JP2003043225A - Reflection film for display and liquid crystal display element using the same - Google Patents

Reflection film for display and liquid crystal display element using the same

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JP2003043225A
JP2003043225A JP2001225649A JP2001225649A JP2003043225A JP 2003043225 A JP2003043225 A JP 2003043225A JP 2001225649 A JP2001225649 A JP 2001225649A JP 2001225649 A JP2001225649 A JP 2001225649A JP 2003043225 A JP2003043225 A JP 2003043225A
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Japan
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film
reflective
layer
reflective film
display
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JP2001225649A
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Japanese (ja)
Inventor
Toru Hanada
亨 花田
Isao Shiraishi
功 白石
Noriaki Saito
徳顕 齋藤
Akihiko Uchiyama
昭彦 内山
Toshiaki Yatabe
俊明 谷田部
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflection film for a display which yields a liquid crystal display element having a simple configuration, a simple manufacturing process and a smaller thickness than conventional elements in the case of utilizing the reflection film as an electrode substrate for the liquid crystal display and so on. SOLUTION: The reflection film for the display comprises a transparent polymer film which exhibits in-plane retardation R(550) [nm] with respect to light with 550 nm wavelength satisfying inequality (I) and which has a transparent conductive layer formed on one surface thereof and a reflection layer and a resin layer P in contact with the reflection layer formed in this order on the other surface. R(550)>30...(I).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ用反
射フィルムに関し、さらに詳しくは各種表示素子の電極
基板として有用な反射フィルムおよびこれを用いた液晶
表示素子に関するものである。かかる反射フィルムは,
特に偏光板を必要としない方式の液晶表示素子や、一枚
偏光板タイプの液晶表示素子に好適に用いられる。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a reflective film for a display, and more particularly to a reflective film useful as an electrode substrate of various display elements and a liquid crystal display element using the same. Such a reflective film
In particular, it is suitably used for a liquid crystal display element of a system that does not require a polarizing plate or a single polarizing plate type liquid crystal display element.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯情報機器の発展に伴い、その
表示デバイスとして高画質で明るい反射型の液晶表示装
置(LCD)が求められており、例えばAsia Display '95,
pp599, Digest AMLCD '96, pp.329, SID'97 Digest,
p.647等に記載されている一枚偏光板タイプのLCDを搭
載した機器が実用化されている。また、月刊LCD Intell
igence 1997.4 pp81にも記載されているように、携帯情
報機器の表示デバイスに求められる耐破損性の向上、軽
量化、薄型化に対し、透明高分子からなるフィルム上に
酸化インジウム、酸化錫、或いは錫−インジウム合金の
酸化物等の半導体膜や、金、銀、パラジウム合金の酸化
膜等の金属膜、あるいは半導体膜と金属膜を組み合わせ
て形成された透明導電層を設けてなる透明導電性フィル
ムをLCDの基板として用いる検討が続けられている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of portable information equipment, there has been a demand for a high-quality and bright reflective liquid crystal display device (LCD) as a display device, such as Asia Display '95,
pp599, Digest AMLCD '96, pp.329, SID'97 Digest,
A device equipped with a single polarizing plate type LCD described in p.647 etc. has been put to practical use. Also, monthly LCD Intell
As described in igence 1997.4 pp81, indium oxide, tin oxide, or tin oxide on a film made of a transparent polymer for improvement of damage resistance, weight reduction and thinning required for display devices of portable information devices, or A transparent conductive film provided with a semiconductor film such as an oxide of a tin-indium alloy, a metal film such as an oxide film of gold, silver or palladium alloy, or a transparent conductive layer formed by combining a semiconductor film and a metal film. The study of using as a substrate of LCD is continuing.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、実用化されて
いる一枚偏光板タイプのLCDは優れた表示品位を確保す
るために、複数の位相差板を使用する必要があり、加え
て、前方散乱板といわれる一枚偏光板タイプのLCD用に
最適化された光散乱機能を有する構成要素、あるいは散
乱反射板または散乱反射電極といわれる一枚偏光板タイ
プのLCD用に最適化された光散乱反射機能を有する構成
要素を必要とする。このため、LCDの素子構成および製
造工程が極めて複雑である。
However, in the practically used single polarizing plate type LCD, it is necessary to use a plurality of retardation plates in order to secure excellent display quality. A component with a light-scattering function optimized for a single-polarizer type LCD called a scattering plate, or a light-scattering optimized for a single-polarizer type LCD called a scattering reflector or a scattering reflection electrode. It requires a component with a reflective function. For this reason, the device structure and manufacturing process of the LCD are extremely complicated.

【0004】また、高分子フィルムをLCDの基板として
用いる場合、パネルの信頼性を確保する目的でフィルム
上にガスバリア層を形成する必要があり、さらにLCDの
製造工程で用いられる薬品に対するフィルムの耐性が不
足している場合は、耐薬品層を形成する必要がある。こ
のため、ガラス基板を用いたLCDに比較して一般にはコ
スト高になる。
Further, when a polymer film is used as a substrate for an LCD, it is necessary to form a gas barrier layer on the film for the purpose of ensuring the reliability of the panel, and further the resistance of the film to chemicals used in the LCD manufacturing process. If it is insufficient, it is necessary to form a chemical resistant layer. Therefore, the cost is generally higher than that of an LCD using a glass substrate.

【0005】本発明は、このような問題を解決しようと
するものであり、液晶表示素子用などの電極基板として
利用した際に、素子構成ならびに製造プロセスが単純
で、かつ従来よりも薄型の液晶表示素子が得られるディ
スプレイ用反射フィルムを提供することを目的とする。
The present invention is intended to solve such a problem, and when it is used as an electrode substrate for a liquid crystal display device or the like, the liquid crystal has a simpler device structure and manufacturing process and is thinner than the conventional liquid crystal. An object of the present invention is to provide a reflective film for a display that can obtain a display element.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決すべく鋭意検討した結果、かかる問題点は、透
明高分子フィルムの一方の面に透明導電層が形成され、
他方の面に反射層が形成され、該反射層上に、該反射層
の保護層としての樹脂層Pが形成されており、かつ波長
550nmの光に対する面内位相差R(550)[n
m]が特定の式を満足することを特徴とする反射フィル
ムにより解決することができた。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that such a problem is that a transparent conductive layer is formed on one surface of a transparent polymer film.
A reflective layer is formed on the other surface, a resin layer P as a protective layer for the reflective layer is formed on the reflective layer, and an in-plane retardation R (550) [n for light having a wavelength of 550 nm is provided.
m] was able to be solved by a reflective film characterized by satisfying a specific formula.

【0007】すなわち本発明は次の通りのものである。 1. 波長550nmの光に対する面内位相差R(55
0)[nm]が下記式(I)を満足する透明高分子フィ
ルムの一方の面に透明導電層が形成され、他方の面に反
射層及び該反射層に接して樹脂層Pが順に形成されてい
るディスプレイ用反射フィルム。 R(550) > 30 ・・・(I)
That is, the present invention is as follows. 1. In-plane retardation R (55
0) A transparent conductive layer is formed on one surface of a transparent polymer film whose [nm] satisfies the following formula (I), and a reflective layer and a resin layer P are formed on the other surface in contact with the reflective layer. Reflective film for displays. R (550)> 30 (I)

【0008】2. 透明高分子フィルムが下記式(II)
を満足することを特徴とする上記1のディスプレイ用反
射フィルム。 (100+275×N)<R(550)<(180+275×N)・・・(II ) [上記式(II)においてNは0を含む自然数である。]
2. The transparent polymer film has the following formula (II)
The reflective film for a display as described in 1 above, which satisfies the above. (100 + 275 × N) <R (550) <(180 + 275 × N) (II) [In the above formula (II), N is a natural number including 0.] ]

【0009】3. 透明高分子フィルムが下記式(II
I)を満足することを特徴とする上記1のディスプレイ
用反射フィルム。 (220+275×N)<R(550)<(420+275×N)・・・(II I) [上記式(III)においてNは0を含む自然数であ
る。]
3. The transparent polymer film has the formula (II
The reflective film for a display according to the above 1, which satisfies I). (220 + 275 × N) <R (550) <(420 + 275 × N) (II I) [N is a natural number including 0 in the above formula (III). ]

【0010】4. 透明高分子フィルムが下記式(IV)
を満足することを特徴とする上記1のディスプレイ用反
射フィルム。 (360+275×N)<R(550)<(620+275×N)・・・(IV ) [上記式(IV)においてNは0を含む自然数である]
4. The transparent polymer film has the following formula (IV)
The reflective film for a display as described in 1 above, which satisfies the above. (360 + 275 × N) <R (550) <(620 + 275 × N) ... (IV) [In the above formula (IV), N is a natural number including 0]

【0011】5. 120℃2hrでの熱処理前後の収
縮変化率が0.4%以下で、かつR(550)の変化率
が20%以下であることを特徴とする上記1〜4のディ
スプレイ用反射フィルム。
5. The reflective film for a display according to any of 1 to 4 above, wherein the change rate of shrinkage before and after the heat treatment at 120 ° C. for 2 hours is 0.4% or less, and the change rate of R (550) is 20% or less.

【0012】6. 反射率が30%以上である上記1〜
5のディスプレイ用反射フィルム。
6. 1 to above with a reflectance of 30% or more
5 reflective film for display.

【0013】7. 透明高分子フィルムが、下記式
(1)
7. The transparent polymer film has the following formula (1)

【化6】 [上記式(1)において、R1〜R8はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素基
から選ばれ、Xは炭素数1〜15の炭化水素基であ
る。]で表される繰り返し単位から実質的になるポリカ
ーボネートからなる上記1〜6のディスプレイ用反射フ
ィルム。
[Chemical 6] [In the above formula (1), R 1 to R 8 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and X is a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. ] The reflective film for displays of said 1-6 which consists of polycarbonate which consists essentially of the repeating unit represented by these.

【0014】8. ポリカーボネートが、下記式(2)8. Polycarbonate has the following formula (2)

【化7】 [上記式(2)おいて、R9〜R14はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素基
から選ばれる少なくとも一種である。]で表される繰り
返し単位を含むポリカーボネートであることを特徴とす
る上記7のディスプレイ用反射フィルム。
[Chemical 7] [In the above formula (2), R 9 to R 14 are each independently at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ] The reflective film for a display of the above 7, which is a polycarbonate containing a repeating unit represented by the following.

【0015】9. ポリカーボネートが、下記式(3)9. Polycarbonate has the following formula (3)

【化8】 [上記式(3)おいて、R17〜R24はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素基
から選ばれる少なくとも一種である。]で表される繰り
返し単位を含むポリカーボネートであることを特徴とす
る上記7のディスプレイ用反射フィルム。
[Chemical 8] [In the above formula (3), R 17 to R 24 are each independently at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ] The reflective film for a display of the above 7, which is a polycarbonate containing a repeating unit represented by the following.

【0016】10. 反射層がAlを主成分とし、C
u、Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、Cr、Mo、M
n、Nd、Ni、Pd及びAuからなる群から選ばれる
少なくとも一種の合金元素を含有することを特徴とする
上記1〜9のディスプレイ用反射フィルム。
10. The reflection layer is mainly composed of Al, and C
u, Ti, Zr, Hf, Nb, Ta, Cr, Mo, M
The reflective film for a display according to any one of 1 to 9 above, which contains at least one alloying element selected from the group consisting of n, Nd, Ni, Pd and Au.

【0017】11. 樹脂層Pが、少なくとも下記式
(4)で表される単位を含むアクリル系樹脂を主成分と
する上記1〜10のディスプレイ用反射フィルム。
11. The reflective film for a display according to any one of 1 to 10 above, wherein the resin layer P is mainly composed of an acrylic resin containing a unit represented by the following formula (4).

【化9】 [Chemical 9]

【0018】12. 透明導電層と透明高分子フィルム
の間に、樹脂層Rが形成されていることを特徴とする上
記1〜11のディスプレイ用反射フィルム。
12. The reflective film for a display according to any one of 1 to 11 above, wherein a resin layer R is formed between the transparent conductive layer and the transparent polymer film.

【0019】13. 透明高分子フィルムと反射層の間
に樹脂層Aが形成されていることを特徴とする上記1〜
12のディスプレイ用反射フィルム。
13. The resin layer A is formed between the transparent polymer film and the reflective layer
12 reflective films for displays.

【0020】14. 樹脂層Aが少なくとも下記式
(5)で表される単位を含むアクリル系ポリマーを主成
分とすることを特徴とする上記1〜13のディスプレイ
用反射フィルム。
14. The reflective film for a display according to any one of 1 to 13 above, wherein the resin layer A is mainly composed of an acrylic polymer containing a unit represented by the following formula (5).

【化10】 [Chemical 10]

【0021】15. 透明導電層と反射層の間に着色層
が形成されていることを特徴とする上記1〜14のディ
スプレイ用反射フィルム。
15. The reflective film for a display according to any one of 1 to 14 above, wherein a colored layer is formed between the transparent conductive layer and the reflective layer.

【0022】16. 上記1〜15のいずれかに記載の
ディスプレイ用反射フィルムを用いた液晶表示素子。
16. A liquid crystal display device using the reflective film for a display according to any one of 1 to 15 above.

【0023】17. 波長550nmの光に対する面内
位相差R(550)[nm]が下記式(I)を満足する
透明高分子フィルムの一方の面に反射層及び該反射層に
接して樹脂層Pが順に形成され、40℃90%RH環境
下における水蒸気透過度が1g/day/m2以下、か
つ酸素透過度が10cc/day/m2である積層フィ
ルムであって、該透明高分子フィルムの他方の面に電極
のための透明導電層を形成することによりディスプレイ
用反射フィルムとして好適なディスプレイ用積層フィル
ム。 R(550) > 30 ・・・(I)
17. The in-plane retardation R (550) [nm] for light having a wavelength of 550 nm satisfies the following formula (I): a reflective layer on one surface of the transparent polymer film, and a resin layer P in contact with the reflective layer. A laminated film having a water vapor permeability of 1 g / day / m 2 or less and an oxygen permeability of 10 cc / day / m 2 under an environment of 40 ° C. and 90% RH, the transparent polymer film having the other surface thereof. A laminated film for a display, which is suitable as a reflective film for a display by forming a transparent conductive layer for an electrode. R (550)> 30 (I)

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is described in detail below.

【0025】本発明の透明高分子フィルムとしては、透
明性、耐熱性が良好で特定の面内位相差を有する複屈折
率を有するものが好ましい。ここで面内位相差とはR
(550)と表され、フィルムの厚み方向をzとし透明
高分子フィルムの3次元屈折率nx、ny、nzで表し
た場合の、波長550nmの光に対するnxとnyの差
△nとフィルム膜厚dとの積△n・dで表されるもので
あり、上記式(1)を満たす、すなわち該面内位相差が
30nm以上のものである。その中で、下記〜のい
ずれかを満足するものが好適である。 下記式(II)で表される特定の面内位相差を有する
透明高分子フィルムを用いると、液晶層に電圧を印加し
た際に黒表示が得られるノーマリーホワイトのTNモード
を利用した一枚偏光板タイプのLCDに本発明のディスプ
レイ用反射フィルムを用いた場合に、高いコントラスト
が得られ好適である。
The transparent polymer film of the present invention is preferably one having good transparency and heat resistance and a birefringence index having a specific in-plane retardation. Here, the in-plane retardation is R
The difference Δn between nx and ny with respect to the light having a wavelength of 550 nm and the film thickness, which is represented by (550) and is represented by three-dimensional refractive indices nx, ny and nz of the transparent polymer film, where z is the thickness direction of the film. It is represented by the product Δn · d of d and satisfies the above formula (1), that is, the in-plane retardation is 30 nm or more. Among them, those satisfying any one of the following items are preferable. Using a transparent polymer film having a specific in-plane retardation represented by the following formula (II), a black display is obtained when a voltage is applied to the liquid crystal layer. When the reflective film for a display of the present invention is used for a polarizing plate type LCD, high contrast is obtained, which is preferable.

【0026】 (100+275×N)<R(550)<(180+275×N)・・・(II ) [上記式(II)においてNは0を含む自然数] 下記式(III)で表される特定の面内位相差を有す
る透明高分子フィルムを用いると、液晶層に電圧を印加
した際に白表示が得られるノーマリーブラックのTNモー
ドを利用した一枚偏光板タイプのLCDに本発明のディス
プレイ用電反射フィルムを用いた場合に高いコントラス
トが得られ好適である。
(100 + 275 × N) <R (550) <(180 + 275 × N) (II) [N is a natural number including 0 in the above formula (II)] A specific formula (III) When a transparent polymer film having an in-plane retardation is used, a white display is obtained when a voltage is applied to the liquid crystal layer. The use of an electroreflective film is preferable because high contrast can be obtained.

【0027】 (220+275×N)<R(550)<(420+275×N)・・・(II I) [上記式(III)においてNは0を含む自然数] 下記式(IV)で表される特定の面内位相差を有する
透明高分子フィルムを用いると、STNモードを利用した
一枚偏光板タイプのLCDに本発明のディスプレイ用反射
フィルムを用いた場合に高いコントラストが得られ好適
である。
(220 + 275 × N) <R (550) <(420 + 275 × N) (II I) [N is a natural number including 0 in the above formula (III)] Specific expression represented by the following formula (IV) The use of the transparent polymer film having the in-plane retardation is suitable because a high contrast can be obtained when the reflective film for a display of the present invention is used in a single polarizing plate type LCD using the STN mode.

【0028】 (360+275×N)<R(550)<(620+275×N)・・・(IV ) [上記式(IV)においてNは0を含む自然数] 本発明における透明高分子フィルムを構成する高分子と
しては、例えばポリエステル系樹脂、ポリカーボネート
系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホン、ポリアリルスルホン等のポリスルホン
系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アモルファスポリオレ
フィン系樹脂、セルローストリアセテート等のアセテー
ト系樹脂、ポリアクリレート系樹脂、各種熱硬化樹脂等
が好ましい。なかでも、透明性、耐熱性、及び前記の面
内位相差が制御しやすいという観点から、ポリカーボネ
ート系樹脂を主成分(50wt%以上、好ましくは80
%以上)とするものがより好ましい。そして、ポリカー
ボネート系樹脂は、流延法によって得られるものが表面
の平坦性に優れ特に好適である。
(360 + 275 × N) <R (550) <(620 + 275 × N) (IV) [N is a natural number including 0 in the above formula (IV)] The high ratio constituting the transparent polymer film of the present invention. As the molecule, for example, polyester resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, polysulfone, polyether sulfone, polysulfone resin such as polyallylsulfone, polyolefin resin, amorphous polyolefin resin, acetate resin such as cellulose triacetate, Polyacrylate resins and various thermosetting resins are preferable. Above all, from the viewpoint of transparency, heat resistance, and easy control of the in-plane retardation, a polycarbonate resin is used as a main component (50 wt% or more, preferably 80 wt% or more).
% Or more) is more preferable. The polycarbonate-based resin obtained by a casting method is particularly suitable because it has excellent surface flatness.

【0029】ポリカーボネート系樹脂の例としては、例
えば下記式(1)からなる繰り返し単位から実質的にな
るポリカーボネート樹脂が挙げられる。
Examples of the polycarbonate resin include, for example, a polycarbonate resin substantially composed of a repeating unit represented by the following formula (1).

【0030】[0030]

【化11】 [Chemical 11]

【0031】上記式(1)において、R1〜R8はそれぞ
れ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の
炭化水素基から選ばれ、Xは炭素数1〜15の炭化水素
基である。
In the above formula (1), R 1 to R 8 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and X is a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. is there.

【0032】ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、フッ素原子等を挙げることができる。
Examples of the halogen atom include chlorine atom, bromine atom, fluorine atom and the like.

【0033】炭素数1〜6の炭化水素基としては、メチ
ル基、エチル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜6の
アルキル基、フェニル基等のアリール基を挙げることが
できる。
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and cyclohexyl group, and aryl groups such as phenyl group.

【0034】Xの具体例としては、脂肪族基として、例
えばメチレン、1,1−エチレン、2,2−プロピレ
ン、2,2−ブチレン、2,2−(4−メチル)ペンチ
レン、1,1−シクロペンチレン、1,1−シクロヘキ
シレン、1,1−(3,3,5−トリメチル)シクロヘ
キシレン、ノルボルナン−2,2−ジイル、トリシクロ
[5.2.1.02,6]デカン−8、8’−ジイル、特
に原料の入手のし易さから2、2−プロピレン、1,1
−シクロヘキシレン、1,1−(3,3,5−トリメチ
ル)シクロヘキシレンが好適に用いられる。また、アラ
アルキレン基として、フェニルメチレン、ジフェニルメ
チレン、1,1−(1−フェニル)エチレン、9,9−
フルオレニレンが挙げられる。またハロアルキレン基と
しては、2,2−ヘキサフルオロプロピレン、2,2−
(1,1,3,3−テトラフルオロ−1,3−ジシク
ロ)プロピレン等が好適に用いられる。これらは一種で
もよいし二種以上でもよい。
Specific examples of X include methylene, 1,1-ethylene, 2,2-propylene, 2,2-butylene, 2,2- (4-methyl) pentylene, and 1,1 as aliphatic groups. -Cyclopentylene, 1,1-cyclohexylene, 1,1- (3,3,5-trimethyl) cyclohexylene, norbornane-2,2-diyl, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane -8,8'-diyl, especially 2,2-propylene, 1,1 because of easy availability of raw materials
-Cyclohexylene and 1,1- (3,3,5-trimethyl) cyclohexylene are preferably used. Further, as an araalkylene group, phenylmethylene, diphenylmethylene, 1,1- (1-phenyl) ethylene, 9,9-
Fluorenylene can be mentioned. Further, as the haloalkylene group, 2,2-hexafluoropropylene, 2,2-
(1,1,3,3-Tetrafluoro-1,3-dicyclo) propylene and the like are preferably used. These may be one kind or two or more kinds.

【0035】好ましいポリカーボネートの一つとして
は、下記式(2)で表される繰り返し単位を含むポリカ
ーボネートが挙げられる。
One of preferred polycarbonates is a polycarbonate containing a repeating unit represented by the following formula (2).

【0036】[0036]

【化12】 [Chemical 12]

【0037】上記式(2)おいて、R9〜R14はそれぞ
れ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の
炭化水素基から選ばれる少なくとも一種である。
In the above formula (2), R 9 to R 14 are each independently at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.

【0038】ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水
素基としては、上記式(1)で述べたものと同じものを
用いることができる。
As the halogen atom and the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, the same ones as described in the above formula (1) can be used.

【0039】かかるポリカーボネートとしては、上記式
(2)で表される繰り返し単位と、上記式(1)で表さ
れる繰り返し単位において、R1〜R8が全て水素原子で
あり、Xがプロピレン基である、いわゆるビスフェノー
ルAから誘導される繰り返し単位とから実質的になるも
のが耐熱性、成形性、透明性、寸法安定性等の面で好ま
しい。この場合、上記式(2)で表される繰り返し単位
は、繰り返し単位全体の10〜90モル%がより好まし
く、30〜80モル%がさらにより好ましく、40〜7
0モル%が特に好ましい。上記式(2)で表される繰り
返し単位を10モル%以上にすることで、ガラス転移温
度が160℃以上となり優れた耐熱性が得られ、特に高
温加熱後の寸法変化ならびに面内位相差変化が少なくな
る。しかし、式(2)で表される繰り返し単位が90モ
ル%以上になると、光線透過率が低下しフィルムが脆く
なるので好ましくない。
As such a polycarbonate, in the repeating unit represented by the above formula (2) and the repeating unit represented by the above formula (1), R 1 to R 8 are all hydrogen atoms, and X is a propylene group. What is essentially composed of a so-called repeating unit derived from bisphenol A is preferable in terms of heat resistance, moldability, transparency, dimensional stability and the like. In this case, the repeating unit represented by the above formula (2) is more preferably 10 to 90 mol%, further preferably 30 to 80 mol%, and further preferably 40 to 7 mol% of the whole repeating unit.
0 mol% is particularly preferred. By setting the repeating unit represented by the above formula (2) to 10 mol% or more, a glass transition temperature of 160 ° C. or more and excellent heat resistance can be obtained, and particularly dimensional change and in-plane retardation change after high temperature heating. Is less. However, when the repeating unit represented by the formula (2) is 90 mol% or more, the light transmittance is lowered and the film becomes brittle, which is not preferable.

【0040】好ましい他のポリカーボネートとしては、
下記式(3)で表される繰り返し単位を含むポリカーボ
ネートが挙げられる。
Other preferred polycarbonates include
Examples include polycarbonates containing a repeating unit represented by the following formula (3).

【0041】[0041]

【化13】 [Chemical 13]

【0042】上記式(3)において、R17〜R24はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6
の炭化水素基から選ばれる少なくとも一種である。
In the above formula (3), R 17 to R 24 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom and a carbon number of 1 to 6.
Is at least one selected from the hydrocarbon groups of

【0043】ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水
素基としては、上記式(1)で述べたものと同じものを
用いることができる。
As the halogen atom and the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, the same ones as described in the above formula (1) can be used.

【0044】かかるポリカーボネートとしては、上記式
(3)で表される繰り返し単位と、上記式(1)で表さ
れる繰り返し単位において、R1〜R8が全て水素原子で
あり、Xがプロピレン基である、いわゆるビスフェノー
ルAから誘導される繰り返し単位とから実質的になるも
のが耐熱性、成形性、透明性、寸法安定性等の面で好ま
しい。この場合、上記式(3)で表される繰り返し単位
は、繰り返し単位全体の10〜90モル%がより好まし
く、30〜80モル%がさらにより好ましく、40〜7
0モル%が特に好ましい。上記式(3)で表される繰り
返し単位を10モル%以上にすることで、光学等方性に
優れ、ガラス転移温度が170℃以上となり優れた耐熱
性が得られ、吸水率ならびに水蒸気透過度が小さくな
り、表面硬度も向上し、特に高温加熱後の寸法変化なら
びに面内位相差の変化が少なくなる。特に、上記式
(3)で表される繰り返し単位が、繰り返し単位全体の
55〜70モル%になると、波長550nmの光よりも
短波長の可視光に対する透明高分子フィルムの面内位相
差の値を波長550nmの光に対する透明高分子フィル
ムの面内位相差の値で割った値が1よりも小さくなり、
無彩色表示のLCDを得るのに特に好ましい特性を示す。
また上記式(1)で表される繰り返し単位が90モル%
以上になると、光線透過率が低下しフィルムが脆くなる
ので好ましくない。
As such a polycarbonate, in the repeating unit represented by the above formula (3) and the repeating unit represented by the above formula (1), R 1 to R 8 are all hydrogen atoms, and X is a propylene group. What is essentially composed of a so-called repeating unit derived from bisphenol A is preferable in terms of heat resistance, moldability, transparency, dimensional stability and the like. In this case, the repeating unit represented by the above formula (3) is more preferably 10 to 90 mol%, further preferably 30 to 80 mol%, and further preferably 40 to 7 mol% of the whole repeating unit.
0 mol% is particularly preferred. By setting the repeating unit represented by the above formula (3) to 10 mol% or more, excellent optical isotropy, a glass transition temperature of 170 ° C. or more and excellent heat resistance are obtained, and water absorption rate and water vapor permeability are obtained. Becomes smaller, the surface hardness is also improved, and in particular, dimensional changes and in-plane retardation changes after high temperature heating are reduced. In particular, when the repeating unit represented by the above formula (3) accounts for 55 to 70 mol% of the entire repeating unit, the value of the in-plane retardation of the transparent polymer film for visible light having a shorter wavelength than light having a wavelength of 550 nm. Is divided by the value of the in-plane retardation of the transparent polymer film for light having a wavelength of 550 nm, which is smaller than 1.
It shows particularly preferable characteristics for obtaining an achromatic display LCD.
Further, the repeating unit represented by the above formula (1) is 90 mol%
If it is above the range, the light transmittance is lowered and the film becomes brittle, which is not preferable.

【0045】これら上記のポリカーボネートを用いたフ
ィルムは、高温で長時間熱処理をする前後での寸法変化
が極めて小さい。そのため、例えば120℃2hr熱処
理した後の収縮率が熱処理前と比べて0.4%以下で、
前記R(550)の変化率が20%以下のディスプレイ
用反射フィルムが得られる。
Films using the above polycarbonates have very small dimensional changes before and after heat treatment at high temperature for a long time. Therefore, for example, the shrinkage rate after heat treatment at 120 ° C. for 2 hours is 0.4% or less as compared with that before heat treatment,
A reflective film for display having a change rate of R (550) of 20% or less can be obtained.

【0046】これら上記のポリカーボネートの分子量
は、数平均分子量で30000以上が好ましい。分子量
が大きなポリマーほど機械特性ならびに耐熱性が向上す
る。
The number average molecular weight of these polycarbonates is preferably 30,000 or more. A polymer having a higher molecular weight has improved mechanical properties and heat resistance.

【0047】該透明高分子フィルム(S)の厚さは0.
01〜1.0mmの範囲が好ましく、0.02〜0.7
mmの範囲がより好ましい。厚さが0.01mmよりも
小さいと充分な剛性がなくパネル加工時に変形しやすく
取り扱いが難しい。また、1.0mmよりも大きいと透
明高分子フィルムをもちいたことによるパネルの軽量
化、薄型化といった特徴が得にくくなる。
The transparent polymer film (S) has a thickness of 0.
The range of 01 to 1.0 mm is preferable, and 0.02 to 0.7
The range of mm is more preferable. If the thickness is less than 0.01 mm, it has insufficient rigidity and is easily deformed during panel processing, which makes it difficult to handle. On the other hand, if it is larger than 1.0 mm, it becomes difficult to obtain the characteristics such as weight reduction and thickness reduction of the panel due to the use of the transparent polymer film.

【0048】本発明における反射層としては、例えばA
l、Ag、Au、Mg、Ti、Cr、Ni、Cu、Z
n、Zr、Pd、などの金属、またはこれらのうち2種
類以上の金属からなる合金が挙げられる。特に、Alを
主成分とし、Cu、Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、C
r、Mo、Mn、Nd、Ni、Pd、Auの中から選ば
れる少なくとも一種以上の合金元素を含有する反射層
が、反射率と耐腐食性が良好であるという観点から好ま
しい。なかでも、90at%以上のAlに、Ti、T
a、Cr及びNdの少なくとも一種類を10at%以下
の割合で含有したAl合金からなる反射層が反射率、耐
腐食性に加えて、密着性ならびにガスバリア性が良好で
あるという観点からより好ましい。
As the reflective layer in the present invention, for example, A
l, Ag, Au, Mg, Ti, Cr, Ni, Cu, Z
Examples include metals such as n, Zr, and Pd, and alloys of two or more of these metals. In particular, Al as a main component, Cu, Ti, Zr, Hf, Nb, Ta, C
A reflective layer containing at least one alloy element selected from r, Mo, Mn, Nd, Ni, Pd, and Au is preferable from the viewpoint of good reflectance and corrosion resistance. Among them, 90% or more of Al, Ti, T
A reflective layer made of an Al alloy containing at least one of a, Cr, and Nd in a proportion of 10 at% or less is more preferable from the viewpoint of good adhesion and gas barrier property in addition to reflectance and corrosion resistance.

【0049】これらの反射層を形成する方法としては、
例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーテ
ィング法などの真空成膜が適用できる。
As a method for forming these reflective layers,
For example, vacuum film formation such as vacuum vapor deposition method, sputtering method, and ion plating method can be applied.

【0050】反射層の膜厚は、5nmから200nmで
あることが好ましい。5nm以下では十分な反射率が得
られず、200nmを越えると反射層の応力により反射
フィルム全体が変形しやすくなる。該反射層の膜厚を増
やすにつれて、本発明のディスプレイ用反射フィルムの
反射率は増加するが、好ましい反射率は30%以上であ
り、反射層として用いる上記の材料の反射特性に応じて
膜厚を調整する。また、高分子フィルムをLCDの基板と
して用いる場合、通常、パネルの信頼性を確保する目的
でフィルム上にガスバリア層を形成する必要があるが、
該反射層にはガスバリア層としての効果も期待できる。
特に上記のAlを主成分としTi、Ta、Cr、Ndの
中から選ばれる少なくとも一種以上の合金元素を含有す
る反射層を用い、かかる反射層の膜厚を10nm以上に
すると、40℃90%RH環境下における水蒸気透過度
が1g/m2/day以下、かつ酸素透過度が10cc
/day/m2以下のガスバリア性に優れたディスプレ
イ用反射フィルムが得られる。
The thickness of the reflective layer is preferably 5 nm to 200 nm. When the thickness is 5 nm or less, sufficient reflectance cannot be obtained, and when the thickness exceeds 200 nm, the stress of the reflective layer causes the entire reflective film to be easily deformed. The reflectance of the reflective film for a display of the present invention increases as the film thickness of the reflective layer increases, but the preferred reflectance is 30% or more, and the film thickness depends on the reflective characteristics of the above-mentioned material used as the reflective layer. Adjust. When a polymer film is used as a substrate for an LCD, it is usually necessary to form a gas barrier layer on the film in order to secure the reliability of the panel.
The reflective layer can also be expected to have an effect as a gas barrier layer.
In particular, when a reflective layer containing Al as a main component and containing at least one or more alloy elements selected from Ti, Ta, Cr, and Nd and the thickness of the reflective layer is 10 nm or more, 40 ° C. 90% Water vapor permeability under RH environment is less than 1 g / m 2 / day and oxygen permeability is 10 cc
A reflective film for display having a gas barrier property of / day / m 2 or less can be obtained.

【0051】また、本発明のディスプレイ用反射フィル
ムは、前記反射層上に少なくとも一層の樹脂層Pを有す
る。かかる樹脂層は該反射層を保護する保護層として機
能し、特に、高い耐薬品性を有する。また透明性、良好
な層間密着性を有することも重要である。かかる樹脂層
を構成する樹脂としては、例えば、エポキシ系樹脂等の
熱硬化性樹脂、紫外線硬化性アクリル系樹脂等の放射線
硬化性樹脂、シロキサン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレ
タン系樹脂、アルキド樹脂等を挙げることができる。
The reflective film for display of the present invention has at least one resin layer P on the reflective layer. Such a resin layer functions as a protective layer that protects the reflective layer, and has particularly high chemical resistance. It is also important to have transparency and good interlayer adhesion. Examples of the resin forming the resin layer include thermosetting resins such as epoxy resins, radiation curable resins such as ultraviolet curable acrylic resins, siloxane resins, melamine resins, urethane resins, and alkyd resins. Can be mentioned.

【0052】これらの中でも特に生産性の面から、アク
リロイル基を含むアクリル系樹脂が好ましい。該放射線
硬化性樹脂は一種類の樹脂を用いても、数種の樹脂を混
合して用いてもかまわないが、耐溶剤性の観点から分子
あるいは単位構造内に2個以上のアクリロイル基を有す
る多官能アクリレート成分を有するアクリル系樹脂を用
いることが好ましい。こうした多官能アクリレート樹脂
としては、例えばジペンタエリスリトールペンタアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート等の各種アクリレートモノマーや、ポ
リエステル変性もしくはウレタン変性の多官能アクリレ
ートオリゴマー等が挙げられるが、これらに限定される
のではない。
Among these, an acrylic resin containing an acryloyl group is preferable from the viewpoint of productivity. The radiation-curable resin may use one kind of resin or a mixture of several kinds of resins, but it has two or more acryloyl groups in the molecule or unit structure from the viewpoint of solvent resistance. It is preferable to use an acrylic resin having a polyfunctional acrylate component. Examples of such polyfunctional acrylate resins include dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate,
Examples thereof include various acrylate monomers such as pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, and trimethylolpropane triacrylate, and polyester-modified or urethane-modified polyfunctional acrylate oligomers, but are not limited thereto.

【0053】特に好ましい反射層上に形成される樹脂層
(P)としては、少なくとも下記式(4)で表される単
位を含むアクリル系ポリマーを50〜99wt%含有す
る樹脂層(P)が、反射層との密着性が良好であり、例
えば本発明のディスプレイ用反射フィルムを液晶パネル
基板として用いる際に、その製造工程で酸やアルカリに
より処理を受けても反射層の腐食が極めて生じにくくな
るので好ましい。
As the resin layer (P) formed on the particularly preferable reflective layer, a resin layer (P) containing 50 to 99 wt% of an acrylic polymer containing at least a unit represented by the following formula (4) is used. Good adhesion to the reflective layer, for example, when using the reflective film for a display of the present invention as a liquid crystal panel substrate, corrosion of the reflective layer is extremely unlikely to occur even if it is treated with acid or alkali in the manufacturing process. Therefore, it is preferable.

【0054】[0054]

【化14】 [Chemical 14]

【0055】紫外線硬化法を用いる場合には、前述の放
射線硬化性樹脂に公知の光反応開始剤を適量添加する。
例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−
(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプ
ロパン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプ
ロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、
ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物、ベ
ンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸のベンゾフェノン系
化合物、チオキサンソン、2,4−ジクロロチオキサン
ソン等のチオキサン系化合物が挙げられる。また、より
硬化性を向上するためには、トリエタノールアミン、メ
チルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸
エチル等の公知の反応開始助剤を適量添加することも効
果的である。
When the ultraviolet curing method is used, an appropriate amount of a known photoreaction initiator is added to the above radiation curable resin.
For example, diethoxyacetophenone, 2-methyl-1-
Acetophenone compounds such as (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, benzoin,
Examples thereof include benzoin compounds such as benzyl dimethyl ketal, benzophenone, benzophenone compounds of benzoylbenzoic acid, and thioxane compounds such as thioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone. Further, in order to further improve the curability, it is also effective to add an appropriate amount of a known reaction initiation aid such as triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate and the like.

【0056】上記樹脂層(P)の膜厚は、概して0.0
1〜20μm、好ましくは0.03〜10μmの範囲から
適宜選択することができる。
The film thickness of the resin layer (P) is generally 0.0
It can be appropriately selected from the range of 1 to 20 μm, preferably 0.03 to 10 μm.

【0057】また、この様な樹脂層(P)には、更なる
密着性、耐溶剤性を付与する目的で、シランカップリン
グ剤などを添加してもよい。
A silane coupling agent or the like may be added to such a resin layer (P) for the purpose of imparting further adhesion and solvent resistance.

【0058】本発明のディスプレイ用反射フィルムにお
いて、透明高分子フィルムを、液晶表示素子の組み立て
時や電極形成時に使用する溶剤等の薬品から保護するた
めに、透明導電層と透明高分子フィルムの間に、耐薬品
層として樹脂層Rを形成してもよい。樹脂層Rとして
は、例えば、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂、紫外線
硬化性アクリル系樹脂等の放射線硬化性樹脂、ビニルア
ルコール系ポリマーとエポキシ基含有珪素化合物ならび
にアミノ基含有珪素化合物等の珪素含有化合物とを混合
して加熱し架橋反応させて得られる熱硬化性珪素含有ビ
ニルアルコール系樹脂、シロキサン系樹脂、メラミン系
樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド樹脂等を挙げることが
できる。
In the reflective film for a display of the present invention, in order to protect the transparent polymer film from chemicals such as a solvent used when assembling a liquid crystal display element and forming electrodes, a transparent conductive layer and a transparent polymer film are provided between Alternatively, a resin layer R may be formed as a chemical resistant layer. Examples of the resin layer R include a thermosetting resin such as an epoxy resin, a radiation curable resin such as an ultraviolet curable acrylic resin, a vinyl alcohol polymer and a silicon compound such as an epoxy group-containing silicon compound and an amino group-containing silicon compound. Examples thereof include thermosetting silicon-containing vinyl alcohol-based resins, siloxane-based resins, melamine-based resins, urethane-based resins, alkyd resins and the like obtained by mixing the contained compounds with each other and heating to cause a crosslinking reaction.

【0059】エポキシ系樹脂は耐溶剤性の観点からノボ
ラック型のエポキシ樹脂が好ましい。かかるエポキシ系
樹脂を硬化させる硬化剤としては、公知の物が適用でき
る。例えば、アミン系、ポリアミノアミド系、酸及び酸
無水物、イミダゾール、メルカプタン、フェノール樹脂
等の硬化剤が用いられる。なかでも、耐溶剤性、光学特
性、熱特性等より、酸無水物及び酸無水物構造を含むポ
リマーまたは脂肪族アミン類が好ましく用いられ、更に
好ましくは酸無水物及び酸無水物構造を含むポリマーで
ある。さらに、反応速度を上げるために公知の第三アミ
ン類やイミダゾール類等の硬化触媒を適量加えることが
好ましい。
The epoxy resin is preferably a novolac type epoxy resin from the viewpoint of solvent resistance. As a curing agent for curing such an epoxy resin, known materials can be applied. For example, curing agents such as amine-based, polyaminoamide-based, acids and acid anhydrides, imidazole, mercaptan, and phenol resin are used. Among them, from the viewpoint of solvent resistance, optical properties, thermal properties, etc., polymers containing acid anhydrides and acid anhydride structures or aliphatic amines are preferably used, and more preferably polymers containing acid anhydrides and acid anhydride structures. Is. Further, in order to increase the reaction rate, it is preferable to add an appropriate amount of a known curing catalyst such as a tertiary amine or imidazole.

【0060】放射線硬化性樹脂は、紫外線や電子線等の
放射線を照射することにより硬化が進行する樹脂を指
し、具体的には分子あるいは単体構造内にアクリロイル
基、メタクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を
含む樹脂のことである。これらの中でも特に反応性の面
から、アクリロイル基を含むアクリル系樹脂が好まし
い。該放射線硬化性樹脂は一種類の樹脂を用いても、数
種の樹脂を混合して用いてもかまわないが、耐溶剤性の
観点から分子あるいは単位構造内に2個以上のアクリロ
イル基を有する多官能アクリレート成分を有するアクリ
ル系樹脂を用いることが好ましい。こうした多官能アク
リレート樹脂としては、例えばジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート等の各種アクリレート
モノマーや、ポリエステル変性もしくはウレタン変性の
多官能アクリレートオリゴマー等が挙げられるが、これ
らに限定されるのではない。
The radiation-curable resin refers to a resin that is cured by being irradiated with radiation such as ultraviolet rays and electron beams. Specifically, it does not contain an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group or the like in a molecule or a single structure. It is a resin containing a saturated double bond. Among these, an acrylic resin containing an acryloyl group is particularly preferable from the viewpoint of reactivity. The radiation-curable resin may use one kind of resin or a mixture of several kinds of resins, but it has two or more acryloyl groups in the molecule or unit structure from the viewpoint of solvent resistance. It is preferable to use an acrylic resin having a polyfunctional acrylate component. Examples of such polyfunctional acrylate resins include various acrylate monomers such as dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, and trimethylolpropane triacrylate, and polyester-modified or urethane-modified polyacrylate monomers. Examples thereof include functional acrylate oligomers, but are not limited thereto.

【0061】この様な放射線硬化性樹脂として、特にア
クリル系樹脂を用いた場合、更なる密着性、耐溶剤性を
付与する目的で、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラ
ン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、(3,4
−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエ
トキシシラン、アミノメチルトリエトキシシラン、3−
アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、N−アミノメチル−3−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチ
ル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−
(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラ
ン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−
(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメ
トキシシラン等のアルコキシシランの加水分解物を固形
分の重量比率で75重量%以下となる範囲内になるよう
に混合した、紫外線硬化性珪素含有アクリル系樹脂が好
適である。該アルコキシシランの混合比率が75重量%
を超えると逆に耐溶剤性、硬化性が低下する傾向がみら
れ好ましくない。
When an acrylic resin is used as such a radiation-curable resin, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane is used for the purpose of imparting further adhesion and solvent resistance. Ethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3
-Glycidoxypropyltriethoxysilane, (3,4
-Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, aminomethyltriethoxysilane, 3-
Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-aminomethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-
(2-Aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N-methylaminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-
A UV-curable silicon-containing acryl in which a hydrolyzate of an alkoxysilane such as (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane is mixed in a range of 75% by weight or less in terms of solid content. A system resin is suitable. The mixing ratio of the alkoxysilane is 75% by weight
On the other hand, if it exceeds the range, the solvent resistance and the curability tend to decrease, which is not preferable.

【0062】紫外線硬化法を用いる場合には、前述の放
射線硬化性樹脂に公知の光反応開始剤を適量添加する。
例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−
(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプ
ロパン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプ
ロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、
ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物、ベ
ンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸のベンゾフェノン系
化合物、チオキサンソン、2,4−ジクロロチオキサン
ソン等のチオキサン系化合物が挙げられる。また、より
硬化性を向上するためには、トリエタノールアミン、メ
チルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸
エチル等の公知の反応開始助剤を適量添加することも効
果的である。
When the ultraviolet curing method is used, an appropriate amount of a known photoreaction initiator is added to the above radiation curable resin.
For example, diethoxyacetophenone, 2-methyl-1-
Acetophenone compounds such as (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, benzoin,
Examples thereof include benzoin compounds such as benzyl dimethyl ketal, benzophenone, benzophenone compounds of benzoylbenzoic acid, and thioxane compounds such as thioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone. Further, in order to further improve the curability, it is also effective to add an appropriate amount of a known reaction initiation aid such as triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate and the like.

【0063】熱硬化性珪素含有ビニルアルコール系樹脂
は、ポリビニルアルコール系ポリマーと、珪素含有化合
物とを含む硬化性樹脂を好ましく用いることができる。
特に、珪素含有化合物としてエポキシ基含有珪素化合物
および/またはアミノ基含有珪素化合物を用いると、密
着性、耐薬品性が非常に優れるのでより好適である。こ
こでポリビニルアルコール系ポリマーは、公知の市販の
ものが適用でき、例えばビニルアルコール成分およびビ
ニルアルコール共重合体成分よりなる群から選ばれた少
なくとも1種を50モル%以上含有する高分子が適用さ
れる。なお、このビニルアルコール共重合体としては、
例えばビニルアルコール−酢酸ビニル共重合体、ビニル
アルコールビニルブチラール共重合体、エチレン−ビニ
ルアルコール共重合体、あるいは分子内にシリル基を有
するポリビニルアルコール系高分子等が挙げられる。
As the thermosetting silicon-containing vinyl alcohol resin, a curable resin containing a polyvinyl alcohol polymer and a silicon-containing compound can be preferably used.
In particular, it is more preferable to use an epoxy group-containing silicon compound and / or an amino group-containing silicon compound as the silicon-containing compound because the adhesion and chemical resistance are very excellent. Here, as the polyvinyl alcohol-based polymer, a known commercially available product can be applied, for example, a polymer containing 50 mol% or more of at least one selected from the group consisting of a vinyl alcohol component and a vinyl alcohol copolymer component is applied. It In addition, as this vinyl alcohol copolymer,
Examples thereof include a vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer, a vinyl alcohol vinyl butyral copolymer, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, and a polyvinyl alcohol polymer having a silyl group in the molecule.

【0064】エポキシ基含有珪素化合物は、例えば、3
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン等の(部分)加水分解物、その(部分)縮合
物、及びこれらの混合物が挙げられる。これらの化合物
は単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
The epoxy group-containing silicon compound is, for example, 3
-Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2-
(Partial) hydrolyzates such as (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, their (partial) condensates, and mixtures thereof. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0065】アミノ基含有珪素化合物はアミノ基及びア
ルコキシシリル基を有する珪素化合物は、例えば、3−
アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、N−メチル−3−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエ
トキシシラン、 N−(2−アミノエチル)−3−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチ
ル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等の
(部分)加水分解物、その(部分)縮合物、及びこれら
の混合物が挙げられる。これらの化合物は単独で用いて
も、2種以上を併用してもよい。
The amino group-containing silicon compound is a silicon compound having an amino group and an alkoxysilyl group, for example, 3-
Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-methyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxy Examples thereof include (partial) hydrolyzates such as silane and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, their (partial) condensates, and mixtures thereof. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0066】エポキシ基含有珪素化合物とアミノ基含有
珪素化合物の混合比率は、エポキシ基モル当量換算量
A、アミノ基モル当量換算量Bの比率で1/6<A/B
<6/1の範囲内が好ましい。混合比がこの範囲から外
れる場合、密着性、耐熱性、耐溶剤性、耐水性、耐久性
が低下する。この様なエポキシ基含有珪素化合物とアミ
ノ基含有珪素化合物の混合物をポリビニルアルコール系
ポリマーに混合するに際し、硬化後の固形分の重量比率
で20重量%以上となるように混合する。20重量部よ
りも少ない場合は、耐水性、耐薬品性に劣る。なお、該
熱硬化性珪素含有ビニルアルコール系樹脂は、前述の無
機系のガスバリアー層に接して積層するとガスバリアー
性がいっそう向上し、高温高湿環境下に長時間放置して
も表示劣化が生じにくくなるので好適である。
The mixing ratio of the epoxy group-containing silicon compound and the amino group-containing silicon compound is 1/6 <A / B in terms of the epoxy group molar equivalent conversion amount A and the amino group molar equivalent conversion amount B.
It is preferably within the range of <6/1. If the mixing ratio is out of this range, the adhesion, heat resistance, solvent resistance, water resistance and durability will deteriorate. When such a mixture of the epoxy group-containing silicon compound and the amino group-containing silicon compound is mixed with the polyvinyl alcohol-based polymer, they are mixed so that the weight ratio of the solid content after curing is 20% by weight or more. If the amount is less than 20 parts by weight, water resistance and chemical resistance are poor. When the thermosetting silicon-containing vinyl alcohol-based resin is laminated in contact with the above-mentioned inorganic gas barrier layer, the gas barrier property is further improved, and the display deterioration is caused even when left in a high temperature and high humidity environment for a long time. It is preferable because it is less likely to occur.

【0067】シロキサン系樹脂としては、例えばテトラ
メトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメ
トキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリ
メトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、ジメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、アミノメチ
ルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−アミノメチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルト
リメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、N−メチルアミノプ
ロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン等の有機ケイ素化
合物ないしはその加水分解物をいわゆるゾルゲル反応さ
せることにより得られるものが好ましい。
Examples of the siloxane resin include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxy. Silane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, (3,3 4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, aminomethyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N
-Aminomethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N-methylamino Obtained by subjecting an organic silicon compound such as propyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane or a hydrolyzate thereof to a so-called sol-gel reaction Is preferred.

【0068】これらの化合物は単独で又は2種以上を併
せて用いることができる。中でも、上記のエポキシ基含
有珪素化合物と上記のアミノ基含有珪素化合物との混合
物が好適である。ここで、エポキシ基含有珪素化合物と
アミノ基含有珪素化合物の混合比率は、エポキシ基モル
当量換算量A、アミノ基モル当量換算量Bの比率で55
/45<A/B<95/5の範囲内で用いることが、耐
薬品性、層間密着性の点で好ましい。
These compounds may be used alone or in combination of two or more. Above all, a mixture of the above-mentioned epoxy group-containing silicon compound and the above-mentioned amino group-containing silicon compound is preferable. Here, the mixing ratio of the epoxy group-containing silicon compound and the amino group-containing silicon compound is 55 in terms of the epoxy group molar equivalent conversion amount A and the amino group molar equivalent conversion amount B.
It is preferably used within the range of / 45 <A / B <95/5 from the viewpoint of chemical resistance and interlayer adhesion.

【0069】上記樹脂層(R)の膜厚は、概して0.0
1〜20μm、好ましくは0.03〜10μmの範囲から
適宜選択することができる。
The film thickness of the resin layer (R) is generally 0.0
It can be appropriately selected from the range of 1 to 20 μm, preferably 0.03 to 10 μm.

【0070】本発明のディスプレイ用反射フィルムにお
いて、反射層と透明高分子フィルムの間に、両者の接着
性を高めることを目的とした接着層として樹脂層Aを形
成してもよい。ここで樹脂層Aとしては、例えばエポキ
シ系樹脂等の熱硬化性樹脂、紫外線硬化性アクリル系樹
脂等の放射線硬化性樹脂、シロキサン系樹脂、メラミン
系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド樹脂等を挙げること
ができる。
In the reflective film for display of the present invention, a resin layer A may be formed between the reflective layer and the transparent polymer film as an adhesive layer for the purpose of enhancing the adhesiveness between the two. Examples of the resin layer A include thermosetting resins such as epoxy resins, radiation curable resins such as ultraviolet curable acrylic resins, siloxane resins, melamine resins, urethane resins, and alkyd resins. You can

【0071】これらの中でも特に生産性の面から、アク
リロイル基を含むアクリル系樹脂が好ましい。該放射線
硬化性樹脂は一種類の樹脂を用いても、数種の樹脂を混
合して用いてもかまわないが、耐溶剤性の観点から分子
あるいは単位構造内に2個以上のアクリロイル基を有す
る多官能アクリレート成分を有するアクリル系樹脂を用
いることが好ましい。こうした多官能アクリル系樹脂と
しては、例えばジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート等の各種アクリレートモノマーや、ポリ
エステル変性もしくはウレタン変性の多官能アクリレー
トオリゴマー等が挙げられるが、これらに限定されるの
ではない。
Among these, an acrylic resin containing an acryloyl group is preferable from the viewpoint of productivity. The radiation-curable resin may use one kind of resin or a mixture of several kinds of resins, but it has two or more acryloyl groups in the molecule or unit structure from the viewpoint of solvent resistance. It is preferable to use an acrylic resin having a polyfunctional acrylate component. Examples of such a polyfunctional acrylic resin include various acrylate monomers such as dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, and trimethylolpropane triacrylate, and polyester-modified or urethane-modified resins. Examples include, but are not limited to, polyfunctional acrylate oligomers.

【0072】特に好ましい樹脂層(A)としては、少な
くとも下記式(5)で表される単位を含むアクリル系樹
脂を1〜50wt%含有するアクリル系樹脂層(A)
が、反射層と透明高分子フィルムの密着性を特に向上さ
せるのに良好であり、例えば本発明のディスプレイ用反
射フィルムを液晶パネル基板として用いる際に、その製
造工程で酸やアルカリにより処理を受けても反射層の腐
食が極めて生じにくくなるので好ましい。
The particularly preferable resin layer (A) is an acrylic resin layer (A) containing 1 to 50 wt% of an acrylic resin containing at least a unit represented by the following formula (5).
However, it is particularly good for improving the adhesion between the reflective layer and the transparent polymer film. For example, when the reflective film for a display of the present invention is used as a liquid crystal panel substrate, it is treated with an acid or an alkali in the manufacturing process. However, corrosion of the reflective layer is extremely unlikely to occur, which is preferable.

【0073】[0073]

【化15】 [Chemical 15]

【0074】紫外線硬化法を用いる場合には、前述の放
射線硬化性樹脂に公知の光反応開始剤を適量添加する。
例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−
(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプ
ロパン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプ
ロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、
ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物、ベ
ンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸のベンゾフェノン系
化合物、チオキサンソン、2,4−ジクロロチオキサン
ソン等のチオキサン系化合物が挙げられる。また、より
硬化性を向上するためには、トリエタノールアミン、メ
チルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸
エチル等の公知の反応開始助剤を適量添加することも効
果的である。
When the ultraviolet curing method is used, an appropriate amount of a known photoreaction initiator is added to the above radiation curable resin.
For example, diethoxyacetophenone, 2-methyl-1-
Acetophenone compounds such as (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, benzoin,
Examples thereof include benzoin compounds such as benzyl dimethyl ketal, benzophenone, benzophenone compounds of benzoylbenzoic acid, and thioxane compounds such as thioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone. Further, in order to further improve the curability, it is also effective to add an appropriate amount of a known reaction initiation aid such as triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate and the like.

【0075】上記樹脂層(A)の膜厚は、概して0.0
1〜20μm、好ましくは0.03〜10μmの範囲から
適宜選択することができる。
The film thickness of the resin layer (A) is generally 0.0
It can be appropriately selected from the range of 1 to 20 μm, preferably 0.03 to 10 μm.

【0076】また、この様な樹脂層(A)には、更なる
密着性、耐溶剤性を付与する目的で、シランカップリン
グ剤などを添加してもよい。更に、該樹脂層(A)には
光散乱性を付与する目的で、シロキサン系の微粒子や各
種プラスチック系の微粒子を適量含有させてもよい。
A silane coupling agent or the like may be added to such a resin layer (A) for the purpose of imparting further adhesiveness and solvent resistance. Further, the resin layer (A) may contain an appropriate amount of siloxane-based fine particles and various plastic-based fine particles for the purpose of imparting light scattering properties.

【0077】本発明のディスプレイ用反射フィルムは、
前記のように、透明高分子フィルムの一方の面に反射層
及び樹脂層Pがこの順で設けられ、優れたガスバリア性
を有している積層フィルムにおいて、他方の面に例えば
液晶パネル用の基板として用いる場合に電極となる透明
導電層が形成されている。透明導電層としては、公知の
金属膜、金属酸化物膜等が適用できるが、中でも、透明
性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ま
しい。例えば、不純物としてスズ、テルル、カドミウ
ム、モリブテン、タングステン、フッ素、亜鉛、ゲルマ
ニウム等を添加した酸化インジウム、酸化カドミウム及
び酸化スズ、不純物としてアルミニウムを添加した酸化
亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物膜が挙げられる。なか
でも、インジウム酸化物を主成分とし、酸化錫及び酸化
亜鉛からなる群から選ばれた1種以上の酸化物を含むこ
とを特徴とし、酸化錫が2〜20重量%及び/または酸
化亜鉛が2〜20重量%含有する透明導電層が透明性、
導電性が優れており好ましく用いられる。
The reflective film for display of the present invention comprises
As described above, a reflective film and a resin layer P are provided in this order on one surface of a transparent polymer film, and a laminated film having excellent gas barrier properties is provided on the other surface, for example, a substrate for a liquid crystal panel. A transparent conductive layer serving as an electrode when used as is. As the transparent conductive layer, a known metal film, metal oxide film or the like can be applied, but among them, the metal oxide film is preferable from the viewpoint of transparency, conductivity and mechanical properties. For example, metal oxide films such as indium oxide added with tin, tellurium, cadmium, molybdenum, tungsten, fluorine, zinc and germanium as impurities, cadmium oxide and tin oxide, zinc oxide added with aluminum as impurities, titanium oxide, etc. Can be mentioned. Among them, indium oxide as a main component and one or more kinds of oxides selected from the group consisting of tin oxide and zinc oxide are included, and 2 to 20% by weight of tin oxide and / or zinc oxide is contained. The transparent conductive layer containing 2 to 20% by weight is transparent,
It has excellent conductivity and is preferably used.

【0078】透明導電層を形成する方法は、主にスパッ
タリング法が使用され、直流スパッタリング法、高周波
マグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッタ
リング法などが適用できるが、生産性の観点から、マグ
ネトロンスパッタ法が好ましい。透明導電層の膜厚は、
十分な導電性を得るために、10〜1000nmである
ことが好ましい。
As a method of forming the transparent conductive layer, a sputtering method is mainly used, and a direct current sputtering method, a high frequency magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method and the like can be applied. From the viewpoint of productivity, the magnetron sputtering method is preferable. . The thickness of the transparent conductive layer is
The thickness is preferably 10 to 1000 nm in order to obtain sufficient conductivity.

【0079】また、カラー表示が可能なLCD用の基板と
して本発明のディスプレイ用反射フィルムを用いる場
合、本発明のディスプレイ用反射フィルムを構成してい
る透明導電層と反射層との間に少なくとも一層の着色層
を設けることが好ましい。ここで、着色層とは、カラー
表示に適当なR(赤)、G(青)、B(緑)またはM
(マゼンタ)、C(シアン)、Y(イエロー)の3原色
を備えていることが好ましい。また、コントラスト向上
や着色層の混色防止のために、ブラックマトリックスが
形成されていてもよい。着色層は、顔料や染料といった
色素を添加した樹脂をパターニングして形成する、いわ
ゆる顔料分散法や染料分散法で形成するのが好ましい。
また、印刷法、染色法、電着法といった従来技術を用い
て着色層を形成してもよい。
When the reflective film for a display of the present invention is used as a substrate for an LCD capable of color display, at least one layer is provided between the transparent conductive layer and the reflective layer constituting the reflective film for a display of the present invention. It is preferable to provide the colored layer. Here, the colored layer means R (red), G (blue), B (green) or M suitable for color display.
It is preferable to have three primary colors of (magenta), C (cyan), and Y (yellow). Further, a black matrix may be formed in order to improve contrast and prevent color mixture of the colored layer. The colored layer is preferably formed by a so-called pigment dispersion method or dye dispersion method, which is formed by patterning a resin to which a pigment such as a pigment or dye is added.
Further, the colored layer may be formed using a conventional technique such as a printing method, a dyeing method, or an electrodeposition method.

【0080】なお、本発明のディスプレイ用反射フィル
ムにおいて、上記反射層はガスバリア性に優れるが、よ
り十分なガスバリア性を確保するために、例えばポリビ
ニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体
等のポリビニルアルコール系重合体、ポリアクリロニト
リル、スチレン−アクリロニトリル共重合体等のポリア
クリロニトリル系共重合体、あるいはポリビニリデンク
ロリド等の公知の有機高分子系の透明なガスバリア層
や、Si、Al、Ti、Mg、Ca、Li、Zr、Z
n、In、Ce、Ta等から選ばれた少なくとも1種の
金属あるいは2種以上の金属の酸化物、フッ化物、窒化
物、酸窒化物ならびにこれらの混合物または化合物など
の透明な無機薄膜材料を、本発明の反射フィルムに設け
てもよい。なかでも、無機薄膜材料として、珪素と酸素
が主成分である酸化ケイ素薄膜、あるいは珪素と酸素と
窒素が主成分である薄膜、あるいは珪素と酸素が主成分
であり、少なくともフッ素、マグネシウムを含有し、か
つ珪素とフッ素が化学結合している薄膜が、ガスバリア
ー性、透明性の点で好ましい。ここで、珪素原子に対す
る酸素原子の割合は1.5以上2未満が好ましい。この
割合により薄膜の透明性とガスバリアー性が二律背反性
の関係で変化し、1.5未満ではディスプレイ用途で要
求される透明性が得られないことがある。これら薄膜の
組成は、X線光電子分光法、X線マイクロ分光法、オー
ジェ電子分光法、ラザホード後方散乱法などにより分
析、決定される。また、ガスバリアー膜中に存在するフ
ッ素元素の化学結合状態は、例えばX線光電子分光法
に、X線源にAlのKα線を用い、中性炭素C1sの2
84.6eVで横軸を補正した際、フッ素の化学結合状
態は、687eV近傍に観測されるフッ素と珪素の結合
に由来するF1sピーク(a)とこれより約1.5eV
低結合エネルギー側に観測されるフッ素とマグネシウム
の結合に由来するF1sピーク(b)の存在ならびに、
これらの強度比により決定される。
In the reflective film for a display of the present invention, the reflective layer is excellent in gas barrier property, but in order to secure more sufficient gas barrier property, for example, polyvinyl alcohol such as polyvinyl alcohol or ethylene-vinyl alcohol copolymer is used. -Based polymers, polyacrylonitrile, styrene-polyacrylonitrile-based copolymers such as acrylonitrile copolymers, or known organic polymer-based transparent gas barrier layers such as polyvinylidene chloride, Si, Al, Ti, Mg, Ca , Li, Zr, Z
Transparent inorganic thin film materials such as oxides, fluorides, nitrides, oxynitrides of at least one metal selected from n, In, Ce, Ta, etc., or two or more metals and mixtures or compounds thereof are used. It may be provided on the reflective film of the present invention. Among them, as the inorganic thin film material, a silicon oxide thin film containing silicon and oxygen as main components, a thin film containing silicon, oxygen and nitrogen as main components, or silicon and oxygen as main components and containing at least fluorine and magnesium. A thin film in which silicon and fluorine are chemically bonded is preferable in terms of gas barrier property and transparency. Here, the ratio of oxygen atoms to silicon atoms is preferably 1.5 or more and less than 2. Due to this ratio, the transparency and gas barrier properties of the thin film change in a trade-off relationship, and if it is less than 1.5, the transparency required for display applications may not be obtained. The composition of these thin films is analyzed and determined by X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray microspectroscopy, Auger electron spectroscopy, Rutherford backscattering, or the like. Further, the chemical bonding state of the fluorine element present in the gas barrier film is, for example, X-ray photoelectron spectroscopy, using the Kα ray of Al as the X-ray source, and measuring the neutral carbon
When the horizontal axis is corrected at 84.6 eV, the chemical bond state of fluorine is F1s peak (a) derived from the bond between fluorine and silicon observed in the vicinity of 687 eV and about 1.5 eV from this peak.
Presence of F1s peak (b) derived from the binding of fluorine and magnesium observed on the low binding energy side, and
It is determined by these intensity ratios.

【0081】無機薄膜材料を用いたガスバリアー層の作
成方法としては、例えばスパッタ法、真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法、プラズマCVD法等の気相中より
材料を堆積させて膜形成する気相堆積法が挙げられる。
特に、無機薄膜材料をガスバリアー層として用いる場合
の膜厚は、2nm〜1μmの範囲が好ましい。ガスバリ
アー層の厚みが2nm未満では均一に膜を形成すること
は困難であり、膜が形成されない部分が発生するため気
体透過度が大きくなる。一方、1μmよりも厚くなると
透明性を欠くだけでなく、基板を屈曲させた際に、ガス
バリアー層にクラックが発生して気体透過度が上昇す
る。
As a method for forming a gas barrier layer using an inorganic thin film material, for example, a vapor phase in which a material is deposited from a vapor phase such as a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, an ion plating method and a plasma CVD method to form a film. A deposition method can be used.
Particularly, when the inorganic thin film material is used as the gas barrier layer, the film thickness is preferably in the range of 2 nm to 1 μm. If the thickness of the gas barrier layer is less than 2 nm, it is difficult to uniformly form a film, and a portion where the film is not formed is generated, so that the gas permeability becomes large. On the other hand, when the thickness is more than 1 μm, not only the transparency is deteriorated but also when the substrate is bent, cracks are generated in the gas barrier layer to increase the gas permeability.

【0082】かかる、本発明のディスプレイ用反射フィ
ルムは、前記の透明高分子フィルム(S)、透明導電層
(E)、反射層を(M)、保護層(P)、耐薬品層
(R)、接着層(A)、着色層(C)で表した場合、例
えば(E)/(S)/(M)/(P)、(E)/(R)
/(S)/(M)/(P)、(E)/(S)/(A)/
(M)/(P)、(E)/(R)/(S)/(A)/
(M)/(P)、(E)/(C)/(S)/(M)/
(P)、(E)/(S)/(C)/(M)/(P)、
(E)/(C)/(R)/(S)/(M)/(P)、
(E)/(R)/(C)/(S)/(M)/(P)、
(E)/(R)/(S)/(C)/(M)/(P)、
(E)/(C)/(S)/(A)/(M)/(P)、
(E)/(S)/(C)/(A)/(M)/(P)、
(E)/(C)/(R)/(S)/(A)/(M)/
(P)、(E)/(R)/(C)/(S)/(A)/
(M)/(P)、(E)/(R)/(S)/(C)/
(A)/(M)/(P)、の層構成で積層されるのが好
ましい。
Such a reflective film for a display of the present invention comprises the above-mentioned transparent polymer film (S), transparent conductive layer (E), reflective layer (M), protective layer (P), chemical resistant layer (R). , Adhesive layer (A), and colored layer (C), for example, (E) / (S) / (M) / (P), (E) / (R)
/ (S) / (M) / (P), (E) / (S) / (A) /
(M) / (P), (E) / (R) / (S) / (A) /
(M) / (P), (E) / (C) / (S) / (M) /
(P), (E) / (S) / (C) / (M) / (P),
(E) / (C) / (R) / (S) / (M) / (P),
(E) / (R) / (C) / (S) / (M) / (P),
(E) / (R) / (S) / (C) / (M) / (P),
(E) / (C) / (S) / (A) / (M) / (P),
(E) / (S) / (C) / (A) / (M) / (P),
(E) / (C) / (R) / (S) / (A) / (M) /
(P), (E) / (R) / (C) / (S) / (A) /
(M) / (P), (E) / (R) / (S) / (C) /
It is preferable that they are laminated in a layer structure of (A) / (M) / (P).

【0083】また、無機薄膜材料からなるガスバリア層
(B)を付与する場合、例えば、(E)/(B)/
(R)/(S)/(M)/(P)、(E)/(R)/
(S)/(M)/(B)/(P)、(E)/(B)/
(R)/(S)/(A)/(M)/(P)、(E)/
(R)/(S)/(A)/(B)/(M)/(P)、
(E)/(R)/(S)/(A)/(M)/(B)/
(P)、(E)/(B)/(C)/(S)/(M)/
(P)、(E)/(C)/(S)/(M)/(B)/
(P)、(E)/(B)/(C)/(R)/(S)/
(M)/(P)、(E)/(C)/(R)/(S)/
(M)/(B)/(P)、(E)/(B)/(C)/
(R)/(S)/(A)/(M)/(P)、(E)/
(C)/(R)/(S)/(A)/(M)/(B)/
(P)、(E)/(B)/(R)/(C)/(S)/
(A)/(M)/(P)、(E)/(R)/(C)/
(S)/(A)/(M)/(B)/(P)、の構成で積
層するのが好ましい。
When a gas barrier layer (B) made of an inorganic thin film material is applied, for example, (E) / (B) /
(R) / (S) / (M) / (P), (E) / (R) /
(S) / (M) / (B) / (P), (E) / (B) /
(R) / (S) / (A) / (M) / (P), (E) /
(R) / (S) / (A) / (B) / (M) / (P),
(E) / (R) / (S) / (A) / (M) / (B) /
(P), (E) / (B) / (C) / (S) / (M) /
(P), (E) / (C) / (S) / (M) / (B) /
(P), (E) / (B) / (C) / (R) / (S) /
(M) / (P), (E) / (C) / (R) / (S) /
(M) / (B) / (P), (E) / (B) / (C) /
(R) / (S) / (A) / (M) / (P), (E) /
(C) / (R) / (S) / (A) / (M) / (B) /
(P), (E) / (B) / (R) / (C) / (S) /
(A) / (M) / (P), (E) / (R) / (C) /
It is preferable that the layers are laminated in the configuration of (S) / (A) / (M) / (B) / (P).

【0084】なお、本発明の効果を低下させない範囲内
で、各層間の密着性を強化するための各種アンダーコー
ト層の積層等の化学処理、あるいはコロナ処理、プラズ
マ処理、UV照射等の物理的処理法をおこなってもよ
い。また、本発明の透明導電性基板をフィルムロール状
で取り扱う場合は、透明導電層が積層された面と反対の
面にフィルムに滑り性を付与する層を設けたりあるい
は、ナーリング処理も有効である。
It should be noted that, within a range that does not impair the effects of the present invention, chemical treatment such as lamination of various undercoat layers for enhancing adhesion between the respective layers, or physical treatment such as corona treatment, plasma treatment and UV irradiation. A treatment method may be performed. When the transparent conductive substrate of the present invention is handled in the form of a film roll, a layer for imparting slipperiness to the film is provided on the surface opposite to the surface on which the transparent conductive layer is laminated, or knurling treatment is also effective. .

【0085】本発明のディスプレイ用反射フィルムは、
液晶表示素子などの電極基板として利用することによ
り、素子構成ならびに製造プロセスが単純で、従来より
も薄型の液晶表示素子が得られる。液晶表示素子の例と
しては、液晶層に電圧を印加した際に黒表示が得られる
ノーマリーホワイトのTNモードを利用した一枚偏光板タ
イプのLCDや、液晶層に電圧を印加した際に白表示が得
られるノーマリーブラックのTNモードを利用した一枚偏
光板タイプのLCD、さらには、STNモードを利用した一枚
偏光板タイプのLCDが挙げられる。これらのLCDに、
本発明のディスプレイ用反射フィルムを適用することに
より、高コントラストでかつ薄型の液晶表示素子を得る
ことができる。また、本発明のディスプレイ用反射フィ
ルムは、偏光板を必要としない高分子分散型、相転移型
等のゲストホストモードや、一枚の偏光板を用いた、E
CB(電圧制御複屈折型)モードに対しても好適であ
る。
The reflective film for display of the present invention comprises
By using it as an electrode substrate of a liquid crystal display element or the like, it is possible to obtain a liquid crystal display element having a simpler device configuration and manufacturing process and thinner than conventional ones. Examples of liquid crystal display elements include a normally-polarized LCD that uses normally white TN mode, which produces a black display when a voltage is applied to the liquid crystal layer, or a white when a voltage is applied to the liquid crystal layer. Examples include a single-polarizing plate type LCD that uses normally black TN mode for display, and further, a single-polarizing plate type LCD that uses STN mode. On these LCDs,
By applying the reflective film for a display of the present invention, a high contrast and thin liquid crystal display device can be obtained. Further, the reflective film for a display of the present invention uses a guest-host mode of polymer dispersion type, phase transition type or the like which does not require a polarizing plate, or one polarizing plate is used.
It is also suitable for the CB (voltage control birefringence type) mode.

【0086】[0086]

【実施例】以下、実施例を挙げ、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明は、かかる実施例に限定されるも
のではない。なお、実施例中、部および%は、特に断ら
ない限り重量基準である。また、実施例中における各種
の測定は、下記のとおり行った。 (1)酸素透過度: MOCON社製オキシトラン2/
20MLを用いて、40℃の温度範囲で相対湿度90%
における酸素透過度を測定した。なお、測定は透明導電
層を形成する前の積層フィルムで行った。 (2)水蒸気透過度:MOCON社製、パーマトランW
1Aを用いて、20〜50℃(293〜323K)の温
度範囲で相対湿度100%における水蒸気透過度を測定
した。なお、測定は透明導電層を形成する前の積層フィ
ルムで行った。 (3)反射率:日立の分光光度計U−4000を用いて
測定した。 (4)面内位相差:分光エリプソメ−ターである日本分
光(株)製の商品名「M150」により、波長550n
mの入射光線とフィルム表面が直交する状態で測定し
た。 (5)厚さの測定:アンリツ社製の電子マイクロで測定
した。 (6)ガラス転移温度:TA Instruments
社製「DSC2920modulated DSC」を
用い、昇温速度20℃/minで測定した。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, parts and% are based on weight unless otherwise specified. Further, various measurements in the examples were performed as follows. (1) Oxygen permeability: Oxytran 2 / manufactured by MOCON
20ML, 90% relative humidity in the temperature range of 40 ℃
The oxygen permeability in the was measured. The measurement was performed on the laminated film before forming the transparent conductive layer. (2) Water vapor transmission rate: MOCON, Permatran W
1A was used to measure the water vapor permeability in a temperature range of 20 to 50 ° C. (293 to 323 K) at a relative humidity of 100%. The measurement was performed on the laminated film before forming the transparent conductive layer. (3) Reflectance: Measured using a spectrophotometer U-4000 manufactured by Hitachi. (4) In-plane retardation: a wavelength of 550 n by a spectroscopic ellipsometer, trade name "M150" manufactured by JASCO Corporation.
The measurement was performed in a state where the incident light of m and the film surface were orthogonal to each other. (5) Measurement of thickness: Measured with an electronic micrometer manufactured by Anritsu Corporation. (6) Glass transition temperature: TA Instruments
The measurement was performed at a temperature rising rate of 20 ° C./min using a “DSC2920 modulated DSC” manufactured by the company.

【0087】なお、後掲の化合物名は以下の略号を用い
た。 BisA:2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン BCF:9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)フルオレン IP:3,3,5−トリメチル−1,1−ジ(4−フェ
ノール)シクロヘキシリデン ITO:インジウム−スズ酸化物 DCPA:ジシクロペンタニルジアクリレート DTMPTA:ジトリメチロールプロパンテトラアクリ
レート AUA:芳香族型ウレタンアクリレート UA:ウレタンアクリレート
The following abbreviations were used for the compound names shown below. BisA: 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane BCF: 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene IP: 3,3,5-trimethyl-1,1-di (4- Phenol) Cyclohexylidene ITO: Indium-tin oxide DCPA: Dicyclopentanyl diacrylate DTMPTA: Ditrimethylolpropane tetraacrylate AUA: Aromatic urethane acrylate UA: Urethane acrylate

【0088】[実施例1]ビスフェノール成分がBis
Aからなる平均分子量37,000でTgが155℃の
ポリカーボネート樹脂をメチレンクロライドに20重量
%になるように溶解した。そしてこの溶液をダイコーテ
ィング法により厚さ175μmのポリエステルフィルム
上に流延した。次いで、乾燥炉で残留溶媒濃度が13重
量%になるまで乾燥し、ポリエステルフィルムから剥離
した。そして、得られたポリカーボネートフィルムを温
度155℃の乾燥炉で縦横の張力にできるだけ差が生じ
ないように、流れ方向に延伸し、該フィルム中の残留溶
媒濃度が0.3重量%になるまで乾燥させ、面内位相差
R(550)が140nmで厚さが100μmの透明高
分子フィルムを得た。
Example 1 Bisphenol component is Bis
A polycarbonate resin consisting of A and having an average molecular weight of 37,000 and a Tg of 155 ° C. was dissolved in methylene chloride so as to be 20% by weight. Then, this solution was cast on a polyester film having a thickness of 175 μm by a die coating method. Then, it was dried in a drying oven until the residual solvent concentration reached 13% by weight, and peeled from the polyester film. Then, the obtained polycarbonate film is stretched in the flow direction in a drying oven at a temperature of 155 ° C. so that the vertical and horizontal tensions are as little as possible, and dried until the residual solvent concentration in the film reaches 0.3% by weight. Thus, a transparent polymer film having an in-plane retardation R (550) of 140 nm and a thickness of 100 μm was obtained.

【0089】こうして得られたポリカーボネートフィル
ムの片面上に、DCマグネトロンスパッタリング法によ
りTiを2at%含有するAlのターゲットを用い、厚
さ50nmの反射層を形成した。
On one surface of the thus obtained polycarbonate film, a reflecting layer having a thickness of 50 nm was formed by using a target of Al containing 2 at% of Ti by a DC magnetron sputtering method.

【0090】続いて、保護層(樹脂層P)を与えるコー
ティング組成物として、DCPAを90重量部、DTM
PTAを5重量部、1−メトキシ−2−プロパノールを
100重量部、開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトンを8重量部を混合し、これを反射層
上に塗布して60℃1分間加熱した後、高圧水銀灯を用
い積算光量700mJ/m2で光硬化を行い、厚さ4μ
mの保護層を形成した。
Subsequently, as a coating composition for providing the protective layer (resin layer P), 90 parts by weight of DCPA and DTM were used.
5 parts by weight of PTA, 100 parts by weight of 1-methoxy-2-propanol and 8 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as an initiator were mixed, and the mixture was coated on the reflective layer and heated at 60 ° C. for 1 minute. After that, photocuring was performed with a high pressure mercury lamp at an integrated light amount of 700 mJ / m 2 , and the thickness was 4 μm.
m protective layer was formed.

【0091】さらに、耐薬品層(樹脂層R)を与えるコ
ーティング組成物として、DCPAを20重量部、UA
を10重量部、1−メトキシ−2−プロパノールを30
重量部、開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトンを2重量部を混合し、これを保護層をコー
ティングにより形成した面と反対の面に塗布して、60
℃1分間加熱した後、高圧水銀灯を用い積算光量700
mJ/m2で光硬化を行い、厚み4μmの耐薬品層を形
成した。
Further, as a coating composition for providing a chemical resistant layer (resin layer R), 20 parts by weight of DCPA, UA
10 parts by weight of 1-methoxy-2-propanol
Parts by weight and 2 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as an initiator are mixed and applied to the surface opposite to the surface on which the protective layer is formed by coating,
After heating at ℃ for 1 minute, use a high-pressure mercury lamp to add up to 700
Photocuring was performed at mJ / m 2 to form a chemical resistant layer having a thickness of 4 μm.

【0092】そして、DCマグネトロンスパッタリング
法により、厚さ120nmのインジウム-錫酸化物から
なる透明導電層を設けることによりディスプレイ用反射
フィルムを得た。この反射フィルムの120℃2hr加
熱前後での収縮変化率は0.3%、R(550)の変化
率は8%であった。なお、該ディスプレイ用フィルムの
透明導電層が形成される前の積層フィルムについて測定
したところ、酸素透過度は1cc/m2/day以下、
水蒸気透過度は1g/m2/day以下であった。
Then, a transparent conductive layer of indium-tin oxide having a thickness of 120 nm was provided by the DC magnetron sputtering method to obtain a reflective film for a display. The shrinkage change rate of this reflective film before and after heating at 120 ° C. for 2 hours was 0.3%, and the change rate of R (550) was 8%. The laminated film before the transparent conductive layer of the display film was measured and found to have an oxygen permeability of 1 cc / m 2 / day or less,
The water vapor transmission rate was 1 g / m 2 / day or less.

【0093】また上記で作成したディスプレイ用反射フ
ィルムとは別に、そのディスプレイ用反射フィルムの反
射層に換えてSiO2からなるガスバリア層を設け、高
分子フィルムのR(550)を15nmとした透明電極
フィルムを作成した。
In addition to the reflective film for a display prepared as described above, a gas barrier layer made of SiO 2 is provided in place of the reflective layer of the reflective film for a display, and a transparent electrode having a polymer film R (550) of 15 nm is provided. I made a film.

【0094】ディスプレイ用反射フィルムを下部基板と
し、透明電極フィルムを上部基板として、これらのフィ
ルムと、厚み200μmの偏光板を用いて、ノーマリー
ホワイトTNモードの一枚偏光板タイプの反射型LCD
を作成した。図1に構成を示す。コントラストに優れ、
パネルの厚みが400μm強の極めて薄型の液晶表示素
子が得られた。
Using the reflective film for a display as a lower substrate and the transparent electrode film as an upper substrate and these films and a polarizing plate having a thickness of 200 μm, a normally white TN mode single polarizing plate type reflective LCD
It was created. The configuration is shown in FIG. Excellent contrast
An extremely thin liquid crystal display device having a panel thickness of more than 400 μm was obtained.

【0095】[実施例2]BisA/IP=40/60
(モル比)でTgが205℃のポリカーボネート共重合
体を用いてR(550)を320nmとし、接着層(樹
脂層A)を与えるコーティング組成物として、DCPA
を70重量部、AUAを20重量部、1−メトキシ−2
−プロパノールを100重量部、開始剤として1−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトンを8重量部を混合
し、これを反射層上に塗布して60℃1分間加熱した
後、高圧水銀灯を用い積算光量700mJ/m2で光硬
化を行い、厚さ4μmの接着層を透明高分子フィルムと
反射層の間に形成した以外は、実施例1と同様にしてデ
ィスプレイ用反射フィルムを得た。
[Example 2] BisA / IP = 40/60
DCPA was used as a coating composition for giving an adhesive layer (resin layer A) with R (550) of 320 nm using a polycarbonate copolymer having a Tg of 205 ° C. (molar ratio).
70 parts by weight, AUA 20 parts by weight, 1-methoxy-2
-100 parts by weight of propanol and 8 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as an initiator were mixed, and this was coated on the reflection layer and heated at 60 ° C for 1 minute, and then the integrated light amount was 700 mJ / m using a high pressure mercury lamp. A reflective film for a display was obtained in the same manner as in Example 1 except that photocuring was performed in 2 and an adhesive layer having a thickness of 4 μm was formed between the transparent polymer film and the reflective layer.

【0096】また、上記で作成したディスプレイ用反射
フィルムとは別に、該ディスプレイ用反射フィルムの反
射層に換えてSiO2からなるガスバリア層を積層し、
高分子フィルムのR(550)を15nmとした透明電
極フィルムを作成した。
In addition to the reflective film for a display prepared above, a gas barrier layer made of SiO 2 is laminated instead of the reflective layer of the reflective film for a display,
A transparent electrode film having a polymer film R (550) of 15 nm was prepared.

【0097】実施例1と同様に、これらのフィルムと、
厚み200μmの偏光板を用いて、ノーマリーブラック
TNモードの一枚偏光板タイプの反射型LCDを作成し
たところ、コントラストに優れ、パネルの厚みが400
μm強の極めて薄型の液晶表示素子が得られた。
These films were prepared in the same manner as in Example 1,
When a normally black TN mode single polarizing plate type reflective LCD was made by using a polarizing plate having a thickness of 200 μm, the contrast was excellent and the panel thickness was 400.
An extremely thin liquid crystal display device having a size of a little over μm was obtained.

【0098】[実施例3]BisA/BCF=40/6
0(モル比)でTgが220℃のポリカーボネート共重
合体を用いる以外は、実施例1と同様にしてディスプレ
イ用反射フィルムを得た。
[Example 3] BisA / BCF = 40/6
A reflective film for a display was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polycarbonate copolymer having a Tg of 0 ° C (molar ratio) of 220 ° C was used.

【0099】また、上記で作成したディスプレイ用反射
フィルムとは別に、該ディスプレイ用反射フィルムの反
射層に換えてSiO2からなるガスバリア層を積層し、
高分子フィルムのR(550)を15nmとした透明電
極フィルムを作成した。
In addition to the reflective film for a display prepared above, a gas barrier layer made of SiO 2 is laminated instead of the reflective layer of the reflective film for a display,
A transparent electrode film having a polymer film R (550) of 15 nm was prepared.

【0100】これらのフィルムと、厚み200μmの偏
光板を用いて、ノーマリーホワイトTNモードの一枚偏
光板タイプの反射型LCDを作成したところ、コントラ
ストが極めて優れた、パネル厚み400μm強の極めて
薄型の液晶表示素子が得られた。
Using these films and a polarizing plate having a thickness of 200 μm, a normally white TN mode single polarizing plate type reflective LCD was prepared, and it was found that the contrast was extremely excellent, and the panel thickness was 400 μm or more, which was extremely thin. The liquid crystal display element of was obtained.

【0101】[比較例1]高分子フィルムとして、R
(550)が15nmと光学的に等方なポリカーボネー
トフィルムを用いた以外は実施例1と同様にして、ディ
スプレイ用フィルムを得た。
[Comparative Example 1] As a polymer film, R
A display film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polycarbonate film having an isotropic property of (550) of 15 nm was used.

【0102】また、該ディスプレイ用フィルムの反射層
に換えてSiO2からなるガスバリア層を積層し、高分
子フィルムのR(550)を15nmとした透明電極フ
ィルムを作成した。
Further, a gas barrier layer made of SiO 2 was laminated in place of the reflective layer of the display film to prepare a transparent electrode film having a polymer film R (550) of 15 nm.

【0103】実施例1と同様に、これらのフィルムと、
厚み200μmの偏光板を用いて、ノーマリーホワイト
TNモードの一枚偏光板タイプの反射型LCDを作成す
るには、厚みが100〜200μm程度の位相差板を必
要とするため、液晶表示素子の製造工程が複雑化し、素
子が位相差板の分だけ厚くなる。
In the same manner as in Example 1, these films,
In order to create a normally white TN mode single polarizing plate type reflective LCD using a polarizing plate having a thickness of 200 μm, a retardation plate having a thickness of about 100 to 200 μm is required. The manufacturing process becomes complicated, and the element becomes thicker by the amount of the retardation plate.

【0104】[比較例2]実施例1のディスプレイ用反
射フィルムにおける反射層に換えてSiO2からなるガ
スバリア層を積層した以外は実施例1と同様にして、デ
ィスプレイ用フィルムを得た。
Comparative Example 2 A display film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a gas barrier layer made of SiO 2 was laminated instead of the reflective layer in the display reflective film of Example 1.

【0105】また、該ディスプレイ用フィルムのR(5
50)を15nmとした透明電極フィルムを作成した。
In addition, R (5
A transparent electrode film having a thickness of 50) of 15 nm was prepared.

【0106】実施例1と同様に、これらのフィルムと、
厚み200μmの偏光板を用いて、ノーマリーホワイト
TNモードの一枚偏光板タイプの反射型LCDを作成す
るには、厚みが100μm程度の反射板を必要とするた
め、表示素子の製造工程が複雑化し、素子が反射板の分
だけ厚くなる。
These films were prepared in the same manner as in Example 1.
In order to create a normally white TN mode single polarizing plate type reflective LCD using a polarizing plate having a thickness of 200 μm, a reflecting plate having a thickness of about 100 μm is required, which complicates the manufacturing process of the display element. The element becomes thicker by the amount of the reflector.

【0107】[0107]

【発明の効果】本発明は、透明高分子フィルムの一方の
面に透明導電層が形成され、他方の面に反射層が形成さ
れ、該反射層上に少なくとも一層の樹脂層(P)が形成
されており、さらに、波長550nmの光に対する面内
位相差R(550)[nm]が特定の式を満足すること
を特徴とするディスプレイ用反射フィルムで、液晶表示
素子用などの電極基板として利用した際に、パネル化の
工程を経た後でも良好な反射層の耐食性、密着性、ガス
バリア性が保持され、なによりも素子構成ならびに製造
プロセスが簡略化できるので、従来よりも極めて薄型で
製造コストが低い液晶表示素子が得られる。
According to the present invention, a transparent conductive layer is formed on one surface of a transparent polymer film, a reflective layer is formed on the other surface, and at least one resin layer (P) is formed on the reflective layer. In addition, the in-plane retardation R (550) [nm] for light with a wavelength of 550 nm satisfies a specific expression, which is a reflective film for a display, which is used as an electrode substrate for a liquid crystal display device or the like. In this case, the good corrosion resistance, adhesion, and gas barrier property of the reflective layer are maintained even after the paneling process, and above all, the element structure and manufacturing process can be simplified, so it is much thinner than the conventional one and the manufacturing cost is high. Thus, a liquid crystal display device having low

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のディスプレイ用反射フィルムを用いた
液晶表示素子の一例を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a liquid crystal display device using a reflective film for a display of the present invention.

【図2】実施例1における液晶表示素子の上部基板2の
層構成を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a layer structure of an upper substrate 2 of the liquid crystal display element in Example 1.

【図3】実施例1における液晶表示素子の下部基板4の
層構成を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a layer structure of a lower substrate 4 of the liquid crystal display element in Example 1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:偏光板 2:上部基板 3:液晶層 4:下部基板 11:樹脂層(P) 12:ガスバリア層 13:透明高分子フィルム(面内位相差:15nm) 14:樹脂層(R) 15:透明導電層 21:透明導電層 22:樹脂層(R) 23:透明高分子フィルム(面内位相差:実施例1と3
は140nm、実施例2は320 nm) 24:反射層 25:樹脂層(P)
1: Polarizing plate 2: Upper substrate 3: Liquid crystal layer 4: Lower substrate 11: Resin layer (P) 12: Gas barrier layer 13: Transparent polymer film (in-plane retardation: 15 nm) 14: Resin layer (R) 15: Transparent conductive layer 21: Transparent conductive layer 22: Resin layer (R) 23: Transparent polymer film (in-plane retardation: Examples 1 and 3)
Is 140 nm, Example 2 is 320 nm) 24: reflective layer 25: resin layer (P)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 5/30 G02B 5/30 4J029 G02F 1/1335 520 G02F 1/1335 520 1/13363 1/13363 1/1343 1/1343 // C08L 101:00 C08L 101:00 (72)発明者 齋藤 徳顕 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 (72)発明者 内山 昭彦 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 (72)発明者 谷田部 俊明 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 Fターム(参考) 2H042 DA02 DA11 DA17 DA21 DC02 DE00 2H049 BA02 BB42 BB63 BC03 BC22 2H091 FA11X FA11Y FA14Y FB08 LA11 LA12 2H092 HA03 PA01 PA10 PA12 4F006 AA36 AB73 AB74 BA00 BA07 CA08 DA01 4J029 AA09 AB01 AC01 AC02 AD01 AE03 BB12A BB13A BB15A BD09A BG08Y ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02B 5/30 G02B 5/30 4J029 G02F 1/1335 520 G02F 1/1335 520 1/13363 1/13363 1 / 1343 1/1343 // C08L 101: 00 C08L 101: 00 (72) Inventor Tokuaki Saito 4-3-2 Asahigaoka, Hino-shi, Tokyo Inside Teijin Ltd. Tokyo Research Center (72) Inventor, Akihiko Uchiyama Tokyo, Hino City Asahigaoka 4-3 2 Teijin Ltd. Tokyo Research Center (72) Inventor Toshiaki Yatabe 4-3 Asahigaoka Tokyo Hino City Teijin Ltd. Tokyo Research Center F-term (reference) 2H042 DA02 DA11 DA17 DA21 DC02 DE00 2H049 BA02 BB42 BB63 BC03 BC22 2H091 FA11X FA11Y FA14Y FB08 LA11 LA12 2H092 HA03 PA01 PA10 PA12 4F006 AA36 AB73 AB74 BA00 BA07 C A08 DA01 4J029 AA09 AB01 AC01 AC02 AD01 AE03 BB12A BB13A BB15A BD09A BG08Y

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 波長550nmの光に対する面内位相差
R(550)[nm]が下記式(I)を満足する透明高
分子フィルムの一方の面に透明導電層が形成され、他方
の面に反射層及び該反射層に接して樹脂層Pが順に形成
されているディスプレイ用反射フィルム。 R(550) > 30 ・・・(I)
1. A transparent conductive film is formed on one surface of a transparent polymer film having an in-plane retardation R (550) [nm] with respect to light having a wavelength of 550 nm, and the other surface is formed on the other surface. A reflective film for a display, in which a reflective layer and a resin layer P are sequentially formed in contact with the reflective layer. R (550)> 30 (I)
【請求項2】 透明高分子フィルムが下記式(II)を満
足することを特徴とする請求項1記載のディスプレイ用
反射フィルム。 (100+275×N)<R(550)<(180+275×N)・・・(II ) [上記式(II)においてNは0を含む自然数である。]
2. The reflective film for a display according to claim 1, wherein the transparent polymer film satisfies the following formula (II). (100 + 275 × N) <R (550) <(180 + 275 × N) (II) [In the above formula (II), N is a natural number including 0.] ]
【請求項3】 透明高分子フィルムが下記式(III)を
満足することを特徴とする請求項1記載のディスプレイ
用反射フィルム。 (220+275×N)<R(550)<(420+275×N)・・・(II I) [上記式(III)においてNは0を含む自然数であ
る。]
3. The reflective film for a display according to claim 1, wherein the transparent polymer film satisfies the following formula (III). (220 + 275 × N) <R (550) <(420 + 275 × N) (II I) [N is a natural number including 0 in the above formula (III). ]
【請求項4】 透明高分子フィルムが下記式(IV)を満
足することを特徴とする請求項1記載のディスプレイ用
反射フィルム。 (360+275×N)<R(550)<(620+275×N)・・・(IV ) [上記式(IV)においてNは0を含む自然数である]
4. The reflective film for a display according to claim 1, wherein the transparent polymer film satisfies the following formula (IV). (360 + 275 × N) <R (550) <(620 + 275 × N) ... (IV) [In the above formula (IV), N is a natural number including 0]
【請求項5】 120℃2hrでの熱処理前後の収縮変
化率が0.4%以下で、かつR(550)の変化率が2
0%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれ
かに記載のディスプレイ用反射フィルム。
5. The shrinkage change rate before and after the heat treatment at 120 ° C. for 2 hours is 0.4% or less, and the change rate of R (550) is 2 or less.
It is 0% or less, The reflective film for displays in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.
【請求項6】 反射率が30%以上である請求項1〜5
のいずれかに記載のディスプレイ用反射フィルム。
6. A reflectivity of 30% or more.
The reflective film for a display according to any one of 1.
【請求項7】 透明高分子フィルムが、下記式(1) 【化1】 [上記式(1)において、R1〜R8はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素基
から選ばれ、Xは炭素数1〜15の炭化水素基であ
る。]で表される繰り返し単位から実質的になるポリカ
ーボネートからなる請求項1〜6のいずれかに記載のデ
ィスプレイ用反射フィルム。
7. The transparent polymer film has the following formula (1): [In the above formula (1), R 1 to R 8 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and X is a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. ] The reflection film for displays according to any one of claims 1 to 6 which consists of polycarbonate which consists of a repeating unit represented by these.
【請求項8】 ポリカーボネートが、下記式(2) 【化2】 [上記式(2)おいて、R9〜R14はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素基
から選ばれる少なくとも一種である。]で表される繰り
返し単位を含むポリカーボネートであることを特徴とす
る請求項7記載のディスプレイ用反射フィルム。
8. A polycarbonate is represented by the following formula (2): [In the above formula (2), R 9 to R 14 are each independently at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ] It is polycarbonate containing the repeating unit represented by these, The reflective film for displays of Claim 7 characterized by the above-mentioned.
【請求項9】 ポリカーボネートが、下記式(3) 【化3】 [上記式(3)おいて、R17〜R24はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素基
から選ばれる少なくとも一種である。]で表される繰り
返し単位を含むポリカーボネートであることを特徴とす
る請求項7記載のディスプレイ用反射フィルム。
9. The polycarbonate has the following formula (3): [In the above formula (3), R 17 to R 24 are each independently at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ] It is polycarbonate containing the repeating unit represented by these, The reflective film for displays of Claim 7 characterized by the above-mentioned.
【請求項10】 反射層がAlを主成分とし、Cu、T
i、Zr、Hf、Nb、Ta、Cr、Mo、Mn、N
d、Ni、Pd及びAuからなる群から選ばれる少なく
とも一種の合金元素を含有することを特徴とする請求項
1〜9のいずれかに記載のディスプレイ用反射フィル
ム。
10. The reflective layer contains Al as a main component, and Cu, T
i, Zr, Hf, Nb, Ta, Cr, Mo, Mn, N
The reflective film for a display according to claim 1, further comprising at least one alloying element selected from the group consisting of d, Ni, Pd and Au.
【請求項11】 樹脂層Pが、少なくとも下記式(4)
で表される単位を含むアクリル系樹脂を主成分とする請
求項1〜10のいずれかに記載のディスプレイ用反射フ
ィルム。 【化4】
11. The resin layer P has at least the following formula (4):
The reflective film for a display according to claim 1, which is mainly composed of an acrylic resin containing a unit represented by: [Chemical 4]
【請求項12】 透明導電層と透明高分子フィルムの間
に、樹脂層Rが形成されていることを特徴とする請求項
1〜11のいずれかに記載のディスプレイ用反射フィル
ム。
12. The reflective film for a display according to claim 1, wherein a resin layer R is formed between the transparent conductive layer and the transparent polymer film.
【請求項13】 透明高分子フィルムと反射層の間に樹
脂層Aが形成されていることを特徴とする請求項1〜1
2のいずれかに記載のディスプレイ用反射フィルム。
13. The resin layer A is formed between the transparent polymer film and the reflective layer.
The reflective film for a display according to any one of 2.
【請求項14】 樹脂層Aが少なくとも下記式(5)で
表される単位を含むアクリル系ポリマーを主成分とする
ことを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載のデ
ィスプレイ用反射フィルム。 【化5】
14. The reflective film for a display according to claim 1, wherein the resin layer A is mainly composed of an acrylic polymer containing a unit represented by the following formula (5). . [Chemical 5]
【請求項15】 透明導電層と反射層の間に着色層が形
成されていることを特徴とする請求項1〜14のいずれ
かに記載のディスプレイ用反射フィルム。
15. The reflective film for a display according to claim 1, wherein a colored layer is formed between the transparent conductive layer and the reflective layer.
【請求項16】 請求項1〜15のいずれかに記載のデ
ィスプレイ用反射フィルムを用いた液晶表示素子。
16. A liquid crystal display device using the reflective film for a display according to claim 1.
【請求項17】 波長550nmの光に対する面内位相
差R(550)[nm]が下記式(I)を満足する透明
高分子フィルムの一方の面に反射層及び該反射層に接し
て樹脂層Pが順に形成され、40℃90%RH環境下に
おける水蒸気透過度が1g/day/m2以下、かつ酸
素透過度が10cc/day/m2である積層フィルム
であって、該透明高分子フィルムの他方の面に電極のた
めの透明導電層を形成することによりディスプレイ用反
射フィルムとして好適なディスプレイ用積層フィルム。 R(550) > 30 ・・・(I)
17. A reflective layer on one surface of a transparent polymer film having an in-plane retardation R (550) [nm] with respect to light having a wavelength of 550 nm satisfying the following formula (I), and a resin layer in contact with the reflective layer. A laminated film in which P is formed in order, the water vapor permeability in an environment of 40 ° C. and 90% RH is 1 g / day / m 2 or less, and the oxygen permeability is 10 cc / day / m 2, which is a transparent polymer film. A laminated film for a display suitable as a reflective film for a display by forming a transparent conductive layer for an electrode on the other surface. R (550)> 30 (I)
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