JP2003035909A - Method for manufacturing plane display element and plane display element - Google Patents

Method for manufacturing plane display element and plane display element

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JP2003035909A
JP2003035909A JP2001223248A JP2001223248A JP2003035909A JP 2003035909 A JP2003035909 A JP 2003035909A JP 2001223248 A JP2001223248 A JP 2001223248A JP 2001223248 A JP2001223248 A JP 2001223248A JP 2003035909 A JP2003035909 A JP 2003035909A
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JP2001223248A
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Hiroyuki Osada
Takeshi Yamamoto
武志 山本
洋之 長田
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Toshiba Corp
株式会社東芝
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a display contrast by preventing the reaction of a light modulating layer in a picture frame region caused by a leakage electric field from the drive circuit during drive, and promptly removing electric charges accumulated in the picture frame region caused by the leakage electric field during power source off in a drive circuit integrated plane display element in which the drive circuit is disposed in the picture frame region.
SOLUTION: A picture frame light shielding layer 23 is formed of the same material as a blue (B) colored layer 20c on a circumference drive circuit 21 disposed in the picture frame region [B] of an array substrate 11, and at the same time a picture frame electrode 27 is formed of the same material as the pixel electrode 24 on the light shielding layer 23. The picture frame electrode 27 is connected to a common electrode 22 which is connected to a common electrode 32 of a counter substrate 12 and grounded. Thereby, the potential of the picture frame electrode 27 and the common electrode 32 becomes the same, the reaction of the liquid crystal layer 16 is prevented, and the accumulated electric charges are promptly removed.
COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は平面表示素子に係り、特に駆動回路一体型の平面表示素子及び平面表示素子の製造方法に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] [Technical Field of the Invention The present invention relates to a flat display device, and more particularly to a method of manufacturing the flat panel display devices and flat panel display devices of the driving circuit integrated. 【0002】 【従来の技術】近年、パソコン端末、モニター等に用いられる表示素子として、マトリクス状に配列される画素電極及びこの画素電極を駆動するための薄膜トランジスタ(以下TFTと略称する。)からなるスイッチング素子を有するアレイ基板と、共通電極を有しアレイ基板に対向配置される対向基板のいずれか一方の基板に、赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の着色層からなるカラーフィルタ層を有し、シール剤でかこまれた間隙に、例えば液晶等の光変調層を備えてなる平面表示素子が多用されている。 [0002] In recent years, personal computer terminal, as a display element used in a monitor or the like, consisting of a thin film transistor for driving the pixel electrodes and the pixel electrodes are arranged in matrix (hereinafter abbreviated as TFT.) an array substrate having a switching element, on one of the substrate of the counter substrate disposed to face the array substrate has a common electrode, red (R), green (G), and colored layers of three primary colors of blue (B) has a color filter layer made of, surrounded by the gap in the sealing agent, the flat display device for example, provided with a light modulating layer such as liquid crystal, it is frequently used. 【0003】更にこの様な平面表示素子にあっては、アレイ基板上の画素電極周囲の額縁領域にポリシリコン(以下p−Siと略称する。)を半導体層としたp−S [0003] Further there to such flat display devices, p-S of the polysilicon in the frame region surrounding the pixel electrode on the array substrate (hereinafter referred to as p-Si.) Was a semiconductor layer
iTFTを用いて画素電極のスイッチング素子に駆動信号を送る駆動回路を形成する駆動回路一体型の平面表示素子の実用化が図られている。 Practical application of flat panel display devices of the driving circuit integrated to form a driving circuit that sends a drive signal to the switching element of the pixel electrode by using a iTFT is achieved. 【0004】一方、この様な駆動回路一体型の平面表示素子において、例えば、電源オフ時に白表示するノーマリーホワイト型表示素子であるTN(Twisted On the other hand, in the flat display device of such a driving circuit-integrated, for example, a normally-white type display device displays white when the power is turned off TN (Twisted
Nematic)型液晶表示素子に加えて、電源オフ時に黒表示するノーマリーブラック型表示素子であるVA In addition to Nematic) type liquid crystal display device, a normally black type display device displays black when the power is turned off VA
(Vertical Aligned)型液晶表示素子等が広く用いられるようになった。 (Vertical Aligned) type liquid crystal display device or the like has become widely used. ノーマリーブラック型表示素子の場合は、液晶と偏光板の働きにより、電源がオフの時は光を透過せず黒を表示させることから、表示領域周囲の額縁領域に設ける額縁遮光層は、ノーマリーホワイト型表示素子に用いる額縁遮光層に比べると、 For normally black type display device, by the action of the liquid crystal and a polarizing plate, since it displays black does not transmit light when the power is off, the frame light-shielding layer provided on the frame area surrounding the display area, no compared with the frame-shaped light-shielding layer used in the normally white type display device,
額縁遮光層の光学濃度(以下ODと略称する。)が低くても液晶表示素子全体としては黒く見える。 (Hereinafter abbreviated as OD.) The optical density of the frame light-shielding layer appears black as a whole liquid crystal display device be reduced. 従って従来ノーマリーブラック型表示素子を製造する際、額縁遮光層にはODの高い真っ黒な遮光材料では無く、遮光性は有するもののODが低くてフォトリソグラフィによる加工が容易な遮光材料を用いその実用化を図っていた。 Thus when producing the conventional normally black type display device, rather than a pure black shielding material having a OD in the frame light-shielding layer, light-shielding property OD its practical using readily shielding material processing by photolithography low but have It was with the aim of reduction. 【0005】実際には、表示領域に形成するカラーフィルタ層の着色層の中でODの高い青(B)色の着色層を額縁遮光層として用い、青(B)色着色層の形成工程時に同時に額縁遮光層を形成する事により、その層形成工程数を削減し製造時間の短縮ひいては製造コストの低減を図っていた。 In practice, using a high blue (B) colored layers of the OD in the colored layer of the color filter layer formed in the display area as a picture frame light-shielding layer, at the time of the formation process of blue (B) color layer by forming the frame light-shielding layer simultaneously, it was thereby reducing the shortening therefore the manufacturing cost of the layer formation step number was reduced manufacturing time. 【0006】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記駆動回路一体型且つノーマリーブラックの平面表示素子にて、 ODの低い遮光材料で額縁遮光層を形成すると、 [0006] At [SUMMARY OF THE INVENTION However the integral drive circuit type and the normally black flat display device, to form a frame-shaped light-shielding layer with a low light-shielding material OD,
額縁遮光層の加工性を向上でき製造コストの低減を得られる反面、額縁領域で光漏れを発生するという問題を生じていた。 Although the resulting reduction of the increase can be manufactured cost workability of the frame light-shielding layer, it arose the problem of generating the light leakage in the frame region. 【0007】この額縁領域での光漏れを詳細に観察したところ、光漏れの種類は2種類あることが判明した。 [0007] Observation of the light leakage in this frame region in detail, the kind of light leakage was found that the two types. 一つは額縁領域に設けられた駆動回路の配線等の電極両端を中心として発生するものであり、もうひとつは駆動回路の電極位置とは関係なく発生するものである。 One is what occurs around the electrode ends of the wiring of the drive circuit provided in the frame region, and the other is intended to occur regardless of the electrode position of the drive circuit. 【0008】駆動回路の電極両端を中心に発生する光漏れは通電時に発生した。 [0008] light leakage that occurs around the electrode ends of the drive circuit occurs when energized. これは、駆動回路一体型の液晶表示素子の額縁領域に設けられる駆動回路は、当然ながら表示領域のスイッチング素子を駆動するXドライバ、 This driving circuit provided in the frame region of the drive circuit-integrated liquid crystal display device of the X driver for driving the switching elements in the display area of ​​course,
Yドライバ等を有してなっている。 It has a Y driver, and the like. このため画像表示時を行うための表示領域への通電時には、これら駆動回路へも通電され、額縁領域の下の配線等の電極両端から電界が漏れ、その電圧が液晶のしきい値電圧以上になると液晶が応答して光漏れが生じると推定された。 Therefore at the time of energization of the display area for the time of displaying images is also energized to these driving circuits, the leakage electric field from the electrodes at both ends of the wiring and the like below the frame region, the voltage that is higher than the threshold voltage of the liquid crystal comprising the liquid crystal is estimated to be light leakage occurs in response. 【0009】もう一方の光漏れ、すなわち電極位置とは関係なく発生する光漏れは、主に電源オフ時に発生した。 [0009] The other light leakage, i.e. light leakage occurs regardless of the electrode position, occurred mainly during the power off. これは、アレイ基板側の額縁領域に電極が無いために、漏れ電界により発生していた電荷が電源オフ時に額縁領域に留まり逃げることができずに保持され、この保持電荷が液晶のしきい値電圧以上になると液晶が応答して光漏れが生じると推定された。 This is because the electrodes are not in the frame region of the array substrate side, is held can not charge that has been generated by the leakage electric field escapes remains in the frame region at the time of power-off, the holding electric charge of the liquid crystal threshold was estimated to light leakage occurs crystal becomes more than the voltage in response. 【0010】そしてこれら額縁領域の光漏れは、電源オフ時には画面周囲が多少明るくなる程度で特に問題無いものの、通電時である画像表示時には、表示領域周縁でコントラストの低下を来たし、表示品位を著しく低下するという問題を生じていた。 [0010] The light leakage of the frame region, while when the power is shut off no particular problem to the extent that the surrounding screen becomes slightly brighter image display during a time of energization, Kitashi reduction in contrast in the display region periphery, notably the display quality It had caused the problem of deterioration. 【0011】そこで本発明は上記課題を除去するものであり、駆動回路一体型の平面表示素子にて、 駆動回路から発生される漏れ電界による光変調層への影響を防止すると共に額縁領域に発生された電荷を速やかに除去することにより、額縁遮光層の加工性を損なうことなく額縁領域での光漏れが発生するのを防止して、全面にわたり表示コントラストの良い良好な表示品位を有する平面表示素子及び平面表示素子の製造方法を提供することを目的とする、 【0012】 【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決するための手段として、一主面上にスイッチング素子により駆動される画素電極をマトリクス状に配列してなる表示領域及びこの表示領域周囲に形成される駆動回路を有する第1の基板と、一主面上に共通電極を有 [0011] The present invention has been made to eliminate the above problems, occur in flat panel display devices of the driving circuit-integrated, the frame region while preventing the influence on the light modulation layer due to the leakage electric field generated from the driving circuit by quickly remove the electric charge is, to prevent the light leakage in the frame region is produced without impairing the workability of the frame light-shielding layer, the flat display having good good display quality display contrast over the entire surface and to provide a manufacturing method for the device and a plane display device, [0012] the present invention SUMMARY oF] as a means for solving the above problems, by the switching element on one principal surface Yes: a first substrate having a driving circuit for a pixel electrode to be driven is formed in the display region and the display region periphery formed by arranging in a matrix, a common electrode on one principal surface 前記第1の基板に対向配置される第2の基板とをシール剤で貼り合せ、スペーサにより保持される前記第1の基板及び前記第2の基板の間隙に光変調層を封入する平面表示素子において、前記第1の基板にて前記駆動回路の上層に形成され、前記共通電極と同電位に設定される額縁電極を設けるものである。 Wherein the first substrate and the second substrate facing each bonded with a sealing agent, flat display elements to enclose the light modulation layer in the gap between the first substrate and the second substrate held by a spacer in, is formed by the first substrate to the upper layer of the driving circuit, is intended to provide a frame electrode is set to the common electrode at the same potential. 【0013】又本発明は上記課題を解決するための手段として、一主面上にスイッチング素子により駆動される画素電極をマトリクス状に配列してなる表示領域及びこの表示領域周囲に形成される駆動回路を有する第1の基板と、一主面上に共通電極を有し前記第1の基板に対向配置される第2の基板とをシール剤で貼り合せ、スペーサにより保持される前記第1の基板及び前記第2の基板の間隙に光変調層を封入する平面表示素子の製造方法において、前記画素電極形成と同時に前記駆動回路領域上層に額縁電極とを形成する工程と、前記共通電極と前記額縁電極とを電気的に同電位に設定する工程とを実施するものである。 [0013] The drive present invention as a means for solving the above problems, which are formed a pixel electrode driven by the switching element on one principal surface in the display area and the display area surrounding formed by arranging in a matrix a first substrate having a circuit, bonding a second substrate disposed opposite to said first substrate having a common electrode on one principal surface with sealant, the first held by a spacer the method of manufacturing a flat display device to encapsulate the substrate and the second light modulating layer in the gap between the substrate, forming a frame electrode simultaneously the driving circuit region layer and the pixel electrode formation, and the common electrode it is intended to carry out the step of setting the frame electrode electrically the same potential. 【0014】上記構成により本発明は、表示領域周囲の駆動回路から漏れ電界が生じるのに関わらず、共通電極との間に電位差を生じることがなく、且つ、漏れ電界により発生された電荷を速やかに逃がすことにより光変調層の応答を防止し、額縁遮光層に加工性の良いODの低い材料を用いた場合であっても光漏れを生じることなく、コントラストの良い、表示品位の高い平面表示素子の実用化を図るものである。 The present invention by the above configuration, regardless of the electric field leaking from the driving circuit around the display region occurs without causing a potential difference between the common electrode, and, immediately the charge generated by the leakage electric field preventing response of the optical modulation layer by escape to, without causing light leakage even when using a material of low workability good OD with the frame-shaped light-shielding layer, a good contrast, high display quality flat display it is intended to improve the practical use of the device. 【0015】 【発明の実施の形態】以下、本発明を図1及び図2に示す第1の実施の形態を参照して説明する。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described with reference to the first embodiment shown in FIGS. 図1は平面表示素子であり、縦768ピクセル、横1024×3 Figure 1 is a flat panel display devices, vertical 768 pixels, horizontal 1024 × 3
(R、G、B)の表示領域[A]を有する駆動回路一体型且つノーマリーブラック型の液晶表示素子10を示す概略断面図である。 Is a schematic sectional view showing the (R, G, B) an integral drive circuit type and normally black liquid crystal display device 10 of which has a display region [A] of. 液晶表示素子10は、第1の基板であるアレイ基板11及び第2の基板である対向基板12 The liquid crystal display device 10, the counter substrate 12 is an array substrate 11 and the second substrate is a first substrate
をスペーサ13を介して対向配置し、シール剤14にて周囲を接着して成る間隙に液晶層16を封入し、更にアレイ基板11及び対向基板12外面にはそれぞれ偏光板11a,12aがノーマリーブラックとなる方向で貼り付けられている。 The counter is arranged through a spacer 13, sealing a liquid crystal layer 16 in the gap formed by bonding the periphery at sealant 14, further array substrate 11 and each of the opposed substrate 12 outer surface polarizing plate 11a, 12a is a normally It has been stuck in the direction to be black. 【0016】アレイ基板11は、ガラス基板17の表示領域[A]において、図示しない走査線及び信号線の交点近傍に液晶駆動用のp−Siを半導体層とするTFT The TFT array substrate 11, to be in the display region [A] of the glass substrate 17, a semiconductor layer of p-Si for driving the liquid crystal near the intersections of the scanning lines and signal lines (not shown)
素子18を有し、TFT素子18の上には赤(R)、緑(G)、青(B)それぞれの着色層20a、20b、2 Has an element 18, on top of the TFT element 18 of red (R), green (G), and blue (B) each of the colored layers 20a, 20b, 2
0cをストライプ状に配置されてなるカラーフィルタ層20が配置されている。 The color filter layer 20 formed by placing 0c in a stripe shape is disposed. 又ガラス基板17の表示領域[A]周囲の額縁領域[B]には、p−Siを半導体層とするTFT素子からなるバッファ回路、レベルシフタ、MRC、シフトレジスタ、アナログスイッチ等の各種回路21a及び、これらを接続する配線21b更には、接地されるコモン電極22を有する周辺駆動回路2 In the display area [A] frame area surrounding [B] of the glass substrate 17 is also a buffer circuit comprising a TFT element for the p-Si semiconductor layer, a level shifter, MRC, shift register, various circuits 21a and such analog switches , further the wiring 21b for connecting these, peripheral drive circuit 2 having a common electrode 22 is grounded
1が形成され、周辺駆動回路21の上には青(B)色着色層20cと同一材料からなる額縁遮光層23が配置されている。 1 is formed, the frame light-shielding layer 23 consisting of blue (B) color layer 20c of the same material on the peripheral driver circuit 21 is arranged. 【0017】カラーフィルタ層20上であって図示しない走査線及び信号線で囲まれる領域には、768×10 [0017] The region surrounded by the scanning lines and signal lines (not shown) a on the color filter layer 20, 768 × 10
24×3個のインジウム錫酸化物(以下ITOと称する。)膜からなる画素電極24がマトリクス状にパターン形成されている。 24 × 3 pieces of indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO.) Pixel electrode 24 made of film is patterned in a matrix. 画素電極24はカラーフィルタ層2 Pixel electrode 24 color filter layer 2
0に形成されるコンタクトホール26を介してTFT素子18のソース電極(図示せず)に接続し、TFT素子18により駆動される。 Connected to the source electrode of the TFT element 18 (not shown) through a contact hole 26 formed in 0, it is driven by the TFT element 18. 一方、額縁遮光層23上には、 On the other hand, on the frame-shaped light-shielding layer 23,
ITO膜からなる額縁電極27がパターン形成されていて、額縁電極27は額縁遮光層23に形成されるコンタクトホール28を介してコモン電極22に接続される。 Frame electrode 27 made of ITO film have been patterned, the frame electrode 27 is connected to the common electrode 22 via a contact hole 28 formed in the frame-shaped light-shielding layer 23.
画素電極24及び額縁電極27上には透明な柱状のスペーサ13が形成され、その上から配向膜30が成膜されている。 Spacers 13 of transparent columnar on the pixel electrode 24 and the frame electrode 27 is formed, the alignment film 30 is deposited thereon. 【0018】一方対向基板12は、ガラス基板31上にITO膜からなる共通電極32が形成され、その上から配向膜33が成膜されている。 Meanwhile the counter substrate 12, a common electrode 32 made of ITO film on the glass substrate 31 is formed, the alignment film 33 is deposited thereon. 共通電極32は、トランスファ剤38に接続され、トランスファ電極36及び図示しない配線を介し周辺駆動回路21のコモン電極22 The common electrode 32 is connected to the transfer agent 38, the common electrode 22 of the peripheral drive circuit 21 via a wire transfer electrodes 36 and not shown
に接続されている。 It is connected to the. 【0019】次に液晶表示素子10の製造方法について述べる。 [0019] Next the process for producing the liquid crystal display device 10. まずアレイ基板11に通常のフォトリソグラフィ工程によるパターニングを繰り返してガラス基板17 First glass substrate 17 in the array substrate 11 by repeating the patterning by ordinary photolithography process
の表示領域[A]に768×1024×3このTFT素子18を形成すると同時にガラス基板17の額縁領域[B]に周辺駆動回路21を形成する。 The display area [A] to 768 × 1024 × 3 simultaneously forming the TFT element 18 to form a peripheral driver circuit 21 to the frame region [B] of the glass substrate 17. 【0020】次いで、赤(R)色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストCR−2000(富士フィルムオーリン(株)製)をスピンナーにて全面塗布し、カラーフィルタ層20の赤(R)色を着色したい部分に光を照射するフォトマスクを介し365nmの波長の紫外線を100mJ/cm 照射し、水酸化カリウム(KOH)の1%水溶液で10秒間現像し、焼成後、その部分に3.0μm厚の赤(R)色着色層20aを形成する。 [0020] Then, red (R) pigment ultraviolet curable acrylic dispersed resin resist color CR-2000 (manufactured by Fuji Film Olin Co.) was entirely applied by spinner, the color filter layer 20 of red (R ) ultraviolet wavelengths 365nm through a photo mask for irradiating light to the portion to be colored the color 100 mJ / cm 2 was irradiated and developed for 10 seconds in a 1% aqueous solution of potassium hydroxide (KOH), after firing, to that part to form a 3.0μm thick red (R) color layer 20a. 次に着色材料CG−2000(富士フィルムオーリン(株)製)を用いて同様に3.0μm厚の緑(G) Then colorant material CG-2000 likewise of 3.0μm thick green using (Fuji Film Olin Co., Ltd.) (G)
色着色層20bを形成する。 Forming a color colored layer 20b. 【0021】更に、CB−2000(富士フィルムオーリン(株)製)をスピンナーにて全面塗布し、カラーフィルタ層20の青(B)色を着色したい部分及び額縁領域[B]とに光を照射するフォトマスクを介し365n Furthermore, CB-2000 entirely coated by a spinner (Fuji Film Olin Co., Ltd.), irradiation with a light blue color filter layer 20 (B) portion and the frame region desired to color the color [B] 365n through a photo-mask to
mの波長の紫外線を100mJ/cm 照射し、水酸化カリウム(KOH)の1%水溶液で10秒間現像し、焼成後、カラーフィルタ層20の青(B)色部分に3.0 The ultraviolet rays having a wavelength of m 100 mJ / cm 2 was irradiated, and developed for 10 seconds in a 1% aqueous solution of potassium hydroxide (KOH), after firing, the blue (B) color portions of the color filter layer 20 3.0
μm厚の青(B)色着色層20cを形成し、額縁領域[B]に3.0μm厚の青(B)色の額縁遮光層23を形成する。 Forming a μm thick blue (B) color layer 20c, to form a 3.0μm thick blue (B) of the frame light-shielding layer 23 to the frame region [B]. この額縁遮光層23の単独でのOD値は1. OD value alone of the picture frame light-shielding layer 23 is 1.
0であり、周辺駆動回路21を加えた額縁領域[B]でのOD値は1.3〜1.7を得られた。 Is 0, OD value in the frame region [B] obtained by adding a peripheral driver circuit 21 is obtained with 1.3 to 1.7. 【0022】上記現像時には、カラーフィルタ層20のTFT素子18上に15×15μmのコンタクトホール26及び、額縁遮光層23のコモン電極22上に15× [0022] During the development, the contact holes 26 and 15 × 15 [mu] m on the TFT elements 18 of the color filter layer 20, 15 × on the common electrode 22 of the frame light-shielding layer 23
15μmのコンタクトホール28が形成されている。 15μm of the contact hole 28 is formed. この後ITO膜を1500Åスパッタ法にて成膜し、フォトリソグラフィ工程によってパターニングし、表示領域[A]に画素電極24をパターン形成し、額縁領域[B]に額縁電極27をパターン形成する。 The after ITO film was deposited by a 1500Å sputtering, and patterned by a photolithography process, the pixel electrodes 24 in the display area [A] and patterned to pattern the frame electrode 27 to the frame region [B]. 画素電極2 Pixel electrodes 2
4はコンタクトホール26を介しTFT素子18に接続し、額縁電極27はコンタクトホール28を介しコモン電極22に接続する。 4 is connected to the TFT elements 18 via contact holes 26, the frame electrode 27 is connected to the common electrode 22 via the contact hole 28. 【0023】更に透明感光性樹脂(富士フィルムオーリン(株)製)をスピンナーを用いて4.2μmの厚みに塗布し、90℃で10分乾燥後、スペーサ13形成部分に光を照射するフォトマスクを用いて365nmの波長の紫外線を、200mJ/cm 照射したあとpH1 Furthermore transparent photosensitive resin (Fuji Film Olin Co., Ltd.) using a spinner was applied to a thickness of 4.2 .mu.m, after 10 minutes drying at 90 ° C., a photomask is irradiated with light to the spacer 13 forming part the ultraviolet rays having a wavelength of 365nm using a after pH1 was 200 mJ / cm 2 irradiation
1.5のアルカリ水溶液にて現像し、200℃で60分焼成して高さ3.6μmの柱状のスペーサ13を形成しする。 It was developed with 1.5 alkaline aqueous solution, to form a columnar spacer 13 of height 3.6μm and fired for 60 minutes at 200 ° C.. その後、垂直配向膜材料を500Å塗布し、配向膜30を形成する。 Then, the vertical alignment film material was 500Å coating, to form an alignment film 30. 【0024】一方ガラス基板31に、ITO膜を150 [0024] On the other hand a glass substrate 31, an ITO film 150
0Åスパッタ法にて成膜し、共通電極32をパターン形成後、この上に垂直配向膜材料を500Å塗布し、配向膜33を形成し、対向基板12を形成する。 Was deposited by 0Å sputtering, after patterning the common electrode 32, a vertical alignment film material was 500Å coated thereon, to form an alignment film 33, forming the counter substrate 12. 【0025】この後、アレイ基板11の駆動領域[B] [0025] After this, the driving area of ​​the array substrate 11 [B]
外周に、注入口(図示せず)を設けてシール剤14を塗布し、コモン電極22と共通電極32とを接続するためのトランスファ剤38をシール剤14周辺のトランスファ電極36上に塗布する。 On the outer circumference, a sealing agent 14 is applied inlet (not shown) is provided, applied on the transfer electrode 36 of the transfer agent 38 of the peripheral sealing material 14 for connecting the common electrode 22 and the common electrode 32. 次にアレイ基板11と対向基板12を対向配置し、加熱してシール剤14を硬化して貼り合わせ液晶セルを形成する。 Then the array substrate 11 and the counter substrate 12 disposed facing, heating and bonding by curing a sealant 14 to form a liquid crystal cell. 次にシール剤14の注入口(図示せず)より負の誘電異方性をもつn型液晶組成物を注入し、この後注入口を紫外線硬化樹脂で封止し、液晶層16を封入後、アレイ基板11及び対向基板12の外面にそれぞれ偏光板11a、12aを互いに偏光軸が90°の角度となるように貼付けて液晶表示素子10を完成する。 Then implanting n-type liquid crystal composition inlet of the sealant 14 from (not shown) having a negative dielectric anisotropy, the after injection port was sealed with an ultraviolet curable resin, after sealing the liquid crystal layer 16 , respectively on the outer surface polarizing plate 11a of the array substrate 11 and the counter substrate 12, and 12a the polarization axes mutually pasted so that the angle of 90 ° to complete a liquid crystal display device 10. 【0026】この様にして製造した、駆動回路一体型且つノーマリーブラック型の液晶表示素子10の製造当初の額縁領域[B]のODは3.8〜4.2であった。 [0026] produced in this way, OD manufacturing original frame region [B] of an integral drive circuit type and normally black liquid crystal display device 10 of was 3.8 to 4.2. この後、液晶表示素子10の表示テストを行い額縁領域[B]の光漏れ状況を観察したところ、画像表示を行う通電時あるいは、電源オフ時のいずれにおいても、額縁領域[B]のODは製造当初と同様の3.8〜4.2を保持し、光漏れが見られず、額縁領域[B]は十分な遮光性を確保出来、画像表示時には全面にわたり高いコントラストを得られ、電源オフ時には均一なブラック画面を保持した。 Thereafter, observation of the light leakage status of the frame region [B] is used to display test of the liquid crystal display device 10, when energized to display an image or in any of the power off, the OD of the frame region [B] holding the prepared original similar 3.8 to 4.2, not light leakage was observed and the frame region [B] is able to secure a sufficient light-shielding property, at the time of image display is obtained a high contrast over the entire surface, the power-off sometimes holding the uniform black screen. 【0027】これは、額縁領域[B]に額縁電極27が形成され、この額縁電極27がコモン電極22、トランスファ剤38を介し共通電極32に電気的に接続されているので、通電時に周辺駆動回路21による漏れ電界が生じていても、液晶層16に電圧が掛からないことによる。 [0027] This frame electrode 27 is formed in the frame region [B], the frame electrode 27 common electrode 22, since they are electrically connected to the common electrode 32 via the transfer agent 38, the peripheral driver when energized even if leakage occurs electric field by the circuit 21, due to the voltage to the liquid crystal layer 16 is not applied. 又電源オフ時には、漏れ電界により生じた電荷が額縁電極27からコモン電極22を介し直ちに放電されるので、液晶層16に電圧が掛からないことによる。 Also at the time of power-off, the charge generated by the leakage electric field is immediately discharged through the common electrode 22 from the frame electrode 27, due to the voltage to the liquid crystal layer 16 is not applied. 【0028】これに対し(比較例)として、額縁領域[B]の額縁遮光層23上に額縁電極27を形成しない事以外は第1の実施の形態と全く同様にして図3に示す液晶表示素子41を製造した。 [0028] (Comparative Example) In contrast, except that does not form the frame electrode 27 on the frame-shaped light-shielding layer 23 of the frame region [B] is in the same manner as the first embodiment the liquid crystal display shown in FIG. 3 It was produced element 41. 【0029】この(比較例)の液晶表示素子41の製造当初の額縁領域[B]のODは3.8〜4.2と、第1 [0029] and the OD 3.8 to 4.2 of the original frame region manufacturing a liquid crystal display element 41 (Comparative Example) [B], the first
の実施の形態とであった。 It was in the embodiment. しかしながらこの後、液晶表示素子41の表示テストを行い額縁領域[B]の光漏れ状況を観察したところ、画像表示を行う通電時には、額縁領域[B]のODは2.6〜3.0に低下し、光漏れを生じ、表示領域[A]周縁のコントラストの低下を来たし、表示品位を著しく低下してしまった。 However Thereafter, observation of the light leakage status of the frame region [B] is used to display test of the liquid crystal display device 41, at the time of energization for displaying an image, OD of the frame region [B] in the 2.6 to 3.0 reduced, cause light leakage, Kitashi a reduction in contrast of the display area [a] periphery, had markedly reduced display quality. この光漏れは、通電時に周辺駆動回路21から漏れた電界が額縁領域[B]に蓄積され、共通電極32との間の電圧が液晶層16のしきい値電圧以上になったために液晶が応答したために生じたものである。 This light leakage, the electric field leaking from the peripheral driver circuit 21 when energized is accumulated in the frame region [B], the liquid crystal response to a voltage between the common electrode 32 is equal to or greater than the threshold voltage of the liquid crystal layer 16 It arose to the. 【0030】上記の構成により第1の実施の形態にあっては、カラーフィルタ層20に用いるのと同じ材質のO [0030] In the first embodiment According to the above-described configuration, O of the same material as used in the color filter layer 20
Dが低くフォトリソグラフィによる加工性の良い青(B)色着色層20cを用いて、カラーフィルタ層20 D is with good workability and blue (B) color colored layer 20c by photolithography low, the color filter layer 20
の形成と同時に額縁遮光層23を形成した際に、額縁遮光層23上に額縁電極27を設けて、この額縁電極27 At the time of forming the frame-shaped light-shielding layer 23 simultaneously with the formation of, and the frame electrode 27 provided on the frame light-shielding layer 23, the frame electrode 27
を対向基板12の共通電極32と電気的に接続して同電位としている。 And a common electrode 32 electrically connected to the same potential of the counter substrate 12. 従って、駆動回路一体型の液晶表示素子10にて、周辺駆動回路21から漏れ電界が発生されるのにかかわらず、額縁領域[B]にあっては液晶層16 Therefore, by the driving circuit-integrated liquid crystal display device 10 of, regardless of the peripheral drive circuit 21 to the leakage electric field is generated, in the frame region [B] the liquid crystal layer 16
に電界がかかることが無く、漏れ電界による額縁領域[B]での光漏れを防止出来、良好なコントラストを有する表示品位の高い液晶表示素子を得られる。 There is no electric field is applied to, can prevent light leakage in the frame region [B] due to leakage electric field, obtain a liquid crystal display device with high display quality with good contrast. しかも電源がオフされると、漏れ電界により発生され溜まっていた電荷は、コモン電極22から速やかに放電される。 Moreover when the power is turned off, charges accumulated is generated by leakage electric field is rapidly discharged from the common electrode 22.
又、額縁遮光層23は、従来のようにODが高くフォトリソグラフィによる加工に劣る遮光材料を用いて単独に形成するのではなく、カラーフィルタ層20の形成工程と同時に形成することにより、単独の製造工程を省略出来、製造工程数の低減により生産性向上ひいてはコストの低減を図れる。 Further, the frame light-shielding layer 23 is not formed solely using conventional shielding material is inferior in processability due OD high photolithography as, by forming at the same time as the step of forming the color filter layer 20, alone You can omit the manufacturing process, thereby reducing productivity and hence the cost by reducing the number of manufacturing steps. 【0031】次に本発明を図4に示す第2の実施の形態を参照して説明する。 [0031] Next will be described the present invention with reference to the second embodiment shown in FIG. 本実施の形態は、第1の実施の形態において、カラーフィルタ層20の赤(R)、緑(G)、青(B)それぞれの着色層20a、20b、2 This embodiment, in the first embodiment, the color filter layer 20 of red (R), green (G), and blue (B) each of the colored layers 20a, 20b, 2
0cの製造順序を緑(G)→青(B)→赤(R)の順にし、更に額縁領域[B]の青(B)色着色層20c上に赤(R)色着色層20aを重ねたものであり、他は第1 The fabrication sequence of 0c is in the order of green (G) → blue (B) → red (R), further superimposed red (R) color layer 20a to blue (B) colored layer 20c of the frame region [B] It is as hereinbefore and the other first
の実施の形態と同一であることから、第1の実施の形態と同一部分については同一符号を付しその説明を省略する。 Because it is identical to the embodiment of, for embodiments the same parts as those of the first embodiment is omitted subjected thereof illustrating the same reference numerals. 【0032】本実施の形態においては、液晶表示素子4 [0032] In this embodiment, the liquid crystal display element 4
7のアレイ基板42上でのカラーフィルタ層20及び額縁遮光層43の形成時、先ずカラーフィルタ層20の緑(G)色を着色したい部分に緑(G)色着色層20bを形成する。 7 during the formation of the color filter layer 20 and the frame-shaped light-shielding layer 43 on the array substrate 42, first, a green (G) color of the color filter layer 20 in the portion to be colored to form a green (G) color colored layer 20b. 次いで、カラーフィルタ層20の青(B)色を着色したい部分と額縁領域[B]に青(B)色着色層20cを形成する。 Then, a blue (B) color layer 20c on the blue color filter layer 20 (B) portion and a frame area to be colored the color [B]. 更にカラーフィルタ層20の赤(R)色を着色したい部分と額縁領域[B]に赤(R) Moreover the color filter layer 20 of red (R) portion to be colored the color and the frame region [B] in the red (R)
色着色層20aを形成して、表示領域[A]にカラーフィルター層20を形成すると共に、額縁領域[B]に青(B)色着色層20cと赤(R)色着色層20aとを重ねた額縁遮光層43を形成する。 To form a color colored layer 20a, thereby forming a color filter layer 20 in the display area [A], superimposed and blue (B) colored layers 20c and red (R) color colored layer 20a in the frame region [B] and forming the frame-shaped light-shielding layer 43. 【0033】そして第1の実施の形態と同様、表示領域[A]に画素電極24をパターン形成するのと同時に額縁領域[B]に額縁電極46をパターン形成し、コンタクトホール44を介しコモン電極22に接続する。 [0033] Then similarly to the first embodiment, the frame electrode 46 is patterned on the frame region [B] at the same time in the display area [A] and to the pixel electrode 24 patterned common electrode through the contact hole 44 to connect to the 22. 【0034】この様な額縁遮光層43を有する液晶表示素子47は、製造当初の額縁領域[B]のODは4.6 The liquid crystal display device 47 having such a frame-shaped light-shielding layer 43, the OD of manufacturing original frame region [B] 4.6
〜5.0であった。 It was 5.0. この後、液晶表示素子47の表示テストを行い額縁領域[B]の光漏れ状況を観察したところ、画像表示を行う通電時あるいは、電源オフ時のいずれにおいても、額縁領域[B]のODは製造当初と同様の4.6〜5.0を保持し、光漏れが見られず、額縁領域[B]は十分な遮光性を確保出来、画像表示時には全面にわたり高いコントラストを得られ、電源オフ時には均一なブラック画面を得られた。 Thereafter, observation of the light leakage status of the frame region [B] is used to display test of the liquid crystal display device 47, when energized to display an image or in any of the power off, the OD of the frame region [B] holding the prepared original similar 4.6 to 5.0, not light leakage was observed and the frame region [B] is able to secure a sufficient light-shielding property, at the time of image display is obtained a high contrast over the entire surface, the power-off sometimes the resulting uniform black screen. 特に反射光がある場合に、第1の実施の形態にあっては額縁領域[B]が青味がかかって見える時があったが、この第2の実施の形態では、反射光がある場合、額縁領域[B]は濃紫になり色味が改善された。 Especially if there is a reflected light, when In the first embodiment, but the frame region [B] is had when seen takes bluish, in this second embodiment, there is a reflected light , the frame region [B] was improved color becomes dark purple. 【0035】上記の構成によりこの第2の実施の形態は、第1の実施の形態と同様、カラーフィルタ層20に用いるのと同一材料を用いて、カラーフィルタ層20の形成と同時に額縁遮光層43を形成した際に、額縁遮光層43上に共通電極32と電気的に接続される額縁電極27を設けることにより、周辺駆動回路21から漏れ電界が発生されるのにかかわらず、額縁領域[B]での光漏れを防止出来、良好なコントラストを有する表示品位の高い駆動回路一体型の液晶表示素子を得られ、又電源がオフされた場合には、漏れ電界により発生され溜まっていた電荷は、コモン電極22から速やかに放電可能となる。 The form of the second embodiment With the above configuration, like the first embodiment, using the same materials as used in the color filter layer 20, the frame light-shielding layer simultaneously with the formation of the color filter layer 20 when forming a 43, by providing the frame electrode 27 connected common electrode 32 and electrically on the frame light-shielding layer 43, regardless of the peripheral drive circuit 21 to the leakage electric field is generated, the frame region [ can prevent light leakage in the B], obtained a liquid crystal display device of the high driving circuit integrated display quality with good contrast, also when the power is turned off, had accumulated is generated by leakage electric field charges is a rapidly dischargeable from the common electrode 22. 又、額縁遮光層43はカラーフィルタ層20の形成工程と同時に形成されるので、専用の製造工程を省略出来、製造工程数の低減により生産性向上ひいてはコストの低減を図れる。 Further, the frame light-shielding layer 43 because it is formed simultaneously with the formation process of the color filter layer 20, can be omitted and only the manufacturing process, thereby reducing productivity and hence the cost by reducing the number of manufacturing steps. 【0036】次に本発明を図5に示す第3の実施の形態を参照して説明する。 [0036] Next will be described the present invention with reference to the third embodiment shown in FIG. 本実施の形態は、第1の実施の形態において、カラーフィルタ層20の赤(R)、緑(G)、青(B)それぞれの着色層20a、20b、2 This embodiment, in the first embodiment, the color filter layer 20 of red (R), green (G), and blue (B) each of the colored layers 20a, 20b, 2
0cの製造順序を青(B)→赤(R)→緑(G)の順とすると共に、スペーサ13に換えて、カラーフィルタ層20形成時に赤(R)、緑(G)、青(B)それぞれの着色層20a、20b、20cを重ねあわせてスペーサを形成するものであり、他は第1の実施の形態と同一であることから、第1の実施の形態と同一部分については同一符号を付しその説明を省略する。 The fabrication sequence of 0c with the order of blue (B) → red (R) → green (G), and in place of the spacer 13, red when the color filter layer 20 formed (R), green (G), and blue (B ) each of the colored layers 20a, 20b, and forms a spacer superposed 20c, same reference numerals since others are the same as in the first embodiment, the configuration and the same portion of the first embodiment subjected the description thereof will be omitted. 【0037】本実施の形態の液晶表示素子50は、アレイ基板51上でのカラーフィルタ層20及び額縁遮光層23の形成時、先ずカラーフィルタ層20の青(B)色を着色したい部分と額縁領域[B]に青(B)色着色層20cを形成する。 The liquid crystal display device of the present embodiment 50, the formation of the color filter layer 20 and the frame-shaped light-shielding layer 23 on the array substrate 51, the portion and a frame to be first colored blue (B) color filter layer 20 to form a blue (B) color layer 20c in the region [B]. 次いで、カラーフィルタ層20の赤(R)色を着色したい部分に赤(R)色着色層20aを形成すると共に青(B)色の着色層20c上であってスペーサ48形成領域に、20μm×20μmの赤(R) Then, even on the blue (B) color of the colored layer 20c in the spacer 48 formation region to form the red (R) red portion to be colored the color (R) color colored layers 20a of the color filter layer 20, 20 [mu] m × 20μm of red (R)
色着色層20aのスペーサパターン48aを作成する。 Creating a spacer pattern 48a of the color coloring layer 20a.
更にカラーフィルタ層20の緑(G)色を着色したい部分に緑(G)色着色層20bを形成すると共にスペーサ48形成領域の赤(R)色の着色層20aのスペーサパターン48a上に、12μm×12μmの緑(G)色の着色層20bのスペーサパターン48bを形成する。 Further the spacer 48 formation region of the red (R) color of the colored layer 20a of the spacer pattern 48a on to form a green (G) green portion to be colored the color (G) color colored layer 20b of the color filter layer 20, 12 [mu] m × to form a spacer pattern 48b of 12μm green (G) color of the colored layer 20b. これにより表示領域[A]にカラーフィルター層20を形成すると同時に額縁領域[B]に額縁遮光層23を形成し、更に、表示領域[A]あるいは額縁領域[B]に、 Thereby forming a frame-shaped light-shielding layer 23 in the display area at the same time the frame area to form a color filter layer 20 in the [A] [B], further, the display area [A] or the frame region [B],
青(B)色の着色層20cをベースとするスペーサ48 Spacers 48 for blue (B) color of the colored layer 20c based
を形成する。 To form. 【0038】この液晶表示素子50は、製造当初の額縁領域[B]のODは第1の実施の形態と同様3.8〜 [0038] The liquid crystal display device 50, the OD of manufacturing original frame region [B] as in the first embodiment 3.8
4.2であった。 It was 4.2. この後、液晶表示素子50の表示テストを行い額縁領域[B]の光漏れ状況を観察したところ、画像表示を行う通電時あるいは、電源オフ時のいずれにおいても、額縁領域[B]のODは製造当初と同様の3.8〜4.2を保持し、光漏れが見られず、額縁領域[B]は十分な遮光性を確保出来、画像表示時には高いコントラストを得られ、電源オフ時には全面にわたり均一なブラック画面を得られた。 Thereafter, observation of the light leakage status of the frame region [B] is used to display test of the liquid crystal display device 50, when energized to display an image or in any of the power off, the OD of the frame region [B] holding the prepared original similar 3.8 to 4.2, not observed light leakage, the frame region [B] is able to secure a sufficient light-shielding property, at the time of image display is obtained a high contrast, the entire surface at the time of power-off It obtained a uniform black screen over. 【0039】上記の構成によりこの第3の実施の形態は、第1の実施の形態と同様、カラーフィルタ層20に用いるのと同一材料を用いて、カラーフィルタ層20の形成と同時に形成される額縁遮光層23上に、共通電極32と電気的に接続される額縁電極27を設けることにより、周辺駆動回路21からの漏れ電界の発生にかかわらず、額縁領域[B]での光漏れを防止出来、良好なコントラストを有する表示品位の高い駆動回路一体型の液晶表示素子を得られ、又電源がオフされた場合には、漏れ電界により発生され溜まっていた電荷がコモン電極2 The form of the third embodiment According to the above-described configuration, as in the first embodiment, using the same materials as used in the color filter layer 20 is formed simultaneously with the formation of the color filter layer 20 on the frame light-shielding layer 23, prevented by providing the frame electrode 27 which is electrically connected to the common electrode 32, regardless of the occurrence of the leakage electric field from the peripheral driver circuit 21, the light leakage in the frame region [B] can be obtained a liquid crystal display device of the high driving circuit integrated display quality with good contrast, also when the power is turned off, the common electrode 2 charge that has accumulated is generated by leakage electric field
2から速やかに放電可能となる。 2 becomes rapidly dischargeable from. 更に、カラーフィルタ層20形成と同時に額縁遮光層23を形成し又スペーサ48を形成する事から、額縁遮光層23及びスペーサ4 Further, from the fact that to form a to form a color filter layer 20 formed with the frame light-shielding layer 23 at the same time also the spacer 48, the frame light-shielding layer 23 and the spacer 4
8を製造するための専用の製造工程を省略出来、製造工程数の低減により生産性向上ひいてはコストの低減を図れる。 8 can be omitted dedicated manufacturing process for manufacturing, thereby reducing productivity and hence the cost by reducing the number of manufacturing steps. 【0040】次に本発明を図6に示す第4の実施の形態を参照して説明する。 [0040] Next will be described the present invention with reference to the fourth embodiment shown in FIG. 本実施の形態は、第1の実施の形態において、スペーサを黒色とし、さらに額縁遮光層を、スペーサと同一材料を用いて同時に形成するものであり、他は第1の実施の形態と同一であることから、第1の実施の形態と同一部分については同一符号を付しその説明を省略する。 This embodiment, in the first embodiment, the spacer and black, further a frame light-shielding layer, which is formed simultaneously with the spacers of the same material, the other the same as the first embodiment since there, for embodiments the same parts as those of the first embodiment is omitted subjected thereof illustrating the same reference numerals. 【0041】本実施の形態の液晶表示素子52は、第1 The liquid crystal display device 52 of this embodiment, the first
の実施の形態と同様にして、アレイ基板53の表示領域[A]に赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層20 In the same manner as in the embodiment, the colored layer 20 of the red display region of the array substrate 53 [A] (R), green (G), and blue (B)
a、20b、20cからなるカラーフィルタ層20を形成する。 a, 20b, to form a color filter layer 20 formed of 20c. 但しこの時、青(B)色着色層20cによる額縁遮光層の形成は行わない。 However this time, the formation of the frame light-shielding layer by blue (B) color layer 20c is not performed. 次いで、黒色感光性樹脂C Then, the black photosensitive resin C
K−2000(富士フィルムオーリン(株)製)をスピンナーを用いて4.2μmの厚みに全面塗布し、90℃ K-2000 (Fuji Film Olin Co.) using a spinner fully coated to a thickness of 4.2 .mu.m, 90 ° C.
で10分の乾燥後、スペーサ54形成部分及び額縁領域[B]とに光を照射するフォトマスクを用いて365n In after 10 minutes drying, using a photomask for irradiating light to the spacer 54 forming portion and the frame region [B] 365n
mの波長の紫外線を500mJ/cm の露光量で露光したあとpH11.5のアルカリ水溶液にて現像し、2 The ultraviolet rays having a wavelength of m is developed with an alkaline aqueous solution after pH11.5 exposed with an exposure amount of 500mJ / cm 2, 2
00℃で60分焼成して高さ3.6μmのスペーサ54 00 ° C. In by firing 60 of the height 3.6μm spacer 54
を形成する。 To form. これと同時に額縁領域[B]に3.6μm At the same time 3.6μm in the frame region [B]
厚の黒(BK)色の額縁遮光層56を形成する。 Forming a thick black (BK) color of the frame light-shielding layer 56. この額縁遮光層56単独でのOD値は2.0であり、周辺駆動回路21を加えた額縁領域[B]でのOD値は2.3〜 The frame light-shielding layer 56 OD value alone is 2.0, OD value in the frame region [B] was added to the peripheral driving circuit 21 2.3
2.7を得られた。 The resulting 2.7. 【0042】上記現像時に、額縁遮光層56のコモン電極22上に15×15μmのコンタクトホール57が作成されている。 [0042] During the development, the contact holes 57 of the 15 × 15 [mu] m on the common electrode 22 of the frame light-shielding layer 56 is created. 次にITO膜を1500Åスパッタ法にて成膜し、フォトリソグラフィ工程によってパターニングし、表示領域[A]に画素電極24をパターン形成し、額縁領域[B]に額縁電極58をパターン形成する。 Then an ITO film was deposited by a 1500Å sputtering, and patterned by a photolithography process, the pixel electrodes 24 in the display area [A] and patterned to pattern the frame electrode 58 to the frame region [B]. 画素電極24はコンタクトホール26を介しTFT Pixel electrodes 24 TFT via a contact hole 26
素子18に接続し、額縁電極58はコンタクトホール5 And connected to the element 18, the frame electrode 58 contact hole 5
7を介しコモン電極22に接続する。 7 connected to the common electrode 22 via the. この後垂直配向膜材料を500Å塗布し、配向膜61を形成する。 The vertical alignment film material was 500Å coated Thereafter, to form the alignment film 61. 【0043】この液晶表示素子52は、製造当初の額縁領域[B]のODは4.8〜5.2と高く、この後液晶表示素子52の表示テストを行い額縁領域[B]の光漏れ状況を観察したところ、画像表示が成される通電時あるいは、電源オフ時のいずれにおいても、額縁領域[B]のODは製造当初と同様の4.8〜5.2を保持し、光漏れが見られず、額縁領域[B]は十分な遮光性を確保出来、画像表示時には全面にわたり良好なコントラストを得られ、電源オフ時には均一なブラック画面を得られた。 [0043] The liquid crystal display device 52, the OD of manufacturing original frame region [B] as high as 4.8-5.2, the light leakage of the frame region [B] is used to display test of the liquid crystal display device 52 after this observation of the situation, when energized image display is performed or, in any of the power off, OD of the frame region [B] holds the prepared original similar to 4.8-5.2, light leakage is not observed, the frame region [B] is able to secure a sufficient light-shielding property, at the time of image display obtained good contrast over the entire surface, the resulting uniform black screen when the power is shut off. 【0044】上記の構成によりこの第4の実施の形態は、額縁遮光層56を、単独に形成するのではなく、スペーサ54に用いるのと同一材料の黒色ではあるもののODが2.0と低くフォトリソグラフィによる加工性の比較的良い黒色感光性樹脂を用いて、スペーサ54の形成と同時に形成した際に、額縁電極58を設けることにより、周辺駆動回路21からの漏れ電界の発生にかかわらず、額縁領域[B]での光漏れを防止出来、良好なコントラストを有する表示品位の高い駆動回路一体型の液晶表示素子を得られ、又電源がオフされた場合には、漏れ電界により発生され溜まっていた電荷は、コモン電極22から速やかに放電可能となる。 The form of this fourth embodiment by the above-described configuration, the frame-shaped light-shielding layer 56, rather than forming a single, low and OD of 2.0 although the black same materials as used for the spacer 54 using the processing of relatively good black photosensitive resin by photolithography, when forming simultaneously with the formation of spacers 54, by providing the frame electrodes 58, regardless of the occurrence of the leakage electric field from the peripheral driver circuit 21, can prevent light leakage in the frame region [B], obtained a liquid crystal display device of the high driving circuit integrated display quality with good contrast, also when the power is turned off, it accumulated generated by leakage electric field which was charge becomes rapidly dischargeable from the common electrode 22. 又、スペーサ54の形成と同時に額縁遮光層56を形成する事から額縁遮光層56を製造するための専用の製造工程を省略出来、製造工程数の低減により生産性向上ひいてはコストの低減を図れる。 Further, the formation of spacers 54 and can be omitted from it to form a frame-shaped light-shielding layer 56 a special manufacturing process for manufacturing the frame light-shielding layer 56 at the same time, thereby reducing productivity and hence the cost by reducing the number of manufacturing steps. 【0045】尚本発明は上記実施の形態に限られるもので無く、その趣旨を変えない範囲での変更は可能であって、例えば、ノーマリーブラック表示を行うための光変調層の種類等任意であり、TN型液晶を用い、偏光板を平行に配置する事によりノーマリーブラック表示を行うものであっても良い。 [0045] Note that the present invention is not limited to the above embodiment, a possible change within a range not changing the gist thereof, for example, a light modulation layer for performing normally black display type, etc. Any , and the use of a TN liquid crystal, may perform a normally black display by arranging a polarizing plate in parallel. 又、カラーフィルタ層や額縁遮光層に用いる着色層材料や膜厚等任意であり、そのODも限定されない。 Further, a colored layer material and thickness etc. optionally used in the color filter layer or the frame light-shielding layer, the OD is also not limited. 更に、カラーフィルタ層や額縁遮光層は、平面表示素子のいずれの基板側に配置しても良く、 Further, a color filter layer or the frame light-shielding layer may be disposed on any of the substrate side of the flat display device,
対向基板側に設けても良い。 It may be provided on the counter substrate side. 【0046】 【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、駆動回路一体型の平面表示素子にて、画像表示時にあっては駆動回路からの漏れ電界により光変調層が反応するのを防止すると共に、電源オフ時には漏れ電界を速やかに除去できる。 [0046] According to the present invention as described in the foregoing, in flat panel display devices of the driving circuit integrated type, in the time of image display to react the light modulation layer by leakage electric field from the drive circuit thereby preventing the can quickly remove the leakage electric field at the time of power-off. 従って駆動回路が配置される額縁領域で光漏れを生じることが無く、良好なコントラストを有する表示品位の高い駆動回路一体型の平面表示素子の実用化を得られる。 Thus without causing light leakage in the frame region where the drive circuit is arranged, it obtained the practical application of the flat display device of high display quality drive circuit integrated with a good contrast.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の第1の実施の形態の液晶表示素子を示す概略構成図である。 It is a schematic diagram showing a liquid crystal display device of the first embodiment of the BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS [Figure 1] present invention. 【図2】本発明の第1の実施の形態の液晶表示素子を平面から見た概略説明図である。 The liquid crystal display device of the first embodiment of the present invention; FIG is a schematic explanatory view as seen from the plane. 【図3】(比較例)の液晶表示素子を示す概略構成図である。 Figure 3 is a schematic diagram showing a liquid crystal display device (Comparative Example). 【図4】本発明の第2の実施の形態の液晶表示素子を示す概略構成図である。 Is a schematic diagram showing a liquid crystal display device of the second embodiment of the present invention; FIG. 【図5】本発明の第3の実施の形態の液晶表示素子を示す概略構成図である。 5 is a schematic diagram showing a liquid crystal display device of the third embodiment of the present invention. 【図6】本発明の第4の実施の形態の液晶表示素子を示す概略構成図である。 6 is a schematic diagram showing a liquid crystal display device of the fourth embodiment of the present invention. 【符号の説明】 10…液晶表示素子11…アレイ基板11a…偏光板12…対向基板12a…偏光板13…スペーサ14…シール剤16…液晶層17…ガラス基板18…TFT素子20…カラーフィルタ層20a…赤(R)色着色層20b…緑(G)色着色層20c…青(B)色着色層21…周辺駆動回路22…コモン電極23…額縁遮光層24…画素電極26、28…コンタクトホール27…額縁電極32…共通電極36…トランスファ電極38…トランスファ剤 [Description of Reference Numerals] 10 ... liquid crystal display device 11 ... the array substrate 11a ... polarizing plate 12 ... counter substrate 12a ... polarization plate 13 ... spacer 14 ... sealing agent 16 ... liquid crystal layer 17 ... glass substrate 18 ... TFT element 20 ... color filter layer 20a ... red (R) color layer 20b ... green (G) color colored layer 20c ... blue (B) colored layers 21 ... peripheral driver circuit 22 ... common electrode 23 ... frame light-shielding layer 24 ... pixel electrode 26 ... Contacts hole 27 ... frame electrodes 32 ... common electrode 36 ... transfer electrodes 38 ... transfer agent

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. 7識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1368 G02F 1/1368 Fターム(参考) 2H048 BA11 BB01 BB44 2H091 FA02Y FA34Y GA01 GA03 GA08 GA11 GA13 LA17 2H092 JA24 PA01 PA03 PA06 PA08 PA09 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (51) Int.Cl. 7 identification mark FI theme Court Bu (reference) G02F 1/1368 G02F 1/1368 F-term (reference) 2H048 BA11 BB01 BB44 2H091 FA02Y FA34Y GA01 GA03 GA08 GA11 GA13 LA17 2H092 JA24 PA01 PA03 PA06 PA08 PA09

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 一主面上にスイッチング素子により駆動される画素電極をマトリクス状に配列してなる表示領域及びこの表示領域周囲に形成される駆動回路を有する第1の基板と、一主面上に共通電極を有し前記第1の基板に対向配置される第2の基板とをシール剤で貼り合せ、 [Of Claims] [Claim 1] first having a drive circuit formed of the pixel electrode driven by the switching element on one principal surface in the display area and the display area surrounding formed by arranging in a matrix a substrate, bonding a second substrate disposed opposite to said first substrate having a common electrode on one principal surface with sealant,
    スペーサにより保持される前記第1の基板及び前記第2 The first substrate held by the spacer and the second
    の基板の間隙に光変調層を封入する平面表示素子において、 前記第1の基板にて前記駆動回路の上層に形成され、前記共通電極と同電位に設定される額縁電極を具備することを特徴とする平面表示素子。 A flat panel display device on the substrate of the gap to encapsulate the optical modulation layer, characterized by comprising the first at a substrate formed on an upper layer of the driving circuit, the frame electrode is set to the common electrode at the same potential flat panel display devices to be. 【請求項2】 前記平面表示素子が前記第1の基板あるいは前記第2の基板のいずれか一方であって前記表示領域に相当する領域に形成される着色層と、 前記第1の基板あるいは前記第2の基板のいずれか一方であって前記表示領域周囲に形成される額縁遮光層とを有しノーマリーブラック型であることを特徴とする請求項1記載の平面表示素子。 Wherein a colored layer formed in a region where the flat display device corresponds to the display area A is one of the first substrate or said second substrate, said first substrate or said flat display device according to claim 1 characterized in that it is a normally black type and a frame-shaped light-shielding layer formed around the display region a one of a second substrate. 【請求項3】 前記額縁電極が前記画素電極と同一材にて同時に形成されることを特徴とする請求項1記載の平面表示素子。 3. A flat display device according to claim 1, characterized in that the frame electrodes are simultaneously formed in the pixel electrode and the same material. 【請求項4】 前記着色層及び前記額縁遮光層とが前記第1の基板に形成され、前記額縁電極が前記額縁遮光層の上層に形成され前記共通電極と同電位に設定される事を特徴とする請求項1記載の平面表示素子。 Wherein said colored layer and the frame light-shielding layer is formed on the first substrate, characterized in that the frame electrode is set to the common electrode at the same potential are formed on an upper layer of the frame-shaped light shielding layer flat display device of claim 1 wherein. 【請求項5】 前記額縁遮光層が、前記着色層と同一材にて同時に形成されることを特徴とする請求項1記載の平面表示素子。 Wherein said frame light layer, flat display device according to claim 1, characterized in that it is formed simultaneously with the colored layers of the same material. 【請求項6】 前記額縁遮光層が、前記スペーサと同一材にて同時に形成される事を特徴とする請求項1記載の平面表示素子。 Wherein said frame light layer, flat display device according to claim 1, characterized in that formed at the same time by the spacer and the same material. 【請求項7】 一主面上にスイッチング素子により駆動される画素電極をマトリクス状に配列してなる表示領域及びこの表示領域周囲に形成される駆動回路を有する第1の基板と、一主面上に共通電極を有し前記第1の基板に対向配置される第2の基板とをシール剤で貼り合せ、 A first substrate having a driving circuit 7. is formed a pixel electrode driven by the switching element on one principal surface in the display area and the display area surrounding formed by arranging in a matrix, one main surface bonding a second substrate disposed opposite to said first substrate having a common electrode on a sealing agent,
    スペーサにより保持される前記第1の基板及び前記第2 The first substrate held by the spacer and the second
    の基板の間隙に光変調層を封入する平面表示素子の製造方法において、 前記画素電極形成と同時に前記駆動回路領域上層に額縁電極とを形成する工程と、 前記共通電極と前記額縁電極とを電気的に同電位に設定する工程とを具備することを特徴とする平面表示素子の製造方法。 In the manufacturing method of a flat display device for encapsulating an optical modulation layer in the gap between the substrate, forming a frame electrode simultaneously the driving circuit region layer and the pixel electrode forming the electrical and the common electrode and the frame electrode manufacturing method of a flat display device characterized by comprising the step of setting the manner same potential. 【請求項8】 前記第1の基板あるいは前記第2の基板のいずれか一方の前記表示領域に相当する領域に着色層を形成すると同時に、前記表示領域周囲に前記着色層と同一材にて額縁遮光層を形成する工程と、前記共通電極と前記額縁電極とを電気的に接続する工程とを具備することを特徴とする請求項7記載の平面表示素子の製造方法。 8. At the same time to form a colored layer in a region corresponding to either one of the display area of ​​the first substrate or the second substrate, the frame in the colored layer and the same material in the display region periphery forming a light shielding layer, the common electrode and manufacturing method of a flat display device according to claim 7, characterized by comprising the step of connecting the the frame electrode electrically. 【請求項9】 前記着色層及び前記額縁遮光層を前記第1の基板に形成し、前記額縁電極を、前記画素電極形成と同時に前記額縁遮光層上層に形成する事を特徴とする請求項8記載の平面表示素子の製造方法。 9. forming the colored layer and the frame light-shielding layer on the first substrate, according to claim wherein the frame electrode, characterized in that formed in the frame-shaped light-shielding layer upper layer simultaneously with the pixel electrode formed 8 manufacturing method of a flat display device according. 【請求項10】 前記第1の基板あるいは前記第2の基板のいずれか一方の基板に前記スペーサを形成すると同時に、前記表示領域周囲に前記スペーサと同一材にて額縁遮光層を形成する工程とを具備することを特徴とする請求項7記載の平面表示素子の製造方法。 10. Simultaneously with formation of the spacer on one of the substrate of the first substrate or the second substrate, forming a frame-shaped light-shielding layer in the spacer the same material around said display region manufacturing method of a flat display device according to claim 7, characterized by including the. 【請求項11】 前記スペーサ及び前記額縁遮光層を前記第1の基板に形成し、前記額縁電極を、前記画素電極形成と同時に前記額縁遮光層上層に形成する事を特徴とする請求項10記載の平面表示素子の製造方法。 11. forming said spacer and said frame light layer on said first substrate, said frame electrodes, according to claim 10, wherein a forming simultaneously the frame light-shielding layer upper layer and the pixel electrode formed manufacturing method of a flat display device.
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