta
2 O 5 or the like can be used. In particular, SiO 2 is preferable from the viewpoint of film strength.

【0023】なお、第2層中のTiO2が結晶性微粒子で
ある場合、該TiO2の含有量は10〜90重量%である
ことが好ましく、10%以下では光活性が著しく低下
し、90%以上では膜強度及び成膜性が低下するためで
ある。
When the TiO 2 in the second layer is crystalline fine particles, the content of the TiO 2 is preferably 10 to 90% by weight, and when it is 10% or less, the photoactivity is remarkably reduced. % Or more, the film strength and film formability are reduced.

【0024】さらに、第2層中のTiO2が溶液を出発と
する場合、該TiO2の含有量は50〜100重量%であ
ることが好ましく、50%以下では光活性が著しく低下
するためである。
Further, when TiO 2 in the second layer starts from a solution, the content of TiO 2 is preferably from 50 to 100% by weight, and if it is less than 50%, the photoactivity is remarkably reduced. is there.

【0025】また、塗布法としては、特に限定されるも
のではないが、生産性などの面からは例えばスピンコー
ト法あるいはディップコ−ト法、またリバ−スコ−ト
法、フレキソ印刷法、その他のロールコート法であり、
さらにはノズルコ−ト法、スプレーコ−ト法、スクリー
ン印刷法などが適宜採用し得るものである。これら塗布
法で塗布成膜する際の塗布液中の固形分濃度としては約
1〜30重量%程度で、塗布液粘度としては1〜100
cP 程度が好ましい。
The coating method is not particularly limited, but from the viewpoint of productivity and the like, for example, a spin coating method or a dip coating method, a reverse coating method, a flexographic printing method, and other methods. Roll coating method,
Further, a nozzle coating method, a spray coating method, a screen printing method and the like can be appropriately employed. The solid content concentration in the coating liquid when forming a coating film by these coating methods is about 1 to 30% by weight, and the coating liquid viscosity is 1 to 100%.
cP is preferred.

【0026】またさらに、第1層及び第2層の塗布後の
乾燥処理としては、乾燥温度が常温〜300℃程度で乾
燥時間が0.5 〜60分間程度が好ましく、より好まし
くは前記乾燥温度が100〜250℃程度で乾燥時間が
1〜30分間程度である。また、第2層の乾燥後の焼成
処理としては、焼成温度が400 〜700℃程度で焼
成時間が1〜30分間程度が好ましく、さらに前記ガラ
スの熱強化または/および熱曲げ加工時に同時に行うこ
とがよく、前記ガラスの熱強化または/および熱曲げ加
工は、温度が550 〜700 ℃程度で時間が0.5 〜
10分間程度行うことがより好ましい。
Further, the drying treatment after the application of the first and second layers is preferably performed at a drying temperature of about normal temperature to about 300 ° C. and a drying time of about 0.5 to 60 minutes, more preferably the drying temperature. But the drying time is about 100-250 ° C
It is about 1 to 30 minutes. The baking treatment after the drying of the second layer is preferably performed at a baking temperature of about 400 to 700 ° C. and a baking time of about 1 to 30 minutes. Preferably, the heat strengthening and / or hot bending of the glass is performed at a temperature of about 550 to 700 ° C. for a time of about 0.5 to 500 ° C.
More preferably, it is performed for about 10 minutes.

【0027】なお、本発明の膜組成は、前記のような5
50℃以上の高温での熱強化および/または熱曲げ加工
を行っても、ガラスからのアルカリの拡散がなく、アル
カリバリアー性が低下しない利点を有する。
The film composition of the present invention comprises the above-mentioned 5
Even when heat strengthening and / or hot bending at a high temperature of 50 ° C. or more is performed, there is an advantage that alkali does not diffuse from glass and alkali barrier properties do not decrease.

【0028】第1層の膜厚は、約50〜500nm 程度
であり、50nm未満であれば、ガラス基板からのNaイ
オンの影響で第2層の光触媒機能が低下し、500nm
を超えると経済的にも無駄であり、クラックの発現の要
因となるためである。さらに好ましくは約70〜130
nm 程度である。
The thickness of the first layer is about 50 to 500 nm, and if it is less than 50 nm, the photocatalytic function of the second layer is reduced by the influence of Na ions from the glass substrate,
It is because it is economically useless if it exceeds the number, and it becomes a factor of the appearance of cracks. More preferably, about 70 to 130
nm.

【0029】第2層の膜厚は、TiO2の含有量にもよる
が、約50〜500nm程度が好ましい。さらに好ましく
は70〜150nmである。なお、50nm以下では充分な
光活性が得られず、500nm以上では光活性の向上は得
られず、膜強度は低下し、且つクラック発生の要因とな
るためである。さらに好ましくは70〜150nmであ
る。
The thickness of the second layer is preferably about 50 to 500 nm, though it depends on the content of TiO 2 . More preferably, it is 70 to 150 nm. If the thickness is 50 nm or less, sufficient photoactivity cannot be obtained, and if the thickness is 500 nm or more, the photoactivity cannot be improved, the film strength is reduced, and cracks are generated. More preferably, it is 70 to 150 nm.

【0030】前記のように、本発明の膜組成では、膜厚
が薄くてもアルカリバリアー性および光活性の各機能を
充分に発揮する利点を有する。第2層の光触媒膜の下層
に、Al23を含有するSiO2膜を第1層として設ける
ことにより、ソーダライムガラス基板からのナトリウム
イオンの膜中への拡散を防止し、光触媒機能を十分に発
揮させるとともに、第1層と第2層の膜間の密着強度が
強固になり、耐温水性、耐湿性、耐アルカリ性、耐温塩
水性等の耐久性を向上させ、厳しい環境での長期使用に
耐え、より確実でかつ安定した品質の光触媒ガラスとな
る。
As described above, the film composition of the present invention has an advantage of sufficiently exhibiting the functions of alkali barrier properties and photoactivity even when the film thickness is small. By providing a SiO 2 film containing Al 2 O 3 as a first layer under the second photocatalytic film, diffusion of sodium ions from the soda lime glass substrate into the film is prevented, and the photocatalytic function is improved. In addition to fully exhibiting, the adhesion strength between the first layer and the second layer is strengthened, and the durability such as hot water resistance, moisture resistance, alkali resistance, and hot salt water resistance is improved. It is a photocatalytic glass of more reliable and stable quality that withstands long-term use.

【0031】[0031]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。但し本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

【0032】[0032]

【実施例1】テトラエトキシシラン2g、硝酸アルミニ
ウム9水和物1g(SiO2/Al2O3=80 /20 重量比)、加水
分解用の水0.7g、触媒としての60%硝酸0.06g、および
希釈溶媒としてエタノール40gを混合撹拌し、コーテ
ィング溶液とした。これを10cm□で厚さ2mmのソー
ダライムシリカガラス基板にスピンコーターで成膜し、
250℃で5分間乾燥して室温まで冷却した後、第2層
目を同じくスピンコーターにより成膜した。第2層目の
コーティング溶液は、チタニアゾル:アトロンNTi−
500(日本曹達製)8gとシリカゾル溶液CSG−D
I−0600(チッソ製)3.3gを混合し(TiO2/Si
O2=80/20重量比)、エタノールで4倍に希釈したもの
を用いた。第2層目を成膜した後250℃で5分間乾燥
し、500℃で5分間仮焼成を行った後、680℃で本
焼成を行うことにより、第1層、第2層の膜厚がともに
100nmの光触媒膜を得た。
Example 1 2 g of tetraethoxysilane, aluminum nitrate
1g of SiO 9Two/ AlTwoOThree= 80 /20 weight ratio), water
0.7 g of water for decomposition, 0.06 g of 60% nitric acid as a catalyst, and
Mix and stir 40 g of ethanol as a diluting solvent.
Solution. This is a 10cm square saw with a thickness of 2mm
A film is formed on a Dali lime silica glass substrate with a spin coater,
After drying at 250 ° C. for 5 minutes and cooling to room temperature, the second layer
Eyes were also formed with a spin coater. The second layer
The coating solution was titania sol: Atron NTi-
8g 500 (manufactured by Nippon Soda) and silica sol solution CSG-D
3.3 g of I-0600 (manufactured by Chisso) were mixed (TiO 2Two/ Si
OTwo= 80/20 weight ratio), diluted 4 times with ethanol
Was used. After forming the second layer, dry at 250 ° C for 5 minutes
After pre-baking at 500 ° C for 5 minutes,
By performing the firing, the film thickness of both the first layer and the second layer is reduced.
A 100 nm photocatalytic film was obtained.

【0033】[0033]

【実施例2】第2層目のコーティング溶液をチタニアゾ
ル:アトロンNTi−500 10gをエタノールで4
倍希釈したものを用いたこと以外は実施例1と同様とし
た。得られた第2層目のTiO2膜の膜厚は、90nmで
あった。
Example 2 10 g of titania sol: Atron NTi-500 was applied to the second layer coating solution with ethanol.
The procedure was the same as in Example 1, except that a one-fold dilution was used. The thickness of the obtained second layer TiO 2 film was 90 nm.

【0034】[0034]

【実施例3】テトラエトキシシラン1.3g、硝酸アル
ミニウム9水和物2.8g(SiO2/Al2O3=50/50重量
比)、加水分解用の水O.7g、触媒としての60%硝酸0.06
g、及び希釈溶媒としてエタノール46gを混合・撹拌
したものを第1層の被覆溶液とした以外は、実施例1と
同様とした。得られた第1層目の膜厚は、100nmで
あった。
EXAMPLE 3 tetraethoxysilane 1.3g, aluminum nitrate nonahydrate 2.8g (SiO 2 / Al 2 O 3 = 50/50 by weight), water O.7g for hydrolysis, 60 as a catalyst 0.06% nitric acid
g, and the same procedure as in Example 1 except that 46 g of ethanol as a diluting solvent was mixed and stirred and used as a coating solution for the first layer. The thickness of the obtained first layer was 100 nm.

【0035】[0035]

【実施例4】シリカゾル溶液CSG−DI−0600
(チッソ社製)18gにあらかじめ調製したアルミナゾ
ル2g(SiO2/Al2O3=90/10重量比)を混合撹拌し、エ
タノールで3倍に希釈したものを第1層目のコーティン
グ溶液としたこと以外は、実施例1と同様とした。アル
ミナゾルは、イソプロピルアルコール10.5gとアル
ミニウム−sec−ブトキシド6gにアセト酢酸エチル
3gを混合して安定化した後に、加水分解用のH2
0.5gを混合撹拌して得た。第1層目のSiO2−Al2
3膜は、膜厚100nmのものを得た。
Example 4 Silica sol solution CSG-DI-0600
A 2 g alumina sol (SiO 2 / Al 2 O 3 = 90/10 weight ratio) prepared in advance and mixed with 18 g (manufactured by Chisso Corporation) and diluted with ethanol three-fold was used as the first layer coating solution. Except for this, it was the same as Example 1. The alumina sol was stabilized by mixing 10.5 g of isopropyl alcohol and 6 g of aluminum-sec-butoxide with 3 g of ethyl acetoacetate, and then hydrolyzing H 2 O.
0.5 g was obtained by mixing and stirring. First layer SiO 2 -Al 2
An O 3 film having a thickness of 100 nm was obtained.

【0036】[0036]

【実施例5】シリカゾル溶液CSG−DI−0600
(チッソ社製)20gに、硝酸アルミニウム9水和物1
0g(SiO2/Al2O3=30/70重量比)を加え混合・撹拌
し、エタノールで4倍に希釈したものを第1層の被覆溶
液とし、さらにTiO2微粒子含有シリカバインダー液:
ST−K03(石原テクノ社製)(TiO2/SiO2=50/50
重量比)をエタノールで5倍に希釈したものを第2層の
被覆溶液とたこと以外は、実施例1と同様とした。得ら
れた第1層目のSiO2−Al23膜の膜厚は100nm
であり、第2層目の膜厚は150nmであった。
Example 5 Silica sol solution CSG-DI-0600
Aluminum nitrate 9 hydrate 1 in 20 g (manufactured by Chisso)
0 g (SiO 2 / Al 2 O 3 = 30/70 weight ratio) was added, mixed and stirred, and diluted 4 times with ethanol to obtain a coating solution for the first layer.
ST-K03 (Ishihara Techno Co., Ltd.) (TiO 2 / SiO 2 = 50/50)
(Weight ratio) diluted 5 times with ethanol was used in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the second layer was used. The thickness of the obtained first layer SiO 2 —Al 2 O 3 film is 100 nm.
The thickness of the second layer was 150 nm.

【0037】[0037]

【比較例1】シリカのゾルゲル溶液CSG−DI−O6
OO(チッソ社製、固形分濃度:6重量%)を第1層目の
コーティング溶液としたこと以外は、実施例1と同様と
した。得られた第1層目のSiO2膜は膜厚100nmであ
った。
[Comparative Example 1] Sol-gel solution of silica CSG-DI-O6
The same procedure as in Example 1 was carried out except that OO (manufactured by Chisso, solid content concentration: 6% by weight) was used as the coating solution for the first layer. The obtained first SiO 2 film had a thickness of 100 nm.

【0038】[0038]

【比較例2】シリカのゾルゲル溶液CSG−DI−O6
OO 16gにあらかじめ調製したチタニアゾル4gを
混合撹拌し(SiO2/TiO2=80/20重量比)、エタノール
で3倍希釈したものを第1層目のコーティング溶液とし
たこと以外は、実施例1と同様とした。チタニアゾル
は、イソプロピルアルコール9gとチタン−iso−プ
ロポキシド3gにアセチルアセトン1gを混合して安定
化した後に、加水分解用のH2O 0.2gを混合撹拌し
て得た。得られた第1層目のSiO2−TiO2膜の膜厚
は、100nmであった。
Comparative Example 2 Sol-gel solution of silica CSG-DI-O6
Example 1 was repeated except that 4 g of titania sol prepared in advance was mixed and stirred with 16 g of OO (SiO 2 / TiO 2 = 80/20 weight ratio), and a three-fold dilution with ethanol was used as the first layer coating solution. The same as above. The titania sol was obtained by mixing and stirring 9 g of isopropyl alcohol and 3 g of titanium-iso-propoxide with 1 g of acetylacetone, and then mixing and stirring 0.2 g of H 2 O for hydrolysis. The thickness of the obtained first-layer SiO 2 —TiO 2 film was 100 nm.

【0039】[0039]

【比較例3】シリカゾル溶液CSG−DI−0600
(チッソ社製)16gにあらかじめ調製したジルコニア
ゾル4g(SiO2/Zr02=80/20重量比)を混合撹拌し、エ
タノールで3倍に希釈したものを第1層目のコーティン
グ溶液としたこと以外は、実施例1と同様とした。ジル
コニアゾルは、イソプロピルアルコール15gとジルコ
ニウム−n−ブトキシド4gにアセチルアセトン1gを
混合して安定化した後に、加水分解用のH2O 0.2g
を混合撹拌して得た。得られた第1層目のSiO2−Zr
2膜の膜厚は、100nmであった。
Comparative Example 3 Silica Sol Solution CSG-DI-0600
(Manufactured by Chisso Corporation) 16g previously prepared zirconia sol 4g (SiO 2 / Zr0 2 = 80/20 weight ratio) mixture was stirred, to a diluted to 3 times with ethanol and the coating solution of first layer Except for the above, it was the same as Example 1. The zirconia sol was stabilized by mixing 1 g of acetylacetone with 15 g of isopropyl alcohol and 4 g of zirconium-n-butoxide, and then 0.2 g of H 2 O for hydrolysis.
Was obtained by mixing and stirring. The obtained first layer SiO 2 —Zr
The thickness of the O 2 film was 100 nm.

【0040】得られた光触媒ガラスの評価を下記のよう
に行った。 〔光活性試験〕1重量%オレイン酸アセトン溶液を用い
て光触媒膜表面にオレイン酸を均一に付着させ人工的に
汚れを形成した。これにブラックライトF15T8BL
B(三共電気)で0.5mW/cm2(365nm)の紫外線を2時
間照射した。照射前後の水の接触角変化で光活性を評価
した。 〔耐温水性試験〕60℃の温水に10日間浸漬して外
観、膜強度(温水中でガーゼ布で強く擦り膜剥離の有無
を調べる)の変化を評価した。 〔耐湿性試験〕50℃相対湿度98%の蒸気中に30日
間放置して外観、膜強度の変化を評価した。 〔耐酸性試験〕0.1%塩酸中に室温下で48時間浸漬
して外観、膜強度の変化を評価した。 〔耐アルカリ性試験〕20%炭酸ソーダ水溶液中に室温
下で48時間浸漬して外観、膜強度の変化を評価した。 〔耐温塩水性試験〕60℃の3%食塩水に48時間浸漬
して外観、膜強度の変化を評価した。
The obtained photocatalytic glass was evaluated as follows. [Photoactivity test] Using a 1% by weight acetone solution of oleic acid, oleic acid was uniformly adhered to the surface of the photocatalyst film to artificially form stains. Black Light F15T8BL
B (Sankyo Denki) was irradiated with 0.5 mW / cm2 (365 nm) of ultraviolet light for 2 hours. The photoactivity was evaluated by the change in the contact angle of water before and after irradiation. [Water resistance test] The film was immersed in warm water at 60 ° C. for 10 days to evaluate changes in appearance and film strength (examination of film peeling by rubbing strongly with a gauze cloth in warm water). [Moisture resistance test] The composition was allowed to stand in steam at 50 ° C and a relative humidity of 98% for 30 days to evaluate changes in appearance and film strength. [Acid resistance test] The specimen was immersed in 0.1% hydrochloric acid at room temperature for 48 hours to evaluate changes in appearance and film strength. [Alkali Resistance Test] The film was immersed in a 20% aqueous sodium carbonate solution at room temperature for 48 hours to evaluate changes in appearance and film strength. [Warm salt water resistance test] The specimen was immersed in a 3% saline solution at 60 ° C for 48 hours to evaluate changes in appearance and film strength.

【0041】実施例及び比較例における性能評価結果を
表−1に示す。光活性試験においては、人工的な汚れと
してオレイン酸を付着させており、光触媒機能が高い
程、汚れを分解することが出来る。すなわち、紫外線照
射後の接触角が小さい程、光活性が高くなる。実施例1
〜5及び比較例1は、紫外線照射前の水の接触角が40
〜55°程度であったものが、照射後2〜6°程度に大
幅に小さくなった。これらの結果から、実施例1〜5及
び比較例1は、第1層のアルカリバリアー効果が十分機
能しているので、第2層目のTiO2を有する膜が、いず
れも良好な光触媒としての光活性機能を有していること
が確認できる。一方、比較例2〜3では、光活性はある
ものの、他の場合に比べて光触媒性能が減少しているこ
とが確認できる。
Table 1 shows the performance evaluation results in the examples and comparative examples. In the photoactivity test, oleic acid is attached as an artificial soil, and the higher the photocatalytic function, the more the soil can be decomposed. That is, the smaller the contact angle after ultraviolet irradiation, the higher the photoactivity. Example 1
5 and Comparative Example 1 had a contact angle of water of 40 before ultraviolet irradiation.
What was about 55 ° was significantly reduced to about 2 to 6 ° after irradiation. From these results, in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1, since the alkali barrier effect of the first layer was sufficiently functioning, the film having TiO 2 of the second layer was a good photocatalyst. It can be confirmed that it has a photoactive function. On the other hand, in Comparative Examples 2 and 3, it can be confirmed that the photocatalytic performance is reduced as compared with the other cases, although there is photoactivity.

【0042】耐温水性試験について、実施例1〜5及び
比較例2〜3は10日間経過後も外観、膜強度に変化が
なかった。比較例1については、2日目に第2層膜が剥
離した。
With respect to the warm water resistance test, Examples 1 to 5 and Comparative Examples 2 to 3 showed no change in appearance and film strength even after 10 days. In Comparative Example 1, the second layer film was peeled off on the second day.

【0043】耐湿性試験については、実施例1〜5及び
比較例2〜3は30日間経過後も変化は認められないの
に対し、比較例1は12日目に第2層膜が剥離した。耐
酸性試験については、実施例および比較例ともに変化は
認められなかった。
In the moisture resistance test, no change was observed after 30 days in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 2 to 3, whereas in Comparative Example 1, the second layer film was peeled off on the 12th day. . Regarding the acid resistance test, no change was observed in both the examples and the comparative examples.

【0044】耐アルカリ性試験については、実施例1〜
5び比較例2〜3は48時間経過後、全く変化はなかっ
た。一方、比較例1は11時間後に第2層膜が剥離し
た。耐温塩水性試験については、実施例1〜5及び比較
例2〜3は48時間経過後も変化は認められないのに対
し、比較例1は5時間後に第2層膜が剥離した。
With respect to the alkali resistance test, Examples 1 to
5 and Comparative Examples 2-3 did not change at all after 48 hours. On the other hand, in Comparative Example 1, the second layer film was peeled off after 11 hours. In the warm salt water resistance test, in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 2 to 3, no change was observed even after 48 hours, whereas in Comparative Example 1, the second layer film was peeled off after 5 hours.

【0045】なお、表-1において、(○印)は試験後の
変化がなく良好な結果が得られたことを示し、(×印)
は試験中に膜の剥離を生じたものを示す。以上の評価結
果に示すように、本発明の実施例1〜5は比較例1〜3
に比べ、光活性、耐温水性、耐湿性、耐アルカリ性、耐
温塩水性の全ての評価項目において極めて優れ、第1層
膜と第2層膜の膜間の密着強度が極めて大きく強固であ
り、しかもアルカリバリアー効果も十分であることが分
かった。一方、比較例2〜3は、比較例1に比べ、耐温
水性、耐湿性、耐アルカリ性、耐温塩水性の耐久試験で
は良好な結果が得られており、さらに光触媒性能はある
ものの紫外線照射後の接触角が実施例に比べて10〜2
0°程度高いことから光活性が低下しており、実施例よ
りはアルカリバリアー性が劣っていることが分かる。
In Table 1, (○) indicates that there was no change after the test and good results were obtained, and (×)
Indicates that the film was peeled off during the test. As shown in the above evaluation results, Examples 1 to 5 of the present invention are Comparative Examples 1 to 3.
In comparison with the above, all the evaluation items of photoactivity, warm water resistance, moisture resistance, alkali resistance, and salt water resistance are extremely excellent, and the adhesion strength between the first layer film and the second layer film is extremely large and strong. In addition, it was found that the alkali barrier effect was sufficient. On the other hand, in Comparative Examples 2 and 3, better results were obtained in the durability test of hot water resistance, moisture resistance, alkali resistance, and hot salt water resistance than Comparative Example 1, and even though they had photocatalytic performance, they were irradiated with ultraviolet light. The contact angle afterward is 10 to 2 compared to the embodiment.
Since it is higher by about 0 °, the photoactivity is reduced, and it can be seen that the alkali barrier property is inferior to that of the examples.

【0046】[0046]

【発明の効果】光触媒膜の下層にAl23−SiO2膜を
設けることにより、ソーダライムガラス基板から光触媒
膜へのナトリウムイオンの拡散を防止し、光触媒機能を
十分に発揮させるとともに、第1層に添加したAl元素
が第2層である光触媒膜のTi元素と相互作用を起こす
ことにより、第1層と第2層の層間の密着強度が強固に
なり、耐温水性、耐湿性、耐アルカリ性、耐温塩水性等
の耐久性を長期に持続し、厳しい環境下において確実で
かつ安定した品質の光触媒ガラスが得られ、建築用、車
両用、鏡等のその他の各種ガラス物品に広く用いること
ができる。
By the lower layer of the photocatalytic film according to the present invention providing the Al 2 0 3 -SiO 2 film to prevent diffusion of sodium ions from a soda lime glass substrate to the photocatalyst film, with sufficiently exhibit the photocatalytic function, the When the Al element added to one layer interacts with the Ti element of the photocatalytic film as the second layer, the adhesion strength between the first and second layers is strengthened, and the warm water resistance, moisture resistance, Long-lasting durability, such as alkali resistance and hot salt water resistance, can provide photocatalytic glass of reliable and stable quality in harsh environments, and is widely used in various other glass articles such as construction, vehicles, mirrors, etc. Can be used.

【0047】また、本発明は、成膜後に550℃以上の
高温で熱強化および/または熱曲げ加工を行っても、ガ
ラスからのアルカリの拡散がなく、アルカリバリアー性
が低下しない利点を有する。
Further, the present invention has an advantage in that even if heat strengthening and / or hot bending is performed at a high temperature of 550 ° C. or more after film formation, alkali does not diffuse from glass and alkali barrier properties do not decrease.

【0048】さらに、本発明は、第1層および第2層の
膜厚が薄くてもアルカリバリアー性および光活性の機能
を充分に発揮する利点も併せ持つ。
Further, the present invention has an advantage that the alkali barrier property and the photoactive function can be sufficiently exhibited even if the first and second layers are thin.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本城 啓司 三重県松阪市大口町1510 セントラル硝子 株式会社硝子研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Keiji Honjo 1510 Oguchicho, Matsusaka-shi, Mie Central Glass Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ソーダライムガラス基板の表面に、第1層
としてAl23を含むSiO2膜を成膜し、その上に第2
層としてTiO2を主成分とした膜を成膜した光触媒ガラ
ス。
An SiO 2 film containing Al 2 O 3 is formed as a first layer on a surface of a soda lime glass substrate, and a second layer is formed thereon.
Photocatalytic glass in which a film mainly composed of TiO 2 is formed as a layer.
【請求項2】第1層中のAl23の含有量が1〜80重
量%である請求項1記載の光触媒ガラス。
2. The photocatalytic glass according to claim 1, wherein the content of Al 2 O 3 in the first layer is 1 to 80% by weight.
【請求項3】第2層中のTiO2の含有量が10〜100
重量%である請求項1記載の光触媒ガラス。
3. The TiO 2 content in the second layer is 10 to 100.
The photocatalytic glass according to claim 1, which is in a weight percent.
【請求項4】第2層中のTiO2以外の成分は、SiO2
Al23、P25、B23、ZrO2、SnO2、Ta25
内の少なくとも1種の金属酸化物である請求項3記載の
光触媒ガラス。
4. Components other than TiO 2 in the second layer are SiO 2 ,
Al 2 O 3, P 2 O 5, B 2 O 3, ZrO 2, SnO 2, Ta 2 at least one of claims 3, wherein the photocatalyst glass is a metal oxide of the O 5.
【請求項5】第1層及び第2層の膜厚は、それぞれ50
〜500nmである請求項1記載の光触媒ガラス。
5. The first and second layers each have a thickness of 50
The photocatalytic glass according to claim 1, having a thickness of from 500 to 500 nm.
【請求項6】ソーダライムガラス基板の表面に、第1層
としてAlを含むSiO 2溶液よりなる塗布液を被覆した
後、TiO2前駆体及び/またはTiO2を含有する混合ゾ
ルよりなる第2層用溶液を塗布し、乾燥・焼成してなる
光触媒ガラスの製造方法。
6. A first layer on a surface of a soda lime glass substrate.
Containing Al as the TwoCoated with a coating solution consisting of a solution
Later, TiOTwoPrecursor and / or TiOTwoMixed zo containing
The solution for the second layer is applied, dried and fired.
A method for producing a photocatalytic glass.
【請求項7】第1層用塗布液は、Al元素の硝酸塩、有
機酸塩、アセチルアセトナート化合物、アルコキシド化
合物を含んだアルコキシシラン化合物の加水分解物より
なる請求項6記載の光触媒ガラスの製造方法。
7. The production of a photocatalytic glass according to claim 6, wherein the coating solution for the first layer comprises a hydrolyzate of an alkoxysilane compound containing a nitrate, an organic acid salt, an acetylacetonate compound and an alkoxide compound of an Al element. Method.
【請求項8】第2層中のTiO2の出発原料が結晶性微粒
子である場合、第2層中のTiO2の含有量は10〜90
重量%である請求項6項記載の光触媒ガラスの製造方
法。
8. When the starting material of TiO 2 in the second layer is crystalline fine particles, the content of TiO 2 in the second layer is 10 to 90%.
The method for producing a photocatalytic glass according to claim 6, wherein the content is% by weight.
【請求項9】第2層中のTiO2が溶液を出発原料とする
場合、第2層中のTiO2の含有量は50〜100重量%
である請求項6項記載の光触媒ガラス製造方法。
9. When the TiO 2 in the second layer is a solution as a starting material, the content of TiO 2 in the second layer is 50 to 100% by weight.
The method for producing a photocatalytic glass according to claim 6, wherein
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11192436A (en) * 1996-12-10 1999-07-21 Toto Ltd Photocatalyst compound, photocatalyst-containing material, material having photocatalytic function and production thereof
JP2001294408A (en) * 2000-04-07 2001-10-23 Stanley Electric Co Ltd Method of forming metal oxide thin film
US6761984B2 (en) 1999-12-21 2004-07-13 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Article coated with photocatalyst film, method for preparing the article and sputtering target for use in coating with the film
US7754648B2 (en) 1997-12-10 2010-07-13 Toto Ltd. Photocatalytic hydrophilifiable material
WO2012133523A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 Toto株式会社 Sanitary ware
JP2013119511A (en) * 2011-12-08 2013-06-17 Panasonic Corp Coated member
JP2015167871A (en) * 2014-03-04 2015-09-28 公立大学法人首都大学東京 Photocatalytic glass, and method of producing the same

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11192436A (en) * 1996-12-10 1999-07-21 Toto Ltd Photocatalyst compound, photocatalyst-containing material, material having photocatalytic function and production thereof
US7754648B2 (en) 1997-12-10 2010-07-13 Toto Ltd. Photocatalytic hydrophilifiable material
US8034309B2 (en) 1997-12-10 2011-10-11 Toto Ltd Photocatalytic process using hydrophilifiable material
US6761984B2 (en) 1999-12-21 2004-07-13 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Article coated with photocatalyst film, method for preparing the article and sputtering target for use in coating with the film
JP2001294408A (en) * 2000-04-07 2001-10-23 Stanley Electric Co Ltd Method of forming metal oxide thin film
WO2012133523A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 Toto株式会社 Sanitary ware
CN103429555A (en) * 2011-03-30 2013-12-04 Toto株式会社 Sanitary ware
KR101406831B1 (en) * 2011-03-30 2014-06-13 토토 가부시키가이샤 Sanitary ware
TWI549748B (en) * 2011-03-30 2016-09-21 Toto Ltd Sanitary pottery
JP2013119511A (en) * 2011-12-08 2013-06-17 Panasonic Corp Coated member
JP2015167871A (en) * 2014-03-04 2015-09-28 公立大学法人首都大学東京 Photocatalytic glass, and method of producing the same

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