JP2003068575A - Method for manufacturing solid electrolytic capacitor - Google Patents

Method for manufacturing solid electrolytic capacitor

Info

Publication number
JP2003068575A
JP2003068575A JP2001254313A JP2001254313A JP2003068575A JP 2003068575 A JP2003068575 A JP 2003068575A JP 2001254313 A JP2001254313 A JP 2001254313A JP 2001254313 A JP2001254313 A JP 2001254313A JP 2003068575 A JP2003068575 A JP 2003068575A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrolytic capacitor
solid electrolytic
hole
producing
capacitor according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001254313A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsumasa Miki
勝政 三木
Yuji Mido
勇治 御堂
Tatsuo Fujii
達雄 藤井
Shin Nakano
慎 中野
Ryo Kimura
涼 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001254313A priority Critical patent/JP2003068575A/en
Publication of JP2003068575A publication Critical patent/JP2003068575A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor with excellent high frequency characteristics. SOLUTION: A dielectric film 27 is formed on a roughed surface on one side of an aluminum foil 20, and a protective film 21 is formed on the other side, respectively. A through-hole 24 is formed at a prescribed position, an insulting film 25 is formed on an inner wall of the through-hole 24, and a solid electrolyte layer 29 is formed on an appearing surface on one side of the insulating film 25 and on a surface of the dielectric film 27. A through-hole electrode 28 is formed inside the through-hole, a collector layer 30 is formed on the appearing surface on one side of the through-hole electrode 28 and on the surface of the solid electrolyte layer 29, and an opening part 37 is provided on a prescribed position of the protective film 21. A first connection terminal 31 is formed at the opening part 37, and a second connection terminal 32 is formed on the appearing surface on the other side of the through-hole electrode 28, respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は固体電解コンデンサ
の製造方法に関するものであり、さらに言えば等価直列
抵抗(以下ESRと記す)および等価直列インダクタン
ス(以下ESLと記す)を低減し、かつ、半導体部品に
直接接続可能な固体電解コンデンサの製造方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, and more specifically, it reduces an equivalent series resistance (hereinafter referred to as ESR) and an equivalent series inductance (hereinafter referred to as ESL), and a semiconductor. The present invention relates to a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor that can be directly connected to parts.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器のポータブル化、高性能
化に伴い、電子部品である固体電解コンデンサにも高周
波特性に優れた大容量のものが求められてきている。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic equipment becomes more portable and has higher performance, solid electrolytic capacitors, which are electronic components, are also required to have large capacity and excellent high frequency characteristics.

【0003】この市場の要求に応えるために電極部の表
面状態、誘電体被膜の形成方法、固体電解質層の開発、
改善、電極層の表面状態、コンデンサ素子の構造などさ
まざまな角度から検討がなされている。
In order to meet the demands of this market, the surface condition of the electrode portion, the method for forming the dielectric coating, the development of the solid electrolyte layer,
Investigations have been made from various angles such as improvement, surface condition of electrode layer, and structure of capacitor element.

【0004】従来の固体電解コンデンサとしては、アル
ミニウムやタンタル等の弁作用を有する金属の箔や焼結
体を電極部とし、この金属の箔や焼結体の表面に陽極酸
化により誘電体被膜を形成し、その表面にMnなどの遷
移金属酸化物を用いた固体電解質層を形成し、この固体
電解質層の表面に集電体層を形成して電極層を設けてコ
ンデンサ素子を構成し、このコンデンサ素子の電極部お
よび電極層をそれぞれ接続端子に接続し、この接続端子
を表出するように外装を形成して構成されていた。
As a conventional solid electrolytic capacitor, a metal foil or sintered body having a valve action such as aluminum or tantalum is used as an electrode portion, and a dielectric film is formed on the surface of the metal foil or sintered body by anodic oxidation. And forming a solid electrolyte layer using a transition metal oxide such as Mn on its surface, forming a collector layer on the surface of this solid electrolyte layer and providing an electrode layer to form a capacitor element, The electrode portion and the electrode layer of the capacitor element are respectively connected to the connection terminals, and the exterior is formed so as to expose the connection terminals.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の固体電解コンデ
ンサは接続端子を介して回路基板上に実装するため、回
路としての固体電解コンデンサの特性を見た場合、電極
部、電極層から接続端子までの伝導経路だけでなく、回
路基板上の配線部分も高周波特性に影響をおよぼす。そ
のため、ESLが大きくなり高周波特性が劣っていた。
Since the conventional solid electrolytic capacitor is mounted on the circuit board via the connecting terminal, when looking at the characteristics of the solid electrolytic capacitor as a circuit, from the electrode portion and electrode layer to the connecting terminal. In addition to the conduction path, the wiring part on the circuit board affects the high frequency characteristics. Therefore, the ESL was large and the high frequency characteristics were poor.

【0006】本発明は上記課題を解決し、第一の接続端
子と第二の接続端子を同一面上に配置することにより半
導体部品と直接接続でき、低ESR化、低ESL化を実
現し、高周波特性の優れた固体電解コンデンサの製造方
法を提供することを目的とするものである。
The present invention solves the above-mentioned problems, and by arranging the first connection terminal and the second connection terminal on the same surface, they can be directly connected to a semiconductor component, thereby realizing low ESR and low ESL. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor having excellent high frequency characteristics.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の請求項1に記載の発明は、アルミニウム箔の
片面側の粗面上に誘電体被膜、他面側に保護膜をそれぞ
れ形成し、これらの誘電体被膜、アルミニウム箔、保護
膜を貫くようにスルホール孔を所定の位置に形成し、ス
ルホール孔の内壁に絶縁膜を形成し、上記誘電体被膜の
表面に固体電解質層を形成し、スルホール孔内を埋める
ようにスルホール電極を形成し、このスルホール電極の
片面側の表出面および上記固体電解質層の表面に集電体
層を形成し、上記保護膜の所定の位置に開口部を設け、
この開口部に第一の接続端子を、上記スルホール電極の
他面側の表出面に第二の接続端子をそれぞれ形成する固
体電解コンデンサの製造方法であり、半導体部品を直接
接続が可能な高周波特性の優れた固体電解コンデンサを
容易に提供することができる。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 of the present invention provides a dielectric film on the rough surface of one side of the aluminum foil and a protective film on the other side thereof. Form a through hole through the dielectric film, the aluminum foil, the protective film at a predetermined position, form an insulating film on the inner wall of the through hole, a solid electrolyte layer on the surface of the dielectric film. A through hole electrode is formed so as to fill the through hole hole, a current collector layer is formed on the exposed surface on one side of the through hole electrode and the surface of the solid electrolyte layer, and an opening is formed at a predetermined position of the protective film. Part,
A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor in which a first connection terminal is formed in this opening and a second connection terminal is formed on the exposed surface of the other surface of the through-hole electrode, respectively, and high-frequency characteristics enabling direct connection of semiconductor components The excellent solid electrolytic capacitor can be easily provided.

【0008】本発明の請求項2に記載の発明は、アルミ
ニウム箔の片面側の粗面上に誘電体被膜、他面側に保護
膜をそれぞれ形成し、これらの誘電体被膜、アルミニウ
ム箔、保護膜を貫くようにスルホール孔を所定の位置に
形成し、スルホール孔の内壁に絶縁膜を形成し、上記誘
電体被膜の表面に固体電解質層を形成し、この固体電解
質層の表面に集電体層を形成し、この集電体層の表面お
よびスルホール孔の片面側の表出面に接続電極を形成
し、スルホール孔内を埋めるようにスルホール電極を形
成し、上記保護膜の所定の位置に開口部を設け、この開
口部に第一の接続端子を、上記スルホール電極の他面側
の表出面に第二の接続端子をそれぞれ形成する固体電解
コンデンサの製造方法であり、請求項1の作用に加え
て、接続電極を形成することでスルホール電極の形成方
法について選択の幅を広げることができる。
According to a second aspect of the present invention, a dielectric coating is formed on the rough surface of one side of the aluminum foil, and a protective film is formed on the other side of the aluminum foil. A through hole is formed at a predetermined position so as to penetrate the film, an insulating film is formed on the inner wall of the through hole, a solid electrolyte layer is formed on the surface of the dielectric film, and a current collector is formed on the surface of the solid electrolyte layer. A layer is formed, a connection electrode is formed on the surface of this current collector layer and on the exposed surface on one side of the through-hole, and a through-hole electrode is formed so as to fill the through-hole, and the protective film is opened at a predetermined position. And a first connection terminal in the opening and a second connection terminal in the exposed surface on the other surface of the through-hole electrode, the method of manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 1. In addition, a connection electrode is formed A method for forming the through hole electrodes can widen the selection by.

【0009】すなわち、導電性接着剤を用いる方法だけ
でなく、電気めっきや無電解めっきの方法も選択肢に入
れることができ、これによりプロセス設計がしやすくな
り、固体電解コンデンサの製造をより容易とすることが
できる。
That is, not only the method using a conductive adhesive but also the method of electroplating or electroless plating can be included in the options, which facilitates the process design and facilitates the production of the solid electrolytic capacitor. can do.

【0010】本発明の請求項3に記載の発明は、絶縁膜
の形成方法として電着法、スルホール孔の他面側の表出
面を覆うように絶縁樹脂を塗布しスルホール孔の片面側
から吸引する方法の少なくとも一つの方法を用いる請求
項1もしくは請求項2に記載の固体電解コンデンサの製
造方法であり、電着法を用いた場合、信頼性の優れた絶
縁膜を所望の箇所に均一に形成することができるため、
アルミニウム箔とスルホール電極の絶縁性が向上する。
その結果として、固体電解コンデンサの信頼性が向上す
る効果を有する。
According to a third aspect of the present invention, an insulating film is formed by an electrodeposition method, an insulating resin is applied so as to cover the exposed surface of the other side of the through hole, and suction is applied from one side of the through hole. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein at least one of the methods described above is used, and when an electrodeposition method is used, an insulating film having excellent reliability is uniformly formed on a desired portion. Because it can be formed
The insulation between the aluminum foil and the through-hole electrode is improved.
As a result, there is an effect that the reliability of the solid electrolytic capacitor is improved.

【0011】また、スルホール孔の他面側の表出面を覆
うように絶縁樹脂を塗布しスルホール孔の片面側から吸
引する方法を用いた場合、絶縁膜を簡便かつ効率的に形
成することができる。
When a method of applying an insulating resin so as to cover the exposed surface on the other side of the through hole and sucking from one side of the through hole is used, the insulating film can be formed easily and efficiently. .

【0012】また、これらの方法を組み合わせて行うこ
とも可能であり、この場合、絶縁性のより優れた絶縁膜
を形成することができ、その結果として固体電解コンデ
ンサの信頼性が向上する効果を有する。
It is also possible to combine these methods, and in this case, an insulating film having a higher insulating property can be formed, and as a result, the reliability of the solid electrolytic capacitor is improved. Have.

【0013】本発明の請求項4に記載の発明は、絶縁膜
として電着法により絶縁性の樹脂を第1層目として形成
し、その後1層目に比べ抵抗率が高くマイクロジェルと
カーボン微粒子と酸化チタン微粒子を混合した絶縁性の
樹脂を第2層目として形成する請求項3に記載の固体電
解コンデンサの製造方法であり、性質の異なる樹脂を2
層重ねることにより、スルホール孔の内壁およびエッジ
部のそれぞれを完全に被覆し、かつ耐熱性や膜厚確保な
ど、両者の特性をあわせもった絶縁膜を得ることができ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, an insulating resin is formed as a first layer by an electrodeposition method as an insulating film, and thereafter, the resistivity is higher than that of the first layer and the microgel and carbon fine particles are formed. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 3, wherein an insulative resin, which is a mixture of titanium oxide fine particles and the titanium oxide fine particles, is formed as the second layer.
By stacking the layers, it is possible to obtain an insulating film that completely covers the inner wall and the edge portion of the through-hole and has the characteristics of both such as heat resistance and film thickness.

【0014】本発明の請求項5に記載の発明は、絶縁樹
脂の塗布方法として印刷、ディスペンサー、ポッティン
グのいずれか一つの方法を用いる請求項3に記載の固体
電解コンデンサの製造方法であり、請求項3の作用を補
完するものである。
The invention according to claim 5 of the present invention is the method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 3, wherein any one of printing, dispenser and potting is used as a method for applying the insulating resin. It complements the action of item 3.

【0015】これらの方法によりスルホール孔の他面側
の表出面を覆うように精度よく絶縁樹脂を塗布すること
ができ、特に、ディスペンサー、ポッティングを用いた
場合、絶縁樹脂の塗布量の調節を幅広く行うことがで
き、その結果、絶縁膜の形成状態を制御しやすくする効
果を有する。
By these methods, the insulating resin can be accurately applied so as to cover the exposed surface on the other side of the through hole, and particularly when a dispenser or potting is used, the amount of the insulating resin applied can be adjusted widely. Can be performed, and as a result, it has an effect of making it easier to control the formation state of the insulating film.

【0016】本発明の請求項6に記載の発明は、スルホ
ール孔の形成方法としてレーザー加工法、パンチング加
工法、ドリル加工法のうちの少なくとも一つを用いる請
求項1もしくは請求項2に記載の固体電解コンデンサの
製造方法であり、スルホール孔を簡便かつ高精度に形成
することができる。その結果として、固体電解コンデン
サの性能の安定化および信頼性の向上に効果を有する。
According to a sixth aspect of the present invention, at least one of a laser processing method, a punching processing method and a drill processing method is used as a method of forming a through hole. This is a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, and through-holes can be formed easily and accurately. As a result, it is effective in stabilizing the performance and improving the reliability of the solid electrolytic capacitor.

【0017】請求項7に記載の発明は、スルホール電極
を形成するのに導電性接着剤を塗布し、硬化する方法を
用いる請求項1もしくは請求項2に記載の固体電解コン
デンサの製造方法であり、スルホール孔内への導電性接
着剤の充填、硬化が容易であるため、生産性の向上に寄
与する効果を有する。
The invention according to claim 7 is the method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein a method of applying and curing a conductive adhesive is used to form a through-hole electrode. Since it is easy to fill and cure the conductive adhesive in the through-holes, it has an effect of improving productivity.

【0018】本発明の請求項8に記載の発明は、スルホ
ール電極としてパイ電子共役高分子およびまたはこれ以
外の導電性高分子を含む組成物からなる固体電解質を用
いる請求項1に記載の固体電解コンデンサの製造方法で
あり、この固体電解質と誘電体被膜の表面に形成される
固体電解質層の材料を同一にすることにより、スルホー
ル電極を形成する工程と固体電解質層を形成する工程を
連続して一つの工程で行うことができるため、工程を簡
略化することができる。
The invention according to claim 8 of the present invention is the solid electrolysis according to claim 1, wherein a solid electrolyte comprising a composition containing a pi-electron conjugated polymer and / or other conductive polymer is used as a through-hole electrode. A method of manufacturing a capacitor, by making the solid electrolyte and the material of the solid electrolyte layer formed on the surface of the dielectric coating the same, the step of forming the through-hole electrode and the step of forming the solid electrolyte layer are performed continuously. Since the process can be performed in one step, the process can be simplified.

【0019】本発明の請求項9に記載の発明は、スルホ
ール電極を形成するのに電気めっき、無電解めっきのい
ずれかの方法を用いる請求項2に記載の固体電解コンデ
ンサの製造方法であり、所望の箇所に均一かつ簡便にス
ルホール電極を一括形成することができる。
The invention according to claim 9 of the present invention is the method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 2, wherein any one of electroplating and electroless plating is used to form the through-hole electrode. Through-hole electrodes can be collectively formed uniformly and easily at desired locations.

【0020】本発明の請求項10に記載の発明は、保護
膜の形成方法として浸漬、スピンコータ、スクリーン印
刷、フィルム接着法、スプレー法のいずれかの方法を用
いる請求項1もしくは請求項2に記載の固体電解コンデ
ンサの製造方法であり、アルミニウム箔の表面に容易か
つ均一に膜を形成することができるため固体電解コンデ
ンサの信頼性の向上を図ることができる。加えて、生産
性の向上に寄与する効果も有する。
In the invention according to claim 10 of the present invention, any one of dipping, spin coater, screen printing, film bonding method and spraying method is used as a method for forming a protective film. In the method for producing a solid electrolytic capacitor, since the film can be easily and uniformly formed on the surface of the aluminum foil, the reliability of the solid electrolytic capacitor can be improved. In addition, it also has an effect of contributing to the improvement of productivity.

【0021】本発明の請求項11に記載の発明は、保護
膜の形成方法として感光性樹脂を用い、フォトリソ法を
用いる請求項1もしくは請求項2に記載の固体電解コン
デンサの製造方法であり、アルミニウム箔の表面に容易
かつ高精度に任意パターンを形成する効果を有する。こ
れにより精度よく接続端子を配置することができるため
固体電解コンデンサの信頼性が向上するとともに半導体
部品と精度よく接続することができる。
The invention according to claim 11 of the present invention is the method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein a photosensitive resin is used as a method for forming a protective film, and a photolithography method is used. It has an effect of easily and highly accurately forming an arbitrary pattern on the surface of the aluminum foil. As a result, since the connection terminals can be arranged with high precision, the reliability of the solid electrolytic capacitor can be improved and the solid electrolytic capacitor can be accurately connected.

【0022】本発明の請求項12に記載の発明は、保護
膜としてエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シリコン樹
脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂のいずれかを用いる
請求項1もしくは請求項2に記載の固体電解コンデンサ
の製造方法であり、請求項1もしくは請求項2の作用を
補完するものである。
According to a twelfth aspect of the present invention, the solid electrolytic capacitor according to the first or second aspect uses one of an epoxy resin, a polyimide resin, a silicon resin, an acrylic resin and a phenol resin as a protective film. And a method of complementing the operation of claim 1 or claim 2.

【0023】加えて、上記保護膜は絶縁性、耐溶剤性、
耐熱性、電極部であるアルミニウム箔との密着性に優れ
ているため、製造過程におけるアルミニウム箔の表面を
溶剤、酸等から保護するだけでなく固体電解コンデンサ
を外部環境から保護する効果も有するとともに電極間の
絶縁性に優れた固体電解コンデンサを提供することがで
きる。
In addition, the protective film has an insulating property, a solvent resistance,
Since it has excellent heat resistance and adhesion to the aluminum foil that is the electrode part, it not only protects the surface of the aluminum foil from solvent, acid, etc. in the manufacturing process, but also protects the solid electrolytic capacitor from the external environment. A solid electrolytic capacitor having excellent insulation between electrodes can be provided.

【0024】本発明の請求項13に記載の発明は、固体
電解質層を構成する材料としてパイ電子共役高分子およ
びまたはこれ以外の導電性高分子を含む組成物を用いる
請求項1もしくは請求項2に記載の固体電解コンデンサ
の製造方法であり、請求項1もしくは請求項2の作用を
補完するものである。なお、固有抵抗の低い導電性高分
子を用いる場合、さらなるESRの低減ができ、高周波
特性の向上に寄与する効果を有する。
According to a thirteenth aspect of the present invention, a composition containing a pi-electron conjugated polymer and / or a conductive polymer other than the pi-electron conjugated polymer is used as a material constituting the solid electrolyte layer. The method of manufacturing a solid electrolytic capacitor as described in (1) above, which complements the operation of (1) or (2). When a conductive polymer having a low specific resistance is used, the ESR can be further reduced, which has the effect of contributing to the improvement of high frequency characteristics.

【0025】本発明の請求項14に記載の発明は、固体
電解質層を形成する方法として、複素環式モノマーを酸
化剤を用いて重合する化学重合、複素環式モノマーを電
界の印加により重合する電解重合、導電性高分子の粉末
縣濁液の塗布、導電性高分子水溶液の塗布のうちの少な
くとも1つの方法を用いる請求項1もしくは請求項2に
記載の固体電解コンデンサの製造方法であり、請求項1
もしくは請求項2の作用を補完するものである。上記形
成方法によれば微細なエッチングピット孔内の誘電体被
膜の表面にも固体電解質層を形成することができるた
め、固体電解コンデンサの静電容量を有効に引き出す効
果を有する。
According to a fourteenth aspect of the present invention, as a method for forming a solid electrolyte layer, a heterocyclic monomer is chemically polymerized by using an oxidizing agent, and a heterocyclic monomer is polymerized by applying an electric field. A method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein at least one of electrolytic polymerization, application of a powder suspension of a conductive polymer, and application of a conductive polymer aqueous solution is used. Claim 1
Alternatively, the function of claim 2 is complemented. According to the above-mentioned forming method, the solid electrolyte layer can be formed also on the surface of the dielectric film in the fine etching pit hole, so that the electrostatic capacitance of the solid electrolytic capacitor can be effectively extracted.

【0026】本発明の請求項15に記載の発明は、固体
電解質層を形成する方法として、硝酸マンガンを熱分解
することにより二酸化マンガンを形成する方法を用いる
請求項1もしくは請求項2に記載の固体電解コンデンサ
の製造方法であり、硝酸マンガンを塗布した部分に選択
的に電極を形成することができるとともに、安価に生産
できる効果も有する。
According to a fifteenth aspect of the present invention, as a method of forming the solid electrolyte layer, a method of forming manganese dioxide by thermally decomposing manganese nitrate is used. This is a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, and it has an effect that electrodes can be selectively formed in a portion coated with manganese nitrate and that it can be manufactured at low cost.

【0027】本発明の請求項16に記載の発明は、固体
電解質層を形成する方法として、硝酸マンガンを熱分解
することにより二酸化マンガンを形成した後、複素環式
モノマーを酸化剤を用いて重合する化学重合、複素環式
モノマーを電界の印加により重合する電解重合、導電性
高分子の粉末縣濁液の塗布、導電性高分子水溶液の塗布
のうちの少なくとも1つの方法を用いる請求項1もしく
は請求項2に記載の固体電解コンデンサの製造方法であ
り、誘電体被膜の表面に二酸化マンガン層を形成するこ
とにより、導電性高分子が均一かつ緻密に形成できるた
め、高周波特性の向上に寄与する効果を有する。
In a sixteenth aspect of the present invention, as a method for forming a solid electrolyte layer, manganese dioxide is formed by thermally decomposing manganese nitrate, and then a heterocyclic monomer is polymerized using an oxidizing agent. At least one of chemical polymerization, electrolytic polymerization in which a heterocyclic monomer is polymerized by applying an electric field, application of a powder suspension of a conductive polymer, and application of an aqueous solution of a conductive polymer. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 2, wherein the conductive polymer can be uniformly and densely formed by forming the manganese dioxide layer on the surface of the dielectric film, which contributes to improvement of high frequency characteristics. Have an effect.

【0028】本発明の請求項17に記載の発明は、集電
体材料として、カーボン微粒子の懸濁液および導電性接
着剤、もしくはカーボン微粒子の懸濁液および導電性塗
料を用いる請求項1もしくは請求項2に記載の固体電解
コンデンサの製造方法であり、実質の電極である固体電
解質層と見かけの電極である集電体層との密着性を向上
させることにより、ESRを低減し、高周波特性の向上
に寄与する効果を有する。
According to a seventeenth aspect of the present invention, a suspension of carbon fine particles and a conductive adhesive, or a suspension of carbon fine particles and a conductive paint is used as the current collector material. It is a manufacturing method of the solid electrolytic capacitor according to claim 2, ESR is reduced and high frequency characteristics are improved by improving the adhesiveness of the solid electrolyte layer which is a substantial electrode, and the collector layer which is an apparent electrode. Has the effect of contributing to the improvement of

【0029】本発明の請求項18に記載の発明は、接続
電極の材料として、導電性接着剤と金属箔を用いる請求
項2に記載の固体電解コンデンサの製造方法であり、集
電体層とスルホール電極とを電気的に接合する効果を有
する。集電体層とスルホール電極とを電気的に接合し、
集電体層によって引き出された固体電解コンデンサの電
荷をスルホール電極に運ぶ働きをするものである。
The invention according to claim 18 of the present invention is the method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 2, wherein a conductive adhesive and a metal foil are used as the material of the connecting electrode. It has the effect of electrically connecting to the through-hole electrode. Electrically connecting the current collector layer and the through-hole electrode,
It serves to carry the electric charge of the solid electrolytic capacitor extracted by the collector layer to the through-hole electrode.

【0030】コンデンサ素子の片面側に導電性接着剤を
介して金属箔を接合することにより、導電性接着剤を用
いてスルホール電極を形成する場合、スルホール孔に導
電性接着剤を充填しやすくなりスルホール電極を形成し
やすいという効果を有する。
When a through-hole electrode is formed by using a conductive adhesive by bonding a metal foil to one side of a capacitor element through the conductive adhesive, it becomes easy to fill the through-hole with the conductive adhesive. It has an effect that a through-hole electrode can be easily formed.

【0031】また、電気めっき、無電解めっきによりス
ルホール電極を形成する場合は、スルホール孔内の金属
箔の面がスルホール電極の形成の起点となり、均一かつ
簡便にスルホール電極を一括形成することができる。
When the through-hole electrode is formed by electroplating or electroless plating, the surface of the metal foil in the through-hole serves as a starting point for forming the through-hole electrode, and the through-hole electrode can be uniformly and easily formed at one time. .

【0032】本発明の請求項19に記載の発明は、開口
部を形成する方法としてレーザー加工法、研削法のいず
れかの方法を用いる請求項1もしくは請求項2に記載の
固体電解コンデンサの製造方法であり、保護膜を効率よ
く加工して開口部を形成することができる。
The invention according to claim 19 of the present invention is the method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein any one of a laser processing method and a grinding method is used as a method for forming an opening. This is a method and the opening can be formed by efficiently processing the protective film.

【0033】本発明の請求項20に記載の発明は、接続
端子を形成する方法として電気めっき、無電解めっきの
いずれかの方法を用いる請求項1もしくは請求項2に記
載の固体電解コンデンサの製造方法であり、接続端子を
所望の箇所に均一かつ簡便に一括形成することができ
る。その結果として固体電解コンデンサの信頼性が向上
するとともに生産性の向上に寄与する効果も有する。
The invention according to claim 20 of the present invention is the method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein any one of electroplating and electroless plating is used as a method for forming a connection terminal. This is a method, and the connection terminals can be uniformly and easily collectively formed at desired locations. As a result, the reliability of the solid electrolytic capacitor is improved and the productivity is improved.

【0034】本発明の請求項21に記載の発明は、接続
端子を構成する材料として導電性接着剤を用いた請求項
1もしくは請求項2に記載の固体電解コンデンサの製造
方法であり、塗布、硬化が容易であるため、生産性の向
上に寄与する効果を有する。
The invention according to claim 21 of the present invention is the method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein a conductive adhesive is used as a material for forming the connection terminal. Since it is easily cured, it has an effect of contributing to improvement in productivity.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明の固体電解コンデン
サの製造方法について実施の形態および図面を用いて説
明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor of the present invention will be described below with reference to embodiments and drawings.

【0036】(実施の形態1)本発明の実施の形態1お
よび図1〜図13により請求項1、3〜8、10〜1
7、19〜21に記載の発明を説明する。
(Embodiment 1) Claims 1, 3 to 8 and 10 to 1 according to Embodiment 1 of the present invention and FIGS.
The inventions described in Nos. 7 and 19 to 21 will be described.

【0037】図1は本発明の実施の形態1における固体
電解コンデンサの斜視図であり、図2は同断面図、図3
は同要部の拡大断面図である。
FIG. 1 is a perspective view of a solid electrolytic capacitor according to Embodiment 1 of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of the same, and FIG.
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the relevant part.

【0038】図1〜図3において、20は片面側が粗面
化されたアルミニウム箔であり、このアルミニウム箔2
0の粗面上に誘電体被膜27を形成している。さらにそ
の表面には実質の電極となる固体電解質層29が形成さ
れ、アルミニウム箔20とともにコンデンサとして機能
する。アルミニウム箔20の粗面化は電極部の表面積を
拡大し、固体電解コンデンサの静電容量を向上させるた
めに行っている。
In FIGS. 1 to 3, reference numeral 20 denotes an aluminum foil having one surface roughened.
A dielectric film 27 is formed on the rough surface of No. 0. Further, a solid electrolyte layer 29 that serves as a substantial electrode is formed on the surface thereof, and functions as a capacitor together with the aluminum foil 20. The roughening of the aluminum foil 20 is performed in order to increase the surface area of the electrode portion and improve the capacitance of the solid electrolytic capacitor.

【0039】上記固体電解質層29の表面には、外部へ
の電極取り出しを容易にするため集電体層30が設けら
れており、さらにこの集電体層30はスルホール電極2
8を介して第二の接続端子32と接続している。
A current collector layer 30 is provided on the surface of the solid electrolyte layer 29 to facilitate the extraction of the electrode to the outside, and the current collector layer 30 is used as the through-hole electrode 2.
It is connected to the second connection terminal 32 via 8.

【0040】上記スルホール電極28はスルホール孔2
4の内部に導電体を充填することによって形成され、ア
ルミニウム箔20とは絶縁膜25によって電気的に絶縁
されている。
The through-hole electrode 28 is the through-hole 2
It is formed by filling the inside of 4 with a conductor, and is electrically insulated from the aluminum foil 20 by an insulating film 25.

【0041】第一の接続端子31はアルミニウム箔20
と直接接続されており、第一の接続端子31と第二の接
続端子32は保護膜21により電気的に絶縁されてい
る。また、第一、第二の接続端子31,32には半導体
部品と直接接続するために、第一、第二の接続バンプ3
3,34がそれぞれ設けられている。
The first connection terminal 31 is the aluminum foil 20.
And the first connection terminal 31 and the second connection terminal 32 are electrically insulated by the protective film 21. Further, the first and second connection terminals 31 and 32 are connected to the semiconductor component directly so that the first and second connection bumps 3 are formed.
3, 34 are provided respectively.

【0042】上記のように第一の接続端子31および第
二の接続端子32を同一面上に配置する構成にすること
により、固体電解コンデンサに直接、半導体部品を接続
することができる。これにより、部品間の配線を大幅に
短縮することができ、ESRやESLの低減が可能とな
る。さらに図1で示すような接続端子の配置とすること
によって、逆方向の電流の流れになるため、これにより
磁界が打ち消しあいESLが低減できる効果が得られ
る。
By arranging the first connecting terminal 31 and the second connecting terminal 32 on the same surface as described above, the semiconductor component can be directly connected to the solid electrolytic capacitor. As a result, wiring between components can be significantly shortened, and ESR and ESL can be reduced. Further, by arranging the connection terminals as shown in FIG. 1, current flows in the opposite directions, so that the magnetic fields cancel each other and the ESL can be reduced.

【0043】図4〜図12は固体電解コンデンサの製造
工程を示す断面図である。
4 to 12 are sectional views showing the manufacturing process of the solid electrolytic capacitor.

【0044】図4はアルミニウム箔20の片面側の粗面
上に誘電体被膜27、他面側に保護膜21をそれぞれ形
成したものであり、スルホール電極28を形成する部分
にスルホール孔24を形成したのが図5である。
In FIG. 4, a dielectric film 27 is formed on the rough surface on one side of the aluminum foil 20, and a protective film 21 is formed on the other side, and a through hole 24 is formed in a portion where a through hole electrode 28 is formed. This is shown in FIG.

【0045】保護膜21の形成方法としてはスピンコー
タ、スクリーン印刷、フィルム接着法、スプレー法が挙
げられ、いずれも、容易かつ生産性高くこれらの膜を形
成することができる。
Examples of the method for forming the protective film 21 include a spin coater, screen printing, a film bonding method, and a spray method, and any of these can form these films easily and with high productivity.

【0046】次にスルホール孔24の内壁に絶縁膜25
を形成したものが図6であり、絶縁膜25の形成方法と
しては、電着法、スルホール孔24の他面側の表出面を
覆うように絶縁樹脂を塗布しスルホール孔24の片面側
から吸引する方法が挙げられる。
Next, the insulating film 25 is formed on the inner wall of the through hole 24.
FIG. 6 shows that the insulating film 25 is formed by an electrodeposition method, an insulating resin is applied so as to cover the exposed surface of the through hole 24 on the other side, and suction is applied from one side of the through hole 24. There is a method of doing.

【0047】絶縁膜25を形成するのに電着法を用いる
場合、アルミニウム箔20および誘電体被膜27のスル
ホール孔24の内壁に信頼性の優れた絶縁膜25を均一
に形成することができる。この絶縁膜25の材料はアク
リルやエポキシ樹脂などであって、アルミニウム箔20
および誘電体被膜27のスルホール孔24の内壁にのみ
電着され、選択的に絶縁膜25の形成を行うことができ
る。
When the electrodeposition method is used to form the insulating film 25, the highly reliable insulating film 25 can be uniformly formed on the inner wall of the through hole 24 of the aluminum foil 20 and the dielectric film 27. The material of the insulating film 25 is acrylic or epoxy resin, and the aluminum foil 20
Also, the insulating film 25 can be selectively formed by electrodeposition only on the inner wall of the through hole 24 of the dielectric film 27.

【0048】ただし、スルホール孔24が100μm以
下の微細孔の場合、エッジカバーリング性の高い樹脂を
用いると形成される絶縁膜25が厚いためスルホール孔
24が埋まる可能性が高い。そこで、電着プロセスを2
回に分け、絶縁性の樹脂を第1層目として形成し、その
後1層目に比べ抵抗率が高くマイクロジェルとカーボン
微粒子と酸化チタン微粒子を混合した絶縁性の樹脂を第
2層目として形成する方法が有効である。
However, when the through hole 24 is a fine hole having a size of 100 μm or less, the through hole 24 is likely to be filled because the insulating film 25 formed by using a resin having a high edge covering property is thick. Therefore, the electrodeposition process is 2
The insulating resin is formed as the first layer, and then the insulating resin having a higher resistivity than the first layer and mixed with microgel, carbon fine particles, and titanium oxide fine particles is formed as the second layer. The method of doing is effective.

【0049】すなわち、上記の方法によれば、1層目に
抵抗率の高い絶縁膜を薄く形成しエッジカバーリング性
が高い混合樹脂を2層目に形成することにより、膜厚が
薄くかつ絶縁不良率の少ない絶縁膜25をスルホール孔
24の内壁にも形成することができるためスルホール孔
24が埋まることがなく絶縁性の高い絶縁膜25を形成
することができる。
That is, according to the above method, the insulating film having a high resistivity is formed thinly in the first layer, and the mixed resin having a high edge covering property is formed in the second layer. Since the insulating film 25 having a low defect rate can be formed also on the inner wall of the through hole 24, the insulating film 25 having a high insulating property can be formed without filling the through hole 24.

【0050】また、絶縁膜25を形成するのにスルホー
ル孔24の他面側の表出面を覆うように絶縁樹脂を塗布
しスルホール孔24の片面側から吸引する方法を用いる
場合、絶縁樹脂の塗布方法としては印刷、ディスペンサ
ー、ポッティングの方法が挙げられ、上記絶縁樹脂を精
度よくかつ効率的に塗布することができる。
When the method of applying the insulating resin so as to cover the exposed surface on the other surface of the through hole 24 and forming the insulating film 25 by suction from one side of the through hole 24, the insulating resin is applied. Examples of the method include a printing method, a dispenser method, and a potting method, and the insulating resin can be applied accurately and efficiently.

【0051】また、スルホール孔24の片面側から吸引
する方法としては、例えば、エアーポンプ等を用いて吸
引する方法が挙げられる。
As a method of sucking from one side of the through hole 24, for example, a method of using an air pump or the like can be cited.

【0052】上記方法により絶縁膜25を形成したもの
が図14であり、スルホール孔24の内壁全面に絶縁膜
25を簡便かつ効率的に形成することができる。
The insulating film 25 formed by the above method is shown in FIG. 14, and the insulating film 25 can be easily and efficiently formed on the entire inner wall of the through hole 24.

【0053】また、電着法、スルホール孔24の他面側
の表出面を覆うように絶縁樹脂を塗布しスルホール孔2
4の片面側から吸引する方法を組み合わせて行うことも
可能である。
In addition, by the electrodeposition method, an insulating resin is applied so as to cover the exposed surface on the other surface side of the through hole 24, and the through hole 2 is formed.
It is also possible to combine the methods of suctioning from one side of No. 4 described above.

【0054】この場合、アルミニウム箔20と後に形成
されるスルホール電極28との絶縁性がさらに高まり、
その結果として固体電解コンデンサの信頼性をさらに向
上させることができる。
In this case, the insulating property between the aluminum foil 20 and the through-hole electrode 28 formed later is further improved,
As a result, the reliability of the solid electrolytic capacitor can be further improved.

【0055】次に上記誘電体被膜27の表面に固体電解
質層29を形成したものが図7であり、この固体電解質
層29を形成する方法としては、ピロール、チオフェン
などの複素環式モノマーを硫酸第二鉄などの酸化剤を用
いて重合する化学重合、複素環式モノマー溶液中にアル
ミニウム箔20を浸漬し電界を印加する電解重合により
導電性を有する高分子を形成する方法、硝酸マンガンを
熱分解することにより二酸化マンガンを形成する方法、
導電性高分子の粉末縣濁液を塗布する方法、導電性高分
子水溶液を塗布する方法などがあり、上記の方法を組み
合わせて行うことも可能である。
Next, FIG. 7 shows a solid electrolyte layer 29 formed on the surface of the dielectric coating 27. As a method for forming the solid electrolyte layer 29, a heterocyclic monomer such as pyrrole or thiophene is mixed with sulfuric acid. A method for forming a polymer having conductivity by chemical polymerization in which an oxidizer such as ferric iron is used for polymerization, electrolytic polymerization in which an aluminum foil 20 is immersed in a heterocyclic monomer solution and an electric field is applied, and manganese nitrate is heated. A method of forming manganese dioxide by decomposing,
There are a method of applying a powder suspension of a conductive polymer, a method of applying a conductive polymer aqueous solution, and the like, and it is also possible to combine the above methods.

【0056】これらの材料および方法によれば、微細な
エッチングピット孔内の誘電体被膜27の表面にも固体
電解質層29を形成することができるため、固体電解コ
ンデンサの静電容量を有効に引き出すことができる。ま
た、固体電解質層29が有機材料の場合、固体電解質層
29が柔軟性に富むため、工程中等における破壊が防止
できる。
According to these materials and methods, the solid electrolyte layer 29 can be formed also on the surface of the dielectric film 27 in the fine etching pit holes, so that the capacitance of the solid electrolytic capacitor can be effectively extracted. be able to. Further, when the solid electrolyte layer 29 is an organic material, the solid electrolyte layer 29 is rich in flexibility, so that it is possible to prevent breakage during the process or the like.

【0057】なお、図13のように、上記誘電体被膜2
7の表面だけでなく、絶縁膜25の片面側の表出面にも
固体電解質層29を形成してもよい。
As shown in FIG. 13, the dielectric coating 2
The solid electrolyte layer 29 may be formed not only on the surface of No. 7 but also on the exposed surface on one side of the insulating film 25.

【0058】続いてスルホール孔内を埋めるようにして
スルホール電極28を形成したものが図8であり、スル
ホール電極28の形成方法として導電性接着剤を充填し
た後硬化する方法やスルホール電極28としてパイ電子
共役高分子およびまたはこれ以外の導電性高分子を含む
組成物からなる固体電解質を用いる方法が挙げられる。
Next, FIG. 8 shows the through-hole electrode 28 formed so as to fill the through-hole hole. As a method of forming the through-hole electrode 28, a method of filling a conductive adhesive and then hardening it, or forming a through-hole electrode 28 is used. Examples thereof include a method of using a solid electrolyte composed of a composition containing an electron conjugated polymer and / or a conductive polymer other than this.

【0059】前者の場合、導電性接着剤の塗布、硬化が
容易であるため、生産性を向上することができ、後者の
場合、上記スルホール電極28の材料を上記固体電解質
層29の材料と同一とすることにより、固体電解質層2
9の形成工程とスルホール電極28の形成工程を連続し
て一つの工程で行うことができるため、工程の簡略化が
可能となる。
In the former case, it is easy to apply and cure the conductive adhesive, so that the productivity can be improved. In the latter case, the material of the through-hole electrode 28 is the same as the material of the solid electrolyte layer 29. By setting the solid electrolyte layer 2
Since the step of forming 9 and the step of forming the through-hole electrode 28 can be continuously performed in one step, the steps can be simplified.

【0060】なお、後者のパイ電子共役高分子およびま
たはこれ以外の導電性高分子を含む組成物からなる固体
電解質をスルホール電極28として用いる場合、この形
成方法としてはピロール、チオフェンなどの複素環式モ
ノマーを硫酸第二鉄などの酸化剤を用いて重合する化学
重合、複素環式モノマー溶液中にアルミニウム箔20を
浸漬し電界を印加する電解重合により導電性を有する高
分子を形成する方法、導電性高分子の粉末縣濁液を塗布
する方法、導電性高分子水溶液を塗布する方法などが挙
げられる。
When a solid electrolyte composed of the latter pi-electron conjugated polymer and / or a composition containing a conductive polymer other than this is used as the through-hole electrode 28, the forming method is a heterocyclic system such as pyrrole or thiophene. A method of forming a polymer having conductivity by chemical polymerization in which a monomer is polymerized with an oxidizing agent such as ferric sulfate, or electrolytic polymerization in which an aluminum foil 20 is immersed in a heterocyclic monomer solution and an electric field is applied, Examples include a method of applying a powder suspension of a conductive polymer and a method of applying a conductive polymer aqueous solution.

【0061】ここでスルホール電極28は集電体層30
によって引き出された固体電解コンデンサの電荷を第二
の接続端子32に運ぶ働きをするものであるため、電気
伝導度のより高い固体電解質を材料として選定すること
が望ましい。
Here, the through-hole electrode 28 is the collector layer 30.
Since it functions to carry the electric charge of the solid electrolytic capacitor extracted by the second connecting terminal 32, it is desirable to select a solid electrolyte having higher electric conductivity as a material.

【0062】次に上記スルホール電極28の片面側の表
出面および上記固体電解質層29の表面に集電体層30
を形成したものが図9であり、形成方法としては、カー
ボン微粒子の懸濁液および導電性接着剤、もしくはカー
ボン微粒子の懸濁液および導電性塗料の塗布が挙げられ
る。
Next, the current collector layer 30 is formed on the exposed surface on one side of the through-hole electrode 28 and the surface of the solid electrolyte layer 29.
9 is formed, and examples of the forming method include application of a suspension of carbon fine particles and a conductive adhesive, or a suspension of carbon fine particles and a conductive paint.

【0063】上記の方法により実質の電極である固体電
解質層29と見かけの電極である集電体層30との密着
性が向上することにより、ESRを低減し、高周波特性
の向上に寄与する効果を有する。
By the above method, the adhesion between the solid electrolyte layer 29, which is the actual electrode, and the current collector layer 30, which is the apparent electrode, is improved, thereby reducing the ESR and contributing to the improvement of high frequency characteristics. Have.

【0064】図10は上記保護膜21の所定の位置に開
口部37を設けたものであり、この開口部37を設ける
方法としては、レーザー加工法、研削法が挙げられ、こ
れらの方法を用いることにより保護膜21を効率よく加
工して開口部37を形成することができる。
FIG. 10 shows an opening 37 provided at a predetermined position of the protective film 21. As a method of providing the opening 37, a laser processing method and a grinding method can be mentioned, and these methods are used. As a result, the protective film 21 can be efficiently processed to form the opening 37.

【0065】次に上記開口部37に第一の接続端子31
を形成したものが図11であり、この第一の接続端子3
1を形成する方法としては、導電性接着剤を塗布した後
硬化する方法や電気めっき、無電解めっき等が挙げられ
る。
Next, the first connection terminal 31 is placed in the opening 37.
FIG. 11 shows that the first connection terminal 3 is formed.
Examples of the method of forming No. 1 include a method of applying a conductive adhesive and then curing it, electroplating, electroless plating, and the like.

【0066】導電性接着剤の塗布の場合、塗布、硬化が
容易であるため、生産性を向上することができ、また、
電気めっき、無電解めっきの場合、上記開口部37およ
びスルホール電極28の他面側の表出面以外は保護膜2
1で覆われているため、スルホール電極28の他面側の
表出面および片面側を絶縁テープ等により被覆保護する
ことにより、第一の接続端子31を均一かつ簡便に一括
形成することができる。
In the case of applying a conductive adhesive, productivity can be improved because application and curing are easy.
In the case of electroplating or electroless plating, the protective film 2 except for the opening 37 and the exposed surface on the other surface of the through-hole electrode 28.
Since the through-hole electrode 28 is covered with the first contact terminal 31, the first connecting terminal 31 can be uniformly and easily formed collectively by covering and protecting the exposed surface and the one-side surface of the through-hole electrode 28 on the other surface side with an insulating tape or the like.

【0067】第二の接続端子32はスルホール電極28
の他面側の表出面になるが、半導体部品との接続を良好
にするために必要に応じて電気めっき、無電解めっきを
行い第二の接続端子32を形成してもよい。その際は、
片面側のみを上記絶縁テープ等により被覆保護すること
により、第一の接続端子31および第二の接続端子32
を一括形成することができる。
The second connection terminal 32 is the through-hole electrode 28.
Although it is the exposed surface on the other surface side, electroplating or electroless plating may be performed as necessary to form the second connection terminal 32 in order to improve the connection with the semiconductor component. In that case,
The first connecting terminal 31 and the second connecting terminal 32 are formed by covering and protecting only one side with the insulating tape or the like.
Can be collectively formed.

【0068】図12は図11の第一の接続端子31およ
びスルホール電極28の表出面の上に半田、金、錫や銀
などからなる第一、第二の接続バンプ33,34を形成
したものであり、これにより半導体部品との直接接続が
可能となる。
In FIG. 12, first and second connection bumps 33 and 34 made of solder, gold, tin, silver or the like are formed on the exposed surfaces of the first connection terminal 31 and the through-hole electrode 28 of FIG. As a result, direct connection with semiconductor components becomes possible.

【0069】以上のような製造方法によれば、低ESR
化、低ESL化を実現し、高周波特性の優れた固体電解
コンデンサを容易に提供することができる。
According to the above manufacturing method, low ESR is achieved.
And a low ESL, and a solid electrolytic capacitor having excellent high frequency characteristics can be easily provided.

【0070】(実施の形態2)本発明の実施の形態2お
よび図15〜図19により請求項2,9,18に記載の
発明を説明する。
(Embodiment 2) The invention according to claims 2, 9 and 18 will be described with reference to Embodiment 2 of the present invention and FIGS.

【0071】図15〜図19は実施の形態2における固
体電解コンデンサの製造工程を示す断面図である。図1
5は実施の形態1の図7の固体電解質層29の表面に集
電体層30を形成したものであり、実施の形態1と同様
の工法により製造される。
15 to 19 are sectional views showing the steps of manufacturing the solid electrolytic capacitor in the second embodiment. Figure 1
Reference numeral 5 denotes a solid electrolyte layer 29 of FIG. 7 of the first embodiment, on which a current collector layer 30 is formed, which is manufactured by the same method as that of the first embodiment.

【0072】次に上記集電体層30の表面およびスルホ
ール孔24の片面側の表出面に接続電極38を形成した
ものが図16である。
Next, FIG. 16 shows the connection electrode 38 formed on the surface of the current collector layer 30 and the exposed surface on one side of the through hole 24.

【0073】この接続電極38は、材料として導電性接
着剤と金属箔を用いたものであり、この接続電極38は
集電体層30とスルホール電極28を電気的に接続し、
集電体層30によって引き出された固体電解コンデンサ
の電荷をスルホール電極28に運ぶ働きをする。したが
って、金属箔は電気伝導度の比較的高い金属、例えば
銀、銅などを用いるのが望ましい。
The connection electrode 38 uses a conductive adhesive and a metal foil as materials, and the connection electrode 38 electrically connects the collector layer 30 and the through-hole electrode 28,
It serves to carry the electric charge of the solid electrolytic capacitor extracted by the collector layer 30 to the through-hole electrode 28. Therefore, it is desirable to use a metal having a relatively high electric conductivity, such as silver or copper, for the metal foil.

【0074】次にスルホール孔内を埋めるようにスルホ
ール電極28を形成したものが図17であり、このスル
ホール電極28の形成方法としては導電性接着剤を塗布
し、硬化する方法、電気めっき、無電解めっきが挙げら
れる。
Next, FIG. 17 shows a through hole electrode 28 formed so as to fill the inside of the through hole. As a method of forming this through hole electrode 28, a method of applying a conductive adhesive and curing it, electroplating, Electrolytic plating is included.

【0075】導電性接着剤を塗布し、硬化する方法は、
スルホール孔内への導電性接着剤の充填、硬化が容易で
あるため、高い生産性を有する。
The method of applying and curing the conductive adhesive is
Since it is easy to fill and cure the conductive adhesive in the through hole, it has high productivity.

【0076】電気めっき、無電解めっきの場合は、片面
側全面を絶縁テープ等で被覆保護することによりスルホ
ール孔内に均一かつ簡便にスルホール電極28を一括形
成することができるため、固体電解コンデンサの信頼性
が向上するとともに生産性の向上に寄与する効果も有す
る。
In the case of electroplating or electroless plating, it is possible to uniformly and easily collectively form the through-hole electrodes 28 in the through-holes by covering the entire surface on one side with an insulating tape or the like. It also has the effect of improving reliability and contributing to improvement of productivity.

【0077】次に保護膜の所定の位置に開口部37を設
けたのが図18、この開口部37に第一の接続端子31
を形成したものが図19であり、いずれも実施の形態1
と同様の工法により製造される。
Next, an opening 37 is provided at a predetermined position of the protective film in FIG. 18, and the first connecting terminal 31 is provided in this opening 37.
FIG. 19 shows that the first embodiment is formed.
It is manufactured by the same method as.

【0078】第二の接続端子32はスルホール電極28
の他面側の表出面になるが、半導体部品との接続を良好
にするために必要に応じて電気めっき、無電解めっきを
行い第二の接続端子32を形成してもよい。その際は、
片面側のみを上記絶縁テープ等により被覆保護すること
により、第一の接続端子31および第二の接続端子32
を一括形成することができる。
The second connection terminal 32 is the through-hole electrode 28.
Although it is the exposed surface on the other surface side, electroplating or electroless plating may be performed as necessary to form the second connection terminal 32 in order to improve the connection with the semiconductor component. In that case,
The first connecting terminal 31 and the second connecting terminal 32 are formed by covering and protecting only one side with the insulating tape or the like.
Can be collectively formed.

【0079】実施の形態1の図12のように図18の第
一の接続端子31およびスルホール電極28の表出面の
上に半田、金、錫や銀などからなる第一、第二の接続バ
ンプ33,34を形成することにより半導体部品との直
接接続が可能となる。
As shown in FIG. 12 of the first embodiment, first and second connection bumps made of solder, gold, tin, silver or the like are formed on the exposed surfaces of the first connection terminal 31 and the through-hole electrode 28 of FIG. By forming 33 and 34, direct connection with a semiconductor component becomes possible.

【0080】本実施の形態2が実施の形態1と異なる点
は接続電極38を設ける点であり、これにより以下の利
点を有する。
The second embodiment differs from the first embodiment in that the connection electrode 38 is provided, which has the following advantages.

【0081】すなわち、スルホール電極28を形成する
のに導電性接着剤を用いる場合、接続電極38を形成
し、その後スルホール電極28を形成するのでスルホー
ル孔24に導電性接着剤を充填しやすくなりスルホール
電極28を形成しやすいという効果を有する。
That is, when a conductive adhesive is used to form the through-hole electrode 28, the connecting electrode 38 is formed and then the through-hole electrode 28 is formed, so that the through-hole 24 can be easily filled with the conductive adhesive. This has the effect of easily forming the electrode 28.

【0082】また、スルホール電極28を形成するのに
電気めっき、無電解めっきを用いる場合、上記接続電極
38がスルホール電極28の形成の起点となる。
When electroplating or electroless plating is used to form the through-hole electrode 28, the connection electrode 38 serves as a starting point for forming the through-hole electrode 28.

【0083】すなわち、接続電極38を形成することに
よりスルホール電極28の形成方法として電気めっき、
無電解めっきを用いることが可能となり、このスルホー
ル電極28の形成方法に関して選択の幅を広げることが
できる。
That is, electroplating is performed as a method of forming the through-hole electrode 28 by forming the connection electrode 38.
It is possible to use electroless plating, and it is possible to broaden the selection range regarding the method of forming the through-hole electrode 28.

【0084】さらに、集電体層30とスルホール電極2
8を電気的に接続する伝導経路として導電性接着剤によ
る接続電極38に加え金属箔による接続電極38を設け
ることになるので電荷の移動がしやすくなり、その結果
として高周波特性が向上するものである。
Further, the current collector layer 30 and the through-hole electrode 2
As the conductive path for electrically connecting 8 to each other, the connection electrode 38 made of a conductive adhesive is provided in addition to the connection electrode 38 made of a metal foil, which facilitates the transfer of charges, and as a result, improves the high frequency characteristics. is there.

【0085】以上のような製造方法によれば、低ESR
化、低ESL化を実現し、高周波特性の優れた固体電解
コンデンサを容易に提供することができる。
According to the above manufacturing method, low ESR is achieved.
And a low ESL, and a solid electrolytic capacitor having excellent high frequency characteristics can be easily provided.

【0086】[0086]

【発明の効果】上記の通り本発明は、低ESR化、低E
SL化を実現し、高周波特性の優れた固体電解コンデン
サを容易に提供でき、かつ高い生産性を実現することが
できるものであり、その工業的価値は大なるものであ
る。
As described above, the present invention has a low ESR and a low E.
It is possible to realize SL, easily provide a solid electrolytic capacitor having excellent high frequency characteristics, and realize high productivity, and its industrial value is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態における固体電解コンデン
サの斜視図
FIG. 1 is a perspective view of a solid electrolytic capacitor according to an embodiment of the present invention.

【図2】同断面図FIG. 2 is a sectional view of the same.

【図3】同要部の拡大断面図FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the relevant part.

【図4】同アルミニウム箔に他面側に保護膜を形成した
状態の断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view of the aluminum foil with a protective film formed on the other surface side.

【図5】同アルミニウム箔にスルホール孔を形成した状
態の断面図
FIG. 5 is a cross-sectional view of the aluminum foil with through holes formed therein.

【図6】同スルホール孔の内壁に絶縁膜を形成した状態
の断面図
FIG. 6 is a sectional view showing a state in which an insulating film is formed on the inner wall of the through hole.

【図7】同誘電体被膜の表面に固体電解質層を形成した
状態の断面図
FIG. 7 is a cross-sectional view of a state in which a solid electrolyte layer is formed on the surface of the dielectric film.

【図8】同スルホール孔内に導電体を充填した状態の断
面図
FIG. 8 is a sectional view showing a state where a conductor is filled in the through hole.

【図9】同固体電解質層の表面およびスルホール電極の
片面側の表出面に集電体層を形成した状態の断面図
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which a current collector layer is formed on the surface of the solid electrolyte layer and the exposed surface on one side of the through-hole electrode.

【図10】同保護膜に開口部を設けた状態の断面図FIG. 10 is a sectional view showing a state in which an opening is provided in the protective film.

【図11】同開口部に第一の接続端子を形成した状態の
断面図
FIG. 11 is a sectional view showing a state in which a first connection terminal is formed in the opening.

【図12】同接続バンプを形成した状態の断面図FIG. 12 is a sectional view showing a state in which the connection bumps are formed.

【図13】同誘電体被膜の表面および絶縁膜の片面側の
表出面に固体電解質層を形成した状態の断面図
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which a solid electrolyte layer is formed on the surface of the dielectric film and the exposed surface on one side of the insulating film.

【図14】同絶縁膜を形成した状態の断面図FIG. 14 is a sectional view showing a state in which the insulating film is formed.

【図15】同固体電解質層の表面に集電体層を形成した
状態の断面図
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state where a current collector layer is formed on the surface of the solid electrolyte layer.

【図16】同集電体層の表面およびスルホール孔の片面
側の表出面に接続電極を形成した状態の断面図
FIG. 16 is a cross-sectional view showing a state in which a connection electrode is formed on the surface of the current collector layer and the exposed surface on one side of the through hole.

【図17】同スルホール孔内に導電体を充填した状態の
断面図
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a state where a conductor is filled in the through hole.

【図18】同保護膜に開口部を設けた状態の断面図FIG. 18 is a sectional view showing a state in which an opening is provided in the protective film.

【図19】同開口部に第一の接続端子を形成した状態の
断面図
FIG. 19 is a sectional view showing a state in which a first connection terminal is formed in the opening.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 アルミニウム箔 21 保護膜 24 スルホール孔 25 絶縁膜 27 誘電体被膜 28 スルホール電極 29 固体電解質層 30 集電体層 31 第一の接続端子 32 第二の接続端子 33 第一の接続バンプ 34 第二の接続バンプ 37 開口部 38 接続電極 20 aluminum foil 21 Protective film 24 Through hole 25 insulating film 27 Dielectric coating 28 Through-hole electrode 29 Solid electrolyte layer 30 Current collector layer 31 First connection terminal 32 Second connection terminal 33 First connection bump 34 Second connection bump 37 opening 38 Connection electrode

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01G 9/14 H01G 9/02 331H 13/00 371 321 9/24 A 9/05 H (72)発明者 藤井 達雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 中野 慎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 木村 涼 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E082 AA01 AB09 BC14 EE03 EE15 EE42 GG01 GG28 JJ06 JJ26 LL29 MM05 MM22 MM28 Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H01G 9/14 H01G 9/02 331H 13/00 371 321 9/24 A 9/05 H (72) Inventor Tatsuo Fujii Osaka 1006 Kadoma, Kadoma City, Fuchu, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Shin Nakano 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture 72 Inventor, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Ryo Kimura 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita F term in Denki Sangyo Co., Ltd. (reference) 5E082 AA01 AB09 BC14 EE03 EE15 EE42 GG01 GG28 JJ06 JJ26 LL29 MM05 MM22 MM28

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム箔の片面側の粗面上に誘電
体被膜、他面側に保護膜をそれぞれ形成し、これらの誘
電体被膜、アルミニウム箔、保護膜を貫くようにスルホ
ール孔を所定の位置に形成し、スルホール孔の内壁に絶
縁膜を形成し、上記誘電体被膜の表面に固体電解質層を
形成し、スルホール孔内を埋めるようにスルホール電極
を形成し、このスルホール電極の片面側の表出面および
上記固体電解質層の表面に集電体層を形成し、上記保護
膜の所定の位置に開口部を設け、この開口部に第一の接
続端子を、上記スルホール電極の他面側の表出面に第二
の接続端子をそれぞれ形成する固体電解コンデンサの製
造方法。
1. A dielectric film is formed on a rough surface of one side of an aluminum foil, and a protective film is formed on the other side of the aluminum foil, and through-hole holes are formed so as to penetrate the dielectric film, the aluminum foil and the protective film. The insulating film is formed on the inner wall of the through hole, the solid electrolyte layer is formed on the surface of the dielectric film, and the through hole electrode is formed so as to fill the through hole. A current collector layer is formed on the exposed surface and the surface of the solid electrolyte layer, an opening is provided at a predetermined position of the protective film, a first connection terminal is provided in this opening, and the other surface side of the through-hole electrode is formed. A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, wherein a second connection terminal is formed on each exposed surface.
【請求項2】 アルミニウム箔の片面側の粗面上に誘電
体被膜、他面側に保護膜をそれぞれ形成し、これらの誘
電体被膜、アルミニウム箔、保護膜を貫くようにスルホ
ール孔を所定の位置に形成し、スルホール孔の内壁に絶
縁膜を形成し、上記誘電体被膜の表面に固体電解質層を
形成し、この固体電解質層の表面に集電体層を形成し、
この集電体層の表面およびスルホール孔の片面側の表出
面に接続電極を形成し、スルホール孔内を埋めるように
スルホール電極を形成し、上記保護膜の所定の位置に開
口部を設け、この開口部に第一の接続端子を、上記スル
ホール電極の他面側の表出面に第二の接続端子をそれぞ
れ形成する固体電解コンデンサの製造方法。
2. A dielectric film is formed on a rough surface of one side of an aluminum foil, and a protective film is formed on the other side of the aluminum foil, and through-hole holes are formed so as to penetrate the dielectric film, the aluminum foil and the protective film. Formed in a position, an insulating film is formed on the inner wall of the through hole, a solid electrolyte layer is formed on the surface of the dielectric film, and a current collector layer is formed on the surface of the solid electrolyte layer.
A connection electrode is formed on the surface of the current collector layer and the exposed surface on one side of the through-hole, a through-hole electrode is formed so as to fill the inside of the through-hole, and an opening is provided at a predetermined position of the protective film. A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, wherein a first connection terminal is formed in an opening and a second connection terminal is formed on an exposed surface of the through-hole electrode on the other surface side.
【請求項3】 絶縁膜の形成方法として電着法、スルホ
ール孔の他面側の表出面を覆うように絶縁樹脂を塗布し
スルホール孔の片面側から吸引する方法の少なくとも一
つの方法を用いる請求項1もしくは請求項2に記載の固
体電解コンデンサの製造方法。
3. A method of forming an insulating film, wherein at least one of an electrodeposition method and a method of applying an insulating resin so as to cover the exposed surface of the other side of the through hole and sucking from one side of the through hole is used. Item 1. A method of manufacturing a solid electrolytic capacitor according to Item 1 or 2.
【請求項4】 絶縁膜として電着法により絶縁性の樹脂
を第1層目として形成し、その後1層目に比べ抵抗率が
高くマイクロジェルとカーボン微粒子と酸化チタン微粒
子を混合した絶縁性の樹脂を第2層目として形成する請
求項3に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
4. An insulating film in which an insulating resin is formed as a first layer by an electrodeposition method as an insulating film, and the resistivity is higher than that of the first layer and microgel, carbon fine particles and titanium oxide fine particles are mixed. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 3, wherein a resin is formed as the second layer.
【請求項5】 絶縁樹脂の塗布方法として印刷、ディス
ペンサー、ポッティングのいずれか一つの方法を用いる
請求項3に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
5. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 3, wherein any one of printing, dispenser and potting is used as a method of applying the insulating resin.
【請求項6】 スルホール孔の形成方法としてレーザー
加工法、パンチング加工法、ドリル加工法のうちの少な
くとも一つを用いる請求項1もしくは請求項2に記載の
固体電解コンデンサの製造方法。
6. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein at least one of a laser processing method, a punching processing method and a drill processing method is used as a method of forming the through hole.
【請求項7】 スルホール電極を形成するのに導電性接
着剤を塗布し、硬化する方法を用いる請求項1もしくは
請求項2に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
7. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a method of applying a conductive adhesive and curing the same is used to form the through-hole electrode.
【請求項8】 スルホール電極としてパイ電子共役高分
子およびまたはこれ以外の導電性高分子を含む組成物か
らなる固体電解質を用いる請求項1に記載の固体電解コ
ンデンサの製造方法。
8. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a solid electrolyte made of a composition containing a pi-electron conjugated polymer and / or a conductive polymer other than this is used as the through-hole electrode.
【請求項9】 スルホール電極を形成するのに電気めっ
き、無電解めっきのいずれかの方法を用いる請求項2に
記載の固体電解コンデンサの製造方法。
9. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 2, wherein either electroplating or electroless plating is used to form the through-hole electrode.
【請求項10】 保護膜の形成方法として浸漬、スピン
コータ、スクリーン印刷、フィルム接着法、スプレー法
のいずれかの方法を用いる請求項1もしくは請求項2に
記載の固体電解コンデンサの製造方法。
10. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein any one of dipping, spin coater, screen printing, film bonding method and spraying method is used as a method for forming the protective film.
【請求項11】 保護膜の形成方法として感光性樹脂を
用い、フォトリソ法を用いる請求項1もしくは請求項2
に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
11. The method according to claim 1, wherein a photosensitive resin is used as a method for forming the protective film, and a photolithography method is used.
A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor as described in.
【請求項12】 保護膜としてエポキシ樹脂、ポリイミ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂
のいずれかを用いる請求項1もしくは請求項2に記載の
固体電解コンデンサの製造方法。
12. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein any one of epoxy resin, polyimide resin, silicon resin, acrylic resin, and phenol resin is used as the protective film.
【請求項13】 固体電解質層を構成する材料としてパ
イ電子共役高分子およびまたはこれ以外の導電性高分子
を含む組成物を用いる請求項1もしくは請求項2に記載
の固体電解コンデンサの製造方法。
13. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a composition containing a pi-electron conjugated polymer and / or a conductive polymer other than this is used as a material forming the solid electrolyte layer.
【請求項14】 固体電解質層を形成する方法として、
複素環式モノマーを酸化剤を用いて重合する化学重合、
複素環式モノマーを電界の印加により重合する電解重
合、導電性高分子の粉末縣濁液の塗布、導電性高分子水
溶液の塗布のうちの少なくとも1つの方法を用いる請求
項1もしくは請求項2に記載の固体電解コンデンサの製
造方法。
14. A method for forming a solid electrolyte layer, comprising:
Chemical polymerization in which a heterocyclic monomer is polymerized using an oxidizing agent,
The method according to claim 1 or 2, wherein at least one of electrolytic polymerization in which a heterocyclic monomer is polymerized by applying an electric field, application of a powder suspension of a conductive polymer, and application of an aqueous solution of a conductive polymer is used. A method for producing the solid electrolytic capacitor described.
【請求項15】 固体電解質層を形成する方法として、
硝酸マンガンを熱分解することにより二酸化マンガンを
形成する方法を用いる請求項1もしくは請求項2に記載
の固体電解コンデンサの製造方法。
15. A method for forming a solid electrolyte layer, comprising:
The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein a method of forming manganese dioxide by thermally decomposing manganese nitrate is used.
【請求項16】 固体電解質層を形成する方法として、
硝酸マンガンを熱分解することにより二酸化マンガンを
形成した後、複素環式モノマーを酸化剤を用いて重合す
る化学重合、複素環式モノマーを電界の印加により重合
する電解重合、導電性高分子の粉末縣濁液の塗布、導電
性高分子水溶液の塗布のうちの少なくとも1つの方法を
用いる請求項1もしくは請求項2に記載の固体電解コン
デンサの製造方法。
16. A method for forming a solid electrolyte layer, comprising:
After manganese dioxide is formed by thermally decomposing manganese nitrate, chemical polymerization in which a heterocyclic monomer is polymerized with an oxidizing agent, electrolytic polymerization in which a heterocyclic monomer is polymerized by applying an electric field, and a conductive polymer powder The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2, wherein at least one method of applying a suspension and applying a conductive polymer aqueous solution is used.
【請求項17】 集電体材料として、カーボン微粒子の
懸濁液および導電性接着剤、もしくはカーボン微粒子の
懸濁液および導電性塗料を用いる請求項1もしくは請求
項2に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
17. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a suspension of carbon fine particles and a conductive adhesive, or a suspension of carbon fine particles and a conductive paint is used as the current collector material. Production method.
【請求項18】 接続電極の材料として、導電性接着剤
と金属箔を用いる請求項2に記載の固体電解コンデンサ
の製造方法。
18. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 2, wherein a conductive adhesive and a metal foil are used as the material of the connection electrode.
【請求項19】 開口部を形成する方法としてレーザー
加工法、研削法のいずれかの方法を用いる請求項1もし
くは請求項2に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
19. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein any one of a laser processing method and a grinding method is used as a method of forming the opening.
【請求項20】 接続端子を形成する方法として電気め
っき、無電解めっきのいずれかの方法を用いる請求項1
もしくは請求項2に記載の固体電解コンデンサの製造方
法。
20. A method of forming a connection terminal using either electroplating or electroless plating.
Alternatively, the method for manufacturing the solid electrolytic capacitor according to claim 2.
【請求項21】 接続端子を構成する材料として導電性
接着剤を用いた請求項1もしくは請求項2に記載の固体
電解コンデンサの製造方法。
21. The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a conductive adhesive is used as a material forming the connection terminal.
JP2001254313A 2001-08-24 2001-08-24 Method for manufacturing solid electrolytic capacitor Pending JP2003068575A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001254313A JP2003068575A (en) 2001-08-24 2001-08-24 Method for manufacturing solid electrolytic capacitor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001254313A JP2003068575A (en) 2001-08-24 2001-08-24 Method for manufacturing solid electrolytic capacitor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003068575A true JP2003068575A (en) 2003-03-07

Family

ID=19082490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001254313A Pending JP2003068575A (en) 2001-08-24 2001-08-24 Method for manufacturing solid electrolytic capacitor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003068575A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006147900A (en) * 2004-11-22 2006-06-08 Nec Tokin Corp Manufacturing method of solid electrolytic capacitor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006147900A (en) * 2004-11-22 2006-06-08 Nec Tokin Corp Manufacturing method of solid electrolytic capacitor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4479050B2 (en) Solid electrolytic capacitor
US6466430B2 (en) Capacitor
JP4019837B2 (en) Solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
CN100383903C (en) Solid electrolytic condenser and its mfg. method
JP3982496B2 (en) Manufacturing method of solid electrolytic capacitor
US6855177B2 (en) Method for producing solid electrolytic capacitor
US20040090735A1 (en) Solid electrolytic capacitor and method of manufacturing the capacitor
WO2002080205A1 (en) Composite electronic components
JP2003086463A (en) Manufacturing method for solid electrolytic capacitor
JP2003068574A (en) Method for manufacturing solid electrolytic capacitor
JP2003068575A (en) Method for manufacturing solid electrolytic capacitor
JP2003022936A (en) Method of manufacturing solid electrolytic capacitor
JP2003031438A (en) Method for producing solid electrolytic capacitor
JP2003045751A (en) Manufacturing method of solid electrolytic capacitor
JP2003068573A (en) Method for manufacturing solid electrolytic capacitor
JP2003031439A (en) Method for producing solid electrolytic capacitor
JP2003100564A (en) Method of manufacturing solid electrolytic capacitor
JP2003037025A (en) Method of manufacturing solid electrolytic capacitor
JP2003115418A (en) Method of manufacturing solid electrolytic capacitor
JP2003007569A (en) Manufacturing method of solid-state electrolytic capacitor
JP2002299160A (en) Composite electronic component
JP2003297702A (en) Solid electrolytic capacitor and method of manufacturing the same
JP2005012084A (en) Circuit module
JP2005243889A (en) Solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
JP2005228925A (en) Manufacturing method of solid electrolytic capacitor