JP2003045826A - 高周波部品の製造方法及び高周波部品チップ - Google Patents
高周波部品の製造方法及び高周波部品チップInfo
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
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Abstract
を直角に切断可能な高周波部品の製造方法及び高周波部
品チップを得る。 【解決手段】 誘電体基板1の裏面11に第1のダイシ
ング溝10を形成するプロセスと、第1のダイシング溝
10をマーカーとして誘電体基板1の表面12に第2の
ダイシング溝用マーカーと高周波部品を形成するプロセ
スと、第2のダイシング溝用マーカーに沿って第1のダ
イシング溝10より狭く、第1のダイシング溝10に達
する第2のダイシング溝19を形成するプロセスとから
成る。
Description
法及び高周波部品用チップに係わり、特に高周波部品を
パターニングした誘電体基板の切断方法の改良及びその
方法で得られた高周部品チップに関する。
〜10GHz程度の高周波帯域で用いる部品は回路を分
布定数回路として考慮する必要があり、通信装置やレー
ダ装置に利用されているマイクロ波集積回路(MIC:
Microwave Integnated Crcuit)増幅器等では図5の
(A)に示す様にアルミナ、石英、サファイア、テフロ
ン(登録商標)基板等の誘電体基板1上に予め写真合剤
技術でマイクロストリップ線路3、チップキャパシタ
4、窒化タンタル薄膜抵抗5等をパターニングし、EF
T2等を実装しハイブリッドICと成されている。尚6
はキャリアプレートを示している。
記した様な各種受動素子がパターニングされたウェーハ
の様な大型の基板を格子状にダイシングブレード等を用
いて分割した高周波部品チップ7同志を例えば図5
(B)で示す様に互に突合せ面9で対向させて、マイク
ロストリップ線路3同志、或は図5(A)の様にFET
2とマイクロストリップ線路3とをボンディングワイヤ
8を介してボンディングする様に成されている。
プ7の誘電体基板1の突合せ面9を模式的に図5(C)
に拡大して示す。この様に大型基板を賽の目状に基板の
表面から切断する場合ダイシングブレードのフランジよ
り突き出た刃の先端部で基板が切断される場合は刃先の
形状に応じてテーパ状に、或は刃先が摩耗等で丸められ
て略半円状に切断されるため、突合せ面9が垂直に仕上
がらない。従って、図5(C)の様にボンディングワイ
ヤ8で接続する部分では高周波部品チップ7の突合せ面
9が互に密に接合されない状態が発生する。
板7の誘電率をe1 とするとアルミナ基板等では誘電率
9.8程度に対し、ボンディングワイヤ8が架橋される
突合せ面9では隙間があるため空気が充填された状態で
あり、空気の誘電率はe0 =1となるため、マイクロス
トリップ線路3を介して流れる1GHz〜10GHz程
度の高周波電流はボンディングワイヤ8部分で反射損失
が増加し、伝送定数の不連続性が大きくなる課題を有し
ていた。
れたもので、発明が解決しようとする課題は大型基板切
断時の賽の目状の切断面が垂直と成され、突合せ面に隙
間を小さくする様にし、ボンディングでの高周波特性の
劣化を防止可能な高周波部品の製造方法及び高周波部品
用チップを提供しようとするものである。
は誘電体基板1をダイシングして複数のチップ基板7に
分割して高周波部品を得るように成した高周波部品の製
造方法であって、誘電体基板1の裏面11に第1のダイ
シング溝10を形成するプロセスと、誘電体基板1の第
1のダイシング溝10をマーカとして誘電体基板1の表
面に第2のダイシング溝用マーカ14と高周波部品1
5,16を形成するプロセスと、第2のダイシング溝用
マーカ14に沿って第1のダイシング溝10より狭く、
第1のダイシング溝10に達する第2のダイシング溝1
9を形成するプロセスとより成る高周波部品の製造方法
としたものである。
ダイシングして複数のチップ基板7に分割して高周波部
品を得るように成した高周波部品の製造方法であって、
誘電体基板1の表面12に高周波部品をパターニングす
るプロセスと、パターニングしたパターンを基に誘電体
基板1の裏面11にダイシング溝用のマーキング20を
施すプロセスと、マーキング20に沿って、第1のダイ
シング溝10を形成するプロセスと、誘電体基板1の表
面12より、第1のダイシング溝11より狭く、第1の
ダイシング溝11に達する第2のダイシング溝19を形
成するプロセスとより成る高周波部品の製造方法とした
ものである。
グ溝10の深さを第2のダイシング溝19を形成するダ
イシングブレード18の刃の先端から摩耗が生じている
長さ(チップ)の長さより深くなしたことを特徴とする
請求項1又は請求項2記載の高周波部品の製造方法とし
たものである。
基板1上に高周波部品16と電極15をパターニングし
た高周波部品用チップ7であって、複数の高周波部品用
チップ7の誘電体基板1を互に対向させ、電極15間を
ワイヤボンディングさせる様にした誘電体基板1の窓合
せ面9の裏面11に溝10を形成させたことを特徴とす
る高周波部品用チップとしたものである。
び高周波部品チップによれば大型の基板を賽の目状に切
断する際の切断面が垂直になり、高周波部品チップを突
合せ面で突き合せてボンディングする場合に隙間が生ぜ
ずこのボンディング部分での高周波電流の反射、損失を
少なくすることが可能なものが簡単に得られる。
方法及び高周波部品用チップの1形態例を図1乃至図3
によって詳記する。図1(A)〜(F)は本発明の1形
態の高周波部品チップの製造工程説明図、図2(A)〜
(F)は本発明の他の形態の高周波部品チップの製造工
程説明図、図3(A)〜(C)は本発明の高周波部品用
チップの接合面の測定方法及び測定結果を示す曲線図で
ある。
波部品チップ7はNiCrやTaNを用いた高周波用抵
抗16とAu等を用いて電極15を誘電体基板1上にパ
ターニングした場合について説明する。
板1としてを示し、この大型基板1を賽の目状に切断し
て、図1(B)に示す様な複数の高周波部品チップ7を
形成するものであり、図1(B)の高周波部品チップ7
では高周波抵抗16と電極15からなる高周波部品が高
周波部品チップ7上に並設してパターニングされてい
る。
ロセスは図1(C)に示す様に大型の基板(以下ウェー
ハと記す)で構成された誘電体基板1の表面12にダイ
シングシート等の粘着テープ13を貼着させ誘電体基板
1の裏面11に第1のダイシングブレード17で賽の目
状の第1のダイシング溝10を切削する。
は130μm程度のものを選択する。ウェーハの厚みは
1mm程度であり、第1のダイシング溝10の深さを第
2のダイシングブレードの先端から摩耗が生じている長
さより長い300μm程度に選択する。
の刃先は鋭った状態であるが、摩耗等で丸くなって、切
削が成された状態を示している。
ェーハを反転させて、表面12側に高周波抵抗16はN
iCrを、電極15はAuを用いて写真合剤技術でパタ
ーニングする。この際に両面露光装置を用いてウェーハ
即ち、誘電体基板1の裏側に形成した第1のパターニン
グ溝10に合せて第2のダイシング溝用マーカ14を同
時にパターニングする。
面11側に粘着テープ13を貼着させ第1のダイシング
ブレード17より刃厚の薄い、例えば100μmの第2
のダイシングブレード18でウェーハの表面12側から
マーカ14に沿って賽の目状に粘着テープ13に達する
迄、切断して複数の2.5mm□程度の図1(B)に示
す高周波部品チップ7を完成させる。
グブレード18の先端部で摩耗が生じている長さは第1
のダイシング溝10の300μm内に収まるため図5
(C)で説明した様に切断した突合せ面9が台形状にな
ることなく図1(E)のA部拡大図の図1(F)に示す
様に垂直(90°)に切断出来て、突合せ面9間に隙間
を小さくし、この部分で誘電率が変化する弊害が除去で
きる。
波部品の製造方法を示す他の形態例を示すものであり、
図2(A)に示すウェーハ即ち誘電体基板1上には図2
(B)に示す高周波抵抗16及び電極15の複数組が格
子内にマーカと共にパターニングされている。
を反転させて、図2(C)に示す様に両面露光機によっ
て表側の高周波抵抗16のパターン側を見ながら或は表
面12に形成した(図示せず)マーカに基づいて誘電体
基板1にレジストを塗布した後、第1のダイシング溝用
マーカ20を格子状にパターニングする。
幅が150μmの第1のダイシングブレード17で誘電
体基板1の裏面11に第1のダイシング溝用マーカ20
に沿って深さ300μmの切削を行ない第1のダイシン
グ溝10を形成する。
2(E)に示す様に裏面11側に粘着テープ13を貼着
させ、第1のダイシングブレード17より刃厚の薄い、
例えば100μmの第2のダイシングブレード18でウ
ェーハの裏面12側からマーカ20に沿って賽の目状に
粘着テープ13に達する迄、切断して複数の2.5mm
□程度の図2(B)に示す高周波部品チップ7を完成さ
せた。
のダイシングブレード18の刃先(チップ)は第1のダ
イシング溝10の300μm内に収まるため図5(C)
で説明した様に切断した突合せ面9が台形状になること
がなく、図2(F)に示す様に垂直(90°)になるの
で突合せ面9に隙間を小さくし、この部分で誘電率が変
化することのない高周波部品チップ7が得られる。
(E)で粘着テープ(シート)13をウェーハの裏面1
1に貼着させた場合を説明したが、本発明では裏面側に
シートを貼着しなくても第1のダイシング溝10を先に
形成してあるため完全に賽の目状に切断をすることが出
来る。
せ面9の平行状態の測定結果を示す計測波形及びその測
定方法の説明図である。
上に切断終了した高周波部品チップ7の誘電体基板1を
載置固定させ、誘電体基板1の突合せ面9の近傍を上側
からレーザー光24で照射し、レーザー光の反射波の経
路の違いを用いた表面形状測定器を用いて計測を行なっ
た。
した切断面の計測波形であり、図3(C)は本発明の切
断方法によって切断した切断面の計測波形を示す。
の厚さZ=1010.0μmで従来例の図3(B)では
X=52.00μmに対し本発明の切断方法では図3
(C)の様にX=2.08μmであり、従来の平均的な
X方向の出っ張り50μm〜70μmに対し、2.08
〜2.6μmにすることが出来て、突合せ面9の垂直度
は直角に切断出来ていることが解かる。
構成例を示すもので、上述の切断方法は高周波部品チッ
プ7として高周波抵抗16を誘電体基板1にパターニン
グしたが図4(A)に示す様に構成させることも出来る
図4(A)の構成はマイクロ波FETチップ25のチッ
プと対向配置させた高周波コンデンサC及び高周波抵抗
Rをパターニングしたチップ26と、このチップ26と
対向配置させマイクロストリップラインSLをパターニ
ングさせたチップ27をボンディングワイヤ8を介して
ボンディングさせる様に成した場合であり、これら各チ
ップ25,26,27,の各対向面は図4(B)に示す
様に突合せ面9が垂直で図4(C)に示す様に隙間29
を生ずることなく完全に対接させることが出来る高周波
部品チップ7を得ることが出来る。
波部品チップによると誘電体基板の切断時の切断面が垂
直に切断出来て、基板の表面側からの切断は摩耗する先
端を用いないため仕上りの直角度がよくなり、突合せ面
での隙間が小さくなってボンディングワイヤ部分での反
射及び損失が減少した高周波部品チップが得られる。更
にダイシングシート等の粘着テープを用いなくてもウェ
ーハのフルカットが可能でブレードの摩耗や破損を少な
くすることが出来る効果を有する。
程を示す説明図である。
工程を示す説明図である。
曲線図である。
示す斜視図及び要部の側断面図である。
説明図である。
プ、10‥‥第1のダイシング溝、17‥‥第1のダイ
シングブレード、18‥‥第2のダイシングブレード、
19‥‥第2のダイシング溝
Claims (4)
- 【請求項1】 誘電体基板をダイシングして複数のチッ
プ基板に分割して高周波部品を得るように成した高周波
部品の製造方法であって、 上記誘電体基板の裏面に第1のダイシング溝を形成する
プロセスと、 上記誘電体基板の上記第1のダイシング溝をマーカとし
て該誘電体基板の表面に第2のダイシング溝用マーカと
高周波部品を形成するプロセスと、 上記第2のダイシング溝用マーカに沿って上記第1のダ
イシング溝より狭く、該第1のダイシング溝に達する第
2のダイシング溝を形成するプロセスとより成る高周波
部品の製造方法。 - 【請求項2】 誘電体基板をダイシングして複数のチッ
プ基板に分割して高周波部品を得るように成した高周波
部品の製造方法であって、 上記誘電体基板の表面に高周波部品をパターニングする
プロセスと、 上記パターニングしたパターンを基に上記誘電体基板の
裏面にダイシング溝用のマーキングを施すプロセスと、 上記マーキングに沿って、第1のダイシング溝を形成す
るプロセスと、 上記誘電体基板の表面より、第1のダイシング溝より狭
く、該第1のダイシング溝に達する第2のダイシング溝
を形成するプロセスとより成る高周波部品の製造方法。 - 【請求項3】 前記第1のダイシング溝の深さを前記第
2のダイシング溝を形成するダイシングブレードの刃の
先端から摩耗が生じている長さより深くなしたことを特
徴とする請求項1又は請求項2記載の高周波部品の製造
方法。 - 【請求項4】 少くとも誘電体基板上に高周波部品と電
極をパターニングした高周波部品用チップであって、 上記複数の高周波部品用チップの上記誘電体基板を互に
対向させ、上記電極間をワイヤボンディングさせる様に
した該誘電体基板の突合せ面の裏面に溝を形成させたこ
とを特徴とする高周波部品用チップ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001233861A JP2003045826A (ja) | 2001-08-01 | 2001-08-01 | 高周波部品の製造方法及び高周波部品チップ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001233861A JP2003045826A (ja) | 2001-08-01 | 2001-08-01 | 高周波部品の製造方法及び高周波部品チップ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003045826A true JP2003045826A (ja) | 2003-02-14 |
Family
ID=19065580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001233861A Pending JP2003045826A (ja) | 2001-08-01 | 2001-08-01 | 高周波部品の製造方法及び高周波部品チップ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003045826A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7405137B2 (en) | 2005-03-31 | 2008-07-29 | Fujitsu Limited | Method of dicing a semiconductor substrate into a plurality of semiconductor chips by forming two cutting grooves on one substrate surface and forming one cutting groove on an opposite substrate surface that overlaps the two cutting grooves |
-
2001
- 2001-08-01 JP JP2001233861A patent/JP2003045826A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7405137B2 (en) | 2005-03-31 | 2008-07-29 | Fujitsu Limited | Method of dicing a semiconductor substrate into a plurality of semiconductor chips by forming two cutting grooves on one substrate surface and forming one cutting groove on an opposite substrate surface that overlaps the two cutting grooves |
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