JP2000353426A - Transparent conductive film - Google Patents

Transparent conductive film

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JP2000353426A JP2000104800A JP2000104800A JP2000353426A JP 2000353426 A JP2000353426 A JP 2000353426A JP 2000104800 A JP2000104800 A JP 2000104800A JP 2000104800 A JP2000104800 A JP 2000104800A JP 2000353426 A JP2000353426 A JP 2000353426A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film excellent in bendability for use as a transparent conductive substrate for a liquid-crystal display element, by making up an organic layer on, at least, one surface of a polymeric film out of an acrylic polymer including units of a specific structure. SOLUTION: This transparent conductive film has organic layers on both surfaces of a transparent polymeric film, At least one of the organic layers is positioned between a transparent conductive layer and the transparent polymeric film, and is made up of an acrylic polymer including units expressed by a formula. Preferably, the structure of the units expressed by the formula is contained by 20 to 100% per total weight making up the organic layer. Preferably, the film thickness of the organic layer is 1 to 20 μm. From the viewpoint of transparency and adhesiveness to the organic layer, it is especially preferable to use a polycarbonate film as the transparent polymeric film, thereby sharply improving bending resistance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は透明導電性フィルム
に関し、さらに詳しくは、屈曲性、耐久性に優れ、液晶
表示素子の透明導電性電極基板として好ましく用いるこ
とができ、更にはエレクトロルミネッセンス素子、エレ
クトロクロミズム素子等の電極基板としても使用するこ
とが可能な透明導電性フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent conductive film, and more particularly, it has excellent flexibility and durability and can be preferably used as a transparent conductive electrode substrate of a liquid crystal display device. The present invention relates to a transparent conductive film that can be used also as an electrode substrate for an electrochromic device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ペイジャーやセルラー、電子手
帳、ペン入力機器等の携帯機器利用の拡大につれて、従
来のガラス基板に替って、軽量、衝撃性の向上、曲面表
示が可能等の特徴を持つプラスチック基板とする液晶表
示素子が実用化され始めている。
2. Description of the Related Art In recent years, as the use of portable devices such as pagers, cellular phones, electronic notebooks, and pen input devices has expanded, conventional glass substrates have been replaced with features such as light weight, improved impact resistance, and the ability to display curved surfaces. Liquid crystal display elements having a plastic substrate have been put into practical use.

【0003】プラスチック基板について、特開昭61−
86252号公報や、フラットパネルディスプレイ19
94(日経BP社)の123〜131ページには、高分
子フィルム上に、アルカリや、有機溶媒に耐性を示す有
機層、更に液晶表示素子の信頼性向上のために、ガスバ
リア性を有する層を積層し、最外層に透明導電層を積層
することが記載されている。そして、これまで、高分子
フィルム、有機層、ガスバリア層、透明導電層につい
て、更にはこれらの層間密着性を改善するための層や手
法について検討がなされてきた。
A plastic substrate is disclosed in
86252, flat panel display 19
94 (Nikkei BP), pp. 123-131, on a polymer film, an organic layer exhibiting resistance to alkalis and organic solvents, and a layer having gas barrier properties for improving the reliability of the liquid crystal display device. It is described that the transparent conductive layer is laminated on the outermost layer. So far, studies have been made on polymer films, organic layers, gas barrier layers, and transparent conductive layers, and on layers and techniques for improving the interlayer adhesion.

【0004】例えば、高分子フィルムについては、光学
特性、耐熱性等の観点から、非晶性の高分子例えば、ポ
リカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホ
ン、非晶性ポリオレフィン、耐熱アクリル、ポリエステ
ルやこれらのポリマーの変成物のフィルムが検討され、
製膜方法についても、溶液キャスト法、溶融押出し法等
検討されてきた。
[0004] For example, with respect to polymer films, from the viewpoints of optical characteristics, heat resistance, etc., amorphous polymers such as polycarbonate, polyethersulfone, polysulfone, amorphous polyolefin, heat-resistant acryl, polyester, and these polymers The metamorphic film is considered
Regarding a film forming method, a solution casting method, a melt extrusion method, and the like have been studied.

【0005】有機層については、各種の活性光線(例え
ば紫外線)硬化性樹脂や熱硬化性樹脂が検討され、耐溶
剤性、その他の層との密着性、ハードコート性等の改善
の検討がなされてきた。
For the organic layer, various types of actinic ray (eg, ultraviolet) curable resins and thermosetting resins have been studied, and improvements in solvent resistance, adhesion to other layers, hard coat properties, and the like have been studied. Have been.

【0006】ガスバリア層については、ポリビニルアル
コール、エチレン−ビニルアルコール、塩化ビニリデ
ン、ポリアクリロニトリル、ポリアミド等のポリマー及
びその変成物からなる有機物、また、酸化珪素、酸化ア
ルミニウム及びその変成物からなる無機物からなる層の
検討がなされてきた。
The gas barrier layer is made of an organic material such as polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol, vinylidene chloride, polyacrylonitrile, polyamide or the like and a modified product thereof, or an inorganic material composed of silicon oxide, aluminum oxide or a modified product thereof. Layer considerations have been made.

【0007】透明導電層についても、その材料や製膜方
法について、例えば、高透明性や低抵抗を目指した検討
がなされてきた。
[0007] Regarding the transparent conductive layer, studies have been made on its material and film forming method, for example, aiming at high transparency and low resistance.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電極基
板として用いた場合にはプラスチック基板の特徴であ
る、屈曲性を十分に満たすものはなかった。すなわち、
実装時に基板を曲げたりした場合、透明導電層に割れが
発生し、その結果断線を引き起こして、表示不良となっ
てしまうことがあった。特に表面抵抗値を下げるべく、
透明導電層を厚くした場合、顕著であった。本発明の目
的は、特に液晶表示素子の透明導電性基板として好適な
屈曲性の優れた透明導電性フィルムを提供することにあ
る。
However, when used as an electrode substrate, none of the plastic substrates sufficiently satisfy the characteristic of flexibility. That is,
When the substrate is bent at the time of mounting, a crack occurs in the transparent conductive layer, and as a result, disconnection is caused, and a display failure may occur. Especially to lower the surface resistance
When the transparent conductive layer was made thicker, it was remarkable. An object of the present invention is to provide a transparent conductive film excellent in flexibility and particularly suitable as a transparent conductive substrate of a liquid crystal display device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、屈曲性は透明導電層と高分子フィルムとの間に設
ける有機層が重要であることを見出した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that the organic layer provided between the transparent conductive layer and the polymer film is important for flexibility.

【0010】すなわち、本発明は、高分子フィルムの
(i)両面に有機層を有し、(ii)少なくとも一方の
面にSi、Al、Mgの酸化物から選ばれた少なくとも
1種の酸化物を含む無機層を有し、更に(iii)少な
くとも一方の面の最外層にインジウム酸化物を主成分と
する透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、
該高分子フィルムの少なくとも一方の面の有機層は、下
記式(1)で示される単位を含むアクリル系ポリマーか
らなることを特徴とする透明導電性フィルムである。
That is, the present invention provides (i) an organic layer on both surfaces of a polymer film, and (ii) at least one oxide selected from oxides of Si, Al and Mg on at least one surface. And (iii) a transparent conductive film having a transparent conductive layer containing indium oxide as a main component in at least one outermost layer,
The organic layer on at least one surface of the polymer film is a transparent conductive film comprising an acrylic polymer containing a unit represented by the following formula (1).

【0011】[0011]

【化6】 Embedded image

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の透明導電性フィルムは、
透明な高分子フィルムの両面に有機層を有し、少なくと
も一方の面に、無機層及び透明導電層を有する。かかる
高分子フィルムの両面に配置された有機層のうち、少な
くとも一方の面の有機層は透明導電層と高分子フィルム
との間に位置し、かつ下記式(1)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The transparent conductive film of the present invention
The transparent polymer film has an organic layer on both sides and an inorganic layer and a transparent conductive layer on at least one side. Of the organic layers disposed on both sides of the polymer film, at least one of the organic layers is located between the transparent conductive layer and the polymer film, and has the following formula (1)

【0013】[0013]

【化7】 Embedded image

【0014】で表される単位を含むアクリル系ポリマー
からなるものである。かかるアクリル系ポリマーからな
る有機層を透明導電層と高分子フィルムとの間に設ける
ことにより、透明導電性フィルムの耐屈曲性が良好であ
り、耐久性、透明性、ガスバリア性、リターデーション
等にも優れる、液晶表示素子の電極基板として好適な透
明導電性フィルムが得られる。かかるアクリル系ポリマ
ーとしては、下記式(1−1)
It is made of an acrylic polymer containing a unit represented by the formula: By providing such an organic layer made of an acrylic polymer between the transparent conductive layer and the polymer film, the bending resistance of the transparent conductive film is good, and the durability, transparency, gas barrier properties, retardation, etc. Thus, a transparent conductive film suitable for an electrode substrate of a liquid crystal display element, which is excellent in quality, is obtained. As such an acrylic polymer, the following formula (1-1)

【0015】[0015]

【化8】 Embedded image

【0016】で表される単位が好ましい。The unit represented by the formula is preferred.

【0017】上記式(1)で表される単位を含むアクリ
ル系ポリマーからなる有機層は、例えば、上記構造を持
った下記式(5)で表されるアクリレートモノマーを、
必要に応じて反応開始剤を添加した後、活性光線(例え
ば紫外線)を照射したり加熱することによって重合し硬
化することにより与えることができる。
The organic layer composed of the acrylic polymer containing the unit represented by the above formula (1) is formed, for example, by using an acrylate monomer represented by the following formula (5) having the above structure,
After adding a reaction initiator as needed, it can be provided by irradiating with an actinic ray (for example, ultraviolet rays) or heating to polymerize and cure.

【0018】[0018]

【化9】 Embedded image

【0019】ここで、R9及びR10はそれぞれ独立に、
水素原子またはメチル基を示す。
Here, R 9 and R 10 are each independently:
Shows a hydrogen atom or a methyl group.

【0020】該アクリレートモノマーの具体例として
は、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートを挙
げることができる。
Specific examples of the acrylate monomer include dimethylol tricyclodecane diacrylate.

【0021】上記式(1)で表される単位の構造は、有
機層を構成する全重量あたり、5〜100重量%含有し
ていることが好ましく、20〜100%含むことがより
好ましい。5%未満では、目的とする屈曲性や他の特性
(耐溶剤性等)が十分発現しないことがある。具体的に
は、上記有機層中上記式(5)で表されるアクリレート
モノマー以外の他のアクリレートモノマーから誘導され
る、他の単位を95〜0重量%含むことができる。かか
る他のアクリレートモノマーとしては、例えばウレタン
アクリレート、エステルアクリレート、エポキシアクリ
レートやその他の多官能アクリレートを用いることが可
能である。
The structure of the unit represented by the above formula (1) is preferably contained in an amount of 5 to 100% by weight, more preferably 20 to 100%, based on the total weight of the organic layer. If it is less than 5%, the desired flexibility and other properties (such as solvent resistance) may not be sufficiently exhibited. Specifically, the organic layer may contain 95 to 0% by weight of another unit derived from an acrylate monomer other than the acrylate monomer represented by the formula (5). As such another acrylate monomer, for example, urethane acrylate, ester acrylate, epoxy acrylate and other polyfunctional acrylates can be used.

【0022】上記式(1)で表される単位の構造は、有
機層を構成する全重量あたり、5〜100重量%含有し
ていることが好ましく、20〜100重量%含むことが
より好ましく、20〜90%含むことがさらにより好ま
しい。特に5%未満では、目的とする屈曲性が十分発現
しないことがある。また20〜90%含むことにより、
透明導電層と接して用いた場合の密着性が良好である。
The unit represented by the formula (1) preferably contains 5 to 100% by weight, more preferably 20 to 100% by weight, based on the total weight of the organic layer. It is even more preferred that the content is 20 to 90%. In particular, if it is less than 5%, the desired flexibility may not be sufficiently exhibited. By containing 20-90%,
Good adhesion when used in contact with the transparent conductive layer.

【0023】具体的には、上記有機層中上記式(5)で
表されるアクリレートモノマー以外の他のアクリレート
モノマーから誘導される、他の単位を95〜0重量%含
むことができる。かかる他の単位を誘導する他のアクリ
レートモノマーとしては、例えば2つ以上のアクリル基
を有する、ウレタンアクリレート、エステルアクリレー
ト、エポキシアクリレート等を用いることが可能であ
る。特に、有機層の耐有機溶媒性等を高めるために、か
かる他のアクリレートモノマーとして3つ以上のアクリ
ル基を有する多官能アクリレートモノマーを用いること
ができる。
Specifically, the organic layer may contain 95 to 0% by weight of another unit derived from an acrylate monomer other than the acrylate monomer represented by the above formula (5). As another acrylate monomer for deriving such another unit, for example, urethane acrylate, ester acrylate, epoxy acrylate, or the like having two or more acrylic groups can be used. In particular, a polyfunctional acrylate monomer having three or more acrylic groups can be used as such another acrylate monomer in order to increase the organic solvent resistance of the organic layer.

【0024】また、かかる有機層中には、上記アクリル
系ポリマーの重合のための触媒や、製膜性や機能性を高
める添加剤(レベリング剤、シリカ等の微粒子等)等を
適宜加えることが可能である。
In the organic layer, a catalyst for polymerization of the acrylic polymer, an additive for improving film forming property and functionality (leveling agent, fine particles such as silica, etc.) may be appropriately added. It is possible.

【0025】本発明の透明導電性フィルムにおける屈曲
性の良否は、透明導電性フィルムを直径の異なる丸棒に
巻き付けて、透明導電層に割れが生じる直径で判断す
る。実装等を考えると、割れが生じる丸棒の直径が14
mm以下が好ましく、10mm以下が更に好ましい。ま
た、丸棒に巻き付ける時、透明導電層を内側にする場合
と外側にする場合の2通りの評価を行う。
The quality of the bendability of the transparent conductive film of the present invention is determined by winding the transparent conductive film around round rods having different diameters, and determining the diameter at which a crack occurs in the transparent conductive layer. Considering mounting, etc., the diameter of the round bar where cracks occur is 14
mm or less, more preferably 10 mm or less. In addition, when wound around a round bar, two kinds of evaluations, that is, the case where the transparent conductive layer is set inside and the case where the transparent conductive layer is set outside are performed.

【0026】屈曲性は、透明導電層の厚さにも依存し、
一般的に厚いほど屈曲性は悪くなり、直径の大きな丸棒
にて評価しても割れを生じ易くなる。本発明の透明導電
性フィルムの透明導電層の厚さは特に100nm以上で
も割れにくいという優れた効果を生じる。
The flexibility also depends on the thickness of the transparent conductive layer,
In general, the greater the thickness, the worse the flexibility, and even when evaluated with a round bar having a large diameter, cracks easily occur. The transparent conductive layer of the transparent conductive film of the present invention has an excellent effect that it is hardly cracked even if the thickness is particularly 100 nm or more.

【0027】上記式(1)で表される単位を含むアクリ
ル系ポリマーを有機層とした場合、優れた耐屈曲性を示
す、すなわち、透明導電性フィルムを曲げた時に、透明
導電層に割れが生じ難い理由や耐久性に優れる理由はは
っきりしないが、該有機層が、透明導電層や無機層と密
着性が良いこと、または、透明導電層や無機層の曲げた
時に発生する応力を緩和する働きがあると推定される。
When the acrylic polymer containing the unit represented by the above formula (1) is used as the organic layer, it exhibits excellent bending resistance, that is, when the transparent conductive film is bent, cracks occur in the transparent conductive layer. It is not clear why it is unlikely to occur or the durability is excellent, but the organic layer has good adhesion to the transparent conductive layer or inorganic layer, or relieves the stress generated when the transparent conductive layer or inorganic layer is bent. It is estimated that there is work.

【0028】該有機層を形成するには、該有機層を形成
する下層(高分子フィルム等)上に、例えば湿式コーテ
ィングによって、上記アクリレートモノマー及び開始剤
を含んだ塗液をコートした後、活性光線(例えば紫外
線)を照射させたり加熱等を行うことで形成することが
できる。
In order to form the organic layer, a lower layer (such as a polymer film) for forming the organic layer is coated with a coating solution containing the acrylate monomer and the initiator by, for example, wet coating. It can be formed by irradiating light rays (for example, ultraviolet rays), heating, or the like.

【0029】かかる湿式コーティング法としては、公知
のマイクログラビア、マイヤーバー等の各種の方法が用
いられる。この際必要に応じてアクリレートモノマーを
溶剤に適当な濃度で溶解した後に、コーティングを行う
ことも好ましい。
As such a wet coating method, various known methods such as microgravure and Meyer bar are used. At this time, it is also preferable to perform coating after dissolving the acrylate monomer in a solvent at an appropriate concentration, if necessary.

【0030】該有機層の膜厚は、1〜20μmの範囲が
好ましい。膜厚が1μm以下では、十分な耐溶剤性が発
現しなくなる場合があり、また20μm以上では層の密
着性の悪化等の物性低下が生じるので好ましくない。
The thickness of the organic layer is preferably in the range of 1 to 20 μm. When the film thickness is 1 μm or less, sufficient solvent resistance may not be exhibited in some cases, and when the film thickness is 20 μm or more, physical properties such as poor adhesion of the layer may be reduced, which is not preferable.

【0031】該有機層の膜厚は、1〜20μmの範囲が
好ましい。膜厚が1μm未満では、十分な耐溶剤性が発
現しなくなる場合があり、また20μmを超えると層の
密着性の悪化等の物性低下が生じるので好ましくない。
該有機層の膜厚は、有機層の硬化収縮により有機層を形
成した後のフィルムが反るという問題が生じにくいこと
から、2μm〜10μmがより好ましい。
The thickness of the organic layer is preferably in the range of 1 to 20 μm. If the film thickness is less than 1 μm, sufficient solvent resistance may not be exhibited in some cases, and if it exceeds 20 μm, physical properties such as poor adhesion of the layer are deteriorated, which is not preferable.
The thickness of the organic layer is more preferably 2 μm to 10 μm, since the problem that the film after forming the organic layer is warped due to curing shrinkage of the organic layer does not easily occur.

【0032】なお、高分子フィルムの透明導電層の反対
の面に設ける有機層は、上述の、高分フィルムと透明導
電層の間の有機層と同じであっても良いし、他の硬化性
樹脂からなる層であっても良い。かかる硬化性樹脂とし
ては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化
性樹脂や、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、エステルアクリレートやその他の多官能アクリレー
ト等の活性光線硬化性樹脂を挙げることができる。
The organic layer provided on the opposite side of the transparent conductive layer of the polymer film may be the same as the above-mentioned organic layer between the high-definition film and the transparent conductive layer, or may be other curable. It may be a layer made of resin. Examples of such a curable resin include a thermosetting resin such as an epoxy resin and a urethane resin, and an actinic ray-curable resin such as an epoxy acrylate, a urethane acrylate, an ester acrylate, and other polyfunctional acrylates.

【0033】また、カラー表示素子用の基板として本発
明の透明導電性フィルムを用いる場合、本発明の透明導
電性フィルムを構成している高分子フィルムと層との
間、あるいは層と層の間に少なくとも一層の着色層を設
けてもよい。ここで着色層とは、カラー表示素子を実現
するために、例えばR(赤)、B(青)、G(緑)また
はM(マゼンタ)、C(シアン)、Y(イエロー)の3
原色を備えた着色層を挙げることができる。また、コン
トラスト向上や着色層の混色防止のために、ブラックマ
トリックスが形成されてもよい。着色層は、顔料や染料
といった色素を添加した樹脂をパターニングして形成す
る、いわゆる顔料分散法や染料分散法で形成するのが好
ましい。また、印刷法、染色法、電着法といった着色層
を形成するための従来技術でも着色層を形成してもよ
い。
In the case where the transparent conductive film of the present invention is used as a substrate for a color display device, when the transparent conductive film of the present invention is used between a polymer film and a layer or between layers. May be provided with at least one colored layer. Here, the colored layer is, for example, R (red), B (blue), G (green) or M (magenta), C (cyan), and Y (yellow) in order to realize a color display element.
A colored layer having a primary color can be used. Further, a black matrix may be formed to improve contrast and prevent color mixing of the colored layer. The coloring layer is preferably formed by patterning a resin to which a pigment such as a pigment or a dye is added, that is, a so-called pigment dispersion method or a dye dispersion method. Further, the coloring layer may be formed by a conventional technique for forming a coloring layer such as a printing method, a dyeing method, and an electrodeposition method.

【0034】本発明における透明な高分子フィルムは、
特に制限はなく、ポリエステル、ポリカーボネート、ポ
リアリレート、ポリオレフィン等の熱可塑性高分子、熱
硬化性高分子からなるものを用いることができるが、特
に非晶性の熱可塑性高分子からなるフィルムが好ましく
用いられる。かかる高分子フィルムとして、特に透明性
が良好なポリカーボネートフィルムは、上記式(1)で
表される単位を含むアクリル系ポリマーからなる有機層
と接着性に優れ、そしてこれらを組み合わせて用いると
耐屈曲性が非常に良好である。
The transparent polymer film according to the present invention comprises:
There is no particular limitation, and thermoplastic polymers such as polyester, polycarbonate, polyarylate, and polyolefin, and those made of a thermosetting polymer can be used, and a film made of an amorphous thermoplastic polymer is particularly preferably used. Can be As such a polymer film, a polycarbonate film having particularly good transparency is excellent in adhesiveness to an organic layer made of an acrylic polymer containing a unit represented by the above formula (1), and when used in combination, a flex resistance is obtained. Very good properties.

【0035】かかるポリカーボネートは、例えば下記式
(2)
The polycarbonate is, for example, represented by the following formula (2)

【0036】[0036]

【化10】 Embedded image

【0037】で表される繰り返し単位を含む(共重合)
ポリカーボネート、下記式(3)
Containing a repeating unit represented by the formula (copolymerization)
Polycarbonate, the following formula (3)

【0038】[0038]

【化11】 Embedded image

【0039】(上記式(3)において、R1〜R8はそれ
ぞれに独立に、水素原子、ハロゲン原子及び炭素数1〜
6の炭化水素基から選ばれる。)で示される繰り返し単
位を含む(共重合)ポリカーボネート、下記式(4)
(In the above formula (3), R 1 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom and a carbon atom having 1 to 8 carbon atoms.
6 hydrocarbon groups. (Polycarbonate) containing a repeating unit represented by the following formula (4):

【0040】[0040]

【化12】 Embedded image

【0041】(上記式(4)において、R1〜R8はそれ
ぞれに独立に、水素原子、ハロゲン原子及び炭素数1〜
6の炭化水素基から選ばれる。)で示される繰り返し単
位を含む(共重合)ポリカーボネートが挙げられる。
(In the above formula (4), R 1 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom and a carbon atom having 1 to 8 carbon atoms.
6 hydrocarbon groups. ()) (Copolymerized) polycarbonate containing a repeating unit represented by the formula (1).

【0042】上記ポリカーボネートは、上記式(3)で
表される繰り返し単位から実質的になるもの、上記式
(2)及び(3)で表される繰り返し単位からなる共重
合体、上記式(4)及び(3)で表される繰り返し単位
からなる共重合体が好ましい。
The above-mentioned polycarbonate is substantially composed of the repeating units represented by the above formula (3), a copolymer composed of the repeating units represented by the above formulas (2) and (3), ) And a copolymer comprising the repeating units represented by (3) are preferred.

【0043】上記式(2)、(4)において、R1〜R8
はそれぞれに独立に、水素原子、ハロゲン原子及び炭素
数1〜6の炭化水素基から選ばれる。ハロゲン原子とし
ては、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子を挙げること
ができる。炭素数1〜6の炭化水素基としては、メチル
基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基等の
炭素数1〜6のアルキル基を挙げることができる。
In the above formulas (2) and (4), R 1 to R 8
Is independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and an iodine atom. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and a cyclohexyl group.

【0044】上記式(2)で示される繰り返し単位の具
体的な例として、3,3,5−トリメチル−1,1−ジ
(4−フェノール)シクロヘキシリデン型ポリカーボネ
ート、そして上記式(4)の具体的な例として、フルオ
レン−9,9−ジ(4−フェノール)型ポリカーボネー
ト、フルオレン−9,9−ジ(3−メチル−4−フェノ
ール)型ポリカーボネートを好ましく例示することがで
きる。
As specific examples of the repeating unit represented by the above formula (2), 3,3,5-trimethyl-1,1-di (4-phenol) cyclohexylidene type polycarbonate and the above formula (4) Preferred examples of the above include fluorene-9,9-di (4-phenol) type polycarbonate and fluorene-9,9-di (3-methyl-4-phenol) type polycarbonate.

【0045】上記式(2)で示される繰り返し単位を含
むポリカーボネートとしては、上記式(2)で示される
繰り返し単位からなるホモのポリカーボネートの他に、
上記式(2)で示される繰り返し単位と上記式(3)で
示される繰り返し単位とからなる共重合ポリカーボネー
トを挙げることができる。かかる共重合の組成比は、い
かなる組成比でも良いが、上記式(2)で示される繰り
返し単位の組成比が多くなるに従って、耐熱性(ガラス
転移温度)が上昇し、光弾性系数が小さくなるという好
ましい反面、価格が高くなるため、そのバランスによっ
て組成は決定される。具体的には、上記式(2)で示さ
れる繰り返し単位が1〜70モル%が好ましく、耐熱性
等の面からは30〜70モル%が好ましく、価格の面か
らは1〜50モル%が好ましい。またこれらは2種類以
上組み合わせて用いても良く、例えば上記式(2)で示
される繰り返し単位からなるポリカーボネートと上記式
(3)で示される繰り返し単位とからなるポリカーボネ
ートとのブレンドを用いることもできる。
As the polycarbonate containing the repeating unit represented by the above formula (2), in addition to the homopolycarbonate comprising the repeating unit represented by the above formula (2),
Copolymerized polycarbonate comprising a repeating unit represented by the above formula (2) and a repeating unit represented by the above formula (3) can be exemplified. The composition ratio of the copolymer may be any composition ratio, but as the composition ratio of the repeating unit represented by the above formula (2) increases, the heat resistance (glass transition temperature) increases and the photoelastic system number decreases. On the other hand, since the price is high, the composition is determined by the balance. Specifically, the repeating unit represented by the above formula (2) is preferably from 1 to 70 mol%, more preferably from 30 to 70 mol% from the viewpoint of heat resistance, and from 1 to 50 mol% from the viewpoint of price. preferable. These may be used in combination of two or more kinds. For example, a blend of a polycarbonate composed of the repeating unit represented by the above formula (2) and a polycarbonate composed of the repeating unit represented by the above formula (3) can be used. .

【0046】上記式(4)で示される繰り返し単位を含
む(共重合)ポリカーボネートとしては、上記式(4)
で示される繰り返し単位からなるホモのポリカーボネー
トの他に、上記式(2)で示される繰り返し単位と上記
式(4)で示される繰り返し単位とからなる共重合のポ
リカーボネートが好ましい。かかる共重合の組成比は、
いかなる組成比でも良いが、上記式(4)で示される繰
り返し単位の組成比が多くなるに従って、耐熱性(ガラ
ス転移温度)が上昇し、光弾性系数が小さくなるという
好ましい反面、価格が高くなるため、そのバランスによ
って組成は決定される。具体的には、上記式(4)で示
される繰り返し単位が1〜60モル%が好ましく、耐熱
性等の面からは20〜60モル%が好ましく、価格の面
からは1〜40モル%が好ましい。またこれらは2種類
以上組み合わせて用いても良く、例えば上記式(2)で
示される繰り返し単位からなるポリカーボネートと上記
式(4)で示される繰り返し単位とからなるポリカーボ
ネートとのブレンドを用いることもできる。
As the (copolymer) polycarbonate containing a repeating unit represented by the above formula (4),
In addition to the homopolycarbonate composed of the repeating unit represented by the formula, a copolymerized polycarbonate composed of the repeating unit represented by the formula (2) and the repeating unit represented by the formula (4) is preferable. The composition ratio of such a copolymer is:
Although any composition ratio may be used, as the composition ratio of the repeating unit represented by the above formula (4) increases, heat resistance (glass transition temperature) increases and the number of photoelastic systems decreases. Therefore, the composition is determined by the balance. Specifically, the repeating unit represented by the above formula (4) is preferably 1 to 60 mol%, more preferably 20 to 60 mol% from the viewpoint of heat resistance, and 1 to 40 mol% from the viewpoint of price. preferable. These may be used in combination of two or more kinds. For example, a blend of a polycarbonate composed of a repeating unit represented by the above formula (2) and a polycarbonate composed of a repeating unit represented by the above formula (4) can be used. .

【0047】上記高分子フィルムは、リターデーション
が30nm以下であることが好ましい。30nmを超え
ると、パネルとした時のコントラストの低下等の問題が
生じてしまうことがある。
The polymer film preferably has a retardation of 30 nm or less. If it exceeds 30 nm, problems such as a decrease in contrast when a panel is formed may occur.

【0048】上記高分子フィルムは、全光線透過率が7
0%以上であることが好ましい。70%未満では、視認
性の低下を招く等の問題が生じることがある。
The above polymer film has a total light transmittance of 7
It is preferably 0% or more. If it is less than 70%, problems such as a decrease in visibility may occur.

【0049】上記高分子フィルムの製膜方法としては、
例えば溶液製膜、溶融押出し製膜等の公知の方法を用い
ることが出来るが、フィルムの平滑性の観点から、溶液
製膜法がより好ましい。
The method for forming the polymer film is as follows.
For example, a known method such as solution film formation and melt extrusion film formation can be used, but from the viewpoint of film smoothness, a solution film formation method is more preferable.

【0050】高分子フィルムの厚みは30〜700μm
が好ましい。30μmより薄い場合は基材の作製プロセ
スにおいてハンドリングが困難となるといった問題があ
る。700μmより厚い場合は、軽量であるという高分
子フィルムの特徴が失われるのみならず、視差が大きく
なることによる表示品位の低下が生じ好ましくない。高
分子フィルムの厚みはより好ましくは70〜500μm
である。
The thickness of the polymer film is 30 to 700 μm
Is preferred. When the thickness is less than 30 μm, there is a problem that handling becomes difficult in the process of manufacturing the base material. When the thickness is larger than 700 μm, not only the characteristic of the polymer film, which is lightweight, is lost, but also the display quality is deteriorated due to an increase in parallax, which is not preferable. The thickness of the polymer film is more preferably 70 to 500 μm
It is.

【0051】本発明における無機層は、主にガスバリア
性を発現するためのものである。かかる無機層として
は、例えばSi、Al、Mg、Zn、Zr、Ti、Y、
Ta、In、Snの郡から選ばれる1種または2種以上
の金属を主成分とする金属酸化物、珪素、アルミニウ
ム、ホウ素の金属窒化物またはこれらの混合物を挙げる
ことができる。この中で、Si、Al、及びMgの酸化
物から選ばれた少なくとも1種の酸化物が好ましい。
The inorganic layer in the present invention is mainly for exhibiting gas barrier properties. As such an inorganic layer, for example, Si, Al, Mg, Zn, Zr, Ti, Y,
Examples thereof include a metal oxide containing one or more metals selected from the group consisting of Ta, In, and Sn, a metal nitride of silicon, aluminum, and boron, or a mixture thereof. Among them, at least one oxide selected from oxides of Si, Al, and Mg is preferable.

【0052】この無機層は、例えば公知のスパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、蒸着法、CVD法等に
より作成可能であるが、スパッタリング法が耐薬品性の
観点から好ましい。
This inorganic layer can be formed by, for example, a known sputtering method, ion plating method, vapor deposition method, CVD method or the like, but the sputtering method is preferable from the viewpoint of chemical resistance.

【0053】無機層の膜厚は、5〜300nmの範囲が
好ましい。5nm未満では、ガスバリア性を安定して得
ることが難しく、また300nmを超えると、層の形成
に非常に長い時間を要するので好ましくない。
The thickness of the inorganic layer is preferably in the range of 5 to 300 nm. If it is less than 5 nm, it is difficult to stably obtain gas barrier properties, and if it exceeds 300 nm, it takes an extremely long time to form a layer, which is not preferable.

【0054】この無機層を形成したフィルム(透明導電
層は有しない透明導電性フィルム)の40℃90%RH
環境下における酸素透過率及び水蒸気透過率は各々3c
c/m2/day/atm以下、3g/m2/day以下
であることが好ましい。
The film on which the inorganic layer was formed (the transparent conductive film having no transparent conductive layer) was obtained at 40 ° C. and 90% RH.
Oxygen permeability and water vapor permeability under environment are 3c each
It is preferably c / m 2 / day / atm or less, and 3 g / m 2 / day or less.

【0055】さらに、極めて高度のガスバリヤ性を達成
するためには、上記無機層として、珪素原子数に対する
酸素原子数の割合が1.5〜2.0の珪素酸化物を主成
分とする金属酸化物(X)を用い、(X)の両面に、珪
素を含有する硬化樹脂層(B)及び(C)を設けること
が好ましい。該珪素を含有する硬化樹脂層としてはビニ
ルアルコール含有ポリシロキサン系樹脂(P)又は有機
ポリシロキサン系樹脂(Q)が好ましく、硬化樹脂層
(B)または(C)の少なくとも一方が(P)であるこ
とがより好ましい。このような層構成にすることによ
り、膜厚が薄い珪素酸化物を主成分とする金属酸化物を
用いても基板の気体透過度を小さくでき、特に、水蒸気
透過度を0.1g/m2/day(ただし透明導電層が
ない場合)以下にすることが可能であり、例えば液晶表
示素子用の基板として用いた場合、高温高湿の環境下に
長時間さらされても電気光学的に安定性に優れる素子を
得ることができる。
Further, in order to achieve a very high gas barrier property, the inorganic layer is made of a metal oxide mainly composed of silicon oxide in which the ratio of the number of oxygen atoms to the number of silicon atoms is 1.5 to 2.0. It is preferable to use the product (X) and provide the cured resin layers (B) and (C) containing silicon on both surfaces of (X). As the silicon-containing cured resin layer, a vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) or an organic polysiloxane resin (Q) is preferable, and at least one of the cured resin layers (B) and (C) is (P). More preferably, there is. With such a layer structure, the gas permeability of the substrate can be reduced even when a metal oxide having a thin film thickness as a main component is used, and in particular, the water vapor permeability is reduced to 0.1 g / m 2. / Day (provided that there is no transparent conductive layer). For example, when used as a substrate for a liquid crystal display device, it is electro-optically stable even when exposed to a high temperature and high humidity environment for a long time. An element having excellent properties can be obtained.

【0056】該ビニルアルコール含有ポリシロキサン系
樹脂(P)は、ビニルアルコール系ポリマーと、エポキ
シ基含有珪素化合物およびアミノ基含有珪素化合物を含
むコーティング組成物を塗布し加熱等により反応硬化さ
せることで得られる。
The vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) is obtained by applying a coating composition containing a vinyl alcohol-based polymer, a silicon compound containing an epoxy group and a silicon compound containing an amino group, and curing by heating or the like. Can be

【0057】ここでビニルアルコール系ポリマーは、公
知の市販のものが適用でき、例えばビニルアルコール成
分およびビニルアルコール共重合体成分よりなる群から
選ばれた少なくとも1種を50モル%以上含有する高分
子が適用される。なお、このビニルアルコール共重合体
としては、例えばビニルアルコール−酢酸ビニル共重合
体、ビニルアルコールビニルブチラール共重合体、エチ
レン−ビニルアルコール共重合体、あるいは分子内にシ
リル基を有するポリビニルアルコールが挙げられる。な
かでも、エチレン−ビニルアルコール共重合体を用いる
と、耐薬品性、耐水性、耐久性にいっそう優れたビニル
アルコール含有ポリシロキサン樹脂(P)が得られる。
As the vinyl alcohol-based polymer, a known commercially available polymer can be used. For example, a polymer containing at least one selected from the group consisting of a vinyl alcohol component and a vinyl alcohol copolymer component in an amount of 50 mol% or more is used. Is applied. Examples of the vinyl alcohol copolymer include a vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer, a vinyl alcohol vinyl butyral copolymer, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, and a polyvinyl alcohol having a silyl group in a molecule. . Among them, when an ethylene-vinyl alcohol copolymer is used, a vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) having further excellent chemical resistance, water resistance and durability can be obtained.

【0058】該ビニルアルコール系ポリマーは、水、ジ
メチルイミダゾリン等に溶解してコーティング組成物の
成分とすることができる。また、エチレン−ビニルアル
コール共重合体は、水/プロパノールを主成分とする混
合溶媒に溶解してコーティング組成物の成分として用い
ることができる。
The vinyl alcohol polymer can be dissolved in water, dimethylimidazoline or the like to be used as a component of the coating composition. The ethylene-vinyl alcohol copolymer can be dissolved in a mixed solvent containing water / propanol as a main component and used as a component of the coating composition.

【0059】エポキシ基含有珪素化合物はエポキシ基及
びアルコキシシリル基を有する珪素化合物、その(部
分)加水分解物、その(部分)縮合物、及びこれらの混
合物からなる群から選ばれ、例えば下記式(11)で表
される。
The silicon compound containing an epoxy group is selected from the group consisting of a silicon compound having an epoxy group and an alkoxysilyl group, a (partly) hydrolyzate thereof, a (partly) condensate thereof, and a mixture thereof. 11).

【0060】[0060]

【数1】 X−R11−Si(R12n(OR133-n (11) ここで、R11は炭素数1〜4のアルキレン基、R12及び
13は炭素数1〜4のアルキル基、Xはグリシドキシ基
またはエポキシシクロヘキシル基であり、nは0または
1である。
X-R 11 -Si (R 12 ) n (OR 13 ) 3-n (11) where R 11 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 12 and R 13 are 1 to 3 carbon atoms. And X is a glycidoxy group or an epoxycyclohexyl group, and n is 0 or 1.

【0061】特に好ましいエポキシ基含有珪素化合物と
しては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシランである。これらの化合物は単独で用い
ても、2種以上を併用してもよい。
Particularly preferred epoxy group-containing silicon compounds are 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0062】アミノ基含有珪素化合物はアミノ基及びア
ルコキシシリル基を有する珪素化合物、その(部分)加
水分解物、その(部分)縮合物、及びこれらの混合物か
らなる群から選ばれ、例えば下記式1(2)で表され
る。
The amino group-containing silicon compound is selected from the group consisting of a silicon compound having an amino group and an alkoxysilyl group, a (partial) hydrolyzate thereof, a (partial) condensate thereof, and a mixture thereof. It is represented by (2).

【0063】[0063]

【数2】 Y−HN−R14−Si(R15m(OR163-m (12) ここで、R14は炭素数1〜4のアルキレン基、R15及び
16は炭素数1〜4のアルキル基、Yは水素原子または
アミノアルキル基であり、mは0または1である。
Y—HN—R 14 —Si (R 15 ) m (OR 16 ) 3-m (12) where R 14 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 15 and R 16 are carbon atoms. 1-4 alkyl groups, Y is a hydrogen atom or an aminoalkyl group, and m is 0 or 1.

【0064】この中で特に好ましいアミノ基含有珪素化
合物は3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、N−メチル−3−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピル
メチルジエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−ア
ミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ランである。これらの化合物は単独で用いても、2種以
上を併用してもよい。
Among these, particularly preferred amino group-containing silicon compounds are 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-methyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, and 3-aminopropylmethyldiethoxysilane. , N- (2-aminoethyl)-
3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0065】なお、本発明におけるエポキシ基含有珪素
化合物ならびにアミノ基含有珪素化合物の(部分)加水
分解物及びその(部分)縮合物は、上述のエポキシ基含
有珪素化合物ならびにアミノ基含有珪素化合物の一部ま
たは全部が加水分解したもの、該加水分解物の一部又は
全部が縮合反応した縮合物、及び該縮合物と加水分解し
ていない原料のエポキシ基含有珪素化合物ならびにアミ
ノ基含有珪素化合物とが縮合したものであり、これらは
いわゆるゾルゲル反応させることにより得られるもので
ある。ここで加水分解物は、例えば塩酸等の無機酸、酢
酸等の有機酸などの酸性水溶液または純粋と混合するこ
とにより得られる。また、コーティング液は、保存安定
性ならびに塗工安定性を考慮して、アルコール系、エス
テル系、エーテル系、ケトン系、セロソルブ系等の各種
有機溶媒で希釈されていることが好ましい。エポキシ基
含有珪素化合物とアミノ基含有珪素化合物の混合比率
は、エポキシ基モル当量換算量Ep、アミノ基モル当量
換算量Apの比率で1/6<Ep/Ap<6/1の範囲
内が好ましい。混合比がこの範囲から外れる場合、密着
性、耐熱性、耐溶剤性、耐水性、耐久性が低下する。こ
の様なエポキシ基含有珪素化合物とアミノ基含有珪素化
合物の混合物をポリビニルアルコール系ポリマーに混合
するに際し、硬化後の重量比率で20重量%以上、95
重量%未満となるように混合する。20重量部よりも少
ない場合は、耐水性、耐薬品性に劣る傾向となり、95
重量%以上ではガスバリヤー性が低下する傾向となる。
ここで、エポキシ基含有珪素化合物とアミノ基含有珪素
化合物との混合物の硬化後の重量は、X−R11−Si
(R12n(3-n)/2とY−HN−R14−Si(R15m
(3- m)/2で示される重量基準である。ここでこの重量
換算式は、各々の珪素化合物中のアルコキシシリル基の
全てが加水分解ならびに縮合反応したことを仮定して上
記のように定義した。特に、該ポリビニルアルコール含
有ポリシロキサン系樹脂を前述の珪素酸化物を主成分と
する金属酸化物からなるガスバリヤー層の少なくも一方
の面に接して積層することで、ガスバリヤー性がいっそ
う向上する。
The epoxy group-containing silicon according to the present invention
(Partial) Hydrolysis of Compounds and Amino Group-Containing Silicon Compounds
The decomposition product and its (partial) condensate are
Some silicon-containing compounds and some amino-containing silicon compounds
Or all hydrolyzed, a part of the hydrolyzate or
A condensate that is entirely condensed, and hydrolyzed with the condensate
Raw material epoxy group-containing silicon compound and
Are condensed with a silicon group-containing silicon compound.
What is obtained by the so-called sol-gel reaction
is there. Here, the hydrolyzate is, for example, an inorganic acid such as hydrochloric acid, vinegar.
Mix with an acidic aqueous solution such as an organic acid such as an acid, or pure.
And is obtained by In addition, the coating liquid is storage-stable
Alcohol, S
Various types such as ter, ether, ketone, and cellosolve
It is preferably diluted with an organic solvent. Epoxy group
Mixing ratio of silicon compound containing amino and silicon compound containing amino group
Are the epoxy equivalent molar equivalents Ep and the amino group equivalents
Range of 1/6 <Ep / Ap <6/1 in the ratio of the conversion amount Ap
Is preferred. If the mixing ratio is out of this range, close contact
, Heat resistance, solvent resistance, water resistance, and durability decrease. This
Group containing epoxy group and amino group containing silicon
Compound mixture into polyvinyl alcohol polymer
In doing so, the weight ratio after curing is 20% by weight or more, 95% or more.
Mix so as to be less than wt%. Less than 20 parts by weight
If not, the water resistance and chemical resistance tend to be inferior.
When the content is more than the weight percentage, the gas barrier property tends to decrease.
Here, the epoxy group-containing silicon compound and the amino group-containing silicon compound
The weight of the mixture with the compound after curing is XR11-Si
(R12)nO(3-n) / 2And Y-HN-R14-Si (R15)m
O(3- m) / 2It is a weight standard shown by. Here this weight
The conversion formula is the conversion of the alkoxysilyl group in each silicon compound.
Assuming that all have undergone hydrolysis and condensation reactions
Defined as described. In particular, the polyvinyl alcohol containing
Polysiloxane resin with the above-mentioned silicon oxide as the main component
At least one of the gas barrier layers composed of a metal oxide
Gas barrier properties can be further improved by stacking in contact with
To improve.

【0066】該ポリビニルアルコール含有ポリシロキサ
ン系樹脂(P)の膜厚は、概して0.01〜20μmの
範囲から適宜選択することができる。
The thickness of the polyvinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) can be appropriately selected generally from the range of 0.01 to 20 μm.

【0067】上記有機ポリシロキサン系樹脂(Q)とし
ては、下記式(13)で表される有機ケイ素化合物ない
しはその加水分解物をいわゆるゾルゲル反応させること
により得られるものが好ましい。
The organic polysiloxane resin (Q) is preferably obtained by subjecting an organosilicon compound represented by the following formula (13) or a hydrolyzate thereof to a so-called sol-gel reaction.

【0068】[0068]

【数3】 (R17a(R18bSiX4-a-b (13)(R 17 ) a (R 18 ) b SiX 4-ab (13)

【0069】ここで、R17は炭素数1〜10の有機基で
あり、R18は炭素数1〜6の炭化水素基またはハロゲン
化炭化水素基であり、Xは加水分解性基であり、aおよ
びbは0または1である。上記式(13)で示される有
機ケイ素化合物の例としては、例えばテトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ジメ
チルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキ
シシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
トリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリエトキシシラン、アミノメチルトリエト
キシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−アミノメ
チル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−
(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、N−メチルアミノプロピルト
リメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキ
シシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。これらの
化合物は単独で又は2種以上を併せて用いることができ
る。中でも、前記式(1)のエポキシ基含有珪素化合物
と前記式(2)のアミノ基含有珪素化合物との混合物を
主成分とすることが好適である。ここで、エポキシ基含
有珪素化合物とアミノ基含有珪素化合物の混合比率は、
エポキシ基モル当量換算量Eq、アミノ基モル当量換算
量Aqの比率で5/95<Eq/Aq<95/5の範囲
内で用いることが、耐薬品性、層間密着性の点で好まし
い。特に、該有機ポリシロキサン系樹脂層の上に前記珪
素酸化物を主成分とする金属酸化物からなるガスバリヤ
ー層を形成することで、ガスバリヤ性がいっそう向上す
る。
Here, R 17 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, R 18 is a hydrocarbon group or a halogenated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, X is a hydrolyzable group, a and b are 0 or 1. Examples of the organosilicon compound represented by the above formula (13) include, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Trimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, aminomethyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane,
3-aminopropyltriethoxysilane, N-aminomethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-
(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N-methylaminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane and the like can be mentioned. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among them, it is preferable to use a mixture of the epoxy group-containing silicon compound of the formula (1) and the amino group-containing silicon compound of the formula (2) as a main component. Here, the mixing ratio of the epoxy group-containing silicon compound and the amino group-containing silicon compound is
It is preferable in terms of chemical resistance and interlayer adhesion that the ratio of the epoxy group molar equivalent conversion amount Eq and the amino group molar equivalent conversion amount Aq be within the range of 5/95 <Eq / Aq <95/5. In particular, by forming a gas barrier layer made of a metal oxide containing silicon oxide as a main component on the organic polysiloxane-based resin layer, the gas barrier property is further improved.

【0070】該有機ポリシロキサン系樹脂(Q)の膜厚
は、概して0.01〜20μmの範囲から適宜選択する
ことができる。
The thickness of the organic polysiloxane resin (Q) can be appropriately selected generally from the range of 0.01 to 20 μm.

【0071】本発明における透明導電層は、最外層に位
置し、インジウム酸化物を主成分(好ましくは80重量
%以上)とし、錫または亜鉛から選ばれた1種以上の酸
化物を(好ましくは20重量%以下)含むことを特徴と
する。かかる透明導電層は、インジウム酸化物を主成分
とし、酸化錫が2〜20重量%及び/または酸化亜鉛が
2〜20重量%含んでいることが好ましい。かかる透明
導電層を形成する方法は、特に制限はないが、主にスパ
ッタリング法が好ましく、直流スパッタリング法、高周
波マグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッ
タリング法などが適用できるが、生産性の観点から、マ
グネトロンスパッタ法が好ましい。
The transparent conductive layer in the present invention is located at the outermost layer and contains indium oxide as a main component (preferably 80% by weight or more) and one or more oxides selected from tin or zinc (preferably). 20% by weight or less). Such a transparent conductive layer preferably contains indium oxide as a main component, and contains 2 to 20% by weight of tin oxide and / or 2 to 20% by weight of zinc oxide. The method for forming such a transparent conductive layer is not particularly limited, but is preferably a sputtering method, and a DC sputtering method, a high-frequency magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, or the like can be applied. The method is preferred.

【0072】透明導電層の膜厚は、十分な導電性を得る
ために、10nm以上であることが好ましい。
The thickness of the transparent conductive layer is preferably at least 10 nm in order to obtain sufficient conductivity.

【0073】本発明の透明導電性フィルムは、全光線透
過率が70%以上であることが好ましい。70%未満で
は、視認性の低下を招く等の問題が生じることがある。
The transparent conductive film of the present invention preferably has a total light transmittance of 70% or more. If it is less than 70%, problems such as a decrease in visibility may occur.

【0074】本発明の透明導電性フィルムは、リターデ
ーションが30nm以下であることが好ましい。30n
mを超えると、パネルとした時のコントラストの低下等
の問題が生じてしまうことがある。
The transparent conductive film of the present invention preferably has a retardation of 30 nm or less. 30n
If it exceeds m, problems such as a decrease in contrast when a panel is formed may occur.

【0075】前記のように、本発明の透明導電性フィル
ムは、上記高分子フィルム、有機層、無機層、透明導電
層を具備し、有機層は高分子フィルムの両面にあって、
少なくとも一方の面のそれは上記式(1)で表される単
位(特定有機層ということがある)を含み、該特定有機
層は透明導電層と高分子フィルムとの間に存在するもの
である。かかる透明導電性フィルムの具体的構成として
は、例えば、 ・透明導電層/無機層/特定有機層/高分子フィルム/
特定有機層、 ・透明導電層/特定有機層/高分子フィルム/特定有機
層/無機層、 ・透明導電層/無機層/特定有機層/高分子フィルム/
特定有機層/無機層、 ・透明導電層/無機層/着色層/特定有機層/高分子フ
ィルム/特定有機層、 ・透明導電層/特定有機層/着色層/高分子フィルム/
特定有機層/無機層、 ・透明導電層/特定有機層/着色層/特定有機層/高分
子フィルム/特定有機層/無機層、 ・透明導電層/無機層/特定有機層/高分子フィルム/
有機層、 ・透明導電層/特定有機層/高分子フィルム/有機層/
無機層、 ・透明導電層/無機層/特定有機層/高分子フィルム/
有機層/無機層、 ・透明導電層/無機層/着色層/特定有機層/高分子フ
ィルム/有機層、 ・透明導電層/特定有機層/着色層/高分子フィルム/
有機層/無機層、 ・透明導電層/特定有機層/着色層/特定有機層/高分
子フィルム/有機層/無機層、 ・透明導電層/特定有機層/着色層/有機層/高分子フ
ィルム/有機層/無機層、 ・透明導電層/有機層/着色層/特定有機層/高分子フ
ィルム/有機層/無機層、 ・透明導電層/特定有機層/高分子フィルム/有機ポリ
シロキサン樹脂(Q)/金属酸化物層(X)/ビニルア
ルコール含有ポリシロキサン樹脂(P)、 ・透明導電層/特定有機層/高分子フィルム/ビニルア
ルコール含有ポリシロキサン樹脂(P)/金属酸化物層
(X)/有機ポリシロキサン樹脂(Q)、 ・透明導電層/特定有機層/高分子フィルム/ビニルア
ルコール含有ポリシロキサン樹脂(P)/金属酸化物層
(X)/ビニルアルコール含有ポリシロキサン樹脂
(P)、 ・透明導電層/着色層/特定有機層/高分子フィルム/
ビニルアルコール含有ポリシロキサン樹脂(P)/金属
酸化物層(X)/ビニルアルコール含有ポリシロキサン
樹脂(P)、 ・透明導電層/特定有機層/着色層/高分子フィルム/
ビニルアルコール含有ポリシロキサン樹脂(P)/金属
酸化物層(X)/ビニルアルコール含有ポリシロキサン
樹脂(P)、 ・透明導電層/特定有機層/着色層/有機層/高分子フ
ィルム/ビニルアルコール含有ポリシロキサン樹脂
(P)/金属酸化物層(X)/ビニルアルコール含有ポ
リシロキサン樹脂(P)、 ・透明導電層/有機層/着色層/特定有機層/高分子フ
ィルム/ビニルアルコール含有ポリシロキサン樹脂
(P)/金属酸化物層(X)/ビニルアルコール含有ポ
リシロキサン樹脂(P)、 等が挙げられる。
As described above, the transparent conductive film of the present invention comprises the above-mentioned polymer film, an organic layer, an inorganic layer and a transparent conductive layer.
At least one of the surfaces includes a unit represented by the above formula (1) (sometimes referred to as a specific organic layer), and the specific organic layer exists between the transparent conductive layer and the polymer film. Specific examples of such a transparent conductive film include: a transparent conductive layer / an inorganic layer / a specific organic layer / a polymer film /
Specific organic layer, transparent conductive layer / specific organic layer / polymer film / specific organic layer / inorganic layer, transparent conductive layer / inorganic layer / specific organic layer / polymer film /
Specific organic layer / inorganic layer, transparent conductive layer / inorganic layer / colored layer / specific organic layer / polymer film / specific organic layer, transparent conductive layer / specific organic layer / colored layer / polymer film /
Specific organic layer / inorganic layer, transparent conductive layer / specific organic layer / colored layer / specific organic layer / polymer film / specific organic layer / inorganic layer, transparent conductive layer / inorganic layer / specific organic layer / polymer film /
Organic layer ・ Transparent conductive layer / Specific organic layer / Polymer film / Organic layer /
Inorganic layer, transparent conductive layer / inorganic layer / specific organic layer / polymer film /
Organic layer / inorganic layer, transparent conductive layer / inorganic layer / colored layer / specific organic layer / polymer film / organic layer, transparent conductive layer / specific organic layer / colored layer / polymer film /
Organic layer / inorganic layer, transparent conductive layer / specific organic layer / color layer / specific organic layer / polymer film / organic layer / inorganic layer, transparent conductive layer / specific organic layer / color layer / organic layer / polymer film / Organic layer / inorganic layer, transparent conductive layer / organic layer / colored layer / specific organic layer / polymer film / organic layer / inorganic layer, transparent conductive layer / specific organic layer / polymer film / organic polysiloxane resin ( Q) / metal oxide layer (X) / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P), transparent conductive layer / specific organic layer / polymer film / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) / metal oxide layer (X ) / Organic polysiloxane resin (Q), transparent conductive layer / specific organic layer / polymer film / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) / metal oxide layer (X) / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P), · transparent conductive layer / colored layer / specific organic layer / polymer film /
Vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) / metal oxide layer (X) / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P), transparent conductive layer / specific organic layer / colored layer / polymer film /
Vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) / metal oxide layer (X) / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P), transparent conductive layer / specific organic layer / colored layer / organic layer / polymer film / vinyl alcohol-containing Polysiloxane resin (P) / metal oxide layer (X) / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P), transparent conductive layer / organic layer / colored layer / specific organic layer / polymer film / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) / metal oxide layer (X) / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P).

【0076】この中で、上記特定有機層は透明導電層、
無機層、高分子フィルムのいずれかに接してもよいが、
透明導電層と接しているか、無機層と接していることに
より、特に密着性に優れ、屈曲性、耐久性等が良好であ
る。さらに特定の有機層は透明導電層と同じ側にあっ
て、透明導電層、または透明導電層及び高分子フィルム
と接しているのがより好ましい。
In the above, the specific organic layer is a transparent conductive layer,
Although it may be in contact with any of the inorganic layer and the polymer film,
By being in contact with the transparent conductive layer or being in contact with the inorganic layer, the adhesiveness is particularly excellent, and the flexibility, durability, and the like are good. More preferably, the specific organic layer is on the same side as the transparent conductive layer, and is in contact with the transparent conductive layer, or the transparent conductive layer and the polymer film.

【0077】なお、本発明の透明導電性フィルムは、上
記各層の間、あるいは高分子フィルムとそれのすぐ上の
層との間に、更なる密着性改善等のための中間層を介在
することができる。
In the transparent conductive film of the present invention, an intermediate layer for further improving the adhesion or the like is interposed between the above-mentioned layers or between the polymer film and the layer immediately above the polymer film. Can be.

【0078】[0078]

【発明の効果】本発明の透明導電性フィルムは、屈曲性
が良く、実装時の曲げに対する耐性に優れ、液晶表示素
子として用いる場合、耐熱性、透明性に優れた、ガラス
基板代替として有用である。
The transparent conductive film of the present invention has good flexibility, excellent resistance to bending during mounting, and has excellent heat resistance and transparency when used as a liquid crystal display element, and is useful as a substitute for a glass substrate. is there.

【0079】[0079]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳しく説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、
以下の各実施例、各比較例の各種評価は、下記の要領で
行った。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition,
Various evaluations of each of the following Examples and Comparative Examples were performed in the following manner.

【0080】〈屈曲性〉透明導電性フィルムを、1cm
×16cmに切り出し、150℃2時間熱処理した後、
直径8mmφ、10mmφの2種類の金属製棒にそれぞ
れ密着させて巻き付け、30秒放置後、再び戻して、透
明導電層の割れの発生の有無を光学顕微鏡にて観察し
た。なお、透明導電層を内側にする場合と外側にする場
合の2通りの評価を行った。直径8mmφの評価におい
て透明導電層の割れが発生しない場合を優、直径8mm
φの評価において透明導電層に割れが生じるが、直径1
0mmφの評価にて割れが生じないものを良、直径10
mmφの評価にて割れが生じるものを不可とした。ただ
し、実施例8のみ、150℃2時間熱処理を、130℃
2時間に変更した。
<Flexibility> The transparent conductive film was
Cut out to × 16cm, heat treated at 150 ° C for 2 hours,
Two kinds of metal rods having a diameter of 8 mmφ and 10 mmφ were wound in close contact with each other, left standing for 30 seconds, then returned again, and observed for occurrence of cracks in the transparent conductive layer with an optical microscope. In addition, two kinds of evaluations, that is, the case where the transparent conductive layer is set inside and the case where the transparent conductive layer is set outside, were performed. In the evaluation of the diameter of 8 mmφ, the case where no cracking of the transparent conductive layer occurs was excellent, and the diameter was 8 mm.
In the evaluation of φ, a crack occurs in the transparent conductive layer.
Good at 0 mmφ with no cracks, diameter 10
In the evaluation of mmφ, those which cracked were not considered. However, only in Example 8, heat treatment at 150 ° C. for 2 hours was performed at 130 ° C.
Changed to 2 hours.

【0081】〈耐久性〉透明導電性フィルムを、60℃
90%RHの環境下で250時間放置し、透明導電層の
割れの発生の有無を光学顕微鏡にて観察した。割れが発
生し無い場合を優とし、割れが発生した場合不可とし
た。
<Durability> The transparent conductive film was heated at 60 ° C.
The transparent conductive layer was allowed to stand for 250 hours in an environment of 90% RH for 250 hours, and the presence or absence of cracks in the transparent conductive layer was observed with an optical microscope. The case where cracks did not occur was evaluated as excellent, and the case where cracks occurred did not.

【0082】〈耐有機溶媒性〉透明導電性フィルムを8
0℃のホットプレート上に置き、透明導電層上に、n−
メチルピロリドンを1滴滴下し、3分後拭き取って、そ
の外観変化を目視にて観察した。外観変化が無いものを
優とし、変化が認められるものを不可とした。
<Organic solvent resistance>
Place on a hot plate at 0 ° C. and place n-
One drop of methylpyrrolidone was dropped, wiped off after 3 minutes, and the appearance change was visually observed. Those with no change in appearance were rated as excellent, and those with change were rated as unacceptable.

【0083】〈耐アルカリ性〉透明導電性フィルムを3
0℃の3.5wt%NaOH水溶液中に10分間浸漬し
て、外観変化を光学顕微鏡にて観察した。外観変化が無
いものを優とし、変化が認められるものを不可とした。
<Alkali Resistance> The transparent conductive film
It was immersed in a 3.5 wt% NaOH aqueous solution at 0 ° C. for 10 minutes, and the appearance change was observed with an optical microscope. Those with no change in appearance were rated as excellent, and those with change were rated as unacceptable.

【0084】〈全光線透過率〉日本電色工業社製COH
−300Aを用いて測定した。
<Total light transmittance> COH manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
It measured using -300A.

【0085】〈リターデーション〉日本分光社製M−1
50型エリプソメーターを用いて測定した。
<Retardation> M-1 manufactured by JASCO Corporation
It was measured using a 50-type ellipsometer.

【0086】〈酸素透過度〉酸素透過度は、透明導電層
を積層する前の、有機層と無機層が積層された高分子フ
ィルムについて測定した。測定は、MOCON社製オキ
シトラン2/20型を用いて、40℃90%RHの環境
下で測定した。
<Oxygen Permeability> The oxygen permeability was measured for a polymer film on which an organic layer and an inorganic layer were laminated before laminating a transparent conductive layer. The measurement was carried out under the environment of 40 ° C. and 90% RH using Oxytran 2/20 manufactured by MOCON.

【0087】〈水蒸気透過度〉水蒸気透過度は、透明導
電層を積層する前の、有機層と無機層が積層された高分
子フィルムについて測定した。測定はMOCON社製パ
ーマトランW1A型を用いて、40℃90%RHの環境
下で測定した。
<Water Vapor Permeability> The water vapor permeability was measured for a polymer film having an organic layer and an inorganic layer laminated before a transparent conductive layer was laminated. The measurement was carried out under the environment of 40 ° C. and 90% RH using Permatran Model W1A manufactured by MOCON.

【0088】[実施例1]3,3,5−トリメチル−
1,1−ジ(4−フェノール)シクロヘキシリデンが5
8モル%、ビスフェノールAが42モル%共重合された
ポリカーボネート(バイエル社製APEC−HT937
1、ガラス転移温度205℃)を塩化メチレンに27重
量%になるように溶解して、ガラス板上にアプリケータ
ーを用いて流延を行い、室温20分放置後、ガラス板よ
りフィルムを剥離して、130℃2時間乾燥すること
で、厚さ100μmの高分子フィルムを得た。
Example 1 3,3,5-Trimethyl-
1,1-di (4-phenol) cyclohexylidene is 5
8 mol%, 42 mol% of bisphenol A copolymerized polycarbonate (APEC-HT937 manufactured by Bayer AG)
1, a glass transition temperature of 205 ° C.) was dissolved in methylene chloride to a concentration of 27% by weight, cast on a glass plate using an applicator, allowed to stand at room temperature for 20 minutes, and then peeled from the glass plate. After drying at 130 ° C. for 2 hours, a polymer film having a thickness of 100 μm was obtained.

【0089】得られた高分子フィルムの両面に、片面ず
つ以下の様に有機層を形成した。ジメチロールトリシク
ロデカンジアクリレート(共栄社化学社製ライトアクリ
レートDCP−A)50重量部とウレタンアクリレート
(十条ケミカル社製TPH19)50重量部、光開始剤
として、チバガイギ社製イルガキュア187を7重量
部、レベリング剤として東レ・ダウコーニング社製SH
28PAを0.05重量部、希釈溶媒として1メトキシ
2プロパノール180重量部からなる塗液を乾燥後膜厚
が5μmになるようにロールコートし、60℃30秒乾
燥後、強度160W/cmの高圧水銀ランプにより積算
光量700mJ/cm2の紫外線を照射して有機層を形
成した。
An organic layer was formed on each side of the obtained polymer film as follows. 50 parts by weight of dimethylol tricyclodecane diacrylate (light acrylate DCP-A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 50 parts by weight of urethane acrylate (TPH19 manufactured by Jujo Chemical Co., Ltd.) SH-manufactured by Dow Corning Toray as a leveling agent
After drying, a coating liquid comprising 0.05 parts by weight of 28PA and 180 parts by weight of 1-methoxy-2-propanol as a diluting solvent was roll-coated so as to have a film thickness of 5 μm, dried at 60 ° C. for 30 seconds, and then subjected to a high pressure of 160 W / cm strength The organic layer was formed by irradiating an ultraviolet ray with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 by a mercury lamp.

【0090】続いて、片面の有機層の上に、以下の様に
無機層を形成した。Siターゲットを設置した巻き取り
式のマグネトロンスパッタリング装置にフィルムを配置
して排気した後、Ar:O2=7:3の混合ガスを導入
し、圧力を8×10-4Torrになるように調整した。
この雰囲気下にて、投入電力密度1W/cm2、フィル
ムスピード1m/minで反応性スパッタリングを行
い、約30nmの厚みの酸化珪素からなる無機層を形成
した。
Subsequently, an inorganic layer was formed on the organic layer on one side as follows. After arranging the film in a take-up type magnetron sputtering apparatus provided with a Si target and exhausting the film, a mixed gas of Ar: O 2 = 7: 3 was introduced, and the pressure was adjusted to 8 × 10 −4 Torr. did.
Under this atmosphere, reactive sputtering was performed at an input power density of 1 W / cm 2 and a film speed of 1 m / min to form an inorganic layer made of silicon oxide having a thickness of about 30 nm.

【0091】続いて、無機層の上に、以下の様に透明導
電層を形成した。In:Sn=9:1の重量比からなる
酸化物のターゲットを設置した巻き取り式のマグネトロ
ンスパッタリング装置にフィルムを配置して排気した
後、Ar:O2=98.8:1.2の混合ガスを導入
し、圧力を1×10-3Torrになるように調整した。
この雰囲気下にて、投入電力密度1W/cm2、フィル
ムスピード0.1m/minで反応性スパッタリングを
行い、厚さ130nmの透明導電層を形成した。この透
明導電層の表面抵抗は、45オームであった。
Subsequently, a transparent conductive layer was formed on the inorganic layer as follows. After arranging and evacuating the film in a take-up type magnetron sputtering apparatus provided with an oxide target having a weight ratio of In: Sn = 9: 1, mixing of Ar: O 2 = 98.8: 1.2. Gas was introduced and the pressure was adjusted to 1 × 10 −3 Torr.
In this atmosphere, reactive sputtering was performed at a power density of 1 W / cm 2 and a film speed of 0.1 m / min to form a 130 nm thick transparent conductive layer. The surface resistance of this transparent conductive layer was 45 ohms.

【0092】こうして、作成された、透明導電性フィル
ムの構成は、透明導電層/無機層/特定有機層/高分子
フィルム/特定有機層である。透明導電性フィルムの特
性を表1に記載する。屈曲性、耐久性やその他の特性す
べてに優れた透明導電性フィルムであった。
The structure of the thus formed transparent conductive film is transparent conductive layer / inorganic layer / specific organic layer / polymer film / specific organic layer. Table 1 shows the properties of the transparent conductive film. It was a transparent conductive film having excellent flexibility, durability and other properties.

【0093】[実施例2]実施例1において、有機層を
形成する塗液を、ジメチロールトリシクロデカンジアク
リレート50重量部、ウレタンアクリレート50重量部
から、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート8
0重量部、ウレタンアクリレート20重量部に変更し、
その他は同様にして透明導電性フィルムを得た。こうし
て、作成された、透明導電性フィルムの特性を表1に記
載する。屈曲性、耐久性やその他の特性すべてに優れた
フィルムであった。
[Example 2] In Example 1, the coating liquid for forming the organic layer was prepared by using 50 parts by weight of dimethylol tricyclodecane diacrylate and 50 parts by weight of urethane acrylate to obtain dimethylol tricyclodecane diacrylate 8
0 parts by weight, changed to 20 parts by weight of urethane acrylate,
Otherwise, a transparent conductive film was obtained in the same manner. The properties of the transparent conductive film thus produced are described in Table 1. The film was excellent in flexibility, durability and other properties.

【0094】[実施例3]実施例1において、有機層を
形成する塗液を、ジメチロールトリシクロデカンジアク
リレート50重量部、ウレタンアクリレート50重量部
から、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート2
0重量部、ウレタンアクリレート80重量部に変更し、
その他は同様にして透明導電性フィルムを得た。こうし
て、作成された、透明導電性フィルムの特性を表1に記
載する。屈曲性、耐久性やその他の特性すべてに優れた
フィルムであった。
Example 3 In Example 1, the coating liquid for forming the organic layer was prepared by adding 50 parts by weight of dimethylol tricyclodecane diacrylate and 50 parts by weight of urethane acrylate to dimethylol tricyclodecane diacrylate 2
0 parts by weight, changed to 80 parts by weight of urethane acrylate,
Otherwise, a transparent conductive film was obtained in the same manner. The properties of the transparent conductive film thus produced are described in Table 1. The film was excellent in flexibility, durability and other properties.

【0095】[実施例4]実施例1において、有機層を
形成する塗液を、ウレタンアクリレート50重量部か
ら、エステルアクリレート(東亜合成社製アロニックス
M9050)50重量部に変更し、その他は同様にして
透明導電性フィルムを得た。こうして、作成された、透
明導電性フィルムの特性を表1に記載する。屈曲性、耐
久性やその他の特性すべてに優れたフィルムであった。
Example 4 In Example 1, the coating liquid for forming the organic layer was changed from 50 parts by weight of urethane acrylate to 50 parts by weight of ester acrylate (Aronix M9050 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the other conditions were the same. Thus, a transparent conductive film was obtained. The properties of the transparent conductive film thus produced are described in Table 1. The film was excellent in flexibility, durability and other properties.

【0096】[実施例5]実施例1において、有機層を
形成する塗液を、ジメチロールトリシクロデカンジアク
リレート50重量部とウレタンアクリレート50重量か
ら、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート10
0重量部に変更し、その他は同様にして透明導電性フィ
ルムを得た。こうして、作成された、透明導電性フィル
ムの特性を表1に記載する。屈曲性、耐久性やその他の
特性すべてに優れたフィルムであった。
Example 5 In Example 1, dimethylol tricyclodecane diacrylate was prepared from 50 parts by weight of dimethylol tricyclodecane diacrylate and 50 parts by weight of urethane acrylate.
A transparent conductive film was obtained in the same manner except that the amount was changed to 0 parts by weight. The properties of the transparent conductive film thus produced are described in Table 1. The film was excellent in flexibility, durability and other properties.

【0097】[実施例6]実施例2にて、透明導電層を
無機層と反対面の有機層の上に形成した以外、実施例1
と同様にして各層を形成した。透明導電性フィルムの構
成は、透明導電層/特定有機層/高分子フィルム/特定
有機層/無機層であった。こうして、作成された、透明
導電性フィルムの特性を表1に記載する。屈曲性、耐久
性やその他の特性すべてに優れたフィルムであった。
Example 6 Example 1 was the same as Example 2 except that the transparent conductive layer was formed on the organic layer opposite to the inorganic layer.
Each layer was formed in the same manner as described above. The structure of the transparent conductive film was transparent conductive layer / specific organic layer / polymer film / specific organic layer / inorganic layer. The properties of the transparent conductive film thus produced are described in Table 1. The film was excellent in flexibility, durability and other properties.

【0098】[実施例7]実施例1にて、高分子フィル
ムを以下に変更した。高分子フィルムのポリマーとし
て、ビスフェノール成分としてフルオレン−9,9−ジ
(3−メチル−4−フェノール)が30モル%、ビスフ
ェノールAが70モル%共重合されたポリカーボネート
を用いた。このポリマーは、水酸化ナトリウム水溶液
に、フルオレン−9,9−ジ(3−メチル−4−フェノ
ール)及びビスフェノールAを上記組成に仕込み、少量
のハイドロサルファイトを加え、続いて塩化メチレンを
加えて、20℃でホスゲンを約60分かけて吹き込んだ
後、さらに、p−tert−ブチルフェノールを加えて
乳化後、トリエチルアミンを加えて30℃で約3時間攪
拌させて作成した。得られたポリマーのガラス転移温度
は195℃であった。このポリマーを、実施例1と同様
に厚さ100μmのフィルムを作成し、特定有機層、無
機層、透明導電層を形成し、透明導電性フィルムを得
た。こうして、作成された、透明導電性フィルムの特性
を表1に記載する。屈曲性、耐久性やその他の特性すべ
てに優れたフィルムであった。
Example 7 In Example 1, the polymer film was changed as follows. As the polymer of the polymer film, a polycarbonate obtained by copolymerizing fluorene-9,9-di (3-methyl-4-phenol) as a bisphenol component at 30 mol% and bisphenol A at 70 mol% was used. This polymer is prepared by adding fluorene-9,9-di (3-methyl-4-phenol) and bisphenol A to the above composition in an aqueous sodium hydroxide solution, adding a small amount of hydrosulfite, and subsequently adding methylene chloride. After blowing phosgene at about 20 ° C. over about 60 minutes, p-tert-butylphenol was further added to emulsify, and triethylamine was added, followed by stirring at 30 ° C. for about 3 hours. The glass transition temperature of the obtained polymer was 195 ° C. Using this polymer, a film having a thickness of 100 μm was formed in the same manner as in Example 1, and a specific organic layer, an inorganic layer, and a transparent conductive layer were formed to obtain a transparent conductive film. The properties of the transparent conductive film thus produced are described in Table 1. The film was excellent in flexibility, durability and other properties.

【0099】[実施例8]実施例1にて、高分子フィル
ムを以下に変更した。高分子フィルムは、ビスフェノー
ル成分としてビスフェノールAのみを用いたポリカーボ
ネートフィルム(帝人製ピュアエース、厚み100μ
m、ガラス転移温度155℃)とした。透明導電性フィ
ルムの特性を表1に記載する。屈曲性、耐久性やその他
の特性すべてに優れたフィルムであった。
Example 8 In Example 1, the polymer film was changed as follows. The polymer film is a polycarbonate film using only bisphenol A as a bisphenol component (Pure Ace manufactured by Teijin, thickness 100 μm).
m, glass transition temperature 155 ° C.). Table 1 shows the properties of the transparent conductive film. The film was excellent in flexibility, durability and other properties.

【0100】[実施例9]実施例1にて、無機層を、両
面の有機層上に形成した。すなわち、透明導電性フィル
ムの構成は、透明導電層/無機層/特定有機層/高分子
フィルム/特定有機層/無機層である。透明導電性フィ
ルムの特性を表1に記載する。屈曲性、耐久性に優れ
た、さらに非常にガスバリア性に優れたフィルムであっ
た。
Example 9 In Example 1, an inorganic layer was formed on both sides of the organic layer. That is, the configuration of the transparent conductive film is: transparent conductive layer / inorganic layer / specific organic layer / polymer film / specific organic layer / inorganic layer. Table 1 shows the properties of the transparent conductive film. The film was excellent in flexibility and durability, and also very excellent in gas barrier properties.

【0101】[実施例10]実施例6にて、無機層の上
に、以下のようにビニルアルコール含有ポリシロキサン
樹脂(P)をさらに積層した。
Example 10 In Example 6, a vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) was further laminated on the inorganic layer as follows.

【0102】成分(P1)エチレンビニルアルコール共
重合体100部を、水720部、n−プロパノール10
80部の混合溶媒に加熱溶解させ、均一溶液を得た。こ
の溶液にレベリング剤(東レダウコーニング社製「SH
30PA」を0.1部、酢酸39部加えた後、成分(P
2)2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシシラン211部を加え10分間撹拌した。更に
この溶液に成分(P3) 3−アミノプロピルトリメト
キシシラン77部を加えて3時間撹拌しコーティング組
成物を得た。
Component (P1) 100 parts of ethylene vinyl alcohol copolymer was mixed with 720 parts of water and 10 parts of n-propanol 10
The mixture was heated and dissolved in 80 parts of a mixed solvent to obtain a homogeneous solution. To this solution was added a leveling agent (“SH” manufactured by Dow Corning Toray).
30PA "and 0.1 part of acetic acid, and then the component (P
2) 211 parts of 2- (3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane were added and stirred for 10 minutes. Further, 77 parts of the component (P3) 3-aminopropyltrimethoxysilane was added to this solution and stirred for 3 hours to obtain a coating composition.

【0103】コーティング組成物の組成は、(P1)/
[(P2)+(P3)]=1/2,(P2)/(P3)
=2/1である。このコーティング組成物を、上述の高
分子フィルム(S)の片面上にコーティングし、130
℃3分熱処理を行い、厚みが0.05μmの(B)層を
形成した。
The composition of the coating composition is (P1) /
[(P2) + (P3)] = 1/2, (P2) / (P3)
= 2/1. This coating composition was coated on one side of the polymer film (S) described above,
Heat treatment was performed at 3 ° C. for 3 minutes to form a (B) layer having a thickness of 0.05 μm.

【0104】すなわち、透明導電性フィルムの構成は、
透明導電層/特定有機層/高分子フィルム/特定有機層
/無機層/ビニルアルコール含有ポリシロキサン樹脂層
である。透明導電性フィルム特性を表1に記載する。屈
曲性、耐久性に優れた、さらに非常にガスバリア性に優
れたフィルムであった。
That is, the structure of the transparent conductive film is as follows:
Transparent conductive layer / specific organic layer / polymer film / specific organic layer / inorganic layer / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin layer. Table 1 shows the properties of the transparent conductive film. The film was excellent in flexibility and durability, and also very excellent in gas barrier properties.

【0105】[実施例11]実施例10にて、無機層の
下地に積層された特定有機層に変えて、以下のように有
機ポリシロキサン樹脂(Q)を積層した。
[Example 11] In Example 10, an organic polysiloxane resin (Q) was laminated in the following manner, instead of the specific organic layer laminated under the inorganic layer.

【0106】水720重量部、2−プロパノール108
0重量部の混合溶媒に、酢酸88重量部を加えた後、
(Q1)2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチル
トリメトキシシラン640重量部と(Q2)3−アミノ
プロピルトリメトキシシラン154重量部を順次加えて
3時間攪拌しコーティング組成物を得た。コーティング
組成物の組成は、(Q1)/(Q2)=3/1である。
このコーティング組成物を、高分子フィルムの片方の面
にコーティングし、130℃3分熱処理を行い、厚みが
0.05μmの(Q)層を形成した。
720 parts by weight of water, 2-propanol 108
After adding 88 parts by weight of acetic acid to 0 parts by weight of the mixed solvent,
(Q1) 640 parts by weight of 2- (3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and 154 parts by weight of (Q2) 3-aminopropyltrimethoxysilane were sequentially added and stirred for 3 hours to obtain a coating composition. The composition of the coating composition is (Q1) / (Q2) = 3/1.
This coating composition was coated on one side of a polymer film and heat-treated at 130 ° C. for 3 minutes to form a (Q) layer having a thickness of 0.05 μm.

【0107】すなわち、透明導電性フィルムの構成は、
透明導電層/特定有機層/高分子フィルム/有機ポリシ
ロキサン樹脂層/無機層/ビニルアルコール含有ポリシ
ロキサン樹脂層である。透明導電性フィルムの特性を表
1に記載する。屈曲性、耐久性に優れた、さらに非常に
ガスバリア性に優れたフィルムであった。
That is, the structure of the transparent conductive film is as follows:
Transparent conductive layer / specific organic layer / polymer film / organic polysiloxane resin layer / inorganic layer / vinyl alcohol-containing polysiloxane resin layer. Table 1 shows the properties of the transparent conductive film. The film was excellent in flexibility and durability, and also very excellent in gas barrier properties.

【0108】[比較例1]実施例1において、有機層を
形成するジメチロールトリシクロデカンジアクリレート
50重量部とウレタンアクリレート50重量部から、ウ
レタンアクリレート100重量部に変更した。得られ
た、透明導電性フィルムの特性を表1に記載する。屈曲
性、耐久性に劣るフィルムであった。
Comparative Example 1 In Example 1, 50 parts by weight of dimethylol tricyclodecane diacrylate forming an organic layer and 50 parts by weight of urethane acrylate were changed to 100 parts by weight of urethane acrylate. Table 1 shows the properties of the obtained transparent conductive film. The film was inferior in flexibility and durability.

【0109】[比較例2]実施例4において、有機層を
形成するジメチロールトリシクロデカンジアクリレート
50重量部とエステルアクリレート50重量から、エス
テルアクリレート100部に変更した。得られた、透明
導電性フィルムの特性を表1に記載する。屈曲性、耐久
性、耐アルカリ性に劣るフィルムであった。
Comparative Example 2 In Example 4, 50 parts by weight of dimethylol tricyclodecane diacrylate and 50 parts by weight of ester acrylate forming an organic layer were changed to 100 parts by weight of ester acrylate. Table 1 shows the properties of the obtained transparent conductive film. The film was inferior in flexibility, durability and alkali resistance.

【0110】[0110]

【表1】 [Table 1]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B32B 27/30 102 B32B 27/30 102 27/36 102 27/36 102 C08F 20/20 C08F 20/20 C08G 64/00 C08G 64/00 77/00 77/00 C08J 7/04 C08J 7/04 P CFD CFDZ 7/06 CEY 7/06 CEYB G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 (72)発明者 斎藤 直也 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 (72)発明者 金 辰一郎 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 (72)発明者 花田 亨 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B32B 27/30 102 B32B 27/30 102 27/36 102 27/36 102 C08F 20/20 C08F 20/20 C08G 64/00 C08G 64/00 77/00 77/00 C08J 7/04 C08J 7/04 PCFD CFDZ 7/06 CEY 7/06 CEYB G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 (72) Inventor Naoya Saito Tokyo 4-3-2 Asahigaoka, Hino-shi, Tokyo Teijin Co., Ltd., Tokyo Research Center (72) Inventor Shin Shinichiro 4-4-2-3 Asahigaoka, Hino-shi, Tokyo Teijin, Tokyo Research Center Co., Ltd. (72) Inventor Toru Hanada Tokyo Research Center, Teijin Limited 4-3-2 Asahigaoka, Hino-shi, Tokyo

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子フィルムの(i)両面に有機層を
有し、(ii)少なくとも一方の面に無機層を有し、更
に(iii)少なくとも一方の面の最外層にインジウム
酸化物を主成分とする透明導電層を有する透明導電性フ
ィルムであって、該高分子フィルムの少なくとも一方の
面の有機層は、下記式(1)で示される単位を含むアク
リル系ポリマーからなることを特徴とする透明導電性フ
ィルム。 【化1】
1. A polymer film comprising (i) an organic layer on both surfaces, (ii) an inorganic layer on at least one surface, and (iii) an indium oxide on the outermost layer on at least one surface. A transparent conductive film having a transparent conductive layer as a main component, wherein the organic layer on at least one surface of the polymer film is made of an acrylic polymer containing a unit represented by the following formula (1). Transparent conductive film. Embedded image
【請求項2】 上記式(1)で示される単位を含むアク
リル系ポリマーからなる有機層は、透明導電層と高分子
フィルムとの間に位置する請求項1記載の透明導電性フ
ィルム。
2. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the organic layer comprising the acrylic polymer containing the unit represented by the formula (1) is located between the transparent conductive layer and the polymer film.
【請求項3】 上記式(1)で示される単位を含むアク
リル系ポリマーからなる有機層が透明導電層と接してい
る請求項1または2に記載の透明導電性基板。
3. The transparent conductive substrate according to claim 1, wherein an organic layer made of an acrylic polymer containing the unit represented by the formula (1) is in contact with the transparent conductive layer.
【請求項4】 上記式(1)で示される単位を含むアク
リル系ポリマーからなる有機層が高分子フィルムと接し
ている請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電性フィ
ルム。
4. The transparent conductive film according to claim 1, wherein an organic layer comprising an acrylic polymer containing the unit represented by the formula (1) is in contact with the polymer film.
【請求項5】 上記式(1)で示される単位を含むアク
リル系ポリマーからなる有機層が無機層と接している請
求項1〜4のいずれかに記載の透明導電性基板。
5. The transparent conductive substrate according to claim 1, wherein an organic layer comprising an acrylic polymer containing the unit represented by the formula (1) is in contact with the inorganic layer.
【請求項6】 高分子フィルムの透明導電層を有する面
と反対の面に、珪素を含有する硬化樹脂層(B)、無機
層として珪素原子数に対する酸素原子数の割合が1.5
〜2.0の珪素酸化物を主成分とする金属酸化物層
(X)、珪素を含有する硬化樹脂層(C)がこの順で積
層され、硬化樹脂層(B)及び/または硬化樹脂層
(C)は、ビニルアルコール系ポリマー、エポキシ基含
有珪素化合物及びアミノ基含有珪素化合物の硬化反応に
より得ることができるビニルアルコール含有ポリシロキ
サン樹脂(P)又はエポキシ基含有珪素化合物とアミノ
基含有珪素化合物との反応により得ることができる有機
ポリシロキサン樹脂(Q)からなる請求項1〜5のいず
れかに記載の透明導電性フィルム。
6. The silicon-containing cured resin layer (B) on the surface of the polymer film opposite to the surface having the transparent conductive layer, and the ratio of the number of oxygen atoms to the number of silicon atoms of the inorganic layer is 1.5
To 2.0, a metal oxide layer (X) containing silicon oxide as a main component and a cured resin layer containing silicon (C) are laminated in this order, and a cured resin layer (B) and / or a cured resin layer (C) is a vinyl alcohol-containing polysiloxane resin (P) or an epoxy group-containing silicon compound and an amino group-containing silicon compound which can be obtained by a curing reaction of a vinyl alcohol polymer, an epoxy group-containing silicon compound and an amino group-containing silicon compound. The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 5, comprising an organic polysiloxane resin (Q) obtainable by a reaction with:
【請求項7】 高分子フィルムがポリカーボネートを主
成分とする請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性
フィルム。
7. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the polymer film contains polycarbonate as a main component.
【請求項8】 ポリカーボネートが、下記式(2)で示
される繰り返し単位を含むポリカーボネートである請求
項7記載の透明導電性フィルム。 【化2】 (上記式(2)において、R1〜R8はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素
基から選ばれる少なくとも一種である。)
8. The transparent conductive film according to claim 7, wherein the polycarbonate is a polycarbonate containing a repeating unit represented by the following formula (2). Embedded image (In the above formula (2), R 1 to R 8 are each independently
It is at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. )
【請求項9】 ポリカーボネートが、下記式(2)で示
される繰り返し単位と下記式(3)で示される繰り返し
単位とからなる共重合ポリカーボネートであり、かつ下
記式(2)で示される繰り返し単位の割合が、繰り返し
単位全体の1〜70モル%である請求項8記載の透明導
電性フィルム。 【化3】 (上記式(2)において、R1〜R8はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素
基から選ばれる少なくとも一種である。)
9. The polycarbonate is a copolymerized polycarbonate comprising a repeating unit represented by the following formula (2) and a repeating unit represented by the following formula (3), and is a copolymer of the repeating unit represented by the following formula (2). The transparent conductive film according to claim 8, wherein the proportion is 1 to 70 mol% of the entire repeating unit. Embedded image (In the above formula (2), R 1 to R 8 are each independently
It is at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. )
【請求項10】 ポリカーボネートが、下記式(4)で
示される繰り返し単位を含むポリカーボネートである請
求項9記載の透明導電性フィルム。 【化4】 (上記式(4)において、R1〜R8はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素
基から選ばれる少なくとも一種である。)
10. The transparent conductive film according to claim 9, wherein the polycarbonate is a polycarbonate containing a repeating unit represented by the following formula (4). Embedded image (In the above formula (4), R 1 to R 8 are each independently:
It is at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. )
【請求項11】 ポリカーボネートが、下記式(3)で
示される繰り返し単位と下記式(4)で示される繰り返
し単位とからなる共重合ポリカーボネートであり、かつ
下記式(4)で示される繰り返し単位の割合が、繰り返
し単位全体の1〜60モル%である請求項10記載の透
明導電性フィルム。 【化5】 (上記式(4)において、R1〜R8はそれぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素
基から選ばれる少なくとも一種である。)
11. The polycarbonate is a copolymerized polycarbonate composed of a repeating unit represented by the following formula (3) and a repeating unit represented by the following formula (4), and is a copolymer of the repeating unit represented by the following formula (4). The transparent conductive film according to claim 10, wherein the proportion is 1 to 60 mol% of the entire repeating unit. Embedded image (In the above formula (4), R 1 to R 8 are each independently:
It is at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. )
【請求項12】 透明導電層が、インジウム酸化物を主
成分とし、錫及び亜鉛から選ばれた1種以上の酸化物を
含む請求項1〜11のいずれかに記載の透明導電性フィ
ルム。
12. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the transparent conductive layer contains indium oxide as a main component and at least one oxide selected from tin and zinc.
【請求項13】 上記式(1)で示される単位を20〜
100重量%含むアクリル系ポリマーからなる有機層で
ある請求項1〜12のいずれかに記載の透明導電性フィ
ルム。
13. The unit represented by the above formula (1) is 20 to
The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 12, which is an organic layer made of an acrylic polymer containing 100% by weight.
【請求項14】 無機層が、Si、Al及びMgからな
る群から選ばれる少なくとも一種の酸化物を含む請求項
1〜13のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
14. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the inorganic layer contains at least one oxide selected from the group consisting of Si, Al and Mg.
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