JP2003042170A - Bearing device and base board treatment device provided with the same - Google Patents

Bearing device and base board treatment device provided with the same

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JP2003042170A
JP2003042170A JP2001230811A JP2001230811A JP2003042170A JP 2003042170 A JP2003042170 A JP 2003042170A JP 2001230811 A JP2001230811 A JP 2001230811A JP 2001230811 A JP2001230811 A JP 2001230811A JP 2003042170 A JP2003042170 A JP 2003042170A
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JP
Japan
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sealing member
hole
bearing
seal member
bearing device
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Withdrawn
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JP2001230811A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Akasaka
丈士 赤坂
Katsutoshi Nakada
勝利 中田
Shunji Matsumoto
俊二 松元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Precision Products Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Precision Products Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Precision Products Co Ltd filed Critical Sumitomo Precision Products Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bearing device capable of surely preventing a corrosive treatment liquid from infiltrating in the inside bearing and a base board treatment device provided with the bearing device. SOLUTION: There is provided with a housing 12 having a bearing rotatably supporting a rotary shaft 111 and through holes 13a, 13b, 13c and holding the bearing 11 in one side 13a of the through hole, a sealing member 20 having an insertion hole 21 in which the rotary shaft 111 is inserted and one end side is airtightly fitted to the other side 13c of the housing through hole, a first seal member 33 closely touching to both of the one side end face of the sealing member 20 and the rotary shaft 111 for sealing, and pressurized fluid supply means 35, 18, 26 feeding the pressurized fluid into the insertion hole 21 between the first seal member 33 and the second seal member 34. The treating fluid can be prevented from advancing by both of the sealing action of the second seal member 34 and the fluid stream action generated in the sealing part of the second seal member 34.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、腐食性の高い薬液
が使用される装置に用いて好適な軸受装置、並びに、基
板搬送用の回転軸がこの軸受装置によって回転自在に支
持された基板処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bearing device suitable for use in a device in which highly corrosive chemicals are used, and a substrate processing in which a rotating shaft for carrying a substrate is rotatably supported by the bearing device. Regarding the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、液晶基板を構成するTFT基板
は、種々の工程を経て製造され、各工程では、現像液や
レジスト膜の塗布、その剥離用の薬液,エッチング液或
いは洗浄液の塗布など、TFT基板に対して各種の処理
液が塗布される。
2. Description of the Related Art For example, a TFT substrate which constitutes a liquid crystal substrate is manufactured through various steps. In each step, a developing solution or a resist film is applied, a chemical solution for peeling the same, an etching solution or a cleaning solution is applied. Various processing liquids are applied to the TFT substrate.

【0003】この内、例えば、エッチング工程では、基
板を支持して水平搬送し、搬送される基板に対しエッチ
ング液を噴射して処理を行うように構成されたエッチン
グ装置が用いられている。かかるエッチング装置の一例
を図4に示す。
Among them, for example, in the etching process, an etching apparatus is used which is configured to support a substrate and horizontally convey the substrate and jet an etching solution to the substrate to be processed. An example of such an etching apparatus is shown in FIG.

【0004】同図4に示すように、このエッチング装置
100はTFT基板(以下、単に基板という)Kにエッ
チング処理を施す装置であって、上部が開口した槽本体
101と、この槽本体101の開口部を閉塞する蓋体1
03と、前記槽本体101内に配設されたエッチング液
噴射装置105、及び基板Kを水平方向に搬送する搬送
装置110などからなる。
As shown in FIG. 4, the etching apparatus 100 is an apparatus for performing an etching process on a TFT substrate (hereinafter, simply referred to as a substrate) K, and includes a tank main body 101 having an open upper portion and the tank main body 101. Lid 1 for closing the opening
03, an etching solution ejecting device 105 disposed in the tank body 101, a transfer device 110 for transferring the substrate K in the horizontal direction, and the like.

【0005】前記エッチング液噴射装置105は、複数
のエッチング液噴射ノズル106と、加圧されたエッチ
ング液を前記エッチング液噴射ノズル106に供給する
エッチング液供給手段(図示せず)などからなる。エッ
チング液噴射ノズル106は、前記搬送装置110によ
って搬送される基板Kの上方に、その幅方向及び搬送方
向に沿って配列され、搬送される基板Kの上面にエッチ
ング液を噴射する。
The etching liquid jetting device 105 comprises a plurality of etching liquid jetting nozzles 106, and an etching liquid supply means (not shown) for supplying a pressurized etching liquid to the etching liquid jetting nozzle 106. The etching liquid jet nozzles 106 are arranged above the substrate K transported by the transport device 110 along the width direction and the transportation direction, and spray the etching liquid onto the upper surface of the substrate K transported.

【0006】前記搬送装置110は、上下に並設された
一対の回転軸111,121を紙面に対し直交する方向
に多列に配設して構成される。上方の回転軸111は、
その一方端が槽本体101内に配設された軸受装置12
0によって回転自在に支持される一方、その他方端は、
槽本体101の側板102を貫通して外部に突出し、同
側板102に設けられた軸受装置130によって回転自
在に支持されており、更に、その先端部にはプーリ12
4が取り付けられている。また、下方の回転軸121
は、その両端部が槽本体101内に配設された軸受装置
120によってそれぞれ回転自在に支持されている。
The transfer device 110 is constructed by arranging a pair of rotating shafts 111 and 121 arranged in parallel in the vertical direction in multiple rows in a direction orthogonal to the paper surface. The upper rotary shaft 111 is
Bearing device 12 whose one end is arranged in tank body 101
While it is rotatably supported by 0, the other end is
It penetrates through the side plate 102 of the tank body 101 and projects to the outside, and is rotatably supported by a bearing device 130 provided on the side plate 102.
4 is attached. Also, the lower rotary shaft 121
Both ends of each are rotatably supported by bearing devices 120 arranged in the tank body 101.

【0007】前記プーリ124には、駆動モータ(図示
せず)の回転動力を伝達する伝動ベルト125が巻き掛
けられており、伝動ベルト125及びプーリ124を介
して前記駆動モータ(図示せず)の回転動力が回転軸1
11に伝達され、更に、回転軸111に伝達された回転
動力が、この回転軸111に設けられたギヤ119及び
前記回転軸121に設けられ前記ギヤ119に噛合する
ギヤ123を介して回転軸121に伝達され、これによ
り、両回転軸111,121がその軸中心に回転する。
A transmission belt 125 for transmitting the rotational power of a drive motor (not shown) is wound around the pulley 124, and the drive belt (not shown) of the drive motor is passed through the transmission belt 125 and the pulley 124. Rotational power is rotating shaft 1
The rotary power transmitted to the rotary shaft 121 is transmitted to the rotary shaft 111 via a gear 119 provided on the rotary shaft 111 and a gear 123 provided on the rotary shaft 121 and meshing with the gear 119. Is transmitted to the rotary shafts 111 and 121, whereby both rotary shafts 111 and 121 rotate about their axes.

【0008】また、下方の回転軸111には、基板Kの
幅より若干広い間隔をあけて一対のフランジ付ローラ1
17が設けられ、更に、このフランジ付ローラ117,
117の間に適宜間隔で複数のローラ118が設けられ
ている。また、上方の回転軸121には、前記フランジ
付ローラ117の上方位置にローラ122が設けられて
いる。
A pair of flanged rollers 1 is provided on the lower rotary shaft 111 with a space slightly wider than the width of the substrate K.
17 is provided, and further, this flanged roller 117,
A plurality of rollers 118 are provided between 117 at appropriate intervals. A roller 122 is provided on the upper rotary shaft 121 at a position above the flanged roller 117.

【0009】斯くして、このエッチング装置100によ
れば、搬送装置110の回転軸111,121の回転に
より、基板Kが前記フランジ付ローラ117及びローラ
122の間に挟持された状態で、紙面に対して直交する
方向に搬送され、搬送される基板Kに対して、その上面
にエッチング液噴射ノズル106からエッチング液が噴
射され、これにより、当該基板Kがエッチング処理され
る。
Thus, according to the etching apparatus 100, the substrate K is sandwiched between the flanged roller 117 and the roller 122 by the rotation of the rotary shafts 111 and 121 of the transfer device 110, and the surface of the substrate K is projected on the paper surface. The etching liquid is jetted from the etching liquid jet nozzle 106 to the upper surface of the substrate K that is transported in the direction orthogonal to the substrate K, and the substrate K is thus etched.

【0010】ところで、前記エッチング液は極めて腐食
性が高い。このため、前記槽本体101内に配設される
前記軸受装置120については、前記エッチング液に対
して耐腐食性を有する樹脂製のベアリングを使用してい
る。
By the way, the etching solution is extremely corrosive. Therefore, for the bearing device 120 arranged in the tank body 101, a resin bearing having corrosion resistance to the etching solution is used.

【0011】一方、槽本体101から突出するように設
けられた回転軸111の前記他方端部を支持する軸受装
置130については、前記駆動モータ(図示せず)の動
力が伝達される側であり、軸受装置130のベアリング
に作用する負荷が大きいため、当該ベアリングには金属
製のものが使用されている。そして、金属製のベアリン
グはエッチング液によって容易に腐食されることから、
前記槽本体101内のエッチング液が当該ベアリングに
到達しないように、前記軸受装置130には、図5に示
すような構造のものが採用されている。
On the other hand, the bearing device 130 that supports the other end of the rotary shaft 111 provided so as to project from the tank body 101 is the side to which the power of the drive motor (not shown) is transmitted. Since the load acting on the bearing of the bearing device 130 is large, the bearing is made of metal. And since the metal bearings are easily corroded by the etching solution,
The bearing device 130 has a structure as shown in FIG. 5 so that the etching liquid in the tank body 101 does not reach the bearing.

【0012】即ち、この軸受装置130は、同図5に示
すように、中心軸112及びこの中心軸112に外嵌さ
れるスリーブ113からなる回転軸111を回転自在に
支持するベアリング131、このベアリング131を保
持する縦断面L字形状をしたブラケット132、前記側
板102の取付孔に装着され、且つ取付板142の取付
孔に装着されて支持される封止部材134、この封止部
材146の先端部をカバーする保護カップ146などか
らなる。尚、前記回転軸121も同様に、中心軸とスリ
ーブからなる二重構造となっている。
That is, as shown in FIG. 5, the bearing device 130 includes a bearing 131 for rotatably supporting a rotary shaft 111 composed of a central shaft 112 and a sleeve 113 fitted onto the central shaft 112, and the bearing 131. A bracket 132 having an L-shaped vertical cross section for holding 131, a sealing member 134 mounted in the mounting hole of the side plate 102 and mounted and supported in the mounting hole of the mounting plate 142, and a tip of the sealing member 146. It comprises a protective cup 146 for covering the part. The rotary shaft 121 also has a double structure including a central shaft and a sleeve.

【0013】前記封止部材134は、外周部が大径部1
37と小径部138の段付状に形成された軸状の部材か
らなり、中心部には前記回転軸111が挿通される挿通
孔135が形成され、前記小径部138側の端面には止
り孔136が形成されている。そして、この封止部材1
34は、その小径部138が前記側板102の取付孔に
嵌挿,装着されとともに、大径部137が前記取付板1
42によって支持され、且つ大径部137端面がブラケ
ット132に当接した状態となっている。
The outer peripheral portion of the sealing member 134 has a large diameter portion 1
37 and a small-diameter portion 138, which are formed in a stepped shape, have an insertion hole 135 formed in the central portion through which the rotary shaft 111 is inserted, and a blind hole formed on the end surface on the small-diameter portion 138 side. 136 is formed. And this sealing member 1
34, the small diameter portion 138 is fitted and mounted in the mounting hole of the side plate 102, and the large diameter portion 137 is mounted on the mounting plate 1.
It is supported by 42, and the end surface of the large diameter portion 137 is in contact with the bracket 132.

【0014】前記スリーブ113は、その先端部が小径
部114,大径部115及びフランジ部116からなる
段付状に形成されており、大径部115には、前記封止
部材134の小径部138端面に密接する第2シール部
材(回転シール)145が外嵌され、小径部114に
は、前記封止部材134に形成された止り孔136の底
面に密接する第1シール部材(回転シール)144が外
嵌されている。
The sleeve 113 is formed in a stepped shape having a small diameter portion 114, a large diameter portion 115 and a flange portion 116 at the tip thereof, and the large diameter portion 115 has a small diameter portion of the sealing member 134. A second seal member (rotary seal) 145 that is in close contact with the end surface of the sealing member 138 is fitted onto the small diameter portion 114, and a first seal member (rotary seal) that is in close contact with the bottom surface of the blind hole 136 formed in the sealing member 134. 144 is externally fitted.

【0015】前記保護カップ146は、テーパ孔147
を備えた椀状の部材からなり、前記封止部材134の小
径部138先端が前記テーパ孔147内に位置するよう
に、前記スリーブ113に外嵌されている。
The protective cup 146 has a tapered hole 147.
And is fitted on the sleeve 113 so that the tip of the small diameter portion 138 of the sealing member 134 is located inside the tapered hole 147.

【0016】また、前記ブラケット132には、前記ベ
アリング131の外輪の抜けを防止する押え蓋133が
設けられており、この押え蓋133は図示しない取付ボ
ルトによって、ブラケット132及び封止部材134と
共に一体的に結合されている。尚、図5中の符号126
はプーリ124の抜けを防止する止め具であり、符号1
39はベアリング131の内輪の抜けを防止すべく設け
られたスリーブであり、符号143は、前記ブラケット
132及び取付板142を支持する支持板である。ま
た、符号140,141,148はそれぞれOリングで
ある。
Further, the bracket 132 is provided with a pressing lid 133 for preventing the outer ring of the bearing 131 from coming off. The pressing lid 133 is integrated with the bracket 132 and the sealing member 134 by a mounting bolt (not shown). Are combined together. Incidentally, reference numeral 126 in FIG.
Is a stopper for preventing the pulley 124 from coming off, and reference numeral 1
Reference numeral 39 is a sleeve provided to prevent the inner ring of the bearing 131 from coming off, and reference numeral 143 is a support plate that supports the bracket 132 and the mounting plate 142. Further, reference numerals 140, 141 and 148 are O-rings, respectively.

【0017】斯くして、この軸受装置100によれば、
側板102の取付孔と封止部材134の小径部138と
の間がOリング141によって封止され、更に取付板1
42の取付孔と封止部材134の大径部137との間が
Oリング140によって封止されているので、槽本体1
01内のエッチング液が前記各取付孔を介して漏出する
のが、かかるOリング140,141によって防止され
る。
Thus, according to this bearing device 100,
The space between the mounting hole of the side plate 102 and the small diameter portion 138 of the sealing member 134 is sealed by the O-ring 141.
Since the space between the mounting hole of 42 and the large diameter portion 137 of the sealing member 134 is sealed by the O-ring 140, the tank body 1
The O-rings 140 and 141 prevent the etchant in 01 from leaking through the mounting holes.

【0018】また、スリーブ113には、封止部材13
4の小径部138端面に密接する第2シール部材145
及び止り孔136底面に密接する第1シール部材144
が外嵌されているので、封止部材134の止り孔136
及び挿通孔135とスリーブ113との間からエッチン
グ液が進入するのが、かかる第1及び第2シール部材1
44,145によって阻止される。
The sleeve 113 has a sealing member 13
Second seal member 145 closely contacting the end face of the small diameter portion 138 of No. 4
And the first seal member 144 that comes into close contact with the bottom surface of the blind hole 136.
Is externally fitted, the blind hole 136 of the sealing member 134
The etching liquid enters between the insertion hole 135 and the sleeve 113 because the first and second sealing members 1 are
Blocked by 44,145.

【0019】更に、封止部材134の小径部138先端
が、保護カップ146のテーパ孔147内に位置するよ
うに配設されているので、槽本体101内で、エッチン
グ液が、直接、前記第2シール部材145に掛からない
ようになっており、この面でも、封止部材134の止り
孔136及び挿通孔135とスリーブ113との間から
エッチング液が進入し難くなっている。
Further, since the tip of the small-diameter portion 138 of the sealing member 134 is arranged so as to be located in the tapered hole 147 of the protective cup 146, the etching solution is directly fed into the tank body 101. The second seal member 145 does not come into contact with the second seal member 145, and even on this surface, it is difficult for the etching liquid to enter from between the blind hole 136 and the insertion hole 135 of the sealing member 134 and the sleeve 113.

【0020】[0020]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の如く
エッチング液の進入を防止すべく構成された軸受装置1
30であっても、依然として完全にはエッチング液の進
入を防止することができず、進入したエッチング液によ
ってベアリング131やプーリ124が腐食,損傷し、
早期にこれを交換しなければならないという事態を招い
ていた。
However, as described above, the bearing device 1 configured to prevent the ingress of the etching solution.
Even if it is 30, it is still impossible to completely prevent the etching solution from entering, and the entering etching solution corrodes and damages the bearing 131 and the pulley 124.
This caused a situation in which this had to be replaced early.

【0021】これは、エッチング液が気化し易く、ま
た、浸透性が高いという性状を有すること、並びに、前
記第1及び第2シール部材144,145が封止部材1
34に対して密接状に回転接触しているため、封止部材
134との間に僅かな隙間を生じ易いことなどに起因す
るものであり、気化したエッチングガスやミスト状にな
ったエッチング液が、第1及び第2シール部材144,
145と封止部材134との間に生じた極僅かな隙間か
ら進入するからである。
This is because the etching solution is easily vaporized and has high permeability, and the first and second sealing members 144 and 145 are the sealing members 1.
This is due to the fact that a slight gap is easily generated between the sealing member 134 and the sealing member 134 because it is in close contact with the rotating member 34, and vaporized etching gas and mist-like etching liquid are , The first and second sealing members 144,
This is because it enters from a very small gap generated between the 145 and the sealing member 134.

【0022】このため、エッチング液など腐食性の高い
処理流体を用いる装置の分野では、かかる処理流体の進
入を、更に、強固に防止することが可能な封止構造を備
えた軸受装置が望まれていた。
For this reason, in the field of devices using a highly corrosive processing fluid such as an etching solution, a bearing device having a sealing structure capable of further strongly preventing such processing fluid from entering is desired. Was there.

【0023】本発明は、以上の実情に鑑みなされたもの
であって、内部ベアリングに腐食性の高い処理流体が進
入,浸透するのを確実に防止することができる軸受装
置、及びこれを備えた基板処理装置の提供を目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is provided with a bearing device capable of reliably preventing the highly corrosive processing fluid from entering and penetrating the internal bearing. An object is to provide a substrate processing apparatus.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段及びその効果】上記課題を
解決するための本発明の請求項1に記載した発明は、回
転軸を回転自在に支持するベアリングと、貫通孔を備
え、該貫通孔の一方側に前記ベアリングを保持するハウ
ジングと、一方端から他方端に貫通する孔であって、前
記回転軸が挿通される挿通孔を有し、前記一方端側が前
記ハウジング貫通孔の他方側に気密状に嵌挿される封止
部材と、前記ハウジングの貫通孔内であって、前記ベア
リングと封止部材との間に配設され、前記封止部材の一
方端部端面及び前記回転軸の双方に密接して、前記回転
軸と封止部材との間を封止する第1シール部材と、前記
封止部材の他方端部端面及び前記回転軸の双方に密接し
て、前記回転軸と封止部材との間を封止する第2シール
部材と、前記封止部材の挿通孔内であって、前記第1シ
ール部材と第2シール部材との間の空間に圧力流体を供
給する圧力流体供給手段とを設けて構成したことを特徴
とする軸受装置に係る。
The invention described in claim 1 of the present invention for solving the above-mentioned problems comprises a bearing for rotatably supporting a rotary shaft and a through hole, and the through hole. A housing that holds the bearing on one side, and a through hole that penetrates from one end to the other end and through which the rotation shaft is inserted, and the one end side is on the other side of the housing through hole. A sealing member fitted in an airtight manner, and disposed in the through hole of the housing between the bearing and the sealing member, both the one end face of the sealing member and the rotary shaft. To the first sealing member that seals between the rotary shaft and the sealing member, and to both the other end face of the sealing member and the rotary shaft, to seal the rotary shaft and the sealing member. A second sealing member for sealing between the sealing member and the sealing member; A within the through hole, according to the bearing device is characterized in that which is configured by providing a pressure fluid supply means for supplying a pressure fluid to the space between the first and second sealing members.

【0025】この軸受装置によると、前記圧力流体供給
手段により、前記封止部材の挿通孔内であって、前記第
1シール部材と第2シール部材との間の空間に圧力流体
が供給され、当該空間内が陽圧となる。そして、回転軸
の回転によって、第2シール部材による封止部に僅かな
隙間が生じるようなことがあると、かかる隙間から前記
空間内の圧力流体が流出する流体流を生じる。
According to this bearing device, the pressure fluid supply means supplies the pressure fluid to the space between the first seal member and the second seal member within the insertion hole of the sealing member, The space becomes positive pressure. When the rotation of the rotating shaft causes a slight gap in the sealing portion formed by the second seal member, a fluid flow is generated in which the pressure fluid in the space flows out from the gap.

【0026】したがって、エッチング液など腐食性の高
い処理流体が使用される処理装置であって、その処理槽
内に前記封止部材側を挿入した状態で、処理槽内に配設
された回転軸を支持するように当該軸受装置が使用され
る場合、前記第2シール部材の封止効果により、前記処
理流体が前記挿通孔と回転軸との間に進入するのが阻止
され、更に、回転軸の回転によって、第2シール部材の
封止部に僅かな隙間が生じる場合には、かかる隙間から
流出する流体流によって、前記処理流体の進入が阻止さ
れる。
Therefore, in a processing apparatus in which a highly corrosive processing fluid such as an etching solution is used, the rotary shaft arranged in the processing tank with the sealing member side inserted in the processing tank. When the bearing device is used to support the rotating shaft, the sealing effect of the second seal member prevents the processing fluid from entering between the insertion hole and the rotating shaft. When a slight gap is generated in the sealing portion of the second seal member due to the rotation of, the inflow of the processing fluid is blocked by the fluid flow flowing out from the gap.

【0027】このように、この軸受装置によれば、前記
第2シール部材の封止作用、及び第2シール部材の封止
部に生じる流体流の作用の両作用によって、前記処理流
体が前記挿通孔と回転軸との間に進入するのを阻止する
ことができるので、前記処理流体が浸透性の高いもので
あっても、その進入を確実に防止することができ、前記
ハウジング内に保持されたベアリングが前記処理流体に
よって腐食,損傷するのを確実に防止することができ
る。
As described above, according to this bearing device, the processing fluid is inserted by the action of both the sealing action of the second sealing member and the action of the fluid flow generated in the sealing portion of the second sealing member. Since it can be prevented from entering between the hole and the rotary shaft, even if the processing fluid is highly permeable, it can be surely prevented from entering and is retained in the housing. It is possible to reliably prevent the bearing from being corroded or damaged by the processing fluid.

【0028】尚、前記圧力流体供給手段は、請求項2に
記載した発明のように、これを、前記ハウジングの貫通
孔内であって、前記ベアリングと封止部材との間の空間
に圧力流体を供給する手段と、前記封止部材に形成さ
れ、前記ベアリング,封止部材間の空間と、前記第1シ
ール部材,第2シール部材間の空間とを連通せしめる供
給孔とから構成することができ、或いは、請求項3に記
載した発明のように、これを、前記封止部材に形成さ
れ、前記第1シール部材,第2シール部材間の空間に開
口する供給孔と、前記供給孔に接続して、該供給孔に圧
力流体を供給する手段とから構成することができる。
The pressure fluid supply means, as in the invention described in claim 2, is provided with a pressure fluid in the space between the bearing and the sealing member in the through hole of the housing. And a supply hole that is formed in the sealing member and connects the space between the bearing and the sealing member with the space between the first sealing member and the second sealing member. Or, as in the invention described in claim 3, a supply hole formed in the sealing member and opening in a space between the first seal member and the second seal member, and the supply hole. And means for supplying pressure fluid to the supply hole.

【0029】更に、請求項4に記載した発明のように、
前記第1シール部材と第2シール部材との間の、前記封
止部材の挿通孔に環状溝を形成し、前記供給孔を前記環
状溝内に開口せしめた構成としても良い。
Further, as in the invention described in claim 4,
An annular groove may be formed in the insertion hole of the sealing member between the first seal member and the second seal member, and the supply hole may be opened in the annular groove.

【0030】また、本発明の請求項5に記載した発明
は、上記請求項4記載の軸受装置において、前記環状溝
に開口する流体排出孔を前記封止部材に形成するととも
に、前記流体排出孔に接続し、前記空間内の流体を外部
に排出する流体排出手段を設けたことを特徴とする軸受
装置に係る。
According to a fifth aspect of the present invention, in the bearing device according to the fourth aspect, a fluid discharge hole opening to the annular groove is formed in the sealing member, and the fluid discharge hole is formed. And a fluid discharge means for discharging the fluid in the space to the outside.

【0031】この軸受装置によれば、仮に、前記第2シ
ール部材による封止が不十分で、その封止部から第1シ
ール部材と第2シール部材との間の空間内に前記処理流
体が進入したとしても、同空間内に進入した処理流体が
前記環状溝内に収集され、収集された処理流体が前記流
体排出孔を介し前記流体排出手段によって外部に排出さ
れるので、前記空間内に進入した処理流体が、同空間か
ら前記ベアリング,封止部材,回転軸及び第1シール部
材によって形成される空間内に進入するのを一層効果的
に防止することができる。
According to this bearing device, if the second sealing member is insufficiently sealed, the processing fluid will flow from the sealing portion into the space between the first sealing member and the second sealing member. Even if it enters, the processing fluid that has entered the space is collected in the annular groove, and the collected processing fluid is discharged to the outside by the fluid discharge means via the fluid discharge hole, so It is possible to more effectively prevent the processing fluid that has entered from entering the space formed by the bearing, the sealing member, the rotating shaft, and the first sealing member from the same space.

【0032】また、本発明の請求項6に記載した発明
は、上記請求項1乃至5記載のいずれかの軸受装置にお
いて、前記封止部材の、前記ハウジング貫通孔に嵌挿さ
れる端部とは反対側の端部端面に、前記挿通孔と同軸の
止り孔を形成し、前記回転軸によって軸通され、外径が
前記止り孔の内径より僅かに小径となったリング状の邪
魔板を、前記止り孔内に位置するように配設するととも
に、前記第2シール部材を、前記封止部材の止り孔内
で、前記封止部材の止り孔底面及び前記回転軸の双方に
密接するように配設したことを特徴とする軸受装置に係
る。
According to a sixth aspect of the present invention, in the bearing device according to any one of the first to fifth aspects, the end portion of the sealing member fitted into the housing through hole is A ring-shaped baffle plate having an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the blind hole is formed on the opposite end face of the blind hole by forming a blind hole coaxial with the insertion hole and axially passed by the rotary shaft. The second sealing member is disposed so as to be located in the blind hole, and is in close contact with both the blind hole bottom surface of the sealing member and the rotary shaft in the blind hole of the sealing member. The present invention relates to a bearing device characterized in that the bearing device is provided.

【0033】この軸受装置によれば、封止部材に止り孔
を形成し、この止り孔内に第2シール部材を配設すると
ともに、止り孔開口部を邪魔板により閉じているので、
前記処理流体が止り孔内に進入し難く、この結果、第2
シール部材による封止効果を高めることができる。
According to this bearing device, the blind hole is formed in the sealing member, the second seal member is disposed in the blind hole, and the blind hole opening is closed by the baffle plate.
It is difficult for the processing fluid to enter the blind hole, and as a result, the second
The sealing effect of the seal member can be enhanced.

【0034】また、本発明の請求項7に記載した発明
は、処理槽と、端部が外部に突出するように前記処理槽
内に配設された回転軸を有し、該回転軸の回転によって
基板を搬送する基板搬送手段とを備えて構成され、基板
を前記基板搬送手段によって搬送しながら該基板に対し
処理流体を吐出して処理を行う基板処理装置であって、
前記回転軸の端部が、前記請求項1乃至6記載のいずれ
かの軸受装置によって回転自在に支持されてなり、その
前記封止部材の他方端側が前記処理槽内に挿入されると
ともに、前記封止部材の前記一方端側及びハウジングが
前記処理槽外に位置するように配設されてなる基板処理
装置に係る。
Further, the invention according to claim 7 of the present invention has a processing tank and a rotating shaft arranged in the processing tank such that an end portion thereof projects to the outside, and the rotating shaft rotates. A substrate processing apparatus configured to carry out processing by discharging a processing fluid onto the substrate while the substrate is transferred by the substrate transfer means.
An end portion of the rotary shaft is rotatably supported by the bearing device according to any one of claims 1 to 6, and the other end side of the sealing member is inserted into the processing tank, and The present invention relates to a substrate processing apparatus in which the one end side of the sealing member and the housing are arranged outside the processing bath.

【0035】この基板処理装置では、前記処理流体が、
腐食性が強く、しかも浸透性が高い性状のものであって
も、これが内部に浸透し難い構造の前記軸受装置によっ
て、前記基板搬送手段の回転軸を支持しているので、軸
受装置に内蔵されるベアリングを前記処理流体による腐
食から効果的に保護することができ、ひいては当該ベア
リングの寿命を延ばすことができる。このため、ベアリ
ングの交換といったメンテナンスの頻度を低減すること
ができ、その分、当該装置の稼働率を向上させることが
できる。
In this substrate processing apparatus, the processing fluid is
Even if it has a strong corrosive property and a high penetrability, it is built in the bearing device because it supports the rotating shaft of the substrate transfer means by the bearing device having a structure that does not easily penetrate inside. The bearing can be effectively protected from corrosion by the treatment fluid, and thus the life of the bearing can be extended. Therefore, the frequency of maintenance such as replacement of bearings can be reduced, and the operating rate of the device can be improved accordingly.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施形態
について添付図面に基づき説明する。図1は、本実施形
態に係る基板処理装置の概略構成を示した縦断面図であ
り、図2は、図1に示した軸受装置を拡大して示す縦断
面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a vertical sectional view showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to this embodiment, and FIG. 2 is an enlarged vertical sectional view showing the bearing device shown in FIG. 1.

【0037】尚、本例の基板処理装置1は、軸受装置1
0を除いて、図4に示した従来の基板処理装置100と
同じ構成を備えるものであり、したがって、同一の構成
については、同一の符号を用いるとともに、その詳しい
説明を省略する。
The substrate processing apparatus 1 of this embodiment is the bearing apparatus 1
Except for 0, it has the same configuration as the conventional substrate processing apparatus 100 shown in FIG. 4. Therefore, the same reference numerals are used for the same configurations, and detailed description thereof is omitted.

【0038】図2に示すように、本例の軸受装置10
は、中心軸112及びこの中心軸112に外嵌されるス
リーブ113’a,113’bからなる回転軸111を
回転自在に支持するベアリング11、このベアリング1
1を保持するハウジング12、一方端がハウジング12
に嵌挿され、他方端が槽本体101の側板102に嵌挿
された封止部材20などからなる。
As shown in FIG. 2, the bearing device 10 of the present example.
Is a bearing 11 that rotatably supports a rotating shaft 111 composed of a central shaft 112 and sleeves 113'a and 113'b fitted on the central shaft 112.
Housing 1 for holding 1, housing 12 at one end
The sealing member 20 is inserted into the side plate 102 of the tank body 101, and the other end of the sealing member 20 is inserted into the side plate 102.

【0039】前記ハウジング12は、中心部に貫通孔1
3bを備え、更に、その図示左側に止り孔13aを、図
示右側に止り孔13cをそれぞれ備えてなる。そして、
前記止り孔13aには前記ベアリング11が嵌挿され、
止り孔13cには前記封止部材20が嵌挿されている。
The housing 12 has a through hole 1 at the center thereof.
3b, a blind hole 13a on the left side of the figure, and a blind hole 13c on the right side of the figure. And
The bearing 11 is fitted into the blind hole 13a,
The sealing member 20 is fitted in the blind hole 13c.

【0040】尚、ベアリング11は、前記スリーブ11
3’aから延在するように前記中心軸112に外嵌され
たスリーブ113’bに外嵌しており、前記中心軸11
2及びスリーブ113’a,113’bから構成される
回転軸111を回転自在に支持する。また、スリーブ1
13’bにはプーリ124も外嵌しており、更に、ベア
リング11とプーリ124との間には間座14が配設さ
れており、ベアリング11は、この間座14によってそ
の内輪の抜けが防止されている。一方、ベアリング11
の外輪は、ハウジング12に固設された押え蓋16によ
ってその抜けが防止される。
The bearing 11 is the sleeve 11
3'a is fitted on a sleeve 113'b fitted on the central shaft 112 so as to extend from the central shaft 11
A rotary shaft 111 composed of two and sleeves 113'a and 113'b is rotatably supported. Also, sleeve 1
A pulley 124 is also externally fitted to 13'b, and a spacer 14 is arranged between the bearing 11 and the pulley 124. The bearing 11 prevents the inner ring from coming off by the spacer 14. Has been done. On the other hand, the bearing 11
The outer ring is prevented from coming off by a pressing lid 16 fixed to the housing 12.

【0041】また、このハウジング12は、その図示右
側端部が支持板38の取付孔に嵌挿された状態で、当該
支持板38に固設されており、支持板38は、貫通孔4
1を備えたブラケット40に固設され、ブラケット40
は前記槽本体101の側板102に固設されている。
The housing 12 is fixed to the support plate 38 with its right end portion in the drawing fitted in the mounting hole of the support plate 38.
1 is fixed to the bracket 40, and the bracket 40
Is fixed to the side plate 102 of the tank body 101.

【0042】前記封止部材20は、中心部に前記回転軸
111が挿通される挿通孔21を備え、その図示右側に
は止り孔22を、更にこの止り孔22より小径のテーパ
状をした止り孔23を備えてなる。そして、その一方端
側がOリング30を介して前記ハウジング11の止り孔
13cに気密状に嵌挿され、他方端側がOリング31を
介して前記側板102の取付孔に気密状に嵌挿されてい
る。尚、側板102には補助板39が固設されており、
封止部材20はこの補助板39の取付孔にも、Oリング
32を介して気密状に嵌挿されている。
The sealing member 20 is provided with an insertion hole 21 through which the rotary shaft 111 is inserted, a blind hole 22 on the right side of the drawing, and a tapered taper having a smaller diameter than the blind hole 22. The hole 23 is provided. The one end side is airtightly fitted into the blind hole 13c of the housing 11 via the O-ring 30, and the other end side is airtightly fitted into the mounting hole of the side plate 102 via the O-ring 31. There is. An auxiliary plate 39 is fixed to the side plate 102,
The sealing member 20 is also fitted in the mounting hole of the auxiliary plate 39 via the O-ring 32 in an airtight manner.

【0043】前記スリーブ113’aは、前記封止部材
20の止り孔22,23に対応する位置にフランジ部1
16’を備えており、このフランジ部116’の右隣に
は、外径が前記止り孔22の内径より僅かに小径となっ
たリング状の邪魔板37が、前記止り孔22内に位置す
るように気密状に外嵌され、左隣には、前記止り孔23
の底面に密接する第2シール部材(回転シール)34が
気密状に外嵌されている。また、スリーブ113’aの
左端には、前記封止部材20の端面に密接する第1シー
ル部材(回転シール)33が気密状に外嵌されている。
The sleeve 113'a is located at a position corresponding to the blind holes 22 and 23 of the sealing member 20.
A ring-shaped baffle plate 37 having an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the blind hole 22 is located in the blind hole 22 on the right side of the flange portion 116 '. As shown in FIG.
A second seal member (rotary seal) 34, which is in close contact with the bottom surface of, is externally fitted in an airtight manner. A first seal member (rotary seal) 33, which is in close contact with the end surface of the sealing member 20, is externally fitted to the left end of the sleeve 113'a.

【0044】また、封止部材20の前記挿通孔21には
環状溝28が形成されるとともに、当該封止部材20に
は、環状溝28の底面に開口する流体排出孔29が形成
されており、この流体排出孔29には、排出管36が前
記ハウジング12を貫通して接続している。更に、前記
封止部材20には、前記ハウジング12の止り孔13c
内であって、前記ベアリング11と当該封止部材20と
の間の空間17と、前記環状溝28とを連通せしめる供
給孔26が形成されている。
An annular groove 28 is formed in the insertion hole 21 of the sealing member 20, and a fluid discharge hole 29 is formed in the sealing member 20 at the bottom of the annular groove 28. A discharge pipe 36 penetrates the housing 12 and is connected to the fluid discharge hole 29. Further, the sealing member 20 has a blind hole 13c in the housing 12.
Inside, a supply hole 26 that connects the space 17 between the bearing 11 and the sealing member 20 and the annular groove 28 is formed.

【0045】また、ハウジング12には、前記止り孔1
3c内の空間17に開口する給気孔18が形成されてお
り、この給気孔18には、加圧した空気を供給するコン
プレッサ(図示せず)が、管継手35を介して接続して
いる。
The blind hole 1 is formed in the housing 12.
An air supply hole 18 that opens into the space 17 in 3c is formed, and a compressor (not shown) that supplies pressurized air is connected to this air supply hole 18 via a pipe joint 35.

【0046】斯くして、以上の構成を備えた本例の軸受
装置10及びこれを備えた基板処理装置1によると、前
記コンプレッサ(図示せず)から管継手35及び給気孔
18介して、ハウジング12の止り孔13c内の空間1
7に加圧空気が供給され、この加圧空気によって同空間
17内が陽圧に維持される。
Thus, according to the bearing device 10 of the present example having the above-described configuration and the substrate processing apparatus 1 having the same, the housing is provided from the compressor (not shown) via the pipe joint 35 and the air supply hole 18. Space 1 in 12 blind holes 13c
Pressurized air is supplied to 7, and the pressurized space maintains a positive pressure in the space 17.

【0047】また、前記空間17内に供給された加圧空
気は、前記供給孔26を通って環状溝28内に流入し、
この加圧空気によって、第1シール部材33,第2シー
ル部材34間の挿通孔21及び環状溝28内が陽圧に維
持される。
The pressurized air supplied into the space 17 flows into the annular groove 28 through the supply hole 26,
The pressurized air maintains positive pressure in the insertion hole 21 and the annular groove 28 between the first seal member 33 and the second seal member 34.

【0048】槽本体101内では、エッチング液噴射ノ
ズル104からエッチング液が噴射されており、ミスト
状になったエッチング液や気化したエッチングガスが存
在する。そして、その一部には、前記止り孔22に向け
て進行するものがあるが、かかるエッチング液やエッチ
ングガスは、前記邪魔板37によってその進行が阻止さ
れ、前記止り孔22内への進入がこの邪魔板37によっ
て一次的に防止される。
In the tank main body 101, the etching liquid is jetted from the etching liquid jet nozzle 104, and there are mist-like etching liquid and vaporized etching gas. Although some of them progress toward the blind hole 22, the etching liquid and the etching gas are blocked by the baffle plate 37, so that the etchant and the etching gas do not enter the blind hole 22. This baffle plate 37 prevents it temporarily.

【0049】また、回転軸111と封止部材20との
間、より具体的にはスリーブ113’aと封止部材20
との間の挿通孔21が、第2シール部材34によって封
止されているので、仮に、前記止り孔22と邪魔板37
との間隙から止り孔22内にエッチング液やエッチング
ガスが流入したとしても、その前記挿通孔21への進入
が、この第2シール部材34によって二次的に防止され
る。
Further, between the rotary shaft 111 and the sealing member 20, more specifically, the sleeve 113'a and the sealing member 20.
Since the insertion hole 21 between and is sealed by the second seal member 34, it is assumed that the blind hole 22 and the baffle plate 37.
Even if the etching liquid or the etching gas flows into the blind hole 22 through the gap between and, the second seal member 34 secondarily prevents the etching liquid and the etching gas from entering the through hole 21.

【0050】また、前記コンプレッサ(図示せず)から
管継手35,給気孔18及び供給孔26を介して、第1
シール部材33,第2シール部材34間の挿通孔21及
び環状溝28内に加圧空気が供給され、同部が陽圧に維
持される。このため、回転軸111の回転によって、第
2シール部材34の封止部に僅かな隙間を生じるような
場合、かかる隙間から加圧空気が流出する空気流を生じ
る。したがって、仮に、前記止り孔22と邪魔板37と
の間隙から止り孔22内にエッチング液やエッチングガ
スが流入したとしても、その前記挿通孔21への進入
が、前記第2シール部材34の封止作用及び前記空気流
の作用の両作用によって確実に防止される。
Further, from the compressor (not shown) through the pipe joint 35, the air supply hole 18 and the supply hole 26, the first
Pressurized air is supplied into the insertion hole 21 and the annular groove 28 between the seal member 33 and the second seal member 34, and the same portion is maintained at a positive pressure. Therefore, when a small gap is created in the sealing portion of the second seal member 34 due to the rotation of the rotating shaft 111, an air flow in which the pressurized air flows out from the gap is created. Therefore, even if the etching liquid or the etching gas flows into the blind hole 22 through the gap between the blind hole 22 and the baffle plate 37, the entry of the etching liquid or the etching gas into the insertion hole 21 does not seal the second seal member 34. Both the stop action and the action of the air flow are reliably prevented.

【0051】また、前記挿通孔21には、環状溝28の
底面に開口した流体排出孔29及び排出管36が接続し
ており、前記挿通孔21内の流体(雰囲気及び液体)が
この流体排出孔29及び排出管36を介して外部に排出
される。また、挿通孔21内に液体が存在する場合に
は、これが環状溝28内に収集され、効果的に外部に排
出される。したがって、仮に、前記第2シール部材34
による封止が不十分で、その封止部から挿通孔21内
に、前記エッチング液やエッチングガスが進入するよう
なことがあったとしても、これが流体排出孔29及び排
出管36を介して外部に排出されるため、かかるエッチ
ング液やエッチングガスが第1シール部材33を通過し
て、ハウジング12の止り孔13c内(空間17内)に
至るのを効果的に防止することができる。
Further, the insertion hole 21 is connected to a fluid discharge hole 29 and a discharge pipe 36 which are opened at the bottom of the annular groove 28, and the fluid (atmosphere and liquid) in the insertion hole 21 is discharged from this fluid. It is discharged to the outside through the hole 29 and the discharge pipe 36. Further, when liquid is present in the insertion hole 21, it is collected in the annular groove 28 and effectively discharged to the outside. Therefore, temporarily, the second seal member 34
Even if the etching solution or the etching gas may enter the insertion hole 21 from the sealing portion due to insufficient sealing by the sealing portion, the etching liquid or the etching gas may be discharged through the fluid discharge hole 29 and the discharge pipe 36 to the outside. Therefore, it is possible to effectively prevent such etching liquid or etching gas from passing through the first seal member 33 and reaching the inside of the blind hole 13c of the housing 12 (inside the space 17).

【0052】このように、本例の軸受装置10及びこれ
を備えた基板処理装置1によれば、前記第1シール部
材33,第2シール部材34間の挿通孔21及び環状溝
28内を陽圧にしたこと、第1及び第2のシール部材
33,34を設けて前記挿通孔21を2重に封止たこ
と、挿通孔21内の流体を排除するようにしたこと、
封止部材20に形成した止り孔22内に第2シール部
材34を配設し、止り孔22開口部を邪魔板37によっ
て閉じた構成としたことにより、槽本体101内のエッ
チング液やエッチングガスが、回転軸111を支持する
ベアリング11に到達するのを多次的に阻止することが
できる。
As described above, according to the bearing device 10 of this example and the substrate processing apparatus 1 including the bearing device 10, the inside of the insertion hole 21 between the first seal member 33 and the second seal member 34 and the inside of the annular groove 28 are positively exposed. Pressure, that the insertion hole 21 is doubly sealed by providing the first and second sealing members 33 and 34, and the fluid in the insertion hole 21 is eliminated.
By disposing the second seal member 34 in the blind hole 22 formed in the sealing member 20 and closing the opening of the blind hole 22 by the baffle plate 37, the etching liquid and the etching gas in the tank body 101 are However, it can be prevented from reaching the bearing 11 that supports the rotating shaft 111 in multiple orders.

【0053】斯くして、かかる作用により、前記ハウジ
ング12内に保持されたベアリング11が前記エッチン
グ液やエッチングガスによって腐食,損傷するのを確実
に防止することが可能となる。このため、ベアリング1
1の交換といったメンテナンスの頻度を低減させること
ができ、その分、当該基板処理装置1の稼働率を向上さ
せることができる。
Thus, by such an action, it is possible to reliably prevent the bearing 11 held in the housing 12 from being corroded or damaged by the etching liquid or the etching gas. Therefore, bearing 1
It is possible to reduce the frequency of maintenance such as replacement of 1, and accordingly, the operating rate of the substrate processing apparatus 1 can be improved.

【0054】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明が採り得る具体的な態様は、何らこれに限
定されるものではない。
Although one embodiment of the present invention has been described above, the specific mode of the present invention is not limited to this.

【0055】例えば、上例では、加圧空気を管継手35
及び給気孔18を介して一旦空間17内に供給した後、
この空間17と連通する供給孔26を介して、環状溝2
8(挿通孔21)内に加圧空気を供給するように構成し
たが、このような構成に限られるものではなく、図3に
示すように、環状溝28内に開口する供給孔26’を封
止部材20に形成し、コンプレッサ(図しせず)に接続
した供給管35’を、前記ハウジング12を貫通して前
記供給孔26’に接続せしめた構成とし、加圧空気を、
直接、環状溝28(挿通孔21)内に供給するようにし
た構成としても良い。このようにしても、上記と同様の
効果が奏される。
For example, in the above example, the compressed air is supplied to the pipe joint 35.
And once supplied into the space 17 through the air supply hole 18,
Through the supply hole 26 communicating with this space 17, the annular groove 2
8 is configured to supply the pressurized air into the (insertion hole 21), but the present invention is not limited to such a configuration, and as shown in FIG. 3, the supply hole 26 ′ opening in the annular groove 28 is formed. A supply pipe 35 'formed in the sealing member 20 and connected to a compressor (not shown) is configured to penetrate the housing 12 and be connected to the supply hole 26', and pressurizing air is
The structure may be such that the gas is directly supplied into the annular groove 28 (insertion hole 21). Even in this case, the same effect as described above can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略
構成を示した縦断面図である。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示した軸受装置を拡大して示す縦断面図
である。
FIG. 2 is an enlarged vertical sectional view of the bearing device shown in FIG.

【図3】本発明の他の実施形態に係る軸受装置を拡大し
て示す縦断面図である。
FIG. 3 is an enlarged vertical sectional view showing a bearing device according to another embodiment of the present invention.

【図4】従来の基板処理装置の概略構成を示した縦断面
図である。
FIG. 4 is a vertical cross-sectional view showing a schematic configuration of a conventional substrate processing apparatus.

【図5】図4に示した軸受装置を拡大して示す縦断面図
である。
5 is an enlarged vertical sectional view of the bearing device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板処理装置 10 軸受装置 11 ベアリング 12 ハウジング 13a,13c 止り孔 13b 貫通孔 18 給気孔 20 封止部材 21 挿通孔 22,23 止り孔 26 連通孔 28 環状溝 37 邪魔板 111 回転軸 1 Substrate processing equipment 10 Bearing device 11 bearings 12 housing 13a, 13c blind hole 13b through hole 18 Air supply hole 20 Sealing member 21 insertion holes 22,23 blind hole 26 communication holes 28 annular groove 37 Baffle 111 rotation axis

フロントページの続き (72)発明者 松元 俊二 兵庫県尼崎市扶桑町1番10号 住友精密工 業株式会社内 Fターム(参考) 3B201 AA03 AB14 BB33 BB92 CD36 3J016 AA01 BB02 BB24 CA06 5F043 DD13 EE07 EE15 GG10 Continued front page    (72) Inventor Shunji Matsumoto             Sumitomo Precision Works 1-10 Fuso-cho, Amagasaki City, Hyogo Prefecture             Business F term (reference) 3B201 AA03 AB14 BB33 BB92 CD36                 3J016 AA01 BB02 BB24 CA06                 5F043 DD13 EE07 EE15 GG10

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転軸を回転自在に支持するベアリング
と、 貫通孔を備え、該貫通孔の一方側に前記ベアリングを保
持するハウジングと、 一方端から他方端に貫通する孔であって、前記回転軸が
挿通される挿通孔を有し、前記一方端側が前記ハウジン
グ貫通孔の他方側に気密状に嵌挿される封止部材と、 前記ハウジングの貫通孔内であって、前記ベアリングと
封止部材との間に配設され、前記封止部材の一方端部端
面及び前記回転軸の双方に密接して、前記回転軸と封止
部材との間を封止する第1シール部材と、 前記封止部材の他方端部端面及び前記回転軸の双方に密
接して、前記回転軸と封止部材との間を封止する第2シ
ール部材と、 前記封止部材の挿通孔内であって、前記第1シール部材
と第2シール部材との間の空間に圧力流体を供給する圧
力流体供給手段とを設けて構成したことを特徴とする軸
受装置。
1. A bearing that rotatably supports a rotating shaft, a through hole, a housing that holds the bearing on one side of the through hole, and a hole that penetrates from one end to the other end of the housing. A sealing member having an insertion hole through which the rotary shaft is inserted, the one end side being airtightly fitted and inserted into the other side of the housing through hole, and a sealing member inside the through hole of the housing and sealed with the bearing. A first sealing member disposed between the rotary shaft and the sealing member, the first seal member being disposed between the rotary shaft and the sealing member, the first seal member being in close contact with both the one end face of the sealing member and the rotary shaft. A second seal member that is in close contact with both the other end face of the sealing member and the rotating shaft, and seals between the rotating shaft and the sealing member; and inside the insertion hole of the sealing member, Supplying the pressure fluid to the space between the first seal member and the second seal member. Bearing device being characterized in that configured by providing a pressure fluid supply means for.
【請求項2】 前記圧力流体供給手段が、 前記ハウジングの貫通孔内であって、前記ベアリングと
封止部材との間の空間に圧力流体を供給する手段と、 前記封止部材に形成され、前記ベアリング,封止部材間
の空間と、前記第1シール部材,第2シール部材間の空
間とを連通せしめる供給孔とから構成されてなる請求項
1記載の軸受装置。
2. The means for supplying a pressure fluid to the space between the bearing and the sealing member in the through hole of the housing, the pressure fluid supplying means being formed in the sealing member, 2. The bearing device according to claim 1, comprising a supply hole that connects the space between the bearing and the sealing member and the space between the first sealing member and the second sealing member.
【請求項3】 前記圧力流体供給手段が、 前記封止部材に形成され、前記第1シール部材,第2シ
ール部材間の空間に開口する供給孔と、 前記供給孔に接続して、該供給孔に圧力流体を供給する
手段とから構成されてなる請求項1記載の軸受装置。
3. The pressure fluid supply means is formed in the sealing member and is connected to the supply hole, which is opened in a space between the first seal member and the second seal member, and is connected to the supply hole. The bearing device according to claim 1, comprising a means for supplying a pressure fluid to the hole.
【請求項4】 前記第1シール部材と第2シール部材と
の間の、前記封止部材の挿通孔に環状溝を形成するとと
もに、 前記供給孔を前記環状溝内に開口せしめたことを特徴と
する請求項2又は3記載の軸受装置。
4. An annular groove is formed in an insertion hole of the sealing member between the first seal member and the second seal member, and the supply hole is opened in the annular groove. The bearing device according to claim 2 or 3.
【請求項5】 前記環状溝に開口する流体排出孔を前記
封止部材に形成するとともに、 前記流体排出孔に接続し、前記空間内の流体を外部に排
出する流体排出手段を設けたことを特徴とする請求項4
記載の軸受装置。
5. A fluid discharge hole opening to the annular groove is formed in the sealing member, and a fluid discharge means for discharging the fluid in the space to the outside is provided, which is connected to the fluid discharge hole. Claim 4 characterized by the above-mentioned.
The bearing device described.
【請求項6】 前記封止部材の、前記ハウジング貫通孔
に嵌挿される端部とは反対側の端部端面に、前記挿通孔
と同軸の止り孔を形成し、 前記回転軸によって軸通され、外径が前記止り孔の内径
より僅かに小径となったリング状の邪魔板を、前記止り
孔内に位置するように配設するとともに、 前記第2シール部材を、前記封止部材の止り孔内で、前
記封止部材の止り孔底面及び前記回転軸の双方に密接す
るように配設したことを特徴とする請求項1乃至5記載
のいずれかの軸受装置。
6. A blind hole, which is coaxial with the insertion hole, is formed on an end face of the sealing member, which is opposite to the end part inserted into the housing through hole, and is axially passed by the rotary shaft. A ring-shaped baffle having an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the blind hole is disposed so as to be located in the blind hole, and the second seal member is a stopper of the sealing member. The bearing device according to any one of claims 1 to 5, wherein the bearing device is arranged in the hole so as to be in close contact with both the bottom surface of the blind hole of the sealing member and the rotary shaft.
【請求項7】 処理槽と、端部が外部に突出するように
前記処理槽内に配設された回転軸を有し、該回転軸の回
転によって基板を搬送する基板搬送手段とを備えて構成
され、基板を前記基板搬送手段によって搬送しながら該
基板に対し処理流体を吐出して処理を行う基板処理装置
であって、 前記回転軸の端部が、前記請求項1乃至6記載のいずれ
かの軸受装置によって回転自在に支持されてなり、その
前記封止部材の他方端側が前記処理槽内に挿入されると
ともに、前記封止部材の前記一方端側及びハウジングが
前記処理槽外に位置するように配設されてなる基板処理
装置。
7. A processing bath, and a substrate transfer means for transporting a substrate by rotating the rotation shaft, the substrate having a rotating shaft disposed in the processing bath so that an end portion thereof protrudes to the outside. 7. A substrate processing apparatus configured to perform processing by discharging a processing fluid onto the substrate while carrying the substrate by the substrate carrying means, wherein an end of the rotation shaft is any one of claims 1 to 6. Is rotatably supported by the bearing device, the other end side of the sealing member is inserted into the processing tank, and the one end side of the sealing member and the housing are located outside the processing tank. A substrate processing apparatus arranged so as to perform.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Effective date: 20081007